KR101013559B1 - Stacked semiconductor package and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
적층 반도체 패키지 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 적층 반도체 패키지는 복수개가 적층되며 동일한 위치에 각각 데이터 패드들, 칩 선택 패드 및 상기 데이터 패드와 전기적으로 접속된 관통 전극이 형성된 반도체 칩들을 갖는 반도체 칩 모듈, 상기 관통 전극과 전기적으로 접속된 데이터 접속 패드들 및 상기 반도체 칩 모듈의 양쪽에 각각 배치된 제1 및 제2 칩 선택 접속 패드들을 갖는 기판 및 상기 제1 칩 선택 접속 패드와 전기적으로 연결되며 상기 반도체 칩 모듈의 측면을 따라 연장된 제1 칩 선택부, 상기 제2 칩 선택 접속 패드와 전기적으로 연결되며 상기 반도체 칩 모듈의 측면을 따라 연장된 제2 칩 선택부 및 인접한 반도체 칩들의 사이에 개재되며 상기 반도체 칩들을 가로 질러 상기 제1 및 제2 칩 선택부들 및 상기 칩 선택 패드들을 선택적으로 연결하는 제3 칩 선택부들을 갖는 칩 선택 부재를 포함한다.Laminated semiconductor packages and methods for manufacturing the same are disclosed. A multilayer semiconductor package includes a semiconductor chip module having a plurality of stacked semiconductor chips and semiconductor chips each having data pads, chip selection pads, and through electrodes electrically connected to the data pads at the same position, and data connections electrically connected to the through electrodes. A substrate having first and second chip select connection pads disposed on both sides of the pads and the semiconductor chip module, and a first electrically connected with the first chip select connection pad and extending along a side of the semiconductor chip module. A first chip selector, a second chip selector electrically connected to the second chip select connection pad and extending along the side of the semiconductor chip module, and interposed between adjacent semiconductor chips and intersecting the first and second chip selectors. A chip select member having second chip select portions and third chip select portions selectively connecting the chip select pads. It includes.
Description
본 발명은 적층 반도체 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a laminated semiconductor package and a method of manufacturing the same.
최근 들어 방대한 데이터를 저장 및 방대한 데이터를 단 시간내 처리하는 것이 가능한 반도체 칩 및 반도체 칩을 포함하는 반도체 패키지가 개발되고 있다.Recently, semiconductor packages including semiconductor chips and semiconductor chips capable of storing massive data and processing massive data in a short time have been developed.
최근에는 복수개의 반도체 칩들을 적층 및 전기적으로 연결하여 데이터 저장 용량 및 데이터 처리 속도를 보다 향상시킨 적층 반도체 패키지가 개발되고 있다.Recently, a multilayer semiconductor package, in which a plurality of semiconductor chips are stacked and electrically connected to improve data storage capacity and data processing speed, has been developed.
적층 반도체 패키지는 데이터 저장 용량 및 데이터 처리 속도를 향상시키는 장점을 갖는 반면 적층 반도체 패키지에 포함된 특정 반도체 칩을 선택하기 어려운 문제점을 갖는다.The multilayer semiconductor package has an advantage of improving data storage capacity and data processing speed, while having difficulty in selecting a specific semiconductor chip included in the multilayer semiconductor package.
종래 적층 반도체 패키지에 포함된 특정 반도체 칩을 선택하기 위하여 기판의 칩 선택 접속 패드 및 각 반도체 칩의 칩 선택 패드를 도전성 와이어를 이용하여 전기적으로 접속할 경우, 각 반도체 칩들의 칩 선택 패드를 노출하기 위하여 각 반도체 칩들을 계단 형태로 적층해야 한다. 이와 다르게, 각 반도체 칩들을 수직하게 적층할 경우 도전성 와이어의 루프 높이를 확보하기 위해 각 반도체 칩들 사이 에는 스페이서 등이 배치된다.In order to expose the chip select pad of each semiconductor chip when the chip select connection pad of the substrate and the chip select pad of each semiconductor chip are electrically connected using a conductive wire to select a specific semiconductor chip included in the conventional multilayer semiconductor package. Each semiconductor chip must be stacked in a step shape. In contrast, when the semiconductor chips are stacked vertically, spacers and the like are disposed between the semiconductor chips to secure the loop height of the conductive wire.
