KR101001062B1 - flexible metal clad laminate for fine pattern - Google Patents

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Abstract

고분자 필름 상부에 증착되는 금속 전도층의 조도 및 표면 형상을 제어하여 정확한 미세패턴 형성에 유리한 연성금속 적층판을 제공한다.By controlling the roughness and the surface shape of the metal conductive layer deposited on the polymer film to provide a flexible metal laminate advantageous for accurate micropattern formation.

본 발명의 연성금속 적층판은, 고분자 필름과, 고분자 필름 상부에 진공성막 방식에 의해 형성되는 금속 시드층과, 금속 시드층 상부에 습식도금에 의해 형성되는 조도 Rz가 0.5㎛ 이하이고, 제 1입사각을 가지고 그 표면에 입사되는 빛의 반사량을 Ⅰ이라 하고, 상기 제 1입사각보다 큰 제 2입사각을 가지고 상기 표면에 입사되는 빛의 반사량을 Ⅱ라 할 때, Ⅰ/Ⅱ이 1.0 이하인 금속 전도층을 포함한다.The flexible metal laminate of the present invention has a polymer film, a metal seed layer formed on the polymer film by a vacuum deposition method, and a roughness Rz formed by wet plating on the metal seed layer on the upper surface of the metal seed layer, and having a first incident angle of 0.5 μm or less. When the amount of reflection of light incident on the surface of the film is I, and the amount of light incident on the surface of the second incident angle greater than the first incident angle is Ⅱ, a metal conductive layer having I / II equal to or less than 1.0 Include.

연성인쇄회로기판, 연성금속 적층판, 조도, 반사량 Flexible Printed Circuit Boards, Flexible Metal Laminates, Roughness, Reflectance

Description

미세 패턴용 연성금속 적층판{flexible metal clad laminate for fine pattern}Flexible metal clad laminate for fine pattern

본 명세서에 첨부되는 다음의 도면들은 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 것이며, 후술하는 발명의 상세한 설명과 함께 본 발명의 기술사상을 더욱 이해시키는 역할을 하는 것이므로, 본 발명은 그러한 도면에 기재된 사항에만 한정되어 해석되어서는 아니된다.The following drawings attached to this specification are illustrative of preferred embodiments of the present invention, and together with the detailed description of the invention to serve to further understand the technical spirit of the present invention, the present invention is a matter described in such drawings It should not be construed as limited to.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 연성금속 적층판의 구성을 나타내는 단면도.1 is a cross-sectional view showing the configuration of a flexible metal laminate according to a preferred embodiment of the present invention.

도 2a 내지 도 2c는 연성금속 적층판의 상부에 형성된 표면의 요철 형상예를 나타내는 단면도.2A to 2C are cross-sectional views showing examples of concave-convex shapes of surfaces formed on top of flexible metal laminates;

도 3a 내지 도 3c는 연성금속 적층판의 상부에 형성된 표면의 요철 형상예에 미세 패턴 형성시 에칭성을 개략적으로 나타내는 단면도.3A to 3C are cross-sectional views schematically showing the etching property at the time of forming a fine pattern in the irregular shape of the surface formed on the upper portion of the flexible metal laminate.

도 4a 내지 도 4c는 연성금속 적층판의 상부에 형성된 표면의 요철 형상예에 따른 미세 패턴 형성 결과를 나타내는 사진.4A to 4C are photographs showing fine pattern formation results according to examples of concave-convex shapes of surfaces formed on top of a flexible metal laminate.

<도면의 주요 참조 부호에 대한 설명><Description of Major Reference Marks in Drawings>

10..고분자 필름 20..금속 시드층 30..금속 전도층10. Polymer film 20. Metal seed layer 30. Metal conductive layer

100...연성금속 적층판 200...포토레지스트층 300...마스크100 ductile metal laminate 200 photoresist layer 300 mask

본 발명은 연성금속 적층판에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 미세 패턴 형성에 유리한 표면 형상을 갖는 연성금속 적층판에 관한 것이다.The present invention relates to a flexible metal laminate, and more particularly, to a flexible metal laminate having a surface shape advantageous for forming a fine pattern.

