KR101028473B1 - Lead frame for light emitting diode and method for fabricating the same - Google Patents

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Abstract

본 발명은 발광다이오드용 리드프레임 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 방열이 필요한 제품에 사용될 수 있는 고전도-고강도 동시구현 특성의 소재를 제조하는 데 있어서 기존에는 합금설계, 가공제어, 고순도화와 같은 원자단위의 소재특성제어기술을 이용하여 제조가 용이하지 못했던 문제를 해결하기 위하여, 고강도의 벌크소재에 고전도의 매립패턴을 형성하거나 그 반대의 경우와 같이 고전도 소재와 고강도 소재를 각각 결합하여 복합화 하는 기술을 이용함으로써, 소재 선택 범위를 용이하게 확장시킬 수 있고, 그 제조 및 활용을 용이하게 할 수 있도록 하는 발명에 관한 것이다.The present invention relates to a lead frame for a light emitting diode and a method of manufacturing the same, in the manufacture of a high-conductivity-high strength co-implementation material that can be used in a product that requires heat dissipation, alloy design, processing control, high purity and In order to solve the problem that manufacturing was not easy by using the same atomic property control technology, a high-strength buried pattern was formed on a high-strength bulk material or vice versa. By using a technology to compound by the multiplexing, it is possible to easily expand the material selection range, and relates to an invention that can facilitate the production and utilization thereof.

Description

발광다이오드용 리드프레임 및 이를 제조하는 방법{LEAD FRAME FOR LIGHT EMITTING DIODE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}LEAD FRAME FOR LIGHT EMITTING DIODE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME}

본 발명은 발광다이오드용 리드프레임 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 고전도 소재와 고강도 소재를 각각 결합하여 복합화 하는 기술을 이용함으로써, 소재 선택 범위를 용이하게 확장시킬 수 있고, 그 제조 및 활용을 용이하게 할 수 있도록 하는 기술에 관한 것이다.The present invention relates to a lead frame for a light emitting diode and a method of manufacturing the same, and by using a combination of a combination of a high-conductivity material and a high-strength material, respectively, it is possible to easily expand the material selection range, the production and utilization It relates to a technology that facilitates.

발광 다이오드를 조명으로 응용하기 위한 노력은 1990년대 말부터 시작되었다. 2006년 조명을 위한 형광체의 세계 시장은 약 20억 달러의 규모에 이르며, LED 조명시장은 매년 20% 이상 성장할 것으로 예상되어 2012년도 세계시장 규모는 100억 달러 이상으로 성장할 것으로 예측하고 있다. 발광 다이오드는 기존 조명 기구에 비하여 높은 신뢰성으로 수명이 길어 낮은 유지보수비를 가지며 소모 전력이 적기 때문에 에너지 절감에 크게 기여할 수 있다.Efforts to apply light emitting diodes to lighting began in the late 1990s. In 2006, the global market for phosphors for lighting reached about $ 2 billion, and the LED lighting market is expected to grow by more than 20% annually, and the global market for 2012 is expected to grow to over $ 10 billion. The light emitting diode has a long lifespan with high reliability compared to a conventional lighting fixture, has a low maintenance cost, and has a low power consumption, thereby greatly contributing to energy saving.

그러나, 발광 다이오드 조명은 열발생이 비교적 심하게 나타나고 있어, 자체 적으로 방열을 위한 조치가 필요한 제품이다. 특히, 발광 다이오드의 열방출 특성을 향상시키기 위해서는, 발광다이오드칩과 연결되는 리드프레임을 고전도-고강도 특성을 동시에 구현할 수 있는 소재로 사용하여야 한다.However, the light emitting diode lighting is relatively severe heat generation, it is a product that requires measures for self-heat dissipation. In particular, in order to improve the heat dissipation characteristics of the light emitting diode, a lead frame connected to the light emitting diode chip should be used as a material capable of simultaneously implementing high-high strength characteristics.

도 1은 발광 다이오드 조명을 도시한 평면도이다.1 is a plan view showing a light emitting diode illumination.

도 1을 참조하면, 조명 설계를 위한 회로들이 포함되는 리드모듈(Lead Module, 10)이 구비되고, 리드모듈(10) 상부에 발광다이오드칩(20)이 실장된다.Referring to FIG. 1, a lead module 10 including circuits for lighting design is provided, and a light emitting diode chip 20 is mounted on the lead module 10.

다음에는, 발광다이오드칩(20)과 회로들을 연결하는 리드프레임(Lead Frame, 30)이 형성된다.Next, a lead frame 30 connecting the light emitting diode chip 20 and the circuits is formed.

여기서, 발열은 발광 다이오드 조명의 핵심이 되는 발광다이오드칩(20)에서 주로 발생하므로, 발광다이오드칩(20)의 방열을 위해서는 리드프레임(30)이 고전도성을 가져야 한다. 아울러, 발광다이오드칩(20)이 리드모듈(10) 상에 잘 고정될 수 있도록 지지하는 역할을 해야 하므로 고강도성도 필요하다.Here, since heat generation is mainly generated in the LED chip 20 which is the core of the LED lighting, the lead frame 30 should have high conductivity for heat dissipation of the LED chip 20. In addition, since the light emitting diode chip 20 should serve to support the lead module 10 to be fixed well, high strength is also required.

