KR101027422B1 - LED array board - Google Patents

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Abstract

본 발명은 엘이디 어레이 기판에 관한 것으로 알루미늄 베이스 층, 상기 알루미늄 베이스 층 상에 애노다이징에 의하여 형성된 알루미나 절연층과 상기 알루미나 절연층 상에 도전성 입자와 내열성 바인더를 포함하는 도전성 페이스트 조성물로 직접인쇄방식에 의하여 형성된 전기회로로 이루어진 LED 어레이 기판을 제공한다.
본 발명의 LED 어레이 기판은 베이스 층과 절연층을 일체로 형성하여 높은 방열구조를 달성함으로써 고휘도를 위한 LED 고집적 어레이 기판에 사용될 수 있는 고 방열구조의 LED 어레이 기판을 제공한다. 또한 이러한 기판의 기본구조와 함께 도전성 입자와 내열성 바인더를 포함하는 도전성 페이스트로 직접 인쇄하여 알루미나 절연층의 절연성을 증가시키면서 전기회로를 형성시켜 제조공정을 단순화하고 공정비용 및 제조시간을 절감할 수 있으며, 폐수발생을 최소화할 수 있다.
The present invention relates to an LED array substrate, a direct printing method using an aluminum base layer, an alumina insulating layer formed by anodizing on the aluminum base layer and a conductive paste composition comprising conductive particles and a heat resistant binder on the alumina insulating layer. It provides an LED array substrate consisting of an electrical circuit formed by.
The LED array substrate of the present invention forms a base layer and an insulating layer integrally to achieve a high heat dissipation structure to provide a high heat dissipation structure LED array substrate that can be used in the LED high density array substrate for high brightness. In addition, by directly printing with a conductive paste containing conductive particles and a heat resistant binder together with the basic structure of the substrate, an electrical circuit can be formed while increasing the insulation of the alumina insulating layer, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the process cost and manufacturing time. Wastewater generation can be minimized.

Description

엘이디 어레이 기판{a LED array board}LED array board {a LED array board}

본 발명은 엘이디 어레이 기판, 특히, 방열효과가 뛰어나면서도 제조공정이 단순한 엘이디 어레이 기판에 관한 것이다.The present invention relates to an LED array substrate, particularly an LED array substrate having excellent heat dissipation effect and simple manufacturing process.

엘이디, 즉, 발광소자(이하 LED, Light Emitting Diode)는 광효율성, 오랜 수명 등의 장점으로 다양한 색상으로 전자기기의 표시소자 및 대형정보 표시장치의 광원 등 여러 분야에 사용되고 있다. 최근에는 다양한 조명과 LCD TV 백라이트 분야에 그 사용범위를 점차 확대하고 있다.LEDs, that is, light emitting diodes (LEDs), are used in various fields such as display devices of electronic devices and light sources of large information display devices in various colors due to advantages of light efficiency and long life. Recently, it is gradually expanding its use in various lighting and LCD TV backlight fields.

LCD TV 백라이트의 경우와 LED 조명의 경우 등에는 단위 면적당 높은 휘도와 평면발광의 이유 등으로 다수개의 발광소자로 기판에 어레이를 구성하여 사용한다. LED 패키지에 있어서 방열처리는 LED 수명과 효율 등과 같은 품질 유지에 중요한 요소임은 잘 알려져 있다. 특히 LED가 어레이를 구성하는 경우에는 방열이 중첩되므로 LED들에서 발생하는 열을 기판을 통하여 효과적으로 방출하는 것은 아주 중요하다.In the case of LCD TV backlight, LED lighting, etc., an array is formed on a substrate using a plurality of light emitting elements for reasons of high luminance and flat light emission per unit area. It is well known that heat dissipation in LED packages is an important factor in maintaining quality such as LED life and efficiency. Especially when LEDs form an array, heat dissipation overlaps, so it is very important to effectively dissipate heat generated from the LEDs through the substrate.

단일 칩 LED 패키지에는 원활한 방열을 위하여 구조나 재료의 선택에 의한 다양한 방열 해법이 제시되어 있다. 그러나 이러한 단일 칩 LED 패키지가 개별적으로는 방열 설계가 되어 있다고 하더라도 강렬한 면조명을 위해서는 다수 개의 발광소자로 기판에 집적하여 어레이를 구성하여야 하므로 개별 LED 패키지의 방열 설계에 덧붙여 어레이 기판의 방열 문제가 해결되어야 한다. Single-chip LED packages offer a variety of heat dissipation solutions based on the choice of structure or material for smooth heat dissipation. However, even if these single-chip LED packages are individually designed for heat dissipation, the intense surface lighting requires the integration of multiple light emitting elements on the board to form an array. Should be.

