KR101020143B1 - Bismuth-based sealing material and bismuth-based paste material - Google Patents

Bismuth-based sealing material and bismuth-based paste material Download PDF

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Abstract

[과제] PbO를 실질적으로 함유하지 않고, 열적 안정성이 양호한 비스무트계 봉착 재료를 제공하는 것, 특히 PDP의 제조 공정에 있어서, 500℃정도에서 1차 소성해도 실투하거나 결정이 석출되거나 하는 일이 없고, 450~500℃의 2차 소성에서 기밀 봉착할 수 있는 비스무트계 봉착 재료를 제공하는 것이다.[PROBLEMS] To provide a bismuth-based sealing material that is substantially free of PbO and has good thermal stability, particularly in the manufacturing process of PDP, no devitrification or crystals are precipitated even after primary firing at about 500 ° C. To provide a bismuth-based sealing material that can be airtightly sealed in the secondary firing of 450 ~ 500 ℃.

[해결 수단] 비스무트계 유리와 내화성 필러를 함유하는 비스무트계 봉착 재료에 있어서, 내화성 필러가 하기 산화물 환산의 중량% 표시로 SiO2 30~100%, Al2O3 0~45%, ZnO 0~35%, ZrO2 0~20%, TiO2 0~20%, Li2O 0~10%, MgO 0~25%의 조성을 함유하고, 또한 내화성 필러 중 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 체적비율을 15~70%로 한다.[Solution] In a bismuth-based sealing material containing bismuth-based glass and a refractory filler, the refractory filler is represented by SiO 2 in terms of weight% of the following oxide equivalent. 30-100%, Al 2 O 3 0-45%, ZnO 0-35%, ZrO 2 0-20%, TiO 2 0-20%, Li 2 O 0-10%, MgO 0-25%, and the volume ratio of particles having a particle diameter of 5 μm or less in the refractory filler is 15-70%.

비스무트계 봉착 재료, 비스무트계 페이스트 재료Bismuth Sealing Materials, Bismuth Paste Materials

Description

비스무트계 봉착 재료 및 비스무트계 페이스트 재료{BISMUTH-BASED SEALING MATERIAL AND BISMUTH-BASED PASTE MATERIAL}Bismuth-based sealing material and bismuth-based paste material {BISMUTH-BASED SEALING MATERIAL AND BISMUTH-BASED PASTE MATERIAL}

본 발명은, 전자 부품 및 평면 표시 장치 등의 봉착 등에 적합한 비스무트계 봉착 재료에 관한 것으로서, 특히 플라즈마 디스플레이 패널의 봉착에 적합한 비스무트계 봉착 재료에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to bismuth sealing materials suitable for sealing electronic components, flat panel displays, and the like, and more particularly to bismuth sealing materials suitable for sealing plasma display panels.

종래부터 전자 부품 및 평면 표시 장치 등의 봉착 재료로서 유리가 사용되고 있다. 유리는 수지계의 접착제에 비하여 화학적 내구성 및 내열성이 뛰어남과 아울러 디스플레이 등의 기밀성을 확보하는데 적합하다.Conventionally, glass is used as sealing materials, such as an electronic component and a flat-panel display apparatus. Glass is excellent in chemical durability and heat resistance as well as airtightness, such as a display, compared with resin adhesive.

이들 유리는 용도에 따라서는 기계적 강도, 유동성, 전기 절연성 등 여러 가지 특성이 요구되지만, 적어도 평면 표시 장치 등에 사용되는 형광체의 형광 특성 등을 열화시키지 않는 온도에서 사용할 수 있는 것이 요구된다. 그러므로 상기 특성을 만족하는 유리로서 유리의 융점을 저하시키는 효과가 매우 큰 PbO를 다량으로 함유하는 납붕산계 유리(예를 들면 특허문헌 1 참조)가 널리 사용되어 왔다.These glasses require various properties such as mechanical strength, fluidity, electrical insulation, etc., depending on the application, but they are required to be used at a temperature that does not deteriorate at least the fluorescent properties of phosphors used for flat display devices and the like. Therefore, lead boric acid-based glass (for example, see Patent Document 1) containing a large amount of PbO having a great effect of lowering the melting point of glass as a glass satisfying the above characteristics has been widely used.

그런데, 최근 납붕산계 유리에 함유되는 PbO에 대하여 환경 상의 문제가 지적되고 있어 납붕산계 유리로부터 PbO를 함유하지 않는 유리로 전환하는 것이 기대되고 있다. 그 때문에, 납붕산계 유리의 대체품으로서 여러 가지 저융점 유리가 개 발되어 있다. 그 중에서도, 특허문헌 2 등에 기재되어 있는 비스무트계 유리(Bi2O3-B2O3계 유리라고도 칭해진다)는 열팽창계수 등의 여러 특성에 있어서 납붕산계 유리와 대략 동등한 특성을 갖기 때문에 그 대체 후보로서 기대되고 있지만, 유동성 및 열적 안정성 등의 특성에 있어서 여전히 납붕산계 유리의 특성에 미치지 못하는 것이 실정이다.By the way, the environmental problem is pointed out about the PbO contained in lead-boric-acid glass in recent years, and it is expected to switch from lead-boric-acid glass to glass which does not contain PbO. Therefore, various low melting glass is developed as a substitute of lead boric acid type glass. Among them, bismuth-based glass (also referred to as Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -based glass) described in Patent Document 2 or the like has properties substantially equivalent to lead boric acid-based glass in various properties such as coefficient of thermal expansion. Although it is expected as an alternative candidate, it is still true that the characteristics such as flowability and thermal stability still fall short of the lead boric acid-based glass.

또한, 일반적으로 봉착 재료는 유리 분말과 내화성 필러 분말을 함유하는 복합체 분말이고, 내화성 필러로서 저팽창 티탄산납 등이 사용되어 왔다. 그러나, 유리의 경우와 마찬가지로 해서 내화성 필러도 PbO를 함유하지 않는 내화성 필러로 치환하는 것이 기대되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 3에는 무납 저융점 유리 분말 50~95체적%와, 인산 텅스텐산 지르코늄 분말 5~50체적%를 함유하는 봉착 재료가 개시되어 있고, 내화성 필러로서 인산 텅스텐산 지르코늄을 사용하는 것이 개시되어 있다.In general, the sealing material is a composite powder containing a glass powder and a refractory filler powder, and low-expansion lead titanate or the like has been used as the refractory filler. However, as in the case of glass, it is expected to replace the fire resistant filler also with the fire resistant filler which does not contain PbO. For example, Patent Literature 3 discloses a sealing material containing 50 to 95% by volume of lead-free low melting point glass powder and 5 to 50% by volume of zirconium tungsten phosphate powder, and using zirconium tungstate phosphate as a fire-resistant filler. Is disclosed.

그런데, 평면 표시 장치인 플라즈마 디스플레이 패널(이하, PDP라고 칭한다)에 사용되는 봉착 재료는 이하와 같은 열처리 공정을 거친다.By the way, the sealing material used for the plasma display panel (henceforth PDP) which is a flat display apparatus goes through the following heat processing processes.

우선, PDP의 배면판 패널의 외주 부근에 비히클 내에 분산된 페이스트상의 봉착 재료를 도포하고, 고온에서 비히클 성분을 열분해 또는 소각해서 1차 소성(글레이즈 공정, 가소성 공정이라고도 칭해진다)을 행한다. 봉착 재료를 균일하게 분산시키는 비히클은 유기 용매나 수지를 함유하고 있다. 비히클에 사용되는 수지는 유리의 연화점 이하의 온도에서 양호하게 열분해되는 니트로셀룰로오스 또는 아크 릴 수지 등이 일반적으로 사용되고 있다. 봉착 재료와 비히클은 3본 롤밀 등의 혼련 장치를 이용하여 균일하게 분산된다. 1차 소성은 봉착 재료에 사용하는 수지가 완전하게 열분해되는 온도 조건에서 행하여지고, 만일 수지의 열분해가 불완전하면 그 후에 공급시키는 2차 소성(봉착 공정, 시일 공정이라고도 칭해진다)에서 봉착 재료 내에 수지의 잔사가 잔존하고, 그 결과 봉착 재료에 실투 또는 기포 등의 PDP의 기밀성을 확보하는데 치명적인 결함을 초래할 수 있게 된다.First, a paste-like sealing material dispersed in a vehicle is applied to the vicinity of the outer circumference of the back plate panel of the PDP, and primary baking (also referred to as a glazing process and a plasticity process) is performed by thermal decomposition or incineration of the vehicle component at a high temperature. The vehicle for uniformly dispersing the sealing material contains an organic solvent or a resin. As the resin used in the vehicle, nitrocellulose or acryl resin which is thermally decomposed well at a temperature below the softening point of glass is generally used. The sealing material and the vehicle are uniformly dispersed using a kneading apparatus such as a three roll mill. The primary firing is carried out at a temperature condition at which the resin used for the sealing material is completely pyrolyzed, and if the resin is incompletely thermally decomposed, the resin is contained in the sealing material in a secondary firing (also referred to as a sealing process or a sealing process) that is then supplied. The residue of is left, and as a result, it is possible to cause a fatal defect in ensuring the airtightness of the PDP such as devitrification or bubbles in the sealing material.

다음에, 봉착 재료의 2차 소성이 행하여지고, PDP의 전면판 패널과 배면판 패널을 봉착시킨다. 마지막에 배기관을 통해서 PDP 내부를 진공 배기시킨 후에 희가스를 필요량 주입해서 배기관을 밀봉시킨다. 이렇게 하여 PDP는 제작된다.Next, secondary baking of the sealing material is performed to seal the front plate panel and the back plate panel of the PDP. Finally, after evacuating the inside of the PDP through the exhaust pipe, the required amount of rare gas is injected to seal the exhaust pipe. In this way, a PDP is produced.

특허문헌 1 : 일본 특허공개 소63-315536호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-315536

특허문헌 2 : 일본 특허공개 2003-095697호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-095697

특허문헌 3 : 일본 특허공개 2005-35840호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Publication No. 2005-35840

특허문헌 2에는 전자 부품의 봉착, 피복 등의 용도로 사용할 수 있는 비스무트계 유리 조성물이 예시되어 있다. 그러나, 이 비스무트계 유리 조성물은 PbO를 함유하는 유리와 비교해서 연화점이 높고, 유리의 유동성이 부족하다. 또한, 이 비스무트계 유리 조성물은 유리의 열적 안정성이 부족하고, 복수회의 열처리 공정을 거치는 용도에 적용할 수 없다.In patent document 2, the bismuth type glass composition which can be used for the use of sealing of electronic components, coating | cover, etc. is illustrated. However, this bismuth type glass composition has a high softening point compared with glass containing PbO, and lacks the fluidity of glass. Moreover, this bismuth type glass composition is inadequate in the thermal stability of glass, and cannot apply to the use through several heat processing processes.

유리의 연화점을 낮게 하기 위해서는 주요 성분인 Bi2O3의 함유량을 많게 할 필요가 있지만, Bi2O3의 함유량을 많게 하면 Bi2O3를 구성 성분으로 하는 결정이 소성시에 석출되기 쉬워 유동성이 손상되기 쉽다. 그 때문에 Bi2O3의 함유량을 많게 하는 것만으로는 유동성을 향상시키기 어렵다. 한편, Bi2O3의 함유량을 적게 하면 열적 안정성이 향상되지만 연화점이 상승하기 때문에 유리의 유동성이 손상된다. 따라서, 비스무트계 유리에 있어서, 유리의 열적 안정성과 유동성을 양립시키는 것이 곤란했다.If in order to decrease the softening point of the glass, it is necessary to increase the content of the Bi 2 O 3 main components, increasing the content of Bi 2 O 3 fluidity tends to be precipitated at the time of the determination that the Bi 2 O 3 as a component plastic It is easy to be damaged. Therefore, it is difficult to improve fluidity only by increasing the content of Bi 2 O 3 . On the other hand, when the content of Bi 2 O 3 is reduced, the thermal stability is improved, but the softening point is increased, thereby impairing the fluidity of the glass. Therefore, in bismuth type glass, it was difficult to make both the thermal stability and fluidity of glass compatible.

