KR101005323B1 - 액상화학물질 흡입처리장치 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (12)
- 외부로 공급되는 압축공기의 압력에 의해 액상화학물질을 흡입구로 흡입하여 흡입처리장치하우징의 내부에 설치된 액상물저장탱크에 충진시키는 것에 있어서;상기 흡입처리장치하우징의 내부에는, 압축공기의 배출 압력에 의해 액상화학물질을 흡입하여 연무 상태로 분사하고, 분사되는 연무화학물질을 압축공기와 액상화학물질로 분리하여 압축공기는 외부로 배출시키고 액상화학물질은 별도로 설치되는 액상물저장용기에 수집하는 흡출처리장치를 설치한 것;을 특징으로 하며,상기 흡출처리장치가 설치되는 흡입처리장치하우징은;흡입처리장치하우징의 전면에는, 흡입처리장치의 액상물정장용기를 인출 또는 수납할 수 있는 하우징도어부와, 각종 조절장치를 조절할 수 있는 조절장치도어부를 각각 설치한 것과;상기 하우징도어부와 조절장치도어부는, 도어를 개폐할 수 있도록 장착하고, 도어에는 내부를 투시할 수 있도록 투시창을 구비한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 삭제
- 청구항 1에 있어서, 상기 흡입처리장치하우징에 설치되는 흡출처리장치는;선단에 에어공급컨넥터가 장착되고 밸브에 의해 압축공기의 공급을 컨트롤 하도록 된 압축공급관을 통해 흡출장치에 압축공기를 공급하는 압축공기공급수단과;압축공기공급수단에 의해 공급되는 압축공기의 분사력에 의해 액상물질을 흡입하는 흡입력을 발생시키고, 흡입되는 액상물질을 분사되는 압축공기에 의해 분사하여 분사시키는 흡출장치와;상기 흡출장치의 접속부에 연결되어 흡출장치에서 발생하는 흡입력에 의해 흡입구를 통해 액상물질을 강제로 흡입하도록 액상물질흡입수단과;상기 흡출장치의 분사접속구에 연결되어 분사되는 연무화학물질을 기액분리장치에 공급하는 연무화학물질공급수단과;상기 연무화학물질공급수단을 통해 공급되는 연무화학물질을 압축공기와 액상화학물질로 분리하는 기액분리장치;를 포함하여 형성한 것을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 1에 있어서, 상기 흡입처리장치하우징에 별도로 설치되는 액상물저장용기는;수납 또는 인출장치에 의해 하우징도어부를 통해 흡입처리장치하우징의 내부에 수납하거나 외부로 인출할 수 있도록 한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 1에 있어서, 상기 흡출처리장치의 기액분리장치는;직육면체의 형상으로 형성되고 전면과 밑면 후단에 주입관과 액상배출관주입관이 일체로 형성된 기액분리장치하우징과;기액분리장치하우징(81)의 내부에는 주입관측에서 액상배출관주입관측으로 제1차단벽과 제2차단벽을 설치하여 내부를 제1실과 제2실 및 제3실로 분할 형성하고, 제3실에는 제3차단벽을 설치하여 제3실의 하측으로 배출실을 형성한 것과;제2실의 중앙에는 분할벽을 상측에서 하측으로 설치하여 분할벽의 하측이 연통되게 한 것과;상기 제1실과 제2실을 분할하는 제1차단벽은, 중간에 가로유통공을 뚫어 주었고, 상기 가로유통공의 상측에 분사공을 일정한 간격으로 뚫어 주며, 상기 가로유통공의 하단이 제1실의 밑면과 일치되도록 한 것과;상기 제2실과 제3실을 분할하는 제2차단벽은, 상측부에 상측분사공을 일정한 간격으로 뚫어 제3실과 연통되게 하였고, 중앙 하측에는 하측분사공을 일정한 간격으로 뚫어 배출실과 연통되게 하며, 하단에는 세로유통공을 일정한 간격으로 뚫어 배출실과 연통되게 한 것과;상기 제3실과 배출실을 상하로 분할하는 제3차단벽은, 액상낙하공을 일정한 간격으로 뚫어 제3실과 배출실을 연통시켜 형성한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 3에 있어서, 상기 흡출처리장치의 흡출장치는;내부 중앙에서 경계선을 기준으로 좌우 양측으로 원뿔협소공과 역원뿔확산공이 연통되게 형성되고, 원뿔협소공에는 분사노즐창착실과 결속구장착실이 차례로 형성되며, 흡출금구의 측면에 형성된 접속부에는 접속공과 액상물흡입구를 원뿔협소공과 연통되게 형성한 흡출금구와;상기 흡출금구의 원뿔협소공과 분사노즐창착실에 장전되어 공급되는 압축공기를 역원뿔확산공으로 분사시키는 분사노즐과;상기 결속구장착실에 장착되어 분사노즐을 억류시키는 결속링과;각 결속캡에 의해 상기 흡출금구의 양면에 각각 밀폐되게 장착되는 압축공기공급구 및 분사접속구;를 