LED 어레이 기판에는 주로 원활한 방열을 위하여 동박적층판(CCL) 방식의 PCB 대신에 금속 기판을 포함하는 MCPCB(metal core printed circuit board)을 사용한다. 보통 이러한 MCPCB는 금속 베이스 층+절연층+동박에칭회로의 3층 구조를 이루고 있다. 상기 절연층은 열전도성을 증가시키기 위하여 열전도성 입자를 충진한 에폭시 또는 실리콘 수지를 사용하기도 한다. 이러한 MCPCB를 기반으로 한 LED 기판은 수지 기반 절연층 때문에 방열성능이 크게 제한되는 단점이 있다. 또한, MCPCB의 전기회로 형성은 종래 PCB와 마찬가지로 레지스트 패턴 형성과 식각 등을 포함하는 리소그라피 기술을 이용하여 제조하므로 제조 공정이 매우 복잡하고, 공정 중 다량의 에칭 폐수가 발생하는 문제가 있다.The LED array substrate mainly uses a metal core printed circuit board (MCPCB) including a metal substrate instead of a copper clad laminate (CCL) type PCB for smooth heat dissipation. Usually, the MCPCB has a three-layer structure of a metal base layer, an insulation layer, and a copper foil etching circuit. The insulating layer may use an epoxy or silicone resin filled with thermally conductive particles to increase thermal conductivity. LED substrate based on such MCPCB has a disadvantage that the heat dissipation performance is greatly limited because of the resin-based insulating layer. In addition, since the electric circuit formation of the MCPCB is manufactured using a lithography technique including resist pattern formation and etching, as in the conventional PCB, the manufacturing process is very complicated, and a large amount of etching wastewater is generated during the process.

반도체의 조립 공정에서 마이크로칩이나 다이를 회로판에 직접 부착하는 기술인 COB(chip-on-board) 기술을 응용하여 패키징 되기 전의 LED 칩을 성형된 MCPCB나 메탈층+전기회로가 형성된 LTCC로 된 세라믹 복합 보드에 직접 실장하고 패키징하는 기술이 시도되고 있다. 그러나 COB 기술로 LED 어레이 패키지를 만들기 위해서는 LED 칩을 수용하는 그루브의 성형, 도전층 성막과 전극회로 형성을 위한 에칭과 반사경 형성이나 칩 실장 후 봉입과 렌즈 형성 등 복잡하고 정밀한 공정이 수반된다. 이러한 복잡성과 정밀성은 다양한 용도에 대한 적응성을 낮게 할 뿐만 아니라 고가의 공정 비용을 필요로 한다. 예를 들면, LED 칩의 크기 및 개수에 따른 그루브, 반사경과 LED 칩 접합점 등이 정밀하게 설정되어야 하고 칩 실장이 하나라도 잘못되면 전체 패키지가 불량이 된다. 또한 MCPCB의 수지 절연층이나 상당한 두께의 LTCC 등에 의하여 방열성능이 여전히 제한된다.Ceramic composite made of MCPCB or LTCC with metal layer + electric circuit formed on LED chip before packaging by applying COB (chip-on-board) technology, which attaches microchip or die directly to circuit board in semiconductor assembly process Techniques for mounting and packaging directly onto the board are being tried. However, the fabrication of LED array packages using COB technology involves complex and precise processes such as forming grooves to house LED chips, etching to form conductive layers and forming electrode circuits, forming reflectors, and encapsulating and forming lenses after chip mounting. This complexity and precision not only lowers the adaptability for various applications but also requires expensive process costs. For example, grooves, reflectors, and LED chip junction points, etc., must be precisely set according to the size and number of LED chips, and if any chip is mounted incorrectly, the entire package becomes defective. In addition, the heat radiation performance is still limited by the resin insulating layer of MCPCB, LTCC of considerable thickness, and the like.

본 발명은 LED 고집적 어레이 기판에 사용될 수 있는 고 방열구조의 LED 어레이 기판을 제공하기 위한 것이다.The present invention is to provide a high heat dissipation structure LED array substrate that can be used in the LED high density array substrate.

또한, 본 발명은 동박 적층이나 금속 증착이 필요 없고 에칭공정이 필요 없어 공정이 매우 단순하여 염가로 제공 가능하면서도 방열 성능이 우수하고 용도에 따른 적응성이 뛰어난 LED 어레이 기판을 제공하기 위한 것이다.In addition, the present invention is to provide an LED array substrate excellent in heat dissipation performance and excellent adaptability according to the use can be provided at low cost because the process is very simple because there is no need for copper foil lamination or metal deposition and no etching process.

