KR100999313B1 - Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof - Google Patents

Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof Download PDF

Info

Publication number
KR100999313B1
KR100999313B1 KR1020047015178A KR20047015178A KR100999313B1 KR 100999313 B1 KR100999313 B1 KR 100999313B1 KR 1020047015178 A KR1020047015178 A KR 1020047015178A KR 20047015178 A KR20047015178 A KR 20047015178A KR 100999313 B1 KR100999313 B1 KR 100999313B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
magnesium
film
magnesium alloy
anodizing
product
Prior art date
Application number
KR1020047015178A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20040099363A (en
Inventor
오쿠다야스히로
사카이고지
히노마코토
히라마쓰미노루
Original Assignee
오카야마켄
호리킨조쿠효멘쇼리고교가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 오카야마켄, 호리킨조쿠효멘쇼리고교가부시키가이샤 filed Critical 오카야마켄
Publication of KR20040099363A publication Critical patent/KR20040099363A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100999313B1 publication Critical patent/KR100999313B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D11/00Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
    • C25D11/02Anodisation
    • C25D11/30Anodisation of magnesium or alloys based thereon

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Abstract

본 발명은 서로 10㎜ 떨어진 2개의 단자간에서 측정한 피막 표면의 저항치가 100Ω 이하인 전도성 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품에 관한 것이다. 당해 제품은 인산 그룹을 0.1 내지 1mol/L, 암모니아 또는 암모늄 이온을 0.2 내지 5mol/L 함유하고, pH가 8 내지 14인 전해액에 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 침지하고, 이의 표면을 양극 산화처리하여 제조할 수 있다. 이에 의해 전기 전도성이고 뛰어난 내식성을 겸비한 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품이 제공된다.The present invention relates to a product made of magnesium or a magnesium alloy having on its surface a conductive anodized film having a resistance value of 100? Or less measured between two terminals 10 mm apart from each other. The product is prepared by immersing magnesium or magnesium alloy in an electrolyte solution containing 0.1 to 1 mol / L of phosphoric acid groups, 0.2 to 5 mol / L of ammonia or ammonium ions, pH 8 to 14, and anodizing the surface thereof. Can be. Thereby, the product which consists of magnesium or a magnesium alloy which has an anodized film on the surface which is electrically conductive and has excellent corrosion resistance is provided.

전도성 양극 산화 피막, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 제품, 전기 전도성, 내식성Conductive anodized, magnesium or magnesium alloy products, electrical conductivity, corrosion resistance

Description

전도성 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금 제품 및 이의 제조방법{Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof} Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production             

본 발명은 전기 전도성이 뛰어난 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품에 관한 것이다. 또한, 이와 같은 제품의 제조방법에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD This invention relates to the product which consists of magnesium or magnesium alloy which has an anodized film excellent in electrical conductivity on the surface. The present invention also relates to a method for producing such a product.

마그네슘 및 마그네슘 합금은 실용금속 중에서 가장 가볍기 때문에 비강도가 높고, 방열성도 양호하며, 수지에 비해 리사이클성도 뛰어나, 최근 전기기기 또는 자동차부품 용도로 널리 사용되게 되었다. 그 중에서도, 소형 경량화의 요구 성능이 높고, 의장성, 리사이클성의 요구가 높은 전기기기 케이스로서 적절하게 사용되고 있다. 그러나, 마그네슘 및 마그네슘 합금은 부식되기 쉽기 때문에, 내식성을 갖는 표면 처리 또는 도장이 필요하다. Since magnesium and magnesium alloys are the lightest among the practical metals, they have high specific strength, good heat dissipation, and excellent recycling properties compared to resins, and have recently been widely used for electric devices or automotive parts. Especially, it is used suitably as an electrical equipment case with the high performance of small size and light weight, and high designability and a high recyclability. However, since magnesium and magnesium alloys are susceptible to corrosion, surface treatment or coating having corrosion resistance is required.

마그네슘 또는 마그네슘 합금에 양극 산화처리를 실시하는 것으로 뛰어난 내식성을 부여할 수 있다. 대표적으로는 Dow17법 또는 HAE법이라고 불리는 처리방법인 양극 산화처리가 일반적으로 실시되고 있고, 이에 의해서 실용적으로 충분한 내식성을 갖는 양극 산화 피막을 형성할 수 있다. 또한, 일본국제공개특허 제(평)11-502567호(WO96/28591)에는 암모니아와 인산염 화합물을 함유하는 전해액에 침지하여 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 양극 산화처리하는 방법이 기재되어 있다. By performing anodizing treatment on magnesium or magnesium alloy, excellent corrosion resistance can be imparted. Typically, anodization treatment, which is a treatment method called the Dow17 method or the HAE method, is generally carried out, whereby an anodized film having practically sufficient corrosion resistance can be formed. In addition, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 11-502567 (WO96 / 28591) describes a method of anodizing magnesium or magnesium alloy by immersion in an electrolyte solution containing ammonia and a phosphate compound.

또한, 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 화성처리함으로써 어느 정도의 내식성을 부여할 수 있고, 전도성을 갖는 피막을 형성할 수 있는 것이 하기의 공보에 기재되어 있다. 일본 공개특허공보 제2000-96255호에는 일정량의 칼슘, 망간 및 인을 함유하고, 전기 저항률이 0.1Ω·㎝ 이하인 화성처리 피막이 기재되어 있다. 또한, 일본 공개특허공보 제2000-328261호에는 pH 1 내지 5의 산성 수용액으로 마그네슘 합금 표면을 에칭(etching)시킨 다음, 유기 인화합물을 함유하는 pH 7 내지 14의 알칼리성 수용액에 접촉시키고, 계속해서 화성 처리액에 접촉시키는 마그네슘 합금 표면 처리방법이 기재되어 있고, 표면 저항치가 작은 제품을 수득할 수 있다는 취지가 기재되어 있다. In addition, it is described in the following publication that a degree of corrosion resistance can be imparted by forming a magnesium or magnesium alloy, and a film having conductivity can be formed. Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-96255 discloses a chemical conversion coating containing a certain amount of calcium, manganese and phosphorus and having an electrical resistivity of 0.1 Ω · cm or less. In addition, Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2000-328261 discloses that an magnesium alloy surface is etched with an acidic aqueous solution having a pH of 1 to 5, and then contacted with an alkaline aqueous solution having a pH of 7 to 14 containing an organophosphorus compound. A method of treating a magnesium alloy surface in contact with a chemical conversion treatment liquid is described, and it is described that a product having a small surface resistance can be obtained.

