KR101064228B1 - Lead-free glass frit composition for use in sealing - Google Patents

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Abstract

본 발명은 실질적으로 납(Pb)을 함유하지 않고 Bi2O3 32~42 몰%, ZnO 25~35 몰% 및 B2O3 22~28 몰%를 포함하는 유리프리트 80~95중량% 및 저팽창 세라믹 필러 5~20중량%를 포함하는 봉착용 무연 유리프리트 조성물에 있어서, 상기 유리프리트는, SiO2 0.5~5 몰%를 더 포함하고, Li2O, Na2O, K2O 및 Cs2O 중에서 선택된 1종 이상의 알카리금속 산화물 0.5~5 몰%을 더 포함하며, CoO, CuO, NiO 및 MnO 중에서 선택된 1종 이상의 전이금속 산화물을 0.5~4몰%를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물로서, 520 ℃에서 봉착 유리프리트를 1차 소결(sinter)시키더라도 결정상이 발생하지 않고, 보다 저온에서 봉착이 가능하며, 열팽창계수가 보다 작은 평판 디스플레이 패널(VFD, PDP, FED 등등) 봉착용 유리프리트 조성물에 관한 것이다. The present invention is substantially free of lead (Pb) and 80 to 95% by weight of glass frit containing 32 to 42 mol% of Bi 2 O 3 , 25 to 35 mol% of ZnO and 22 to 28 mol% of B 2 O 3 and in the rod wear lead-free glass frit composition comprising a low-expansion ceramic filler, 5 to 20% by weight, the glass frit is, SiO 2 0.5 ~ further comprising a 5 mol%, and Li 2 O, Na 2 O, K 2 O and 0.5 to 5 mol% of one or more alkali metal oxides selected from Cs 2 O, and 0.5 to 4 mol% of one or more transition metal oxides selected from CoO, CuO, NiO, and MnO. A lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel, wherein a sintered glass frit at 520 ° C. does not generate a crystal phase and can be sealed at a lower temperature and has a lower coefficient of thermal expansion (VFD). , PDP, FED and the like).

봉착, 유리프리트, 무연, 평판 디스플레이 패널 Sealed, glass frit, lead free, flat panel display panel

Description

봉착용 무연 유리프리트 조성물{Lead-free glass frit composition for use in sealing} Lead-free glass frit composition for use in sealing}

본 발명은 봉착용 유리프리트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a glass frit composition for sealing.

기존 봉착용 조성물은 주로 Pb(납)을 함유한 PbO-B2O3-SiO2계 유리프리트를 주성분으로 하고 세라믹 필러 또한 Pb를 함유한 PbTiO3가 주로 사용되었다. 최근에는 이러한 Pb(납) 성분이 토양이나 수질등에 오염을 유발시켜 전 세계적으로 사용규제가 이루어지는 실정이다. 따라서 Pb(납)을 실질적으로 함유하지 않는 봉착용 무연 유리프리트 조성물에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다. Existing sealing compositions are mainly composed of PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass frit containing Pb (lead), and PbTiO 3 containing ceramic filler and Pb is mainly used. Recently, the Pb (lead) component causes pollution to the soil or water quality, the situation is used worldwide. Therefore, studies on lead-free glass frit compositions for sealing substantially free of Pb (lead) have been actively conducted.

한국공개특허 제2003-0057344호에는 SnO 30~70몰%, P2O5 20~45몰%, La2O3 0.1~25몰%, RO(R은 Zn,Mg) 0~20몰%, Al2O3 0~10몰%, SiO2 0~15몰%, B2O3 0~30몰%, R'2O(R'는 Li,Na,K,Cs) 0~20몰%로 구성된 저온에서 봉착 가능한 납 성분을 함유하지 않는 인산 주석계 유리 및 이것을 이용한 복합재료, 한국공개특허 제2005-0105167호에는 B2O3/V2O5 20~80중량%, ZnO 0~60중량%, BaO 0~80중량%로 구성된 봉착가공용 무연 유리재와 이것을 이용한 봉착가공물 및 봉착가공방법, 한국공개특허 제2006-0116171호에는 V2O5 10~60몰%, P2O5 5~40몰%, Bi2O3 1~30몰%, TeO2 0~40몰%, R'2O(R'는 Li,Na,K,Cs) 0~20몰%, RO(R은 Mg,Ca,Sr,Ba) 0~30몰%로 구성된 바나듐 인산계 유리, 한국공개특허 제1997-0000898호에서는 P2O5 25~50몰%, SnO : ZnO의 몰비가 1:1 내지 5:1인 SnO 및 ZnO로 필수적으로 구성되는 밀봉용 무연유리 및 이의 제품, KR10-2005-0038472에서는 BaO 5~40중량%, ZnO 5~40중량%, B2O3 10~40중량%, V2O5 5~45중량%, R2O3(R은 As,Sb) 5~45중량%, SiO2 또는 무알카리계 폐유리 5~32중량%로 구성된 저융점 무연 프리트 유리의 제조방법, 한국공개특허 제2006-0032950호에서는 V2O5, ZnO, BaO, P2O5의 4종의 금속산화물을 필수성분으로 포함하는 봉착가공용 무연 유리재와 이것을 이용한 봉착가공물 및 봉착가공방법이 게시되어 있다. 또한, 한국공개특허 제2003-0010415호에서는 Bi2O3 60~75중량%, B2O3 7~15중량%, SiO2 5~7중량%, P2O5 1~18중량%, Al2O3 1~3중량%, ZnO 2~7중량%, BaO 1~3중량%, TiO2 0~2중량%로 구성된 무연 무알칼리 저융점 유리, 한국공개특허 제2007-0006711호에는 Bi2O3 70~85중량%, B2O3 4.5~10중량%, ZnO 8~20중량%, Al2O3 0.1~1중량%로 구성된 봉착용 조성물, 한국특허 제0653408호에서는 Bi2O3 30~45몰%, ZnO 13~35몰%, B2O3 20~35몰%가 주성분으로 구성된 평판디스플레이 패널 봉착용 무연프릿 조성물 및 상기프릿을 포함하는 페이스트 조성물이 개시되어 있다. Korean Patent Publication No. 2003-0057344 discloses SnO 30-70 mol%, P 2 O 5 20-45 mol%, La 2 O 3 0.1-25 mol%, RO (R is Zn, Mg) 0-20 mol%, Al 2 O 3 0-10 mol%, SiO 2 0-15 mol%, B 2 O 3 0-30 mol%, R ' 2 O (R' is Li, Na, K, Cs) 0-20 mol% Tin phosphate-based glass that does not contain lead components that can be sealed at low temperatures and composite materials using the same, Korean Patent Publication No. 2005-0105167 discloses 20 to 80% by weight of B 2 O 3 / V 2 O 5 and 0 to 60% by weight of ZnO. %, BaO 0 to 80% by weight lead-free glass material for sealing and sealing products and sealing method using the same, Korean Patent Publication No. 2006-0116171, V 2 O 5 10 ~ 60 mol%, P 2 O 5 5 ~ 40 mol%, Bi 2 O 3 1-30 mol%, TeO 2 0-40 mol%, R ' 2 O (R' is Li, Na, K, Cs) 0-20 mol%, RO (R is Mg, Ca, Sr, Ba) Vanadium phosphate-based glass composed of 0 to 30 mol%, P 2 O 5 25 to 50 mol%, SnO: ZnO molar ratio of 1: 1 to 5: 1 in Korea Patent Publication No. 1997-0000898 Lead-free glass and its products consisting essentially of SnO and ZnO, KR10-2005-0038472 Standing BaO 5 ~ 40 wt%, ZnO 5 ~ 40 wt%, B 2 O 3 10 ~ 40 wt%, V 2 O 5 5 ~ 45 wt.%, R 2 O 3 (R is As, Sb) 5 ~ 45 wt. %, SiO 2 or a method for producing a low melting lead-free frit glass composed of 5 to 32% by weight of alkali-free waste glass, Korean Patent Laid-Open No. 2006-0032950 discloses 4 of V 2 O 5 , ZnO, BaO, P 2 O 5 The lead-free glass material for sealing processing which contains a metal oxide of a species as an essential component, the sealing processed material, and the sealing processing method using the same are disclosed. In addition, Korean Patent Publication No. 2003-0010415 discloses 60 to 75 wt% of Bi 2 O 3 , 7 to 15 wt% of B 2 O 3 , 5 to 7 wt% of SiO 2 , 1 to 18 wt% of P 2 O 5 , and Al. 2 O 3 1 ~ 3% by weight, ZnO 2 ~ 7 wt%, BaO 1 ~ 3 weight%, TiO 2 0 ~ lead-free non-alkali consisting of 2% by weight of low-melting glass, Korea Patent Publication No. 2007-0006711 discloses a Bi 2 O 3 70 ~ 85 wt%, B 2 O 3 4.5 ~ 10 wt%, ZnO 8 ~ 20 wt%, Al 2 O 3 0.1 ~ the rod wear compositions, Korea Patent No. 0653408 No. consisting of 1 wt.% Bi 2 O 3 Disclosed is a lead-free frit composition for sealing a flat panel display panel composed of 30 to 45 mol%, 13 to 35 mol% of ZnO, and 20 to 35 mol% of B 2 O 3, and a paste composition including the frit.

