KR101025796B1 - Patterned light guide plate and improved manufacturing method thereof - Google Patents

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Abstract

PURPOSE: A patterned light guide plate and improved manufacturing method thereof are provided to drastically shorten pattern processing time and increase productivity by simplifying processes. CONSTITUTION: A patterned light guide plate comprises a light guide material(100) and a plurality of hemispherical lenses(200). The surface of the light guide material is processed using a reactive gas. The hemispherical lenses are formed of ejected and hardened UV curing compositions. The viscosity of the UV curing compositions is larger than 1cps and smaller than 200cps or larger than 5cps and smaller than 100cps. The adhesive rate and a contact angle of a UV curing composition to the light guide material increase when a reactive gas is used.

Description

패턴도광판과 개량된 제조방법{Patterned Light Guide Plate And Improved Manufacturing Method Thereof}Patterned Light Guide Plate And Improved Manufacturing Method Thereof}

본 발명은 디스플레이장치와 평면조명기구에 사용되는 개량된 패턴도광판 및 그 제조방법에 관한 것이다.
The present invention relates to an improved patterned light guide plate for use in display devices and planar lighting devices, and a method of manufacturing the same.

본 발명은 휴대형 단말기, LCD TV 등 다양한 디스플레이 장치의 백라이트 유닛이나 조명장치에 적용될 수 있는 패턴도광판에 관한 것으로서, 그 적용범위는 매우 넓다고 할 수 있다. 그 중 LED 광원을 이용하는 액정디스플레이(LCD)에도 적용될 수 있다.The present invention relates to a pattern light guide plate that can be applied to a backlight unit or a lighting device of various display devices such as a portable terminal, an LCD TV, and the like. Among them, it can be applied to a liquid crystal display (LCD) using an LED light source.

LED 광원의 액정디스플레이는 LED 램프를 부착하는 위치에 따라 디스플레이 패널 뒷면에 램프를 부착하는 직하형 방식과 패널의 측면에 부착하는 엣지형 방식으로 나누어 진다. 마찬가지로 LED 광원을 이용하는 평면조명에서도 직하형과 엣지형 방식으로 나누어진다. The liquid crystal display of the LED light source is divided into a direct type of attaching the lamp to the back of the display panel and an edge type of attaching to the side of the panel according to the position of attaching the LED lamp. Similarly, planar lighting using LED light source is divided into direct type and edge type.

직하형 방식에 있어서는 램프가 뒷면에 일정하게 배치가 되어 전면부로 균일한 빛의 출광을 유도할 수 있으나, 측면에 램프가 위치한 엣지형에 있어서는 가장자리의 경우 높은 밝기를 나타내나 램프로부터 거리가 먼 중앙부는 밝기가 어둡게 된다. 이를 개선하기 위하여 일정한 패턴이 새겨진 도광판을 부착하게 되는데 패턴의 크기와 조밀도를 조절하여 측면부에서 발산되는 빛을 패턴도광판을 통하여 전면부로 균일하게 발산되도록 한다. In the direct type, the lamp is uniformly arranged on the back side to induce uniform light output to the front part, but in the edge type where the lamp is located on the side, the edge shows high brightness but the center part is far from the lamp. The brightness becomes dark. In order to improve this, a light guide plate engraved with a predetermined pattern is attached. The size and density of the pattern are adjusted to uniformly radiate the light emitted from the side part to the front part through the pattern light guide plate.

패턴도광판을 만드는 방법은 크게 실크스크린, 스탬핑, 사출, 레이저 및 잉크젯 방식으로 나눌 수 있으며 이중 보편적으로 많이 사용되고 있는 방식이 실크스크린으로 광고인쇄 등 다양한 응용분야에 보편적으로 많이 사용되고 있으나 망목 특성상 패턴의 피치 간격이 600~800μm 로 넓어 높은 휘도를 기대하기 어려우며, 더욱이 인쇄 후 열풍 건조시 패턴의 박리 문제와 제조후 냉각 숙성을 하여야하는 불편함과 문제점을 내포하고 있다. 하지만 모니터 크기 이상의 대형 디스플레이에서는 잉크젯 방식 외에 상업적으로 쉽게 채택할 수 있는 높은 수율을 갖는 기술이 아직 등장하지 않아 가장 널리 사용되고 있는 방법이다.The pattern light guide plate can be largely divided into silk screen, stamping, injection, laser, and inkjet methods. Of these, the most commonly used method is silk screen, which is commonly used in various applications such as advertisement printing. It is difficult to expect high brightness because the interval is 600 ~ 800μm, and it also has the inconvenience and problem of peeling the pattern when drying hot air after printing and cooling aging after manufacturing. However, in large displays larger than a monitor size, a technology with high yield, which is easily commercially adopted in addition to the inkjet method, has not yet emerged and is the most widely used method.

스탬핑 방식은 패턴이 각인되어 있는 스탬프로 무인쇄(bare) 도광판을 핫프레스를 이용하여 눌러서 만드는 방법으로 낮은 수율 문제로 인하여 아직 상업적으로 확대되지 않고 있다. 반면에 사출방식은 금형을 이용하여 원하는 모양의 패턴이 형성된 도광판을 연속적으로 찍어내는 방식으로 노트북과 같은 중소형의 디스플레이에 보편적으로 많이 사용되고 있으나, 크기가 커질 경우 사출성형 과정의 냉각시간이 길어지는 등 cycle time이 길어져 생산성이 저하되는 문제를 갖고 있으며, 또한 디스플레이 면적이 커질 경우 사출성형 후 패턴도광판이 성형과정의 열이력에 의해 뒤틀림 현상이 발생하여 TV와 같은 대면적의 디스플레이에는 적용하기 어려운 단점이 있다. The stamping method is a method in which a bare light guide plate is made by pressing a stamped pattern with a hot press and is not commercially expanded due to a low yield problem. On the other hand, the injection method is a method of continuously photographing a light guide plate having a pattern of a desired shape using a mold, and is commonly used in small and medium-sized displays such as notebooks, but when the size increases, the cooling time of the injection molding process is increased. It has a problem that productivity is lowered due to long cycle time. Also, when the display area is increased, the pattern light guide plate is distorted due to the thermal history of the molding process after injection molding, which makes it difficult to apply to large-area displays such as TVs. have.

디스플레이의 대면적화에 대응하기 위하여 등장한 기술이 레이저 방식으로 도광판의 면적에 구애받지 않고 표면에 패턴을 각인할 수 있으나, 이 또한 낮은 수율 문제와 함께 모든 패턴 형상을 레이저로 하나씩 각인하는데 소요되는 시간이 길어 생산성이 저하되는 문제를 갖고 있다. 뿐만 아니라 슬림 디자인에 대응키 위한 박형도광기재에 패턴을 형성하는 것은 레이저에 의한 도광판의 표면 발열문제로 인하여 상업적으로 넓게 확대하는데 한계가 있다.The technology introduced to cope with the large area of the display can be printed on the surface regardless of the area of the light guide plate by the laser method, but this also takes a long time to laser print all the pattern shapes one by one with the low yield problem. It has a long problem that productivity falls. In addition, forming a pattern on a thin light guide substrate to cope with a slim design has a limitation in commercially widening due to the surface heating problem of the light guide plate by a laser.

이러한 각각의 제조방식들이 갖는 생산성 저하 문제, 가공시의 발열문제, 박형 도광판의 가공문제, 대면적의 뒤틀림 문제 등이 대두되면서 문제점들을 개선하고 고휘도를 달성할 수 있는 잉크젯 방식이 제안되었다. 기존의 잉크젯 방식에서는 패턴을 형성하는 렌즈와 도광판 면과의 접착력을 증대하기 위하여 프라이머 코팅처리를 하거나 또는 도광판과 렌즈의 중간적 화학 특성을 갖는 자외선 경화조성물을 1μm 이하의 두께로 도포한 다음 자외선 경화를 한 후 렌즈형성용의 자외선 경화조성물을 잉크젯 노즐을 통하여 토출시켜 렌즈를 만들게 된다. As each of these manufacturing methods has a productivity problem, a heat generation problem during processing, a thin light guide plate processing problem, and a large area warping problem, the inkjet method has been proposed to improve the problems and achieve high brightness. In the conventional inkjet method, in order to increase the adhesion between the lens forming the pattern and the surface of the light guide plate, a primer coating is applied or an ultraviolet curing composition having intermediate chemical properties between the light guide plate and the lens is applied to a thickness of 1 μm or less, and then ultraviolet curing. Then, the UV curable composition for lens formation is discharged through an inkjet nozzle to make a lens.

하지만 렌즈의 접착력을 향상시키기 위해서 코팅처리를 한다 하더라도 개선은 되지만 충분한 접착력을 발휘하지 못하는 문제를 여전히 안고 있다. 뿐만 아니라 프라이머 또는 자외선 경화 코팅 중간층도 자외선 조사를 받기 때문에 코팅층에 황변현상을 일으켜 전체 색도에 영향을 줄 수 있으며 또한 비록 1μm 이하로 얇게 코팅을 하였다 하더라도 코팅층에 의한 다소간의 휘도 저하를 야기할 수 있다.
However, even if the coating treatment to improve the adhesion of the lens is improved, but still has a problem that does not exhibit sufficient adhesion. In addition, since the primer or ultraviolet curing coating intermediate layer is irradiated with ultraviolet rays, yellowing may occur on the coating layer, thereby affecting the overall chromaticity, and even though a thin coating of 1 μm or less may cause a slight decrease in luminance due to the coating layer. .