과거에는 리드프레임(30) 재료로 동(Cu)을 주로 사용하였다. 동은 우수한 전기 도전체로서 회로와의 연결 및 방열 기능을 효율적으로 수행할 수 있는 장점이 있다. 그러나, 지지체로서 요구되는 강도와 내연화성이 떨어지므로, 이를 보완하기 위하여 합금원소를 첨가하였다. 그러나, 합금원소를 첨가하는 경우 순동에 비해서 전기전도도가 크게 떨어지므로 일정한 강도와 내연화성, 고전도도 및 고가공성이 동시에 요구되는 리드프레임 소재 사용에는 적합하지 못한 단점이 있다.In the past, copper (Cu) was mainly used as the lead frame 30 material. Copper is an excellent electrical conductor, which has the advantage of being able to efficiently perform the connection and heat dissipation with the circuit. However, since the strength and softening resistance required as a support are inferior, an alloying element was added to compensate for this. However, when the alloying element is added, since the electrical conductivity is significantly lower than that of pure copper, there is a disadvantage in that it is not suitable for the use of a lead frame material which requires a certain strength, softening resistance, high conductivity, and high workability at the same time.

따라서, 이를 개선한 고강도형 소재로 CDA194(OLIN사)(Cu-Fe-P-Zn), CDA195(OLIN사)(Cu-Fe-P) 및 (Cu-Cr-Ni-P)가 개발되었고, 고전기전도도형 소재로는 OLIN151(Cu-Zr), KFC(Cu-Fe-P), CAC16(Kebe) 및 DK3(Dowa)와 같은 소재들이 개발되었다. 여기서, 고강도형은 전기전도도와 내연화성이 좋지 않고, 고전기 전도도형 중 OLIN151은 너무 고가인 문제가 있다. 또한, CAC16 및 DK3는 주조 및 제조방법에 곤란성이 있으며, CDA194는 리드프레임에 만족하는 연신율을 갖지 못하고, KFC는 만족할 만한 강도를 갖지 못하는 문제가 있다.Therefore, CDA194 (OLIN) (Cu-Fe-P-Zn), CDA195 (OLIN) (Cu-Fe-P) and (Cu-Cr-Ni-P) were developed as high strength materials. Materials such as OLIN151 (Cu-Zr), KFC (Cu-Fe-P), CAC16 (Kebe), and DK3 (Dowa) have been developed as high-conductivity conductive materials. Here, the high strength type has poor electrical conductivity and softening resistance, and the OLIN151 has a problem of being too expensive in the high conductivity type. In addition, CAC16 and DK3 have difficulty in casting and manufacturing methods, CDA194 does not have an elongation satisfying the lead frame, and KFC does not have satisfactory strength.

이와 같이, 고전도-고강도 특성을 동시에 구현하는 것은 매우 어려운 작업이다. 이를 극복하기 위해서 합금설계, 가공제어, 고순도화 등의 소재특성제어기술을 중심으로 연구하고 있다.As such, it is a very difficult task to simultaneously implement high and high strength characteristics. To overcome this problem, we are focusing on material property control technologies such as alloy design, processing control, and high purity.

도 2 및 도 3은 종래 기술에 따른 합금설계에 의한 단일상 제어 과정을 나타낸 평면 사진들이다.2 and 3 are planar photographs showing a single phase control process by alloy design according to the prior art.

도 2에서 보이는 바와 같이 표면상 구조가 복잡하고 고강도 특성이 좋지 못한 소재를 합금설계를 통하여, 도 3에서 보이는 바와 같이 표면이 매끄럽고, 고전도-고강도 특성을 갖는 소재로 변환시킬 수 있다. As shown in FIG. 2, a material having a complex surface structure and poor strength characteristics may be converted into a material having a smooth surface and high conductivity-high strength characteristics as shown in FIG. 3 through alloy design.

그러나, 이러한 연구를 위해서는 원자단위의 성분 제어를 수행해야만 하므로 연구의 난이도가 상당이 높고, 그 효과도 뚜렷하지 않은 문제가 있다.However, since such a study requires control of atomic components, the difficulty of the research is high, and the effect is not clear.

본 발명은 고강도의 벌크 소재에 고전도의 전도성 패턴을 매립하거나, 그 반 대 실시예로 고전도성 벌크 소재에 고강도의 패턴을 매립하는 형태로 구성하는 이종 소재 복합화 방법으로, 리드프레임 제조를 위한 소재 선택 범위를 확장시킬 수 있도록 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다. The present invention is a heterogeneous material compounding method in which a high-strength conductive material is embedded in a high-strength bulk material, or vice versa, a high-density conductive pattern is embedded in a high-strength bulk material. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a lead frame for a light emitting diode, which can extend the selection range.

아울러, 본 발명은 상기 방법으로 제조한 리드프레임을 발광다이오드에 적용함으로써 전기전도 특성 및 열방출 특성은 물론 기계적 특성을 동시적으로 향상시킬 수 있도록 하는 발광다이오드용 리드프레임 및 이를 이용한 발광다이오드를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.In addition, the present invention provides a light emitting diode lead frame and a light emitting diode using the same by applying the lead frame manufactured by the above method to the light emitting diode to simultaneously improve the electrical conductivity and heat dissipation characteristics as well as mechanical properties. It is for that purpose.

본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법은 제 1 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임을 형성하는 단계와, 상기 벌크형 리드프레임 표면에 복수개의 홈을 형성하는 단계 및 상기 홈에 제 2 금속물질을 매립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.The method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode according to the present invention includes forming a bulk lead frame using a first metal material, forming a plurality of grooves on a surface of the bulk lead frame, and forming a second metal material in the groove. It is characterized in that it comprises a step of embedding.

