JP4972954B2 - Bismuth-based glass composition and bismuth-based sealing material - Google Patents

Bismuth-based glass composition and bismuth-based sealing material Download PDF

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Description

本発明は、電子部品およびディスプレイ等の封着、被覆等に好適なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料に関するものである。特に、本発明は、プラズマディスプレイパネルの封着に好適なビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料に関するものである。   The present invention relates to a bismuth-based glass composition and a bismuth-based sealing material that are suitable for sealing and covering electronic parts and displays. In particular, the present invention relates to a bismuth-based glass composition and a bismuth-based sealing material suitable for sealing a plasma display panel.

従来から電子部品およびディスプレイ等の封着材料としてガラスが用いられている。ガラスは、樹脂系の接着剤に比べ、化学的耐久性および耐熱性が優れるとともに、ディスプレイ等の気密性を確保するのに適している。   Conventionally, glass has been used as a sealing material for electronic parts and displays. Glass is excellent in chemical durability and heat resistance as compared with a resin-based adhesive, and is suitable for ensuring airtightness of a display or the like.

これらのガラスは、用途によっては機械的強度、流動性、電気絶縁性等様々な特性が要求されるが、少なくともディスプレイ等に使用される蛍光体の蛍光特性を劣化させない温度で使用可能であることが要求される。それゆえ、上記特性を満足するガラスとして、ガラスの融点を下げる効果が極めて大きいPbOを多量に含有する鉛硼酸系ガラス(例えば、特許文献1参照)が広く用いられてきた。   These glasses require various properties such as mechanical strength, fluidity, and electrical insulation depending on the application, but must be usable at least at temperatures that do not degrade the fluorescence properties of the phosphors used in displays. Is required. Therefore, as a glass that satisfies the above characteristics, lead borate glass (see, for example, Patent Document 1) containing a large amount of PbO that has an extremely large effect of lowering the melting point of the glass has been widely used.

ところが最近、鉛硼酸系ガラスに含まれるPbOに対して環境上の問題が指摘されており、鉛硼酸系ガラスからPbOを含まないガラスに置き換えることが望まれている。そのため、鉛硼酸系ガラスの代替品として、様々な低融点ガラスが開発されている。その中でも、特許文献2等に記載されているビスマス系ガラス(Bi23−B23系ガラスとも称される)は、化学耐久性、機械的強度等の諸特性において鉛硼酸系ガラスと同等の特性を有するため、その代替候補として期待されているが、流動性および熱的安定性等の特性において、依然として鉛硼酸系ガラスの特性に及ばないのが実情である。 Recently, however, environmental problems have been pointed out with respect to PbO contained in lead borate glass, and it is desired to replace lead borate glass with glass containing no PbO. Therefore, various low melting glass has been developed as a substitute for lead borate glass. Among them, the bismuth glass (also referred to as Bi 2 O 3 —B 2 O 3 glass) described in Patent Document 2 is a lead borate glass in various properties such as chemical durability and mechanical strength. Therefore, it is expected as an alternative candidate, but in reality, it does not reach the characteristics of lead borate glass in terms of fluidity and thermal stability.

ところで、プラズマディスプレイパネル(以下、PDPと称する)に使用される封着材料は、以下のような熱処理工程を経る。   By the way, the sealing material used for a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) undergoes the following heat treatment process.

まず、PDPの背面基板の外周辺部にビークル内に分散されたペースト状の封着材料を塗布し、高温でビークル成分を熱分解または焼却して、一次焼成(グレーズ工程、仮焼成工程とも称される)を行う。ここで、封着材料は、一般的に、封着ガラスとも称されるガラス粉末と耐火フィラー粉末を含有する複合体粉末であり、封着材料を均一に分散させるビークルは、有機溶媒や樹脂を含有している。また、ビークルに使用される樹脂は、ガラスの軟化点以下の温度で良好に熱分解するニトロセルロースまたはアクリル樹脂等が一般的に使用されている。封着材料とビークルは、三本ロールミル等の混練装置を用いて、均一に分散される。一次焼成は、封着材料に使用する樹脂が完全に熱分解する温度条件で行われ、仮に樹脂の熱分解が不完全であると、その後に供させる二次焼成(封着工程、シール工程とも称される)で封着材料内に樹脂の残渣が残存し、その結果、封着材料に失透または泡等のPDPの気密性を確保する上で致命的な欠陥を招来し得ることになる。   First, a paste-like sealing material dispersed in a vehicle is applied to the outer peripheral portion of the back substrate of the PDP, and the vehicle components are pyrolyzed or incinerated at a high temperature to perform primary firing (also called a glaze process or a pre-firing process). Do). Here, the sealing material is generally a composite powder containing a glass powder, also called a sealing glass, and a refractory filler powder, and the vehicle for uniformly dispersing the sealing material contains an organic solvent or a resin. Contains. Further, as the resin used for the vehicle, nitrocellulose or an acrylic resin that is thermally decomposed well at a temperature below the softening point of glass is generally used. The sealing material and the vehicle are uniformly dispersed using a kneading apparatus such as a three-roll mill. The primary firing is performed under a temperature condition in which the resin used for the sealing material is completely thermally decomposed. If the resin is incompletely thermally decomposed, the secondary firing (both sealing and sealing steps) to be provided thereafter is performed. As a result, a resin residue may remain in the sealing material, and as a result, a fatal defect may be caused in the sealing material to ensure the airtightness of the PDP such as devitrification or bubbles. .

次に、封着材料の二次焼成が行なわれ、PDPの前面基板と背面基板を封着する。最後に、排気管を通してPDP内部を真空排気した後、希ガスを必要量注入して排気管を封止する。このようにしてPDPは作製される。
特開昭63−315536号公報 特開2003−095697号公報
Next, secondary baking of the sealing material is performed, and the front substrate and the back substrate of the PDP are sealed. Finally, the inside of the PDP is evacuated through the exhaust pipe, and then a necessary amount of rare gas is injected to seal the exhaust pipe. In this way, the PDP is manufactured.
Japanese Unexamined Patent Publication No. Sho 63-315536 JP 2003-095597 A

特許文献2には、電子部品の封着、被覆等の用途に使用可能なビスマス系ガラス組成物が例示されている。しかし、このビスマス系ガラス組成物は、PbOを含有するガラスと比較して軟化点が高く、ガラスの流動性が乏しい。さらに、ガラスの熱的安定性が極めて乏しく、複数回の熱処理工程を経る用途に適用できない。   Patent Document 2 exemplifies a bismuth-based glass composition that can be used for applications such as sealing and coating electronic components. However, this bismuth-based glass composition has a higher softening point and poor glass fluidity than glass containing PbO. Furthermore, the thermal stability of the glass is extremely poor and cannot be applied to applications that undergo multiple heat treatment steps.

軟化点を低くするためには、主要成分であるBi23の含有量を多くする必要があるが、Bi23の含有量を多くすると、Bi23を構成成分とする結晶が焼成時に析出しやすく流動性が損なわれやすい。そのため、Bi23の含有量を多くするだけでは流動性が高くなりにくい。 In order to lower the softening point, it is necessary to increase the content of Bi 2 O 3 which is a main component. However, if the content of Bi 2 O 3 is increased, crystals containing Bi 2 O 3 as constituent components can be obtained. It tends to precipitate during firing and fluidity is likely to be impaired. Therefore, the fluidity is not easily increased only by increasing the content of Bi 2 O 3 .

本発明の第一の目的は、PbOを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の480℃以下の温度で焼成が可能であるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。   The first object of the present invention is to provide a bismuth-based glass composition and a bismuth-based sealing material which are substantially free of PbO and can be fired at a temperature equal to or lower than 480 ° C. equivalent to lead borate-based glass. That is.

また、PDPの製造工程において、作業の効率化のため蛍光体材料の一次焼成と封着材料の一次焼成は同時に行なわれる場合がある。一般的に、両材料の一次焼成温度を比較すると、蛍光体材料の焼成温度の方が高く480℃以上(500℃程度)である。そのため、封着材料の熱的安定性が低い場合、この時点で失透を起こし、その後の二次焼成(450〜480℃)での流動性が損なわれ、気密封着できないことがあった。   Further, in the PDP manufacturing process, the primary firing of the phosphor material and the primary firing of the sealing material may be performed at the same time in order to improve work efficiency. In general, when the primary firing temperatures of both materials are compared, the firing temperature of the phosphor material is higher and is 480 ° C. or higher (about 500 ° C.). For this reason, when the thermal stability of the sealing material is low, devitrification occurs at this point, and the fluidity in the subsequent secondary firing (450 to 480 ° C.) is impaired, and air-tight sealing may not be achieved.