플라즈마 디스플레이 등의 각종 디스플레이 또는 휴대전화 등에 있어서 이로부터 발생하는 전자파를 효율적으로 차폐할 수 있는 것이 바람직하다. 마그네슘 및 마그네슘 합금은 양호한 전기 전도성을 갖기 때문에, 이를 사용한 전기기기 케이스는 양호한 전자파 실드(shield)성을 갖을 수 있다. 또한, 대부분의 전기기기, 특히 디지털 전자기기에 있어서 오작동을 방지하기 위해서, 접지(어스)하여 전자 노이즈를 제거하는 것이 중요하지만, 이때, 케이스가 마그네슘 또는 마그네슘 합금이면, 그곳에 접지하는 것도 가능하다.It is desirable to be able to efficiently shield electromagnetic waves generated therefrom in various displays such as plasma displays or cellular phones. Since magnesium and magnesium alloys have good electrical conductivity, an electrical device case using them can have good electromagnetic shielding properties. In addition, in order to prevent malfunction in most electric devices, especially digital electronic devices, it is important to ground (earth) to remove the electronic noise, but if the case is magnesium or magnesium alloy, it is also possible to ground there.

그런데, 상술한 바와 같이 마그네슘 및 마그네슘 합금에는 내식성을 갖는 표면 처리 또는 도장이 필요하다. 마그네슘 또는 마그네슘 합금에 내식성을 부여하기 위한 양극 산화처리를 실시한 것에서는 마그네슘 또는 마그네슘 합금에 절연성의 산화 피막이 피복됨으로써 전자파 실드성이 손실되는 동시에, 접지하는 것도 불가능하게 된다. 이 때문에, 예를 들면 접지를 위한 부분은 마스킹한 다음, 양극 산화처리를 하거나, 전체면을 양극 산화처리한 다음, 일부의 양극 산화막을 깍아 제거하는 방법 등이 채용되었다. 그러나, 이러한 방법은 조작이 번잡하여 생산 비용을 높이는 것이었다.By the way, as mentioned above, magnesium and magnesium alloy require surface treatment or coating which has corrosion resistance. In anodic oxidation treatment for imparting corrosion resistance to magnesium or magnesium alloy, the insulating oxide film is coated on the magnesium or magnesium alloy, so that electromagnetic shielding property is lost and it is impossible to ground it. For this reason, for example, a method of masking a part for grounding, anodizing, or anodizing the entire surface, and then scraping off part of the anodic oxide is employed. However, this method was cumbersome to raise production costs.

한편, 화성처리에 의해서 형성되는 피막에는, 예를 들면, 일본 공개특허공보 제2000-96255호 또는 일본 공개특허공보 제2000-328261호에 기재된 피막과 같이, 전기 전도성을 갖는 것이 최근 보고되고 있다. 그러나, 마그네슘 또는 마그네슘 합금에 통전하는 것으로 견고한 산화 피막을 형성하는 양극 산화처리에 비교하면, 단순히 처리액에 침지할 뿐인 화성처리로 형성되는 피막은 이의 내식성이 충분하지 않다. 최근의 모바일기기 케이스 등에서는 다양한 환경하에서의 내식성이 필요하기 때문에, 특히 이 문제는 중요하다. 이 때문에, 화성처리로 피막을 형성한 경우에는 그 위에 추가로 복수층의 도장을 실시하여 어떻게든 내식성을 확보하는 것이 현상황이다. 그러나, 형상이 복잡한 전기기기 케이스에 균일한 도장을 실시하는 것은 반드시 용이하지는 않고, 복수회의 도장공정을 실시하는 것은 비용 상승이 크다. On the other hand, the film formed by the chemical conversion treatment has recently been reported to have electrical conductivity, such as the film described in JP-A-2000-96255 or JP-A-2000-328261. However, compared with the anodic oxidation treatment in which a strong oxide film is formed by energizing magnesium or magnesium alloy, the film formed by chemical conversion treatment merely immersed in the treatment liquid does not have sufficient corrosion resistance. This problem is particularly important in recent mobile device cases because corrosion resistance under various environments is required. For this reason, in the case where a film is formed by chemical conversion treatment, a plurality of layers of coating are further applied thereon to secure corrosion resistance somehow. However, it is not always easy to apply uniform coating to a complicated case of electrical equipment, and it is expensive to carry out a plurality of coating steps.