본 발명에 의하여, 알루미늄 베이스 층, 상기 알루미늄 베이스 층 상에 애노다이징에 의하여 형성된 알루미나 절연층과 상기 알루미나 절연층 상에 도전성 입자와 내열성 바인더를 포함하는 도전성 페이스트 조성물로 직접인쇄방식에 의하여 형성된 전기회로로 이루어진 LED 어레이 기판이 제공된다. 상기 LED 어레이 기판은 이면에 공정상 또는 편면 처리에 의한 휨을 방지하기 위하여 동일 애노다이징에 의하여 형성된 알루미나 층을 가질 수 있다. 필요하다면, 상기 이면 알루미나 층 하에는 또 다른 전기회로가 상기 전면의 전기회로와 동일한 방법으로 형성될 수 있다. 본 발명에서 "전기회로"라 함은 LED에 전력을 공급하기 위한 전극회로 또는 제어를 위한 신호회로를 의미한다. 이러한 하부 전기회로는 전면에 실장되는 LED를 위한 신호회로 또는 전극회로로 사용되고 경우에 따라서는 LED를 이면 실장하는 데 필요한 전기회로로 사용될 수 있다. 이러한 양면 회로 또는 양면 실장의 경우 양면 서로 간의 통전은 종래의 비어홀 기술에 의하여 달성된다. According to the present invention, an aluminum base layer, the alumina insulating layer formed by anodizing on the aluminum base layer and the electric paste formed by a direct printing method with a conductive paste composition comprising conductive particles and a heat resistant binder on the alumina insulating layer An LED array substrate consisting of a circuit is provided. The LED array substrate may have an alumina layer formed by the same anodization on the back surface to prevent warpage by process or single side treatment. If desired , another electrical circuit can be formed under the back alumina layer in the same way as the electrical circuit on the front side. In the present invention, the term "electrical circuit" means an electrode circuit for supplying power to an LED or a signal circuit for control. The lower electric circuit may be used as a signal circuit or an electrode circuit for an LED mounted on the front surface, and in some cases, may be used as an electric circuit required to mount the LED to the rear side. In the case of such a double-sided circuit or double-sided mounting, energization between both sides is achieved by conventional via-hole technology.

필요하다면, 본 발명의 LED 어레이 기판의 알루미나 절연층에 절연파괴전압을 향상시키기 위하여 전기회로 인쇄 전 또는 인쇄 후에 실링처리를 할 수 있다. 상기 LED 어레이 기판은 직접인쇄방식에 의하여 형성된 전기회로 위에 그 패턴에 따라 도전성과 납땜성을 향상시키기 위하여 전해도금에 의한 도금층을 더 가질 수 있다. 또한, 상기 LED 어레이 기판은 전기회로를 보호하기 위하여 LED 접속부분을 제외하고 전기회로를 덮는 전기회로 보호절연층을 더 가질 수 있다. 이러한 전기회로 보호절연층은, 바람직하게는, 인쇄에 의하여 LED와의 접점을 노출시키는 패턴의 형태로 적층된다.If necessary, it is possible to the sealing process after the electric circuit before printing or printing in order to improve the breakdown voltage in the alumina insulating layer of the LED array substrate of the present invention. The LED array substrate may further have a plating layer by electroplating to improve conductivity and solderability according to the pattern on the electric circuit formed by the direct printing method. In addition, the LED array substrate may further have an electric circuit protective insulating layer covering the electric circuit except for the LED connection portion to protect the electric circuit. Such an electric circuit protective insulating layer is preferably laminated in the form of a pattern which exposes a contact with the LED by printing.

상기 알루미늄 베이스 층은 알루미늄 또는 알루미늄 합금으로 이루어진다. 상기 알루미늄 베이스 층의 이면부는 공기와의 접촉 면적을 크게 하는 구조 즉 다수의 핀을 갖는 구조로 가공되어 히트싱크와 일체화될 수 있다. 또한, 냉각을 위하여 상기 알루미늄 베이스 층은 히트파이프 또는 열전소자 등이 매입되거나 부착될 수 있다.The aluminum base layer is made of aluminum or an aluminum alloy. The back surface portion of the aluminum base layer may be processed into a structure that enlarges a contact area with air, that is, a structure having a plurality of fins, and may be integrated with the heat sink. In addition, the aluminum base layer may be embedded or attached to a heat pipe or a thermoelectric element for cooling.