本発明の第二の目的は、PbOを実質的に含有せず、PDPの製造工程において、500℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、450〜480℃の二次焼成で気密封着できるビスマス系ガラス組成物およびビスマス系封着材料を提供することである。   The second object of the present invention is substantially free of PbO, and does not devitrify or precipitate crystals even after primary firing at about 500 ° C. in the production process of PDP. It is to provide a bismuth-based glass composition and a bismuth-based sealing material that can be hermetically sealed by secondary firing at ° C.

本発明者は、ビスマス系ガラス組成物に0.01〜5モル%のSb23を添加することによって、軟化点を下げる成分であるBi23の含有量を多くしても、焼成中における結晶の析出が抑制されて、鉛硼酸系ガラスと同等の焼成温度で使用できることを見出し、本発明として提案するものである。 Even if the content of Bi 2 O 3 , which is a component that lowers the softening point, is increased by adding 0.01 to 5 mol% of Sb 2 O 3 to the bismuth-based glass composition, The inventors have found that the precipitation of crystals in the inside is suppressed and that it can be used at a firing temperature equivalent to that of lead borate glass, and is proposed as the present invention.

すなわち、本発明のビスマス系ガラス組成物は、下記酸化物基準モル%表示で、Bi23 30〜60%、B23 10〜35%、Sb23 0.01〜5%を含有することを特徴とする。 That is, the bismuth-based glass composition of the present invention represents Bi 2 O 3 30 to 60%, B 2 O 3 10 to 35%, and Sb 2 O 3 0.01 to 5% in terms of the following oxide reference mol%. It is characterized by containing.

また、本発明のビスマス系封着材料は、ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、モル%表示で、Bi23 30〜60%、B23 10〜35%、Sb23 0.01〜5%を含有するビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 40〜95体積%と、耐火性フィラー粉末 5〜60体積%とを含有することを特徴とする。 Further, the bismuth-based sealing material of the present invention is a sealing material containing glass powder and refractory filler powder, in terms of mol%, Bi 2 O 3 30 to 60%, B 2 O 3 10 to 35%, It contains 40 to 95% by volume of glass powder made of a bismuth-based glass composition containing 0.01 to 5% of Sb 2 O 3 and 5 to 60% by volume of refractory filler powder.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、Sb23を0.01〜5モル%添加することによって、ガラスの軟化点を低くする成分であるBi23の含有量を多くしても、焼成時における結晶の析出を抑制できる。そのため、流動性に優れ、PbOを実質的に含有しないにもかかわらず、鉛硼酸系ガラスと同等の480℃以下の温度で焼成することができる。さらに、本発明のビスマス系ガラス組成物は、Sb23を0.01〜5モル%添加することによって、PDPの製造工程において、480℃以上で一次焼成しても失透や結晶の析出を抑制できるとともに、450〜480℃において良好に気密封着できる。 Even if the content of Bi 2 O 3 , which is a component that lowers the softening point of glass, is increased by adding 0.01 to 5 mol% of Sb 2 O 3 in the bismuth-based glass composition of the present invention, Crystal precipitation during firing can be suppressed. Therefore, it is excellent in fluidity and can be fired at a temperature equal to or lower than 480 ° C., which is equivalent to that of lead borate glass, although it does not substantially contain PbO. Furthermore, the bismuth-based glass composition of the present invention can be added to 0.01 to 5 mol% of Sb 2 O 3 , so that devitrification and crystal precipitation occur even in the first firing at 480 ° C. or higher in the PDP manufacturing process. Can be suppressed and can be hermetically sealed at 450 to 480 ° C.

本発明のビスマス系封着材料は、流動性に優れ、PbOを実質的に含有しないにもかかわらず、鉛硼酸系封着材料と同等の480℃以下の温度で焼成することができる。また、本発明のビスマス系封着材料は、PDPの製造工程において、480℃以上の温度で一次焼成しても失透せず、その後に供される二次焼成で結晶が成長する事態を有効に回避でき、二次焼成で要求される流動性を確保することができる。さらに、本発明のビスマス系封着材料は、480℃以上の温度で一次焼成した後、450〜480℃の温度で二次焼成してもガラスに結晶が析出しないとともに、これらの低温の焼成であっても流動性が良好である。したがって、本発明のビスマス系封着材料は、極めて熱的安定性が高く、使用可能な温度範囲が極めて広範な非結晶性(非晶質とも称される)の封着材料といえる。   The bismuth-based sealing material of the present invention is excellent in fluidity and can be fired at a temperature equal to or lower than 480 ° C., equivalent to that of a lead boric acid-based sealing material, although it does not substantially contain PbO. Further, the bismuth-based sealing material of the present invention is effective in a situation where crystals are not devitrified even when subjected to primary firing at a temperature of 480 ° C. or higher in the PDP manufacturing process, and crystals are grown by secondary firing provided thereafter. And the fluidity required in the secondary firing can be ensured. Furthermore, the bismuth-based sealing material of the present invention does not precipitate crystals on the glass even after secondary firing at a temperature of 450 to 480 ° C. after primary firing at a temperature of 480 ° C. or higher. Even if it exists, fluidity | liquidity is favorable. Therefore, the bismuth-based sealing material of the present invention can be said to be a non-crystalline (also referred to as amorphous) sealing material having extremely high thermal stability and a very wide usable temperature range.

また、本発明のビスマス系封着材料は、流動性が極めて優れるため、基板ガラスと封着材料の界面における反応も十分に進行し、前面基板と背面基板の封着強度を著しく上昇させることができる。その結果、PDPの長期信頼性の維持に大きく寄与することができる。すなわち、本発明のビスマス系封着材料は、熱的安定性が優れるため、失透を起因とする流動性の低下を生じることがないとともに、ガラスの軟化点が低く、封着材料本来の良好な流動性を損なうことなく、最大限に発揮させることができる。特に、排気管と背面基板の封着においては、二次焼成においてビスマス系封着材料が良好に流動することにより、排気管の封着にとって的確な封着形状を形成することができ、結果として封着材料と排気管および封着材料と基板間の界面でクラックが発生する事態を可及的に抑止できる。このため、排気管を封着する目的において、鉛硼酸系封着材料を代替する封着材料には、ビスマス系封着材料の焼結体(タブレットとも称される)を使用する方法を採用する必要がなく、製造コスト、製造効率等の向上に大きく寄与することができる。   In addition, since the bismuth-based sealing material of the present invention has extremely excellent fluidity, the reaction at the interface between the substrate glass and the sealing material is sufficiently advanced, and the sealing strength between the front substrate and the rear substrate can be significantly increased. it can. As a result, it can greatly contribute to maintaining the long-term reliability of the PDP. That is, since the bismuth-based sealing material of the present invention has excellent thermal stability, it does not cause a decrease in fluidity due to devitrification, and has a low softening point of glass, which is inherently good for the sealing material. Can be maximized without sacrificing fluidity. In particular, in sealing the exhaust pipe and the back substrate, the bismuth-based sealing material flows well in the secondary firing, so that an accurate sealing shape can be formed for sealing the exhaust pipe. It is possible to suppress as much as possible the occurrence of cracks at the interface between the sealing material and the exhaust pipe and between the sealing material and the substrate. Therefore, for the purpose of sealing the exhaust pipe, a method of using a sintered body (also referred to as a tablet) of a bismuth-based sealing material is adopted as a sealing material that replaces the lead boric acid-based sealing material. This is unnecessary, and can greatly contribute to the improvement of manufacturing cost, manufacturing efficiency, and the like.