한편, 각 반도체 칩을 관통하는 관통 전극을 이용하여 종래 적층 반도체 패키지에 포함된 반도체 칩들 중 특정 반도체 칩을 선택할 경우, 각 반도체 칩들에 서로 다른 형상을 갖는 재배선을 형성해야 한다.Meanwhile, when a specific semiconductor chip is selected among the semiconductor chips included in the conventional multilayer semiconductor package by using a through electrode penetrating each semiconductor chip, redistribution having a different shape must be formed in each semiconductor chip.
본 발명의 하나의 목적은 동일한 형상을 갖는 반도체 칩을 수직하게 적층 및 적층 된 반도체 칩 들 중 특정 반도체 칩들을 선택하기에 적합한 구조를 갖는 적층 반도체 패키지를 제공한다.One object of the present invention is to provide a stacked semiconductor package having a structure suitable for vertically stacking semiconductor chips having the same shape and selecting specific semiconductor chips among the stacked semiconductor chips.
본 발명의 다른 목적은 상기 적층 반도체 패키지의 제조 방법을 제공한다. Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing the laminated semiconductor package.
본 발명에 따른 적층 반도체 패키지는 복수개가 적층되며 동일한 위치에 각각 데이터 패드들, 칩 선택 패드 및 상기 데이터 패드와 전기적으로 접속된 관통 전극이 형성된 반도체 칩들을 갖는 반도체 칩 모듈, 상기 관통 전극과 전기적으로 접속된 데이터 접속 패드들 및 상기 반도체 칩 모듈의 양쪽에 각각 배치된 제1 및 제2 칩 선택 접속 패드들을 갖는 기판 및 상기 제1 칩 선택 접속 패드와 전기적으로 연결되며 상기 반도체 칩 모듈의 측면을 따라 연장된 제1 칩 선택부, 상기 제2 칩 선택 접속 패드와 전기적으로 연결되며 상기 반도체 칩 모듈의 측면을 따라 연장된 제2 칩 선택부 및 인접한 반도체 칩들의 사이에 개재되며 상기 반도체 칩들을 가로 질러 상기 제1 및 제2 칩 선택부들 및 상기 칩 선택 패드들을 선택적으로 연결하는 제3 칩 선택부들을 갖는 칩 선택 부재를 포함한다.A multilayer semiconductor package according to the present invention includes a semiconductor chip module including a plurality of stacked semiconductor chips and semiconductor chips each having data pads, chip select pads, and through electrodes electrically connected to the data pads at the same position, and electrically connected to the through electrodes. A substrate having connected data connection pads and first and second chip select connection pads disposed on both sides of the semiconductor chip module, and electrically connected to the first chip select connection pad and along a side of the semiconductor chip module. The first chip selector extending, the second chip select connection pad electrically connected to the second chip selector extending along the side of the semiconductor chip module, and interposed between the adjacent semiconductor chips and across the semiconductor chips. Third chip selectors selectively connecting the first and second chip selectors and the chip select pads. And a chip select member.
적층 반도체 패키지는 상기 관통 전극들과 상기 각 데이터 패드들 사이 및 상기 칩 선택 패드 및 상기 제3 칩 선택부 사이에 개재된 접속 부재를 더 포함한다.The multilayer semiconductor package further includes a connection member interposed between the through electrodes and the respective data pads and between the chip select pad and the third chip select unit.
적층 반도체 패키지의 상기 접속 부재는 솔더 및 이방성 도전 필름(ACF)들 중 어느 하나를 포함한다.The connection member of the laminated semiconductor package includes any one of solder and anisotropic conductive films (ACFs).
적층 반도체 패키지의 상기 제3 칩 선택부들은 상기 제1 및 제2 칩 선택부들로부터 분기된다.The third chip select portions of the multilayer semiconductor package are branched from the first and second chip select portions.
적층 반도체 패키지의 상기 제3 칩 선택부들은 연결부재를 매개로 상기 제1 및 제2 칩 선택부들에 전기적으로 연결된다.The third chip selectors of the multilayer semiconductor package are electrically connected to the first and second chip selectors through a connecting member.
적층 반도체 패키지의 상기 제3 칩 선택부는 상기 반도체 칩 모듈의 바깥쪽에 형성된 절단부를 포함한다.The third chip selector of the multilayer semiconductor package includes a cutout formed outside the semiconductor chip module.
적층 반도체 패키지의 상기 제1 및 제2 칩 선택 접촉 패드들은 각각 적어도 2 개이다.The first and second chip select contact pads of the multilayer semiconductor package are each at least two.