상기 알루미나 절연층은 상기 알루미늄 베이스 층의 표면을 양극산화(애노다이징) 처리함으로써 형성되는데, 상세하게는, 황산, 옥살산, 인산 또는 크롬산 용액에서, 그 중에서도 바람직하게는, 옥살산 용액에서 알루미늄 기판에 양 전압을 인가하여 산화 작용을 촉진시켜 균일한 두께의 표면 알루미나 층을 형성하여 얻는다. 필요한 경우에는 옥살산 용액에 황산동, 젖산, 구연산, 아세트산, 황산알루미늄, 황산마그네슘 등의 첨가제를 가할 수 있다. 상기 알루미나 절연층은 알루미늄 판에 마스킹 처리를 통하여 패턴 형태로 또는 부분적으로 형성할 수 있다. LED 어레이 기판의 이면을 이용하기 위하여 또는 편면 애노다이징에 의한 휨을 방지하기 위하여 이면에도 한번의 애노다이징으로 알루미나 절연층을 형성시킬 수 있다. 이 알루미나 층은 대단히 견고하고, 내식성이 크며, 수 십 nm 내외의 직경을 갖는 많은 기공이 형성되는데, 이 기공은 일반적인 경우 산화막의 절연성을 떨어뜨리는 원인이 되어 실링처리가 필수적이다. 그러나 본 발명에서는 실링처리를 생략하거나 애노다이징으로 형성된 알루미나 절연층 위에 전기회로를 인쇄한 후에, 필요에 따라, 실링처리를 할 수 있다. 실링처리 전에 알루미나 절연층에 전기회로를 인쇄함으로써 기공에 의한 표면 요철 구조에 바인더가 결합함으로써 전기회로 부착력을 증대시키면서 페이스트의 바인더 성분이 실링의 보조 역할을 하게 하는 장점이 있다. 잔존된 기공은 실링처리에 의하여 완결된다. 이러한 실링처리는 금속염 용액에 알루미나 절연층을 침적시킨 후에 열수를 가하여 완료한다. The alumina insulating layer is formed by anodizing (anodizing) the surface of the aluminum base layer, specifically, in a sulfuric acid, oxalic acid, phosphoric acid or chromic acid solution, particularly preferably in an oxalic acid solution to an aluminum substrate. Positive voltage is applied to promote oxidation to form a surface alumina layer of uniform thickness. If necessary, additives such as copper sulfate, lactic acid, citric acid, acetic acid, aluminum sulfate, and magnesium sulfate may be added to the oxalic acid solution. The alumina insulating layer may be formed in a pattern form or partially through a masking treatment on the aluminum plate. In order to use the back surface of the LED array substrate or to prevent warpage by single side anodization, the alumina insulating layer may be formed on the back surface with one anodization. This alumina layer is very hard, highly corrosion-resistant, and many pores with a diameter of about several tens of nm are formed. This pore causes the insulation of the oxide film to be degraded in general, and a sealing treatment is necessary. However, in the present invention, after the electric circuit is printed on the alumina insulating layer which is omitted or anodized, the sealing process can be performed as necessary. By printing an electrical circuit on the alumina insulating layer before the sealing treatment, the binder is bonded to the surface irregularities structure caused by the pores, thereby increasing the adhesion of the electrical circuit, and having the binder component of the paste serve as an auxiliary seal. The remaining pores are completed by the sealing treatment. This sealing process is completed by depositing an alumina insulating layer in the metal salt solution and then adding hot water.

상기 전기회로 형성용 도전성 페이스트 조성물은, 바람직하게는, 도전성 입자 0.01 내지 96 중량부, 내열성 바인더 0.5 내지 96 중량부 및 유기 용매 잔량를 포함한다. 본 발명에서 사용하는 내열성 바인더는, 예를 들면, 아크릴계, 우레탄계, 에폭시계, 폴리이미드계 등이 있다. 본 발명에서, 도전성 입자라고 함은 전기 전도성이 있는 물질의 입자로서 특별히 제한되지 않으며 도전성이 있는 금속, 비금속 분말과 흑연 등 탄소계 분말을 포함한다. 도전성 입자는 예를 들어 금, 알루미늄, 구리, 인듐, 안티몬, 마그네슘, 크롬, 주석, 니켈, 은, 철, 티탄 및 이들의 합금의 입자이다. 탄소계 도전성 입자로는 예를 들면, 천연 흑연, 팽창된 흑연, 그라펜, 카본블랙, 나노카본, 카본나노튜브 등의 입자이다. 입자의 형태는, 예를 들면, 판형, 파이버 형과 나노 크기의 나노입자 나노튜브 등이 사용될 수 있다. 이러한 도전성 입자는 단독 또는 조합하여 사용될 수 있다. 이러한 도전성 입자는, 바람직하게는, 0.1 내지 10 ㎛ 크기의 판형 은 입자이다.The electrically conductive paste composition for forming an electric circuit preferably contains 0.01 to 96 parts by weight of conductive particles, 0.5 to 96 parts by weight of a heat resistant binder, and an organic solvent residual amount. Examples of the heat resistant binder used in the present invention include acrylics, urethanes, epoxys, and polyimides. In the present invention, the conductive particles are not particularly limited as particles of an electrically conductive material, and include carbon-based powders such as conductive metals, nonmetal powders, and graphite. The conductive particles are, for example, particles of gold, aluminum, copper, indium, antimony, magnesium, chromium, tin, nickel, silver, iron, titanium and alloys thereof. Examples of the carbon-based conductive particles include particles such as natural graphite, expanded graphite, graphene, carbon black, nanocarbon, and carbon nanotubes. As the form of the particles, for example, plate-like, fiber-like and nano-sized nanoparticle nanotubes can be used. These conductive particles may be used alone or in combination. Such conductive particles are preferably plate-shaped silver particles having a size of 0.1 to 10 µm.

