KR101057739B1 - Plated Barrel - Google Patents

Plated Barrel Download PDF

Info

Publication number
KR101057739B1
KR101057739B1 KR1020080118027A KR20080118027A KR101057739B1 KR 101057739 B1 KR101057739 B1 KR 101057739B1 KR 1020080118027 A KR1020080118027 A KR 1020080118027A KR 20080118027 A KR20080118027 A KR 20080118027A KR 101057739 B1 KR101057739 B1 KR 101057739B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
plating
opening
barrel
mesh
liquid
Prior art date
Application number
KR1020080118027A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20100059298A (en
Inventor
김윤희
Original Assignee
삼성전기주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전기주식회사 filed Critical 삼성전기주식회사
Priority to KR1020080118027A priority Critical patent/KR101057739B1/en
Priority to TW098113931A priority patent/TW201020345A/en
Priority to JP2009120129A priority patent/JP4875728B2/en
Publication of KR20100059298A publication Critical patent/KR20100059298A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101057739B1 publication Critical patent/KR101057739B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/16Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk
    • C25D17/18Apparatus for electrolytic coating of small objects in bulk having closed containers
    • C25D17/20Horizontal barrels
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D21/00Processes for servicing or operating cells for electrolytic coating
    • C25D21/10Agitating of electrolytes; Moving of racks

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)

Abstract

도금배럴이 개시된다. 도금액에 잠겨서 회전하는 도금배럴에 있어서, 개구가 형성된 격벽을 포함하는 케이스, 도금배럴의 회전에 따라 도금액이 유입되는 집액구를 포함하는 집액부, 집액구 및 개구를 연통시키며 격벽 외측에 결합되는 연통부를 포함하는 도금배럴은, 홀 또는 메쉬에 형성된 수막을 제거하여 도금액을 도금배럴 내부로 순환시킬 수 있으며, 부유하는 칩부품을 침강시켜 균일한 도금이 이루어지도록 할 수 있다.A plating barrel is disclosed. In a plating barrel immersed in a plating liquid and rotating, a case including a partition having an opening formed therein, a liquid collection part including a collection hole into which the plating liquid flows in accordance with the rotation of the plating barrel, and a communication port connected to the outside of the partition wall while communicating with the collection hole and the opening. The plating barrel including the portion may remove the water film formed in the hole or the mesh to circulate the plating liquid into the plating barrel, and settle the floating chip component to allow uniform plating.

도금배럴, 도금액, 순환 Plating barrel, plating solution, circulation

Description

도금배럴{Platting barrel}Plating barrel

본 발명은 도금배럴에 관한 것이다.The present invention relates to a plating barrel.

일반적으로 배리스터(varistor), 칩인덕터(chip inductor), 적층세라믹캐퍼시터(Multi Layer Ceramic Capacitor, MLCC)와 같은 칩부품을 제조하는 공정에서, 터미네이션이 완료된 외부전극에는 바로 납땜을 할 수 없다. 이에 따라, 납땜이 원할하게 이루어지도록 최외곽 전극으로 니켈(Ni)과 주석(Sn)을 순차적으로 도금을 하는데, 이때 도금배럴을 이용한 도금법이 주로 사용된다.In general, in the process of manufacturing chip components such as varistors, chip inductors, and multi-layer ceramic capacitors (MLCCs), it is impossible to directly solder the terminated external electrodes. Accordingly, in order to smoothly solder, nickel (Ni) and tin (Sn) are sequentially plated by the outermost electrode, and a plating method using a plating barrel is mainly used.

도금배럴을 이용한 도금법은, 크기가 작은 칩부품 같은 물품을 한번에 다량으로 도금하는 방법으로서, 도금조에 침지된 도금배럴을 회전시켜 물품과 물품이 서로 마찰 연마되게 하면서, 물품과 접촉하는 음극의 봉을 통해 물품을 도금하는 방법이다.Plating method using a plating barrel is a method of plating a large amount of articles, such as small chip parts at a time, by rotating the plating barrel immersed in the plating bath to frictionally polish the article and the article, while the rod of the cathode contacting the article The method of plating the article through.

이러한 도금배럴에서 그 내부로 도금액을 유입하기 위해, 벽면에 홀을 형성하거나 벽면의 일부를 메쉬(mesh)로 구성함이 일반적이다.In order to introduce the plating liquid into the plating barrel, it is common to form a hole in a wall or to form a part of the wall by a mesh.