적층 반도체 패키지의 상기 칩 선택 부재의 상기 제1 내지 제3 선택부들은 얇은 두께를 갖는 도전성 리드(lead) 형상을 갖는다.The first to third select portions of the chip select member of the multilayer semiconductor package have a conductive lead shape having a thin thickness.
본 발명에 따른 적층 반도체 패키지의 제조 방법은 복수개가 적층되며 동일한 위치에 데이터 패드들 및 칩 선택 패드가 배치된 반도체 칩들 및 적층된 상기 각 데이터 패드들을 전기적으로 연결하는 관통 전극들을 갖는 반도체 칩 모듈을 제조하는 단계, 상기 각 관통 전극들을 기판의 데이터 접속 패드에 접속하는 단계, 상기 반도체 칩 모듈의 대향하는 양쪽 측면들을 따라 배치되며 상기 기판의 제1 및 제2 칩 선택 접속 패드와 각각 접속된 제1 및 제2 칩 선택부들 및 인접한 상기 반도체 칩들 사이로 연장되며 상기 제1 및 제2 칩 선택부들 및 상기 칩 선택 패드와 전기적으로 연결된 제3 칩 선택부를 갖는 칩 선택 부재를 상기 기판 상에 형성하는 단계 및 상기 제3 칩 선택부들을 선택적으로 절단하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a multilayer semiconductor package according to the present invention includes a semiconductor chip module having a plurality of stacked semiconductor chips having data pads and chip select pads disposed at the same position, and through electrodes electrically connecting the stacked data pads. Manufacturing, connecting each of the through electrodes to a data connection pad of a substrate, a first disposed along both opposite sides of the semiconductor chip module and connected to the first and second chip select connection pads of the substrate, respectively; And forming a chip select member on the substrate, the chip select member having a second chip select portion and a third chip select portion extending between the adjacent semiconductor chips and electrically connected to the first and second chip select portions and the chip select pad. Selectively cutting the third chip selectors.
상기 칩 선택 부재를 상기 기판 상에 형성하는 단계에서, 상기 제1 내지 제3 칩 선택부들은 일체로 형성된다.In the forming of the chip select member on the substrate, the first to third chip select portions are integrally formed.
상기 제3 칩 선택부들을 선택적으로 절단하는 단계에서, 상기 제3 칩 선택부들은 레이저 빔에 의하여 절단된다.In the step of selectively cutting the third chip selectors, the third chip selectors are cut by a laser beam.
상기 칩 선택 부재의 상기 제1 내지 제3 선택부들은 얇은 두께를 갖는 도전성 리드 형상으로 형성된다.The first to third selection portions of the chip select member are formed in a conductive lead shape having a thin thickness.
본 발명에 따르면, 동일한 형상을 갖는 복수개의 반도체 칩들을 수직하게 적층하여 적층 반도체 패키지의 부피를 감소시킬 뿐만 아니라 반도체 칩들 중 특정 반도체 칩을 선택하기 위한 복잡한 회로 패턴을 각 반도체 칩에 형성하지 않음으로써 적층 반도체 패키지의 제조 공정을 단순화할 수 있는 장점을 갖는다.According to the present invention, by stacking a plurality of semiconductor chips having the same shape vertically to reduce the volume of the stacked semiconductor package, by not forming a complex circuit pattern for selecting a particular semiconductor chip among the semiconductor chips in each semiconductor chip The manufacturing process of the multilayer semiconductor package can be simplified.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 적층 반도체 패키지 및 이의 제조 방법에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.Hereinafter, a multilayer semiconductor package and a method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments, and is commonly known in the art. Persons having the present invention may implement the present invention in various other forms without departing from the spirit of the present invention.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 적층 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 도 2는 도 1의 적층 반도체 패키지에 포함된 하나의 반도체 칩을 도시한 사시 도이다. 도 3은 도 2에 도시된 반도체 칩의 데이터 패드들 및 칩 선택 패드를 도시한 평면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a multilayer semiconductor package according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a perspective view illustrating one semiconductor chip included in the multilayer semiconductor package of FIG. 1. 3 is a plan view illustrating data pads and a chip select pad of the semiconductor chip illustrated in FIG. 2.