직접인쇄방식은 스크린인쇄, 프렉소인쇄, 로터리인쇄, 그라비어인쇄, 옵셋 인쇄와 잉크젯 등의 인쇄 방법 등을 포함한다. 알루미나 절연층 위에 전기회로 패턴으로 인쇄된 도전성 페이스트를 가열 또는 광조사하여 경화시킨다. 도전성 페이스트의 바인더 성분은 도전성 입자를 고정하여 회로를 형성하고 알루미나 절연층에 형성된 미세기공을 메워 알루미나 절연층의 절연성을 증가시키는 역할을 한다. 전기회로의 전도성을 증가시키기 위하여 도금욕조에서 전기회로 패턴에 전압을 인가하여 도금함으로써 전기회로 위에 도금층을 더 형성할 수 있다.Direct printing includes screen printing, flexographic printing, rotary printing, gravure printing, offset printing and printing methods such as inkjet. The conductive paste printed in the electric circuit pattern on the alumina insulating layer is cured by heating or light irradiation. The binder component of the conductive paste serves to fix the conductive particles to form a circuit and to fill the micropores formed in the alumina insulating layer to increase the insulation of the alumina insulating layer. In order to increase the conductivity of the electric circuit, a plating layer may be further formed on the electric circuit by applying voltage to the electric circuit pattern in the plating bath.

필요하다면, 전기회로를 보호하기 위하여 LED 접속부분을 제외하고 전기회로를 덮는 전기회로 보호절연층을 열경화형 수지 조성물을 사용하여 LED와의 접점을 제외하는 패턴의 형태로, 인쇄에 의하여 적층한다.If necessary, in order to protect the electric circuit, an electric circuit protective insulating layer covering the electric circuit except for the LED connection part is laminated by printing in the form of a pattern excluding a contact with the LED using the thermosetting resin composition.

본 발명의 LED 어레이 기판에는 전극이 노출된 반제품 또는 완제품 상태의 LED가 솔더링 또는 SMT 방식을 포함한 전자기술 분야에서 알려진 다양한 방법으로 장착된다. 예를 들면, 노출된 전기회로에는 솔더크림을 사용하여 LED 소자를 장착하고 리플로우 공정으로 접합한다. 접합 전에 필요에 따라, 노출된 전기회로에는 LED 패키지와의 접속을 위해 OSP(organic solder preserve), ENIG(Electro-less Nickel Immersion Gold), ENEPIG(Electro-less Nickel Electro-less Palladium Immersion Gold) 등과 같은 표면처리를 할 수 있다. The LED array substrate of the present invention is mounted with LEDs in a semi-finished or finished state in which electrodes are exposed by various methods known in the electronic art, including soldering or SMT. For example, exposed electrical circuits are equipped with LED elements using solder cream and bonded in a reflow process. As needed prior to bonding, exposed electrical circuits include organic solder preserve (OSP), electro-less nickel immersion gold (ENIG), electro-less nickel electro-less palladium immersion gold (ENEPIG), etc. Surface treatment is possible .

본 발명의 LED 어레이 기판은 베이스 층과 절연층을 일체로 형성하여 높은 방열구조를 달성함으로써 고휘도를 위한 LED 고집적 어레이 기판에 사용될 수 있는 고 방열구조의 LED 어레이 기판을 제공한다. 또한 이러한 기판의 기본구조와 함께 도전성 입자와 내열성 바인더를 포함하는 도전성 페이스트로 직접 인쇄하여 알루미나 절연층의 절연성을 증가시키면서 전기회로를 형성시켜 제조공정을 단순화하고 공정비용 및 제조시간을 절감할 수 있으며, 폐수발생을 최소화할 수 있다.The LED array substrate of the present invention forms a base layer and an insulating layer integrally to achieve a high heat dissipation structure to provide a high heat dissipation structure LED array substrate that can be used in the LED high density array substrate for high brightness. In addition, by directly printing with a conductive paste containing conductive particles and a heat resistant binder together with the basic structure of the substrate, an electrical circuit can be formed while increasing the insulation of the alumina insulating layer, thereby simplifying the manufacturing process and reducing the process cost and manufacturing time. Wastewater generation can be minimized.

도1은 본 발명 일 실시양태의 LED 어레이 기판의 층간분리된 개념적 사시도이고
도2는 도1 LED 어레이 기판에 LED가 장착된 개략적 조립 사시도이다.
1 is an interlayer conceptual perspective view of an LED array substrate of one embodiment of the present invention;
Figure 2 is a schematic assembly perspective view of the LED is mounted on the LED array substrate of Figure 1;

이하 실시예와 도면에 의하여 본 발명을 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and drawings.