본 발명은 실크스크린, 사출, 및 레이저가 갖는 문제점들 외에 상기에서 언급한 기존의 잉크젯 방식에서 나타나고 있는 문제들을 개선함과 동시에 공정을 단순화시켜 패턴 가공시간을 획기적으로 단축하여 생산성을 향상시킬 수 있는 잉크젯 방식의 패턴 도광판의 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. The present invention improves productivity by dramatically shortening the pattern processing time by simplifying the process while improving the problems of the conventional inkjet method mentioned above in addition to the problems of silk screen, injection, and laser. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an inkjet patterned light guide plate.

또한, 도광판의 패턴을 이루는 렌즈들의 접착력이 우수함과 동시에 높은 휘도와 휘도의 균일성(uniformity)이 높은 특성을 발현하도록 렌즈의 접촉각을 향상시키는 잉크젯 방식의 제조기술을 제공하는 것을 목적으로 한다. In addition, an object of the present invention is to provide an inkjet method of manufacturing a method of improving the contact angle of a lens such that the lenses forming the pattern of the light guide plate have excellent adhesion and high luminance and uniformity of brightness.

또한 개선된 플라즈마 표면처리 방식에 의해 도광기재에 대한 자외선 경화형 렌즈의 접촉각을 직접적으로 조절함으로써 렌즈의 도광기재에 대한 접촉각을 보다 향상시킴과 동시에, 잉크젯 노즐로부터 잉크가 토출된 후 시간의 경과에도 렌즈의 도광기재에 대한 접촉각에 큰 변화가 없는 안정된 반구형 렌즈를 형성하는 패턴도광판 제조방법 및 패턴도광판을 제공하는 것을 목적으로 한다.
In addition, the improved plasma surface treatment method directly adjusts the contact angle of the UV-curable lens to the light guide substrate, thereby improving the contact angle of the lens to the light guide substrate, and at the same time as the ink is discharged from the inkjet nozzle. An object of the present invention is to provide a patterned light guide plate manufacturing method and a patterned light guide plate for forming a stable hemispherical lens with no large change in contact angle with respect to the light guide substrate.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 제공되는 본 발명에 따른 패턴도광판은 불소함유 가스로 구성된 반응성 가스를 이용하여 플라즈마로 표면처리된 도광기재;상기 도광기재의 표면상에 토출 및 경화된 자외선 경화조성물로써 형성된 다수의 반구형 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 한다.The patterned light guide plate according to the present invention provided to achieve the above object is a light guide substrate surface-treated with a plasma using a reactive gas consisting of a fluorine-containing gas; as an ultraviolet curing composition discharged and cured on the surface of the light guide substrate It characterized in that it comprises a; a plurality of hemispherical lens formed.

여기서, 상기 불소함유 가스는 NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 등이며, 반응성 가스는 상기 불소함유 가스 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합가스가 사용되고, 상기 반응성 가스의 사용시 상기 도광기재에 대한 상기 반구형 렌즈의 접착율과 접촉각이 향상되는 것이 바람직하다.The fluorine-containing gas may be NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , WF 6 , and the like. It is preferable that 1 type, or 2 or more types of mixed gas is used among the containing gas, and the contact rate and the contact angle of the hemispherical lens with respect to the light guide substrate are improved when the reactive gas is used.

또한, 상기 도광기재는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethylmethacrylate) 또는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate) 또는 엠에스수지(methylmethacrylate-styrene copolymer) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate)인 것이 좋다.In addition, the light guide substrate may be polymethyl methacrylate (PMMA, polymethylmethacrylate) or polycarbonate (PC, polycarbonate) or MS resin (methylmethacrylate-styrene copolymer) or polyethylene terephthalate (PET).

상기 자외선 경화조성물은 반응성 올리고머, 모노머, 광개시제 및 기타 첨가제로 구성되는 것이 바람직하다.The ultraviolet curing composition is preferably composed of a reactive oligomer, monomer, photoinitiator and other additives.

여기서, 상기 자외선 경화조성물은 상온에서의 점도가 1 cps 이상 200 cps 이하이거나, 5 cps 이상 100 cps 이하인 것이 좋다.Herein, the ultraviolet curable composition may have a viscosity at room temperature of 1 cps or more and 200 cps or less, or 5 cps or more and 100 cps or less.

또한, 상기 반응성 올리고머가 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 불포화 폴리에스터, 폴리에테르 아크릴레이트, 스피레인 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트, 폴리부타디엔 아크릴레이트, 비닐 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물로 구성되어 진 것이 바람직하다.In addition, the reactive oligomer is selected from the group consisting of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, unsaturated polyester, polyether acrylate, spirane acrylate, silicone acrylate, polybutadiene acrylate, vinyl acrylate It is preferred to consist of one or more mixtures.

여기서, 상기 모노머는 소수성 모노머의 사용량이 전체 모노머 100중량부 중에서 50중량부 이하이며, 스티렌, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시메틸 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 에티렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것이 좋다.Here, the monomer has a hydrophobic monomer of 50 parts by weight or less in 100 parts by weight of the total monomer, styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylic Latex, decyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-pinoxymethyl (meth) acrylate, 2-pinoxyethyl (meth) acrylate, ethylene glycol Di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylic Rate It is preferable that at least one selected from the group be included.

또한, 상기 모노머는, 하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 하이드록시메틸 (메트)아크릴레이트, 아크릴릭에시드, 메타아크릴릭에시드, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, N-비닐아세트아미드, N-메틸N-비닐아세트아미드, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 (메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퓨릴 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 10몰이상 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드글리세릴 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 (메트)아크릴레이트로 이루어진 친수성 모노머로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것이 바람직하다.In addition, the monomer is hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, N-methyl N-vinylacetamide, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene Glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, at least 10 moles of ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) arc Relate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated glyceryl tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythrate It is preferable that at least one selected from the group consisting of hydrophilic monomers consisting of lititol tri (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate and glycerol (meth) acrylate is included.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 상기 패턴도광판을 포함하는 백라이트 유닛을 제공한다.In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a backlight unit including the pattern light guide plate.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 상기 백라이트 유닛을 포함하는 액정 디스플레이 장치를 제공한다.In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a liquid crystal display device comprising the backlight unit.

본 발명의 목적을 달성하기 위하여 제공되는 또 다른 실시 예에 따른 패턴도광판의 제조방법은 도광기재의 표면을 플라즈마로 처리하여 도광기재의 표면을 활성화하는 제 1 단계(S100); 및 상기 활성화된 도광기재의 표면에 잉크젯장치를 이용하여 자외선 경화조성물을 토출하는 제2단계(S200); 상기 자외선 경화조성물을 경화시켜 다수의 반구형 렌즈를 형성하는 제 3 단계(S300);를 포함하고, 상기 제 1 단계 중 도광기재 표면의 활성화 시, 불소함유가스 NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 중 1종 또는 2종 이상의 혼합가스가 플라즈마의 반응성 가스로 사용되는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a patterned light guide plate, including: a first step (S100) of activating a surface of a light guide substrate by treating the surface of the light guide substrate with plasma; And a second step (S200) of discharging an ultraviolet curable composition on the surface of the activated light guide substrate by using an inkjet device. And a third step (S300) of curing the ultraviolet curable composition to form a plurality of hemispherical lenses, wherein the fluorine-containing gas NF 3 , CF 4 , SF 6 , or CHF is activated when the surface of the light guide substrate is activated. One or two or more mixed gases of 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , and WF 6 may be used as the reactive gas of the plasma.

여기서, 상기 제 1 단계의 플라즈마 처리시 사용되는 반응성가스와 운반가스의 유량비는 1/5 내지 1/1000 또는 1/50 내지 1/700 또는 1/100 내지 1/500인 것이 좋다. Here, the flow rate ratio of the reactive gas and the carrier gas used in the plasma treatment of the first step is preferably 1/5 to 1/1000 or 1/50 to 1/700 or 1/100 to 1/500.

또한, 상기 도광기재는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethylmethacrylate) 또는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate) 또는 엠에스수지(methylmethacrylate-styrene copolymer) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate)인 것이 바람직하다.In addition, the light guide substrate is preferably polymethyl methacrylate (PMMA, polymethylmethacrylate) or polycarbonate (PC, polycarbonate) or MS resin (methylmethacrylate-styrene copolymer) or polyethylene terephthalate (PET).

상기 자외선 경화조성물이 반응성 올리고머, 모노머, 광개시제 및 기타 첨가제로 구성되는 것이 좋다.It is preferable that the ultraviolet curable composition is composed of a reactive oligomer, a monomer, a photoinitiator and other additives.

여기서, 상기 자외선 경화조성물은 상온에서의 점도가 1 cps 이상 200 cps 이하이거나, 5 cps 이상 100 cps 이하인 것이 바람직하다.Herein, the ultraviolet curable composition preferably has a viscosity at room temperature of 1 cps or more and 200 cps or less, or 5 cps or more and 100 cps or less.

또한, 상기 반응성 올리고머가 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 불포화 폴리에스터, 폴리에테르 아크릴레이트, 스피레인 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트, 폴리부타디엔 아크릴레이트, 비닐 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물로 구성되어 진 것이 좋다.In addition, the reactive oligomer is selected from the group consisting of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, unsaturated polyester, polyether acrylate, spirane acrylate, silicone acrylate, polybutadiene acrylate, vinyl acrylate It is preferably composed of one or more mixtures.