しかし、本発明のビスマス系封着材料は、焼結体として使用する態様を排除するものではない。焼結体の製造において、複数の熱工程を別途独立に経る必要があり、焼結体を構成する封着材料に熱的安定性が要求されていることに変わりはなく、既述の通り、本発明のビスマス系封着材料は、熱的安定性が極めて優れるため、本用途においても好適であることは言うまでもない。さらに、本発明のビスマス系封着材料は、熱的安定性および流動性が極めて優れるため、焼結体の製造において製造効率を高める目的で封着材料の焼結温度等を高くしても、二次焼成で焼結体の流動性が損なわれることがない。   However, the bismuth-based sealing material of the present invention does not exclude an embodiment used as a sintered body. In the production of the sintered body, it is necessary to go through a plurality of thermal processes independently, and the thermal stability is required for the sealing material constituting the sintered body, as described above, Needless to say, the bismuth-based sealing material of the present invention is also excellent in this application because of its excellent thermal stability. Furthermore, since the bismuth-based sealing material of the present invention is extremely excellent in thermal stability and fluidity, even if the sintering temperature of the sealing material is increased for the purpose of increasing production efficiency in the production of a sintered body, The fluidity of the sintered body is not impaired by the secondary firing.

さらに、本発明のビスマス系封着材料は、広範な温度範囲において、良好な流動性を得ることができるため、PDPの封着用途以外の用途、すなわち複数の熱処理工程を経る電子部品およびディスプレイの封着に的確に対処できるだけでなく、高温の熱処理工程を経る電子部品およびディスプレイの封着に的確に対処することができる。   Furthermore, since the bismuth-based sealing material of the present invention can obtain good fluidity in a wide temperature range, the bismuth-based sealing material can be used for applications other than PDP sealing applications, that is, electronic components and displays that undergo multiple heat treatment steps. Not only can the sealing be properly handled, but also the sealing of electronic components and displays that have undergone a high-temperature heat treatment process can be accurately handled.

本発明のビスマス系ガラス組成物のガラス組成を上記のように限定した理由は次のとおりである。なお、以下の%表示は、特に限定のない場合を除き、モル%を指す。   The reason why the glass composition of the bismuth-based glass composition of the present invention is limited as described above is as follows. In addition, the following% display points out mol% unless there is no limitation in particular.

Bi23は、ガラスの軟化点を低くするための主要成分であり、その含有量は30〜60%、好ましくは33〜60%、より好ましくは35〜60%、更に好ましくは35〜55%、最も好ましくは35〜52%である。Bi23の含有量が30%より少ないと、ガラスの軟化点が高くなり過ぎて480℃以下の温度で焼成できにくくなり、60%より多いと、失透しやすくなる。 Bi 2 O 3 is a main component for lowering the softening point of glass, and its content is 30 to 60%, preferably 33 to 60%, more preferably 35 to 60%, still more preferably 35 to 55. %, Most preferably 35-52%. If the content of Bi 2 O 3 is less than 30%, the softening point of the glass becomes too high and it becomes difficult to fire at a temperature of 480 ° C. or less, and if it exceeds 60%, devitrification tends to occur.

23は、ガラス形成成分として必須成分であり、その含有量は10〜35%、好ましくは15〜30%、さらに好ましくは18〜28%である。B23の含有量が10%よりも少ないと、ガラスネットワークが充分に形成されにくいため、失透しやすくなる。そのため、充分に封着、被覆等を行うために必要な流動性が得られない場合がある。一方、35%より多いと、ガラスの粘性が高くなる傾向があり、480℃以下の温度で焼成が困難となる場合がある。 B 2 O 3 is an essential component as a glass forming component, and its content is 10 to 35%, preferably 15 to 30%, and more preferably 18 to 28%. If the content of B 2 O 3 is less than 10%, it is difficult to form a glass network, so that devitrification is likely to occur. For this reason, the fluidity necessary for sufficient sealing and coating may not be obtained. On the other hand, if it exceeds 35%, the viscosity of the glass tends to be high, and firing may be difficult at a temperature of 480 ° C. or lower.

Sb23は、焼成時に結晶が析出して流動性が損なわれることを防止するために添加される成分であり、必須成分である。また、ガラス組成中にSb23を含有させると、封着材料部分を繰り返し焼成してもガラスが失透することがなく、その結果、PDPの製造工程において、500℃程度で一次焼成しても失透したり結晶が析出したりすることがなく、450〜480℃の二次焼成で良好に気密封着することができる。Sb23の含有量は、0.01〜5%、好ましくは0.05〜5%、より好ましくは0.1〜5%、更に好ましくは0.1〜2.5%、最も好ましくは0.3〜1.5%である。軟化点を低くするためには、主要成分であるBi23の含有量を多くする必要があるが、Bi23の含有量を多くすると、焼成時にBi23を結晶構成成分とする結晶が析出しやすくなり、流動性が損なわれやすい。特に、Bi23が40%以上になるとその傾向が顕著になる。この原因としては、焼成時にビスマス酸化物単独で形成する結晶物であるBi23(ビスマイト)と、Bi23とB23とからなる2Bi23・B23または12Bi23・B23が結晶として析出するためであると考えられる。この結晶が析出すると流動性が損なわれてしまうが、Sb23は、Bi23−B23系ガラスネットワークを安定化させ、上記した結晶の析出を抑制する働きがある。しかし、Sb23を5%よりも多く添加すると、逆に焼成時に結晶が析出しやすくなるため好ましくない。 Sb 2 O 3 is a component added to prevent crystals from precipitating and fluidity from being impaired during firing, and is an essential component. Further, when Sb 2 O 3 is contained in the glass composition, the glass does not devitrify even if the sealing material portion is repeatedly fired. As a result, in the manufacturing process of the PDP, primary firing is performed at about 500 ° C. However, it does not devitrify or crystal precipitates, and can be hermetically sealed by secondary firing at 450 to 480 ° C. The content of Sb 2 O 3 is 0.01 to 5%, preferably 0.05 to 5%, more preferably 0.1 to 5%, still more preferably 0.1 to 2.5%, most preferably 0.3 to 1.5%. In order to lower the softening point, it is necessary to increase the content of Bi 2 O 3 as a main component. However, if the content of Bi 2 O 3 is increased, Bi 2 O 3 is used as a crystalline constituent during firing. Crystals that are likely to precipitate, and fluidity is likely to be impaired. In particular, when Bi 2 O 3 is 40% or more, the tendency becomes remarkable. As the cause, and Bi 2 O 3 during sintering a crystalline product formed by bismuth oxide alone (Bisumaito), Bi 2 O 3 and composed of B 2 O 3 Metropolitan 2Bi 2 O 3 · B 2 O 3 or 12Bi 2 O 3 · B 2 O 3 is believed to be due to precipitation as a crystal. When this crystal is precipitated, the fluidity is impaired, but Sb 2 O 3 has a function of stabilizing the Bi 2 O 3 —B 2 O 3 glass network and suppressing the above-described crystal precipitation. However, it is not preferable to add more than 5% of Sb 2 O 3 because crystals are likely to precipitate during firing.

また、Sb23を添加する際、原料として三酸化アンチモン(Sb23)および五酸化アンチモン(Sb25)等を使用することができるが、酸素を多く保有するSb25を用いる方が溶融の際にビスマスが還元されにくいため、ビスマス系結晶の析出を抑制する傾向があり好ましい。 In addition, when Sb 2 O 3 is added, antimony trioxide (Sb 2 O 3 ), antimony pentoxide (Sb 2 O 5 ), or the like can be used as a raw material, but Sb 2 O 5 that contains a large amount of oxygen. It is preferable to use bismuth because bismuth is less likely to be reduced during melting, and thus tends to suppress precipitation of bismuth-based crystals.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、上記した成分以外に以下の成分を含有しても良い。   The bismuth-based glass composition of the present invention may contain the following components in addition to the components described above.

BaO、SrO、MgOおよびCaOは、ガラスの溶融時または焼成時に失透することを抑制する効果があり、これらの含有量は合量で1〜15%、好ましくは3〜10%である。これらの成分の合量が1%より少ないと上記の効果が得られにくく、15%より多くなると軟化点が高くなる傾向がある。なお、BaOの含有量は0〜15%、好ましくは1〜15%、より好ましくは1〜13%、更に好ましくは2〜10%である。また、SrO、MgO、CaOの含有量については、各々0〜5%、特に各々0.5〜3%であることが好ましい。   BaO, SrO, MgO and CaO have an effect of suppressing devitrification when the glass is melted or fired, and the total content thereof is 1 to 15%, preferably 3 to 10%. If the total amount of these components is less than 1%, it is difficult to obtain the above effect, and if it exceeds 15%, the softening point tends to increase. The BaO content is 0 to 15%, preferably 1 to 15%, more preferably 1 to 13%, and still more preferably 2 to 10%. Further, the contents of SrO, MgO, and CaO are each preferably 0 to 5%, particularly preferably 0.5 to 3%.