도 1 내지 도 3들을 참조하면, 적층 반도체 패키지(100)는 반도체 칩 모듈(10), 기판(20) 및 칩 선택 부재(30)를 포함한다.1 to 3, the
반도체 칩 모듈(10)은 적어도 2 개의 반도체 칩(5)들을 포함한다. 각 반도체 칩(5)들은 회로부(미도시), 데이터 패드(1)들, 칩 선택 패드(3) 및 관통 전극(8)을 포함할 수 있다. 이에 더하여, 각 반도체 칩(5)들은 재배선(2)들을 더 포함할 수 있다.The
반도체 칩(5)들은, 예를 들어, 상면(6) 및 상면(6)과 대향하는 하면(7)을 갖는 직육면체 형상을 갖고, 반도체 칩(5)의 내부에는 데이터를 저장하는 데이터 처리부(미도시) 및 데이터를 처리하는 데이터 처리부(미도시)를 포함한다.The
반도체 칩(5)의 상면(6) 상에는 데이터 패드(1)들 및 칩 선택 패드(3)가 배치된다. 본 실시예에서, 반도체 칩(5)은, 예를 들어, 데이터를 저장하는 메모리 반도체 칩일 수 있고, 데이터 패드(1)들은 반도체 칩(5)의 상면(6)의 일측 에지를 따라 배치되며, 각 데이터 패드(1)들은 회로부와 전기적으로 연결된다.The
칩 선택 패드(3)는 반도체 칩(5)의 상면(6) 상에 배치된다. 본 실시예에서, 칩 선택 패드(3)는 상면(6)의 에지에 배치되며, 칩 선택 패드(3)는 데이터 패드(1)들의 사이에 개재된다. 본 실시예에서, 도 1에는 하나의 칩 선택 패드(3)가 설명되고 있지만, 이와 다르게 칩 선택 패드(3)는 적어도 2 개일 수 있다. 칩 선택 패드(3)가 적어도 2 개일 경우, 칩 선택 패드(3)는 반도체 칩(5)의 상면(6)의 일측 에지 또는 반도체 칩(5)의 상면(6)의 일측 에지 및 상기 일측 에지와 대향 하는 타측 에지에 각각 배치될 수 있다. 칩 선택 패드(3)의 개수는 적층 반도체 패키지(100)에 포함된 반도체 칩(5)들의 개수에 비례한다.The chip
재배선(2)은 반도체 칩(5)의 상면(6) 상에 배치되며, 재배선(2)의 일측 단부는 데이터 패드(1)들과 전기적으로 접속된다.The
관통 전극(8)은 반도체 칩(5)의 상면(6) 및 하면(7)을 관통하며, 관통 전극(8)은 데이터 패드(1)들과 전기적으로 연결된다. 본 실시예에서, 관통 전극(8)은 데이터 패드(1)와 대응하는 위치를 관통할 수 있다. 이와 다르게, 관통 전극(8) 및 데이터 패드(1)가 서로 다른 위치에 형성될 경우, 관통 전극(8) 및 데이터 패드(1)는 재배선(2)에 의하여 전기적으로 연결된다.The through
본 실시예에서, 반도체 칩 모듈(10)은 적어도 2 개의 반도체 칩(5)들을 포함한다. 본 실시예에서, 반도체 칩 모듈(10)은 도 1에 도시된 바와 같이 4 개의 반도체 칩(5)들을 포함한다.In this embodiment, the
적층된 각 반도체 칩(5)들의 데이터 패드(1)들 및 칩 선택 패드(3)들은 실질적으로 동일한 위치에 배치되고, 이로 인해 각 반도체 칩(5)들의 관통 전극(8)들은 상호 전기적으로 연결된다. 각 반도체 칩(5)들의 관통 전극(8)들을 전기적으로 연결하기 위해 인접한 관통 전극(8)들의 사이에는 접속 부재가 개재될 수 있다. 접속 부재는 저융점 금속인 솔더 또는 레진 및 레진에 포함된 미세 도전볼을 포함하는 이방성 도전 필름(ACF)일 수 있다.The
도 4는 도 1에 도시된 기판을 도시한 평면도이다.4 is a plan view illustrating the substrate of FIG. 1.