마찬가지로, 상기 모노머는 소수성 모노머의 사용량이 전체 모노머 100중량부 중에서 50중량부 이하이며, 스티렌, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시메틸 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 에티렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것이 바람직하다.Similarly, the monomer has a hydrophobic monomer of 50 parts by weight or less in 100 parts by weight of the total monomers, and styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate and octyl (meth) acryl Latex, decyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-pinoxymethyl (meth) acrylate, 2-pinoxyethyl (meth) acrylate, ethylene glycol Di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylic Rate Is contained at least one selected from the group true is preferred.

여기서, 상기 모노머는, 하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 하이드록시메틸 (메트)아크릴레이트, 아크릴릭에시드, 메타아크릴릭에시드, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, N-비닐아세트아미드, N-메틸N-비닐아세트아미드, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 (메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퓨릴 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 10몰이상 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드글리세릴 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 (메트)아크릴레이트로 이루어진 친수성 모노머로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것이 좋다.Here, the monomer is hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide, N-methyl N-vinylacetamide, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene Glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, at least 10 moles of ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth ) Acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane tri (meth) a Acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated glyceryl tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythrate It is preferred that at least one selected from the group consisting of hydrophilic monomers consisting of lititol tri (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate and glycerol (meth) acrylate.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 상기 방법으로 형성된 패턴도광판을 제공한다.In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a patterned light guide plate formed by the above method.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기 패턴도광판을 포함하는 백라이트 유닛을 제공한다.In accordance with another aspect of the present invention, the present invention provides a backlight unit including the patterned light guide plate.

본 발명의 또 다른 목적을 달성하기 위하여 본 발명은 상기 백라이트 유닛을 포함하는 액정 디스플레이 장치를 제공한다.
In order to achieve another object of the present invention, the present invention provides a liquid crystal display device including the backlight unit.

본 발명에 따른 개량된 패턴도광판 및 패턴도광판의 제조방법에 따르면, 기존의 잉크젯 방식을 이용하는 패턴도광판 제조방법에서 얻어지는 접촉각보다 월등히 높은 반구형 렌즈의 접촉각 및 접착율을 얻을 수 있음과 동시에 표면처리된 도광기재의 표면에서 수초 간의 시간의 경과에 따라 잉크가 퍼짐으로 인해 접촉각이 감소하는 단점을 개선할 수 있어 높은 휘도와 휘도의 균일성(uniformity)이 높은 특성을 발현할 수 있는 효과가 있다. According to the improved method of manufacturing the patterned light guide plate and the patterned light guide plate according to the present invention, the contact angle and the adhesion rate of the hemispherical lens which is much higher than the contact angle obtained in the conventional method of manufacturing the patterned light guide plate using the inkjet method can be obtained and the surface-treated light guide It is possible to improve the disadvantage that the contact angle decreases due to the spreading of ink with the passage of time for several seconds on the surface of the substrate, and thus there is an effect of expressing high luminance and high uniformity of luminance.

또한, 개선된 플라즈마 표면처리 방식에 의해 도광기재에 대한 자외선 경화형 렌즈의 접촉각을 직접적으로 조절함으로써 렌즈의 도광기재에 대한 접촉각을 보다 향상시킴과 동시에, 잉크젯 노즐로부터 잉크가 토출된 후 시간의 경과에도 렌즈의 도광기재에 대한 접촉각에 큰 변화가 없는 안정된 반구형 렌즈를 형성할 수 있는 효과가 있다.
In addition, by directly adjusting the contact angle of the UV curable lens to the light guide substrate by the improved plasma surface treatment method, the contact angle of the lens to the light guide substrate is further improved, and at the time after the ink is discharged from the inkjet nozzle, There is an effect that can form a stable hemispherical lens without a large change in the contact angle of the lens to the light guide substrate.

도 1은 본 발명에 따른 반구형 렌즈의 형상을 나타낸 패턴도광판의 확대도, 및
도 2는 본 발명에 따른 패턴도광판의 제조방법을 나타낸 순서도이다.
1 is an enlarged view of a patterned light guide plate showing the shape of a hemispherical lens according to the present invention, and
2 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a pattern light guide plate according to the present invention.

이하, 첨부된 표와 도면을 참조하여 본 발명의 실시 예에 따른 패턴도광판 및 패턴도광판의 제조방법을 상세히 설명하기로 한다. 하기의 설명은 본 발명의 구체적 일례에 대한 것이므로, 비록 단정적, 한정적 표현이 있더라도 특허청구범위로부터 정해지는 권리범위를 제한하는 것은 아니다.Hereinafter, a pattern light guide plate and a method of manufacturing the pattern light guide plate according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying table and drawings. The following descriptions are for specific examples of the present invention, but are not intended to limit the scope of the rights set forth in the claims, even if there is an assertive or limited expression.

도 1은 본 발명에 따른 패턴도광판에 형성된 반구형 렌즈(200)의 형상을 도시한 것이고, 도 2는 본 발명에 따른 패턴도광판의 제조방법을 나타낸 순서도이다.1 illustrates a shape of a hemispherical lens 200 formed on a patterned light guide plate according to the present invention, and FIG. 2 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a patterned light guide plate according to the present invention.

도 1을 살펴보면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 패턴도광판은 불소함유 가스로 구성된 반응성 가스를 이용하여 플라즈마로 표면처리된 도광기재(100) 및 도광기재의 표면상에 토출 및 경화된 자외선 경화조성물로써 형성된 다수의 반구형 렌즈(200)로 구성된다. Referring to FIG. 1, the light guide plate according to an embodiment of the present invention is a light guide substrate 100 treated with plasma using a reactive gas composed of a fluorine-containing gas and an ultraviolet curable composition discharged and cured on the surface of the light guide substrate. It is composed of a plurality of hemispherical lens 200 formed as.

여기서 불소함유 가스는 NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6이며, 반응성 가스는 상기 불소함유 가스 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합가스를 사용한다. Wherein the fluorine-containing gas is NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , WF 6 , and the reactive gas is selected from the fluorine-containing gas. Use one or two or more mixed gases.

또한 도 1에 표현된 패턴도광판의 제조방법을 나타낸 도 2를 살펴보면, 본 발명의 일 실시 예에 따른 패턴도광판의 제조방법은 도광기재(100)의 표면을 플라즈마로 처리하여 도광기재(100)의 표면을 활성화하는 제1단계(S100), 및 활성화된 도광기재(100)의 표면에 잉크젯장치를 이용하여 자외선 경화조성물을 토출하는 제2단계(S200), 자외선 경화조성물을 경화시켜 다수의 반구형 렌즈(200)를 형성하는 제3단계(S300)를 포함하며, 상기 활성화하는 단계는 플라즈마 표면처리시 반응성가스로서 NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 등의 불소 함유 가스를 사용하는 것을 특징으로 한다. 상기 반구형 렌즈(200)는 도광기재(100)의 일면 또는 양면에 형성될 수 있다. 양면 형성의 경우 양면 모두 플라즈마 처리를 하게 된다. 반구형 렌즈(200)의 직경은 제한되지 않으며, 바람직하기로는 500㎛ 이내이며 더욱 바람직하게는 200㎛ 이하이다. In addition, referring to FIG. 2, which illustrates a method of manufacturing a patterned light guide plate illustrated in FIG. 1, in the method of manufacturing a patterned light guide plate according to an exemplary embodiment, the surface of the light guide substrate 100 may be treated with plasma to form a light guide substrate 100. A first step (S100) for activating the surface, and a second step (S200) for discharging the ultraviolet curable composition using the inkjet device on the surface of the activated light guide substrate 100, a plurality of hemispherical lenses by curing the ultraviolet curable composition And a third step (S300) of forming a 200, wherein the activating step is NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , It is characterized by using a fluorine-containing gas such as C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , WF 6 . The hemispherical lens 200 may be formed on one surface or both surfaces of the light guide substrate 100. In the case of forming both sides, both sides are subjected to plasma treatment. The diameter of the hemispherical lens 200 is not limited, preferably 500 μm or less and more preferably 200 μm or less.

본 발명의 패턴도광판 제조방법은 대기압 또는 대기압 부근의 플라즈마를 이용하여 도광기재(100) 표면의 유기물을 제거함과 동시에 표면을 활성화시킨 다음 잉크젯장치로 자외선 경화조성물을 노즐을 통하여 토출시키고 경화시킴으로써 도광기재(100) 표면에 반구형 렌즈(200) 형상의 패턴을 형성하는 것을 핵심으로 한다. The method of manufacturing a patterned light guide plate of the present invention removes organic materials from the surface of the light guide substrate 100 by using a plasma at atmospheric pressure or near atmospheric pressure, activates the surface, and then discharges and cures the ultraviolet curable composition through a nozzle with an inkjet device, thereby curing the light guide substrate. The key is to form a hemispherical lens 200 shape pattern on the (100) surface.