그런데, 칩부품이 소형화될수록, 홀과 메쉬의 크기가 작아지게 되어 홀과 메 쉬에서 수막이 형성되는 형상이 발생한다. 이에 따라, 도금배럴 내부로 도금액이 원활하기 유입되지 못하여, 도금의 균일하게 이루어지지 않는 문제가 발생한다.However, the smaller the chip component, the smaller the size of the hole and the mesh, so that the shape of the water film is formed in the hole and the mesh. Accordingly, the plating solution does not flow smoothly into the plating barrel, thereby causing a problem that the plating is not made uniform.

이러한 문제를 해결하기 위하여, 펌프를 이용하여 도금배럴 내부의 도금액과 도금조의 도금액을 강제순환 시키는 방법이 제안되었으나, 별도의 동력을 요하며 장치의 구성이 복잡해지는 문제가 있다.In order to solve this problem, a method of forcibly circulating the plating liquid in the plating barrel and the plating tank using the pump has been proposed, but it requires a separate power and has a problem in that the configuration of the device is complicated.

또한, 작은 칩부품은 표면장력으로 인하여, 도금배럴 내부에서 부유하게 되는 현상도 발생하여 도금이 이루어지지 않는 문제가 발생한다.In addition, due to the surface tension, a small chip component may also float in the plating barrel, thereby causing a problem in that plating is not performed.

본 발명은 별도의 동력을 사용하지 않고 도금액을 순환시키는 도금배럴을 제공하는 것이다.The present invention is to provide a plating barrel for circulating the plating liquid without using a separate power.

또한, 본 발명은 도금배럴 내부에 부유하는 칩부품을 침강시키는 도금배럴을 제공하는 것이다.In addition, the present invention is to provide a plating barrel for sedimenting the chip components floating in the plating barrel.

본 발명의 일 측면에 따르면, 도금액에 잠겨서 회전하는 도금배럴에 있어서,According to an aspect of the present invention, in the plating barrel that is immersed in the plating liquid to rotate,

개구가 형성된 격벽을 포함하는 케이스, 도금배럴의 회전에 따라 도금액이 유입되는 집액구를 포함하는 집액부, 집액구 및 개구를 연통시키며 상기 격벽 외측에 결합되는 연통부를 포함하는 도금배럴이 제공된다.A plating barrel including a case including an opening formed partition wall, a collecting part including a collecting port into which a plating liquid flows in accordance with rotation of the plating barrel, a collecting port, and a communicating part connected to an outside of the partition wall are provided.

이 때, 유입된 도금액의 일부를 유출시키는 배출부를 더 포함할 수 있다.At this time, it may further include a discharge part for outflowing a part of the introduced plating liquid.

또한, 개구를 커버하며, 체눈이 형성되는 메쉬(mesh)를 더 포함할 수 있다.In addition, it may further include a mesh to cover the opening, the body is formed.

이 때, 연통부와 메쉬 사이에 개재되며, 메쉬와 접촉하여 진동시키는 진동부재, 진동부재의 이탈을 방지하도록 진동부재를 수용하는 수용부를 더 포함할 수 있다.At this time, interposed between the communication portion and the mesh, and may further include a vibration member for vibrating in contact with the mesh, the receiving portion for receiving the vibration member to prevent the vibration member from being separated.

이 때, 진동부재는 진동볼을 포함할 수 있다. At this time, the vibrating member may include a vibrating ball.

또한, 수용부는 진동부재와 결합되며, 메쉬 또는 격벽에 고정되는 와이어를 포함할 수 있다.In addition, the receiving portion may be coupled to the vibration member and may include a wire fixed to the mesh or the partition wall.

또한, 수용부는 연통부 또는 배출구로 진동부재가 이탈하는 것을 방지하는 이탈 방지턱을 포함할 수 있다.In addition, the accommodation portion may include a separation prevention jaw to prevent the vibration member from being separated into the communication portion or the outlet.

한편, 개구를 향하는 연통부 단부의 단면적은 집액구의 단면적보다 작은 것을 특징으로 할 수 있다.On the other hand, the cross-sectional area of the end portion of the communication portion facing the opening may be characterized by being smaller than the cross-sectional area of the collection port.

한편, 배출부는 격벽 내부를 관통하는 배출경로를 포함하고, 배출경로는 연통부 및 개구와 연통되는 것을 특징으로 할 수 있다.On the other hand, the discharge portion may include a discharge path passing through the partition wall, the discharge path may be characterized in that the communication with the communication portion and the opening.