한편, 현재 양극 산화처리로서 널리 실시되고 있는 Dow17법에서는 수득되는 양극 산화 피막이 크롬을 함유하고, HAE법에서는 망간을 함유한다. 또한, 화성처리하여 수득되는 제품의 대부분은 이의 피막이 중금속 원소를 함유한다. 이와 같이 중금속 원소를 함유한 것은, 재활용되어 사용할 때에 마그네슘 또는 마그네슘 합금 중에 중금속 원소가 혼입되게 되어 바람직하지 않다. 특히, 마그네슘 및 마그네슘 합금은 플라스틱에 비교하여 재활용성이 우수한 것이 특징이기 때문에, 재활용 회수가 거듭됨에 따라 축적되어 가는 중금속 원소의 양은 무시할 수 없는 것이다. 또한 처리액이 중금속 원소를 함유하였다는 것은, 이의 폐액 처리 또는 주변 환경의 보전 관점에서도 바람직하지 못하다. On the other hand, in the Dow17 method which is currently widely practiced as anodizing, the anodized film obtained contains chromium, and in the HAE method, manganese is contained. In addition, most of the products obtained by chemical conversion treatment contain heavy metal elements. Thus, it is unpreferable that heavy metal element is mixed in magnesium or a magnesium alloy at the time of recycling and using heavy metal element. In particular, since magnesium and magnesium alloys are characterized by superior recyclability compared to plastics, the amount of heavy metal elements that accumulate as the number of recycling is repeated cannot be ignored. In addition, it is not preferable that the treatment liquid contains a heavy metal element from the viewpoint of waste liquid treatment or the preservation of the surrounding environment.

본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해서 이루어진 것으로, 전기 전도성과 뛰어난 내식성을 겸비한 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다. 또한, 이와 같은 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다. 본 발명에서 수득되는 양극 산화 피막은 중금속 원소를 함유하지 않더라도 상기 과제를 해결할 수 있기 때문에, 재활용성 또는 환경보전의 관점에서도 뛰어난 것이다. 또한, 사용되는 전해액이 중금속 원소를 함유하지 않더라도, 상기 양극 산화 피막을 형성할 수 있기 때문에, 공장 주변의 환경보전에 기여할 수 있는 동시에, 폐액 처리 비용도 경감할 수 있는 것이다. This invention is made | formed in order to solve the said subject, Comprising: It aims at providing the product which consists of magnesium or a magnesium alloy which has an anodized film which has electrical conductivity and excellent corrosion resistance on the surface. Moreover, it aims at providing the method of manufacturing the product which consists of such magnesium or magnesium alloy. The anodic oxide film obtained in the present invention can solve the above problems even if it does not contain heavy metal elements, and thus is excellent in terms of recyclability or environmental conservation. In addition, even if the electrolyte solution used does not contain heavy metal elements, the anodized film can be formed, thereby contributing to environmental preservation around the plant and reducing waste liquid treatment costs.

상기 과제는 서로 10㎜ 떨어진 2개의 단자간에서 측정한 피막 표면의 저항치가 100Ω 이하인 전도성 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품을 제공함으로써 달성된다. The above object is achieved by providing a product made of magnesium or a magnesium alloy having a conductive anodized film on the surface of which the resistance of the film surface measured between two terminals 10 mm apart from each other is 100 Ω or less.

종래, 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 양극 산화처리하여 수득되는 피막은 산화물을 주성분으로 하는 피막으로서 절연체이었다. 오히려 절연체이기 때문에, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 본체에 부식전류가 흐르지 않고, 본체의 산화 열화를 방지할 수 있다고 생각되었다. 그런데, 본 발명자가 예의 검토한 결과, 양극 산화 피막이면서 충분한 전기 전도성을 갖는 피막이 발견되었다. 더구나 종래부터 양극 산화 피막이 갖고 있었던, 뛰어난 내식성은 그대로 유지하고 있는 것이 명확해졌다. 이에 의해, 뛰어난 내식성을 가지면서 양호한 전기 전도성을 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품을 제공할 수 있었다. 특히, 전자파 실드성, 접지 특성 등이 뛰어난 전기기기 케이스를 제공할 수 있는 것이다. 이때, 상기 양극 산화 피막의 막 두께가 0.01 내지 10㎛인 것이 내식성과 전기 전도성의 밸런스의 면에서 바람직하다. Conventionally, the film obtained by anodizing magnesium or magnesium alloy was an insulator as a film containing oxide as a main component. Rather, since it is an insulator, it was thought that a corrosion current does not flow in a magnesium or magnesium alloy main body, and oxidation oxidation deterioration of a main body can be prevented. By the way, as a result of earnestly examining by the present inventors, the film which is anodizing film and has sufficient electrical conductivity was found. Moreover, it became clear that the outstanding corrosion resistance which the anodic oxide film had conventionally has remained. Thereby, the product which consists of magnesium or magnesium alloy which has the outstanding corrosion resistance and favorable electrical conductivity was able to be provided. In particular, it is possible to provide an electrical device case having excellent electromagnetic shielding properties and grounding characteristics. At this time, it is preferable that the film thickness of the anodizing film is 0.01 to 10 µm in view of the balance between corrosion resistance and electrical conductivity.

본 발명에 있어서, 상기 양극 산화 피막이 마그네슘 원소를 35 내지 65중량%, 산소 원소를 25 내지 45중량% 함유하는 것이 바람직하다. 산화된 마그네슘을 주성분으로서 함유하는 것으로, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면의 양극 산화 피막이 본래 가져야 하는 내식성을 갖고 있는 것으로 추측할 수 있지만, 이러한 내식성을 갖는 이유는 반드시 분명하지는 않다. 또한, 상기 양극 산화 피막이 인 원소를 4 내지 15중량% 함유하는 것이 적절하며, 알루미늄 원소를 5 내지 20중량% 함유하는 것이 바람직하다. 마그네슘, 산소 이외의 원소를 적당량 함유하는 것으로, 내식성을 손상시키지 않고, 양호한 전기 전도성을 갖게 되는 것으로 추측할 수도 있지만, 이러한 전기 전도성을 갖는 이유도 또한 분명하지는 않다. 또한, 본 발명의 양극 산화 피막은 종래의 양극 산화 피막이 함유하는 중금속 원소를 함유하지 않더라도, 뛰어난 성능을 발휘하는 것이다. In this invention, it is preferable that the said anodizing film contains 35 to 65 weight% of magnesium elements and 25 to 45 weight% of oxygen elements. It is inferred that it contains the oxidized magnesium as a main component and has the corrosion resistance which an anodized film on the surface of magnesium or magnesium alloy should have originally, but the reason for having such corrosion resistance is not necessarily clear. Moreover, it is suitable that the said anodizing film contains 4 to 15 weight% of the phosphorus element, and it is preferable to contain 5 to 20 weight% of the aluminum element. It may be inferred that by containing an appropriate amount of elements other than magnesium and oxygen and having good electrical conductivity without impairing the corrosion resistance, the reason for having such electrical conductivity is also not clear. In addition, the anodized film of the present invention exhibits excellent performance even if it does not contain the heavy metal element contained in the conventional anodized film.