이들 조성중에서 P2O5-SnO/ZnO계 유리프리트는 저온 봉착이 가능하나 화학적 내구성이 약하고 1차 소결 시 바인더의 burn out과정에서 유리프리트의 SnO가 Sn 금속으로 환원되어 2차 봉착 시 불균일 봉착이 이루어지고, 또한 유리와 유리의 접착부분이 약한 단점이 있으며, BaO-ZnO-B2O3계 유리프리트 또한 화학적 내구성이 약하고, 저온 봉착에 한계가 있어 화학적 내구성 관점에서 주로 Bi2O3계 유리프리트로 연구되고 있다.Among these compositions, P 2 O 5 -SnO / ZnO-based glass frit can be sealed at low temperature, but its chemical durability is weak and it is non-uniformly sealed at the time of secondary sealing because SnO of glass frit is reduced to Sn metal during burnout of binder during primary sintering. In addition, there is a weak point of the adhesion between the glass and the glass, BaO-ZnO-B 2 O 3 glass frit also has a weak chemical durability, there is a limit to low temperature sealing, Bi 2 O 3 system mainly from the viewpoint of chemical durability It is being studied with glass frit.

그러나, 상기 Bi2O3계 유리프리트는 평판 디스플레이 패널 봉착용으로 최근에는 공정과 원가절감을 위하여 내부 형광체 조성물과 봉착용 조성물의 1차 소결이 동시에 이루어지기 때문에 최소한 520℃까지 유리프리트 자체가 결정이 석출되지 않아야 하는데, 위의 조성들은 부분결정이 석출되어 2차 저온(500℃ 이하) 봉착 소성 시 부분 결정 부분이 재 용융되지 못하여 불균일 봉착이 초래되어 평판 디스플레이 패널의 수명을 단축시키는 원인이 된다. 또한, 520℃ 미만에서 형광체 조성물과 동시 소결을 하면 형광체 조성물 내부 바인더의 잔존으로 인해 평판 디스플레이 패널 내부에 Carbon이 존재하여 콘트라스트가 좋지 못한 결과를 얻게 된다. However, since the Bi 2 O 3 -based glass frit is used for sealing a flat panel display panel, the glass frit itself is determined to at least 520 ° C. since the first sintering of the internal phosphor composition and the sealing composition is performed simultaneously for the process and cost reduction. These compositions should not be precipitated, but the above compositions cause partial crystals to be precipitated, causing the partial crystal parts not to re-melt during secondary low temperature (500 ° C or less) sealing firing, resulting in uneven sealing, which shortens the life span of the flat panel display panel. . In addition, simultaneous sintering with the phosphor composition below 520 ° C. results in poor contrast due to the presence of carbon in the flat panel display panel due to the remaining binder in the phosphor composition.

따라서 본 발명은 상기한 기존의 봉착용 무연 유리프리트 조성물의 문제점을 해결하고, Pb(납)을 함유하지 않는 봉착 조성물로서, 형광체 조성물과 520℃ 에서 동시 소결이 가능하고 보다 저온에서 봉착이 가능한 동시에 열팽창계수도 보다 작은 봉착조성물을 제공하는데 있다. 구체적으로 1차 소결 온도는 520 ℃, 2차 봉착온도는 490 ℃ 이하, 혹은 바람직하게는 450 ℃ 이하이면서 열팽창계수는 82 × 10-7/℃ 이하의 봉착용 유리프리트 조성물의 제공을 과제로 한다.Accordingly, the present invention solves the problems of the conventional lead-free glass frit composition for sealing, and does not contain Pb (lead), and is a sealing composition that can be simultaneously sintered at 520 ° C. with a phosphor composition and at a lower temperature. The coefficient of thermal expansion also provides for a smaller sealing composition. Specifically, the primary sintering temperature is 520 ° C, the secondary sealing temperature is 490 ° C or less, or preferably 450 ° C or less and the thermal expansion coefficient is to provide a glass frit composition for sealing of 82 × 10 -7 / ° C or less. .

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 실질적으 로 납(Pb)을 함유하지 않고 Bi2O3 32~42 몰%, ZnO 25~35 몰% 및 B2O3 22~28 몰%를 포함하는 유리프리트 80~95중량% 및 저팽창 세라믹 필러 5~20중량%를 포함하는 봉착용 무연 유리프리트 조성물에 있어서, 상기 유리프리트는, SiO2 0.5~5 몰%를 더 포함하고, Li2O, Na2O, K2O 및 Cs2O 중에서 선택된 1종 이상의 알카리금속 산화물 0.5~5 몰%을 더 포함하며, CoO, CuO, NiO 및 MnO 중에서 선택된 1종 이상의 전이금속 산화물을 0.5~4몰%를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention is substantially free of lead (Pb) and 32 to 42 mol% of Bi 2 O 3 , 25 to 35 mol% of ZnO and 22 to 28 mol% of B 2 O 3. In the sealing lead-free glass frit composition comprising 80 to 95% by weight of glass frit and 5 to 20% by weight of low-expansion ceramic filler, the glass frit further comprises 0.5 to 5 mol% of SiO 2 , Li 0.5 to 5 mol% of one or more alkali metal oxides selected from 2 O, Na 2 O, K 2 O, and Cs 2 O, and 0.5 to 5 mol% of one or more transition metal oxides selected from CoO, CuO, NiO, and MnO. It further comprises 4 mol%.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물에서, 상기 알카리금속 산화물과 전이금속 산화물의 몰비는 1 : 1 내지 3 : 1인 것을 특징으로 한다.In the lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention, the molar ratio of the alkali metal oxide and the transition metal oxide is characterized in that 1: 1 to 3: 1.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물에서, 상기 알카리금속 산화물과 전이금속 산화물의 합은 3 ~ 6 몰%인 것을 특징으로 한다.In the lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention, the sum of the alkali metal oxide and the transition metal oxide is 3 to 6 mol%.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물에서, 상기 유리프리트는 BaO를 0.1~6 몰% 또는 Al2O3를 0.1~5몰% 더 포함하는 것을 특징으로 한다.In the lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention, the glass frit is characterized in that it further comprises 0.1-6 mol% BaO or 0.1-5 mol% Al 2 O 3 .