홀 또는 메쉬에 형성된 수막을 제거하여 도금액을 도금배럴 내부로 순환시킬 수 있다. The plating solution can be circulated into the plating barrel by removing the water film formed in the hole or mesh.

또한, 부유하는 칩부품을 침강시켜 균일한 도금이 이루어지도록 할 수 있다.In addition, it is possible to settle the floating chip component to achieve a uniform plating.

본 발명은 다양한 변환을 가할 수 있고 여러 가지 실시예를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 상세한 설명에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 실시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변환, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 본 발명을 설명함에 있어서 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명을 생략한다.As the invention allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the written description. However, this is not intended to limit the present invention to specific embodiments, it should be understood to include all transformations, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In the following description of the present invention, if it is determined that the detailed description of the related known technology may obscure the gist of the present invention, the detailed description thereof will be omitted.

제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. The terms first, second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another.

본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, operation, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, components, or a combination thereof.

이하, 본 발명에 따른 도금배럴의 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조하여 상세히 설명하기로 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어, 동일하거나 대응하 는 구성 요소는 동일한 도면번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of a plating barrel according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, in the following description with reference to the accompanying drawings, the same or corresponding components are given the same reference numerals and duplicated thereto. The description will be omitted.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 도금배럴을 나타낸 사시도이고, 도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 도금배럴의 A부분을 나타낸 단면도이고, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 도금배럴의 나타낸 단면도이다.1 is a perspective view showing a plating barrel according to a first embodiment of the present invention, Figure 2 is a cross-sectional view showing a portion A of the plating barrel according to the first embodiment of the present invention, Figure 3 is a first embodiment of the present invention It is sectional drawing of the plating barrel which concerns on an example.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 케이스(10), 격벽(12), 개구(14), 집액부(20), 집액구(22), 연통부(30), 배출부(40)가 도시되어 있다.1 to 3, a case 10, a partition 12, an opening 14, a collection part 20, a collection port 22, a communication part 30, and a discharge part 40 are illustrated. have.

본 발명의 일 실시예에 따른 도금배럴은, 도금액에 잠겨서 회전하며, 개구(14)가 형성된 격벽(12)을 포함하는 케이스(10), 도금배럴의 회전에 따라 도금액이 유입되는 집액구(22)를 포함하는 집액부(20), 집액구(22) 및 개구(14)를 연통시키며 격벽(12) 외측에 결합되는 연통부(30)를 포함하여, 홀 또는 메쉬(50)에 형성된 수막을 제거하여 도금액을 도금배럴 내부로 순환시킬 수 있으며, 부유하는 칩부품을 침강시켜 균일한 도금이 이루어지도록 할 수 있다.The plating barrel according to an embodiment of the present invention, the case 10 including a partition 12 having the opening 14 is rotated in the plating liquid, the collection port 22 into which the plating liquid flows in accordance with the rotation of the plating barrel. A water film formed in the hole or mesh 50, including a communication part 30, which communicates with the liquid collecting part 20, the liquid collecting port 22, and the opening 14, and is coupled to the outside of the partition wall 12. By removing the plating solution can be circulated into the plating barrel, it is possible to settle the floating chip components to achieve a uniform plating.

케이스(10)는 도금이 이루어지는 내부공간이 형성되는 곳으로, 내부공간에는 칩부품과 같은 도금물과, 음전극 역할을 하는 음극봉이 수납된다. 또한, 케이스(10)를 형성하는 격벽(12)에는 도금액의 유입이 가능하도록 개구(14)가 형성된다. 또한, 도금액에 잠겨서 회전이 가능하도록, 회전축에 연결된다. 도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 케이스(10)는 육각 기둥형상을 가지며, 각 벽면에는 개 구(14)가 형성되어 있다. 또한, 육각 기둥의 상하면은 덮개(미도시)가 씌어 지고 회전축(미도시)과 연결된다.The case 10 is a place where an inner space in which plating is formed is formed. In the inner space, a plating material such as a chip component and a cathode rod serving as a negative electrode are accommodated. In addition, an opening 14 is formed in the partition 12 forming the case 10 to allow the inflow of the plating liquid. It is also connected to the rotating shaft so as to be rotatable in the plating liquid. Referring to Figure 1, the case 10 according to the present embodiment has a hexagonal columnar shape, the opening 14 is formed on each wall surface. In addition, the upper and lower surfaces of the hexagonal column is covered with a cover (not shown) and connected to the rotating shaft (not shown).