또한, 비스무트계 유리에 첨가해서 사용되는 내화성 필러에도 하기와 같은 기술적 과제가 있다.Moreover, the following technical problem also exists in the fire resistant filler used by adding to bismuth type glass.

내화성 필러의 제조 방법으로서 여러 가지 방법이 있지만, 예를 들면 결정화 유리법이라고 불리는 방법이 알려져 있고, 이 결정화 유리법은 우선 원하는 화학 조성을 갖도록 조합된 유리 원료를 용융하고, 성형, 분쇄하여서 결정화 유리 분말을 제작한 후에 이들을 소성하여 결정화시키는 방법이다. 그러나, 이러한 방법에서는 결정성 유리 분말의 소성 공정에서 이들이 서로 용착되어 강하게 소결되고, 단단한 결정물의 덩어리가 되어버리기 때문에 이것을 재분쇄할 필요가 있고, 재분쇄 공정을 거치면 입경이 0.5㎛ 이하의 미분이 불가피하게 발생한다. 이러한 미분이 봉착 재료 중에 존재하면 내화성 필러의 비표면적이 증대되고, 그 결과 유리와의 반응 면적이 커져 내화성 필러가 유리에 용해되기 쉬워진다. 내화성 필러가 유리에 용해되면 봉착 재료를 소성할 때에 미분이 결정핵으로서 작용하여 유리의 열적 안정성이 손상되는 경우가 있다. 또한, 특허문헌 3에 기재된 내화성 필러는 원료 분말을 습식혼합한 후에 소정 조건으로 소성하고, 인산 텅스텐산 지르코늄 소결체를 얻은 후에 분쇄함으로써 제작되어 있다. 이 내화성 필러는 볼밀에 의해 분쇄되어 있기 때문에 내화성 필러 중에 입경이 0.5㎛ 이하의 미분이 불가피하게 존재하고 있고, 이것과 비스무트계 유리를 혼합시키면 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성이 손상된다.Although there are various methods as a manufacturing method of a refractory filler, the method called the crystallization glass method is known, for example, this crystallization glass method melt | dissolves, shape | molds, and pulverizes the glass raw material combined so that it may have a desired chemical composition, and crystallized glass powder It is a method of calcining and calcining these after preparing. However, in such a method, it is necessary to regrind this because they are strongly sintered and sintered together in a sintering process of the crystalline glass powder and become agglomerates of hard crystals. It inevitably occurs. When such fine powder is present in the sealing material, the specific surface area of the refractory filler is increased, and as a result, the reaction area with the glass is increased, and the refractory filler is easily dissolved in the glass. When the refractory filler is dissolved in the glass, fine powder may act as crystal nuclei when firing the sealing material, which may impair the thermal stability of the glass. In addition, the refractory filler of patent document 3 is produced by carrying out wet mixing of raw material powder, baking on predetermined conditions, and grinding after obtaining the zirconium tungstate tungstate phosphate sintered compact. Since this refractory filler is ground by a ball mill, fine powder having a particle diameter of 0.5 μm or less is inevitably present in the refractory filler, and mixing this with bismuth-based glass impairs the thermal stability of the bismuth-based sealing material.

또한, PDP의 제조 공정에 있어서, 형광체 재료와 봉착 재료의 1차 소성은 작업의 효율화를 위하여 동시에 행하여지는 경우가 있다. 일반적으로, 양 재료의 1차 소성 온도를 비교하면 형광체 재료의 소성 온도쪽이 높아 480~500℃ 정도이다. 그 때문에 봉착 재료의 열적 안정성이 낮은 경우, 이 온도역(480~500℃ 정도)에서 실투가 생기고, 그 후의 2차 소성(450~500℃)에서의 유동성이 손상되어서 기밀 봉착할 수 없는 경우가 있었다.In the manufacturing process of the PDP, the primary firing of the phosphor material and the sealing material may be performed at the same time for the efficiency of the work. In general, when the primary firing temperatures of both materials are compared, the firing temperature of the phosphor material is higher and is about 480 to 500 ° C. Therefore, when the thermal stability of the sealing material is low, devitrification occurs at this temperature range (around 480 to 500 ° C), and fluidity at the subsequent secondary firing (450 to 500 ° C) is impaired and airtight sealing cannot be performed. there was.

그래서, 본 발명의 목적은 비스무트계 유리와 내화성 필러를 함유하는 비스무트계 봉착 재료에 있어서, 열적 안정성이 양호한 비스무트계 봉착 재료를 제공하는 것, 구체적으로는 PDP의 제조 공정에 있어서, 500℃ 정도에서 1차 소성해도 유리에 결정이 석출되는 일이 없고, 450~500℃의 2차 소성에서 양호하게 기밀 봉착할 수 있는 비스무트계 봉착 재료를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a bismuth-based sealing material having good thermal stability in a bismuth-based sealing material containing bismuth-based glass and a refractory filler, specifically, in the manufacturing process of PDP, at about 500 ° C. Even if primary firing, crystals do not precipitate in the glass and provide a bismuth-based sealing material that can be hermetically sealed well at secondary firing at 450 to 500 ° C.

발명자는 예의 노력의 결과, 비스무트계 유리와 내화성 필러를 함유하는 비스무트계 봉착 재료에 있어서, 내화성 필러가 조성으로서 하기 산화물 환산의 중량% 표시로 SiO2 30~100%, Al2O3 0~45%, ZnO 0~35%, ZrO2 0~20%, TiO2 0~20%, Li2O 0~10%, MgO 0~25%를 함유시킴과 아울러, 내화성 필러 중에 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율을 15~70%로 규제함으로써 상기 기술적 과제를 해결할 수 있는 것을 발견하여 본 발명으로서 제안하는 것이다. 여기에서, 본 발명에서 말하는 「입자 지름」, 「입자의 비율」은 레이저 회절산란법을 사용한 측정 장치로 산출한 값이고, 적산 입도 분포의 데이터로부터 산출한 값을 가리킨다. 또한, 내화성 필러에는 세라믹 등의 결정물, 유리 등의 비정질 쌍방이 포함된다. 내화성 필러가 결정물인 경우, 결정물의 구성 성분(결정 조성)이 중량% 환산으로 상기 범위 내이면 본 발명에 따른 내화성 필러라고 판단한다. 또한, 내화성 필러의 구성 성분은 명시되어 있지 않은 성분의 함유를 배제하는 것은 아니고, 명시되어 있지 않은 성분은 ZrO2, TiO2, Li2O, MgO와 마찬가지로 임의 성분이다.As a result of intensive efforts, the inventors have found that in a bismuth-based sealing material containing bismuth-based glass and a refractory filler, the refractory filler is composed of SiO 2 30-100% and Al 2 O 3 0-45 in terms of weight% of the following oxide conversion as a composition. %, ZnO 0-35%, ZrO 2 0-20%, TiO 2 0-20%, Li 2 O 0-10%, MgO 0-25%, and in the refractory filler By regulating the proportion of the particles to 15 to 70%, the inventors have found that the above technical problem can be solved and propose as the present invention. Here, "particle diameter" and "particle ratio" are values computed by the measuring apparatus using the laser diffraction scattering method, and point out the value computed from the data of integrated particle size distribution. In addition, the refractory filler contains both crystals, such as a ceramic, and amorphous both, such as glass. When a refractory filler is a crystal | crystallization, it is judged that it is a refractory filler in accordance with this invention, if the component (crystal composition) of a crystal | crystallization is in the said range in conversion of weight%. In addition, not preclude the inclusion of components of the refractory filler is not described components, that is not specifically described components may be any component as in the ZrO 2, TiO 2, Li 2 O, MgO.

발명자는 예의 노력의 결과, 내화성 필러의 조성을 상기 조성 범위에 한정하면 비스무트계 봉착 재료를 소성할 때에 내화성 필러의 일부가 비스무트계 유리에 용출되고, 이 용출된 성분이 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 것을 발견했다. 즉, 상기 조성 범위의 내화성 필러는 비스무트계 유리와 친화력이 매우 양호하여 비스무트계 봉착 재료의 소성시에 내화성 필러 중의 미분이 유리 중에 용출되어도 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 손상시키는 일이 없음과 아울러, 내화성 필러 중에 존재하는 미분을 적극적으로 비스무트계 유리에 용해시킴으로써 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시킬 수 있다.As a result of the intensive efforts, the inventors have limited the composition of the refractory filler to the above-mentioned composition range, and when the bismuth-based sealing material is fired, a part of the refractory filler is eluted into the bismuth-based glass, and the eluted component improves the thermal stability of the bismuth-based sealing material. Found to improve That is, the refractory filler in the composition range has a very good affinity with the bismuth-based glass, and does not impair the thermal stability of the bismuth-based sealing material even when fine powder in the refractory filler is eluted in the glass at the time of firing the bismuth-based sealing material. The thermal stability of the bismuth-based sealing material can be improved by actively dissolving fine powder present in the fire-resistant filler in the bismuth-based glass.

내화성 필러 중, 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율을 15~70%로 규제하면 비스무트계 봉착 재료의 소성시에 내화성 필러의 용출량을 적절한 값으로 규제할 수 있다. 내화성 필러의 용출량을 적절한 값으로 설정하면 비스무트계 유리의 열적 안정성을 확실하게 향상시킬 수 있다. 그 결과, 상기와 같이 납붕산계 유리와 비교해서 열적 안정성이 부족한 비스무트계 유리를 납붕산계 유리와 동등 이상의 열적 안정성까지 향상시킬 수 있다. 특히, PDP의 제조 공정에 있어서, 500℃ 정도에서 1차 소성해도 결정이 석출되는 일이 없고, 450~500℃의 2차 소성에서 양호하게 기밀 봉착할 수 있는 비스무트계 봉착 재료를 얻을 수 있다. 즉, 비스무트계 유리의 주요성분인 Bi2O3의 함유량을 많게 해도 Bi2O3를 구성 성분으로 하는 결정이 소성시에 석출되는 일이 없어, Bi2O3의 함유량을 많게 하는 것에 의한 메리트, 구체적으로는 비스무트계 봉착 재료의 유동성을 향상시키는 효과를 적확하게 누릴 수 있다.When the ratio of the particle | grains of 5 micrometers or less of particle | grains of a refractory filler is regulated to 15 to 70%, the elution amount of a refractory filler at the time of baking of a bismuth type sealing material can be regulated to an appropriate value. By setting the elution amount of the refractory filler to an appropriate value, it is possible to reliably improve the thermal stability of the bismuth-based glass. As a result, the bismuth type glass which lacks thermal stability compared with lead boric acid type glass as mentioned above can be improved to the thermal stability equivalent to or more than lead boric acid type glass. In particular, in the manufacturing process of a PDP, even if it bakes first at about 500 degreeC, a crystal | crystallization does not precipitate, and the bismuth type sealing material which can be airtightly sealed by secondary baking of 450-500 degreeC can be obtained. In other words, even if the content of Bi 2 O 3 which is the main component of bismuth-based glass is increased, the crystal containing Bi 2 O 3 as a constituent does not precipitate at the time of firing, and the merit of increasing the content of Bi 2 O 3 is increased. Specifically, the effect of improving the fluidity of the bismuth-based sealing material can be precisely enjoyed.