포함하여 형성한 것을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 6에 있어서, 상기 흡출장치의 원뿔협소공과 분사노즐창착실에 장전되는 분사노즐은;결속링의 일면에 원뿔분사구를 일체로 형성한 것과;결속링과 원뿔분사구의 내부에 원뿔분사공을 형성한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 6에 있어서, 상기 결속캡에 의해 흡출금구의 입구와 출구에 장착되는 압축공기공급구와 분사배출구는;중앙에 공급공 또는 배출공이 뚫어진 분사접속구 또는 분사접속구의 외주 선단에 결속플랜지를 일체로 각각 형성한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 4에 있어서, 상기 액상물저장용기를 흡입처리장치하우징의 내외로 인출 또는 수납하는 수납 또는 인출장치는;흡입처리장치하우징에서 도어의 내측에 고정되는 받침틀과;액상물저장용기가 안치되고 전면에 손잡이홈과 스톱편이 형성되며 받침틀의 상측에 구비되는 이동지지틀과;받침틀과 이동지지틀과의 사이에 형성되어 이동지지틀의 이동을 지지하는 가이드수단;을 포함하여 형성한 것을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 9에 있어서, 상기 받침틀과 이동지지틀과의 사이에 형성되는 가이드수단은;받침틀의 상면 양측과 이동지지틀의 밑면 양측에 대응되게 형성되는 가이드레일 및 가이드블록과;가이드레일 및 가이드블록을 결합하여 가이드블록이 가이드레일을 따라 슬라이딩되도록 한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 10에 있어서, 상기 가이드레일에는 가이드홈을 형성하고, 가이드에 가이드블록을 결합하여 가이드블록이 가이드홈에서 슬리이딩 되도록 한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
- 청구항 5에 있어서, 상기 기액분리장치는;상기 제1실의 밑면을 제2실 및 배출실의 밑면 보다 높게 형성한 것과;상기 제1실의 밑면과 제2실 및 배출실의 밑면은 후측으로 경사지게 형성한 것;을 특징으로 하는 액상화학물질 흡입처리장치.
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KR1020080085230A KR101005323B1 (ko) | 2008-08-29 | 2008-08-29 | 액상화학물질 흡입처리장치 |
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11204488A (ja) | 1998-01-14 | 1999-07-30 | Hitachi Ltd | 流体処理装置の気液分離回収装置 |
KR20030086730A (ko) * | 2002-05-06 | 2003-11-12 | 엘지전자 주식회사 | 흡입밸브 조립체 |
KR200386730Y1 (ko) * | 2005-03-31 | 2005-06-16 | 이준상 | 공압과 이젝터를 이용한 액체 흡,배기장치 |
KR100641486B1 (ko) | 2002-12-30 | 2006-10-31 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기 |
-
2008
- 2008-08-29 KR KR1020080085230A patent/KR101005323B1/ko active IP Right Grant
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---|---|---|---|---|
JPH11204488A (ja) | 1998-01-14 | 1999-07-30 | Hitachi Ltd | 流体処理装置の気液分離回収装置 |
KR20030086730A (ko) * | 2002-05-06 | 2003-11-12 | 엘지전자 주식회사 | 흡입밸브 조립체 |
KR100641486B1 (ko) | 2002-12-30 | 2006-10-31 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 반도체소자 공장에서 사용되는 집수기 |
KR200386730Y1 (ko) * | 2005-03-31 | 2005-06-16 | 이준상 | 공압과 이젝터를 이용한 액체 흡,배기장치 |
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