집액부(20)는 도금배럴이 회전할 때 도금액을 모으는 역할을 한다. 이를 위해, 도금배럴이 회전할 때, 도금배럴의 벽면을 따라 흐르는 도금액의 흐름 방향에 마주하는 집액구(22)를 형성함으로써, 도금액을 유입시킨다. The collection part 20 collects the plating liquid when the plating barrel is rotated. To this end, when the plating barrel rotates, the plating liquid is introduced by forming a collecting port 22 facing the flow direction of the plating liquid flowing along the wall surface of the plating barrel.

구체적으로, 도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 집액부(20)는 케이스(10) 개구(14) 위에 위치한 박스(A)의 외부에서 수평으로 뚫린 형태로 형성된다. 그리고, 도금배럴이 회전할 때 도금액이 부딪히는 면에는 집액구(22)가 형성되어, 집액구(22)를 통해 도금액을 박스 내부로 이송한다.Specifically, referring to FIG. 2, the liquid collecting part 20 according to the present exemplary embodiment is formed in a shape that is horizontally drilled outside of the box A positioned on the opening 14 of the case 10. Then, a collecting port 22 is formed on the surface where the plating liquid collides when the plating barrel rotates, and the plating liquid is transferred into the box through the collecting port 22.

연통부(30)는 집액부(20)를 통해 유입된 도금액을 케이스(10)에 형성된 개구(14)로 보내는 역할을 한다. 이를 위해, 연통부(30)는 집액구(22)와 개구(14)를 연통시킨다. 이에 따라, 도금배럴에 회전에 의해, 도금액은 집액부(20)를 거쳐 개구(14)를 향하여 흐르게 된다. 본 실시예에 따른 연통부(30)는, 수평으로 뚫린 집액부(20)와 개구(14)와 연통시키기 위해 개구(14)에서 수직방향을 뚫어서 형성한다.The communication part 30 serves to send the plating liquid introduced through the collection part 20 to the opening 14 formed in the case 10. To this end, the communication portion 30 communicates the reservoir 22 and the opening 14. As a result, the plating liquid flows toward the opening 14 via the liquid collecting portion 20 by rotation in the plating barrel. The communication part 30 according to the present embodiment is formed by drilling a vertical direction in the opening 14 so as to communicate with the collection part 20 and the opening 14 which are horizontally drilled.

본 실시예에 따른 도금배럴은, 도금배럴의 회전을 이용하여 도금액이 개구(14)를 향하여 흐르게 함으로써, 개구(14)에 형성되는 수막에 충격을 가한다. 이에 따라, 개구(14)의 형성된 수막이 깨어져서 도금액이 도금배럴 내부로 유입되도록 할 수 있다.In the plating barrel according to the present embodiment, the plating liquid flows toward the opening 14 using the rotation of the plating barrel, thereby impacting the water film formed in the opening 14. Accordingly, the water film formed in the opening 14 may be broken to allow the plating liquid to flow into the plating barrel.

그리고, 도 3을 참조하면, 도금배럴이 회전함에 따라 집액부(20)와 연통 부(30)가 도금액 밖으로 노출될 수 있다. 이 때, 집액부(20)와 연통부(30)에는 도금액이 차 있게 되므로, 아래 쪽에 위치된 개구(14)를 통하여 도금배럴 내부로 도금액이 흐르게 된다. 이에 따라, 도금배럴 내부에서 부유하던 칩부품의 위로 도금액이 쏟아지게 되어, 칩부품은 침강하게 된다. 따라서, 부유하는 칩부품이 도금되는 않는 현상을 방지할 수 있다.3, as the plating barrel rotates, the collection part 20 and the communication part 30 may be exposed out of the plating solution. At this time, since the plating liquid is filled in the liquid collecting portion 20 and the communicating portion 30, the plating liquid flows into the plating barrel through the opening 14 located below. As a result, the plating liquid is poured onto the chip component floating inside the plating barrel, and the chip component is settled. Therefore, the phenomenon that the floating chip component is not plated can be prevented.