<실시예1>Example 1

305 X 255 X 1 ㎜ 크기의 알루미늄 판(1)을 주성분이 NaOH, Na2CO3, NaHCO3 , 계면활성제와 물로 이루어진 전영화학의 SZ-9 탈지제 속에 침지하여 50~60℃에서 15분 동안 유지하여 탈지한다. 탈지된 알루미늄 판(1)을 수세한 후에 60℃의 10 g/L NaOH 수용액에 3분 동안 침지한 후 물로 세척한다. 상온에서 10% 황산 수용액에 상기 알루미늄 판(1)을 침지하고 알루미늄 판(1)을 양극으로 하고 전류밀도 0.5 A/dm2로 60분간 통전하여 각각 33.2, 31.7㎛ 두께의 알루미나 층(2와 6)을 형성하였다.A 305 X 255 X 1 mm sized aluminum sheet (1) was immersed in a SZ-9 degreasing agent of Jeyoungyoung Chemical consisting of NaOH, Na 2 CO 3 , NaHCO 3 , surfactant and water for 15 minutes at 50-60 ℃. Degreasing After washing the degreased aluminum plate 1, it was immersed in a 10 g / L NaOH aqueous solution at 60 ℃ for 3 minutes and washed with water. The aluminum plate 1 was immersed in a 10% sulfuric acid solution at room temperature, the aluminum plate 1 was used as an anode, and energized for 60 minutes at a current density of 0.5 A / dm 2 , respectively. ) Was formed.

평균 입자 크기가 1.97 ㎛인 판형의 은 파우더 650 g, 금호P&B화학의 KER1009 에폭시를 50% 농도로 노르말터피네올에 용해시킨 바인더 240 g와 부틸셀루솔부(2-부톡시에탄올의 상품명) 용제 잔량으로 이루어진 1 Kg을 완전히 혼합하여 은 페이스트를 제조하였다. 상기 은 페이스트를 사용하여 상기 알루미늄 판의 알루미나 층(2) 위에 평판스크린 인쇄기를 이용하여 전극회로 패턴(3)을 인쇄하였다. 인쇄물을 190℃에서 12분간 열처리하면 전극회로의 표면전기저항은 8.6X10-5 Ω·㎝, 접착력은 5B, 경도는 5H를 나타내었다.650 g of plate-shaped silver powder with an average particle size of 1.97 μm, 240 g of a binder obtained by dissolving KER1009 epoxy from Kumho P & B Chemical in normal terpineol at 50% concentration, and the remaining amount of a solvent of butyl cellulose (trade name of 2-butoxyethanol) Silver paste was prepared by thoroughly mixing 1 Kg. The electrode circuit pattern 3 was printed on the alumina layer 2 of the aluminum plate using the silver paste using a flat screen printing machine. When the printed material was heat-treated at 190 ° C. for 12 minutes, the surface electric resistance of the electrode circuit was 8.6X10 −5 Pa · cm, the adhesion was 5B, and the hardness was 5H.

전극이 형성된 알루미늄 기판을 상온에서 2 g/L 니켈아세트산으로 수용액에 5분간 침지한 후 95℃ 증류수에서 10분간 가열하여 실링처리를 하였다. 처리된 알루미늄 기판의 절연파괴전압은 CHROMA AC/DC/IR HIPOT TESTER model 19052를 사용하여 측정한 결과 2.71 Kv/㎜이었다.The aluminum substrate on which the electrode was formed was immersed in an aqueous solution for 5 minutes with 2 g / L nickel acetic acid at room temperature, and then heated for 10 minutes in distilled water at 95 ° C. for sealing. The dielectric breakdown voltage of the treated aluminum substrate was 2.71 Kv / mm as measured using CHROMA AC / DC / IR HIPOT TESTER model 19052.

전극회로가 형성된 기판에 보호절연층(5) 형성을 위해 서울화학연구소의 열경화형 솔더레지스트 SCR-1000W를 사용하여 스크린 인쇄하여 150℃에서 50분간 열처리하였다. 알루미늄 기판(10)의 노출된 전극회로의 접점(12)에 솔더크림을 바르고 서울반도체의 1608 type LED(11)의 리드를 올린 후 리플로우 공정을 거쳐 LED 어레이를 구성하였다.In order to form the protective insulating layer 5 on the substrate on which the electrode circuit was formed, screen printing was performed using a thermosetting solder resist SCR-1000W of Seoul Chemical Research Institute and heat-treated at 150 ° C. for 50 minutes. Solder cream was applied to the contacts 12 of the exposed electrode circuit of the aluminum substrate 10, the lead of the 1608 type LED 11 of Seoul Semiconductor was raised, and then the LED array was configured through a reflow process.

<실시예2>Example 2

305 X 255 X 1 ㎜ 크기의 알루미늄 판(1)을 주성분이 NaOH, Na2CO3, NaHCO3 , 계면활성제와 물로 이루어진 전영화학의 SZ-9 탈지제 속에 침지하여 50~60℃에서 15분 동안 유지하여 탈지한다. 탈지된 알루미늄 판(1)을 수세한 후에 60℃의 10 g/L NaOH 수용액에 3분 동안 침지한 후 물로 세척한다. 상온에서 50 g/L 옥살산에 10 g/L 붕산, 3 g/L 젖산, 1 g/L 황산마그네슘이 첨가된 수용액에 상기 알루미늄 판(1)을 침지하고 알루미늄 판(1)을 양극으로 하여 전류밀도 1.5 A/dm2으로 60분간 진행하여 각각 33.6과 32.5 ㎛ 두께의 알루미나 층(2와 6)을 형성하였다.A 305 X 255 X 1 mm sized aluminum sheet (1) was immersed in a SZ-9 degreasing agent of Jeyoungyoung Chemical consisting of NaOH, Na 2 CO 3 , NaHCO 3 , surfactant and water for 15 minutes at 50-60 ℃. Degreasing After washing the degreased aluminum plate 1, it was immersed in a 10 g / L NaOH aqueous solution at 60 ℃ for 3 minutes and washed with water. At room temperature, the aluminum plate 1 is immersed in an aqueous solution in which 10 g / L boric acid, 3 g / L lactic acid, and 1 g / L magnesium sulfate are added to 50 g / L oxalic acid, and the aluminum plate 1 is used as an anode. 60 minutes at a density of 1.5 A / dm 2 to form 33.6 and 32.5 μm thick alumina layers 2 and 6, respectively.