또한, 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율을 15~70%로 규제하면 미분이 많은 것에 기인하는 유동성의 저하를 초래하는 일도 없다. 따라서, 비스무트계 봉착 재료가 본래 갖는 저온 봉착성을 손상시키는 일 없이 적확하게 향수할 수 있다. 그 결과, PDP의 제조 공정에 있어서, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 450~500℃의 2차 소성에서 비스무트계 봉착 재료가 유동성을 손상시키지 않고, 전면판 유리와 배면판 유리를 양호하게 봉착시킬 수 있다.In addition, when the ratio of the particle | grains whose particle diameter is 5 micrometers or less is controlled to 15 to 70%, it will not cause the fluidity | liquidity fall resulting from many fine powders. Therefore, it can be perfumed correctly, without impairing the low temperature sealing property inherent in a bismuth type sealing material. As a result, in the manufacturing process of the PDP, the bismuth-based sealing material of the present invention can satisfactorily seal the front plate glass and the back plate glass without the fluidity of the bismuth-based sealing material in the secondary firing at 450 to 500 ° C. Can be.

제 2에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 내화성 필러의 비표면적이 0.5~4.0㎡/g인 것으로 특징지어진다. 여기에서, 본 발명에서 말하는 「비표면적」은 BET 비표면적 측정 장치로 측정한 값을 가리킨다.Secondly, the bismuth type sealing material of the present invention is characterized in that the specific surface area of the refractory filler is 0.5 to 4.0 m 2 / g. Here, "specific surface area" as used in this invention points out the value measured with the BET specific surface area measuring apparatus.

제 3에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 내화성 필러가 코디어라이트를 주결정으로 하는 결정물인 것으로 특징지어진다.Third, the bismuth-based sealing material of the present invention is characterized in that the refractory filler is a crystal having cordierite as the main crystal.

제 4에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 체적% 표시로 비스무트계 유리 40~95%, 내화성 필러 5~60%를 함유하는 것으로 특징지어진다.4thly, the bismuth type sealing material of this invention is characterized by containing 40 to 95% of bismuth type glass and 5 to 60% of fire-resistant filler by volume% display.

제 5에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 비스무트계 유리가 유리 조성으로서 하기 산화물 환산의 몰% 표시로 Bi2O3 30~60%, B2O3 10~40%, ZnO 10~50%, BaO+SrO+MgO+CaO 0~15%, CuO 0~10%, Fe2O3 0~5%, SiO2+Al2O3 0~15%, WO3 0~5%, Sb2O3 0~5%, In2O3+Ga2O3 0~5%를 함유하는 것으로 특징지어진다.The bismuth-based sealing material of the present invention is a bismuth-based glass is a glass composition in terms of mole% of the following oxide, Bi 2 O 3 30-60%, B 2 O 3 10-40%, ZnO 10-50% , BaO + SrO + MgO + CaO 0-15%, CuO 0-10%, Fe 2 O 3 0-5%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-15%, WO 3 0-5%, Sb 2 O It is characterized by containing 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5%.

제 6에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 실질적으로 PbO를 함유하지 않는 것으로 특징지어진다. 여기에서, 본 발명에 있어서, 「실질적으로 PbO를 함유하지 않는다」란 PbO의 함유량이 1000ppm 이하인 경우를 가리킨다.In a sixth aspect, the bismuth-based sealing material of the present invention is characterized by substantially free of PbO. Here, in this invention, "it does not contain PbO substantially" refers to the case where content of PbO is 1000 ppm or less.

제 7에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 비스무트계 유리의 결정화 온도를 T1(℃)로 하고, 비스무트계 봉착 재료의 결정화 온도를 T2(℃)로 했을 때에 T2-T1≥5℃의 관계를 만족시키는 것으로 특징지어진다. 여기에서, 본 발명에서 말하는 「결정화 온도」란, 시차열분석(DTA) 장치에서 결정 석출에 의한 발열 피크가 검출되는 온도를 가리킨다. 또한, 시차열분석은 실온에서부터 10℃/분으로 승온을 행하고, 분위기는 공기 분위기로 한다. 또한, T1과 T2의 측정에 사용하는 비스무트계 유리는 당연히 같은 것을 사용한다.The bismuth-based sealing material of the present invention is characterized in that when the crystallization temperature of the bismuth-based glass is set to T 1 (° C) and the crystallization temperature of the bismuth-based sealing material is set to T 2 (° C), T 2 -T 1? Characterized by satisfying the relationship of ° C. Here, the term "crystallization temperature" as used in the present invention refers to a temperature at which an exothermic peak due to crystal precipitation is detected in a differential thermal analysis (DTA) apparatus. In the differential thermal analysis, the temperature is raised to 10 ° C / min from room temperature, and the atmosphere is an air atmosphere. In addition, the bismuth type glass used for the measurement of T <1> and T <2> uses the same thing naturally.

제 8에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 비스무트계 유리와 내화성 필러를 함유하는 비스무트계 봉착 재료로서, 내화성 필러는 조성으로서 하기 산화물 환산의 중량% 표시로 SiO2 30~100%, Al2O3 0~45%, ZnO 0~35%, ZrO2 0~20%, TiO2 0~20%, Li2O 0~10%, MgO 0~25%를 함유하고, 또한 내화성 필러의 10% 입자 지름(D10)이 0.3~5.5㎛인 것으로 특징지어진다. 여기에서, 「10% 입자 지름(D10)」은 레이저 회절법으로 측정한 값을 가리키고, 적산 입자량이 10%가 되는 입자 지름이다.The bismuth-based sealing material of the present invention is a bismuth-based sealing material containing bismuth-based glass and a refractory filler, wherein the refractory filler is 30 to 100% of SiO 2 in terms of weight% of the following oxides as a composition, and Al 2 O. 3 0 to 45%, ZnO 0 to 35%, ZrO 2 0 to 20%, TiO 2 0 to 20%, Li 2 O 0 to 10%, MgO 0 to 25%, and also 10% particles of the fire resistant filler diameter (D 10) are characterized as being the 0.3 ~ 5.5㎛. Here, the "10% particle diameter (D 10)" is the particle diameter of the point to a value as measured by a laser diffraction method, the accumulated 10% particle volume.

제 9에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 비스무트계 유리와 내화성 필러를 함유하는 비스무트계 봉착 재료로서, 내화성 필러는 조성으로서 하기 산화물 환산의 중량% 표시로 SiO2 30~100%, Al2O3 0~45%, ZnO 0~35%, ZrO2 0~20%, TiO2 0~20%, Li2O 0~10%, MgO 0~25%를 함유하고, 또한 내화성 필러의 90% 입자 지름(D90)이 8~45㎛인 것으로 특징지어진다. 여기에서, 「90% 입자 지름(D90)」은 레이저 회절법으로 측정한 값을 가리키고, 적산 입자량이 90%가 되는 입자 지름이다.9. The bismuth-based sealing material of the present invention is a bismuth-based sealing material containing bismuth-based glass and a refractory filler, wherein the refractory filler is a composition of SiO 2 30-100%, Al 2 O in terms of weight% of the following oxide conversion. 3 0 to 45%, ZnO 0 to 35%, ZrO 2 0 to 20%, TiO 2 0 to 20%, Li 2 O 0 to 10%, MgO 0 to 25%, and also 90% particles of the fire resistant filler The diameter D 90 is characterized by being 8-45 μm. Here, "90% particle diameter (D 90 )" points out the value measured by the laser diffraction method, and is a particle diameter which becomes 90% of an integrated particle amount.

제 10에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 전자 부품 또는 평면 표시 장치의 봉착에 사용하는 것으로 특징지어진다.The bismuth type sealing material of the present invention is characterized by being used for sealing an electronic component or a flat panel display device.

제 11에, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 PDP의 봉착에 사용하는 것으로 특징지어진다.The bismuth sealing material of the present invention is characterized by being used for sealing PDP.

제 12에, 본 발명의 비스무트계 페이스트 재료는 상기 비스무트계 봉착 재료와, 용제와, 수지를 함유하는 것으로 특징지어진다.The bismuth type paste material of this invention is characterized by containing the said bismuth type sealing material, a solvent, and resin.

본 발명의 비스무트계 봉착 재료에 있어서, 내화성 필러의 조성을 상기와 같이 한정한 이유를 하기에 나타낸다.In the bismuth sealing material of this invention, the reason which limited the composition of the refractory filler as mentioned above is shown below.

SiO2는 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 상승시키는 성분임과 아울러 내화성 필러의 열팽창계수를 저하시키는 성분이고, 그 함유량은 30~100중량%, 바람직하게는 35~85중량%, 보다 바람직하게는 40~70중량%이다. SiO2의 함유량이 30중량%보다 적으면 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 상승시키는 효과가 부족해진다. 또한, SiO2는 단독으로 내화성 필러로서 사용할 수도 있다.SiO 2 is a component that increases the thermal stability of the bismuth-based sealing material and decreases the coefficient of thermal expansion of the refractory filler, the content of which is 30 to 100% by weight, preferably 35 to 85% by weight, more preferably 40-70 weight%. When the content of SiO 2 is less than 30% by weight, the effect of increasing the thermal stability of the bismuth-based sealing material is insufficient. Furthermore, SiO 2 may be used alone as a refractory filler.

Al2O3는 내화성 필러의 열팽창계수를 저하시키는 성분이고, 그 함유량은 0~45중량%, 바람직하게는 10~40중량%이다. Al2O3의 함유량이 45중량%보다 많으면 봉착 공정에서 유리에 결정이 석출되기 쉬워진다.Al 2 O 3 is a component that lowers the coefficient of thermal expansion of the refractory filler, and the content thereof is 0 to 45% by weight, preferably 10 to 40% by weight. When the content of Al 2 O 3 is more than 45% by weight, crystals tend to precipitate on the glass in the sealing step.

ZnO는 봉착 공정에서 내화성 필러의 용출을 촉진시키기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~35중량%, 바람직하게는 0~30중량%이다. ZnO의 함유량이 35중량%보다 많으면 봉착 공정에서 유리에 결정이 석출되기 쉬워진다.ZnO is a component for promoting elution of the refractory filler in the sealing step, and the content thereof is 0 to 35% by weight, preferably 0 to 30% by weight. When the content of ZnO is more than 35% by weight, crystals tend to precipitate on the glass in the sealing step.

ZrO2는 내화성 필러의 열팽창계수를 저하시키기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~20중량%이다. ZrO2의 함유량이 20중량%보다 많으면 봉착 공정에서 유리에 결정이 석출되기 쉬워진다.ZrO 2 is a component for reducing the coefficient of thermal expansion of the refractory filler, and the content thereof is 0 to 20% by weight. When the content of ZrO 2 be easily crystals were precipitated in the glass in the process of sealing large than 20% by weight.

TiO2는 내화성 필러의 열팽창계수를 저하시키기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~20중량%이다. TiO2의 함유량이 20중량%보다 많으면 봉착 공정에서 유리에 결정이 석출되기 쉬워진다.TiO 2 is a component for reducing the coefficient of thermal expansion of the refractory filler, and the content thereof is 0 to 20% by weight. If the content of TiO 2 is apt to crystals were precipitated in the glass in the process of sealing large than 20% by weight.

Li2O는 봉착 공정에서 내화성 필러의 용출을 촉진시키기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~10중량%이다. Li2O의 함유량이 10중량%보다 많으면 유리에 결정이 석출되기 쉬워진다.Li 2 O is a component for promoting elution of the refractory filler in the sealing step, and the content thereof is 0 to 10% by weight. When the content of Li 2 O is more than 10% by weight is apt to crystals were precipitated in the glass.

MgO는 봉착 공정 후에 있어서의 내화성 필러의 용출을 촉진시키기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~25중량%, 바람직하게는 0~20중량%, 보다 바람직하게는 10~20중량%이다. MgO의 함유량이 25중량%보다 많으면 봉착 공정에서 유리에 결정이 석출되기 쉬워진다.MgO is a component for promoting the elution of the refractory filler after the sealing step, the content is 0 to 25% by weight, preferably 0 to 20% by weight, more preferably 10 to 20% by weight. When content of MgO is more than 25 weight%, crystal becomes easy to precipitate in glass in a sealing process.