본 발명의 적절한 실시형태는, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면 전부가 양극 산화 피막으로 피복되고, 당해 양극 산화 피막 표면의 일부에만 수지 도장이 실시되고 나머지 부분의 양극 산화 피막이 노출되어 있는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품이다. 이와 같이 일부에 양극 산화 피막의 노출부분을 형성하는 것으로, 전자파 실드성 또는 접지 특성을 확보하면서, 수지 도장에 의해서 외관이 미려하고, 내마찰성이 뛰어난 제품을 제공할 수 있는 것이다. 구체적으로 케이스 내면에는 수지 도장이 실시되지 않고, 케이스 외면에는 수지 도장이 실시된 전기기기 케이스가 특히 적절한 실시형태이다. A preferred embodiment of the present invention comprises a magnesium or magnesium alloy in which all of the magnesium or magnesium alloy surfaces are covered with anodized film, and resin coating is applied only to a part of the anodized film surface and the anodized film of the remaining part is exposed. Product. By forming the exposed portion of the anodic oxide film in this way, it is possible to provide a product having a beautiful appearance and excellent friction resistance by resin coating while ensuring electromagnetic shielding properties or grounding characteristics. Specifically, the case where the electrical coating is not applied to the inner surface of the case and the outer surface of the case is coated with the resin is particularly preferred.

또한, 본 발명의 목적은, 인산 그룹을 0.1 내지 1mol/L 함유하고, pH가 8 내지 14인 전해액에 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 침지하고, 표면을 양극 산화처리하는 것을 특징으로 한다. 상기 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품의 제조방법을 제공함으로써도 달성된다. 이때, 상기 전해액이 암모니아 또는 암모늄 이온을 0.2 내지 5mol/L 함유하는 것이 바람직하다. An object of the present invention is also characterized by immersing magnesium or magnesium alloy in an electrolyte solution containing 0.1 to 1 mol / L of phosphoric acid group, having a pH of 8 to 14, and subjecting the surface to anodizing. It is also achieved by providing a method for producing a product made of the magnesium or magnesium alloy. At this time, it is preferable that the electrolyte contains 0.2 to 5 mol / L of ammonia or ammonium ions.

상술한 바와 같이, 지금까지의 양극 산화처리에 있어서 처리액이 중금속 이온을 함유하는 것이 대부분이고, 폐액 처리를 곤란하게 하는 불소 이온을 함유하는 경우도 있었다. 이에 대하여, 본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품의 제조방법에서는 이와 같은 성분을 함유하지 않더라도 성능이 뛰어난 양극 산화 피막을 수득할 수 있다. 최근 중금속 원소 함유 폐액의 배출규제는 엄격해지는 경향이 있기 때문에, 본 발명의 제조방법이 환경보전의 관점에서도 뛰어난 것이라는 점은 중요하다. As described above, in the anodic oxidation treatment to date, most of the treatment liquids contain heavy metal ions, and sometimes contain fluorine ions which make the waste liquid treatment difficult. On the other hand, in the manufacturing method of the product which consists of magnesium or magnesium alloy of this invention, even if it does not contain such a component, the anodic oxide film excellent in performance can be obtained. Since the restriction of the discharge of heavy metal element-containing waste liquids in recent years tends to be strict, it is important that the manufacturing method of the present invention is excellent in terms of environmental conservation.

본 발명의 제조방법에 있어서 양극 산화처리에 있어서 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 미리 산성 수용액에 침지한 다음, 전해액에 침지하여 양극 산화처리하는 것이 바람직하다. 적절하게 전처리한 다음, 양극 산화처리에 제공하여 본 발명의 효과를 갖는 제품을 쉽게 수득할 수 있게 되는 것이다. In the production method of the present invention, in anodizing, magnesium or magnesium alloy is preferably immersed in an acidic aqueous solution, and then immersed in an electrolytic solution to be anodized. After appropriately pretreatment, it is then subjected to anodization so that a product having the effect of the present invention can be easily obtained.

또한, 본 발명의 제조방법에 있어서, 양극 산화처리한 후에, 양극 산화 피막 표면에 수지 도막을 1회만 도장하고, 40 내지 120℃의 온도에서 가열하여 도막을 건조시키는 것이 바람직하다. 내식성이 뛰어난 양극 산화 피막을 수득할 수 있기 때문에, 간단한 도장공정만으로 충분하고, 결과적으로 제조 비용을 삭감하는 것이 가능해진다. Moreover, in the manufacturing method of this invention, after anodizing, it is preferable to coat a resin coating film only once on the surface of an anodizing film, and to heat at a temperature of 40-120 degreeC, and to dry a coating film. Since an anodic oxide film excellent in corrosion resistance can be obtained, only a simple coating process is sufficient, and as a result, manufacturing cost can be reduced.

이하, 본 발명을 상세하게 설명한다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, this invention is demonstrated in detail.

본 발명은 서로 10㎜ 떨어진 2개의 단자간에서 측정한 피막 표면의 저항치가 100Ω 이하인 전도성 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품이다. This invention is a product which consists of magnesium or magnesium alloy which has a conductive anodizing film on the surface whose resistance value of the film surface measured between two terminals 10 mm apart from each other is 100 ohms or less.