아울러, 본 발명의 일 실시예에 따른 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법은 500 ~ 600MPa의 인장강도를 갖는 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임을 형 성하는 단계와, 상기 벌크형 리드프레임 상부에 복수개의 라인타입으로 이루어지는 트렌치를 형성하는 단계 및 상기 트렌치에 60%(IACS)이상의 전기전도도를 갖는 금속물질을 매립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode according to an embodiment of the present invention comprises the steps of forming a bulk lead frame using a metal material having a tensile strength of 500 ~ 600MPa, a plurality of lines on the bulk lead frame Forming a trench consisting of a type and embedding a metal material having an electrical conductivity of 60% (IACS) or more in the trench.

아울러, 본 발명의 다른 실시예에 따른 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법은 60%(IACS)이상의 전기전도도를 갖는 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임을 형성하는 단계와, 상기 벌크형 리드프레임 상부에 복수개의 라인타입으로 이루어지는 트렌치를 형성하는 단계 및 상기 트렌치에 500 ~ 600MPa의 인장강도를 갖는 금속물질을 매립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, a method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode according to another embodiment of the present invention comprises the steps of forming a bulk lead frame using a metal material having an electrical conductivity of 60% (IACS) or more, and a plurality of upper parts of the bulk lead frame. Forming a trench consisting of a line type and the step of embedding a metal material having a tensile strength of 500 ~ 600MPa in the trench.

아울러, 본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임은 상술한 방법으로 제조된 것을 특징으로 한다.In addition, the light emitting diode lead frame according to the present invention is characterized in that it is manufactured by the above-described method.

아울러, 본 발명에 따른 발광다이오드는 발광다이오드 동작을 위한 회로 패턴을 포함하는 리드모듈과, 상기 리드모듈 상부에 실장되는 발광다이오드칩과, 상기 발광다이오드칩을 상기 리드모듈에 고정시키고, 상기 발광다이오드칩에서 발생하는 열을 방출시키기 위하여, 상술한 방법으로 제조된 발광다이오드용 리드프레임 및 상기 발광다이오드칩 상부에 형성되는 몰딩층을 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, the light emitting diode according to the present invention includes a lead module including a circuit pattern for operating a light emitting diode, a light emitting diode chip mounted on the lead module, and the light emitting diode chip fixed to the lead module, and the light emitting diode In order to release the heat generated in the chip, the light emitting diode lead frame manufactured by the above-described method and a molding layer formed on the light emitting diode chip is characterized in that it comprises a.

본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법은 고강도의 벌크 소재에 고전도의 전도성 패턴을 매립하거나, 그 반대의 형태로 구성하는 이종 소재 복합화 방법으로, 소재 선택의 범위를 확장 시킬 수 있고, 제조 공정의 간소화, 전기전도도 향상 및 열방출 특성을 향상시킬 수 있는 효과를 제공한다.The method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode according to the present invention is a heterogeneous material compounding method in which a high-strength bulk material is embedded with a high-conductivity conductive pattern or vice versa, thereby expanding the range of material selection. It simplifies the process, improves electrical conductivity and improves heat dissipation characteristics.

아울러, 본 발명에 따른 고전도-고강도 복합구조를 이용한 최종 제품은 제조가 용이하고, 성능을 더 향상시키고, 설계 다양화 및 그 활용 범위를 확장시킬 수 있는 효과를 제공 한다.In addition, the final product using the high-strength composite structure according to the present invention is easy to manufacture, and further improves the performance, and provides the effect of design diversification and its use range can be extended.

본 발명은 고강도의 벌크 소재인 제 1 금속물질 표면에 고전도성 소재인 제 2 금속물질을 소정의 패턴 형태로 매립하거나, 그 반대의 형태가 되는 고전도성 제 2 금속물질 표면에 고강도성 제 1 금속물질을 매립함으로써, 리드프레임 제조를 용이하게 하고, 고전도-고강도 특성을 더 용이하게 획득할 수 있도록 한다.According to the present invention, a high-strength first metal is embedded in a surface of a high-conductivity second metal material which is filled with a second metal material, which is a highly conductive material, in a predetermined pattern form on the surface of the first metal material, which is a high-strength bulk material, or vice versa. By embedding the material, it is easy to manufacture the leadframe, and the high conductivity-high strength property can be more easily obtained.

여기서, 제 1 금속물질이 고강도성 소재를 사용하는 경우, 후속 공정에서 형성되는 제 2 금속물질은 고전도성 소재를 사용하여야 한다. 또한, 그 반대의 경우로 제 1 금속물질이 고전도성 소재일 경우 제 2 금속물질은 고강도성 소재를 사용하여야 한다.Here, when the first metal material uses a high strength material, the second metal material formed in a subsequent process should use a high conductivity material. On the contrary, if the first metal material is a highly conductive material, the second metal material should use a high strength material.

본 발명에서 발광다이오드용 리드프레임으로 적합한 고강도성 소재는 500 ~ 600MPa의 인장강도를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, a high-strength material suitable as a lead frame for a light emitting diode is preferably one having a tensile strength of 500 to 600 MPa.

본 발명의 일 실시예에 따른 고강도성 금속 물질은 제 1 금속물질 전체 중 량% 중에서, 탄소(C) 3 ~ 5중량%, 주석(Sn), 인(P), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 및 티타늄(Ti) 중 적어도 하나 이상의 물질 1 ~ 20중량% 및 잔부의 철(Fe)로 이루어지는 물질을 사용하는 것이 바람직하다.High-strength metal material according to an embodiment of the present invention, in the total weight% of the first metal material, carbon (C) 3 to 5% by weight, tin (Sn), phosphorus (P), zinc (Zn), chromium ( It is preferable to use a material consisting of 1 to 20% by weight of at least one material of Cr, manganese (Mn), aluminum (Al), copper (Cu) and titanium (Ti) and the balance of iron (Fe).