종래 기술에서는 PMMA 도광기재의 표면처리 후 반구형 렌즈(200)를 형성하는 잉크의 접촉각이 50도 이상을 얻기가 매우 어려운 단점을 갖고 있으며, 또한 일반적으로 표면처리가 되었다 하더라도 잉크의 웨이팅(wetting)에 의한 퍼짐 현상에 의해 수초 간의 시간 경과에 따라 접촉각이 점점 작아지는 문제점을 내포하고 있었다.(주: 도광기재와 잉크의 접촉각이 예를 들어 50°로써 시간경과에 따라 변하지 않는다면 잉크의 자외선 경화 후 얻어지는 반구형 렌즈의 접촉각도 50°가 된다.) 하지만 본 발명자는 도광기재(100)의 표면처리 방법으로 NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 등의 불소함유 가스를 반응성 가스로 사용하는 플라즈마 방법을 도입함으로써 상기와 같은 문제점들을 획기적으로 개선할 수 있었으며 최종적으로 기존의 발명에서 얻기가 어려운 50도 이상의 반구형 렌즈 접촉각을 수득하는 패턴도광판 제조방법을 완성하였다. In the prior art, the contact angle of the ink forming the hemispherical lens 200 after the surface treatment of the PMMA light guide substrate is very difficult to obtain more than 50 degrees, and in general, even if the surface treatment is performed, The problem is that the contact angle becomes smaller as time passes for several seconds due to the spreading phenomenon. (Note: If the contact angle between the light guide substrate and the ink does not change with time, for example, 50 °, it is obtained after UV curing of the ink. The contact angle of the hemispherical lens is 50 °.) However, the present inventors have used NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F as a surface treatment method of the light guide substrate 100. 8, PF 5, SiF 4, WF 6 , etc. of the fluorine-containing gas by introducing a plasma using a reactive gas was able to significantly improve the above problems and finally to conventional Figure 50 is difficult to achieve the completion of the above pattern light guide panel manufacturing method of obtaining a semi-spherical lens in contact angle.

여기서, "반구형 렌즈 접촉각"은 도광기재(100)에 반구형 렌즈(200)를 형성한 후, 형성된 반구형 렌즈(200)의 접촉각을 의미한다. 구체적으로 아래 그림 1과 같이, 자외선 경화조성물을 잉크젯 노즐을 통하여 도광판 표면에 토출한 다음 자외선 경화하여 반구형 렌즈(200)를 형성한 후 렌즈 접촉각을 전자현미경으로 관찰한다.Here, the “semi-spherical lens contact angle” means a contact angle of the formed hemispherical lens 200 after the hemispherical lens 200 is formed on the light guide substrate 100. Specifically, as shown in Figure 1 below, the ultraviolet curable composition is discharged to the surface of the light guide plate through the inkjet nozzle, and then cured by UV to form a hemispherical lens 200, the lens contact angle is observed by an electron microscope.

Figure 112010052059860-pat00001
Figure 112010052059860-pat00001

<그림 1><Picture 1>

본 발명자가 사용한 불소함유 가스는 그 사용량이 매우 적어 일반적으로 아르곤, 헬륨 이나 질소와 같은 운반가스(carrier gas)와 혼합하여 사용하며 이 때의 혼합가스의 종류에는 특별한 제한이 없다. 혼합비에 따라 플라즈마 처리된 표면의 특성이 약간 달라질 수 있으며, 비록 경향성의 차이는 있을지라도 그 혼합비가 패턴도광판의 제조방법에 어떠한 제한을 가하는 것은 아니다. The fluorine-containing gas used by the present inventors is used in a very small amount, and is generally used by mixing with a carrier gas such as argon, helium or nitrogen, and there is no particular limitation on the type of mixed gas. Depending on the mixing ratio, the characteristics of the plasma-treated surface may vary slightly, and although there is a difference in tendency, the mixing ratio does not impose any limitation on the manufacturing method of the patterned light guide plate.

통상적인 반응성가스와 운반가스의 유량비는 그 범위에 특별한 제한을 가하는 것은 아니나 일반적으로 1/5 내지는 1/1000이며, 바람직하게는 1/50 내지는 1/700, 더욱 바람직하게는 1/100 내지는 1/500이다. 이때 운반가스의 비율을 5 이하로 할 경우 표면처리는 큰 이상이 없을지라도 가격이 높은 반응성 가스의 함량이 증가하여 제조원가가 상승하는 단점이 있다. The flow rate ratio of the conventional reactive gas and the carrier gas is not particularly limited in the range, but is generally 1/5 to 1/1000, preferably 1/50 to 1/700, more preferably 1/100 to 1 / 500. In this case, when the ratio of the carrier gas is 5 or less, there is a disadvantage in that the manufacturing cost increases due to an increase in the content of the reactive gas having a high price even though the surface treatment does not have a large abnormality.

도 1에는 본 발명의 일 실시 예에 따른 제조방법에 의해 만들어진 패턴도광판에 형성된 반구형 렌즈(200)의 형상을 도시하고 있다. 렌즈 패턴의 위치 및 조밀도, 크기 등은 다양할 수 있으며 제한되지 않는다. 1 illustrates the shape of a hemispherical lens 200 formed on a patterned light guide plate made by a manufacturing method according to an embodiment of the present invention. The position, density, size, etc. of the lens pattern may vary and are not limited.

잉크젯 방식은 비접촉식 인쇄방식이어서 접촉식 인쇄 방식에 비해 잉크와 기재의 밀착성이 떨어지게 된다. 후술하는 실험 예에서 볼 수 있듯이 도광기재(100)에 특별한 처리 없이 잉크젯 방식으로 패턴을 형성하게 되면 잉크와 기재와의 밀착성 문제로 인하여 접착력이 현저히 떨어지게 되고 결국 제품의 신뢰성 저하와 내구성 저하로 이어지게 된다.Since the inkjet method is a non-contact printing method, the adhesion between the ink and the substrate is inferior to that of the contact printing method. As can be seen in the experimental example described below, when the pattern is formed on the light guide substrate 100 by an inkjet method without any special treatment, the adhesion strength is significantly lowered due to the adhesion problem between the ink and the substrate, which leads to a decrease in reliability and durability of the product. .

하지만 본 발명에서는 품질적으로 우려스러운 이러한 접착력이 플라즈마 표면처리를 통하여 향상됨을 또한 확인할 수 있다. 비록 소수성으로 표면처리를 함에도 불구하고 우수한 접착력을 얻을 수 있는 것은 도광기재(100)의 표면이 플라즈마에 의해 순간적으로 이온화되기 때문으로 판단되어 진다. However, in the present invention, it can also be confirmed that the adhesive strength, which is a quality concern, is improved through plasma surface treatment. Although surface treatment with hydrophobicity, excellent adhesion can be obtained because the surface of the light guide substrate 100 is instantaneously ionized by plasma.

한편, 플라즈마 처리 방법에 대하여는 잘 알려져 있으며, 저온 플라즈마 처리 장치는 시중에서 쉽게 구입이 가능하다. 플라즈마에 대한 기초원리 및 적용 예는 문헌에 기재되어 있다. ("Fundamentals of Plasma Chemistry" in "Technology and Application of Plasma Chemistry", by J.R. Holahan and A.T. Bell, Wiley, NY, 1974; H. Suhr, Plasma Chem. Plasma Process 3(1), 1, 1983). 뿐만 아니라 저온 플라즈마 처리에 대해서는 “H.J. Jacobasch et al., Farbe + Lack 99 (7), p602, 1993” 및 “J. Friedrich et al., Surf. Coating Tech., 59, p371, 1993”에 기재되어 있어 이를 참고하면 되므로 자세한 설명을 생략한다.On the other hand, the plasma processing method is well known, the low-temperature plasma processing apparatus can be easily purchased on the market. Basic principles and application examples for plasma are described in the literature. ("Fundamentals of Plasma Chemistry" in "Technology and Application of Plasma Chemistry", by J.R. Holahan and A.T. Bell, Wiley, NY, 1974; H. Suhr, Plasma Chem. Plasma Process 3 (1), 1, 1983). In addition, for low temperature plasma treatment, see “H.J. Jacobasch et al., Farbe + Lack 99 (7), p602, 1993 ”and“ J. Friedrich et al., Surf. It is described in Coating Tech., 59, p371, 1993 ”and the detailed description is omitted.

바람직하게 본 발명에서는 저온 플라즈마 처리, 특히 대기압 또는 대기압 부근의 저온 플라즈마로 도광기재(100)의 표면을 활성화 처리하는 것이 좋다. Preferably, in the present invention, it is preferable to activate the surface of the light guide substrate 100 with a low temperature plasma treatment, in particular, a low temperature plasma at or near atmospheric pressure.

한편, NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 와 같은 불소함유 가스를 반응성가스로 사용하는 플라즈마 활성화 처리 제어 방법은 다양할 수 있으며 제한되지 않는다. 처리하는 플라즈마의 RF 주파수, 출력, 가스의 유속 등을 제어함으로써 잉크와의 접촉각을 제어할 수도 있다. On the other hand, plasma activation using fluorine-containing gases such as NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , WF 6 as a reactive gas Process control methods may vary and are not limited. It is also possible to control the contact angle with the ink by controlling the RF frequency, output, gas flow rate, and the like of the plasma to be processed.

상기 도광기재(100)의 종류에는 제한이 없다. 바람직한 예로서, 상기 도광기재(100)는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethylmethacrylate), 폴리카보네이트(PC, polycarbonate), 엠에스수지(methylmethacrylate-styrene copolymer), 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate)를 주성분으로 하는 것을 사용하는 것이 좋다. 도광기재(100)는 필름, 압출 쉬트 또는 사출되어 형성된 두꺼운 판의 형태일 수 있으며 제한되지 않는다.There is no limitation on the kind of the light guide substrate 100. As a preferred example, the light guide substrate 100 includes polymethyl methacrylate (PMMA, polymethylmethacrylate), polycarbonate (PC, polycarbonate), MS resin (methylmethacrylate-styrene copolymer), or polyethylene terephthalate (PET). It is better to use what you do. The light guide substrate 100 may be in the form of a film, an extrusion sheet or a thick plate formed by injection, but is not limited thereto.