도 4를 참조하면, 기판(20)은 기판 몸체(21), 데이터 접속 패드(22), 제1 칩 선택 접속 패드(24) 및 제2 칩 선택 접속 패드(26)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the
기판(20)은 반도체 칩 모듈(10)이 실장되는 제1 영역(FR) 및 제1 영역(FR)의 주변에 배치된 제2 영역(SR)을 포함한다.The
데이터 접속 패드(22)는 제1 영역(FR) 내에 배치되며, 데이터 접속 패드(22)는 반도체 칩 모듈(10)의 각 관통 전극(8)과 전기적으로 접속된다.The
제1 칩 선택 접속 패드(24) 및 제2 칩 선택 접속 패드(26)는 각각 제2 영역(SR)에 배치되며, 제1 및 제2 칩 선택 접속 패드(24,26)들은 제1 영역(FR)의 양쪽에 각각 배치된다.The first chip
도 5는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.
도 1 및 도 5를 참조하면, 칩 선택 부재(30)는 제1 칩 선택부(32), 제2 칩 선택부(34) 및 제3 칩 선택부(36)를 포함한다. 본 실시예에서, 칩 선택 부재(30)는, 예를 들어, 얇은 두께를 갖는 리드(lead) 형상을 가질 수 있다.1 and 5, the chip
제1 칩 선택부(32)는 얇은 두께를 갖는 띠 형상의 금속 플레이트 형상을 갖고, 제1 칩 선택부(32)의 일측 단부는 제1 칩 선택 접속 패드(24)와 전기적으로 연결된다. 제1 칩 선택부(32)는 기판(20)의 상면에 대하여 실질적으로 수직한 방향으로 배치된다. 본 실시예에서, 제1 칩 선택부(32)로는 제1 칩 선택 신호(FCSS)가 입력된다.The
제2 칩 선택부(34)는 얇은 두께를 갖는 띠 형상의 금속 플레이트 형상을 갖고, 제2 칩 선택부(34)의 일측 단부는 제2 칩 선택 접속 패드(26)와 전기적으로 연 결된다. 제2 칩 선택부(34)는 기판(20)의 상면에 대하여 실질적으로 수직한 방향으로 배치된다. 본 실시예에서, 제2 칩 선택부(34)로는 제2 칩 선택 신호(SCSS)가 입력된다. 본 실시에에서, 제1 및 제2 칩 선택 신호(FCSS, SCSS)들은 서로 다른 신호 레벨을 갖는다. The
제3 칩 선택부(36)는 얇은 두께를 갖는 띠 형상의 금속 플레이트 형상을 갖고, 제3 칩 선택부(36)는 반도체 칩 모듈(10)의 인접한 두 개의 반도체 칩(5)들 사이에 배치된다. 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)와 전기적으로 연결된다. 제3 칩 선택부(36)는 솔더 또는 이방성 도전 필름(ACF)과 같은 접속 부재(9)에 의하여 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)들과 전기적으로 접속될 수 있다.The
본 실시예에서, 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)와 일체로 형성되며 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)로부터 인접한 반도체 칩(5)들 사이로 연장될 수 있다. 이와 다르게, 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)에 솔더 등과 같은 연결 부재를 이용하여 상호 연결될 수 있다.In the present embodiment, the
제1 및 제2 칩 선택부(32,34)들과 전기적으로 연결된 제3 칩 선택부(36)들은 절단부(38)를 갖는다. 절단부(38)는 각 제3 칩 선택부(26)들 중 반도체 칩 모듈(10)의 바깥쪽에 배치된 부분에 형성된다. 절단부(38)를 제1 칩 선택부(32)와 인접하게 형성 또는 절단부(38)를 제2 칩 선택부(34)와 인접하게 형성함으로써 각 반도체 칩(5)의 칩 선택 패드(3)로는 제1 칩 선택 신호(FCSS) 또는 제2 칩 선택 신호(SCSS)가 입력되고, 이로 인해 반도체 칩 모듈(10)에 포함된 각 반도체 칩(5)들 중 적어도 하나의 특정 반도체 칩을 선택할 수 있다. The
본 실시예에서, 반도체 칩(C1, C3)들의 칩 선택 패드(3)로는 제2 칩 선택 신호(SCSS)가 인가되고, 반도체 칩(C2,C4)들의 칩 선택 패드(3)로는 제1 칩 선택 신호(FCSS)가 인가된다.In the present embodiment, the second chip select signal SCSS is applied to the chip
본 실시예에서는, 예를 들어, 기판(20) 상에 형성된 제1 및 제2 칩 선택 패드(22,24)들이 각각 하나인 것이 도시 및 설명되고 있지만, 복수개가 적층된 각 반도체 칩(5)들이 적어도 2 개의 칩 선택 패드(3)를 가질 경우, 제1 및 제2 칩 선택 패드(22,24)들의 개수 및 칩 선택 부재(30)의 개수는 칩 선택 패드(3)의 개수와 대응하는 개수를 가질 수 있다.In the present embodiment, for example, each of the first and second chip
도 6 내지 도 8들은 본 발명의 일실시예에 따른 적층 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 도면들이다.6 to 8 illustrate a method of manufacturing a multilayer semiconductor package according to an embodiment of the present invention.