또한, 그 밖의 성분이어도 내화성 필러의 특성을 손상시키지 않는 범위에서 5중량%까지 첨가할 수 있다.Moreover, even another component can add up to 5 weight% in the range which does not impair the characteristic of a fire resistant filler.

본 발명의 비스무트계 봉착 재료에 있어서, 내화성 필러는 상기 조성 범위 내이면 유리 및 결정물 모두 사용할 수 있지만, 결정물의 내화성 필러는 열팽창계수가 낮고, 비스무트계 봉착 재료의 기계적 강도를 향상시킬 수 있기 때문에 바람직하다. 또한, 내화성 필러로서 유리를 사용하면 내화성 필러의 용출량을 많게 할 수 있어서, 결과적으로 봉착 공정 후의 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 효과가 커진다.In the bismuth sealing material of the present invention, both the glass and the crystal can be used as long as the refractory filler is within the above composition range, but the refractory filler of the crystal has a low coefficient of thermal expansion and can improve the mechanical strength of the bismuth sealing material. desirable. Moreover, when glass is used as a fire resistant filler, the elution amount of a fire resistant filler can be increased, and as a result, the effect of improving the thermal stability of the bismuth type sealing material after a sealing process becomes large.

본 발명에 따른 내화성 필러는 코디어라이트, β-석영 고용체, 아연 페탈라이트, β-유크립타이트, 가나이트 등을 주결정으로 하는 결정물, 석영유리로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상인 것이 바람직하다. 이들 내화성 필러는 열팽창계수가 작음과 아울러, 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성 향상 효과가 크기 때문에 적합하다. 특히, 코디어라이트를 주결정으로 하는 결정물은 비스무트계 유리와 친화력이 양호하기 때문에 봉착 공정에서 내화성 필러가 유리에 용해되는 양이 많고, 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 효과가 클 뿐만 아니라, 봉착 공정에서 Bi2O3를 구성 성분으로 하는 결정이 석출되는 일이 없기 때문에 적합하다. 또한, 유리의 기계적 강도 등을 상승시킬 목적으로 상기 조성을 갖는 내화성 필러 이외의 내화성 필러(예를 들면 산화 주석, 지르코니아, 알루미나 등)를 특성을 손상시키지 않는 범위에서 적당하게 첨가할 수 있다.The refractory filler according to the present invention is preferably one or two or more selected from crystals containing cordierite, β-quartz solid solution, zinc petalite, β-eucryptite, ganite and the like as the main crystals and quartz glass. Do. These refractory fillers are suitable because they have a low coefficient of thermal expansion and a large effect of improving the thermal stability of the bismuth-based sealing material. In particular, since the crystals containing cordierite as the main crystal have a good affinity with bismuth-based glass, the amount of the refractory filler is dissolved in the glass during the sealing process, and the effect of improving the thermal stability of the bismuth-based sealing material is large. rather, it is suitable since there is no being the precipitated crystals of the Bi 2 O 3 as a component in the process of sealing. Moreover, the fire resistant filler which has the said composition for the purpose of raising the mechanical strength etc. of glass, etc. Other refractory fillers (for example, tin oxide, zirconia, alumina, etc.) can be suitably added in the range which does not impair a characteristic.

본 발명에 따른 내화성 필러에 있어서, 레이저 회절산란법으로 측정했을 때의 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율은 15~70%, 바람직하게는 15~60%, 보다 바람직하게는 20~60%, 더욱 바람직하게는 25~50%이다. 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율이 15%보다 적으면 비스무트계 봉착 재료를 소성했을 때에 내화성 필러의 용해량이 적어지고, 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 효과가 얻어지기 어려워진다. 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율이 70%보다 크면 봉착 공정에서 내화성 필러의 용해가 지나치게 많아져서 비스무트계 봉착 재료의 유동성이 부족해지고, 특히 PDP의 제조 공정에 있어서, 450~500℃의 2차 소성에서 비스무트계 봉착 재료가 양호하게 연화 유동되기 어려워져서 전면판 패널과 배면판 패널을 저온에서 봉착하기 어려워진다.In the fire resistant filler according to the present invention, the proportion of particles having a particle diameter of 5 μm or less as measured by laser diffraction scattering method is 15 to 70%, preferably 15 to 60%, more preferably 20 to 60%, More preferably, it is 25-50%. When the ratio of the particle | grains of 5 micrometers or less of particle diameters is less than 15%, when the bismuth type sealing material is baked, the amount of dissolution of the refractory filler will be reduced, and the effect of improving the thermal stability of the bismuth type sealing material becomes difficult to be obtained. When the proportion of particles having a particle diameter of 5 µm or less is greater than 70%, the dissolution of the refractory filler becomes excessive in the sealing step, resulting in insufficient fluidity of the bismuth-based sealing material. Particularly, in the manufacturing process of the PDP, the secondary at 450 to 500 ° C. In firing, the bismuth-based sealing material becomes difficult to soften and flow well, making it difficult to seal the faceplate panel and the backplate panel at low temperature.

본 발명에 따른 내화성 필러에 있어서, 10% 입자 지름(D10)은 0.3~5.5㎛, 바람직하게는 0.5~4.0㎛, 보다 바람직하게는 1.0~3.5㎛이다. 10% 입자 지름(D10)이 0.3㎛ 미만이면, 봉착 공정에서 내화성 필러의 용해가 지나치게 많아져 비스무트계 봉착 재료의 유동성이 부족해지고, 특히 PDP의 제조 공정에 있어서, 450~500℃의 2차 소성에서 비스무트계 봉착 재료가 양호하게 연화 유동되기 어려워져 전면판 패널과 배면판 패널을 저온에서 봉착시키기 어려워진다. 또한, 내화성 필러의 분쇄에 장시간을 요하여 내화성 필러의 생산 효율이 저하된다. 한편, 10% 입자 지름(D10)이 5.5㎛보다 크면 내화성 필러의 용해량이 적어지고, 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 효과가 얻어지기 어려워지고, 또한 봉착 공정 후의 봉착층에 마이크로 크랙이 발생하기 쉬워진다.In the fire resistant filler according to the present invention, the 10% particle diameter (D 10 ) is 0.3 to 5.5 μm, preferably 0.5 to 4.0 μm, more preferably 1.0 to 3.5 μm. When the 10% particle diameter (D 10 ) is less than 0.3 µm, the dissolution of the refractory filler becomes too large in the sealing step, resulting in insufficient fluidity of the bismuth-based sealing material, and particularly in the manufacturing process of the PDP, the secondary of 450 to 500 ° C. In firing, the bismuth-based sealing material is less likely to soften and flow well, making it difficult to seal the faceplate panel and the backplate panel at low temperature. In addition, it takes a long time for the pulverization of the refractory filler, and the production efficiency of the refractory filler is lowered. On the other hand, when the 10% particle diameter (D 10 ) is larger than 5.5 μm, the amount of dissolution of the refractory filler becomes less, and it is difficult to obtain an effect of improving the thermal stability of the bismuth-based sealing material, and microcracks are formed in the sealing layer after the sealing step. It is easy to occur.

본 발명에 따른 내화성 필러에 있어서, 90% 입자 지름(D90)은 8~45㎛, 바람직하게는 10~32㎛, 보다 바람직하게는 15~30㎛이다. 90% 입자 지름(D90)이 8㎛ 미만이면 봉착 공정에서 내화성 필러의 용해가 지나치게 많아져 비스무트계 봉착 재료의 유동성이 부족해지고, 특히 PDP의 제조 공정에 있어서, 450~500℃의 2차 소성에서 비스무트계 봉착 재료가 양호하게 연화 유동하기 어려워져 전면판 패널과 배면판 패널을 저온에서 봉착시키기 어려워진다. 또한, 내화성 필러의 분급 효율이 저하된다. 한편, 90% 입자 지름(D90)이 45㎛보다 크면 봉착 공정 후의 봉착층에 마이크로 크랙이 발생하기 쉬워진다.In the fire resistant filler according to the present invention, the 90% particle diameter (D 90 ) is 8 to 45 µm, preferably 10 to 32 µm, more preferably 15 to 30 µm. If the 90% particle diameter (D 90 ) is less than 8 µm, the dissolution of the refractory filler becomes too large in the sealing step, resulting in insufficient fluidity of the bismuth-based sealing material. Particularly, in the manufacturing process of the PDP, secondary firing at 450 to 500 ° C. In the bismuth-based sealing material, it is difficult to soften and flow well, making it difficult to seal the front panel and the back panel at low temperature. Moreover, the classification efficiency of a fire resistant filler falls. On the other hand, when the 90% particle diameter (D 90 ) is larger than 45 µm, microcracks tend to occur in the sealing layer after the sealing step.

비스무트계 봉착 재료의 소성시에 내화성 필러의 비표면적이 클수록 유리와 접하는 면적이 커지고, 내화성 필러가 유리에 용해되는 양이 많아진다. 본 발명에 따른 내화성 필러에 있어서, BET 비표면적 측정 장치로 측정했을 때의 비표면적값은 0.5~4.0㎡/g이 바람직하고, 0.5~3.5㎡/g이 보다 바람직하며, 0.6~2.3㎡/g이 더욱 바람직하다. 내화성 필러의 비표면적값이 4.0㎡/g보다 크면 비스무트계 봉착 재료의 소성시에 내화성 필러가 유리에 용해되는 양이 지나치게 많아져 비스무트계 봉착 재료의 유동성이 저해될 우려가 있다. 내화성 필러의 비표면적값이 0.5㎡/g 보다 작으면 비스무트계 봉착 재료의 소성시에 내화성 필러가 유리에 용해되는 양이 적어지고, 그 결과 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 효과가 얻어지기 어려워진다.The larger the specific surface area of the refractory filler at the time of firing the bismuth-based sealing material, the larger the area in contact with the glass, and the greater the amount of the refractory filler dissolved in the glass. In the fire resistant filler according to the present invention, the specific surface area value measured by the BET specific surface area measuring apparatus is preferably 0.5 to 4.0 m 2 / g, more preferably 0.5 to 3.5 m 2 / g, and more preferably 0.6 to 2.3 m 2 / g. This is more preferable. When the specific surface area value of a refractory filler is larger than 4.0 m <2> / g, the quantity of the refractory filler melt | dissolved in glass at the time of baking of a bismuth type sealing material increases too much, and there exists a possibility that the fluidity of a bismuth type sealing material may be impaired. If the specific surface area of the fire resistant filler is less than 0.5 m 2 / g, the amount of the fire resistant filler dissolved in the glass during the firing of the bismuth-based sealing material decreases, and as a result, the effect of improving the thermal stability of the bismuth-based sealing material is obtained. Becomes difficult.

비스무트계 유리와 열팽창계수에 적합하지 않은 재료, 예를 들면 고왜점 유리(85×10-7/℃), 소다 판유리(90×10-7/℃) 등의 봉착을 행하는 경우에 비스무트계 유리 분말과 내화성 필러 분말을 혼합해서 복합 재료로 하고, 이것을 봉착 재료로 할 필요가 있다. 봉착 재료의 열팽창계수는 피봉착물에 대하여 10~30×10-7/℃ 정도 낮게 설계하는 것이 중요하다. 이것은 봉착 후의 봉착층에 가해지는 변형을 컴프레션(압축)측으로 해서 봉착층의 파괴를 막기 위해서이다. 또한, 열팽창계수의 조정 이외에도, 예를 들면 기계적 강도의 향상을 위하여 내화성 필러 분말을 첨가할 수도 있다.Bismuth-based glass powder in the case of sealing with bismuth-based glass and a material which is not suitable for the coefficient of thermal expansion, for example, high strain glass (85 × 10 −7 / ° C.), soda plate glass (90 × 10 −7 / ° C.) It is necessary to mix and refractory filler powder to make a composite material, and to make this a sealing material. It is important to design the coefficient of thermal expansion of the encapsulation material as low as 10 ~ 30 × 10 -7 / ℃ for the encapsulated material. This is to prevent deformation of the sealing layer by setting the deformation applied to the sealing layer after sealing to the compression (compression) side. In addition to adjusting the coefficient of thermal expansion, for example, a refractory filler powder may be added to improve the mechanical strength.