ZnOは、ガラスの溶融時または焼成時の失透を抑制する効果があり、その含有量は5〜30%、好ましくは10〜25%、より好ましくは13〜25%である。その含有量が5%より小さく、また30%よりも大きくなると焼成時にガラスに結晶が析出しやすくなって流動性が悪くなる。   ZnO has an effect of suppressing devitrification when the glass is melted or fired, and its content is 5 to 30%, preferably 10 to 25%, more preferably 13 to 25%. If the content is less than 5% or more than 30%, crystals are likely to precipitate on the glass during firing, resulting in poor fluidity.

CuOは、ガラスの溶融時または焼成時の失透を抑制する成分であり、その含有量は0〜10%、好ましくは0.1〜10%、より好ましくは2〜10%である。CuOが15%よりも多いと焼成時に結晶が極めて析出しやすくなって流動性が悪くなる傾向がある。   CuO is a component that suppresses devitrification when the glass is melted or fired, and its content is 0 to 10%, preferably 0.1 to 10%, more preferably 2 to 10%. If the CuO content is more than 15%, crystals tend to precipitate very easily during firing and the fluidity tends to deteriorate.

Fe23は、ガラスの溶融時または焼成時の失透を抑制する成分であり、その含有量は0〜5%、好ましくは0.1〜5%、より好ましくは0.1〜2%である。Fe23が5%よりも多いと、溶融時に分相してガラス化しない傾向がある。 Fe 2 O 3 is a component that suppresses devitrification when the glass is melted or fired, and its content is 0 to 5%, preferably 0.1 to 5%, more preferably 0.1 to 2%. It is. When Fe 2 O 3 is greater than 5%, there is a tendency not to vitrified Bunsho during melting.

CuOとFe23の合量は、1〜11%とするのが好ましい。CuOとFe23の合量が11%よりも多いと500℃程度で焼成した場合、失透が発生しやすい。そのため気密封着できない場合がある。一方、CuOとFe23の合量が1%よりも少ないとガラス溶融時または焼成時の失透を抑制できない傾向がある。CuOとFe23の合量は、3〜8%とするのが更に好ましい。 The total amount of CuO and Fe 2 O 3 is preferably 1 to 11%. When the total amount of CuO and Fe 2 O 3 is more than 11%, devitrification tends to occur when fired at about 500 ° C. For this reason, it may not be possible to seal hermetically. On the other hand, when the total amount of CuO and Fe 2 O 3 is less than 1%, there is a tendency that devitrification at the time of glass melting or firing cannot be suppressed. The total amount of CuO and Fe 2 O 3 is more preferably 3 to 8%.

また、ガラスの溶融時の失透を抑制する成分であるAl23を添加すると、焼成時においても、結晶の析出をより抑制することができるため好ましい。その含有量は0〜5%、好ましくは0〜3%、より好ましくは0.1〜3%である。添加量が5%よりも多いと、ガラスの軟化点が高くなり、480℃以下の温度で焼成しにくくなる。 Moreover, it is preferable to add Al 2 O 3 , which is a component that suppresses devitrification at the time of melting of the glass, since precipitation of crystals can be further suppressed even during firing. The content is 0 to 5%, preferably 0 to 3%, more preferably 0.1 to 3%. When the addition amount is more than 5%, the softening point of the glass becomes high and it becomes difficult to fire at a temperature of 480 ° C. or lower.

SiO2は、耐候性を高める目的で1%まで添加することができる。1%よりも多いと
、ガラスの軟化点が高くなり、480℃以下の温度で焼成しにくくなる。
SiO 2 can be added up to 1% for the purpose of enhancing the weather resistance. If it exceeds 1%, the softening point of the glass becomes high and it becomes difficult to fire at a temperature of 480 ° C. or lower.

Li、Na、KおよびCsの酸化物は、ガラスの軟化点を低くする成分であるが、溶融時にガラスの失透を促進する作用を有するため合量で2%以下であることが好ましい。   The oxides of Li, Na, K, and Cs are components that lower the softening point of the glass. However, since they have an action of promoting devitrification of the glass when melted, the total amount is preferably 2% or less.

25は、溶融時の失透を抑制する成分であるが、添加量が1%よりも多いと溶融時にガラスが分相しやすいため好ましくない。 P 2 O 5 is a component that suppresses devitrification at the time of melting. However, if the addition amount is more than 1%, it is not preferable because the glass tends to phase-separate at the time of melting.

MoO3、La23、Y25およびCeO2は、溶融時にガラスの分相を抑制する成分であるが、これらの合量が3%よりも多いとガラスの軟化点が高くなり、480℃以下の温度で焼成しにくくなる。 MoO 3 , La 2 O 3 , Y 2 O 5 and CeO 2 are components that suppress the phase separation of the glass at the time of melting, but if the total amount of these is more than 3%, the softening point of the glass becomes high, It becomes difficult to fire at a temperature of 480 ° C. or lower.

また、その他の成分であっても、ガラスの特性を損なわない範囲で5%まで添加することが可能である。   Moreover, even if it is another component, it is possible to add to 5% in the range which does not impair the characteristic of glass.

さらに、PDPの封着用途において、Bi23 35〜50%、B23 20〜35%、ZnO 10〜25%、BaO+SrO+MgO+CaO 3〜15%、BaO 1〜15%、CuO+Fe23 1〜11%、Sb23 0.1〜5%を含有するビスマス系ガラス組成物を使用することが更に好ましい。 Furthermore, in sealing applications of PDP, Bi 2 O 3 35-50%, B 2 O 3 20-35%, ZnO 10-25%, BaO + SrO + MgO + CaO 3-15%, BaO 1-15%, CuO + Fe 2 O 3 1 More preferably, a bismuth-based glass composition containing ˜11% and Sb 2 O 3 0.1˜5% is used.

本発明のビスマス系ガラス組成物は、PbOを含有する態様を排除するものではないが、既述の通り、環境上の理由からPbOは実質的に含有しないことが好ましい。また、ガラスにPbOを含有させると、ガラス中に存在するPb2+が拡散して電気絶縁性を低下させる場合がある。なお、本発明でいう「実質的にPbOを含有しない」とは、ガラス組成内のPbOの含有量が1000ppm以下の場合を指す。 The bismuth-based glass composition of the present invention does not exclude the embodiment containing PbO, but as described above, it is preferable that PbO is not substantially contained for environmental reasons. Further, when PbO is contained in the glass, Pb 2+ present in the glass may diffuse to lower the electrical insulation. In the present invention, “substantially does not contain PbO” refers to a case where the content of PbO in the glass composition is 1000 ppm or less.

以上のガラス組成を有するビスマス系ガラス組成物は、480℃以下の温度で良好な流動性を示す非結晶性のガラスであり、30〜300℃における熱膨張係数が約100〜120×10-7/℃である。そのため、このビスマス系ガラス組成物とほぼ同じ熱膨張係数を有する材料であれば、耐火性フィラー粉末を添加することなく、ビスマス系ガラス組成物からなる粉末を単独で封着材料として用いることができるとともに、450〜480℃の温度で良好に封着することができる。 The bismuth-based glass composition having the above glass composition is an amorphous glass exhibiting good fluidity at a temperature of 480 ° C. or less, and has a thermal expansion coefficient of about 100 to 120 × 10 −7 at 30 to 300 ° C. / ° C. Therefore, if the material has substantially the same thermal expansion coefficient as this bismuth-based glass composition, the powder composed of the bismuth-based glass composition can be used alone as a sealing material without adding a refractory filler powder. At the same time, it can be satisfactorily sealed at a temperature of 450 to 480 ° C.