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물에서, 상기 유리프리트는 520 ℃에서 소결할 때 결정이 석출되지 않는 것을 특징으로 한다.In the lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention, the glass frit is characterized in that no crystal is precipitated when sintered at 520 ° C.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 형광체 조성물과 520 ℃ 이하, 바람직하게는 500 ~ 520 ℃, 더욱 바람직하게는 510 ~ 520 ℃, 가장 바람직하게는 515 ~ 520 ℃에서 동시 소성이 가능한 것을 특징으로 한다.The lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention is capable of co-firing at a phosphor composition and 520 ° C. or less, preferably 500 to 520 ° C., more preferably 510 to 520 ° C., and most preferably 515 to 520 ° C. It is characterized by.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 490 ℃ 이하, 바람직하게는 470℃ 이하, 더욱 바람직하게는 450 ℃ 이하, 가장 바람직하게는 430 ~ 450 ℃에서 봉착되는 것을 특징으로 한다.The lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention is characterized by being sealed at 490 ° C. or less, preferably 470 ° C. or less, more preferably 450 ° C. or less, and most preferably 430 to 450 ° C.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물에서, 상기 저팽창 세라믹 필러는 코디에라이트 및 지르콘 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 한다.In the lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention, the low-expansion ceramic filler is characterized in that at least one selected from cordierite and zircon.

본 발명의 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 30 ~ 300℃에서 열팽창계수의 값이 70 ~ 82 × 10-7/℃ 범위, 바람직하게는 70 ~ 80 × 10-7/℃, 더욱 바람직하게는 75 ~ 80 × 10-7/℃ 인 것을 특징으로 한다.The lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel of the present invention has a value of thermal expansion coefficient in the range of 70 to 82 × 10 −7 / ° C., preferably 70 to 80 × 10 −7 / ° C., more preferably at 30 to 300 ° C. Is characterized in that 75 ~ 80 × 10 -7 / ℃.

종래 무연 봉착 조성물은 520 ℃ 미만에서 결정이 석출되어 봉착 조성물과 형광체 조성물의 동시 소결이 어려워 공정단축에 의한 생산 원가 절감을 위해 510℃ 이하에서 동시 소성을 한다. 그러나 형광체 조성물 중 바인더는 520℃ 정도에서 완전 burn out 되는데, 510℃ 이하에서 동시소성하면 바인더가 잔존하게 된다. 이는 평판 디스플레이 패널 내부에 형광체 조성물 바인더의 잔존으로 인한 콘트라스트 불량과 수명을 단축시킨다. In the conventional lead-free sealing composition, crystals are precipitated at less than 520 ° C., so that the simultaneous sintering of the sealing composition and the phosphor composition is difficult, and therefore, simultaneous firing is performed at 510 ° C. or lower to reduce production cost due to process shortening. However, the binder in the phosphor composition is completely burned out at about 520 ℃, co-fired at 510 ℃ or less, the binder remains. This shortens the contrast and lifespan due to the remaining of the phosphor composition binder inside the flat panel display panel.

따라서 본 발명의 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 이러한 문제점을 해결 하여 저온 봉착이 가능하도록 유리의 전이온도와 연화온도가 낮고, 520 ℃에서 결 정 석출이 없으면서 플로우버튼(Flow Button) 특성이 우수한 봉착용 조성물을 제공함으로써, 봉착 후의 내구성과 신뢰성이 우수한 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물을 제공하고, 실질적으로 Pb(납)를 함유하지 않은 친환경 소재이므로 환경오염에 노출될 우려가 없다. Therefore, the lead-free glass frit composition for sealing according to the present invention solves this problem and has a low transition temperature and softening temperature of glass to enable low temperature sealing, and has excellent flow button (Flow Button) characteristics without crystal precipitation at 520 ° C. By providing the composition, there is provided a lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel excellent in durability and reliability after sealing, and since it is an eco-friendly material substantially free of Pb (lead), there is no fear of exposure to environmental pollution.

본 발명은 실질적으로 납(Pb)을 함유하지 않는 봉착용 유리프리트 조성물로써, 형광표시장치(VFD), 전계방사형 디스플레이(FED), 플라즈마 디스플레이 패널(PDP)등과 같은 평판 디스플레이 패널 봉착에 사용된다.The present invention is a sealing glass frit composition substantially free of lead (Pb), and is used for sealing flat display panels such as fluorescent display devices (VFDs), field emission displays (FEDs), plasma display panels (PDPs), and the like.

기존 봉착용 조성물은 주로 납을 함유한 PbO-B2O3-SiO2계 유리프리트를 주성분으로 하고 세라믹 필러 또한 납을 함유한 PbTiO3가 주로 사용되었다. 최근에는 이러한 납 성분이 토양이나 수질등에 오염을 유발시켜 전 세계적으로 사용규제가 이루어지는 실정이다. 따라서 납을 실질적으로 함유하지 않는 봉착용 무연 유리프리트 조성물에 대한 연구가 활발하게 이루어지고 있다. Existing sealing composition mainly contains lead-containing PbO-B 2 O 3 -SiO 2 -based glass frit, and ceramic filler and lead-containing PbTiO 3 were mainly used. In recent years, the use of lead leads to contamination of soil and water quality, and the situation is regulated worldwide. Therefore, research on lead-free glass frit compositions for sealing substantially free of lead has been actively conducted.

이들 조성중에서 P2O5-SnO/ZnO계 유리프리트는 저온 봉착이 가능하나 화학적 내구성이 약하고 1차 소결시 바인더의 burn out과정에서 유리프리트의 SnO가 Sn 금속으로 환원되어 2차 봉착시 불균일 봉착이 이루어지고, 또한 유리와 유리의 접착부분이 약한 단점이 있으며, BaO-ZnO-B2O3계 유리프리트 또한 화학적 내구성이 약하 고, 저온 봉착에 한계가 있어 화학적 내구성 관점에서 주로 Bi2O3계 유리프리트로 연구되고 있다.Among these compositions, P 2 O 5 -SnO / ZnO-based glass frit can be sealed at low temperature, but its chemical durability is weak and it is non-uniformly sealed at the time of secondary sealing because SnO of glass frit is reduced to Sn metal during burn out process of binder during primary sintering. In addition, there is a weak point that the adhesion between the glass and the glass, BaO-ZnO-B 2 O 3 glass frit also has a weak chemical durability, there is a limit to low temperature sealing, Bi 2 O 3 mainly in terms of chemical durability The glass frit has been studied.

그러나, 상기 Bi2O3계 유리프리트는 평판 디스플레이 패널 봉착용으로 최근에는 공정과 원가절감을 위하여 내부 형광체 조성물과 봉착용 조성물의 1차 소결이 동시에 이루어지기 때문에 최소한 520℃까지 유리프리트 자체가 결정이 석출되지 않아야 하는데, 위의 조성들은 부분결정이 석출되어 2차 저온(500℃ 이하) 봉착 소성 시 부분 결정 부분이 재 용융되지 못하여 불균일 봉착이 초래되어 평판 디스플레이 패널의 수명을 단축시키는 원인이 된다. 또한, 520℃ 미만에서 형광체 조성물과 동시 소결을 하면 형광체 조성물 내부 바인더의 잔존으로 인해 평판 디스플레이 패널 내부에 Carbon이 존재하여 콘트라스트가 좋지 못한 결과를 얻게 되어 평판디스플레이 패널의 내구성 및 신뢰성 문제를 야기 시킨다. 따라서 본 발명은 상기한 기존의 봉착용 무연 유리프리트 조성물의 문제점을 해결하고, 납을 함유하지 않는 봉착 조성물로서, 형광체 조성물과 520℃ 이하에서 동시 소결이 가능하고 보다 저온에서 봉착이 가능한 동시에 저온 유동성이 우수하고 결정 석출 문제가 없으며 열팽창계수도 보다 작은 봉착용 무연프리트 조성물을 발명함으로써, 평판 디스플레이 패널 제조공정의 생산성 향상과 내구성 및 신뢰성을 향상시킬 수 있었다. However, since the Bi 2 O 3 -based glass frit is used for sealing a flat panel display panel, the glass frit itself is determined to at least 520 ° C. since the first sintering of the internal phosphor composition and the sealing composition is performed simultaneously for the process and cost reduction. These compositions should not be precipitated, but the above compositions cause partial crystals to be precipitated, causing the partial crystal parts not to re-melt during secondary low temperature (500 ° C or less) sealing firing, resulting in uneven sealing, which shortens the life span of the flat panel display panel. . In addition, simultaneous sintering with the phosphor composition at less than 520 ° C results in poor contrast due to the presence of carbon in the flat panel display panel due to the remaining binder in the phosphor composition, which causes durability and reliability problems of the flat panel display panel. Accordingly, the present invention solves the problems of the conventional lead-free glass frit composition for sealing and does not contain lead, and is a sealing composition containing no lead, which can be simultaneously sintered with the phosphor composition at 520 ° C. or lower, and can be sealed at a lower temperature and at the same time low temperature fluidity. By inventing this excellent lead-free frit composition for sealing, which has no problem of crystal precipitation and smaller thermal expansion coefficient, productivity and durability and reliability of a flat panel display panel manufacturing process can be improved.