원료로 하는 마그네슘 또는 마그네슘 합금은 마그네슘을 주성분으로 하는 것이면 되고, 마그네슘 단독으로 이루어지는 금속이어도 되며, 합금이어도 된다. 통 상적으로, 성형성, 기계적 강도, 연성 등을 부여하기 위해서 마그네슘 합금이 적절하게 사용된다. 마그네슘 합금으로서는 Mg-Al계 합금, Mg-Al-Zn계 합금, Mg-Al-Mn계 합금, Mg-Zn-Zr계 합금, Mg-희토류 원소계 합금, Mg-Zn-희토류 원소계 합금 등을 들 수 있다. 본 발명의 실시예에서는 Mg-Al-Zn계 합금을 사용하고 있고, 수득된 양극 산화 피막 중에는 알루미늄 원소가 포함되어 있었다. 따라서, 원료의 마그네슘 합금으로서는 상기 각종의 합금 중, 알루미늄을 함유하는 것이 바람직하다고 추측된다. Magnesium or a magnesium alloy as a raw material may be made of magnesium as a main component, or may be a metal composed of magnesium alone or an alloy. Typically, magnesium alloys are suitably used to impart moldability, mechanical strength, ductility, and the like. Examples of magnesium alloys include Mg-Al alloys, Mg-Al-Zn alloys, Mg-Al-Mn alloys, Mg-Zn-Zr alloys, Mg-rare earth element alloys, and Mg-Zn-rare earth element alloys. Can be mentioned. In the Example of this invention, Mg-Al-Zn type alloy is used, and the aluminum oxide was contained in the obtained anodizing film. Therefore, as a magnesium alloy of a raw material, it is guessed that it is preferable to contain aluminum among the said various alloys.

양극 산화처리에 제공되는 마그네슘 또는 마그네슘 합금의 형태는 특별히 한정되지 않는다. 다이캐스트법, 틱소(thixo) 몰드법, 프레스 성형법, 단조법 등에 의해서 성형된 성형품을 사용할 수 있다. 성형시에는 성형품의 표면 부근에 형성되는 주름 또는 중공부의 내부에 이형제(離型劑)가 잔류하는 경우가 있다. 양극 산화처리하는 경우에는 화성처리하는 경우에 비교하여, 이형제 잔류량을 적게 하는 것이 용이하다. 제품에 잔류하는 이형제는 가열되었을 때에 휘발하여, 수지 도막에 수포(blister)를 발생시키는 경우가 있다. 여기서, 성형시에 사용되는 이형제로서는 실리콘 화합물로 이루어지는 이형제가 대표적이다. The form of magnesium or magnesium alloy provided for anodizing is not particularly limited. Molded articles molded by a die cast method, thixo mold method, press molding method, forging method, or the like can be used. At the time of shaping | molding, a mold release agent may remain in the wrinkles or hollow part formed in the vicinity of the surface of a molded article. In the case of anodizing, it is easy to reduce the residual amount of the releasing agent as compared with the case of chemical conversion. The release agent which remains in a product may volatilize when heated, and may generate blisters in a resin coating film. Here, the mold release agent which consists of a silicone compound is typical as a mold release agent used at the time of shaping | molding.

마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품은, 성형시에 부착된 이형제 등의 유기물에 유래하는 오염을 표면에 갖는 경우가 있기 때문에, 탈지처리를 실시하는 것이 바람직하다. 탈지를 위한 액으로서는 계면활성제 또는 킬레이트제를 함유하는 수용액이 적절하게 사용된다. Since the molded article which consists of magnesium or a magnesium alloy may have contamination on the surface from organic substances, such as a mold release agent adhering at the time of shaping | molding, it is preferable to perform a degreasing treatment. As a liquid for degreasing, the aqueous solution containing surfactant or a chelating agent is used suitably.

필요에 따라서 탈지처리한 후에, 산성 수용액에 침지한 다음, 전해액에 침지하여 양극 산화처리하는 것이 바람직하다. 산성 수용액에 침지함으로써 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면을 적절하게 에칭하여, 이미 형성되어 있는 불충분한 산화 피막 또는 잔존하는 유기물의 오염을 제거할 수 있다. 산성 수용액으로서는 특별히 한정되지 않지만, 인산 수용액이 적절한 산성도를 갖고 있어 바람직하다. 인산 수용액을 사용한 경우에는 에칭과 동시에 인산마그네슘이 표면에 형성되는 경우도 있다. 또한, 산성 수용액에 계면활성제 또는 킬레이트제를 배합하여, 탈지처리를 동시에 행할 수도 있다.After degreasing as needed, it is preferable to immerse in an acidic aqueous solution, and then immerse in an electrolytic solution to perform anodization. The surface of the magnesium or magnesium alloy may be appropriately etched by immersing in an acidic aqueous solution to remove contamination of an already formed insufficient oxide film or remaining organic matter. Although it does not specifically limit as acidic aqueous solution, The aqueous solution of phosphoric acid has preferable acidity and is preferable. In the case of using an aqueous solution of phosphoric acid, magnesium phosphate may be formed on the surface simultaneously with etching. Moreover, surfactant or a chelating agent can be mix | blended with acidic aqueous solution, and degreasing treatment can also be performed simultaneously.

또한, 이렇게 해서 산성 수용액으로 처리한 후에, 알칼리성 수용액으로 세정한 다음, 양극 산화처리에 제공하는 것이 바람직하다. 산성 수용액 중에서는 불용인 성분[검댕: (smut)]이 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면에 부착되어 있는 경우가 있기 때문에, 이를 제거하는 것이 가능하다. 알칼리성 수용액으로서는 수산화나트륨 수용액 또는 수산화칼륨 수용액이 적절하게 사용된다. Furthermore, after treating with an acidic aqueous solution in this way, it is preferable to wash | clean with alkaline aqueous solution, and to apply to anodizing. In an acidic aqueous solution, an insoluble component [smut] may be attached to the surface of magnesium or magnesium alloy, and thus it is possible to remove it. As alkaline aqueous solution, the sodium hydroxide aqueous solution or the potassium hydroxide aqueous solution is used suitably.