여기서, 탄소의 함량은 금속물질의 강도를 결정하는데 중요한 역할을 한다. 3중량% 미만으로 첨가될 경우 원하는 인장강도를 얻을 수 없고, 5중량%를 초과할 경우 강도가 지나치게 증가하여 가공이 어려워지는 문제가 발생할 수 있다.Here, the carbon content plays an important role in determining the strength of the metal material. When added in less than 3% by weight it is not possible to obtain the desired tensile strength, if it exceeds 5% by weight may cause a problem that the processing is difficult to increase excessively.

아울러, 고전도 특성을 갖는 물질은 60%(IACS)이상의 전기전도도를 갖는 것을 사용하는 것이 바람직하며, 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 알루미늄(Al), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 로듐(Rh), 이리듐(Ir) 및 텅스텐(W) 중 적어도 어느 하나로 이루어지는 물질을 사용하는 것이 바람직하다.In addition, it is preferable to use a material having high conductivity of 60% (IACS) or more, and it is preferable to use silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), aluminum (Al), and beryllium (Be). It is preferable to use a material made of at least one of magnesium (Mg), rhodium (Rh), iridium (Ir), and tungsten (W).

이하에서는 본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임 및 그 제조 방법에 관하여 상세히 설명하는 것으로 한다.Hereinafter, a light emitting diode lead frame and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described in detail.

본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성요소를 지칭한다.Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but will be implemented in various forms, and only the present embodiments are intended to complete the disclosure of the present invention, and the general knowledge in the art to which the present invention pertains. It is provided to fully convey the scope of the invention to those skilled in the art, and the present invention is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.

도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 일실시예에 따른 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법을 도시한 단면도들이다.4A to 4E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode according to an embodiment of the present invention.

도 4a를 참조하면, 제 1 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임(100)을 형성한다. 이때, 벌크형 리드프레임(100)은 제 1 금속물질을 이용하여 박판을 형성한 후 절단 또는 펀칭 공정을 이용하여 형성한다. Referring to FIG. 4A, a bulk lead frame 100 is formed using a first metal material. In this case, the bulk lead frame 100 is formed using a cutting or punching process after forming a thin plate using a first metal material.

다음에는, 제 1 금속물질 표면에 홈 형성을 위한 감광막(110)을 형성한다.Next, a photosensitive film 110 for forming a groove is formed on the surface of the first metal material.

도 4b를 참조하면, 리소그래피 공정을 수행하여 감광막 패턴(115)을 형성한 후, 벌크형 리드프레임(100)을 에칭 용액(120)에 담근다. 이때, 벌크형 리드프레임(100) 전체가 에칭 용액(120)에 담기게 되나, 홈 형성 공정을 명확하게 나타내기 위하여, 감광막 패턴(115) 상부에는 에칭 용액(120)을 도시하지 않았다. 따라서, 본 발명은 도시된 에칭 공정에 의해 한정되는 것은 아니다.Referring to FIG. 4B, after the lithography process is performed to form the photoresist pattern 115, the bulk leadframe 100 is immersed in the etching solution 120. In this case, the entire bulk lead frame 100 is contained in the etching solution 120, but in order to clearly indicate the groove forming process, the etching solution 120 is not illustrated on the photoresist pattern 115. Thus, the present invention is not limited by the etching process shown.

도 4c를 참조하면, 상기와 같은 에칭 공정으로 벌크형 리드프레임(100) 표면을 식각하여, 홈(130)을 형성한다.Referring to FIG. 4C, the surface of the bulk lead frame 100 is etched by the etching process to form the groove 130.

도 4d를 참조하면, 감광막 패턴(115)을 제거하면서, 홈(130)을 확장시킨다. 이때, 홈(130)은 반드시 리소그래피 공정을 이용하여 형성해야 하는 것은 아니며 레이저를 이용하여, 에칭 공정 없이 직접 홈(130)을 형성할 수 있다.Referring to FIG. 4D, the groove 130 is expanded while the photosensitive film pattern 115 is removed. In this case, the groove 130 is not necessarily formed using a lithography process, but may be formed directly using the laser without the etching process.

아울러, 홈(130)은 벌크형 리드프레임(100)의 일면 또는 양면에 형성될 수 있다. 본 발명에 따른 홈(130)의 일 실시예는 라인 패턴이 교차되어 형성되는 격자형 패턴이 있다. 또한, 벌집형으로 형성될 수도 있으며, 본 발명은 홈(130)의 형태 에 의해서 제한되지 않는다.In addition, the groove 130 may be formed on one surface or both surfaces of the bulk lead frame 100. One embodiment of the groove 130 according to the present invention is a grid pattern formed by crossing the line pattern. In addition, it may be formed in a honeycomb type, the present invention is not limited by the shape of the groove 130.

도 4e를 참조하면, 홈(130)에 제 2 금속물질을 매립하여 발광다이오드용 리드프레임을 형성한다.Referring to FIG. 4E, a second metal material is filled in the groove 130 to form a lead frame for a light emitting diode.

도 5는 본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임을 나타낸 단면도이다.5 is a cross-sectional view showing a lead frame for a light emitting diode according to the present invention.

도 5를 참조하면, 리드모듈(200) 상부에 발광다이오드 구동을 위한 회로 패턴(210)이 형성된다. 여기서, 회로 패턴(210)은 구리 패드(Cu pad) 부분을 나타낸 것이다.Referring to FIG. 5, a circuit pattern 210 for driving a light emitting diode is formed on the lead module 200. Here, the circuit pattern 210 represents a copper pad portion.