이하에서는 자외선 경화조성물에 대하여 설명한다. 상기 자외선 경화조성물은 전술한 조건들을 만족시킬 수 있는 것이라면 제한되지 않고 사용이 가능하다. 바람직하기로는 자외선 경화조성물이 반응성 올리고머, 모노머와 광개시제 및 기타 첨가제로 구성되는 것이 좋다. 상기 모노머는 다관능성 또는 단관능성 모노머 또는 이들 모노머들의 혼합물일 수 있다. Hereinafter, the ultraviolet curing composition will be described. The ultraviolet curable composition can be used without limitation as long as it can satisfy the above conditions. Preferably, the UV curable composition is composed of reactive oligomers, monomers and photoinitiators and other additives. The monomer may be a polyfunctional or monofunctional monomer or a mixture of these monomers.

특히, 상기 자외선 경화조성물은 상온에서의 점도가 1 cps 이상 200 cps 이하 어거나 5 cps 이상 100 cps 이하인 것이 좋다. 잉크젯 노즐로부터 토출되는 잉크, 즉 자외선 경화조성물은 피코리터의 체적 단위로 토출되어 반구형 렌즈의 직경을 조절하기 때문에 잉크의 점도는 토출되는 액적의 크기에 많은 영향을 주어 잉크젯팅에서는 통상적으로 잉크의 점도를 엄격히 조절하여야 한다. 모노머만을 사용하는 자외선 경화조성물은 점도가 낮아 잉크젯팅에 큰 어려움이 없으나 본 발명의 반구형 렌즈(200)를 형성하기 위해서는 최종 자외선 경화조성물의 점도가 상온에서 200 cps를 넘지 않도록 배합비를 조절하여야 한다. 만약 점도가 200 cps를 넘게 되면 자외선 경화조성물의 토출이 상온에서 어렵게 되며, 설령 잉크젯 헤드를 가열하는 방법으로 점도를 낮추거나, 피에조 방식의 헤드를 조절하여 강제적으로 토출시킨다 하더라도 토출되는 액적의 크기가 상대적으로 커지거나 목적하는 균일한 크기의 액적을 얻기가 어려워진다. 결국은 렌즈의 크기를 만족스럽게 조절하지 못하여 원하는 형태의 패턴구현이 어렵고 이는 만족스러운 휘도 증가를 기대하기 어려울 뿐만아니라 휘도의 균일성(uniformity) 또한 저하되게 된다.
본원발명에서는 피에조 방식의 잉크젯을 이용하여 Drop-On-Demand 원리에 의해 도광기재 면에 결정된 패턴에 따라 정해진 위치에 20kHz(2만 방울/초)의 아주 빠른 속도로 자외선 경화 조성물의 방울을 토출한다. 또한, 토출시 펄스의 wave-form을 조절함으로써 기재면에 탄착되는 방울의 형상을 조절할 수 있고, 렌즈의 크기를 조절하기 위하여 동일 지점에 여러 방울을 토출하는 Multi-drop 기술이 적용되고 있다.
In particular, the UV-curable composition may have a viscosity at room temperature of 1 cps or more and 200 cps or less, or 5 cps or more and 100 cps or less. Since the ink discharged from the inkjet nozzle, that is, the ultraviolet curable composition, is discharged in volume units of picoliters to control the diameter of the hemispherical lens, the viscosity of the ink has a great influence on the size of the discharged droplets. Should be strictly controlled. UV curing composition using only a monomer has a low viscosity does not have a great difficulty in inkjetting, but in order to form the hemispherical lens 200 of the present invention, the blending ratio should be adjusted so that the viscosity of the final UV curing composition does not exceed 200 cps at room temperature. If the viscosity exceeds 200 cps, it is difficult to discharge the ultraviolet curable composition at room temperature. Even if the viscosity is lowered by heating the inkjet head or forcedly discharged by controlling the piezo-type head, the size of the ejected droplets is increased. It becomes difficult to obtain relatively large or desired uniform size droplets. As a result, the size of the lens cannot be satisfactorily adjusted, making it difficult to implement a desired pattern, which is difficult to expect a satisfactory increase in luminance, and also degrades the uniformity of luminance.
In the present invention, a piezo-type inkjet is used to eject droplets of the ultraviolet curable composition at a very high speed of 20 kHz (20,000 drops / sec) at a position determined according to a pattern determined on the surface of the light guide substrate by the drop-on-demand principle. . In addition, by controlling the wave-form of the pulse at the time of ejection, the shape of the droplets adhering to the substrate surface can be adjusted, and in order to control the size of the lens, a multi-drop technique for discharging several droplets at the same point is applied.

따라서, 잉크젯 방식으로 도광기재(100)의 표면에 패턴을 구현하기 위하여 반구형의 렌즈(200)를 형성하는 자외선 경화조성물의 점도는 상온에서 1 cps 이상 200 cps 이하가 되도록 하여야 한다. 상온에서 바람직하게는 5 cps 이상 150 cps 이하이며, 더욱 바람직하게는 5 cps 이상 100 cps 이하인 것이 좋다. Therefore, in order to implement a pattern on the surface of the light guide substrate 100 by the inkjet method, the viscosity of the ultraviolet curable composition forming the hemispherical lens 200 should be 1 cps or more and 200 cps or less at room temperature. Preferably at room temperature is 5 cps or more and 150 cps or less, More preferably, it is 5 cps or more and 100 cps or less.

상기 반응성 올리고머는 바람직하기로는 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 불포화 폴리에스터, 폴리에테르 아크릴레이트, 스피레인 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트, 폴리부타디엔 아크릴레이트, 비닐 아크릴레이트 중에서 선택되어지는 1종 또는 2종 이상의 혼합물로 구성되어 진 것이 좋다.The reactive oligomer is preferably selected from epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, unsaturated polyester, polyether acrylate, spirane acrylate, silicone acrylate, polybutadiene acrylate, vinyl acrylate It is preferably composed of one kind or a mixture of two or more kinds.

자외선 경화조성물 배합에 투입되는 반응성 올리고머의 양에는 특별한 제한을 두는 것은 아니나 전술한 바와 같이 최종 자외선 경화조성물의 상온 점도가 200 cps를 초과하지 않도록 투입량을 조절하여야 한다. 200 cps를 초과하지 않기 위한 통상적인 바람직한 반응성 올리고머의 투입량은 50중량부 이하, 더욱 바람직하게는 40 중량부 이하이다.There is no particular limitation on the amount of reactive oligomer added to the UV curable composition, but as described above, the dosage should be adjusted so that the room temperature viscosity of the final UV curable composition does not exceed 200 cps. Typical preferred amounts of reactive oligomers for not exceeding 200 cps are up to 50 parts by weight, more preferably up to 40 parts by weight.

배합에 사용되는 상기 모노머는 자외선 중합성 모노머가 좋으며, 올리고머의 반응성 희석제로 사용되어 자외선 경화조성물의 작업성을 부여하는 역할을 하며, 자외선 조사에 의해서 자신도 중합되어 고분자간의 가교제 역할도 수행한다. 비록 희석용으로 사용되어 반응성 올리고머보다 점도가 매우 낮다 하더라도, 빠른 경화속도를 나타내는 장점을 갖고 있는 3 관능성 이상의 모노머는 아래 표 1에 나타나 있듯이 점도가 본 발명에서 목적하는 최종 자외선 경화조성물의 점도 200 cps 보다 높아 그 사용에 주의를 기울여야 한다.
The monomer used in the formulation is preferably a UV polymerizable monomer, used as a reactive diluent of the oligomer, and serves to impart the workability of the UV-curable composition, and also polymerizes itself by UV irradiation, and also serves as a crosslinking agent between polymers. Although used for dilution, even though the viscosity is much lower than the reactive oligomer, the trifunctional or higher functional monomer having the advantage of exhibiting a fast curing rate has a viscosity of 200 as the final UV curable composition of the present invention, as shown in Table 1 below. It's higher than cps and you have to be careful about its use.

<표 1>TABLE 1

Figure 112010052059860-pat00002

Figure 112010052059860-pat00002

일반적으로 자외선 경화조성물의 배합에 있어서 내스크래치 특성, 유연성, 경도 등의 특성을 조절하기 위하여 다양한 형태의 소수성, 친수성 모노머를 단독 또는 혼합하여 사용하고 있다. 하지만, 본 발명에서 목적하는 바인 반구형 렌즈의 접촉각을 40°이상이 되도록 하기 위해서는 소수성 모노머의 경우 제한적으로 사용되어야 하며 바람직하게는 모노머 100 중량에 대하여 소수성 모노머가 50 중량부를 초과하지 않는 것이 좋다. 더 바람직하게는 40 중량부를 초과하지 않는 것이 좋다. In general, various types of hydrophobic and hydrophilic monomers are used alone or in combination in order to adjust properties such as scratch resistance, flexibility, and hardness in the formulation of an ultraviolet curing composition. However, in order to make the contact angle of the hemispherical lens as desired in the present invention to be 40 ° or more, the hydrophobic monomer should be used in a limited manner, and preferably, the hydrophobic monomer does not exceed 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer. More preferably, it does not exceed 40 parts by weight.