본 발명의 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 1차 소결 온도는 520℃ 이하에서 형광체 조성물과 동시 소결이 가능하고, 실질적으로 납을 함유하지 않고, Bi2O3 32~42 몰%, ZnO 25~35 몰% 및 B2O3 22~28 몰% 포함하는 유리프리트 80~95중량% 와 저팽창 세라믹 필러 5~20중량%로 구성되며, 상기 유리프리트에 SiO2 0.5~5 몰%를 더 포함하고, Li2O, Na2O, K2O 및 Cs2O 중에서 선택된 1종 이상의 알카리금속 산화물 0.5~5 몰%을 더 포함하며, CoO, CuO, NiO 및 MnO 중에서 선택된 1종 이상의 전이금속 산화물을 0.5~4몰%를 더 포함하는 조성이다. The lead-free glass frit composition for sealing of the present invention can be co-sintered with the phosphor composition at a primary sintering temperature of 520 ° C. or lower, substantially free of lead, and 32 to 42 mol% of Bi 2 O 3 and 25 to 35 ZnO. 80 to 95% by weight of glass frit containing 22 to 28 mol% of mol% and B 2 O 3 and 5 to 20% by weight of low-expansion ceramic filler, and further comprising 0.5 to 5 mol% of SiO 2 in the glass frit. It further comprises 0.5 to 5 mol% of at least one alkali metal oxide selected from Li 2 O, Na 2 O, K 2 O and Cs 2 O, and at least one transition metal oxide selected from CoO, CuO, NiO and MnO. It is a composition containing 0.5-4 mol% further.

유리프리트의 구성 중 Bi2O3는 PbO를 대체하는 물질로써, 유리프리트의 저용융화 시키는데 필수적인 성분이다. Bi2O3의 함량이 32몰% 미만 조성에서는 유리프리트의 저용융화가 불충분 하여 봉착재료로써 역할이 어렵고, 42몰%을 초과하면 유리프리트의 보다 더 저용융화는 가능하지만 열팽창계수가 증가하고, 520℃ 이하에서 결정이 석출되어 봉착이 어렵게 된다. 따라서 유리프리트에서 Bi2O3 함유량은 보다 저온봉착과 결정 석출이 없는 범위는 32 ~ 42 몰%, 보다 바람직하게는 34 ~ 41 몰% 범위이다. Bi 2 O 3 is a material that replaces PbO and is an essential component for low melting of glass frit. If the content of Bi 2 O 3 is less than 32 mol%, the low melting of the glass frit is insufficient, which makes it difficult to serve as an encapsulating material. If the content of the Bi 2 O 3 exceeds 42 mol%, the melting coefficient of the glass frit is lower than that of the glass frit. The crystals precipitate at or below 520 ° C., making sealing difficult. Therefore, the content of Bi 2 O 3 in the glass frit is 32 to 42 mol%, more preferably 34 to 41 mol%, in the range without lower temperature sealing and crystal precipitation.

또한, 유리프리트의 구성 중 ZnO는 Bi2O3와 함께 유리프리트의 저용융화 하는데 필수적인 성분이다. ZnO의 함량이 25몰% 미만 조성에서는 봉착소성 시 유리프리트의 열팽창계수 증가와 저온 봉착이 어렵고, 35몰%을 초과하면 봉착 소성 시 유리프리트의 결정화가 쉽게 되어 봉착이 어렵게 된다. 따라서 유리프리트에서 ZnO 함유량은 보다 저온봉착과 결정 석출이 없는 범위는 25 ~ 35 몰%, 보다 바람직하게는 27 ~ 33 몰% 범위이다.In addition, ZnO of the configuration of the glass frit is a necessary ingredient to screen low-melting glass frit with Bi 2 O 3. When the content of ZnO is less than 25 mol%, it is difficult to increase the coefficient of thermal expansion and low temperature sealing of the glass frit at the time of sealing firing, and when it exceeds 35 mol%, the glass frit is easily crystallized during the sealing firing, making the sealing difficult. Thus ZnO in glass frit The content is in the range of 25 to 35 mol%, more preferably in the range of 27 to 33 mol%, with no lower temperature sealing and crystal precipitation.

또한, 유리프리트의 구성 중 B2O3는 유리의 망목을 형성하고 1차 소결 및 2 차 봉착 소성 시 유리의 결정화를 억제하기 위한 필수적인 성분이다. B2O3의 함량이 22몰% 미만 조성에서는 봉착소성 시 유리프리트의 결정을 억제하는 효과가 없으며, 28몰%을 초과하면 유리프리트의 저용융화가 불충분 하여 봉착이 어렵게 된다. 따라서 유리프리트에서 B2O3 함유량은 보다 저온봉착과 결정 석출이 없는 범위는 22 ~ 28몰%, 보다 바람직하게는 23 ~ 26 몰% 범위이다. In addition, B 2 O 3 in the composition of the glass frit is an essential component for forming a mesh of glass and suppressing crystallization of the glass during the primary sintering and the secondary sealing firing. If the content of B 2 O 3 is less than 22 mol%, there is no effect of inhibiting the crystals of the glass frit at the time of sealing firing, and if it exceeds 28 mol%, the melting of the glass frit is insufficient and the sealing becomes difficult. Therefore, the B 2 O 3 content in the glass frit is in the range of 22 to 28 mol%, more preferably 23 to 26 mol%, in the range without lower temperature sealing and crystal precipitation.

또한, 유리프리트의 구성 중 SiO2는 유리의 화학적 내구성을 향상시키고 미미하게 결정을 억제하기 위한 필수적인 성분이다. SiO2의 함량이 0.5몰% 미만 조성에서는 봉착소성 시 유리프리트의 결정을 억제하는 효과가 없으며, 5몰%을 초과하면 유리의 연화점을 높여 저온봉착을 어렵게 한다. 유리프리트에서 SiO2 함유량은 보다 저온봉착과 결정 석출이 없는 범위는 0.5 ~ 5몰%, 보다 바람직하게는 1.5 ~ 4.5 몰% 범위이다. In addition, SiO 2 in the composition of the glass frit is an essential component for improving the chemical durability of the glass and slightly suppressing the crystal. If the content of SiO 2 is less than 0.5 mol%, there is no effect of inhibiting the crystals of the glass frit at the time of sealing firing, and if it exceeds 5 mol%, the softening point of the glass increases, making it difficult to seal at low temperatures. In the glass frit, the SiO 2 content is in the range of 0.5 to 5 mol%, more preferably 1.5 to 4.5 mol%, in the range of lower temperature sealing and no crystal precipitation.