최근 전자기기의 소형화, 경량화에 유리한 회로기판으로서, TAB(Tape automated bonding) 이나 FPC(Flexible print circuit)등을 이용한 회로기판에 대한 수요가 높아지고 있다. 지금까지 이런 종류의 회로기판은 가소성 있는 플라스틱 기판 위에 금속박막을 에폭시계 접착제 등의 접착제로 붙인 것이 사용되고 있었다.Recently, the demand for circuit boards using tape automated bonding (TAB), flexible print circuit (FPC), etc. is increasing as a circuit board for miniaturization and light weight of electronic devices. Until now, this type of circuit board has been used to attach a metal thin film to an adhesive such as an epoxy-based adhesive on a plastic plastic substrate.

그러나 전자기기의 고밀도 실장을 도모하기 위해 이런 종류의 회로기판은 더욱 박막화 되고 있으며, 플라스틱 기판과 금속박막 사이의 불량한 접착성 때문에 접착제를 사용하지 않고 금속층을 형성하는 기술이 검토되고 있다. 예를 들어, 진공증착, 스퍼터링, 이온플레이팅 등의 박막형성 기술에 의해 플라스틱 기판 위에 직접적으로 하지 금속막을 형성한 후, 이 금속막 위에 전해 도금법 등에 의해 금속 도금층을 퇴적시키는 방법이 잘 알려져 있다.However, in order to achieve high-density mounting of electronic devices, this type of circuit board is further thinned, and a technique of forming a metal layer without using an adhesive due to poor adhesion between the plastic substrate and the metal thin film is being investigated. For example, a method of forming a base metal film directly on a plastic substrate by thin film formation techniques such as vacuum deposition, sputtering and ion plating, and then depositing a metal plating layer on the metal film by electroplating or the like is well known.

상술한 방법에 의해 연성금속 적층판이 형성되면, 연성금속 적층판 상면에 패턴을 형성하여 여러 종류의 부품으로 생산되는데, 이때, 정확한 패턴을 형성하기 위해서는 정확한 에칭이 요구되고 이러한 에칭성은 연성금속 적층판의 표면 조도와 관계된다.When the flexible metal laminate is formed by the above-described method, a pattern is formed on the upper surface of the flexible metal laminate to produce various kinds of components. In this case, accurate etching is required to form an accurate pattern, and the etching property is required to form the surface of the flexible metal laminate. Related to illuminance

그러나 표면 조도가 동일하더라도 표면에 형성된 요철의 형상에 따라 미세 패턴 형성시 에칭성 등에 차이가 있어 조도만을 제어했을 때, 정확한 미세 패턴을 형성하는데 한계점이 있다.However, even if the surface roughness is the same, there is a difference in etching characteristics when forming the fine pattern according to the shape of the unevenness formed on the surface, and when only the roughness is controlled, there is a limit in forming an accurate fine pattern.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 창안된 것으로서, 미세 패턴을 형성함에 있어서, 조도 외에, 표면에 형성된 요철의 형상을 고려하는 빛 반사량 개념을 적용하여 정확한 미세 패턴 형성에 유리한 연성금속 적층판을 제공하는데 그 목적이 있다.The present invention has been made to solve the above problems, in forming a fine pattern, in addition to the roughness, by applying the concept of light reflectance considering the shape of the irregularities formed on the surface of the flexible metal laminated plate advantageous for accurate fine pattern formation The purpose is to provide.