소수성 모노머가 상기 범위를 초과하는 경우 렌즈의 접촉각이 감소하여 바람직하지않다.If the hydrophobic monomer exceeds the above range, the contact angle of the lens is reduced, which is undesirable.

상기 소수성 모노머는 그 종류에 특별히 제한을 두는 것은 아니나, 스티렌, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시메틸 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 에티렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트 중에서 적어도 하나 이상 포함되는 것이 좋다.The hydrophobic monomer is not particularly limited in its kind, but styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate , Stearyl (meth) acrylate, isobonyl (meth) acrylate, 2-pinoxymethyl (meth) acrylate, 2-pinoxyethyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1 , 3-butylene glycol (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, At least one of propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate and tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate good .

상기 모노머는, 친수성 모노머를 단독으로 사용하거나 적어도 소수성 모노머보다 더 포함하여 사용하는 것이 좋다. 친수성 모노머의 종류는 제한되지 않고 사용 가능하며, 하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 하이드록시메틸 (메트)아크릴레이트, 아크릴릭에시드, 메타아크릴릭에시드, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, N-비닐아세트아미드, N-메틸N-비닐아세트아미드, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 (메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퓨릴 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 10몰이상 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드글리세릴 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 (메트)아크릴레이트로 이루어진 친수성 모노머 중에서 적어도 하나 이상 사용되는 것이 좋다.It is good to use the said monomer independently or using hydrophilic monomer more than hydrophobic monomer at least. The type of hydrophilic monomer can be used without limitation, hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinyl Acetamide, N-methylN-vinylacetamide, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth ) Acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, at least 10 moles of ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, Pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethoxylated Trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated glyceryl tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate , At least one of ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate, and glycerol (meth) acrylate may be used.

본 발명에서 용제의 사용은 자외선 경화조성물의 점도를 조절하기 위하여 필요에 따라 사용될 수 있다. 사용량은 0 중량부에서 50 중량부이며 바람직하게는 0 중량부에서 30 중량부이다. 본 발명에서 제조한 자외선 경화조성물의 점도가 만약 200 cps를 넘지 않으면 용제를 사용할 필요가 없으며 200 cps를 초과할 경우 용제를 첨가하여 점도를 하향 조절할 필요가 있다. 용제의 종류는 특별한 제한이 없으며 자외선 경화조성물의 점도를 하향 조절할 수 있는 것이면 어떤 것이든 무방하다. The use of a solvent in the present invention can be used as necessary to control the viscosity of the ultraviolet curing composition. The amount used is 0 to 50 parts by weight and preferably 0 to 30 parts by weight. If the viscosity of the ultraviolet curable composition prepared in the present invention does not exceed 200 cps it is not necessary to use a solvent, if it exceeds 200 cps it is necessary to adjust the viscosity down by adding a solvent. The type of solvent is not particularly limited, and any solvent may be used as long as it can control the viscosity of the ultraviolet curing composition downward.

본 발명에 사용되는 광개시제 또한 그 종류에 특별한 제한을 두지 않고, 단파장과 장파장 개시제의 단독 또는 이들을 혼합하여 사용할 수 있으며, 자외선 조사에 의하여 일차적으로 광분해 반응을 일으키고 자유라디칼을 생성할 수 있는 개시제이면 어느 것이든지 사용가능하다. 보편적으로 시바 스페셜티 케미칼사의 이가큐어, 다로큐어 시리즈, 다우케미칼사의 시라큐어 시리즈 등이 사용될 수 있으며, 대표적인 예로 단파장 개시제의 경우 시바스페셜티의 이가큐어 184, 장파장 개시제로는 이가큐어 819 등이 많이 사용되고 있다. 물론 전술한 바와 같이 이들을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. The photoinitiator used in the present invention can also be used alone or a mixture of short-wavelength and long-wavelength initiators without particular limitation on the kind thereof, and any initiator that can cause photodegradation reaction and generate free radicals primarily by ultraviolet irradiation Anything is available. In general, Ciba Specialty Chemical's Igacure, Tarocure Series, Dow Chemical's Syracuse Series, etc. may be used.As a representative example of the short wavelength initiator, Ivacure 184 of Ciba Specialty, and Igacure 819 are used as long wavelength initiators. . Of course, as mentioned above, these can be used individually or in mixture.

본 발명에서 요구되는 광개시제의 함량은 전체 조성물 대비 0.1 중량부에서 15 중량부이며, 바람직하게는 0.5 중량부에서 10 중량부이며, 더욱 바람직하게는 1 중량부에서 6 중량부이다. 광개시제를 0.1 중량부 미만으로 사용하면 경화반응이 잘 진행하지 않아 만족스러운 자외선 경화수지를 얻기 어려우며, 15 중량부를 초과하여 사용하면 반응속도는 빨라지나 렌즈의 황변현상을 초래하고, 또한 접촉각이 감소하는 경향을 나타내어 소기의 목적하는 바를 달성할 수가 없다. 따라서 광개시제의 투입량은 주어진 상기 범위 내에서 사용되어야 한다. The content of the photoinitiator required in the present invention is 0.1 parts by weight to 15 parts by weight relative to the total composition, preferably 0.5 parts by weight to 10 parts by weight, and more preferably 1 part by weight to 6 parts by weight. If the photoinitiator is used in less than 0.1 parts by weight, the curing reaction does not proceed well and it is difficult to obtain a satisfactory UV curable resin. If it is used in excess of 15 parts by weight, the reaction speed is increased, but yellowing of the lens is caused, and the contact angle is decreased. There is a tendency to achieve the desired purpose. Therefore, the dosage of photoinitiator should be used within the given range.

본 발명에서 얻어진 자외선 경화조성물은 일반적으로 사용되는 통상의 자외선 경화조건에 의해 쉽게 경화되며 그 조건에 특별한 제한이 있는 것은 아니다. 자외선 경화에 있어서 많은 영향을 미치는 변수 중의 하나인 광원도 자외선을 발생시킬 수 있는 것이면 어느 것이라도 사용할 수 있다. 예를 들어, 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 카본 아크등, 메탈할라이드 램프, 제논 램프, 네온 램프, 무전극 타입 퓨전 램프 등을 사용할 수 있다. 자외선 조사 조건은 각각의 램프에 따라 다르지만 통상적인 자외선 조사 광량은 0.02 J/cm2에서 20 J/cm2 정도이며, 바람직하게는 0.5 J/cm2에서 10 J/cm2이다. 이러한 광량은 독립적인 변수로써 결정되는 것이 아니라 사용되는 광개시제의 함량과 밀접하게 연관되어 있고 이들의 결정은 자외선 경화반응에 대한 통상의 지식을 가진 자이면 어렵지 않게 이루어질 수 있다. 즉, 광량을 증가시켜 기재의 변질이 이러나는 경우는 광량을 낮추면서 광개시제의 량을 증가시키고, 광개시제에 의한 황변이 발생되는 경우 광개시제 량을 낮추면서 광량을 증가시키면 된다. The ultraviolet curable composition obtained in the present invention is easily cured by the usual ultraviolet curing conditions generally used, and there is no particular limitation on the conditions. As long as the light source which is one of the variables which influences a lot in ultraviolet curing can generate an ultraviolet-ray, any one can be used. For example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a neon lamp, an electrodeless type fusion lamp, etc. can be used. Ultraviolet irradiation conditions vary depending on the respective lamps, but the typical ultraviolet irradiation light amount is about 0.02 J / cm 2 to about 20 J / cm 2, preferably 0.5 J / cm 2 to 10 J / cm 2. This amount of light is not determined as an independent variable, but is closely related to the amount of photoinitiator used, and their determination can be made easily by those skilled in the art of ultraviolet curing. That is, when the deterioration of the substrate is caused by increasing the amount of light, the amount of photoinitiator is increased while lowering the amount of light, and when the yellowing caused by the photoinitiator is generated, the amount of light is increased while lowering the amount of photoinitiator.

상기 첨가제는 제한되지 않으며 광흡수제(자외선 absorber), 광증점제(photo-sensitizer), 접착촉진제(adhesion promotor), 산화방지제(antioxidant) 등을 부가적으로 포함할 수 있다. The additive is not limited and may additionally include a light absorber (ultraviolet absorber), a photo-sensitizer, an adhesion promoter, an antioxidant, and the like.

본 발명은 하기의 실시예에 의하여 보다 더 잘 이해될 수 있으며, 하기의 실시예는 본 발명의 예시 목적을 위한 것이며 첨부된 특허 청구범위에 대하여 한정되는 보호범위를 제한하고자 하는 것은 아니다.
The invention can be better understood by the following examples, which are intended for purposes of illustration of the invention and are not intended to limit the scope of protection as defined by the appended claims.

실험예 1.Experimental Example 1.

반구형 렌즈(200)를 형성하는 자외선 경화형 잉크로는 에스케이싸이텍사의 EBECRYL3702 15 중량부, 에틸렌글리콜디메타아크릴레이트 10 중량부, 2-하이드록시에틸메타아크릴레이트 10중량부, N-비닐피롤리돈 17중량부, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트 15중량부, 헥산디올디아크릴레이트 18중량부, 이소보닐아크릴레이트 10중량부, 광개시제 이가큐어819 2 중량부와 이가큐어 184 3 중량부로 구성되어진 자외선 경화조성물을 제조하였으며 조성물의 점도는 37 cps였다. UV curable inks forming the hemispherical lens 200 include 15 parts by weight of SK Cytec's EBECRYL3702, 10 parts by weight of ethylene glycol dimethacrylate, 10 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate, and N-vinylpyrrolidone. 17 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrylate, 18 parts by weight of hexanediol diacrylate, 10 parts by weight of isobornyl acrylate, UV curing consisting of 2 parts by weight of photoinitiator Igacure 819 and 3 parts by weight of Igacure 184 The composition was prepared and the viscosity of the composition was 37 cps.

폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA)를 주성분으로 하는 도광기재의 표면을 대기압 저온 플라즈마를 이용하여 도광기재를 플라즈마 전극 아래에서 20mm/sec의 속도로 이동시키면서 표면처리를 하였다. 이때 RF 주파수는 13.56 MHz, 출력은 2 KW로 하였으며, 불소함유 가스와 운반가스의 비율은 1/300으로 하였다. 운반가스로는 아르곤을 사용하였으며 불소함유가스로는 NF3, CF4 SF6를 사용하였다. The surface of the light guide substrate mainly composed of polymethyl methacrylate (PMMA) was subjected to a surface treatment while moving the light guide substrate at a speed of 20 mm / sec under the plasma electrode using an atmospheric pressure cold plasma. The RF frequency was 13.56 MHz and the output was 2 KW. The ratio of fluorine-containing gas and carrier gas was 1/300. Argon was used as the carrier gas, and NF 3 , CF 4 and SF 6 was used.

플라즈마 표면처리 후 상기에서 제조된 잉크를 이용하여 플라즈마 처리 유무 및 플라즈마 처리용 가스의 종류에 따른 렌즈 접촉각을 세실 드랍(sessil drop) 방법에 의해 S.E.O사의 모델 피닉스 300을 이용하여 측정하였으며 그 결과를 표2에 나타내었다.After the plasma surface treatment, using the ink prepared above, lens contact angles according to the presence or absence of plasma treatment and the type of the gas for plasma treatment were measured using the model Phoenix 300 of the SEO company by the sessil drop method. 2 is shown.

<표 2>TABLE 2

Figure 112010052059860-pat00003

Figure 112010052059860-pat00003

아르곤/산소를 이용하는 경우 미처리와 비교하여 렌즈 접촉각이 소폭 상승함을 알 수 있으나, 이에 비해 불소함유 반응성가스를 사용할 경우 렌즈의 접촉각이 50도 이상으로 매우 상승하여 바람직한 결과를 얻을 수 있음을 확인할 수 있다.
In the case of using argon / oxygen, it can be seen that the contact angle of the lens is slightly increased compared to the untreated treatment. However, in the case of using fluorine-containing reactive gas, the contact angle of the lens is increased to 50 degrees or more. have.

실험예 2.
Experimental Example 2.

폴리카보네이트를 주성분으로 하는 도광기재를 이용하여 실험예 1과 동일한 조건하에서 렌즈 접촉각을 측정하였으며 그 결과를 표 3에 나타내었다.
Using a light guide substrate mainly composed of polycarbonate, the lens contact angle was measured under the same conditions as in Experimental Example 1. The results are shown in Table 3.

<표 3>TABLE 3

Figure 112010052059860-pat00004

Figure 112010052059860-pat00004

실험예 3.
Experimental Example 3.

실험예 1에서 얻어진 플라즈마 표면처리된 도광기재(100)에 실험예 1의 자외선 경화조성물을 잉크젯장치로 토출하여 반구형의 렌즈(200)를 형성한 다음 메탈할라이드 램프를 이용하여 3J의 광량으로 경화시켰다. 이후 접착율을 측정 및 평가하였다. 이 때 접착율은 JIS K5400에 나타나 있는 커로스컷 필링테스트 방법에 준하여 시행하였으며 100개의 정사각형(1mm X 1mm) 중 렌즈가 남아 있는 정사각형의 수를 세어 접착율로 표현하였다.
The ultraviolet curable composition of Experimental Example 1 was discharged to an inkjet apparatus on the plasma surface-treated light guide substrate 100 obtained in Experimental Example 1 to form a hemispherical lens 200, and then cured to a light amount of 3J using a metal halide lamp. . The adhesion rate was then measured and evaluated. At this time, the adhesion rate was carried out according to the cut cut peeling test method shown in JIS K5400, and the number of squares in which the lens remained among 100 squares (1 mm X 1 mm) was counted and expressed as the adhesion rate.

아래 표 4에는 도광기재(100)가 PMMA인 경우 표 5에는 도광기재(100)가 PC인 경우에 대해 그 결과를 도시하였다.
Table 4 below shows the case where the light guide substrate 100 is PMMA. Table 5 shows the results for the case where the light guide substrate 100 is a PC.

<표 4>TABLE 4

Figure 112010052059860-pat00005

Figure 112010052059860-pat00005

<표 5>TABLE 5

Figure 112010052059860-pat00006

Figure 112010052059860-pat00006

위 결과 플라즈마 표면처리를 하지 않은 M-0과 C-0의 접착력은 매우 낮음을 알 수 있으며, 반면 플라즈마 처리를 한 경우 사용한 가스의 종류에 상관없이 모두 우수한 접착력을 나타냄을 알 수 있다.
As a result, it can be seen that the adhesion between M-0 and C-0 without plasma surface treatment is very low. On the other hand, it can be seen that all plasmas exhibit excellent adhesion regardless of the type of gas used.

비교예 1.
Comparative Example 1.

실험예 1에서 소수성 모노머인 이소보닐아크릴레이트의 함량을 30 중량부로 하면서 친수성 모노머인 N-비닐피롤리돈의 함량을 10중량부로 하고 2-하이드록시에틸메타아크릴레이트는 사용하지 않았다. 그 결과를 표 6에 나타내었다.
In Experimental Example 1, while the content of isobornyl acrylate, which is a hydrophobic monomer, was 30 parts by weight, the content of N-vinylpyrrolidone, which was a hydrophilic monomer, was 10 parts by weight, and 2-hydroxyethyl methacrylate was not used. The results are shown in Table 6.

<표 6>TABLE 6

Figure 112010052059860-pat00007

Figure 112010052059860-pat00007

접착율과 함께 렌즈의 접촉각이 상당폭 감소함을 알 수 있다.
It can be seen that the contact angle of the lens decreases considerably with the adhesion rate.

본 발명은 또한 상기 패턴도광판 및 상기 패턴도광판의 제조방법에 의하여 제조된 패턴도광판을 구비한 백라이트 유닛을 제공한다. 백라이트 유닛은 제한되지 않으며 관련 기술분야에서 알려진 구조를 채용할 수 있다. 일례로, LED 등의 광원, 본 발명으로부터의 패턴도광판 상면에 확산시트, 프리즘 시트 등을 구비할 수 있다. 또한, 본 발명은 상기 백라이트 유닛을 구비한 액정 디스플레이 장치를 제공한다. 액정 디스플레이 장치 역시 그 구조에 제한이 없으며, 본 기술분야에 알려진 구조를 채용할 수 있다.The present invention also provides a backlight unit having the patterned light guide plate and the patterned light guide plate manufactured by the method of manufacturing the patterned light guide plate. The backlight unit is not limited and may employ a structure known in the art. For example, a diffusion sheet, a prism sheet, or the like may be provided on a light source such as an LED or the upper surface of a patterned light guide plate according to the present invention. In addition, the present invention provides a liquid crystal display device having the backlight unit. The liquid crystal display device is also not limited in structure, and may employ a structure known in the art.

이상에서 본 발명의 바람직한 실시 예에 대하여 설명하였으나, 본 발명은 상술한 특정의 실시 예에 한정되지 아니한다. 즉, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가지는 자라면 첨부된 특허청구범위의 사상 및 범주를 일탈함이 없이 본 발명에 대한 다수의 변경 및 수정이 가능하며, 그러한 모든 적절한 변경 및 수정의 균등물들도 본 발명의 범위에 속하는 것으로 간주되어야 할 것이다.
While preferred embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the above-described specific embodiments. That is, those skilled in the art to which the present invention pertains can make many changes and modifications to the present invention without departing from the spirit and scope of the appended claims, and all such appropriate changes and modifications are possible. Equivalents should be considered to be within the scope of the present invention.