상기 유리프리트는 Bi2O3-B2O3-ZnO-SiO2 4성분 만으로 보다 저온 봉착 및 화학적 내구성과 유리의 결정을 억제하는데 한계가 있다. 따라서 Li2O, Na2O, K2O 및 Cs2O 중에서 선택된 1종 이상의 알카리금속산화물 및 CoO, CuO, NiO 및 MnO 중에서 선택된 1종 이상의 전이금속산화물을 더 함유할 필요가 있다.The glass frit has a limitation in suppressing the low temperature sealing and chemical durability and the crystal of glass with only Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -ZnO-SiO 2 4 components. Therefore, it is necessary to further contain at least one alkali metal oxide selected from Li 2 O, Na 2 O, K 2 O and Cs 2 O and at least one transition metal oxide selected from CoO, CuO, NiO and MnO.

Li2O, Na2O, K2O 및 Cs2O 중에서 선택된 1종 이상의 알카리금속산화물은 유리프리트의 저용융화에 필수적인 요소이고 결정을 억제하는데 필수적이지만 열팽창계 수를 큰 폭으로 향상시키므로 함유량에 신중을 기해야 한다. 따라서, 알카리금속산화물은 0.5~5 몰% 범위로, 보다 바람직하게는 2 ~ 4 몰% 범위로 포함시켜야 한다.The at least one alkali metal oxide selected from Li 2 O, Na 2 O, K 2 O and Cs 2 O is essential for low melting of glass frit and is essential for inhibiting crystallization, but it greatly improves the coefficient of thermal expansion. Be careful. Therefore, the alkali metal oxide should be included in the range of 0.5 to 5 mol%, more preferably in the range of 2 to 4 mol%.

CoO, CuO, NiO 및 MnO 중에서 선택된 1종 이상의 전이금속산화물은 유리프리트의 용융을 촉진시켜 유리의 구조적 안정성을 주며, 유리프리트의 결정화를 억제하여 결정석출 온도를 높여준다. 따라서, 전이금속산화물은 0.5 ~ 4 몰% 범위로, 보다 바람직하게는 1 ~ 2.5 몰% 범위로 포함시켜야 한다.At least one transition metal oxide selected from CoO, CuO, NiO, and MnO promotes the melting of the glass frit to give structural stability to the glass, and suppresses crystallization of the glass frit to increase the crystal precipitation temperature. Therefore, the transition metal oxide should be included in the range of 0.5 to 4 mol%, more preferably in the range of 1 to 2.5 mol%.

상기 알카리금속산화물과 전이금속산화물은 반드시 함께 포함되어야 하고, 알카리금속산화물과 전이금속산화물의 몰비는 1 : 1 내지 3 : 1이 바람직하다. 전이금속산화물 1몰을 기준으로 알카리금속산화물이 1몰 미만인 경우에는 저온유동성이 좋지 못하여 저온봉착이 어려운 문제가 발생하고, 알카리금속산화물이 3몰을 초과하는 경우에는 유리프리트 열팽창계수 증가로 인한 봉착 소성 시 열응력이 발생하여 내구성과 신뢰성 문제가 발생하고 또한 520℃ 미만에서 결정이 석출되는 문제가 있다.The alkali metal oxide and the transition metal oxide must be included together, and the molar ratio of the alkali metal oxide and the transition metal oxide is preferably 1: 1 to 3: 1. If the alkali metal oxide is less than 1 mole based on 1 mole of the transition metal oxide, low temperature fluidity is poor and low temperature sealing becomes difficult. If the alkali metal oxide exceeds 3 moles, the sealing is caused by an increase in the glass frit coefficient of thermal expansion. Thermal stress occurs during firing, resulting in durability and reliability problems, and there is a problem in that crystals are precipitated at less than 520 ° C.

또한 알카리금속산화물과 전이금속산화물의 합은 전체 유리프리트에서 3 ~ 6 몰%가 바람직하다. 알카리금속산화물과 전이금속산화물의 합이 3 몰% 미만인 경우에는 저온유동성이 좋지 못하여 저온봉착이 어렵고, 6 몰%를 초과하는 경우에는 열팽창계수 증가로 인한 봉착 소성 시 열응력이 발생하여 내구성과 신뢰성 문제가 발생된다.In addition, the sum of the alkali metal oxide and the transition metal oxide is preferably 3 to 6 mol% based on the total glass frit. When the sum of alkali metal oxide and transition metal oxide is less than 3 mol%, low temperature fluidity is poor, and low temperature sealing is difficult, and when it exceeds 6 mol%, thermal stress occurs during sealing firing due to an increase in coefficient of thermal expansion. A problem arises.

또한, 유리프리트에는 저온봉착과 결정 석출이 없도록 BaO를 0.1~6 몰%, Al2O3를 0.1 ~ 5 몰% 더 포함할 수 있다.In addition, the glass frit may further include 0.1-6 mol% of BaO and 0.1-5 mol% of Al 2 O 3 to prevent low temperature sealing and crystal precipitation.

유리프리트의 열팽창계수는 바람직하게는 120 × 10-7/℃ 이하, 보다 바람직하게는 110 × 10-7/℃ 이하이다. 그 이상도 가능하지만 봉착 조성물로 사용되기 위해서는 열팽창계수를 평판 디스플레이 패널유리 열팽창계수와 유사하거나 낮게 하기 위하여 더 많은 세라믹필러를 함유해야 하는데, 이는 봉착 소성 시 저온 유동성 문제가 발생하여 보다 더 저온 봉착이 어렵게 된다.The coefficient of thermal expansion of the glass frit is preferably 120 × 10 −7 / ° C. or less, more preferably 110 × 10 −7 / ° C. or less. More than that is possible, but in order to be used as sealing composition, more ceramic filler should be included to make the coefficient of thermal expansion similar to or lower than the coefficient of thermal expansion of flat panel display panel glass. Becomes difficult.

유리프리트의 연화점(Td : Dilatometer로 측정한 연화점)이 400 ℃ 이하가 바람직하다. 유리프리트의 연화점이 400 ℃을 초과하는 경우에는 원하는 정도의 저온 유동성을 얻기 위하여 저팽창 세라믹필러의 함량이 봉착용 무연 유리프리트 조성물에서 5중량% 이하로 함유해야 하는데, 이 경우 봉착 소성 시 평판 디스플레이 패널유리의 열팽창계수와 맞지 않아 열응력이 발생하여 내구성과 신뢰성 문제가 발생한다. The softening point of the glass frit (Td: softening point measured by a dilatometer) is preferably 400 ° C or lower. If the softening point of the glass frit exceeds 400 ℃, the low-expansion ceramic filler should contain 5 wt% or less of the lead-free glass frit composition for sealing in order to obtain a desired low temperature fluidity. Inconsistent with the coefficient of thermal expansion of panel glass, thermal stress is generated, resulting in durability and reliability problems.

봉착용 무연 유리프리트 조성물에 저팽창 세라믹 필러를 5 ~ 20 중량% 함유시키는 것이 바람직하다. 여기서 저팽창 세라믹 필러는 열팽창계수가 유리프리트 보다 상대적으로 현저하게 낮은 코디에라이트(2MgOㆍ2Al2O3ㆍ5SiO2) 와 지르콘(ZrSiO4)으로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하며, 봉착용 유리프리트 조성물 전체에 5 중량% 미만이면 열팽창계수가 평판 디스플레이 패널유리의 열팽창계수보다 높아 봉착 소성 시 열응력이 발생하고, 20 중량%를 초과 하면 연화점(Td : Dilatometer측정 연화점)이 400℃ 이상이 되어 저온 유동성 감소로 인한 보다 저온 봉착이 어렵게 된다. 따라서 세라믹필러의 함량은 5 ~ 20 중량%가 바람직하며, 더욱 바람직하게는 8 ~ 12 중량%가 좋다.It is preferable to contain 5-20 weight% of low-expansion ceramic filler in the lead-free glass frit composition for sealing. Here, the low-expansion ceramic filler is characterized in that the thermal expansion coefficient of at least one selected from the group consisting of cordierite (2MgO · 2Al 2 O 3 · 5SiO 2 ) and zircon (ZrSiO 4 ), which is significantly lower than the glass frit, If the sealing glass frit composition is less than 5% by weight, the thermal expansion coefficient is higher than the thermal expansion coefficient of the flat panel display panel glass, and thermal stress occurs during sealing firing, and if it exceeds 20% by weight, the softening point (Td: Dilatometer measurement softening point) is 400 ° C. This makes it more difficult to seal at a lower temperature due to the decrease in low temperature fluidity. Therefore, the content of the ceramic filler is preferably 5 to 20% by weight, more preferably 8 to 12% by weight.