다음에는, 회로 패턴(210) 상부에 발광다이오드칩(220)이 실장되고, 본 발명에 따른 리드프레임(230)에 의해서 발광다이오드칩(220)이 연결된다. 이때, 리드프레임(230)의 표면에는 리드프레임(230)의 특성 보완을 위한 보완재 패턴(240)이 형성된다.Next, the light emitting diode chip 220 is mounted on the circuit pattern 210, and the light emitting diode chip 220 is connected by the lead frame 230 according to the present invention. In this case, a complementary material pattern 240 is formed on the surface of the leadframe 230 to compensate for the characteristics of the leadframe 230.

여기서, 리드프레임이 고강도 소재로 사용될 경우 리드프레임 표면에는 고전도성 소재로 이루어지는 고전도 패턴이 형성되고, 리드프레임이 고전도 소재로 사용될 경우 리드프레임 표면에는 고강도성 소재로 이루어지는 고강도 패턴이 형성된다. 강도가 중요시되는 발광다이오드 소자에서는 전자의 경우가 사용될 수 있으며, 전도도가 더 중요시되는 발광다이오드 소자에서는 후자의 경우가 사용될 수 있다.Here, when the leadframe is used as a high-strength material, a high-conductivity pattern made of a highly conductive material is formed on the surface of the leadframe, and when the leadframe is used as the high-conductivity material, a high-strength pattern made of high strength material is formed on the surface of the leadframe. The former case may be used in the light emitting diode device in which the strength is important, and the latter case may be used in the light emitting diode device in which the conductivity is more important.

아울러, 한 가지 특성이 집중된 소재만을 선택하여 사용하면 되므로 리드프레임 형성을 위한 소재 선택의 범위를 자유롭게 선택 또는 확장시킬 수 있다.In addition, it is possible to freely select or expand the range of material selection for lead frame formation because only one material having only one characteristic is concentrated and used.

그 다음에는, 회로 패턴(210) 및 리드모듈(200) 보호를 위한 솔더 레지스 트(215)가 리드모듈(200) 전면에 형성되고, 발광다이오드칩(220) 상부에는 형광체를 포함하는 몰딩층(225)이 형성된다. Next, a solder resist 215 for protecting the circuit pattern 210 and the lead module 200 is formed on the front surface of the lead module 200, and a molding layer including phosphors on the light emitting diode chip 220. 225 is formed.

도 6은 전해 동박 상부에 홈을 형성한 것을 나타낸 단면도이다.6 is a cross-sectional view showing a groove formed in the upper portion of the electrolytic copper foil.

도 6은 폴리머로 형성된 기판 상부에 전해 동박을 형성한 후, 전해 동박 상부에 리소그래피공정을 이용하여 홈을 형성한 것을 나타낸 단면도이다.FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating the formation of a groove on an electrolytic copper foil after forming an electrolytic copper foil on a substrate formed of a polymer by using a lithography process.

여기서, 전해 동박은 고전도성 소재이므로 홈 내에는 고강도성 소재를 매립하여 고강도-고전도 특성을 동시에 갖는 리드프레임을 형성할 수 있다.Here, since the electrolytic copper foil is a highly conductive material, it is possible to form a lead frame having high strength and high conductivity at the same time by embedding a high strength material in the groove.

도 7은 본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임을 나타낸 평면 사진이다.7 is a plan view showing a lead frame for a light emitting diode according to the present invention.

도 7은 상기 도 6과 같은 격자형 홈을 포함하는 벌크형 리드프레임의 홈 내에 고전도성을 갖는 금속 물질인 은(Ag)을 매립한 것을 상부에서 촬영한 것이다. 이때, 벌크형 리드프레임의 강도를 향상시키기 위하여 전해 동박 대신에 압연 동박을 사용하였다. 즉, 고강도 소재 상에 고전도 패턴을 형성함으로써, 고강도-고전도 두 가지 특성이 조화롭게 공존될 수 있도록 한 것이다.FIG. 7 is a view taken from the top of a buried metal material Ag having high conductivity in a groove of a bulk lead frame including a lattice groove as shown in FIG. 6. In this case, in order to improve the strength of the bulk lead frame, a rolled copper foil was used instead of the electrolytic copper foil. That is, by forming a high conductivity pattern on a high-strength material, two characteristics of high-strength and high-conductivity can be harmoniously coexist.

도 8은 본 발명에 따른 리드프레임을 이용하여 제조한 발광다이오드를 나타낸 단면도이다.8 is a cross-sectional view showing a light emitting diode manufactured using a lead frame according to the present invention.

도 8을 참조하면, 리드모듈과 일체형으로 형성되는 양극 리드프레임(350) 상부에 발광다이오드칩(310)이 형성된다. 이때, 발광다이오드칩(310)이 실장되는 부 분은 원활한 발광을 위하여 반원형으로 오목하게 형성되도록 하는 것이 바람직하다. Referring to FIG. 8, the light emitting diode chip 310 is formed on the anode lead frame 350 formed integrally with the lead module. At this time, the portion where the light emitting diode chip 310 is mounted is preferably formed to be concave in a semi-circular shape for smooth light emission.

그 다음에는, 와이어 본딩(340)에 의해서 발광다이오드칩(310)과 양극 리드프레임(350) 및 음극 리드프레임(355)이 각각 연결되고, 반원형으로 오목하게 형성된 양극 리드프레임(350) 상부에는 발광을 위한 형광층(320)이 채워지고, 양극 및 음극 리드프레임(350, 355)과 발광다이오드칩(310) 전체를 포탄형으로 감싸는 몰딩층이 형성된다. 이때, 몰딩층은 투명 에폭시 수지 또는 투명 실리콘 수지를 이용하여 형성된다. Next, the light emitting diode chip 310, the anode lead frame 350, and the cathode lead frame 355 are connected to each other by wire bonding 340, and light emission is formed on the anode lead frame 350 formed in a semicircular concave shape. The phosphor layer 320 is filled, and a molding layer is formed around the anode and cathode lead frames 350 and 355 and the entire light emitting diode chip 310 in a shell shape. At this time, the molding layer is formed using a transparent epoxy resin or a transparent silicone resin.