また、ビスマス系ガラス組成物と熱膨張係数の適合しない材料、例えば高歪点ガラス(85×10-7/℃)、ソーダ板ガラス(90×10-7/℃)等の封着を行う場合、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末とを混合して複合材料とし、これを封着材料として用いればよい。封着材料の熱膨張係数は、被封着物に対して10〜30×10-7/℃程度低く設計することが重要である。これは、封着後に封着材料にかかる歪をコンプレッション(圧縮)側にして封着材料の破壊を防ぐためである。また、熱膨張係数の調整以外にも、例えば機械的強度の向上のために耐火性フィラー粉末を添加することもできる。 Further, when sealing a material that does not match the thermal expansion coefficient with the bismuth-based glass composition, such as high strain point glass (85 × 10 −7 / ° C.), soda plate glass (90 × 10 −7 / ° C.), Bismuth glass powder and refractory filler powder may be mixed to form a composite material, which may be used as a sealing material. It is important that the thermal expansion coefficient of the sealing material is designed to be lower by about 10 to 30 × 10 −7 / ° C. than the object to be sealed. This is for preventing distortion of the sealing material by setting the strain applied to the sealing material after compression to the compression (compression) side. In addition to adjusting the thermal expansion coefficient, for example, a refractory filler powder can be added to improve mechanical strength.

耐火性フィラー粉末を混合する場合、その混合割合は、ビスマス系ガラス粉末が40〜95体積%、耐火性フィラー粉末5〜60体積%であることが好ましい。また、耐火性フィラー粉末を混合する場合、その混合割合は、ビスマス系ガラス粉末が40〜90体積%、耐火性フィラー粉末10〜60体積%であることが更に好ましい。両者の割合をこのように規定した理由は、耐火性フィラー粉末が5体積%よりも少ないと上記した効果が得られにくい傾向があり、60体積%より多くなると流動性が悪くなり気密封着等できなくなる虞があるからである。   When mixing the refractory filler powder, the mixing ratio is preferably 40 to 95% by volume for the bismuth glass powder and 5 to 60% by volume for the refractory filler powder. Moreover, when mixing a refractory filler powder, as for the mixing ratio, it is still more preferable that a bismuth-type glass powder is 40-90 volume% and a refractory filler powder 10-60 volume%. The reason why the ratio of the two is defined in this way is that when the amount of the refractory filler powder is less than 5% by volume, the above-mentioned effect tends to be hardly obtained. This is because there is a risk that it will not be possible.

耐火性フィラー粉末は、ビスマス系ガラス粉末に添加しても熱的安定性を低下させない程度に反応性が低いことが要求され、用途によっては熱膨張係数が低く、機械的強度が高いことが要求される。また、耐火性フィラー粉末としては、実質的にPbOを含有しない耐火性フィラー粉末を使用するのが好ましい。耐火性フィラー粉末として、種々の材料が使用可能であるが、具体的には、コーディエライト、ジルコン、ジルコニア、酸化錫、チタン酸アルミニウム、石英、β−スポジュメン、ムライト、チタニア、石英ガラス、β−ユークリプタイト、β−石英固溶体、ウイレマイト、[AB2(MO43]の基本構造を
もつ化合物、
A:Li、Na、K、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cu、Ni、Mn等
B:Zr、Ti、Sn、Nb、Al、Sc、Y等
M:P、Si、W、Mo等
若しくはこれらの混合物を用途に応じて選択し使用すればよい。特に、コーディエライトは、ビスマス系ガラスの熱的安定性を低下させる傾向が最も小さく、例えば500℃以上であってもガラスに失透が生じにくくなるため好ましい。また、ウイレマイトは、ビスマス系ガラスの流動性を低下させる傾向が最も小さく、PDPの製造工程において、二次焼成で良好な流動性を得ることが可能となるため、封着材料が二次焼成で的確に潰れ、PDPの気密性を十分に確保できるとともに、基板と封着材料の界面における反応を促進させ、前面基板と背面基板の封着強度を顕著に向上させる。特に、排気管と背面基板の封着においては、二次焼成でビスマス系封着材料が良好に流動することにより、排気管の封着にとって的確な封着形状を形成することができ、結果として封着材料と排気管および封着材料と基板間の界面でクラックが発生する事態を可及的に抑止できる。さらに、コーディエライトおよびウイレマイトは、低膨張であり、機械的強度にも優れる特長を有している。なお、酸化錫は、封着材料の機械的強度を向上させる目的で適量添加することが好ましい。
Refractory filler powder is required to have low reactivity to the extent that thermal stability does not decrease even when added to bismuth-based glass powder, and depending on the application, low thermal expansion coefficient and high mechanical strength are required. Is done. Further, as the refractory filler powder, it is preferable to use a refractory filler powder substantially not containing PbO. Various materials can be used as the refractory filler powder. Specifically, cordierite, zircon, zirconia, tin oxide, aluminum titanate, quartz, β-spodumene, mullite, titania, quartz glass, β -Eucryptite, β-quartz solid solution, willemite, a compound having a basic structure of [AB 2 (MO 4 ) 3 ],
A: Li, Na, K, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cu, Ni, Mn etc. B: Zr, Ti, Sn, Nb, Al, Sc, Y etc. M: P, Si, W, Mo etc. Alternatively, a mixture of these may be selected and used depending on the application. In particular, cordierite is preferable because it has the least tendency to lower the thermal stability of bismuth-based glass. For example, even when the temperature is 500 ° C. or higher, devitrification hardly occurs in the glass. In addition, Willemite has the smallest tendency to lower the fluidity of bismuth-based glass, and in the PDP manufacturing process, it becomes possible to obtain good fluidity by secondary firing. It is accurately crushed and can sufficiently secure the airtightness of the PDP, promote the reaction at the interface between the substrate and the sealing material, and remarkably improve the sealing strength between the front substrate and the back substrate. In particular, in sealing the exhaust pipe and the back substrate, the bismuth-based sealing material flows well in the secondary firing, so that an accurate sealing shape can be formed for sealing the exhaust pipe. It is possible to suppress as much as possible the occurrence of cracks at the interface between the sealing material and the exhaust pipe and between the sealing material and the substrate. Furthermore, cordierite and willemite have features of low expansion and excellent mechanical strength. Note that tin oxide is preferably added in an appropriate amount for the purpose of improving the mechanical strength of the sealing material.

また、耐火性フィラー粉末は、アルミナ、酸化亜鉛、ジルコン、チタニア、ジルコニア等の微粉末によって被覆すると、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末との間での反応を抑制できるため好ましい。特に、アルミナは融点が高く、ビスマス系ガラスと反応しにくいため好ましい。   The refractory filler powder is preferably coated with a fine powder such as alumina, zinc oxide, zircon, titania, zirconia because the reaction between the bismuth glass powder and the refractory filler powder can be suppressed. In particular, alumina is preferable because it has a high melting point and hardly reacts with bismuth glass.

上述の通り、本発明のビスマス系封着材料は、良好に使用可能な温度範囲が極めて広範であり、換言すればガラスの軟化点と結晶化析出温度の温度差(ΔT)が大きい。したがって、複数の熱処理工程を経るディスプレイおよび電子部品に好適に使用可能であることは言うまでもない。具体的な用途としては、(I)PDPの絶縁層や誘電体層の形成材料、バリアリブの形成材料、(II)蛍光表示管(以下、VFDと称する)の封着材料、絶縁層の形成材料、(III)磁気ヘッド−コア同士またはコアとスライダーの封着材料、(IV)水晶振動子パッケージ、半導体パッケージ等の封着材料等が挙げられる。   As described above, the bismuth-based sealing material of the present invention has a very wide usable temperature range, in other words, a large temperature difference (ΔT) between the softening point of glass and the crystallization precipitation temperature. Therefore, it cannot be overemphasized that it can be used conveniently for the display and electronic component which pass through several heat processing processes. Specific applications include (I) PDP insulating layer and dielectric layer forming material, barrier rib forming material, (II) fluorescent display tube (hereinafter referred to as VFD) sealing material, insulating layer forming material (III) Magnetic head-sealing material between cores or core and slider, (IV) Sealing material such as crystal resonator package and semiconductor package.

ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末とを混合した封着材料は、粉末のまま封着材料として使用しても良いが、封着材料とビークルとを均一に混練してペーストとして使用すると取り扱いやすい。ビークルは、主に有機溶媒と樹脂とからなり、樹脂はペーストの粘性を調整する目的で添加される。また、必要に応じて、界面活性剤、増粘剤等を添加することもできる。作製されたペーストは、ディスペンサーやスクリーン印刷機等の塗布機を用いて塗布される。   A sealing material in which bismuth-based glass powder and refractory filler powder are mixed may be used as a sealing material as it is, but it is easy to handle if the sealing material and vehicle are uniformly kneaded and used as a paste. . The vehicle is mainly composed of an organic solvent and a resin, and the resin is added for the purpose of adjusting the viscosity of the paste. Moreover, surfactant, a thickener, etc. can also be added as needed. The produced paste is applied using an applicator such as a dispenser or a screen printer.