상기한 탈지처리, 산성 수용액 처리, 알칼리성 수용액 처리와 같은 각 처리공정 후에, 필요에 따라서 수세 또는 건조를 실시하여도 좋다. 이렇게 해서, 필요에 따라서 전처리가 실시된 마그네슘 또는 마그네슘 합금이 전해액 중에 침지된다. After each treatment process such as the above degreasing treatment, acidic aqueous solution treatment and alkaline aqueous solution treatment, washing with water or drying may be carried out as necessary. In this way, magnesium or magnesium alloy to which pretreatment was performed as needed is immersed in electrolyte solution.

본 발명의 전해액은, 인산 그룹을 함유하는 알칼리성 수용액인 것이 바람직하고, 더욱 구체적으로는 인산 그룹을 0.1 내지 1mol/L 함유하고, pH가 8 내지 14인 수용액이 바람직하다. 적당한 양의 인산 그룹을 함유하는 것으로, 적당한 양의 인 원소가 양극 산화막에 포함되게 된다. 또한, 알칼리성으로 하는 것으로 마그네슘 또는 마그네슘 합금의 불필요한 용출을 방지할 수 있다. It is preferable that the electrolyte solution of this invention is an alkaline aqueous solution containing a phosphoric acid group, More specifically, the aqueous solution which contains 0.1-1 mol / L of phosphoric acid groups, and whose pH is 8-14 is preferable. By containing an appropriate amount of phosphoric acid groups, an appropriate amount of phosphorus element is included in the anodic oxide film. Furthermore, by making it alkaline, it is possible to prevent unnecessary elution of magnesium or magnesium alloy.

여기서 말하는 인산 그룹은 유리된 인산, 인산염, 인산수소염, 인산2수소염으로서 전해액 중에 포함되는 것이다. 또한, 인산이 축합되어 수득되는 폴리인산 또는 이의 염의 경우에는 이들이 가수분해되어 수득되는 인산 그룹의 수만큼 인산 그룹을 함유하고 있는 것으로 한다. 염의 경우에는 금속염이어도 좋고, 암모늄염과 같은 비금속 염이어도 좋다. 인산 그룹의 함유량은 0.1 내지 1mol/L인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.15mol/L 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.2mol/L 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 0.7mol/L 이하이며, 더욱 바람직하게는 0.5mol/L 이하이다. The phosphate group referred to here is one contained in the electrolyte as free phosphoric acid, phosphate, hydrogen phosphate, and dihydrogen phosphate. In the case of polyphosphoric acid or salts thereof obtained by condensation of phosphoric acid, it is assumed that the phosphoric acid groups contain as many phosphoric acid groups as those obtained by hydrolysis. In the case of a salt, a metal salt may be sufficient and a nonmetal salt, such as an ammonium salt, may be sufficient. It is preferable that content of a phosphoric acid group is 0.1-1 mol / L. More preferably, it is 0.15 mol / L or more, More preferably, it is 0.2 mol / L or more. More preferably, it is 0.7 mol / L or less, More preferably, it is 0.5 mol / L or less.

전해액의 pH는 8 내지 14인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 pH는 9 이상이고, 더욱 바람직하게는 10 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 pH는 13 이하이고, 더욱 바람직하게는 12 이하이다. It is preferable that pH of electrolyte solution is 8-14. More preferably, pH is 9 or more, More preferably, it is 10 or more. More preferably, pH is 13 or less, More preferably, it is 12 or less.

또한, 전해액이 암모니아 또는 암모늄 이온을, 이들의 합계량으로서 0.2 내지 5mol/L 함유하는 것이 바람직하다. 이에 의해서 전해액의 pH가 적당한 알칼리성으로 유지된다. 암모니아 또는 암모늄 이온의 함유량은 보다 바람직하게는 0.5mol/L 이상이고, 더욱 바람직하게는 1mol/L 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 3mol/L 이하이고, 더욱 바람직하게는 2mol/L 이하이다. Moreover, it is preferable that electrolyte solution contains 0.2-5 mol / L of ammonia or ammonium ion as these total amounts. Thereby, pH of electrolyte solution is maintained at moderate alkalinity. The content of ammonia or ammonium ion is more preferably 0.5 mol / L or more, and still more preferably 1 mol / L or more. More preferably, it is 3 mol / L or less, More preferably, it is 2 mol / L or less.

본 발명의 전해액은, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위내에서 다른 성분을 함유하여도 좋지만, 중금속 원소를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 여기서 중금속 원소는, 단체로서의 비중이 4를 넘는 금속 원소를 언급하며, 종래의 양극 산화처리에 있어서의 대표적인 전해액에 함유되어 있는 것으로서, 크롬, 망간 등이 예시된다. 특히 배출규제가 엄격하여 유해한 크롬을 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 마그네슘 합금에 포함되는 중금속, 예를 들면, 아연이 미량 용출되어 전해액 중에 포함되는 것은 통상적으로 그다지 문제가 되지 않는다. 또한, 본 발명의 전해액이 불소 원소를 함유하지 않는 것도 바람직하다. 불소 원소를 함유하는 수용액은 폐수 처리가 곤란하게 되는 경우가 많기 때문이다. Although the electrolyte solution of this invention may contain another component in the range which does not impair the effect of this invention, it is preferable that it does not contain a heavy metal element substantially. Herein, the heavy metal element refers to a metal element having a specific gravity of more than 4 as a single element, and is contained in a typical electrolyte solution in the conventional anodizing treatment, and examples thereof include chromium and manganese. In particular, it is desirable to have strict emission regulations and not contain harmful chromium. In addition, it is usually not a problem that heavy metals contained in the magnesium alloy, for example, zinc are eluted in small amounts and contained in the electrolyte solution. Moreover, it is also preferable that the electrolyte solution of this invention does not contain a fluorine element. This is because the aqueous solution containing elemental fluorine is often difficult to treat wastewater.