평균 입자 크기가 1.97 ㎛인 판형의 은 파우더 650 g, 금호P&B화학의 KER1009 에폭시를 50% 농도로 노르말터피네올에 용해시킨 바인더 240 g와 부틸셀루솔부(2-부톡시에탄올의 상품명) 용제 잔량으로 이루어진 1 Kg을 완전히 혼합하여 은 페이스트를 제조한다. 상기 은 페이스트를 사용하여 상기 알루미늄 판(1)의 알루미나 층(2) 위에 평판스크린 인쇄기를 이용하여 전극회로 패턴(3)을 인쇄한다. 인쇄물을 190℃에서 12분간 열처리하면 전극회로의 전기저항은 8~9X10-5 Ω·㎝, 접착력은 5B, 경도는 5H를 나타내었다.650 g of plate-shaped silver powder with an average particle size of 1.97 μm, 240 g of a binder obtained by dissolving KER1009 epoxy from Kumho P & B Chemical in normal terpineol at 50% concentration, and the remaining amount of a solvent of butyl cellulose (trade name of 2-butoxyethanol) 1 Kg consisting of completely mixed to prepare a silver paste. The electrode paste pattern 3 is printed on the alumina layer 2 of the aluminum plate 1 using the silver paste using a flat screen printing machine. When the printed material was heat-treated at 190 ° C. for 12 minutes, the electrical resistance of the electrode circuit was 8˜9 × 10 −5 Pa · cm, the adhesion strength was 5B, and the hardness was 5H.

전극이 형성된 알루미늄 기판을 상온에서 5 g/L 불화니켈 수용액에 20분간 침지한 후 90℃ 니켈아세트산 수용액에서 20분간 가열하였다. 제조된 알루미늄 기판의 절연파괴전압은 CHROMA AC/DC/IR HIPOT TESTER model 19052를 사용하여 측정한 결과 2.66 Kv/㎜이었다. 상기의 기판에 대해서 HOT Disk AB사의 TPA-501 모델을 사용하여 열전도율을 측정한 결과 56.49 W/m·K로 측정되었다. 일반적인 MCPCB에 대하여 열전도율이 대략 2.0 W/m·K 이하임을 감안하면 상기 기판의 열전도율이 월등하게 뛰어남을 확인하였다. The aluminum substrate on which the electrode was formed was immersed in an aqueous solution of 5 g / L nickel fluoride for 20 minutes at room temperature, and then heated for 20 minutes in an aqueous nickel acetic acid solution at 90 ° C. The dielectric breakdown voltage of the manufactured aluminum substrate was 2.66 Kv / mm as measured using CHROMA AC / DC / IR HIPOT TESTER model 19052. The thermal conductivity of the substrate was measured using a TPA-501 model of HOT Disk AB, which was determined to be 56.49 W / m · K. Considering that the thermal conductivity of the general MCPCB is about 2.0 W / m · K or less, it was confirmed that the thermal conductivity of the substrate was excellent.

황산동 220 g, 황산 63 g, 염소 10 ppm, 방청 첨가제인 IBC사의 5007-MU 10 g, 5000-A 0.5 g, 5007-B 0.5 g와 물 1 L 로 이루어진 도금욕에 상기 알루미늄 기판을 침지하고 35℃ 이하의 조건에서 전류밀도 5 A/dm2 로 통전하여 인쇄된 전극회로에 30분간 전해도금을 수행하여 도금두께 3 ㎛이고 표면저항 값이 5X10-6 Ω·㎝인 도금층(4)을 얻었다. 220 g of copper sulfate, 63 g of sulfuric acid, 10 ppm of chlorine, 10 g of IBC 5007-MU, an antirust additive, 5000-A 0.5 g, 5007-B 0.5 g, and 1 L of water were immersed in the aluminum substrate 35 Electrolytic plating was performed for 30 minutes on the printed electrode circuit which was energized at a current density of 5 A / dm 2 under the conditions of 占 폚 or less to obtain a plating layer 4 having a plating thickness of 3 µm and a surface resistance value of 5X10 -6 Pa.cm.