상기와 같은 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 미세 패턴용 연성금속 적층판은, 조도 Rz가 0.2 내지 0.5㎛ 이고, 제 1입사각을 가지고 그 표면에 입사되는 빛의 반사량을 Ⅰ이라 하고, 상기 제 1입사각보다 큰 제 2입사각을 가지고 상기 표면에 입사되는 빛의 반사량을 Ⅱ라 할 때, Ⅰ/Ⅱ이 1.0 이하인 금속 전도층을 구비하여, 미세 패턴 형성시 최적의 에칭성을 제공할 수 있다.In order to achieve the above object, the flexible metal laminate for fine patterns according to the present invention has an illuminance Rz of 0.2 to 0.5 μm, and has a first incident angle and a reflection amount of light incident on the surface thereof as I, and the first When the amount of reflection of light incident on the surface with a second incident angle greater than the incident angle is Ⅱ, a metal conductive layer having I / II equal to or less than 1.0 may be provided to provide optimum etching property when forming a fine pattern.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 이에 앞서, 본 명세서 및 청구범위에 사용된 용어나 단어는 통상적이거나 사전적인 의미로 한정해서 해석되어서는 아니되며, 발명자를 그 자신이 발명을 가장 최선의 방법으로 설명하기 위해 용어의 개념을 적절하게 정의할 수 있다는 원칙에 입각하여 본 발명의 기술적 사상에 부합하는 의미와 개념으로 해석되어야만 한다. 따라서, 본 명세서에 기재된 실시예와 도면에 도시된 구성은 본 발명의 가장 바람직한 일 실시예에 불과할 뿐이고 본 발명의 기술적 사상을 모두 대변하는 것은 아니므로, 본 출원시점에 있어서 이들을 대체할 수 있는 다양한 균등물과 변형예들이 있을 수 있음을 이해하여야 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. Prior to this, the terms or words used in this specification and claims should not be construed as being limited to the common or dictionary meanings, and the inventors should properly interpret the concept of terms in order to explain the invention in the best way possible. Based on the principle that can be defined, it should be interpreted as meaning and concept corresponding to the technical idea of the present invention. Therefore, the embodiments described in the specification and the drawings shown in the drawings are only the most preferred embodiment of the present invention and do not represent all of the technical idea of the present invention, various modifications that can be replaced at the time of the present application It should be understood that there may be equivalents and variations.

도 1은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 미세 패턴용 연성금속 적층판의 단면을 개략적으로 도시한 도면이다.1 is a view schematically showing a cross section of a flexible metal laminate for a fine pattern according to a preferred embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 미세 패턴용 연성금속 적층판은 고분자 필름(10)상에, 전도성 금속으로 이루어진 금속 시드층(20) 및 금속 시드층(20) 상에 형성되는 금속 전도층(30)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the flexible metal laminate for a fine pattern according to the present embodiment is formed on the polymer film 10, the metal seed layer 20 made of a conductive metal, and the metal conductive layer formed on the metal seed layer 20. (30).

고분자 필름(10)은, 연성금속 적층판에 적합하도록 굴곡성을 갖는 것이 바람직하고, 예컨대 폴리이미드 필름으로 이루어진다. 폴리이미드 필름은 높은 내열성과 굴곡성 및 우수한 기계적 강도를 가지며, 금속과 비슷한 열팽창계수를 가지므로 연성 필름(10)의 재료로 많이 사용된다.It is preferable that the polymer film 10 has bendability so as to be suitable for a flexible metal laminate, and is made of, for example, a polyimide film. The polyimide film has high heat resistance, flexibility, and excellent mechanical strength, and has a coefficient of thermal expansion similar to that of metal, and thus is widely used as a material of the flexible film 10.

금속 시드층은(20)은, 고분자 필름(10) 편면상에 형성되는 것으로서 스퍼터링, 이온플레이팅 등의 진공 성막법을 사용하여 형성한다. 상기한 방법들은 접합 강도를 높일 수 있으므로 바람직하다.The metal seed layer 20 is formed on one side of the polymer film 10 and is formed using a vacuum film forming method such as sputtering or ion plating. The above methods are preferable because they can increase the bonding strength.

금속 시드층(20)을 형성하는 재질로는 구리 및 구리 합금이 사용되고, 또는 니켈, 크롬, 니켈-크롬 합금이 사용될 수 있다. 그러나 본 발명에서 금속 시드층을 형성하는 재질이 이에 한정되는 것은 아니며 다른 재질이 채용될 수 있음은 물론이다.Copper and copper alloys may be used as the material for forming the metal seed layer 20, or nickel, chromium, or nickel-chromium alloys may be used. However, the material for forming the metal seed layer in the present invention is not limited thereto, and of course, other materials may be employed.