한편, 도금배럴은 집액부(20)와 연통부(30)를 거쳐 유입된 도금액의 일부를 유출하는 배출부(40)를 더 포함할 수 있다. 연통부(30)를 통해 개구(14)를 향하여 배출된 도금액 중에서 일부만이 개구(14)로 유입되고 나머지가 연통부(30)에 남게 되면, 도금액의 흐름이 정체되게 된다. 이에 따라, 도금액의 흐름이 약해질 수 있다. 이러한 현상을 방지하기 위해, 연통부(30)와 개구(14)가 만나는 지점에 배출부(40)를 형성하여 도금액이 지속적으로 흐르게 할 수 있다.On the other hand, the plating barrel may further include a discharge portion 40 for discharging a portion of the plating liquid introduced through the collection portion 20 and the communication portion 30. When only a part of the plating liquid discharged toward the opening 14 through the communication unit 30 flows into the opening 14 and the remainder remains in the communication unit 30, the flow of the plating liquid is stagnated. As a result, the flow of the plating liquid may be weakened. In order to prevent such a phenomenon, the discharge part 40 may be formed at a point where the communication part 30 and the opening 14 meet to allow the plating liquid to continuously flow.

도 2를 참조하면, 본 실시예에 따른 배출부(40)는 집액구(22)와 받대편에 형성하여, 집액구(22)로부터 유입된 도금액이 개구(14)를 만나고, 후에 배출구를 통해서 자연스럽게 빠지도록 형성되어 있다.2, the discharge portion 40 according to the present embodiment is formed in the collection port 22 and the support piece, the plating liquid introduced from the collection port 22 meets the opening 14, and later through the discharge port It is formed to fall naturally.

또한, 배출부(40)는, 도 4 내지 도 6에 나타난 바와 같이, 연통부(30) 및 개구(14)와 연통되도록, 격벽(12) 내부를 관통시켜 형성할 수 있다.In addition, the discharge part 40 can be formed through the inside of the partition 12 so that it may communicate with the communication part 30 and the opening 14, as shown to FIG.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 도금배럴을 나타낸 단면도이고, 도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 도금배럴을 나타낸 단면도이고, 도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 도금배럴의 배출부를 나타낸 절개도이다. 4 is a cross-sectional view showing a plating barrel according to a second embodiment of the present invention, Figure 5 is a cross-sectional view showing a plating barrel according to a third embodiment of the present invention, Figure 6 is a second embodiment of the present invention This is a cutaway view showing the outlet of the plating barrel.

도 4 내지 도 6을 참조하면, 케이스(10), 격벽(12), 개구(14), 집액부(20), 집액구(22), 연통부(30), 배출부(40), 메쉬(50), 진동부재(60), 수용부(70), 와이어(72), 이탈 방지턱(74)이 도시되어 있다.4 to 6, the case 10, the partition 12, the opening 14, the collection part 20, the collection port 22, the communication part 30, the discharge part 40, and the mesh ( 50, the vibrating member 60, the receiving portion 70, the wire 72, the departure stop 74 is shown.

본 발명의 제2 실시예와 제3 실시예는 개구(14)부를 커버하는 메쉬(50)를 더 포함한다. 또한, 집액구(22)와 연통부(30)가 일체화되고, 집액의 효율을 높이기 위하여 깔때기 모양으로 형성된다.The second and third embodiments of the invention further comprise a mesh 50 covering the opening 14 portion. In addition, the collection port 22 and the communication portion 30 is integrated, and is formed in a funnel shape in order to increase the efficiency of the collection.

메쉬(50)는 체눈이 형성된 망으로 개구(14)를 커버한다. 칩부품이 소형화될수록, 개구(14)에 걸리거나 이탈할 가능성이 높으므로, 개구(14)를 촘촘한 체눈이 형성된 메쉬(50)로 커버한다.The mesh 50 covers the opening 14 with a mesh in which the body is formed. The smaller the chip component is, the more likely it is to be caught or disengaged from the opening 14, so that the opening 14 is covered with a mesh 50 having a finer body.

한편, 집액구(22)와 연통부(30)는 일체화하고, 개구(14)를 향하는 연통부 단부(32)의 단면적은 집액구(22)의 단면적보다 작게 형성하여 개구(14)를 향하는 도금액의 유속을 높일 수 있다. 개구(14)를 체눈이 작은 메쉬(50)로 커버함에 따라 수막이 발생할 가능성이 높아진다. 그러므로, 수막에 큰 충격을 가할 수 있도록 도금액의 유속을 향상시키는 것이다.On the other hand, the liquid collection port 22 and the communication portion 30 are integrated, and the cross-sectional area of the communication portion end portion 32 facing the opening 14 is formed smaller than the cross-sectional area of the collection port 22 to face the opening 14. Can increase the flow rate. Covering the opening 14 with a small mesh 50 of the body increases the likelihood of water film generation. Therefore, the flow rate of the plating liquid is improved to apply a large impact to the water film.