有機溶媒としては、N、N’−ジメチルホルムアミド(DMF)、α−ターピネオール、高級アルコール、γ−ブチルラクトン(γ−BL)、テトラリン、ブチルカルビトールアセテート、酢酸エチル、酢酸イソアミル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ベンジルアルコール、トルエン、3−メトキシ−3−メチルブタノール、水、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレンカーボネート、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−ピロリドン等が使用可能である。特に、α−ターピネオールは、高粘性であり、樹脂等の溶解性も良好であるため、好ましい。   As organic solvents, N, N′-dimethylformamide (DMF), α-terpineol, higher alcohol, γ-butyllactone (γ-BL), tetralin, butyl carbitol acetate, ethyl acetate, isoamyl acetate, diethylene glycol monoethyl ether , Diethylene glycol monoethyl ether acetate, benzyl alcohol, toluene, 3-methoxy-3-methylbutanol, water, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol dimethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol monomethyl Ether, tripropylene glycol monobutyl ether, propylene carbonate, dimethyl sulfoxide (DMSO) N- methyl-2-pyrrolidone and the like can be used. In particular, α-terpineol is preferable because it is highly viscous and has good solubility in resins and the like.

樹脂としては、アクリル樹脂、エチルセルロ−ス、ポリエチレングリコール誘導体、ニトロセルロース、ポリメチルスチレン、ポリエチレンカーボネート、メタクリル酸エステル等が使用可能である。特に、アクリル樹脂、ニトロセルロースは、熱分解性が良好であるため、好ましい。   As the resin, acrylic resin, ethyl cellulose, polyethylene glycol derivative, nitrocellulose, polymethylstyrene, polyethylene carbonate, methacrylic acid ester and the like can be used. In particular, acrylic resin and nitrocellulose are preferable because they have good thermal decomposability.

以下、実施例に基づいて本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples.

表1〜3は、ビスマス系ガラス組成物の実施例(試料a〜y)を示し、表4は比較例(試料a1〜h1)を示すものである。   Tables 1 to 3 show examples (samples a to y) of the bismuth glass composition, and Table 4 shows comparative examples (samples a1 to h1).

表1〜3に記載の各試料a〜yおよび表4に記載のa1〜h1は、次のようにして調製した。   Samples a to y described in Tables 1 to 3 and a1 to h1 described in Table 4 were prepared as follows.

まず、表1〜4に示したガラス組成となるように各種酸化物、炭酸塩等の原料を調合したガラスバッチを準備し、これを白金坩堝に入れて900〜1000℃で1〜2時間溶融した。次に、溶融ガラスの一部を熱膨張係数測定用サンプルとしてステンレス製の金型に流し出し、その他の溶融ガラスは、水冷ローラーにより薄片状に成形した。なお、熱膨張係数測定用サンプルは、成形後に所定の徐冷処理(アニール)を行った。最後に、薄片状のガラスをボールミルにて粉砕後、目開き75μmの篩いを通過させて、平均粒径約10μmの各試料を得た。   First, a glass batch prepared by preparing raw materials such as various oxides and carbonates so as to have the glass compositions shown in Tables 1 to 4 was prepared, and this was put in a platinum crucible and melted at 900 to 1000 ° C. for 1 to 2 hours. did. Next, a part of the molten glass was poured into a stainless steel mold as a sample for measuring the coefficient of thermal expansion, and the other molten glass was formed into a thin piece with a water-cooled roller. The sample for measuring the thermal expansion coefficient was subjected to a predetermined slow cooling treatment (annealing) after molding. Finally, the flaky glass was pulverized with a ball mill and then passed through a sieve having an opening of 75 μm to obtain each sample having an average particle size of about 10 μm.

以上の試料を用いて、熱膨張係数、ガラス転移点、軟化点および失透状態を評価した。その結果を表1〜4に示す。   Using the above samples, the thermal expansion coefficient, glass transition point, softening point, and devitrification state were evaluated. The results are shown in Tables 1-4.

軟化点は、粉末試料を用いて、示差熱分析(DTA)装置により求めた。   The softening point was determined by a differential thermal analysis (DTA) apparatus using a powder sample.

ガラス転移点および熱膨張係数は、押棒式熱膨張測定装置により求めた。   The glass transition point and the thermal expansion coefficient were determined by a push rod type thermal expansion measuring device.

表1の試料a〜hは、表中の焼成温度で30分保持した後、光学顕微鏡(倍率100倍)を用いて試料中の結晶を目視で観察することにより、失透状態を評価した。表2、3の試料i〜yおよび表4のa1〜h1は、500℃で30分保持した後、光学顕微鏡(倍率100倍)を用いて試料中の結晶を目視で観察することにより、失透状態を評価した。全く失透が認められなかったものを「○」、僅かに失透が認められたものを「△」、明らかに失透が認められたものを「×」とした。なお、各試料は、各試料の密度に相当する重量の粉末を金型により外径20mmのボタン状に乾式プレスしたものを使用した。また、昇降温速度は10℃/分とした。   Samples a to h in Table 1 were evaluated for devitrification by observing crystals in the sample with an optical microscope (magnification 100 times) after holding at the firing temperature in the table for 30 minutes. Samples i to y in Tables 2 and 3 and a1 to h1 in Table 4 were lost by observing crystals in the sample visually using an optical microscope (100 times magnification) after holding at 500 ° C. for 30 minutes. The transparent state was evaluated. The case where no devitrification was observed was indicated as “◯”, the case where slight devitrification was observed was indicated as “Δ”, and the case where clear devitrification was observed was indicated as “X”. In addition, each sample used what dry-pressed the powder of the weight corresponded to the density of each sample to the button shape of outer diameter 20mm with a metal mold | die. The temperature raising / lowering rate was 10 ° C./min.

表1〜3から明らかなように、本発明の実施例である試料a〜yは、30〜300℃における熱膨張係数が105〜120×10−7/℃であり、ガラス転移点が332〜373℃であり、軟化点が395〜449℃であった。さらに、本発明の実施例である試料a〜wは、ガラスの熱的安定性が良好であり、失透状態の評価も良好であった。
As apparent from Tables 1 to 3, samples a to y as examples of the present invention have a coefficient of thermal expansion of 105 to 120 × 10 −7 / ° C. at 30 to 300 ° C., and a glass transition point of 332 to 320 ° C. The temperature was 373 ° C, and the softening point was 395 to 449 ° C. Furthermore, samples a to w, which are examples of the present invention, had good thermal stability of glass, and evaluation of devitrification was also good.

表4から明らかなように、試料a1〜h1は、失透状態の評価が劣っていた。   As is clear from Table 4, the samples a1 to h1 were inferior in evaluation of the devitrification state.

次に、表1〜4のガラス組成物を用いて封着材料を作製した。表5〜7はビスマス系封着材料の実施例(試料No.1〜25)、表8は比較例(試料No.26〜3)を示している。
Next, the sealing material was produced using the glass composition of Tables 1-4. Tables 5 to 7 show examples of bismuth-based sealing materials (sample Nos. 1 to 25), and Table 8 shows comparative examples (samples Nos. 26 to 3 2 ).

各試料は、表5〜8に示す割合でガラス粉末と耐火性フィラー粉末とを混合して作製した。耐火性フィラー粉末には、ウイレマイトまたはコージェライトを用いた。なお、表中のフィラーにおいて、Aはウイレマイト、Bはコーディエライトを表している。   Each sample was prepared by mixing glass powder and refractory filler powder in the proportions shown in Tables 5-8. Willemite or cordierite was used as the refractory filler powder. In the fillers in the table, A represents willemite and B represents cordierite.