도 2를 다시 참조하면, 적층 반도체 패키지를 제조하기 위하여, 예를 들어, 반도체 칩 모듈이 제조된다.Referring again to FIG. 2, for example, a semiconductor chip module is manufactured to manufacture a laminated semiconductor package.
반도체 칩 모듈을 제조하기 위하여 복수개의 반도체 칩(5)들이 제조된다.In order to manufacture the semiconductor chip module, a plurality of
각 반도체 칩(5)에는 회로부(미도시), 데이터 패드(1)들, 칩 선택 패드(3) 및 관통 전극(8)들이 형성된다. 이에 더하여, 각 반도체 칩(5)들에는 재배선(2)들이 더 형성될 수 있다.Circuit units (not shown),
상면(6) 및 상면(6)과 대향하는 하면(7)을 갖는 직육면체 형상을 갖는 반도체 칩(5)의 내부에는 데이터를 저장하는 데이터 처리부(미도시) 및 데이터를 처리하는 데이터 처리부(미도시)를 포함하는 회로부(미도시)가 형성된다.Inside the
데이터 패드(1)들 및 칩 선택 패드(3)들은 반도체 칩(5)의 상면(6) 상에 형 성된다. 본 실시예에서, 반도체 칩(5)은, 예를 들어, 데이터를 저장하는 메모리 반도체 칩일 수 있고, 데이터 패드(1)들은 반도체 칩(5)의 상면(6)의 일측 에지를 따라 형성되며, 각 데이터 패드(1)들은 회로부와 전기적으로 연결된다.The
반도체 칩(5)의 상면(6) 상에는 데이터 패드(1)들과 함께 칩 선택 패드(3)들이 형성된다. 본 실시예에서, 칩 선택 패드(3)는 상면(6)의 에지에 형성되며, 칩 선택 패드(3)는 데이터 패드(1)들의 사이에 형성된다. 본 실시예에서, 칩 선택 패드(3)는 적어도 1 개가 상면(6)의 에지에 형성될 수 있다. 반도체 칩(5)에 적어도 2 개의 칩 선택 패드(3)가 형성될 경우, 각 칩 선택 패드(3)는 반도체 칩(5)의 상면(6)의 일측 에지 또는 반도체 칩(5)의 상면(6)의 일측 에지 및 상기 일측 에지와 대향 하는 타측 에지에 각각 배치될 수 있다. 칩 선택 패드(3)의 개수는 적층 반도체 패키지(100)에 포함된 반도체 칩(5)들의 개수에 비례한다.On the
반도체 칩(5)의 상면(6) 상에는 재배선(2)이 형성될 수 있고, 재배선(2)의 일측 단부는 데이터 패드(1)들과 전기적으로 접속된다.A
관통 전극(8)은 반도체 칩(5)의 상면(6) 및 하면(7)을 관통하며, 관통 전극(8)은 데이터 패드(1)들과 전기적으로 연결된다. 본 실시예에서, 관통 전극(8)은 데이터 패드(1)와 대응하는 위치를 관통할 수 있다. 이와 다르게, 관통 전극(8) 및 데이터 패드(1)가 서로 다른 위치에 형성될 경우, 관통 전극(8) 및 데이터 패드(1)는 재배선(2)에 의하여 전기적으로 연결된다.The through
도 2에 도시된 반도체 칩(5)은 적어도 2 개가 상호 적층 및 전기적으로 연결되어 반도체 칩 모듈(10)이 제조된다.At least two
본 실시예에서, 반도체 칩 모듈(10)은 적어도 2 개의 반도체 칩(5)들로 이루어지고, 반도체 칩 모듈(10)은, 예를 들어, 4 개의 반도체 칩(5)들로 이루어진다.In this embodiment, the
수직하게 적층된 각 반도체 칩(5)들의 데이터 패드(1)들 및 칩 선택 패드(3)들은 실질적으로 동일한 위치에 형성되고, 이로 인해 각 반도체 칩(5)들의 관통 전극(8)들은 상호 전기적으로 연결된다. 각 반도체 칩(5)들의 관통 전극(8)들을 전기적으로 연결하기 위해 인접한 관통 전극(8)들의 사이에는 접속 부재가 형성될 수 있다. 접속 부재는 저융점 금속인 솔더 또는 레진 및 레진에 포함된 미세 도전볼을 포함하는 이방성 도전 필름(ACF)일 수 있다.The
도 7을 참조하면, 도 6에 도시된 반도체 칩 모듈(10)은 기판(20) 상에 접속된다. 기판(20)은 기판 몸체(21), 데이터 접속 패드(22), 제1 칩 선택 접속 패드(24) 및 제2 칩 선택 접속 패드(26)를 포함한다.Referring to FIG. 7, the
기판(20)에는 반도체 칩 모듈(10)이 실장되는 제1 영역(FR) 및 제1 영역(FR)의 주변에 배치된 제2 영역(SR)이 형성된다.The
데이터 접속 패드(22)는 제1 영역(FR) 내에 형성되며, 데이터 접속 패드(22)는 반도체 칩 모듈(10)의 각 관통 전극(8)과 전기적으로 접속된다.The
제1 칩 선택 접속 패드(24) 및 제2 칩 선택 접속 패드(26)는 각각 제2 영역(SR)에 형성되며, 제1 및 제2 칩 선택 접속 패드(24,26)들은 제1 영역(FR)의 양쪽에 각각 형성된다.The first chip
제1 칩 선택부(32), 제2 칩 선택부(34) 및 제3 칩 선택부(36)가 형성된 칩 선택 부재(30)는 기판(20) 상에 접속된다. 본 실시예에서, 칩 선택 부재(30)의 제1 내지 제3 칩 선택부(32,34,36)들은, 예를 들어, 얇은 두께를 갖는 리드(lead) 형상을 가질 수 있다.The chip