또한, 연통부(30)와 메쉬(50) 사이에 개재되며, 메쉬(50)와 접촉하여 진동시키는 진동부재(60)와, 진동부재(60)의 이탈을 방지하도록 진동부재(60)를 수용하는 수용부(70)를 더 포함할 수 있다. 개구(14)를 메쉬(50)로 커버하여 수막 파괴가 어려울 경우, 메쉬(50)를 가진하는 진동부재(60)를 더 추가하여 수막에 더 큰 충격을 가할 수 있다. 그리고, 수용부(70)를 설치하여, 진동부재(60)가 연통부(30) 또는 배출부(40)를 통해 이탈하는 것을 방지할 수 있다.In addition, interposed between the communication portion 30 and the mesh 50, the vibration member 60 for vibrating in contact with the mesh 50, and accommodates the vibration member 60 to prevent separation of the vibration member 60 It may further include a receiving portion 70. When the opening 14 is covered with the mesh 50, and it is difficult to break the water film, a further impact may be applied to the water film by further adding a vibration member 60 having the mesh 50. And, by installing the receiving portion 70, it is possible to prevent the vibrating member 60 from being separated through the communication portion 30 or the discharge portion (40).

이를 위해, 도 4를 나타나 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예에서는 메쉬(50)를 가진하는 진동부재(60)로 진동볼을 사용한다. 또한 진동볼과 결합되며 메쉬(50)에 고정되는 와이어(72)를 사용하여, 진동볼의 이탈을 방지한다. 이에 따라, 도금액이 흐르면서 진동볼이 움직이게 된다. 이 때, 진동볼은 메쉬(50)와 접촉하고 있으므로, 도금액에 의해 움직이면서 메쉬(50)를 진동시켜 메쉬(50)의 수막을 파괴한다. To this end, as shown in Figure 4, in the second embodiment of the present invention uses a vibrating ball as the vibration member 60 having a mesh (50). In addition, using a wire 72 is coupled to the vibration ball and fixed to the mesh 50, to prevent the separation of the vibration ball. Accordingly, the vibrating ball is moved while the plating liquid flows. At this time, since the vibrating ball is in contact with the mesh 50, the oscillating ball vibrates the mesh 50 while moving by the plating liquid, thereby destroying the water film of the mesh 50.

또한, 도 5에 나타난 바와 같이, 본 발명의 제3 실시예에서는 진동볼을 수용하는 공간을 형성하여 진동볼의 이탈을 방지할 수 있다. 이를 위해, 진동부재(60)가 연통부(30) 또는 배출부(40)로 빠지는 것을 방지하는 이탈 방지턱(74)을 설치할 수 있다. 이에 따라, 연통부(30) 또는 배출부(40)의 입구는 진동부재(60)의 폭보다 작게 형성되어, 진동부재(60)가 이탈되는 것을 방지할 수 있다.In addition, as shown in Figure 5, in the third embodiment of the present invention can form a space for accommodating the vibration ball can prevent the separation of the vibration ball. To this end, the vibration preventing member 60 may be provided with a departure preventing jaw 74 to prevent the falling into the communication portion 30 or the discharge portion 40. Accordingly, the inlet of the communication unit 30 or the discharge unit 40 is formed smaller than the width of the vibration member 60, it is possible to prevent the vibration member 60 from being separated.