내화성 필러 분말을 혼합하는 경우에 그 혼합 비율은 비스무트계 유리 분말 이 40~95체적%, 내화성 필러 분말 5~60체적%인 것이 바람직하고, 비스무트계 유리 분말이 40~90체적%, 내화성 필러 분말 10~60체적%인 것이 더욱 바람직하다. 양자의 비율을 이렇게 규정한 이유는 내화성 필러 분말이 5체적%보다 적으면 내화성 필러를 첨가한 것에 의한 효과가 얻어지기 어렵고, 60체적%보다 많아지면 유동성이 나빠져 기밀 봉착 등을 할 수 없게 될 우려가 있기 때문이다.In the case of mixing the refractory filler powder, the mixing ratio is preferably 40 to 95% by volume of the bismuth-based glass powder and 5 to 60% by volume of the refractory filler powder, and 40 to 90% by volume of the bismuth-based glass powder and the refractory filler powder. It is more preferable that it is 10-60 volume%. The reason why these ratios are defined in this way is that when the refractory filler powder is less than 5% by volume, the effect of adding the refractory filler is difficult to be obtained, and when it exceeds 60% by volume, the fluidity becomes poor and airtight sealing cannot be performed. Because there is.

또한, 내화성 필러 분말을 알루미나, 산화아연, 지르콘, 티타니아, 지르코니아 등의 미분말에 의해 피복하면 비스무트계 유리 분말과 내화성 필러 분말 사이에서의 반응을 억제할 수 있다. 따라서, 내화성 필러 분말을 알루미나, 산화아연, 지르콘, 티타니아, 지르코니아 등의 미분말에 의해 피복하면 내화성 필러 분말의 용출량을 조절할 수 있다. In addition, when the refractory filler powder is coated with fine powder such as alumina, zinc oxide, zircon, titania, zirconia, the reaction between the bismuth-based glass powder and the refractory filler powder can be suppressed. Therefore, when the refractory filler powder is coated with fine powder such as alumina, zinc oxide, zircon, titania, zirconia, the amount of the refractory filler powder can be controlled.

본 발명의 비스무트계 봉착 재료에 있어서, 비스무트계 유리의 유리 조성을 상기와 같이 한정한 이유를 하기에 나타낸다.In the bismuth type sealing material of this invention, the reason which limited the glass composition of bismuth type glass as mentioned above is shown below.

Bi2O3는 연화점을 저하시키기 위한 주요 성분이다. 그 함유량은 30~60몰%, 바람직하게는 35~55몰%, 보다 바람직하게는 35~50몰%, 더욱 바람직하게는 35~45몰%이다. Bi2O3의 함유량이 30몰%보다 적으면 유리의 연화점이 지나치게 높아져 500℃ 이하의 저온에서 봉착하기 어려워진다. 한편, Bi2O3의 함유량이 60몰%보다 많으면 유리가 열적으로 불안정해져 용융시 또는 소성시에 유리가 실투되기 쉬워진다.Bi 2 O 3 is a main component for lowering the softening point. The content is 30-60 mol%, Preferably it is 35-55 mol%, More preferably, it is 35-50 mol%, More preferably, it is 35-45 mol%. When the content of Bi 2 O 3 is less than 30 mol%, the softening point of the glass becomes too high, and it becomes difficult to seal at a low temperature of 500 ° C or lower. On the other hand, when the content of Bi 2 O 3 is more than 60 mol%, the glass becomes thermally unstable, and the glass is easily devitrified at the time of melting or baking.

B2O3는 비스무트계 유리의 유리 네트워크를 형성하는 성분이고, 필수 성분이다. 그 함유량은 10~40몰%, 바람직하게는 12~35몰%, 보다 바람직하게는 15~30몰%, 더욱 바람직하게는 15~25몰%이다. B2O3의 함유량이 10몰%보다 적으면 유리가 열적으로 불안정해지고, 용융시 또는 소성시에 유리가 실투되기 쉬워진다. 한편, B2O3의 함유량이 40몰%보다 많으면 유리의 점성이 지나치게 높아져 50℃ 이하의 저온에서 봉착하는 것이 곤란해진다.B 2 O 3 is a component for forming a glass network, the bismuth-based glass, the essential components. The content is 10-40 mol%, Preferably 12-35 mol%, More preferably, it is 15-30 mol%, More preferably, it is 15-25 mol%. When the content of B 2 O 3 is less than 10 mol%, the glass becomes thermally unstable, and the glass is easily devitrified at the time of melting or firing. On the other hand, B 2 O 3 is large, the viscosity of the glass increases excessively greater than 40 mol%, the content of it is difficult to sealing at a low temperature of less than 50 ℃.

ZnO는 유리의 용융시 또는 소성시의 실투를 억제하는 효과가 있는 성분이다. 그 함유량은 10~50몰%, 바람직하게는 12~45몰%, 보다 바람직하게는 15~40몰%, 더욱 바람직하게는 20~35몰%이다. ZnO의 함유량이 10몰%보다 적으면 유리의 용융시 또는 소성시의 실투를 억제하는 효과가 얻어지기 어려워진다. ZnO의 함유량이 50몰%보다 많으면 유리 조성 내의 밸런스가 결여되어 반대로 유리의 열적 안정성이 손상되고, 그 결과 유리가 실투되기 쉬워진다.ZnO is a component having an effect of suppressing devitrification at the time of melting or firing of glass. The content is 10-50 mol%, Preferably it is 12-45 mol%, More preferably, it is 15-40 mol%, More preferably, it is 20-35 mol%. When content of ZnO is less than 10 mol%, the effect which suppresses the devitrification at the time of melting of a glass, or baking is difficult to be acquired. When the content of ZnO is more than 50 mol%, there is a lack of balance in the glass composition, and consequently, the thermal stability of the glass is impaired, and as a result, the glass is easily devitrified.

BaO, SrO, MgO, CaO는 유리의 용융시 또는 소성시의 실투를 억제하는 효과가 있다. 이들 성분은 합량으로 15몰%까지 함유시킬 수 있다. 이들 성분의 합량이 15몰%보다 많아지면 유리의 연화점이 지나치게 높아져 500℃ 이하의 저온에서 봉착하는 것이 곤란해진다.BaO, SrO, MgO, and CaO have an effect of suppressing devitrification at the time of melting or baking glass. These components can be contained in a total amount of up to 15 mol%. When the total amount of these components is more than 15 mol%, the softening point of the glass becomes too high, making it difficult to seal at a low temperature of 500 ° C or lower.

BaO의 함유량은 1~10몰%가 바람직하고, 2~6몰%가 보다 바람직하다. BaO의 함유량이 1몰%보다 적으면 유리의 용융시 또는 소성시의 실투를 억제하는 효과가 얻어지기 어려워진다. ZnO의 함유량이 10몰%보다 많으면 유리 조성 내의 밸런스가 결여되어 반대로 유리의 열적 안정성이 손상되고, 그 결과 유리가 실투되기 쉬워진다.1-10 mol% is preferable and, as for content of BaO, 2-6 mol% is more preferable. When content of BaO is less than 1 mol%, the effect which suppresses the devitrification at the time of melting or baking of glass becomes difficult to be obtained. When the content of ZnO is more than 10 mol%, there is a lack of balance in the glass composition, and consequently, the thermal stability of the glass is impaired, and as a result, the glass is easily devitrified.

SrO, MgO, CaO의 각각의 함유량은 0~5몰%가 바람직하고, 0~2몰%가 보다 바람직하다. 각 성분의 함유량이 5몰%보다 많으면 유리가 실투나 분상되기 쉬워진다.0-5 mol% is preferable and, as for each content of SrO, MgO, CaO, 0-2 mol% is more preferable. When content of each component is more than 5 mol%, glass will become devitrification and powdering easily.

CuO는 유리의 용융시 또는 소성시의 실투를 억제하는 효과가 있고, 10몰%까지 첨가할 수 있다. CuO의 함유량이 10몰%보다 많으면 유리가 실투되기 쉬워지고, 유리의 유동성이 손상되기 쉬워진다.CuO has the effect of suppressing devitrification at the time of melting of a glass, or baking, and can add up to 10 mol%. When content of CuO is more than 10 mol%, glass will be devitrified easily and the fluidity of glass will be easy to be impaired.

Fe2O3는 유리의 용융시 또는 소성시의 실투를 억제하는 효과가 있고, 그 함유량은 0~5몰%가 바람직하며, 0.1~2몰%가 보다 바람직하다. Fe2O3의 함유량이 5몰%보다 많으면 유리 조성 내의 밸런스가 결여되어 반대로 유리의 열적 안정성이 손상되고, 그 결과 유리가 실투되기 쉬워진다.Fe 2 O 3 has the effect of suppressing devitrification at the time of melting or sintering during the glass, the content thereof is preferably 0 to 5 mol%, more preferably 0.1 to 2 mol%. When the content of Fe 2 O 3 is more than 5 mol%, there is a lack of balance in the glass composition, on the contrary, the thermal stability of the glass is impaired, and as a result, the glass is easily devitrified.

SiO2, Al2O3는 유리의 내후성을 향상시키는 성분이다. 그 함유량은 합량으로 0~15몰%가 바람직하고, 0~10몰%가 보다 바람직하다. 이들 성분의 합량이 15몰%보다 많으면 유리의 연화점이 지나치게 높아져서 500℃ 이하의 저온에서 봉착하는 것이 곤란해진다. 특히, SiO2의 함유량은 0~10몰%가 바람직하고, 0~5몰%가 보다 바람직하다. Al2O3의 함유량은 0~5몰%가 바람직하고, 0~2몰%가 보다 바람직하다.SiO 2, Al 2 O 3 is a component for improving weather resistance of the glass. As for the content, 0-15 mol% is preferable in total, and 0-10 mol% is more preferable. When the total amount of these components is more than 15 mol%, the softening point of glass becomes too high and it becomes difficult to seal at low temperature below 500 ° C. In particular, the content of SiO 2 is 0 to 10 mol% is preferred, more preferably 0 to 5 mol%. The content of Al 2 O 3 is preferably 0 to 5 mol%, more preferably 0 to 2 mol%.

WO3는 유리의 실투를 억제하기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~5몰%가 바람직하며, 0~2몰%가 보다 바람직하다. 비스무트계 유리에 있어서, 유리의 연화점을 저하시키기 위해서는 Bi2O3의 함유량을 많게 할 필요가 있지만, Bi2O3의 함유량이 많아지면 소성 중에 유리로부터 결정이 석출되어 유리의 유동성이 저해된다. 특히, Bi2O3의 함유량이 40몰% 이상인 경우에 그 경향이 현저해진다. 그러나, 비스무트계 유리에 있어서, WO3를 적당하게 첨가하면 Bi2O3의 함유량이 40몰% 이상이어도 유리의 열적 안정성이 저하되기 어려워진다. 다만, WO3의 함유량이 5몰%보다 많아지면 유리 조성 내의 밸런스가 결여되어 반대로 유리의 열적 안정성이 손상되고, 그 결과 유리가 실투되기 쉬워진다. WO 3 is a component for suppressing devitrification of the glass, the content of which is preferably 0 to 5 mol%, more preferably 0 to 2 mol%. In the bismuth-based glass, in order to lower the softening point of the glass is determined to precipitate from the glass during the ground is necessary to increase the content of Bi 2 O 3, more when the content of Bi 2 O 3 but sintering the flowability of the glass is inhibited. In particular, this tendency becomes remarkable when less than the content of Bi 2 O 3 40 mol%. However, in bismuth-based glass, when WO 3 is suitably added, even if the content of Bi 2 O 3 is 40 mol% or more, the thermal stability of the glass is less likely to be lowered. However, when the content of WO 3 is more than 5 mol%, there is a lack of balance in the glass composition, on the contrary, the thermal stability of the glass is impaired, and as a result, the glass is easily devitrified.