금속 전도층(30)은, 전기도금에 의해 금속 시드층(20)상에 형성되는 것으로서 습식 도금법, 즉, 전해 도금법 및 무전해 도금법을 사용하여 형성할 수 있다. 전해 도금법이 성막속도가 빠르고 성막 비용이 저렴하며, 또한 표면의 평활도가 높기 때문에 바람직하다. 전해 도금법을 이용할 경우에는 습식 도금액에 금속 시드층(20)이 형성된 고분자 필름(10)을 침지하고, 금속 시드층(20)에 전원음극을 접속하고, 습식 도금액에 침지한 양극과의 사이에 통전시킴으로써 금속 시드층(20)위에 금속습식 전도층을 석출시킨다. 무전해 도금법을 사용할 경우에는 우선 금속 시드층(20) 위에 팔라듐염 용액 등에 의해 석출핵을 부착시킨 후에 무전해 도금액에 고분자 필름(10)을 침지한다.The metal conductive layer 30 is formed on the metal seed layer 20 by electroplating and can be formed using a wet plating method, that is, an electrolytic plating method and an electroless plating method. The electroplating method is preferable because of the high film forming speed, low film forming cost, and high surface smoothness. In the case of using the electroplating method, the polymer film 10 having the metal seed layer 20 formed thereon is immersed in the wet plating solution, the power cathode is connected to the metal seed layer 20, and electricity is supplied between the positive electrode immersed in the wet plating solution. By depositing the metal wet conductive layer on the metal seed layer (20). In the case of using the electroless plating method, first, after the precipitation nuclei are attached to the metal seed layer 20 by a palladium salt solution or the like, the polymer film 10 is immersed in the electroless plating solution.

금속 전도층(30)의 재질로는, 전기전도도의 측면에서 구리 또는 구리합금이 바람직하나, 본 발명에서 금속 전도층(30)의 재질이 이에 한정되는 것은 아니며, 그 이외의 금속이 채용될 수 있음은 물론이다.As the material of the metal conductive layer 30, copper or copper alloy is preferable in terms of electrical conductivity. However, the material of the metal conductive layer 30 is not limited thereto, and other metals may be employed. Of course.

또한, 금속 전도층(30)의 표면특성인 조도는 0.5㎛ 이하가 바람직하다.Moreover, as for the roughness which is the surface characteristic of the metal conductive layer 30, 0.5 micrometer or less is preferable.

미세 패턴을 형성하는데 있어서, 연성금속 적층판의 성능에서 에칭성에 큰 영향을 미치는 요인의 하나는 표면의 거칠기, 즉, 조도이다. 따라서, 50㎛ 이하의 미세 패턴을 형성에 유리하도록 조도 Rz가 0.5㎛ 이하인 금속 전도층을 형성하는 것이 바람직하다.In forming the fine pattern, one of the factors that greatly influence the etching property in the performance of the flexible metal laminate is the roughness of the surface, that is, roughness. Therefore, it is preferable to form the metal conductive layer whose roughness Rz is 0.5 micrometer or less in order to favor formation of the micropattern of 50 micrometers or less.

여기서, 연성금속 적층판의 금속 전도층(30)을 습식도금 할 때, 전해액에 첨가하는 첨가제에 따라 연성금속 적층판의 표면형상을 조절한다. 예컨대, 저분자량 수용성 셀루로우스 에테르(Low molecular weight water-soluble celluose ether), 저분자량 수용성 폴리알킬렌 글리콜 에테르(Low molecular weight water-soluble polyalkylene glycol ether), 저분자 수용성 폴리에틸렌 이민(Low molecular weight water-soluble polyethyleneimine), 수용성 설포네이티드 유기황화합물(water-soluble sulfonated organic sulfur compound)등의 첨가제를 사용하여 연성금속 적층판의 요철 형상을 변화시킬 수 있다.Here, when wet plating the metal conductive layer 30 of the flexible metal laminate, the surface shape of the flexible metal laminate is adjusted according to the additive added to the electrolyte solution. For example, low molecular weight water-soluble celluose ethers, low molecular weight water-soluble polyalkylene glycol ethers, low molecular weight water-soluble polyethylene glycol ethers Additives such as soluble polyethyleneimine and water-soluble sulfonated organic sulfur compounds can be used to change the irregularities of the ductile laminate.