또한, 유리프리트 및 저팽창 세라믹 필러를 포함하는 봉착용 무연 유리프리트 조성물의 열팽창계수는 70 ~ 82 × 10-7/℃ 범위, 연화점(Td : Dilatometer측정 연화점)이 400℃ 이하가 바람직하다. 더욱 바람직하게는 열팽창계수는 70 ~ 80×10-7/℃, 가장 바람직하게는 75 ~ 80 ×10-7/℃이고, 연화점(Td : Dilatometer측정 연화점)은 390℃ 이하가 더욱 바람직하다.In addition, the thermal expansion coefficient of the lead-free glass frit composition for sealing including the glass frit and the low-expansion ceramic filler is preferably in the range of 70 to 82 × 10 −7 / ° C., and the softening point (Td: Dilatometer measurement softening point) is 400 ° C. or less. More preferably, the coefficient of thermal expansion is 70 to 80 × 10 −7 / ° C., most preferably 75 to 80 × 10 −7 / ° C., and the softening point (Td: Dilatometer measurement softening point) is more preferably 390 ° C. or less.

본 발명의 유리프리트(분말) 및 봉착용 무연 유리프리트 조성물은 상온에서 520℃까지 10℃/min 승온 속도로 상승하여 소결온도 520℃ 이하 범위내의 소결하고자 하는 온도에서 18분 유지할 때 결정이 석출되지 않는 조성을 갖는 유리프리트로서 1차 소결 시 봉착용 유리프리트 조성물 단독 또는 봉착용 유리프리트 조성물과 형광체 조성물이 520℃ 이하 동시 소성이 가능하여 제조공정 단축에 따른 생산원가 절감 효과가 있다. 따라서 여러 종류의 평판 디스플레이 패널 봉착용에 적용하기 위해서는 무연 유리프리트 조성물이 520℃ 에서 결정 석출이 안되는 게 바람직하다.The glass frit (powder) of the present invention and the lead-free glass frit composition for sealing are not precipitated when they are maintained at a temperature to be sintered at a temperature of 10 ° C./min up to 520 ° C. at a temperature of sintering temperature of 520 ° C. or less for 18 minutes. As a glass frit having a composition which does not have a composition, the sealing glass frit composition alone or the sealing glass frit composition and the phosphor composition may be simultaneously fired at 520 ° C. or lower during the first sintering, thereby reducing the production cost according to the shortening of the manufacturing process. Therefore, in order to apply to sealing of various types of flat panel display panels, it is preferable that the lead-free glass frit composition does not crystallize at 520 degreeC.

이하, 본 발명을 실시예 및 실험예에 의해 상세히 설명한다. 단, 하기 실시예 및 실험예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐, 본 발명의 내용이 이에 한정되는 것은 아니다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Experimental Examples. However, the following Examples and Experimental Examples are merely illustrative of the present invention, but the content of the present invention is not limited thereto.

하기 표 1에 나타내는 화학조성이 되도록 원료를 조합ㆍ혼합 후, 이 혼합원료를 용융도가니에 넣어서 1100℃에서 30분 용융ㆍ청징, 냉각 등의 과정을 거쳐 유리를 만들었다. 얻어진 유리를 볼밀에 넣어서 건식분쇄를 행한 후, 100㎛ 체거름을 통하여 유리프리트 분말을 얻었다. 레이저 산란식 입도분포계를 사용하여 체적분포 모드의 D50의 값으로 측정한 유리프리트 분말의 평균입경은 8~12㎛ 이었다. 유리프리트 분말과 저팽창 세라믹 필러[Cordierite(2MgOㆍ2Al2O3ㆍ5SiO2), Zircon(ZrSiO4)]를 표 1에 나타낸 비율로 혼합하여 봉착 조성물 분말을 얻었다. 이때 얻어진 각각의 유리프리트 분말과 봉착 조성물 분말에 대한 유리전이점, 연화점, 열팽창계수, 플로우버튼을 다음과 같은 방법으로 측정하여 표 1에 나타내었다.The raw materials were combined and mixed so as to form the chemical compositions shown in Table 1 below, and then the mixed raw materials were placed in a melting crucible to produce glass through melting, clarification, and cooling at 1100 ° C. for 30 minutes. After the obtained glass was put into a ball mill and subjected to dry grinding, glass frit powder was obtained through a 100 µm sieve. Laser system using a scattering type particle size distribution of the average particle diameter of a glass frit powder, measured by the values of D 50 of the volume distribution mode was 8 ~ 12㎛. The glass frit powder and the low-expansion ceramic filler [Cordierite (2MgO.2Al 2 O 3 .5SiO 2 ), Zircon (ZrSiO 4 )] were mixed at the ratio shown in Table 1 to obtain a sealing composition powder. The glass transition point, the softening point, the coefficient of thermal expansion, and the flow button for each of the glass frit powders and the sealing composition powders obtained at this time were measured and shown in Table 1 below.

(1) 열팽창계수, 전이점, 연화점(1) coefficient of thermal expansion, transition point, softening point

유리프리트와 봉착조성물 분말을 가압 성형한 시편을 표 1에 나타낸 봉착온도로 소성한 후 약 5×5×40mm 소성체로 절단하여 열기계분석장치(Dilatometer)를 이용하여, 실온에서 5℃/min으로 승온될 때 얻어지는 곡선으로부터 30~300℃부근에서 열팽창계수를 구하고, 얻어진 곡선의 급 상승되는 지점을 전이점, 곡선이 상승하다 떨어지는 지점을 연화점(TdㆍTs : Dilatometer 상의 연화점)으로 구하였다.The glass frit and the sealing composition powder were press-molded at the sealing temperature shown in Table 1, and then cut into a 5 x 5 x 40 mm fired body and cut at room temperature to 5 ° C / min using a dilatometer. The thermal expansion coefficient was calculated from the curve obtained when the temperature was raised to around 30 to 300 ° C, and the sudden rise point of the obtained curve was determined as the transition point and the point where the curve rose and fell as the softening point (Td · Ts: softening point on the dilatometer).

(2) 플로우버튼(F/B)(2) Flow Button (F / B)

ASTM C 374-70(Standard Test Method for Fusion Flow of Porcelain Enamel Frits)에 따라 유리프리트와 봉착조성물 분말 3.5±0.05g을 직경 12mm의 원통형으로 가압 성형한 시편을 소다라임유리 위에 얹고, 실온에서 10℃/min으로 승온하여 485℃, 500℃ 또는 520℃의 정해진 1차 소결온도에서 18분간 유지했을 때 얻어지는 소성체의 외형 최대치를 측정해서 얻었다. 또한, 이 소결체의 표면 관찰로 인한 결정 석출 유(Y)ㆍ무(N)를 확인 하였다.According to ASTM C 374-70 (Standard Test Method for Fusion Flow of Porcelain Enamel Frits), 3.5 ± 0.05 g of glass frit and sealing composition powder were press-molded into a 12 mm-diameter cylindrical cylinder on top of soda-lime glass. It measured and obtained the maximum external shape of the fired body obtained when it heated up at / min and hold | maintained for 18 minutes at 485 degreeC, 500 degreeC, or 520 degreeC fixed primary sintering temperature. Furthermore, crystal precipitation oil (Y) and no (N) by the surface observation of this sintered compact were confirmed.