한편, 상기 기술한 바와 같이, 본 발명의 제2 실시예와 제3 실시예에서는, 연통부(30) 및 개구(14)와 연통되도록, 격벽(12) 내부를 관통시켜 배출부(40)를 형성한다. 도 6을 참조하면, 격벽(12)을 관통시킨 배출부(40)를 따라서, 유입된 도금액이 흐르게 된다. 이 때, 집액구(22)가 도금액 밖에서 도금액으로 입수 시에 같이 유입한 공기도 배출부(40)를 따라 움직인다. 그런데, 유입된 공기는 도금배럴의 회전에 따라 개구(14)와 배출부(40) 사이를 왕복운동하게 된다. 도금배럴이 회전하여 개구(14)가 배출부(40)보다 높게 위치할 경우, 공기는 부력으로 인하여 도금액의 흐름을 거슬러 올라 개구(14)로 향하기 때문이다. 이 때, 공기는 개구(14)와 메쉬(50) 및 진동부재(60)에 충격을 가하게 되므로 개구(14) 또는 메쉬(50)에 형성된 수막을 파괴하는 역할을 한다.On the other hand, as described above, in the second and third embodiments of the present invention, the discharge portion 40 is formed through the inside of the partition wall 12 so as to communicate with the communication portion 30 and the opening 14. Form. Referring to FIG. 6, the introduced plating liquid flows along the discharge part 40 penetrating the partition 12. At this time, when the collection port 22 is obtained as the plating liquid from the outside of the plating liquid, the air introduced in the same manner also moves along the discharge portion 40. However, the introduced air reciprocates between the opening 14 and the discharge part 40 in accordance with the rotation of the plating barrel. This is because when the plating barrel is rotated so that the opening 14 is positioned higher than the discharge portion 40, the air flows back to the opening 14 due to the buoyancy due to the flow of the plating liquid. At this time, since the air impacts the opening 14, the mesh 50, and the vibrating member 60, air serves to destroy the water film formed in the opening 14 or the mesh 50.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.It will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit or scope of the invention as defined in the appended claims. It will be understood that the invention may be varied and varied without departing from the scope of the invention.

전술한 실시예 외의 많은 실시예들이 본 발명의 특허청구범위 내에 존재한다.Many embodiments other than the above-described embodiments are within the scope of the claims of the present invention.

도 1은 본 발명의 제1 실시예에 따른 도금배럴을 나타낸 사시도.1 is a perspective view showing a plating barrel according to a first embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 도금배럴의 A부분을 나타낸 단면도.2 is a sectional view showing a portion A of the plating barrel according to the first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 도금배럴의 나타낸 단면도.3 is a sectional view showing a plating barrel according to the first embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 제2 실시예에 따른 도금배럴을 나타낸 단면도.4 is a cross-sectional view showing a plating barrel according to a second embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 도금배럴을 나타낸 단면도.5 is a cross-sectional view showing a plating barrel according to a third embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제2 실시예에 따른 도금배럴의 배출부를 나타낸 절개도.Figure 6 is a cutaway view showing the discharge portion of the plating barrel according to the second embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

10: 케이스 12: 격벽10: case 12: bulkhead

14: 개구 20: 집액부14: opening 20: liquid collection part

22: 집액구 30: 연통부22: collection hole 30: communication unit

40: 배출부 50: 메쉬40: discharge part 50: mesh

60: 진동부재 70: 수용부60: vibration member 70: receiving portion

72: 와이어 74: 이탈 방지턱72: wire 74: release bump

80: 공기80: air

Claims (9)