Sb2O3는 유리의 실투를 억제하기 위한 성분이고, 그 함유량은 0~5몰%가 바람직하며, 0~2몰%가 보다 바람직하다. Sb2O3는 비스무트계 유리의 네트워크 구조를 안정화시키는 효과가 있고, 비스무트계 유리에 Sb2O3를 적당하게 첨가함으로써 Bi2O3의 함유량이 40몰% 이상이어도 유리의 열적 안정성이 저하되기 어려워진다. 다만, Sb2O3의 함유량이 5몰%보다 많아지면 유리 조성 내의 밸런스가 결여되어 반대로 유리의 열적 안정성이 손상되고, 그 결과 유리가 실투되기 쉬워진다.Sb 2 O 3 is a component for inhibiting the devitrification of the glass, the content thereof is preferably 0 to 5 mol%, 0-2 mol% is more preferable. Sb 2 O 3 has an effect of stabilizing the network structure of bismuth-based glass, and by adding Sb 2 O 3 to bismuth-based glass appropriately, the thermal stability of the glass is lowered even if the content of Bi 2 O 3 is 40 mol% or more. Becomes difficult. However, when the content of Sb 2 O 3 is more than 5 mol%, there is a lack of balance in the glass composition, and conversely, the thermal stability of the glass is impaired, and as a result, the glass is easily devitrified.

In2O3, Ga2O3는 필수 성분은 아니지만, 유리의 실투를 억제하기 위한 성분이고, 그 함유량은 합량으로 0~5몰%가 바람직하고, 0.1~3몰%가 보다 바람직하다. In2O3, Ga2O3는 비스무트계 유리의 네트워크 구조를 안정화시키는 효과가 있고, 비스무트계 유리에 In2O3, Ga2O3를 적당하게 첨가함으로써 Bi2O3의 함유량이 40몰% 이상이어도 유리의 열적 안정성이 저하되기 어려워진다. 다만, In2O3, Ga2O3의 함유량이 5몰%보다 많아지면 유리 조성 내의 밸런스가 결여되어 반대로 유리의 열적 안정성이 손상되고, 그 결과 유리가 실투되기 쉬워진다. 또한, In2O3의 함유량은 0~5몰%가 보다 바람직하고, Ga2O3의 함유량은 0~2몰%가 보다 바람직하다. In 2 O 3, Ga 2 O 3 is an essential component, but, a component for inhibiting the devitrification of the glass, its content is in the range of 0 to 5 mol% in total amount is preferable, more preferably 0.1 to 3 mol%. In 2 O 3 and Ga 2 O 3 have an effect of stabilizing the network structure of bismuth-based glass, and the content of Bi 2 O 3 is 40 mol by appropriately adding In 2 O 3 and Ga 2 O 3 to the bismuth-based glass. Even if it is more than%, the thermal stability of glass will become difficult to fall. However, when the content of In 2 O 3 and Ga 2 O 3 is more than 5 mol%, the balance in the glass composition is insufficient, on the contrary, the thermal stability of the glass is impaired, and as a result, the glass is easily devitrified. In addition, the content of In 2 O 3 is 0 to 5 mol%, and more preferably, it is the content of Ga 2 O 3 is more preferably 0 to 2 mol%.

Li, Na, K 및 Cs의 산화물은 유리의 연화점을 낮게 하는 성분이지만, 용융시에 유리의 실투를 촉진시키는 작용을 갖기 때문에 합량으로 2몰% 이하인 것이 바람직하다.Oxides of Li, Na, K and Cs are components which lower the softening point of the glass, but are preferably 2 mol% or less in total because they have the function of promoting the devitrification of the glass at the time of melting.

P2O5는 용융시의 실투를 억제하는 성분이지만, 첨가량이 1몰%보다 많으면 용융시에 유리가 분상되기 쉽기 때문에 바람직하지 않다.P 2 O 5 is a component, but of suppressing devitrification at the time of melting is not preferred because it is easy to be added amount is more than 1 mol%, the glass phase separation in the melting.

MoO3, La2O3, Y2O5, CeO2 및 Gd2O3는 용융시에 유리의 분상을 억제하는 성분이지만 이들 합량이 3몰%보다 많으면 유리의 연화점이 높아지고, 500℃ 이하의 온도에서 소성하기 어려워진다. MoO 3 , La 2 O 3 , Y 2 O 5 , CeO 2 and Gd 2 O 3 are components that suppress the phase separation of glass at the time of melting, but when the total amount is more than 3 mol%, the softening point of the glass becomes high and is 500 ° C. or less. It becomes difficult to bake at temperature.

또한, 그 밖의 성분이어도 유리의 특성을 손상시키지 않는 범위에서 5몰%까지 첨가할 수 있다.Moreover, even if it is another component, it can add to 5 mol% in the range which does not impair the characteristic of glass.

이상의 유리 조성을 갖는 비스무트계 유리는 500℃ 이하의 온도에서 양호한 유동성을 나타내는 비결정성(비정질)의 유리이고, 30~300℃에 있어서의 열팽창계수가 약 100~120×10-7/℃이다.Bismuth type glass which has the above glass composition is amorphous (amorphous) glass which shows favorable fluidity at the temperature of 500 degrees C or less, and the thermal expansion coefficient in 30-300 degreeC is about 100-120x10 <-7> / degreeC .

본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 PbO를 함유하는 형태를 배제하는 것은 아니지만, 상술한 바와 같이, 환경 상의 이유에서 PbO는 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 유리에 PbO를 함유시키면 유리 중에 존재하는 Pb2 +가 확산 되어서 전기절연성을 저하시키는 경우가 있다.Although the bismuth type sealing material of this invention does not exclude the form containing PbO, it is preferable that PbO does not contain substantially for environmental reasons as mentioned above. Further, if the glass contains PbO in some cases to be spread is Pb 2 + present in the glass deteriorate the electrical insulating properties.

본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 비스무트계 유리의 결정화 온도를 T1(℃)로 하고, 비스무트계 봉착 재료의 결정화 온도를 T2(℃)로 했을 때에 T2-T1≥5℃의 관계를 만족시키는 것이 바람직하고, T2-T1≥7℃의 관계를 만족시키는 것이 보다 바람직하며, T2-T1≥10℃의 관계를 만족시키는 것이 더욱 바람직하다. T2-T1<5℃이면 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성을 향상시키는 효과가 얻기 어려워져, 예를 들면 500℃ 30분으로 소성했을 때에 유리가 실투되기 쉬워진다.The bismuth-based sealing material of the present invention has a relationship of T 2 -T 1 ≥ 5 ° C when the crystallization temperature of the bismuth-based glass material is T 1 (° C) and the crystallization temperature of the bismuth-based sealing material is T 2 (° C). it is desirable to satisfy, and more preferably satisfies the relationship of T 2 -T 1 ≥7 ℃, it is more preferable to satisfy a relation of T 2 -T 1 ≥10 ℃. If T 2 -T 1 <5 ° C, the effect of improving the thermal stability of the bismuth-based sealing material becomes difficult to be obtained, and glass is easily devitrified when fired at 500 ° C for 30 minutes, for example.

본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 전자 부품 또는 평면 표시 장치의 봉착에 사용하는 것이 바람직하다. 전자 부품은 고온에서 특성이 열화되는 부재를 사용하는 경우가 있다. 그 경우, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 저온에서 봉착할 수 있기 때문에 내열성이 부족한 부재의 특성을 열화시키는 일이 없어 적합하다. 또한, 전자 부품의 봉착을 고온에서 행했다고 하여도 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 열적 안정성이 뛰어나기 때문에 봉착 공정에서 유리의 실투를 억지할 수 있다. 평면 표시 장치는 가능한 한 저온에서 봉착할 수 있으면 그만큼 제조 효율이 향상됨과 아울러, 형광체 등의 다른 부재의 변질을 방지할 수 있다. 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 저온에서 봉착할 수 있기 때문에 평면 표시 장치에 적합하다. 또한, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 평면 표시 장치의 봉착을 고온에서 행했다고 하여도 열적 안정성이 뛰어나기 때문에 봉착 공정에서 유리의 실투를 방지할 수 있다.It is preferable to use the bismuth sealing material of this invention for sealing an electronic component or a flat-panel display apparatus. Electronic components may use a member whose properties deteriorate at high temperatures. In that case, since the bismuth type sealing material of this invention can be sealed at low temperature, it does not deteriorate the characteristic of the member which lacks heat resistance, and is suitable. Moreover, even if sealing of an electronic component is performed at high temperature, since the bismuth type sealing material of this invention is excellent in thermal stability, devitrification of glass can be suppressed in a sealing process. If the flat display device can be sealed at a low temperature as much as possible, the manufacturing efficiency can be improved, and the deterioration of other members such as phosphors can be prevented. Since the bismuth sealing material of this invention can be sealed at low temperature, it is suitable for a flat panel display device. In addition, the bismuth-based sealing material of the present invention is excellent in thermal stability even when the flat display device is sealed at a high temperature, so that devitrification of glass can be prevented in the sealing step.

본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 PDP의 봉착에 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 PDP의 제조 공정에 있어서, 500℃ 정도에서 1차 소성하여도 결정이 석출되는 일이 없고, 450~500℃의 2차 소성에서 양호하게 기밀 봉착할 수 있기 때문에 PDP의 제조 효율의 향상, 특성 향상에 기여할 수 있다.It is preferable to use the bismuth type sealing material of this invention for sealing of PDP. Since the bismuth-based sealing material of the present invention does not precipitate crystals even when the primary firing is performed at about 500 ° C. in the manufacturing process of the PDP, the bismuth sealing material can be satisfactorily sealed at the secondary firing at 450 ° C. to 500 ° C., so that the PDP It can contribute to the improvement of manufacturing efficiency and the improvement of properties.

비스무트계 유리 분말과 내화성 필러 분말을 혼합한 봉착 재료는 분말인 상태로 봉착 재료로서 사용해도 좋지만, 봉착 재료와 비히클을 균일하게 혼련해서 페이스트로서 사용하면 취급하기 쉽다. 비히클은 주로 유기 용매와 수지로 이루어지고, 수지는 페이스트의 점성을 조정할 목적으로 첨가된다. 또한, 필요에 따라서 계면활성제, 증점제 등을 첨가할 수도 있다. 제작된 페이스트는 디스펜서나 스크린 인쇄기 등의 도포기를 이용하여 도포된다.Although the sealing material which mixed bismuth type glass powder and fire-resistant filler powder may be used as a sealing material in the state of powder, it is easy to handle when the sealing material and vehicle are uniformly kneaded and used as a paste. The vehicle consists mainly of an organic solvent and a resin, and the resin is added for the purpose of adjusting the viscosity of the paste. Moreover, surfactant, a thickener, etc. can also be added as needed. The prepared paste is applied using an applicator such as a dispenser or a screen printing machine.