이와 같은 형태의 포탄형 발광다이오드(300)에 있어서, 상기 양극 및 음극 리드프레임(350, 355)은 고강도-고전도성을 갖도록 하기 위하여 종래의 합금 재료를 사용하지 않고, 고강도 특성과 고전도 특성을 갖는 두 가지 물질을 각각 결합하여 복합재로 형성한다.In the shell type light emitting diode 300 of this type, the anode and cathode lead frames 350 and 355 do not use a conventional alloy material in order to have high strength and high conductivity, and have high strength characteristics and high conductivity characteristics. Each of the two materials is combined to form a composite.

이하에서는, 상술한 본 발명의 리드프레임에 관한 구체적인 실시예 및 비교예를 들어 그 특성을 비교 설명하는 것으로 한다.In the following, specific characteristics and comparative examples of the above-described lead frame of the present invention will be described and their characteristics will be described.

실시예1Example 1

먼저, 고강도성 소재로 탄소(C) 3중량%, 주석(Sn) 0.02중량%, 인(P)0.05중량%, 아연(Zn) 0.3중량%를 포함하고 잔부의 철(Fe) 및 기타 불순물로 이루어지는 금속 물질을 이용하여 50mm*50mm 크기 및 0.1mm의 두께를 갖는 벌크형 리드프레임 을 형성한다.First, the high-strength material includes 3% by weight of carbon (C), 0.02% by weight of tin (Sn), 0.05% by weight of phosphorus (P), and 0.3% by weight of zinc (Zn), and the balance of iron (Fe) and other impurities. A bulk leadframe having a size of 50 mm * 50 mm and a thickness of 0.1 mm is formed using the metal material.

다음에는, 벌크형 리드프레임 표면에 100㎛의 선폭 및 200㎛의 깊이를 갖는 홈을 격자형으로 형성하고, 홈 내부에 고전도성 소재로서 구리(Cu)를 매립 하여 리드프레임을 형성한다.Next, grooves having a line width of 100 μm and a depth of 200 μm are formed in a lattice shape on the surface of the bulk lead frame, and a lead frame is formed by embedding copper (Cu) as a highly conductive material in the grooves.

실시예2Example 2

상기 실시예1에서 고강도성 소재의 탄소(C)함량을 5중량%로 형성한 것을 제외하고는 모두 동일하게 수행하여 리드프레임을 형성한다.Except for forming the carbon (C) content of the high-strength material in Example 1 to 5% by weight all performed the same to form a lead frame.

실시예3Example 3

상기 실시예1에서 구리를 이용하여 벌크형 리드프레임을 형성하고, 그 표면에 상기 탄소를 포함하는 금속물질을 매립하여 리드프레임을 형성한다.In Example 1, a bulk lead frame is formed using copper, and a lead frame is formed by embedding a metal material including carbon on the surface thereof.

비교예1Comparative Example 1

상기 실시예1에서 고강도성 소재의 탄소(C)함량을 2중량%로 형성한 것을 제외하고는 모두 동일하게 수행하여 리드프레임을 형성한다.Except for forming the carbon (C) content of the high-strength material in Example 1 to 2% by weight all performed the same to form a lead frame.

비교예2Comparative Example 2

상기와 같은 복합소재를 사용하지 않고, CDA195(OLIN사)Cu-Fe-P 합금 소재를 이용하여 50mm*50mm 크기 및 0.1mm의 두께를 갖는 크기의 리드프레임을 형성한다.Instead of using the composite material as described above, a lead frame having a size of 50 mm * 50 mm and a thickness of 0.1 mm is formed using a CDA195 (OLIN) Cu-Fe-P alloy material.

상기 각 실시예 및 비교예에 따른 리드프레임의 특성을 조사한 결과를 정리하면 하기 [표 1]과 같이 나타난다.A summary of the results of examining the characteristics of the lead frame according to each of the above embodiments and comparative examples is shown as Table 1 below.

[표 1]TABLE 1

실시예1Example 1 실시예2Example 2 실시예3Example 3 비교예1Comparative Example 1 비교예2Comparative Example 2 인장강도The tensile strength
(MPa)(MPa)
495495 620620 480480 450450 400400
전기전도도Electrical conductivity
(%IACS)(% IACS)
75.875.8 73.273.2 80.780.7 58.358.3 52.652.6

상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 실시예1 내지 실시예3의 경우 모두 리드프레임으로서 요구되는 우수한 인장강도 및 전기전도도를 얻을 수 있는 것을 알 수 있다. 일반적인 소재에서는 전기전도도에 따라 열전도도 또한 증가되므로, 본 발명에 따른 이종 접합형 리드프레임은 우수한 방열 특성도 나타낼 수 있는 것이다.As described above, it can be seen that in the case of Examples 1 to 3 according to the present invention, excellent tensile strength and electrical conductivity required as lead frames can be obtained. In a general material, the thermal conductivity is also increased according to the electrical conductivity, so that the heterojunction lead frame according to the present invention may exhibit excellent heat dissipation characteristics.