도 2a 내지 도 2c는 상기한 방법에 따라 형성된 연성금속 적층판의 표면예를 도시한 단면도이다.2A to 2C are cross-sectional views showing examples of the surface of a flexible metal laminate formed according to the above method.

조도가 동일하더라도 연성금속 적층판의 표면에 형성된 요철 형상에 따라 미세 패턴 형성시, 포토 마스크의 접착성에 차이가 있으며, 또한 표면에서의 빛 반사량이 달라진다.Even if the illuminance is the same, the adhesion of the photomask is different when the fine pattern is formed depending on the uneven shape formed on the surface of the flexible metal laminate, and the amount of light reflection on the surface is also different.

도 2a 내지 도 2c를 참조하면, 도 2a의 경우가 요철이 심하고, 도 2c로 갈수록 요철은 완만해지는데, 미세 패턴 형성시, 포토 마스크의 접착성은 요철이 심한 도 2a의 경우보다 도 2c의 경우가 유리하다.Referring to FIGS. 2A to 2C, unevenness is severe in the case of FIG. 2A, and unevenness becomes smoother toward FIG. 2C. When forming a fine pattern, adhesiveness of the photomask is greater in the case of FIG. 2C than in FIG. Is advantageous.

또한, 표면에서의 빛 반사량을 보면, 70도의 큰 입사각(B)과 5도의 작은 입사각(A)의 경우 모두, 도 2a 에서 도 2c로 갈수록 반사되는 빛의 반사량이 증가한다.In addition, looking at the amount of light reflection on the surface, both the large incident angle (B) of 70 degrees and the small incident angle (A) of 5 degrees, the reflection amount of the reflected light increases from 2a to 2c.

도 2a를 참조하면, 요철 형상이 같을 때, 70도의 큰 입사각(B)에서는 입사되는 빛의 기울기보다 높은 요철의 높이 때문에 빛이 차단되어 5도의 작은 입사각(A)에서보다 빛의 반사량이 감소한다.Referring to FIG. 2A, when the uneven shape is the same, at a large incident angle B of 70 degrees, light is blocked due to the height of the unevenness higher than the inclination of the incident light, thereby reducing the amount of light reflection than at a small incident angle A of 5 degrees. .

그러나, 도 2c를 참조하면, 요철 형상이 같을 때, 70도의 큰 입사각(B)에서는 실제 빛 반사량에 산란되는 빛이 더해져 5도의 작은 입사각(A)보다 빛의 반사량이 증가한다.However, referring to FIG. 2C, when the uneven shape is the same, light scattered is added to the actual light reflection amount at a large incident angle B of 70 degrees to increase the amount of light reflection than the small incident angle A of 5 degrees.

상기한 방법을 이용하여 연성금속 적층판의 표면에서의 빛 반사량을 측정하면 표면에 형성된 요철의 형상을 파악할 수 있다.By measuring the amount of light reflection on the surface of the flexible metal laminate using the method described above, it is possible to determine the shape of the irregularities formed on the surface.

다음으로, 각각의 요철 형상이 미세패턴 형성에 끼치는 영향을 설명한다.Next, the influence of each uneven shape on the fine pattern formation will be described.

도 3a 내지 도 3c는 연성금속 적층판의 표면에 형성되는 요철의 형상에 따라 미세 패턴시 에칭성을 개략적으로 나타낸 단면도이다.3A to 3C are cross-sectional views schematically illustrating etching property in a fine pattern according to the shape of irregularities formed on the surface of the flexible metal laminate.