제1 칩 선택부(32)는 얇은 두께를 갖는 띠 형상의 금속 플레이트 형상으로 형성되고, 제1 칩 선택부(32)의 일측 단부는 제1 칩 선택 접속 패드(24)와 전기적으로 연결된다. 제1 칩 선택부(32)는 기판(20)의 상면에 대하여 실질적으로 수직한 방향으로 배치되며, 제1 칩 선택부(32)는 반도체 칩 모듈(10)의 측면과 평행하게 배치된다. 본 실시예에서, 제1 칩 선택부(32)로는 제1 칩 선택 접속 패드(22)를 통해 제1 칩 선택 신호(FCSS)가 입력된다.The
제2 칩 선택부(34)는 얇은 두께를 갖는 띠 형상의 금속 플레이트 형상으로 형성되고, 제2 칩 선택부(34)의 일측 단부는 제2 칩 선택 접속 패드(26)와 전기적으로 연결된다. 제2 칩 선택부(34)는 기판(20)의 상면에 대하여 실질적으로 수직한 방향으로 배치되며, 제2 칩 선택부(34)는 반도체 칩 모듈(10)의 측면과 평행하게 배치된다. 본 실시예에서, 제2 칩 선택부(34)로는 제2 칩 선택 접속 패드(24)를 통해 제2 칩 선택 신호(SCSS)가 입력된다.본 실시예에서, 제1 및 제2 칩 선택 신호(FCSS, SCSS)들은 서로 다른 신호 레벨을 갖는다. The
제3 칩 선택부(36)는 얇은 두께를 갖는 띠 형상의 금속 플레이트 형상으로 형성되고, 제3 칩 선택부(36)는 반도체 칩 모듈(10)의 인접한 두 개의 반도체 칩(5)들 사이에 배치된다. 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)와 전기적으로 연결된다.The
본 실시예에서, 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)와 일체로 형성되며 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)로부터 인접한 반도체 칩(5)들 사이로 연장될 수 있다. 이와 다르게, 제3 칩 선택부(36)는 제1 및 제2 칩 선택부(32,34)에 솔더 등과 같은 연결 부재를 이용하여 상호 연결될 수 있다.In the present embodiment, the
도 8을 참조하면, 칩 선택 부재(30)가 기판(20)에 접속된 후, 칩 선택 부재(30)의 제3 선택부(36)는 반도체 칩 모듈(10)에 포함된 반도체 칩(5)들 중 특정 반도체 칩(5)들을 선택하기 위해 절단된다. 제3 선택부(36)는, 예를 들어, 레이저 빔 등에 의하여 절단되어 제3 선택부(36)에는 절단부(38)가 형성된다. Referring to FIG. 8, after the chip
절단부(38)는 각 제3 칩 선택부(26)들 중 반도체 칩 모듈(10)의 바깥쪽에 배치된 부분에 형성된다. 절단부(38)를 제1 칩 선택부(32)와 인접하게 형성 또는 절단부(38)를 제2 칩 선택부(34)와 인접하게 형성함으로써 각 반도체 칩(5)의 칩 선택 패드(3)로는 제1 칩 선택 신호(FCSS) 또는 제2 칩 선택 신호(SCSS)가 입력되고, 이로 인해 반도체 칩 모듈(10)에 포함된 각 반도체 칩(5)들 중 적어도 하나의 특정 반도체 칩을 선택할 수 있다.The
본 실시예에서, 반도체 칩(C1, C3)들의 칩 선택 패드(3)로는 제2 칩 선택 신호(SCSS)가 인가되고, 반도체 칩(C2,C4)들의 칩 선택 패드(3)로는 제1 칩 선택 신호(FCSS)가 인가된다.In the present embodiment, the second chip select signal SCSS is applied to the chip
본 실시예에서는, 예를 들어, 기판(20) 상에 형성된 제1 및 제2 칩 선택 패드(22,24)들이 각각 하나인 것이 도시 및 설명되고 있지만, 복수개가 적층된 각 반도체 칩(5)들이 적어도 2 개의 칩 선택 패드(3)를 가질 경우, 제1 및 제2 칩 선택 패드(22,24)들의 개수 및 칩 선택 부재(30)의 개수는 칩 선택 패드(3)의 개수와 대 응하는 개수를 가질 수 있다.In the present embodiment, for example, each of the first and second chip
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 동일한 형상을 갖는 복수개의 반도체 칩들을 수직하게 적층하여 적층 반도체 패키지의 부피를 감소시킬 뿐만 아니라 반도체 칩들 중 특정 반도체 칩을 선택하기 위한 복잡한 회로 패턴을 각 반도체 칩에 형성하지 않음으로써 적층 반도체 패키지의 제조 공정을 단순화할 수 있는 장점을 갖는다.As described in detail above, a plurality of semiconductor chips having the same shape are vertically stacked to reduce the volume of the stacked semiconductor package and to form a complex circuit pattern on each semiconductor chip for selecting a specific semiconductor chip among the semiconductor chips. Not having the advantage of simplifying the manufacturing process of the laminated semiconductor package.