구분
division
제조예Manufacturing example
aa bb cc dd ee ff gg hh ii jj kk Bi2O3 (mol%)Bi 2 O 3 (mol%) 34.034.0 39.039.0 37.037.0 40.040.0 40.040.0 40.540.5 40.040.0 40.040.0 41.541.5 43.043.0 44.544.5 B2O3 (mol%)B 2 O 3 (mol%) 22.022.0 22.022.0 21.521.5 24.024.0 23.523.5 24.524.5 24.024.0 24.024.0 21.021.0 21.521.5 22.022.0 ZnO (mol%)ZnO (mol%) 34.034.0 31.031.0 38.038.0 28.028.0 28.028.0 29.029.0 28.028.0 28.028.0 29.029.0 26.526.5 24.524.5 BaO (mol%)BaO (mol%) -- 3.53.5 0.50.5 -- -- -- -- -- -- -- -- SiO2 (mol%)SiO 2 (mol%) 2.62.6 3.03.0 -- 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 Al2O3 (mol%)Al 2 O 3 (mol%) 1.41.4 1.51.5 1.01.0 0.50.5 0.50.5 0.50.5 -- -- -- -- -- Na2O (mol%)Na 2 O (mol%) 5.05.0 -- 2.02.0 4.04.0 2.52.5 3.53.5 3.53.5 3.53.5 3.53.5 4.04.0 4.04.0 CoO (mol%)CoO (mol%) 1.01.0 -- -- 1.51.5 3.53.5 -- 2.52.5 -- 3.03.0 3.03.0 3.03.0 NiO (mol%)NiO (mol%) -- -- -- -- -- -- -- 2.52.5 -- -- -- CTE(×10-7/℃)CTE (× 10 -7 / ℃) 113113 103103 104104 111111 105105 104104 109109 108108 113113 115115 114114 전이점(℃)Transition point (℃) 360360 370370 360360 353353 375375 360360 355355 355355 340340 330330 338338 연화점(℃)Softening point (℃) 390390 405405 380380 380380 410410 380380 380380 380380 360360 355355 365365 결정생성(500 ℃)Crystal Formation (500 ℃) NN NN NN NN NN NN NN NN NN NN YY 결정생성(520 ℃)Crystal Formation (520 ℃) YY YY YY NN NN YY NN NN YY YY YY F/B at 520 ℃(mm)F / B at 520 ℃ (mm) 20.520.5 19.819.8 20.120.1 22.822.8 20.820.8 20.420.4 23.823.8 23.823.8 20.520.5 20.320.3 20.020.0

구분
division
실시예Example 비교예Comparative example
1One 22 33 1One 22 33 44 55 66 77 88 유리
프리트
Glass
Frit
종류Kinds dd gg hh aa bb cc cc ee hh jj jj
중량%weight% 8888 8888 9090 9090 9090 9292 9292 9090 9090 9090 9090 필러filler Cordierite(중량%)Cordierite (% by weight) 88 88 1010 1010 1010 88 88 1010 1010 1010 1010 Zircon(중량%)Zircon (% by weight) 44 44 -- -- -- -- -- -- -- -- -- 조건Condition 1차소결온도(℃)Primary sintering temperature (℃) 520520 520520 520520 520520 520520 500500 520520 520520 500500 500500 520520 최저봉착온도(℃)Sealing temperature (℃) 460460 450450 450450 470470 485485 470470 470470 490490 450450 440440 440440 특성characteristic CTE(×10-7/℃)CTE (× 10 -7 / ℃) 80.380.3 80.580.5 79.579.5 82.582.5 81.581.5 80.380.3 80.380.3 81.781.7 79.579.5 81.281.2 81.281.2 전이점(℃)Transition point (℃) 350350 355355 350350 360360 370370 365365 365365 375375 350350 335335 335335 연화점(℃)Softening point (℃) 390390 378378 376376 390390 410410 390390 390390 415415 376376 365365 365365 F/B at 485 ℃(mm)F / B at 485 ℃ (mm) 19.319.3 19.719.7 19.719.7 -- -- -- -- 17.817.8 -- -- -- F/B at 500 ℃(mm)F / B at 500 ℃ (mm) -- -- -- -- -- 19.619.6 -- -- 20.520.5 20.520.5 -- F/B at 520 ℃(mm)F / B at 520 ℃ (mm) 21.521.5 22.022.0 22.022.0 18.718.7 18.518.5 -- 19.119.1 20.020.0 -- -- 19.719.7 결정생성 여부
(1차소결온도에서)
Crystal Formation
(At 1st sintering temperature)
NN NN NN YY YY NN YY NN NN NN YY

제조예 b, c 및 f는 알카리금속산화물 및 전이금속산화물 중 어느 하나 이상이 포함되지 않은 조성물로서, 500 ℃에서는 결정이 생성되지 않지만 520 ℃에서는 결정이 생성되며, 플로우버튼이 21 미만이고, 특히 제조예 b는 연화점마저 매우 높아 봉착용 조성물에 사용되기에 부적합하였다.Preparation Examples b, c and f are compositions containing no one or more of alkali metal oxides and transition metal oxides, wherein no crystals are formed at 500 ° C., but crystals are formed at 520 ° C., and the flow button is less than 21, in particular. Preparation Example b was also very unsuitable for use in sealing compositions because the softening point was very high.

제조예 a, i, j 및 k는 알카리금속산화물과 전이금속산화물이 모두 포함된 유리프리트이지만, 제조예 a는 알카리금속산화물의 몰%가 전이금속산화물의 5배이고, 제조예 i, j 및 k는 알카리금속산화물과 전이금속산화물의 합이 6 몰%를 초과하고, 특히 제조예 j 및 k는 Bi2O3 몰%가 42 몰%를 초과하는 조성으로, 520 ℃에서는 결정이 생성되고 있고, 특히 제조예 k는 500 ℃에서도 결정이 생성되고 있으며, 플로우버튼이 20.0 ~ 20.5로 매우 낮아 봉착 시 부분 결정에 의한 재 용융이 되지 않으므로 봉착용 조성물로 사용되기에는 부적합하였다.Preparation Examples a, i, j and k are glass frits containing both alkali metal oxides and transition metal oxides, but in Preparation Example a, the mol% of the alkali metal oxide is 5 times the transition metal oxide, and Preparation Examples i, j and k Is a composition in which the sum of the alkali metal oxide and the transition metal oxide exceeds 6 mol%, and in particular, Preparation Examples j and k have a composition in which Bi 2 O 3 mol% exceeds 42 mol%, and crystals are formed at 520 ° C., In particular, the preparation k is also produced crystals even at 500 ℃, the flow button is very low to 20.0 ~ 20.5 is not suitable for use as a sealing composition because it is not remelted by the partial crystal during sealing.

제조예 d, e, g 및 h는 모두 520 ℃에서는 결정이 생성되지 않지만, 제조예 e는 플로우버튼이 20.8로 낮아 저온 봉착이 어렵고, 제조예 d, g, 및 h는 22.8 이상이므로 520 ℃에서 형광체 조성물과 동시 소성에 문제가 없을 것으로 예상되었다.Preparation examples d, e, g and h are all crystals are not produced at 520 ℃, but Preparation e has a low flow button of 20.8 is difficult to seal at low temperature, Preparation examples d, g, and h is 22.8 or more, so at 520 ℃ It was expected that there would be no problem with co-firing with the phosphor composition.