도 3a 내지 도 3c를 참조하면, 고분자 필름 상부에 형성된 금속 시드층 및 금속 전도층을 포함하는 연성금속 적층판(101, 102, 103)과, 연성금속 적층판(101, 102, 103) 상부에 마스크층으로서 도포된 포토레지스트층(200) 및 원하는 형태의 미세 패턴이 형성된 포토마스크(300)가 구비된다.Referring to FIGS. 3A to 3C, the flexible metal laminates 101, 102, 103 including a metal seed layer and a metal conductive layer formed on the polymer film, and a mask layer on the flexible metal laminates 101, 102, 103 are shown. As a photoresist layer 200 and a photomask 300 having a fine pattern of a desired shape are provided.

노광 및 현상 과정을 거쳐 포토레지스트층(200)에 에칭 마스크(201, 202, 203)가 마련될 때, 도 3a의 경우는 IR산란이 심하여 에칭마스크(201)가 손상을 입게 된다. 이는 다음 공정에서 에칭을 할 경우, 원하는 미세 패턴의 형태가 손상을 입게 되므로 미에칭 구간이 발생할 확률이 높아 정확한 패턴이 얻어지지 않고 불량 패턴이 발생할 수 있다. 따라서, 도 3a의 요철 형상보다 도 3c의 요철 형상에 가까울수록 에칭할 때, 원하는 미세패턴을 정확하게 형성하는데 유리하다. When the etching masks 201, 202, and 203 are provided in the photoresist layer 200 through exposure and development, in FIG. 3A, IR scattering is severe and the etching mask 201 is damaged. This is because when the etching in the next process, the shape of the desired fine pattern is damaged, there is a high probability that a non-etching interval occurs, so that a bad pattern may be generated without obtaining an accurate pattern. Therefore, the closer to the concave-convex shape of FIG. 3C than the concave-convex shape of FIG. 3A, the more advantageous it is to accurately form a desired fine pattern when etching.

다음으로, 본 발명의 바람직한 실시예에 따라 요철 형상이 다른 연성금속 적층판의 실시예와 비교예를 이용하여 미세패턴 형성에 적합한 표면특성을 구체화한다.Next, according to a preferred embodiment of the present invention using the embodiment and the comparative example of the flexible metal laminate having a different concavo-convex shape, the surface characteristics suitable for forming a fine pattern is embodied.

즉, 도 1에 도시된 바와 같이, 폴리이미드 필름(10)위에 차례로 구리 시드층(20)과 구리 전도층(30)을 형성한 연성동박 적층판을 준비하고, 입사각이 5도일 때 와 70도일 때의 빛의 반사량을 측정하였다. 여기서, 각 실시예와 비교예에서의 표면조도 Rz는 0.5㎛ 이하였다.That is, as illustrated in FIG. 1, a flexible copper foil laminate in which the copper seed layer 20 and the copper conductive layer 30 are sequentially formed on the polyimide film 10 is prepared, and the incident angle is 5 degrees and 70 degrees. The amount of reflection of light was measured. Here, surface roughness Rz in each Example and the comparative example was 0.5 micrometer or less.

표 1은 요철 형상의 변화에 따른 빛의 반사량을 측정한 결과를 도시한 표이다. 여기서, '반사량'은 국제적으로 사용되는 표준방법인 미국시험재료협회(ASTM;America Society for Testing and Materials)의 광택도 및 광택에 대한 표준 측정법, 즉, ASTM D2457 및 D523에 의거해서 실험했을 때 나타나는 수치이다.Table 1 is a table showing the results of measuring the amount of reflection of light according to the change of the irregular shape. Here, the 'reflected dose' is a standard measurement method of gloss and gloss of the American Society for Testing and Materials (ASTM), a standard method used internationally, that is, when tested according to ASTM D2457 and D523. It is a shame.