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술 될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to the embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the present invention described in the claims and It will be appreciated that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the art.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 적층 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a multilayer semiconductor package according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1의 적층 반도체 패키지에 포함된 하나의 반도체 칩을 도시한 사시도이다.FIG. 2 is a perspective view illustrating one semiconductor chip included in the multilayer semiconductor package of FIG. 1.
도 3은 도 2에 도시된 반도체 칩의 데이터 패드들 및 칩 선택 패드를 도시한 평면도이다.3 is a plan view illustrating data pads and a chip select pad of the semiconductor chip illustrated in FIG. 2.
도 4는 도 1에 도시된 기판을 도시한 평면도이다.4 is a plan view illustrating the substrate of FIG. 1.
도 5는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.
도 6 내지 도 8들은 본 발명의 일실시예에 따른 적층 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 도면들이다.6 to 8 illustrate a method of manufacturing a multilayer semiconductor package according to an embodiment of the present invention.
Claims (12)
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KR1020080110452A KR101013559B1 (en) | 2008-11-07 | 2008-11-07 | Stacked semiconductor package and method of manufacturing the same |
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Citations (3)
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KR20050063031A (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-28 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor package and method for forming the same |
KR20070000185A (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | Chip stack package |
US7446420B1 (en) * | 2007-06-20 | 2008-11-04 | Hynix Semiconductor Inc. | Through silicon via chip stack package capable of facilitating chip selection during device operation |
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2008
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20050063031A (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-28 | 주식회사 하이닉스반도체 | Semiconductor package and method for forming the same |
KR20070000185A (en) * | 2005-06-27 | 2007-01-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | Chip stack package |
US7446420B1 (en) * | 2007-06-20 | 2008-11-04 | Hynix Semiconductor Inc. | Through silicon via chip stack package capable of facilitating chip selection during device operation |
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