상기 전해액 중에, 필요에 따라서 전처리한 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 침지하고, 이를 양극으로서 통전하는 것으로 양극 산화처리가 행하여진다. 사용하는 전원은 특별히 한정되는 것이 아니라, 직류전원이어도 교류전원이어도 사용 가능하지만, 직류전원을 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 직류전원을 사용할 때는 정전류전원과 정전압전원 중 어느 것을 사용하여도 좋지만, 정전류전원을 사용하는 것이 바람직하다. 음극재료는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 스테인리스재 등을 적절하게 사용할 수 있다. 음극의 표면적은 양극 산화처리되는 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면적보다 큰 것이 바람직하며, 2배 이상인 것이 더욱 바람직하고, 통상적으로 10배 이하이다. In the electrolyte solution, anodizing treatment is performed by immersing pretreated magnesium or magnesium alloy as necessary and energizing it as an anode. Although the power supply to be used is not specifically limited, Although a DC power supply or an AC power supply can be used, it is preferable to use a DC power supply. In addition, when using a DC power supply, you may use either a constant current power supply or a constant voltage power supply, but it is preferable to use a constant current power supply. A negative electrode material is not specifically limited, For example, a stainless steel material etc. can be used suitably. The surface area of the negative electrode is preferably larger than the surface area of the magnesium or magnesium alloy to be anodized, more preferably twice or more, and usually 10 times or less.

전원으로서 정전류전원을 사용하고 있을 때의 양극 표면의 전류밀도는 통상적으로 0.1 내지 10A/d㎡이다. 적절하게 0.2A/d㎡ 이상이고, 보다 바람직하게는 0.5A/d㎡ 이상이다. 또한, 적절하게 5A/d㎡ 이하이고, 보다 바람직하게는 2A/d㎡ 이하이다. 통전시간은 통상적으로 10 내지 1000초이다. 적절하게 20초 이상이고, 보다 바람직하게는 50초 이상이다. 또한, 적절하게 500초 이하이고, 보다 바람직하게는 200초 이하이다. 정전류전원으로 통전할 때는 통전 개시시의 인가전압은 낮지만, 시간의 경과에 따라 인가전압은 상승한다. 통전을 종료할 때의 인가전압은 통상적으로 50 내지 400볼트이다. 바람직하게는 100볼트 이상이고, 보다 바람직하게는 150볼트 이상이다. 또한, 적절하게 300볼트 이하이고, 보다 바람직하게는 250볼트 이하이다. 종래의 양극 산화처리방법인 Dow17법 또는 HAE법에 있어서 인가전압을 100볼트 미만으로 설정하는 경우가 많은데 대하여, 본 발명의 양극 산화처리에서는 비교적 높은 전압으로 설정하는 것이 바람직하다. 이에 의해서, 실리콘 이형제 등의 불순물을 함유하는 부분이어도 산화반응을 진행하기 쉽게 되어, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면 전체에 전도성이 양호한 피막을 형성하기 쉬워진다. 또한, 산화반응에 따라 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면으로부터 산소 기체가 왕성하게 발생하기 때문에, 양극 산화처리 중에 상기 불순물이 제거되기 쉬워진다. 통전중의 전해액의 온도는 통상적으로 5 내지 70℃이다. 적절하게 10℃ 이상이다. 더욱 바람직하게는 50℃ 이하이고, 보다 바람직하게는 30℃ 이하이다. When the constant current power source is used as the power source, the current density on the surface of the anode is usually 0.1 to 10 A / dm 2. It is suitably 0.2 A / dm 2 or more, and more preferably 0.5 A / dm 2 or more. Moreover, it is 5 A / dm <2> or less suitably, More preferably, it is 2 A / dm <2> or less. The energization time is usually 10 to 1000 seconds. It is suitably 20 seconds or more, More preferably, it is 50 seconds or more. Moreover, it is 500 second or less suitably, More preferably, it is 200 second or less. When energizing with a constant current power supply, the applied voltage at the start of energization is low, but as time passes, the applied voltage increases. The applied voltage at the end of energization is usually 50 to 400 volts. Preferably it is 100 volts or more, More preferably, it is 150 volts or more. Moreover, it is suitably 300 volts or less, More preferably, it is 250 volts or less. Although the applied voltage is often set to less than 100 volts in the conventional Dow17 method or the HAE method, which is a conventional anodization method, it is preferable to set it to a relatively high voltage in the anodization process of the present invention. As a result, even in a portion containing impurities such as a silicone releasing agent, the oxidation reaction can easily proceed, and a film with good conductivity can be easily formed on the entire surface of the magnesium or magnesium alloy. In addition, since oxygen gas is vigorously generated from the surface of the magnesium or magnesium alloy due to the oxidation reaction, the impurities are easily removed during the anodic oxidation treatment. The temperature of the electrolytic solution during energization is 5-70 degreeC normally. It is 10 degreeC or more suitably. More preferably, it is 50 degrees C or less, More preferably, it is 30 degrees C or less.