100 : 도광기재 200 : 반구형 렌즈100: light guide substrate 200: hemispherical lens

Claims (21)

NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 등의 불소함유 가스 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합가스로 구성된 반응성 가스를 이용하여 플라즈마로 표면처리된 도광기재; 및,
상기 도광기재의 표면상에 토출 및 경화된 자외선 경화조성물로써 형성된 다수의 반구형 렌즈;를 포함하고,
상기 자외선 경화조성물은 상온에서 점도가 1cps 이상 200cps 이하이거나 5cps 이상 100cps 이하이며, 반응성 가스의 사용시 상기 도광기재에 대한 상기 반구형 렌즈의 접착율과 접촉각이 향상되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판.
Fluorine-containing gases such as NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , WF 6, etc. A light guide substrate surface-treated with plasma using the configured reactive gas; And,
And a plurality of hemispherical lenses formed as ultraviolet curable compositions discharged and cured on the surface of the light guide substrate.
The UV curable composition has a viscosity of 1 cps or more and 200 cps or less or 5 cps or more and 100 cps or less at room temperature, and when using a reactive gas, the adhesion ratio and contact angle of the hemispherical lens to the light guide substrate are improved.
삭제delete 제 1 항에 있어서,
상기 도광기재는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethylmethacrylate) 또는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate) 또는 엠에스수지(methylmethacrylate-styrene copolymer) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethylene terephthalate)인 것을 특징으로 하는 패턴도광판.
The method of claim 1,
The light guide substrate is a patterned light guide plate, characterized in that the polymethyl methacrylate (PMMA, polymethylmethacrylate) or polycarbonate (PC, polycarbonate) or MS resin (methylmethacrylate-styrene copolymer) or polyethylene terephthalate (PET).
제 1 항에 있어서,
상기 자외선 경화조성물은 반응성 올리고머, 모노머, 광개시제 및 기타 첨가제로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판.
The method of claim 1,
The ultraviolet curable composition is a patterned light guide, characterized in that consisting of reactive oligomers, monomers, photoinitiators and other additives.
삭제delete 제 4 항에 있어서,
상기 반응성 올리고머가 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 불포화 폴리에스터, 폴리에테르 아크릴레이트, 스피레인 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트, 폴리부타디엔 아크릴레이트, 비닐 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물로 구성되어 진 것을 특징으로 하는 패턴도광판.
The method of claim 4, wherein
The reactive oligomer is one selected from the group consisting of epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, unsaturated polyester, polyether acrylate, spirane acrylate, silicone acrylate, polybutadiene acrylate, vinyl acrylate The patterned light guide plate comprised by the above mixture.
제 4 항에 있어서,
상기 모노머는 소수성 모노머의 사용량이 전체 모노머 100중량부 중에서 50중량부 이하이며, 스티렌, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시메틸 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 에티렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판.
The method of claim 4, wherein
The monomer has a hydrophobic monomer of 50 parts by weight or less in 100 parts by weight of the total monomer, styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, Decyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-pinoxymethyl (meth) acrylate, 2-pinoxyethyl (meth) acrylate, ethylene glycol di ( Meth) acrylate, 1,3-butylene glycol (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di With (meth) acrylate, propoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate Group Pattern from the light guide plate, characterized in that includes the selected at least one kind.
제 4 항에 있어서, 상기 모노머는, 하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 하이드록시메틸 (메트)아크릴레이트, 아크릴릭에시드, 메타아크릴릭에시드, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, N-비닐아세트아미드, N-메틸N-비닐아세트아미드, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 (메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퓨릴 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 10몰이상 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드글리세릴 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 (메트)아크릴레이트로 이루어진 친수성 모노머로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판.The said monomer is hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, an acrylic acid, a methacrylic acid, acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide. , N-methyl N-vinylacetamide, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylic Latex, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, at least 10 moles of ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythrate Lithol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane (Meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated glyceryl tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxylay A patterned light guide plate comprising at least one member selected from the group consisting of a hydrophilic monomer consisting of tid pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate, and glycerol (meth) acrylate. 삭제delete 삭제delete NF3, CF4, SF6, CHF3, C2F6, C3F8, C4F8, PF5, SiF4, WF6 의 불소함유 가스 중에서 1종 또는 2종 이상의 혼합가스로 구성된 반응성 가스를 사용함으로써 플라즈마로 처리하여 도광기재의 표면을 활성화하는 제 1 단계(S100);
상기 활성화된 도광기재의 표면에 잉크젯장치를 이용하여 자외선 경화조성물을 토출하는 제2단계(S200); 및,
상기 자외선 경화조성물을 경화시켜 다수의 반구형 렌즈를 형성하는 제 3 단계(S300);를 포함하고, 상기 제 1 단계의 플라즈마 처리시 사용되는 반응성 가스와 운반가스의 유량비는 1/5 내지 1/1000 또는 1/50 내지 1/700 또는 1/100 내지 1/500이며, 상기 자외선 경화조성물은 상온에서 점도가 1cps 이상 200cps 이하이거나 5cps 이상 100cps 이하이며, 반응성 가스의 사용시 상기 도광기재에 대한 상기 반구형 렌즈의 접착율과 접촉각이 향상되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판의 제조방법.
NF 3 , CF 4 , SF 6 , CHF 3 , C 2 F 6 , C 3 F 8 , C 4 F 8 , PF 5 , SiF 4 , WF 6 consists of one or two or more mixed gases A first step (S100) of activating a surface of the light guide substrate by treating with plasma by using a reactive gas;
A second step (S200) of discharging an ultraviolet curable composition by using an inkjet device on a surface of the activated light guide substrate; And,
And a third step (S300) of curing the ultraviolet curable composition to form a plurality of hemispherical lenses, wherein the flow rate ratio of the reactive gas and the carrier gas used in the plasma treatment of the first step is 1/5 to 1/1000. Or 1/50 to 1/700 or 1/100 to 1/500, wherein the UV curable composition has a viscosity of 1 cps or more and 200 cps or less or 5 cps or more and 100 cps or less at room temperature, and the hemispherical lens for the light guide substrate when using a reactive gas A method of manufacturing a patterned light guide plate, characterized in that the adhesion rate and contact angle are improved.
삭제delete 제 11 항에 있어서, 상기 도광기재는 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA, polymethylmethacrylate) 또는 폴리카보네이트(PC, polycarbonate) 또는 엠에스수지(methylmethacrylate-styrene copolymer) 또는 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET, polyethyleneterephthalate)인 것을 특징으로 하는 패턴도광판의 제조방법.The method of claim 11, wherein the light guide substrate is polymethyl methacrylate (PMMA, polymethylmethacrylate) or polycarbonate (PC, polycarbonate) or MS resin (methylmethacrylate-styrene copolymer), characterized in that the polyethylene terephthalate (PET, polyethyleneterephthalate) Method of manufacturing a patterned light guide plate. 제 11 항에 있어서, 상기 자외선 경화조성물이 반응성 올리고머, 모노머, 광개시제 및 기타 첨가제로 구성되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판의 제조방법.12. The method of claim 11, wherein the ultraviolet curable composition is composed of a reactive oligomer, a monomer, a photoinitiator, and other additives. 삭제delete 제 14 항에 있어서, 상기 반응성 올리고머가 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 폴리에스터 아크릴레이트, 불포화 폴리에스터, 폴리에테르 아크릴레이트, 스피레인 아크릴레이트, 실리콘 아크릴레이트, 폴리부타디엔 아크릴레이트, 비닐 아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상의 혼합물로 구성되어 진 것을 특징으로 하는 패턴도광판의 제조방법.15. The process of claim 14 wherein the reactive oligomer is epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, unsaturated polyester, polyether acrylate, spirane acrylate, silicone acrylate, polybutadiene acrylate, vinyl acrylate. A method of manufacturing a patterned light guide plate, characterized in that consisting of one or more mixtures selected from the group consisting of. 제 14 항에 있어서, 상기 모노머는 소수성 모노머의 사용량이 전체 모노머 100중량부 중에서 50중량부 이하이며, 스티렌, 메틸 (메트)아크릴레이트, 에틸 (메트)아크릴레이트, 부틸 (메트)아크릴레이트, 옥틸 (메트)아크릴레이트, 데실 (메트)아크릴레이트, 스테아릴 (메트)아크릴레이트, 이소보닐 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시메틸 (메트)아크릴레이트, 2-피녹시에틸 (메트)아크릴레이트, 에티렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜 (메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올 디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드네오펜틸글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-하이드록시에틸)이소시아누레이트 트리(메트)아크릴레이트로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판의 제조방법.15. The monomer of claim 14, wherein the amount of the hydrophobic monomer is 50 parts by weight or less in 100 parts by weight of the total monomers, and styrene, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, and octyl. (Meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, 2-pinoxymethyl (meth) acrylate, 2-pinoxyethyl (meth) acrylate , Ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, Toxylated bisphenol A di (meth) acrylate, propoxylated neopentylglycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tree With (meth) acrylate At least one selected from the group consisting of a manufacturing method of a pattern light guide plate characterized in that it is included. 제 14 항에 있어서, 상기 모노머는, 하이드록시에틸 (메트)아크릴레이트, 하이드록시메틸 (메트)아크릴레이트, 아크릴릭에시드, 메타아크릴릭에시드, 아크릴아미드, N-비닐피롤리돈, N-비닐아세트아미드, N-메틸N-비닐아세트아미드, 2-(2-에톡시에톡시)에틸 (메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퓨릴 (메트)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 트리프로필렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 10몰이상 에톡실레이티드비스페놀A 디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 프로폭실레이티드글리세릴 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 에톡실레이티드펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 테트라하이드로퍼퓨릴 (메트)아크릴레이트, 글리세롤 (메트)아크릴레이트로 이루어진 친수성 모노머로 이루어진 그룹으로부터 선택된 1종 이상이 포함되는 것을 특징으로 하는 패턴도광판의 제조방법.The monomer according to claim 14, wherein the monomer is hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxymethyl (meth) acrylate, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, N-vinylpyrrolidone, N-vinylacetamide , N-methyl N-vinylacetamide, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl (meth) acrylate, tetrahydrofuryl (meth) acrylate, polyethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylic Latex, triethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, at least 10 moles of ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythrate Lithol Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethoxylated trimethylolpropane Li (meth) acrylate, propoxylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, propoxylated glyceryl tri (meth) acrylate, ethoxylated pentaerythritol tri (meth) acrylate, ethoxyl Laminated pentaerythritol tri (meth) acrylate, tetrahydroperfuryl (meth) acrylate, at least one selected from the group consisting of a hydrophilic monomer consisting of glycerol (meth) acrylate of the patterned light guide plate Manufacturing method. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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