도금액에 잠겨서 회전하는 도금배럴에 있어서,In the plating barrel which is immersed in the plating liquid and rotates, 도금이 이루어지는 내부공간을 형성하고, 상기 내부공간으로 오픈된 개구가 형성된 격벽을 포함하는 케이스;A case including an inner space in which plating is formed and including a partition wall having an opening opened into the inner space; 상기 개구를 커버하며, 체눈이 형성되는 메쉬(mesh);A mesh covering the opening, the mesh being formed; 상기 도금배럴의 회전 시에 도금액의 흐름 방향에 마주하도록 상기 격벽의 외측에 배치되어 상기 도금액이 유입되는 집액구를 포함하는 집액부;A liquid collecting part including a liquid collecting port disposed on an outer side of the partition wall so as to face a flow direction of a plating liquid when the plating barrel is rotated and into which the plating liquid is introduced; 상기 격벽 외측에 결합되어 있으며, 상기 집액구 및 상기 개구를 연통시키는 경로를 형성하는 연통부;A communication unit coupled to an outer side of the partition wall and forming a path for communicating the collection port and the opening; 상기 연통부와 상기 메쉬 사이에 개재되며, 상기 메쉬와 접촉하여 진동시키는 진동부재; 및A vibration member interposed between the communicating portion and the mesh and vibrating in contact with the mesh; And 상기 진동부재의 이탈을 방지하도록 상기 진동부재를 수용하는 수용부를 포함하는 도금배럴.Plating barrel including a receiving portion for receiving the vibration member to prevent separation of the vibration member. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유입된 도금액의 일부를 유출시키는 배출부를 더 포함하는 도금배럴.Plating barrel further comprises a discharge portion for outflowing a portion of the introduced plating liquid. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 진동부재는 진동볼을 포함하는 것을 특징으로 하는 도금배럴.The vibrating member is plated barrel, characterized in that it comprises a vibrating ball. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수용부는, The receiving portion, 상기 진동부재와 결합되며, 상기 메쉬 또는 상기 격벽에 고정되는 와이어를 포함하는 도금배럴.Plating barrel coupled to the vibration member, comprising a wire fixed to the mesh or the partition. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 수용부는, The receiving portion, 상기 연통부로 상기 진동부재가 이탈하는 것을 방지하는 이탈 방지턱을 포함하는 것을 특징으로 하는 도금배럴.Plating barrel, characterized in that it comprises a separation prevention jaw to prevent the vibration member is separated from the communication portion. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 개구를 향하는 상기 연통부 단부의 단면적은 상기 집액구의 단면적보다 작은 것을 특징으로 하는 도금배럴.The cross-sectional area of the end portion of the communication portion facing the opening is smaller than the cross-sectional area of the collection port. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 배출부는,The discharge portion, 상기 격벽 내부를 관통하는 배출경로를 포함하고, 상기 배출경로는 상기 연통부 및 상기 개구와 연통되는 것을 특징으로 하는 도금배럴.And a discharge path passing through the partition wall, wherein the discharge path communicates with the communication part and the opening.
KR1020080118027A 2008-11-26 2008-11-26 Plated Barrel KR101057739B1 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080118027A KR101057739B1 (en) 2008-11-26 2008-11-26 Plated Barrel
TW098113931A TW201020345A (en) 2008-11-26 2009-04-27 Platting barrel
JP2009120129A JP4875728B2 (en) 2008-11-26 2009-05-18 Barrel for plating

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080118027A KR101057739B1 (en) 2008-11-26 2008-11-26 Plated Barrel

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20100059298A KR20100059298A (en) 2010-06-04
KR101057739B1 true KR101057739B1 (en) 2011-08-18

Family

ID=42327395

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080118027A KR101057739B1 (en) 2008-11-26 2008-11-26 Plated Barrel

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP4875728B2 (en)
KR (1) KR101057739B1 (en)
TW (1) TW201020345A (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101147310B1 (en) * 2010-06-17 2012-05-18 주식회사 티엠티 Barrel assembly for plating

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51136314U (en) * 1975-04-24 1976-11-04
JPS61365Y2 (en) * 1981-02-27 1986-01-08
JPH06264299A (en) * 1993-03-15 1994-09-20 Nec Kansai Ltd Barrel

Also Published As

Publication number Publication date
TW201020345A (en) 2010-06-01
JP2010126811A (en) 2010-06-10
KR20100059298A (en) 2010-06-04
JP4875728B2 (en) 2012-02-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009538992A (en) Nanofiber production equipment by electrospinning polymer solution
CN1576400B (en) Electroplating apparatus and method for electronic parts,and the same electronic parts
KR101057739B1 (en) Plated Barrel
KR101242348B1 (en) Apparatus to Plate Substrate
JP6916028B2 (en) Plating equipment for electronic components
JP6319941B2 (en) Substrate processing apparatus and discharge head standby method
JP3122722U (en) Pachinko ball lifting device
JP4780247B1 (en) Cleaning device and cleaning method
KR101791388B1 (en) Basket for Plating
JP2006312770A (en) Washing device
JP2000183008A (en) Cleaning-device for chip member
JP4198161B2 (en) Barrel plating method
JP2009203509A (en) Plating apparatus
JP4553632B2 (en) Substrate plating method and substrate plating apparatus
JP5741944B2 (en) Plating apparatus and plating method
US20140000660A1 (en) Cleaning apparatus and cleaning method
JP7178870B2 (en) Plating equipment
WO2004113019A1 (en) Recovery device with bucket for scooping up floating objects
KR101388434B1 (en) Pre-wetting apparatus
JP7105673B2 (en) Plating equipment
JP5009718B2 (en) Slit nozzle standby unit
JP2012104682A (en) Cleaning apparatus
JP4197705B2 (en) Barrel plating method
JP3406588B2 (en) Barrel equipment
JP3636067B2 (en) Ink removal device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140701

Year of fee payment: 4

LAPS Lapse due to unpaid annual fee