유기 용매로서는 N,N'-디메틸포름아미드(DMF), α-터피네올, 고급 알코올, γ-부틸락톤(γ-BL), 테트랄린, 부틸칼비톨아세테이트, 아세트산 에틸, 아세트산 이소아밀, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 벤질알코올, 톨루엔, 3-메톡시-3-메틸부탄올, 물, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜디메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노부틸에테르, 트리프로필렌글리모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌카보네이트, 디메틸술폭시드(DMSO), N-메틸-2-피롤리돈 등을 사용할 수 있다. 특히, α-터피네올은 고점성이고, 수지 등의 용해성도 양호하기 때문에 바람직하다. Examples of the organic solvent include N, N'-dimethylformamide (DMF), α-terpineol, higher alcohols, γ-butyllactone (γ-BL), tetralin, butyl carbitol acetate, ethyl acetate, isoamyl acetate, Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, benzyl alcohol, toluene, 3-methoxy-3-methylbutanol, water, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monomethyl Ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene carbonate, dimethyl sulfoxide (DMSO), N-methyl-2-pyrrolidone and the like can be used. In particular, α-terpineol is preferable because of its high viscosity and good solubility such as resin.

수지로서는 아크릴 수지, 에틸셀룰로오스, 폴리에틸렌글리콜 유도체, 니트로 셀루로오스, 폴리메틸스티렌, 폴리에틸렌카보네이트, 메타크릴산 에스테르 등을 사용할 수 있다. 특히, 아크릴 수지, 니트로셀룰로오스는 열분해성이 양호하기 때문에 바람직하다.As the resin, acrylic resin, ethyl cellulose, polyethylene glycol derivatives, nitro cellulose, polymethyl styrene, polyethylene carbonate, methacrylic acid ester and the like can be used. In particular, acrylic resins and nitrocelluloses are preferred because of their good thermal decomposition.

실시예 1Example 1

이하, 실시예에 기초하여 본 발명을 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail based on an Example.

표 1~3에 기재된 각 시료(A~O)는 다음과 같이 해서 조제했다.Each sample (A-O) of Tables 1-3 was prepared as follows.

우선, 표 1~3에 나타낸 유리 조성으로 되도록 각종 산화물, 탄산염 등의 원료를 조합한 유리 배치를 준비하고, 이것을 백금 도가니에 넣어서 900~1000℃에서 1~2시간 용융했다. 다음에, 용융 유리의 일부를 압봉식 열팽창 측정(TMA) 장치용 샘플로서 스테인레스제의 금형에 흘려보내고, 그 밖의 용융 유리는 수냉 롤러에 의해 박편 형상으로 성형했다. 또한, 열팽창계수 측정용 샘플은 성형 후에 소정의 서냉 처리(어닐)를 행했다. 마지막으로, 박편 형상의 유리를 볼밀로 분쇄 후에 체눈 75㎛의 체를 통과시켜서 평균 입경 약 10㎛의 각 시료를 얻었다.First, the glass batch which combined the raw materials, such as various oxides and carbonates, was prepared so that it might become the glass composition shown in Tables 1-3, it put in the platinum crucible and melted at 900-1000 degreeC for 1-2 hours. Next, a part of molten glass was sent to the metal mold | die made as a sample for a push-type thermal expansion measurement (TMA) apparatus, and the other molten glass was shape | molded in flake shape by the water cooling roller. In addition, the sample for thermal expansion coefficient measurement performed predetermined slow cooling process (annealing) after shaping | molding. Finally, the flake-shaped glass was pulverized with a ball mill and passed through a sieve of 75 mu m in diameter to obtain each sample having an average particle diameter of about 10 mu m.

이상의 시료를 이용하여 열팽창계수, 유리전이점, 연화점 및 실투 상태를 평가했다. 그 결과를 표 1~3에 나타낸다.The thermal expansion coefficient, glass transition point, softening point, and devitrification state were evaluated using the above sample. The results are shown in Tables 1-3.

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연화점은 분말 시료를 이용하여 시차열 분석(DTA) 장치에 의해 구했다.Softening point was calculated | required by the differential thermal analysis (DTA) apparatus using the powder sample.

유리전이점 및 열팽창계수는 TMA 장치에 의해 구했다. 열팽창계수는 30~300℃의 온도 범위에서 측정했다.The glass transition point and the coefficient of thermal expansion were obtained by TMA apparatus. The thermal expansion coefficient was measured in the temperature range of 30-300 degreeC.

표 1~3의 시료(A~O)는 분말 가압 성형체를 소성로에서 500℃ 30분 유지시킨 후에 광학현미경(배율 100배)을 이용하여 시료의 표면 결정을 육안으로 관찰함으로써 실투 상태를 평가했다. 실투가 확인되지 않았던 것을 「○」, 실투가 확인된 것을 「×」로 했다. 또한, 승강온 속도는 10℃/분으로 했다.The samples (A to O) of Tables 1 to 3 evaluated the devitrification state by visually observing the surface crystals of the samples using an optical microscope (100x magnification) after maintaining the powder press-formed body in a firing furnace at 500 ° C for 30 minutes. "(Circle)" that the devitrification was not confirmed was made into "x" that the devitrification was confirmed. In addition, the temperature increase / speed rate was 10 degree-C / min.

표 1~3의 시료(A~M)는 유리전이점이 335~375℃, 연화점이 392~442℃이고, 저융점 특성을 갖고 있었다. 또한 시료(A~M)는 열팽창계수가 103~119×10-7/℃이었다. 또한, 시료(A~M)는 실투 상태의 평가가 양호하고, 양호한 열적 안정성을 구비하고 있었다.The samples (A-M) of Tables 1-3 had a glass transition point of 335-375 degreeC, a softening point of 392-442 degreeC, and had low melting-point characteristic. In addition, samples A-M had a thermal expansion coefficient of 103-119x10 <-7> / degreeC. Moreover, evaluation of the devitrification state was favorable for the samples A-M, and were equipped with favorable thermal stability.

표 3의 시료(N)는 유리전이점이 389℃, 연화점이 480℃이고, 실시예의 유리 시료와 비교하여 고융점이었다. 표 3의 시료(O)는 실투 상태의 평가가 불량하고, 열적 안정성이 부족했다.The sample N of Table 3 had a glass transition point of 389 degreeC and a softening point of 480 degreeC, and was high melting | fusing point compared with the glass sample of an Example. The sample (O) of Table 3 had poor evaluation of the devitrification state, and lacked thermal stability.

표 1~3의 유리 분말 시료(A~M)와 표 중 소정의 내화성 필러 분말을 혼합하여 표 4~6에 나타내는 비스무트계 봉착 재료를 얻었다. 표 4, 5의 시료(No.1~10)는 실시예를 나타내고, 표 6의 시료(No.11~15)는 비교예를 나타내고 있다. 시료(No.1~15)에 대해서 열팽창계수, 연화점, 유동 지름 및 열적 안정성을 평가했다. 또한, 열팽창계수, 연화점은 상기 유리 시료의 경우와 같은 방법으로 측정했다.The glass powder samples (A-M) of Tables 1-3 and the predetermined fire-resistant filler powder in the table were mixed, and the bismuth type sealing material shown in Tables 4-6 was obtained. Samples No. 1 to 10 of Tables 4 and 5 represent examples, and Samples No. 11 to 15 of Table 6 show comparative examples. The thermal expansion coefficient, the softening point, the flow diameter, and the thermal stability of the samples (Nos. 1 to 15) were evaluated. In addition, the thermal expansion coefficient and the softening point were measured by the same method as the case of the said glass sample.

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표 4~6에 나타낸 비스무트계 봉착 재료에 사용한 내화성 필러 분말은 이하와 같이 제작했다. 윌레마이트는 아연화, 순규분, 산화 알루미늄을 중량%로 ZnO 70%, SiO2 25%, Al2O3 5%의 조성이 되도록 조합하고, 혼합 후에 1440℃에서 15시간 소성하고, 이어서 이 소성물을 분쇄하여 소정의 입도를 갖는 분말을 얻었다. 코디어라이트는 산화마그네슘, 산화알루미늄, 순규분을 2MgO·2Al2O3·5SiO2의 비율이 되도록 조합하고, 혼합 후에 1400℃에서 10시간 소성하고, 이어서 이 소성물을 분쇄하여 소정의 입도를 갖는 분말을 얻었다. β-유크립타이트는 SiO2 74.3중량%, Al2O3 21.0중량%, Li2O 1.7중량%가 되도록 배치 성분을 혼합하고, 1650℃에서 3시간 용융했다. 이어서 용융 유리 분쇄 후에 소정의 결정핵을 첨가하고, 1100℃에서 7시간 소성한 후에 얻어진 소성물을 분쇄하여 소정의 입도를 갖는 분말을 얻었다. β-석영 고용체는 SiO2 46.5중량%, Al2O3 23.3중량%, ZnO 23.3중량%, ZrO2 6.9중량%가 되도록 배치 성분을 혼합하고, 1550℃에서 3시간 용융했다. 이어서 용융 유리 분쇄 후에 소정의 결정핵을 첨가하고, 900℃에서 2시간 소성한 후에 얻어진 소성물을 분쇄하여 소정의 입도를 갖는 분말을 얻었다. 인산 지르코늄은 ZrOC12·8H2O와 인산의 수용액을 소정의 몰비로 혼합 후에 생성 침전물을 1400℃에서 소성한 후에 얻어진 소성물을 분쇄, 분급하여 소정의 입도를 갖는 분말을 얻었다.The fire resistant filler powder used for the bismuth type sealing material shown to Tables 4-6 was produced as follows. Willemite is combined with zinc oxide, pure silicon, aluminum oxide in a weight percent of 70% ZnO, 25% SiO 2 , and 5% Al 2 O 3 , and then calcined at 1440 ° C. for 15 hours after mixing. Was ground to obtain a powder having a predetermined particle size. Cordierite combines magnesium oxide, aluminum oxide and pure silicon in a ratio of 2MgO.2Al 2 O 3 .5SiO 2 , and after mixing, calcining at 1400 ° C. for 10 hours, and then pulverizing the fired product to obtain a predetermined particle size. Powder was obtained. β- -eucryptite is SiO 2 74.3, and mixing the batch composition so that the weight%, Al 2 O 3 21.0% by weight, Li 2 O 1.7% by weight, was melted at 1650 ℃ 3 hours. Subsequently, predetermined crystal nuclei were added after fusion of the molten glass, and the fired product obtained after firing at 1100 ° C. for 7 hours was pulverized to obtain a powder having a predetermined particle size. β-quartz solid solution is 46.5% by weight of SiO 2 , 23.3% by weight of Al 2 O 3, 23.3% by weight of ZnO, ZrO 2 The batch components were mixed so as to be 6.9% by weight, and melted at 1550 ° C for 3 hours. Subsequently, predetermined crystal nuclei were added after melting glass pulverization, and the baked material obtained after baking for 2 hours at 900 degreeC was pulverized and the powder which has a predetermined particle size was obtained. Zirconium phosphate is 12 · 8H 2 O and crushed ZrOC the fired product obtained after the firing of an aqueous solution of phosphoric acid to precipitate after mixed with a predetermined molar ratio at 1400 ℃, classified to obtain a powder having a desired particle size of the.

내화성 필러의 입도 분포는 레이저 회절산란법을 사용한 측정 장치(시마즈세이사쿠쇼제 SALD2000)로 측정했다.The particle size distribution of the fire resistant filler was measured by the measuring apparatus (SALD2000 by Shimadzu Corporation) which used the laser diffraction scattering method.

내화성 필러의 비표면적은 BET 비표면적 측정 장치로 측정했다.The specific surface area of the fire resistant filler was measured by the BET specific surface area measuring device.