ウイレマイトは、亜鉛華、光学石粉、酸化アルミニウムを重量%でZnO 70%、SiO2 25%、Al23 5%の組成になるように調合し、混合後、1440℃で15時間焼成し、次いでこの焼成物を粉砕し、250メッシュのステンレス製篩を通過させ、平均粒径10μmの粉末としたものを使用した。コーディエライトは、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、光学石粉を2MgO・2Al23・5SiO2の割合になるように調合し、混合後、1400℃で10時間焼成し、次いでこの焼成物を粉砕し、250メッシュのステンレス製篩を通過させ、平均粒径10μmとしたものを使用した。 Willemite is prepared by blending zinc oxide, optical stone powder and aluminum oxide in a composition of 70% ZnO, 25% SiO 2 and 5% Al 2 O 3 by weight, and after mixing, firing at 1440 ° C. for 15 hours. Next, the fired product was pulverized and passed through a 250 mesh stainless steel sieve to obtain a powder having an average particle size of 10 μm. Cordierite is prepared by mixing magnesium oxide, aluminum oxide and optical stone powder in a ratio of 2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2 , mixing and firing at 1400 ° C. for 10 hours, and then pulverizing the fired product. A 250 mesh stainless steel sieve was used to obtain an average particle size of 10 μm.

流動径は、各試料の合成密度に相当する重量の粉末を金型により外径20mmのボタン状に乾式プレスし、これを40mm×40mm×2.8mm厚の高歪点ガラス基板上に載置し、空気中で10℃/分の速度で昇温した後、表5〜8に記載の焼成条件で焼成した上で室温まで10℃/分で降温し、得られたボタンの直径を測定することで評価した。なお、合成密度とは、ガラス粉末の密度と耐火物フィラー粉末の密度を、所定の体積比で混合させて算出される理論上の密度である。また、流動径が21mm以上であると、試験した焼成条件おける封着材料の流動性が優れることを意味する。
The flow diameter was dry-pressed into a button shape with an outer diameter of 20 mm using a mold and the weight corresponding to the synthesis density of each sample, and this was placed on a 40 mm × 40 mm × 2.8 mm thick high strain point glass substrate. Then, after raising the temperature in air at a rate of 10 ° C./min, after firing under the firing conditions shown in Tables 5 to 8, the temperature is lowered to room temperature at 10 ° C./min, and the diameter of the obtained button is measured. It was evaluated. The synthetic density is a theoretical density calculated by mixing the density of the glass powder and the density of the refractory filler powder at a predetermined volume ratio. Also means that the flow diameter When it is more than 21 mm, excellent fluidity of the sealing material definitive in tested firing conditions.

失透状態は、各試料を表5〜8に記載の焼成温度で30分間保持した後、光学顕微鏡(100倍)を用いて、評価した。なお、昇降温速度は、10℃/分とした。その結果、本試験で「○」の評価を得た試料は、一次焼成で失透しないと判断できる。   The devitrification state was evaluated using an optical microscope (100 times) after holding each sample for 30 minutes at the firing temperature described in Tables 5-8. The temperature raising / lowering rate was 10 ° C./min. As a result, it can be judged that the sample which obtained the evaluation of “◯” in this test is not devitrified by the primary firing.

再封着性は、以下のように評価した。まず、各試料とアクリル酸エステル樹脂含有α−ターピネオールとを均一に混練してそれぞれペースト化した後、高歪点ガラス基板(100×100×3mm)の端部に線状(80×3×3mm)に塗布し、120℃で15分乾燥させた。次に、高歪点ガラス基板を、表中に記載の焼成温度(試料No.1〜8は、表中の焼成温度より10℃高い温度)で、脱バインダーを目的として表中に記載の時間保持した後、室内に放置して基板を冷却した。続いて、150μm厚のガラス板を基板の真ん中に設置し、同じ寸法の基板を上から被せた後、両基板をクリップにより固定し、480℃30分の条件で焼成した。なお、昇降温速度は、10℃/分とした。   Resealability was evaluated as follows. First, each sample and acrylate resin-containing α-terpineol were uniformly kneaded to form a paste, and then linear (80 × 3 × 3 mm) at the end of a high strain point glass substrate (100 × 100 × 3 mm). And dried at 120 ° C. for 15 minutes. Next, the high strain point glass substrate was subjected to the firing temperature described in the table (sample Nos. 1 to 8 are temperatures 10 ° C. higher than the firing temperature in the table), and the time described in the table for the purpose of debinding. After holding, the substrate was allowed to cool in the room. Subsequently, a glass plate having a thickness of 150 μm was placed in the middle of the substrate, and the same size substrate was covered from above, and then both substrates were fixed with clips and baked at 480 ° C. for 30 minutes. The temperature raising / lowering rate was 10 ° C./min.

焼成により再流動して基板間の間隔が150μmになっているものを「○」、十分に再度軟化流動せず、基板間の間隔が150μmより大きくなったものを「×」として評価した。なお、この評価で「○」であったものは、ガラスの熱的安定性が良好であったために再封着性が良好であった。   Evaluation was made as “◯” when the distance between the substrates was 150 μm after reflowing by firing, and “X” when the distance between the substrates was larger than 150 μm without sufficiently softening and flowing again. In addition, what was "(circle)" by this evaluation had favorable resealability, since the thermal stability of glass was favorable.

表5〜7から明らかなように、試料No.1〜25は、30〜300℃における熱膨張係数が70〜80×10-7/℃であった。また、表中に示した焼成条件で21.0〜26.2mmの流動径を示し、良好な流動性を有していた。さらに、試料No.1〜25は、表中に示した条件で結晶が析出しないとともに、再封着性にも優れていた。 As is clear from Tables 5 to 7, sample No. 1 to 25 had a thermal expansion coefficient of 70 to 80 × 10 −7 / ° C. at 30 to 300 ° C. Moreover, the flow diameter of 21.0-26.2 mm was shown on the baking conditions shown in the table | surface, and it had favorable fluidity | liquidity. Furthermore, sample no. In Nos. 1 to 25, crystals did not precipitate under the conditions shown in the table, and the resealability was excellent.

また、試料No.1〜4は、450〜460℃の低温で封着することができるため、VFD等の用途に好適に使用することができる。また、試料No.5〜25は、熱的安定性が良好であるため、PDP等の用途に好適に使用することができる。   Sample No. Since 1-4 can be sealed at a low temperature of 450-460 ° C., it can be suitably used for applications such as VFD. Sample No. Since 5-25 has favorable thermal stability, it can be used conveniently for uses, such as PDP.

表8から明らかなように、試料No.26〜3は、表中に示した条件で結晶が析出し、再封着性も劣っていた。具体的には、試料No.26〜3は、ガラスの熱的安定性が損なわれ、表中の条件で結晶が析出し、その結果、再封着性が損なわれた。試料No.3は、逆に焼成時に結晶が析出し、再封着性も損なわれた。したがって、試料No.26〜3は、熱的安定性が乏しいため、PDP等の用途に不適であると考えられる。 As is apparent from Table 8, sample No. 26-3 2, condition crystals precipitated in shown in the table, was also inferior re sealable. Specifically, Sample No. 26-3 2, the thermal stability of the glass is impaired, crystals are precipitated in the conditions in the table, as a result, re-sealable has been compromised. Sample No. 3 2, contrary to the crystals will deposit at the time of firing, it has also impaired re sealable. Therefore, sample no. 26-3 2, since the thermal stability is poor, is considered to be unsuitable for applications such as PDP.

以上の構成を有するガラス組成物は、PbOを実質的に含有せず、鉛硼酸系ガラスと同等の480℃以下の温度で焼成が可能であることに加えて、鉛硼酸系ガラスと同等以上の熱的安定性を有しており、安定に使用できる温度範囲が極めて広範である。その結果、低温封着が要求されるVFD等の封着に好適である。さらに、本発明のビスマス系ガラス組成物は、PDPの製造工程において、480℃以上の高温で一次焼成した後にガラスに結晶が析出することがなく、且つ450〜480℃で二次焼成してもガラスに結晶が析出することがない。特に、一次焼成を500℃以上で行った場合であっても、ガラスに結晶が析出することがなく、且つその後に供される二次焼成で更に結晶の析出が進行することはない。さらに、本発明のビスマス系ガラス組成物は、軟化点が低い特長も有しており、450〜480℃の二次焼成で良好に流動することができる。   The glass composition having the above configuration does not substantially contain PbO and can be fired at a temperature equal to or lower than 480 ° C. equivalent to that of lead borate glass. It has thermal stability and has a very wide temperature range that can be used stably. As a result, it is suitable for sealing VFD or the like that requires low-temperature sealing. Furthermore, the bismuth-based glass composition of the present invention does not precipitate crystals on the glass after the primary firing at a high temperature of 480 ° C. or higher in the PDP manufacturing process, and the secondary firing at 450 to 480 ° C. Crystals do not precipitate on the glass. In particular, even when the primary firing is performed at 500 ° C. or higher, crystals are not precipitated on the glass, and further, the precipitation of crystals does not progress in the subsequent secondary firing. Furthermore, the bismuth-based glass composition of the present invention also has a feature that the softening point is low, and can flow well by secondary firing at 450 to 480 ° C.