아울러, 실시예3에서는 강도 특성보다 전도도 특성이 더 우수하게 나타나는데, 이와 같이 발광다이오드 소자가 사용되는 용도 및 특성에 따라서 이종 접합 소재를 다양하게 활용할 수 있다. In addition, in Example 3, the conductivity characteristics are better than the strength characteristics, and thus, a heterojunction material may be variously used according to the use and characteristics of the light emitting diode device.

또한, 실시예1 및 실시예2에서 알 수 있는 바와 같이 탄소 함량에 따라서 강도 조절을 용이하게 할 수 있다. 비교예1의 경우 탄소의 함량이 본 발명에서 정하는 범위에 미치지 못하여 강도가 떨어지는 것을 알 수 있다. 아울러 이 경우, 홈에 매립되는 이종 소재를 구리 대신 은으로 사용하거나, 홈이 형성되는 면을 벌크형 리드프레임의 양면으로 확장시킴으로써 전기전도도 또한 용이하게 증가시킬 수 있 다.In addition, as can be seen in Examples 1 and 2, the strength can be easily adjusted according to the carbon content. In the case of Comparative Example 1 it can be seen that the strength of the carbon is less than the range specified in the present invention. In this case, the electrical conductivity may also be easily increased by using different materials embedded in the grooves as silver instead of copper, or by extending the surfaces on which the grooves are formed on both sides of the bulk lead frame.

이러한 적용 사례는 실시예3에도 적용될 수 있는데, 벌크 리드프레임으로 사용되는 소재를 구리에서 은으로 대체하면 전기전도도 향상 효과를 얻을 수 있으며, 강도를 더 보강하기 위해서는 홈이 형성되는 면을 확장시키면 된다.This application example can also be applied to Example 3, by replacing the material used as the bulk lead frame from copper to silver, the electrical conductivity can be improved, and in order to further strengthen the strength, the groove forming surface may be expanded. .

반면에, 비교예1과 같이 합금 비율에 의한 리드프레임의 경우 정해진 특성이외에는 고전도-고강도 특성을 변화시킬 수 없고, 그 특성 또한 본 발명보다 떨어지게 나타나고 있다.On the other hand, in the case of the lead frame by the alloy ratio as in Comparative Example 1 can not change the high-high strength properties other than the predetermined characteristics, the characteristics also appear to be inferior to the present invention.

따라서, 본 발명에 따른 복합소재를 사용한 이종 접합형 리드프레임은 소재 선택의 범위를 확장 시킬 수 있고, 제조 공정의 간소화 및 전기전도도·열방출 특성을 향상시킬 수 있다.Therefore, the heterojunction leadframe using the composite material according to the present invention can expand the range of material selection, and can simplify the manufacturing process and improve the electrical conductivity and heat dissipation characteristics.

이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although the embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited to the above embodiments, but may be modified in various forms, and having ordinary skill in the art to which the present invention pertains. It will be understood by those skilled in the art that the present invention may be embodied in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive.

도 1은 발광 다이오드 조명을 도시한 평면도.1 is a plan view of a light emitting diode illumination;

도 2 및 도 3은 종래 기술에 따른 합금설계에 의한 단일상 제어 과정을 나타낸 평면 사진들.2 and 3 are planar photographs showing a single phase control process by alloy design according to the prior art.

도 4a 내지 도 4e는 본 발명의 일실시예에 따른 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법을 도시한 단면도들.4A to 4E are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode according to an embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임을 나타낸 단면도.5 is a cross-sectional view showing a lead frame for a light emitting diode according to the present invention.

도 6은 전해 동박 상부에 홈을 형성한 것을 나타낸 단면도.6 is a cross-sectional view showing a groove formed in an upper portion of an electrolytic copper foil.

도 7은 본 발명에 따른 발광다이오드용 리드프레임을 나타낸 평면 사진.Figure 7 is a planar photograph showing a lead frame for a light emitting diode according to the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 리드프레임을 이용하여 제조한 발광다이오드를 나타낸 단면도.8 is a cross-sectional view showing a light emitting diode manufactured using a lead frame according to the present invention.

Claims (20)