유동 지름은 각 시료의 합성 밀도에 상당하는 중량의 분말을 금형에 의해 외경 20㎜의 버튼 형상으로 건식 프레스하고, 이것을 40㎜×40㎜×2.8㎜ 두께의 고왜점 유리 기판 상에 적재하고, 공기 중에서 10℃/분의 속도로 승온시킨 후에 표 5~8에 기재된 소성 조건으로 소성한 뒤에 실온까지 10℃/분으로 강온하여 얻어진 버튼의 직경을 측정함으로써 평가했다. 또한, 합성 밀도란, 유리의 밀도와 내화물 필러의 밀도를 소정의 체적비로 혼합시켜서 산출되는 이론 상의 밀도이다. 또한, 유동 지름이 19㎜ 이상이면 시험한 소성 조건으로 양호하게 봉착할 수 있는 것을 의미한다.The flow diameter is dry pressed into a button shape having an outer diameter of 20 mm by means of a mold with a powder having a weight corresponding to the synthesis density of each sample, which is loaded onto a high strain glass substrate having a thickness of 40 mm x 40 mm x 2.8 mm, and air. It heated and heated at the speed of 10 degree-C / min, and after baking at the baking conditions of Tables 5-8, it evaluated by measuring the diameter of the button obtained by temperature-falling to 10 degreeC / min to room temperature. In addition, a synthetic density is a theoretical density computed by mixing the density of glass and the density of a refractory filler in a predetermined volume ratio. Moreover, when a flow diameter is 19 mm or more, it means that it can seal favorably on the baking conditions tested.

열적 안정성은 비스무트계 유리의 결정화 온도를 T1(℃)로 하고, 비스무트계 봉착 재료의 결정화 온도를 T2(℃)로 했을 때에 ΔT=T2-T1의 값을 나타내고 있다. 또한, 결정화 온도란, 시차열 분석 장치로 결정 석출에 의한 발열 피크가 검출되는 온도를 가리킨다. 또한, 시차열 분석은 실온으로부터 10℃/분으로 승온을 행하고, 분위기는 공기 분위기이다. ΔT>0인 경우, 내화성 필러의 첨가에 의해 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성이 향상된 것을 의미하고 있다. ΔT<0인 경우, 내화성 필러의 첨가에 의해 비스무트계 유리의 열적 안정성이 악화된 것을 의미하고 있다.Thermal stability indicates the value of when the crystallization temperature of the crystallization temperature of bismuth-based glass as T 1 (℃), and bismuth-based sealing material as T 2 (℃) ΔT = T 2 -T 1. In addition, a crystallization temperature refers to the temperature which the exothermic peak by crystal precipitation is detected with a differential thermal analyzer. In addition, differential thermal analysis heats up at 10 degree-C / min from room temperature, and atmosphere is an air atmosphere. When ΔT> 0, it means that the thermal stability of the bismuth-based sealing material is improved by the addition of the refractory filler. When ΔT <0, it means that the thermal stability of bismuth type glass deteriorated by addition of a fire resistant filler.

표 4, 5의 시료(No.1~10)는 연화점이 402~445℃이고, 500℃ 이하의 온도에서 양호하게 유동하는 정도의 저융점 특성을 갖고 있었다. 또한, 시료(No.1~10)는 열팽창계수가 66.7~72.0×10-7/℃이고, 고왜점 유리 등에 적합한 열팽창계수를 구비하고 있었다. 또한, 시료(No.1~10)는 표 중의 소성 조건에서 유동 지름이 19.5~21.5㎜이고, 500℃ 이하의 온도에서 봉착할 수 있는 정도의 저융점 특성을 구비하고 있었다. 또한, 표 4, 5의 시료(No.1~10)는 ΔT가 7~26℃이고, 내화성 필러의 첨가에 의해 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성이 향상되었다.The samples (Nos. 1 to 10) of Tables 4 and 5 had a softening point of 402 to 445 ° C, and had a low melting point characteristic of flowing well at a temperature of 500 ° C or less. In addition, the samples (No. 1 to 10) had a coefficient of thermal expansion of 66.7 to 72.0 × 10 −7 / ° C. and had a coefficient of thermal expansion suitable for high strain glass or the like. In addition, the samples (Nos. 1 to 10) had a low-melting point characteristic such that the flow diameter was 19.5 to 21.5 mm under the firing conditions in the table, and that they could be sealed at a temperature of 500 ° C or lower. In addition, the sample (No. 1-10) of Tables 4 and 5 has (DELTA) T 7-26 degreeC, and the thermal stability of the bismuth type sealing material improved by addition of a fire resistant filler.

표 6의 시료(No.11~15)는 연화점이 391~434이고, 열팽창계수가 67.1~73.3×10-7/℃이며, 표 중 소정의 소성 조건에서 유동 지름이 20.5~21.5㎜이었다. 그러나, 시료(No.11~14)는 내화성 필러의 조성을 소정 범위로 규제하지 않았기 때문에 ΔT가 -13~-6℃이고, 내화성 필러의 첨가에 의해 비스무트계 유리의 열적 안정성이 악화되었다. 시료 No.15는 내화성 필러 중, 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율을 소정범위로 규제하지 않았기 때문에 ΔT가 4℃로 작은 값이 되고, 내화성 필러의 첨가에 의해 비스무트계 봉착 재료의 열적 안정성이 그다지 향상되지 않았다.The samples (Nos. 11 to 15) of Table 6 had a softening point of 391 to 434, a coefficient of thermal expansion of 67.1 to 73.3 × 10 −7 / ° C., and a flow diameter of 20.5 to 21.5 mm under predetermined firing conditions in the table. However, since samples (No. 11-14) did not regulate the composition of a refractory filler in the predetermined range, (DELTA) T was -13--6 degreeC, and the thermal stability of bismuth type glass worsened by addition of a refractory filler. Since sample No. 15 did not regulate the ratio of the particle | grains of 5 micrometers or less in a refractory filler to a predetermined range, (DELTA) T turns into a small value as 4 degreeC, and the thermal stability of a bismuth type sealing material is improved by addition of a refractory filler. Not much improved.

이상의 설명으로부터 분명하게 나타나 있는 바와 같이, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 광범위한 온도 범위에 있어서 양호한 유동성을 얻을 수 있기 때문에, 그 밖의 용도, 즉 복수의 열처리 공정을 거치는 전자 부품 및 평면 표시 장치의 봉착, 피복 등에 적확하게 대처할 수 있을 뿐만 아니라, 고온의 열처리 공정을 거치는 전자 부품 및 평면 표시 장치의 봉착, 피복 등에 적확하게 대처할 수 있다. 구체적으로는, 본 발명의 비스무트계 봉착 재료는 필드에미션 디스플레이(FED) 등의 평면 표시 장치의 봉착 용도, 음극선관(CRT) 등의 디스플레이의 봉착 용도, 형광 표시관(VFD), PDP 등의 절연 유전체층 형성 용도, PDP의 배리어 리브 용도, 자기헤드―코어끼리 또는 코어와 슬라이더의 봉착 용도, 수정진동자나 IC패키지 등의 전자 부품의 봉착에 적합하다.As apparent from the above description, since the bismuth-based sealing material of the present invention can obtain good fluidity over a wide range of temperatures, it is used for other applications, that is, sealing of electronic components and flat display devices subjected to a plurality of heat treatment steps. In addition, the present invention can cope with the coating and the like accurately, and can also cope with the sealing and coating of the electronic component and the flat display device subjected to the high temperature heat treatment process. Specifically, the bismuth-based sealing material of the present invention is used for sealing a flat display device such as a field emission display (FED), for sealing a display such as a cathode ray tube (CRT), a fluorescent display tube (VFD), or a PDP. It is suitable for the formation of an insulating dielectric layer, the use of barrier ribs in PDPs, the use of magnetic head-cores or the sealing of cores and sliders, and the sealing of electronic components such as quartz crystal oscillators and IC packages.

Claims (12)

비스무트계 유리와 내화성 필러를 함유하는 비스무트계 봉착 재료에 있어서:In a bismuth-based sealing material containing bismuth-based glass and a fire resistant filler: 비스무트계 유리는, 유리 조성으로서 하기 산화물 환산의 몰% 표시로 Bi2O3 30~60%, B2O3 10~40%, ZnO 10~50%, BaO+SrO+MgO+CaO 0~15%, CuO 0~10%, Fe2O3 0~5%, SiO2+Al2O3 0~15%, WO3 0~5%, Sb2O3 0~5%, In2O3+Ga2O3 0~5%를 함유하고,The bismuth-based glass is represented by the mole% in the following oxide conversion as a glass composition: Bi 2 O 3 30 to 60%, B 2 O 3 10 to 40%, ZnO 10 to 50%, BaO + SrO + MgO + CaO 0 to 15 %, CuO 0-10%, Fe 2 O 3 0-5%, SiO 2 + Al 2 O 3 0-15%, WO 3 0-5%, Sb 2 O 3 0-5%, In 2 O 3 + Ga 2 O 3 0-5%, 내화성 필러는, 코디어라이트가 석출된 결정물이고, 조성으로서 하기 산화물 환산의 중량% 표시로 SiO2 30~100%, Al2O3 0~45%, ZnO 0~35%, ZrO2 0~20%, TiO2 0~20%, Li2O 0~10%, MgO 0~25%를 함유하고, 또한 내화성 필러 중 입자 지름 5㎛ 이하의 입자의 비율이 15~70%인 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The refractory filler is a crystal in which cordierite is precipitated, and as a composition, SiO 2 30 to 100%, Al 2 O 3 0 to 45%, ZnO 0 to 35%, ZrO 2 0 to 20%, TiO 2 0-20%, Li 2 O 0-10%, MgO 0-25%, and the proportion of particles having a particle diameter of 5 μm or less in the refractory filler is 15-70%. Bismuth-based sealing material. 제 1 항에 있어서, 상기 내화성 필러의 비표면적이 0.5~4.0㎡/g인 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth-based sealing material according to claim 1, wherein the specific surface area of the fire resistant filler is 0.5 to 4.0 m 2 / g. 삭제delete 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 체적% 표시로 비스무트계 유리 40~95%, 내화성 필러 5~60%를 함유하는 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth-based sealing material according to claim 1 or 2, wherein the bismuth-based sealing material contains 40 to 95% of bismuth-based glass and 5 to 60% of a refractory filler in the volume% display. 삭제delete 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, PbO를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth-based sealing material according to claim 1 or 2, which does not contain PbO. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 비스무트계 유리의 결정화 온도를 T1(℃)으로 하고, 비스무트계 봉착 재료의 결정화 온도를 T2(℃)로 했을 때에 T2-T1≥5℃의 관계를 만족시키는 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The method of claim 1 or 2, wherein the bismuth-based crystallization temperature to the crystallization temperature of T 1 (℃) and the bismuth-based sealing material of the glass when a T 2 (℃) T 1 -T 2 of ≥5 ℃ A bismuth sealing material characterized by satisfying the relationship. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 내화성 필러의 10% 입자 지름(D10)이 0.3~5.5㎛인 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth-based sealing material according to claim 1 or 2, wherein the 10% particle diameter (D 10 ) of the refractory filler is 0.3 to 5.5 µm. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 내화성 필러의 90% 입자 지름(D90)이 8~45㎛인 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth-based sealing material according to claim 1 or 2, wherein the 90% particle diameter (D 90 ) of the refractory filler is 8 to 45 µm. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 전자 부품 또는 평면 표시 장치의 봉착에 사용하는 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth sealing material according to claim 1 or 2, which is used for sealing an electronic component or a flat panel display device. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 플라즈마 디스플레이의 봉착에 사용하는 것을 특징으로 하는 비스무트계 봉착 재료.The bismuth sealing material according to claim 1 or 2, which is used for sealing a plasma display. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 비스무트계 봉착 재료와, 용제와, 수지를 함유하는 것을 특징으로 하는 비스무트계 페이스트 재료.The bismuth type sealing material of Claim 1 or 2, a solvent, and resin are contained, The bismuth type paste material characterized by the above-mentioned.
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