전극회로가 형성된 기판에 보호절연층(5) 형성을 위해 서울화학연구소의 열경화형 솔더레지스트 SCR-1000W를 사용하여 스크린 인쇄하여 150℃에서 50분간 열처리하였다. 완성된 LED 어레이 알루미늄 기판(10)의 노출된 전극회로의 접점(12)에 솔더크림을 바르고 서울반도체의 1608 type LED(11)의 리드를 올린 후 리플로우 공정을 거쳐 LED 어레이를 구성하였다. 부착된 LED의 부착강도를 측정한 결과 2.67 Kgf를 나타내었다.In order to form the protective insulating layer 5 on the substrate on which the electrode circuit was formed, screen printing was performed using a thermosetting solder resist SCR-1000W of Seoul Chemical Research Institute and heat-treated at 150 ° C. for 50 minutes. Solder cream was applied to the contacts 12 of the exposed electrode circuit of the completed LED array aluminum substrate 10, the lead of the 1608 type LED 11 of Seoul Semiconductor was raised, and then the LED array was constructed through a reflow process. As a result of measuring the adhesion strength of the attached LED, it showed 2.67 Kg f .

1 : 알루미늄 판 2 : 알루미나 층 3 : 전극회로 패턴
4 : 도금층 5 : 보호절연층 6 : 이면 알루미나 층
10 : LED 어레이 기판 11 : LED 12 : 접점
Reference Signs List 1: aluminum plate 2: alumina layer 3: electrode circuit pattern
4 plating layer 5 protective insulating layer 6 backside alumina layer
10 LED array substrate 11 LED 12 contact

Claims (12)

삭제delete 삭제delete 알루미늄 베이스 층, 상기 알루미늄 베이스 층 상에 애노다이징에 의하여 형성된 알루미나 절연층과 상기 알루미나 절연층 상에 도전성 입자와 내열성 바인더를 포함하는 도전성 페이스트 조성물로 직접인쇄방식에 의하여 형성된 전기회로로 이루어지고 상기 알루미나 절연층은 전기회로 인쇄 후에 금속염으로 실링 처리되는LED 어레이 기판An electrical circuit formed by a direct printing method with an aluminum base layer, an alumina insulating layer formed by anodizing on the aluminum base layer, and a conductive paste composition comprising conductive particles and a heat resistant binder on the alumina insulating layer; Alumina Insulation Layer LED array boards sealed with metal salts after electrical circuit printing 삭제delete 삭제delete 제 3항 있어서, 상기 알루미나 절연층은 상기 알루미늄 베이스 층 상에 부분적으로 또는 패턴 형태로 형성되는 LED 어레이 기판The LED array substrate of claim 3, wherein the alumina insulating layer is formed partially or in a pattern on the aluminum base layer. 제 3항에 있어서, 상기 LED 어레이 기판은 직접인쇄방식에 의하여 형성된 전기회로 위에 그 패턴에 따라 도금에 의한 도금층을 더 가지는 LED 어레이 기판The LED array substrate of claim 3, wherein the LED array substrate further includes a plating layer formed by plating according to a pattern on an electric circuit formed by a direct printing method. 제 3항에 있어서, 상기 LED 어레이 기판은 LED와의 접점을 제외하고 상기 전기회로를 덮는 전기회로 보호절연층을 더 가지는 LED 어레이 기판The LED array substrate of claim 3, wherein the LED array substrate further includes an electrical circuit protection insulating layer covering the electrical circuit except for a contact with the LED. 제 8항에 있어서, 상기 접점은 OSP(organic solder preserve), ENIG(Electro-less Nickel Immersion Gold) 또는 ENEPIG(Electro-less Nickel Electro-less Palladium Immersion Gold)로 표면처리되는 LED 어레이 기판The LED array substrate of claim 8, wherein the contact is surface-treated with an organic solder preserve (OSP), an electro-less nickel immersion gold (ENIG), or an electro-less nickel electro-less palladium immersion gold (ENEPIG). 제 3항에 있어서, 상기 알루미늄 베이스 층의 이면부는 다수의 핀을 갖는 LED 어레이 기판The LED array substrate of claim 3, wherein a back side of the aluminum base layer has a plurality of pins. 제 3항에 있어서, 상기 알루미나 절연층은 옥살산 용액에서 황산동, 젖산, 구연산, 아세트산, 황산알루미늄, 황산마그네슘과 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 첨가제를 가하여 상기 알루미늄 베이스 층을 애노다이징함으로써 얻어지는 LED 어레이 기판The alumina insulating layer is obtained by anodizing the aluminum base layer by adding an additive selected from the group consisting of copper sulfate, lactic acid, citric acid, acetic acid, aluminum sulfate, magnesium sulfate and mixtures thereof in an oxalic acid solution. LED Array Board 제 3항 있어서, 상기 도전성 입자는 0.1 내지 10 ㎛ 크기의 판형 은 입자인 LED 어레이 기판The LED array substrate of claim 3, wherein the conductive particles are plate-shaped silver particles having a size of 0.1 to 10 μm.
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