제 1 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임을 형성하는 단계;Forming a bulk leadframe using the first metal material; 상기 벌크형 리드프레임 표면에 복수개의 홈을 형성하는 단계; 및Forming a plurality of grooves on a surface of the bulk leadframe; And 상기 홈에 제 2 금속물질을 매립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하되,And embedding a second metal material in the groove. 상기 제 1 금속물질은 고강도 특성을 갖는 물질 및 고전도 특성을 갖는 물질 중 선택된 어느 하나의 물질을 사용하여 형성하고, 상기 제 2 금속물질은 고강도 특성을 갖는 물질 및 고전도 특성을 갖는 물질 중 선택된 어느 하나의 물질을 사용하되, 상기 제 1 금속물질이 가지는 특성과 상반되는 특성을 갖는 물질을 사용하여, 상기 벌크형 리드프레임의 고전도 및 고강도 특성이 상호 보완되도록 하고,The first metal material is formed using any one material selected from materials having high strength properties and materials having high conductivity properties, and the second metal material is selected from materials having high strength properties and materials having high conductivity properties. By using any one material, by using a material having properties that are contrary to the properties of the first metal material, the high-strength and high-strength characteristics of the bulk lead frame is complementary to each other, 상기 고강도 특성을 갖는 물질은 탄소(C) 3 ~ 5중량%, 주석(Sn), 인(P), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 및 티타늄(Ti) 중 적어도 하나 이상의 물질 1 ~ 20중량% 및 잔부의 철(Fe)로 이루어지는 물질을 사용하고, 상기 고전도 특성을 갖는 물질은 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 알루미늄(Al), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 로듐(Rh), 이리듐(Ir) 및 텅스텐(W) 중 적어도 어느 하나로 이루어지는 물질을 사용하는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The material having high strength properties is 3 to 5% by weight of carbon (C), tin (Sn), phosphorus (P), zinc (Zn), chromium (Cr), manganese (Mn), aluminum (Al), copper (Cu ) And 1 to 20% by weight of at least one material of titanium (Ti) and the balance of iron (Fe), and the material having high conductivity is silver (Ag), copper (Cu), gold ( Lead frame for light emitting diodes using a material consisting of at least one of Au), aluminum (Al), beryllium (Be), magnesium (Mg), rhodium (Rh), iridium (Ir) and tungsten (W) Manufacturing method. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 벌크형 리드프레임은 상기 제 1 금속물질을 이용하여 박판을 형성한 후 절단 또는 펀칭 공정을 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The bulk lead frame is a light emitting diode lead frame manufacturing method characterized in that formed by using a cutting or punching process after forming a thin plate using the first metal material. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홈은 리소그래피공정 또는 레이저를 이용하여 형성되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The groove is a lithography process or a method of manufacturing a lead frame for a light emitting diode, characterized in that using a laser. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홈은 상기 벌크형 리드프레임의 일면 또는 양면에 형성되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The groove is a lead frame manufacturing method for a light emitting diode, characterized in that formed on one side or both sides of the bulk lead frame. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홈은 라인 패턴이 교차되어 형성되는 격자형 패턴으로 형성되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The groove is a light emitting diode lead frame manufacturing method characterized in that formed in a lattice pattern formed by crossing the line pattern. 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 홈은 벌집형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The groove is a honeycomb lead frame manufacturing method, characterized in that formed in the honeycomb. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 고강도 특성을 갖는 물질은 500 ~ 600MPa의 인장강도를 갖는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The material having the high strength characteristics is a light emitting diode lead frame manufacturing method characterized in that it has a tensile strength of 500 ~ 600MPa. 삭제delete 제 1 항에 있어서, The method of claim 1, 상기 고전도 특성을 갖는 물질은 60%(IACS)이상의 전기전도도를 갖는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.The material having high conductivity has a conductivity of 60% (IACS) or more. 삭제delete 탄소(C) 3 ~ 5중량%, 주석(Sn), 인(P), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 및 티타늄(Ti) 중 적어도 하나 이상의 물질 1 ~ 20중량% 및 잔부의 철(Fe)로 이루어지고, 500 ~ 600MPa의 인장강도를 갖는 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임을 형성하는 단계;3-5% by weight of carbon (C), tin (Sn), phosphorus (P), zinc (Zn), chromium (Cr), manganese (Mn), aluminum (Al), copper (Cu) and titanium (Ti) Forming a bulk leadframe using a metal material composed of at least one material by weight of 1 to 20% by weight and the balance of iron (Fe) and having a tensile strength of 500 to 600 MPa; 상기 벌크형 리드프레임 상부에 복수개의 라인타입으로 이루어지는 트렌치를 형성하는 단계; 및Forming a trench formed in a plurality of line types on the bulk lead frame; And 상기 트렌치에 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 알루미늄(Al), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 로듐(Rh), 이리듐(Ir) 및 텅스텐(W) 중 적어도 어느 하나로 이루어지고, 60%(IACS)이상의 전기전도도를 갖는 금속물질을 매립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.At least any one of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), aluminum (Al), beryllium (Be), magnesium (Mg), rhodium (Rh), iridium (Ir), and tungsten (W) in the trench. A method for manufacturing a lead frame for a light emitting diode, comprising the step of embedding a metal material having one or more electrical conductivity of 60% (IACS) or more. 은(Ag), 구리(Cu), 금(Au), 알루미늄(Al), 베릴륨(Be), 마그네슘(Mg), 로듐(Rh), 이리듐(Ir) 및 텅스텐(W) 중 적어도 어느 하나로 이루어지고, 60%(IACS)이상의 전기전도도를 갖는 금속물질을 이용하여 벌크형 리드프레임을 형성하는 단계;Made of at least one of silver (Ag), copper (Cu), gold (Au), aluminum (Al), beryllium (Be), magnesium (Mg), rhodium (Rh), iridium (Ir) and tungsten (W) Forming a bulk lead frame using a metal material having an electrical conductivity of 60% (IACS) or more; 상기 벌크형 리드프레임 상부에 복수개의 라인타입으로 이루어지는 트렌치를 형성하는 단계; 및Forming a trench formed in a plurality of line types on the bulk lead frame; And 상기 트렌치에 탄소(C) 3 ~ 5중량%, 주석(Sn), 인(P), 아연(Zn), 크롬(Cr), 망간(Mn), 알루미늄(Al), 구리(Cu) 및 티타늄(Ti) 중 적어도 하나 이상의 물질 1 ~ 20중량% 및 잔부의 철(Fe)로 이루어지고, 500 ~ 600MPa의 인장강도를 갖는 금속물질을 매립하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임 제조 방법.3 to 5% by weight of carbon (C), tin (Sn), phosphorus (P), zinc (Zn), chromium (Cr), manganese (Mn), aluminum (Al), copper (Cu) and titanium ( 1 to 20% by weight of at least one material of Ti) and the remainder of the iron (Fe), comprising a step of embedding a metal material having a tensile strength of 500 ~ 600MPa Way. 삭제delete 삭제delete 제 1 항 내지 제6항, 제9항 및 제11항 중 선택된 어느 한 항의 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 발광다이오드용 리드프레임.A lead frame for a light emitting diode, which is manufactured by the method of any one of claims 1 to 6, 9 and 11. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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