5도의 입사각에서의
반사량(Ⅰ)
At an angle of incidence of 5 degrees
Reflective amount (Ⅰ)
70도의 입사각에서의
반사량(Ⅱ)
At an angle of incidence of 70 degrees
Reflective amount (Ⅱ)
실제패턴사진Real pattern photo Ⅱ/ⅠⅡ / Ⅰ
실시예 1Example 1 110.0110.0 175.9175.9 도 4aFigure 4a 1.61.6 실시예 2Example 2 117.5117.5 133.1133.1 도 4aFigure 4a 1.11.1 비교예 1Comparative Example 1 46.846.8 14.414.4 도 4b4b 0.3080.308 비교예 2Comparative Example 2 70.770.7 1.71.7 도 4c4c 0.0240.024 비교예 3Comparative Example 3 61.761.7 1.91.9 도 4c4c 0.0300.030

표 1을 참조하면, 먼저, 실시예 1, 실시예 2는 70도 입사각에서의 빛의 반사량이 5도 입사각에서의 빛의 반사량보다 많기 때문에, 상기한 도 2c에 도시된 요철 형상에 가깝고, 비교예 1 내지 비교예 3은 70도 입사각에서의 빛의 반사량이 5도 입사각에서의 빛의 반사량보다 적기 때문에 상기한 도 2a에 도시된 요철 형상에 가깝다는 것을 알 수 있다.Referring to Table 1, first, Example 1 and Example 2 is closer to the concave-convex shape shown in FIG. 2C because the amount of light reflection at the 70 degree incident angle is greater than the amount of light reflection at the 5 degree incident angle. It can be seen that in Examples 1 to 3, the reflection amount of light at the 70 degree incidence angle is smaller than the reflection amount of light at the 5 degree incidence angle, which is close to the uneven shape shown in FIG. 2A.

이를 뒷받침 하는 것으로서, 실시예 1과 실시예 2의 요철 형상이 마련된 연성금속 적층판의 실제 미세 패턴 형성 결과를 나타내는 사진은 도 4a에 도시된 바와 같이, 잔류하는 포토레지스트가 없이 균일한 단면이 형성된 반면에, 비교예 1 내지 비교예 3의 요철 형상이 마련된 연성금속 적층판의 실제 미세 패턴 형성 결과를 나타내는 사진은 도 4b 내지 도 4c에 도시된 바와 같이, 미에칭 구간의 발생으로 인해 울퉁불퉁한 단면이 형성되어 있다.To support this, the photograph showing the actual fine pattern formation result of the flexible metal laminates provided with the concave-convex shape of Example 1 and Example 2, as shown in Figure 4a, while the uniform cross section is formed without the remaining photoresist In FIG. 4B to FIG. 4C, a photograph showing the actual fine pattern formation result of the flexible metal laminate provided with the uneven shape of Comparative Examples 1 to 3 has an uneven cross section due to the occurrence of an unetched section. It is.

또한, 70도의 입사각에서의 빛의 반사량은 10이상인 것이 바람직한데, 이는 연성금속 적층판의 조도에 민감한 70도의 입사각에서 빛의 반사량이 10이하일 경우, 회로의 직진성 및 미에칭 구간이 발생할 가능성이 높기 때문이다.In addition, the amount of reflection of light at an angle of incidence of 70 degrees is preferably 10 or more, because when the amount of reflection of light is less than or equal to 10 at an angle of incidence of 70 degrees sensitive to the roughness of the flexible metal laminate, there is a high possibility of the straightness and the non-etching interval of the circuit. to be.

또한, 상술한 실시예 및 비교예의 결과에 나타난 바와 같이, 미에칭 구간이 발생하지 않고 미세 패턴이 원하는 형상대로 형성되기 위해서는, 작은 입사각에서 보다 큰 입사각에서 빛의 반사량이 많은, 즉, 작은 입사각과 큰 입사각에서의 빛 반사량 비율(Ⅰ/Ⅱ)은 1.0 이하인 것이 바람직하다.In addition, as shown in the results of the above-described examples and comparative examples, in order for a fine pattern to be formed in a desired shape without a non-etching interval occurring, a large amount of reflection of light at a large incident angle at a small incident angle, that is, It is preferable that the light reflection amount ratio (I / II) at a large incident angle is 1.0 or less.