실시예 1은 제조예 d의 유리프리트, 실시예 2는 제조예 g의 유리프리트, 실시예 3은 제조예 h의 유리프리트를 사용한 것으로 실시예 3이 열팽창계수 79.5×10-7/℃, 전이점 350℃, 연화점 376℃, Flow Button 22.0mm 및 최저봉착온도 450℃ 이하로 그 중에 가장 우수한 특성으로 평판 디스플레이 패널 봉착용 유리프리트로 만족함을 알 수 있었다.Example 1 is the glass frit of Preparation Example d, Example 2 is the glass frit of Preparation Example g, Example 3 is using the glass frit of Preparation Example h, Example 3 has a coefficient of thermal expansion of 79.5 × 10 -7 / ℃, Advantages 350 ℃, softening point 376 ℃, Flow Button 22.0mm and the minimum sealing temperature of 450 ℃ or less, the most excellent among them was satisfied with the glass frit for sealing flat panel display panel.

이와 달리, 비교예 1, 2, 3, 4, 7 및 8은 500 ℃에서는 결정이 생성되지 않지만 520 ℃에서는 결정이 생성된 유리프리트를 포함하였기 때문에, 저팽창 세라믹 필러가 혼합된 봉착조성물 중 비교예 3 및 7에서는 1차 소결온도 500℃에서 결정이 생성되지 않았으나, 500 ℃에서 1차 소결하면 형광체 조성물과 동시 소성할 때 바인더가 완전 연소되지 않아 패널의 콘트라스트 및 내구성에 악영향을 줄 수밖에 없는 한계가 있고, 비교예 1, 2, 4 및 8은 모두 520 ℃에서는 결정이 생성되어 봉착용 조성물로 부적합하였다. On the other hand, Comparative Examples 1, 2, 3, 4, 7 and 8 contained glass frit that crystals were not produced at 500 ° C. but crystals were formed at 520 ° C., and thus, among the sealing compositions in which low-expansion ceramic fillers were mixed. In Examples 3 and 7, no crystals were formed at the primary sintering temperature of 500 ° C. However, when primary sintering at 500 ° C resulted in the binder being not completely burned when co-fired with the phosphor composition, the inevitably adversely affects the contrast and durability of the panel. In Comparative Examples 1, 2, 4, and 8, crystals were formed at 520 ° C., and all were not suitable as sealing compositions.

비교예 5는 제조예 e의 유리프리트를 사용한 것으로 520℃에서 결정이 생성되지 않지만 연화점이 높아 485℃ 와 520℃에 플로우버튼이 각각 17.8, 20.0으로 매우 낮아 저온 봉착이 어렵다는 것을 알 수 있었다.In Comparative Example 5, the glass frit of Preparation Example e was used, and crystals were not produced at 520 ° C., but the softening point was high, so that the flow buttons were very low at 17.8 and 20.0 at 485 ° C. and 520 ° C., respectively.

또한 비교예 3 및 4, 비교예 7 및 8을 비교하면, 같은 조성에서 각각 1차 소결온도를 500℃와 520℃로 소결온도를 달리 하였을 때 플로우버튼을 비교해 보면 500 ℃에서 오히려 520 ℃보다 더 높은 값을 나타내는 것으로 나타나, 소결온도를 520℃에서는 결정 성장으로 수축현상이 일어나 플로우버튼 특성이 500℃에서 보다 오히려 좋지 못한 결과를 나타낸 것으로 추측되었다.In addition, comparing Comparative Examples 3 and 4 and Comparative Examples 7 and 8, when the sintering temperature was changed to 500 ° C and 520 ° C in the same composition, the flow buttons were compared to 500 ° C rather than 520 ° C. It was shown that the high value, the sintering temperature at 520 ℃ caused the shrinkage due to the crystal growth, the flow button characteristics were estimated to be rather poor than at 500 ℃.

한편 실시예 3 및 비교예 6를 비교하면, 역시 같은 조성에서 각각 1차 소결온도만 달리해서 봉착조성물을 제조할 경우 520℃에서 결정 석출이 없으므로 500℃ 보다 520℃에서 플로우버튼 특성이 22.0으로 우수하다는 것을 알 수 있었다. On the other hand, when comparing the Example 3 and Comparative Example 6, when the sealing composition is manufactured by only the first sintering temperature in the same composition, there is no crystal precipitation at 520 ℃, the flow button characteristics are excellent at 22.0 at 520 ℃ than 500 ℃ I could see that.

Claims (9)

납(Pb)을 함유하지 않고 Bi2O3 32~42 몰%, ZnO 25~35 몰% 및 B2O3 22~28 몰%를 포함하는 유리프리트 80~95중량% 및 저팽창 세라믹 필러 5~20중량%를 포함하는 봉착용 무연 유리프리트 조성물에 있어서,80-95% by weight of glass frit and 32-42 mol% of Bi 2 O 3 , 25-35 mol% of ZnO and 22-28 mol% of B 2 O 3 without lead (Pb) and low-expansion ceramic filler 5 In the lead-free glass frit composition for sealing containing 20% by weight, 상기 유리프리트는, SiO2 0.5~5 몰%를 더 포함하고, Li2O, Na2O, K2O 및 Cs2O 중에서 선택된 1종 이상의 알카리금속 산화물 0.5~5 몰%을 더 포함하며, CoO, CuO, NiO 및 MnO 중에서 선택된 1종 이상의 전이금속 산화물을 0.5~4몰%를 더 포함하고,The glass frit further includes 0.5 to 5 mol% of SiO 2 , and further includes 0.5 to 5 mol% of at least one alkali metal oxide selected from Li 2 O, Na 2 O, K 2 O, and Cs 2 O, Further comprising 0.5 to 4 mol% of at least one transition metal oxide selected from CoO, CuO, NiO and MnO, 상기 알카리금속 산화물과 전이금속 산화물의 몰비는 1 : 1 내지 3 : 1이고, 상기 알카리금속 산화물과 전이금속 산화물의 합은 3 ~ 6 몰%이며,The molar ratio of the alkali metal oxide and the transition metal oxide is 1: 1 to 3: 1, the sum of the alkali metal oxide and the transition metal oxide is 3 to 6 mol%, 상기 유리프리트는 520 ℃에서 소결할 때 결정이 석출되지 않고, 490 ℃이하에서 봉착되며, 연화점(Td : Dilatometer측정 연화점)이 400℃ 이하인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물.The glass frit does not precipitate crystals when sintered at 520 ° C., is sealed at 490 ° C. or less, and has a softening point (Td: Dilatometer measurement softening point) of 400 ° C. or less. 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 유리프리트는 BaO를 0.1~6 몰% 또는 Al2O3를 0.1~5몰% 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물.The lead-free glass frit composition of claim 1, wherein the glass frit further comprises 0.1-6 mol% of BaO or 0.1-5 mol% of Al 2 O 3 . 삭제delete 제 1 항에 있어서, 형광체 조성물과 520℃ 이하에서 동시 소성이 가능한 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물.The lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel according to claim 1, wherein the phosphor composition can be co-fired at 520 캜 or lower. 삭제delete 제 1 항 또는 제 4 항에 있어서, 상기 저팽창 세라믹 필러는 코디에라이트 및 지르콘 중에서 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물.The lead-free glass frit composition for sealing a flat panel display panel according to claim 1 or 4, wherein the low-expansion ceramic filler is at least one selected from cordierite and zircon. 제 8 항에 있어서, 상기 유리프리트와 저팽창 세라믹 필러를 혼합한 봉착용 유리프리트 조성물은 30 ~ 300℃에서 열팽창계수의 값이 70 ~ 82 × 10-7/℃ 범위인 것을 특징으로 하는 평판 디스플레이 패널 봉착용 무연 유리프리트 조성물. [Claim 10] The flat panel display according to claim 8, wherein the sealing glass frit composition in which the glass frit and the low-expansion ceramic filler are mixed has a coefficient of thermal expansion in the range of 70 to 82 x 10 -7 / ° C at 30 to 300 ° C. Lead-free glass frit composition for panel sealing.
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