また、以上の構成を有するビスマス系封着材料は、PbOを実質的に含有せず、鉛硼酸系封着材料と同等の480℃以下の温度で焼成が可能であることに加えて、PbO含有封着材料と同等以上の熱的安定性を有しており、安定に使用できる温度範囲が極めて広範である。その結果、低温封着が要求されるVFD等の封着に好適である。さらに、PDPの製造工程において、480℃以上の高温で一次焼成した後にガラスに結晶が析出することがなく、且つ450〜480℃で二次焼成してもガラスに結晶が析出することがない。特に、ビスマス系封着材料の一次焼成を500℃以上で行った場合であっても、ガラスに結晶が析出し、その後に供される二次焼成で更に結晶の析出が進行するといった事態は生じない。したがって、二次焼成で良好な流動性を確保することができ、二次焼成で封着材料が的確に潰れるため、PDPの気密性を十分に確保することができる。また、本発明のビスマス系封着材料は、流動性が極めて優れるため、基板ガラスと封着材料の界面における反応も十分に進行し、前面基板と背面基板の封着強度を極めて上昇させることができる。その結果、PDPの長期信頼性の維持に大きく寄与することができる。すなわち、本発明のビスマス系封着材料は、熱的安定性が優れるため、失透を起因とする流動性の低下を生じることがないとともに、ガラスの軟化点が低いことに加え、封着材料本来の流動性を損なうことなく、最大限に発揮することができる。なお、広範な温度範囲において、良好な流動性を得ることができるため、その他の用途、すなわち複数の熱処理工程を経る電子部品およびディスプレイの封着、被覆等に的確に対処できるだけでなく、高温の熱処理工程を経る電子部品およびディスプレイの封着、被覆等に的確に対処することができる。具体的には、本発明のビスマス系封着材料は、フィールドエミッションディスプレイ(FED)、陰極線管(CRT)等のディスプレイの封着用途、VFD、PDP等の絶縁誘電体層形成用途、PDPのバリアリブ用途、磁気ヘッド−コア同士またはコアとスライダーの封着用途、水晶振動子やICパッケージ等の電子部品の封着に好適である。   Further, the bismuth-based sealing material having the above-described structure does not substantially contain PbO, and can be fired at a temperature of 480 ° C. or less equivalent to that of the lead boric acid-based sealing material. It has a thermal stability equivalent to or better than that of the sealing material, and the temperature range in which it can be used stably is extremely wide. As a result, it is suitable for sealing VFD or the like that requires low-temperature sealing. Further, in the PDP manufacturing process, crystals are not deposited on the glass after primary firing at a high temperature of 480 ° C. or higher, and crystals are not deposited on the glass even when subjected to secondary firing at 450 to 480 ° C. In particular, even when the primary firing of the bismuth-based sealing material is performed at 500 ° C. or higher, there is a situation in which crystals are precipitated on the glass and further the precipitation of crystals proceeds in the subsequent secondary firing. Absent. Therefore, good fluidity can be ensured by the secondary firing, and the sealing material can be accurately crushed by the secondary firing, so that the airtightness of the PDP can be sufficiently secured. Further, since the bismuth-based sealing material of the present invention has extremely excellent fluidity, the reaction at the interface between the substrate glass and the sealing material also proceeds sufficiently, and the sealing strength between the front substrate and the rear substrate can be extremely increased. it can. As a result, it can greatly contribute to maintaining the long-term reliability of the PDP. That is, since the bismuth-based sealing material of the present invention has excellent thermal stability, it does not cause a decrease in fluidity due to devitrification, and in addition to the low softening point of glass, the sealing material It can be maximized without impairing the original fluidity. In addition, since good fluidity can be obtained in a wide temperature range, it can not only properly deal with other applications, that is, sealing and coating of electronic parts and displays that have undergone multiple heat treatment steps, It is possible to accurately cope with the sealing and covering of electronic parts and displays that have undergone a heat treatment process. Specifically, the bismuth-based sealing material of the present invention is used for sealing a display such as a field emission display (FED) or a cathode ray tube (CRT), for forming an insulating dielectric layer such as a VFD or PDP, or for a barrier rib of a PDP. Suitable for use, sealing of magnetic head-core or core and slider, and sealing of electronic parts such as crystal resonator and IC package.

Claims (10)

下記酸化物基準のモル%表示で、Bi23 30〜60%、B23 10〜35%、Sb23 0.01〜5%を含有することを特徴とするビスマス系ガラス組成物。 Bismuth-based glass composition containing Bi 2 O 3 30 to 60%, B 2 O 3 10 to 35%, Sb 2 O 3 0.01 to 5% in terms of mol% based on the following oxides object. 下記酸化物基準のモル%表示で、Bi23 35〜60%、B23 10〜35%、Sb23 0.1〜5%を含有することを特徴とする請求項1に記載のビスマス系ガラス組成物。 It contains Bi 2 O 3 35-60%, B 2 O 3 10-35%, and Sb 2 O 3 0.1-5% in terms of mol% based on the following oxides. The bismuth-based glass composition described. モル%表示で、BaO+SrO+MgO+CaO 1〜15%、ZnO 5〜30%、CuO 0〜15%、Fe23 0〜5%を含有することを特徴とする請求項1または2に記載のビスマス系ガラス組成物。 By mol%, BaO + SrO + MgO + CaO 1~15%, 5~30% ZnO, 0~15% CuO, bismuth glass as claimed in claim 1 or 2, characterized in that it contains Fe 2 O 3 0 to 5% Composition. モル%表示で、CuO 0.1〜10%、Fe23 0.1〜5%を含有することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のビスマス系ガラス組成物。 By mol%, 0.1 to 10% CuO, bismuth glass composition according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it contains Fe 2 O 3 0.1~5%. 実質的にPbOを含有しないことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のビスマス系ガラス組成物。   The bismuth-based glass composition according to any one of claims 1 to 4, which is substantially free of PbO. ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、請求項1〜5のいずれかに記載のビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 40〜95体積%と、耐火性フィラー粉末 5〜60体積%とを含有することを特徴とするビスマス系封着材料。   In the sealing material containing glass powder and a refractory filler powder, 40-95 volume% of glass powder which consists of a bismuth-type glass composition in any one of Claims 1-5, and refractory filler powder 5-60 volume %. A bismuth-based sealing material characterized by comprising: ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、請求項1〜5のいずれかに記載のビスマス系ガラス組成物からなるガラス粉末 40〜90体積%と、耐火性フィラー粉末 10〜60体積%とを含有することを特徴とするビスマス系封着材料。   In the sealing material containing glass powder and a refractory filler powder, 40-90 volume% of glass powder which consists of a bismuth-type glass composition in any one of Claims 1-5, and refractory filler powder 10-60 volume %. A bismuth-based sealing material characterized by comprising: 前記耐火性フィラー粉末が、ウイレマイト、コーディエライト、β−ユークリプタイト、ジルコン、酸化スズ、ムライト、石英ガラスおよびアルミナからなる群より選ばれた一種または二種以上の耐火性フィラー粉末であることを特徴とする請求項6または7に記載のビスマス系封着材料。   The refractory filler powder is one or more refractory filler powders selected from the group consisting of willemite, cordierite, β-eucryptite, zircon, tin oxide, mullite, quartz glass and alumina. The bismuth-based sealing material according to claim 6 or 7. 封着または被覆用途に使用することを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載のビスマス系封着材料。   The bismuth-based sealing material according to any one of claims 6 to 8, which is used for sealing or coating applications. 蛍光表示管またはプラズマディスプレイパネルの封着に使用することを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載のビスマス系封着材料。   The bismuth sealing material according to any one of claims 6 to 9, which is used for sealing a fluorescent display tube or a plasma display panel.
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