이상에서 본 발명의 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명이 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.Although the embodiments of the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, the present invention is not limited thereto and the present invention will be described by those skilled in the art to which the present invention pertains. Of course, various modifications and variations are possible within the scope of the claims.

본 발명에 의하면, 미세 패턴용 연성금속 적층판을 제조함에 있어서, 표면특성이 조도 Rz가 0.5㎛ 이하이고, 큰 입사각에서의 빛의 반사량이 작은 입사각에서의 빛의 반사량보다 많은, 즉, 큰 입사각 및 작은 입사각에서의 빛의 반사량 비율이 1.0 이상인 금속 전도층을 마련함으로써, 미세패턴 형성시 에칭성을 향상시킬 수 있다.According to the present invention, in manufacturing a flexible metal laminate for fine patterns, the surface characteristics are roughness Rz of 0.5 µm or less, and the amount of light reflection at a large incident angle is larger than that of light at a small incident angle, that is, a large incident angle and By providing a metal conductive layer having a reflectance ratio of light at a small incident angle of 1.0 or more, etching property can be improved when forming a fine pattern.

또한, 표면의 요철형상에 따라 다르게 나타나는 빛의 반사량을 이용하여 연성금속 적층판의 품질을 확인할 수 있다.In addition, it is possible to check the quality of the flexible metal laminate by using the amount of light reflection that appears differently depending on the uneven shape of the surface.

Claims (4)

미세 패턴용 연성금속 적층판에 있어서,In the flexible metal laminate for fine patterns, 고분자 필름;Polymer film; 상기 고분자 필름 상부에 진공성막 방식에 의해 형성되는 금속 시드층; 및A metal seed layer formed on the polymer film by a vacuum deposition method; And 상기 금속 시드층 상부에 습식도금에 의해 형성되고, 표면 조도 Rz가 0.5㎛ 이하이며, 제 1입사각을 가지고 그 표면에 입사되는 빛의 반사량을 Ⅰ이라 하고, 상기 제 1입사각보다 큰 제 2입사각을 가지고 상기 표면에 입사되는 빛의 반사량을 Ⅱ라 할 때, Ⅰ/Ⅱ가 1.0 이하인 금속 전도층;을 포함하는 연성금속 적층판.Formed by wet plating on the metal seed layer, the surface roughness Rz is 0.5 μm or less, and the amount of reflection of light incident on the surface having a first incident angle is referred to as I, and a second incident angle larger than the first incident angle is defined as I. And a metal conductive layer having I / II equal to or less than 1.0 when the amount of reflection of light incident on the surface is II. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1입사각은 5도이고, 상기 제 2입사각은 70도인 것을 특징으로 하는 연성금속 적층판.And said first incident angle is 5 degrees, and said second incident angle is 70 degrees. 삭제delete 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 금속 시드층은 구리, 니켈, 크롬 또는 이들의 합금 중 어느 한 가지로 이루어 지고, 금속 전도층은 구리 또는 구리 합금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 연성금속 적층판.The metal seed layer is made of any one of copper, nickel, chromium or alloys thereof, and the metal conductive layer is a flexible metal laminate, characterized in that made of copper or copper alloy.
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JP2775647B2 (en) * 1989-11-17 1998-07-16 宇部興産株式会社 Manufacturing method of metallized polyimide film
JPH10193505A (en) * 1997-01-09 1998-07-28 Sumitomo Metal Mining Co Ltd 2 layer flexible circuit board production method
JP4350263B2 (en) * 2000-04-03 2009-10-21 三菱伸銅株式会社 Metallized polyimide film and method for producing the same
KR100757612B1 (en) * 2001-07-06 2007-09-10 가부시키가이샤 가네카 Laminate and its producing method
JP2004009357A (en) * 2002-06-04 2004-01-15 Toyo Metallizing Co Ltd Metal vapor-deposited/metal plated laminated film and electronic part using the same

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