통전 종료 후, 세정함으로써 양극 산화 피막 표면에 부착된 전해액을 제거한다. 세정에 있어서 물 뿐만 아니라, 산성 수용액을 사용하여 세정하는 것이 바람직하다. 전해액이 알칼리성이기 때문에, 산성 수용액으로 세정함으로써, 수지 도장을 실시한 경우에 도막의 밀착성이 개선된다. 산성 수용액으로서는 질산 수용액, 염산 수용액, 황산 수용액 등을 사용할 수 있다. 세정 후 건조시켜, 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품이 수득된다. After the energization ends, the electrolyte solution adhered to the surface of the anodized film is removed by washing. In washing, it is preferable to wash using not only water but acidic aqueous solution. Since electrolyte solution is alkaline, adhesiveness of a coating film improves when resin coating is performed by washing | cleaning with acidic aqueous solution. As the acidic aqueous solution, nitric acid aqueous solution, hydrochloric acid aqueous solution, sulfuric acid aqueous solution and the like can be used. After washing, it is dried and the product which consists of magnesium or magnesium alloy which has an anodizing film on the surface is obtained.

본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품은 서로 10mm 떨어진 2개의 단자간에서 측정한 피막 표면의 저항치가 100Ω 이하인 전도성 양극 산화 피막을 표면에 갖는 것이다. 당해 저항치는 양극 산화 피막 표면의 서로 10㎜ 떨어진 임의의 2점에 단자를 가압하여 측정되는 저항치(Ω)로, 본 발명의 제품은 이의 표면의 적어도 1개소에서 상기 값 이하의 저항치를 갖는 것이 좋다. 마그네슘 또는 마그네슘 합금 본체의 저항치는 작기 때문에, 실질적으로는 측정용 단자와, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 본체 사이에 존재하는 양극 산화 피막의 두께 방향의 전기 저항에 상관하는 값이 측정되는 것이다. 따라서, 당해 저항치는 전자파 실드성 또는 접지 특성의 면에서 제품에 요구되는 성능에 대응하는 수치이다. 적절하게 10Ω 이하이고, 보다 바람직하게는 1Ω 이하이며, 최적으로는 0.5Ω 이하이다. 또한, 표면 처리하지 않은 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 성형품의 표면의 저항치는 AZ91D의 경우에, 통상적으로 0.02 내지 0.1Ω 정도의 값이다. The product made of the magnesium or magnesium alloy of the present invention has a conductive anodized film having a resistance of 100? Or less on the surface of the coating surface measured between two terminals 10 mm apart from each other. The resistance value is a resistance value (Ω) measured by pressing the terminals to any two points 10 mm apart from each other on the surface of the anodized film, and the product of the present invention preferably has a resistance value equal to or less than the above value at at least one surface thereof. . Since the resistance value of a magnesium or magnesium alloy main body is small, the value correlated substantially with the electrical resistance of the thickness direction of the anodizing film which exists between a measuring terminal and a magnesium or magnesium alloy main body. Therefore, the resistance value is a numerical value corresponding to the performance required for the product in terms of electromagnetic shielding properties or grounding characteristics. It is 10 ohms or less suitably, More preferably, it is 1 ohms or less, and 0.5 ohms or less is optimal. In addition, in the case of AZ91D, the resistance value of the surface of the molded article which consists of untreated magnesium or magnesium alloy is a value of about 0.02-0.1 ohm normally.

본 발명에서 수득되는 양극 산화 피막은 도 1에도 도시하는 바와 같이, 표면에 통전 중의 스파크에 유래하는 것으로 생각되는 다수의 공극이 존재하는 경우가 많다. 이 점에서 화성처리 피막과는 상위한다. 양극 산화 피막의 막 두께는 0.01 내지 10㎛인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 0.1㎛ 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.5㎛ 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하이며, 더욱 바람직하게는 3㎛ 이하이다. 막 두께가 지나치게 얇으면 내식성이 악화될 우려가 있고, 지나치게 두꺼운 경우에는 전기 전도율이 저하되고 전자파 실드성 또는 접지 특성이 저하될 우려가 있다. In the anodic oxide film obtained in the present invention, as shown in Fig. 1, a large number of voids, which are thought to be derived from sparks during energization, are often present on the surface. This differs from the chemical conversion coating. It is preferable that the film thickness of an anodizing film is 0.01-10 micrometers. More preferably, it is 0.1 micrometer or more, More preferably, it is 0.5 micrometer or more. Moreover, More preferably, it is 5 micrometers or less, More preferably, it is 3 micrometers or less. If the film thickness is too thin, the corrosion resistance may deteriorate. If the film thickness is too thick, the electrical conductivity may decrease, and the electromagnetic shielding property or the grounding property may decrease.

본 발명에서 수득되는 양극 산화 피막의 화학 조성은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 마그네슘 원소를 35 내지 65중량%, 산소 원소를 25 내지 45중량% 함유하는 것이 바람직하다. 즉, 마그네슘 또는 마그네슘 합금이 양극 산화된 결과의 생성물인 산화된 마그네슘을 주성분으로서 함유하는 것이 바람직하다. 마그네슘 원소의 함유량은 보다 바람직하게는 40중량% 이상이며, 더욱 바람직하게는 45중량% 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 60중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 55중량% 이하이다. 산소 원소의 함유량은 보다 바람직하게는 30중량% 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 40중량% 이하이다. Although the chemical composition of the anodic oxide film obtained by this invention is not specifically limited, It is preferable to contain 35-65 weight% of magnesium elements, and 25-45 weight% of oxygen elements. That is, it is preferable to contain, as a main component, oxidized magnesium, which is a result of the anodization of magnesium or magnesium alloy. The content of the magnesium element is more preferably 40% by weight or more, and still more preferably 45% by weight or more. More preferably, it is 60 weight% or less, More preferably, it is 55 weight% or less. The content of the oxygen element is more preferably 30% by weight or more. Moreover, More preferably, it is 40 weight% or less.

상기 양극 산화 피막이 인 원소를 4 내지 15중량% 함유하는 것이 바람직하다. 인 원소의 함유량은 보다 바람직하게는 5중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 6중량% 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 12중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 10중량% 이하이다. 또한, 알루미늄 원소를 5 내지 20중량% 함유하는 것이 바람직하다. 알루미늄 원소의 함유량은 보다 바람직하게는 7중량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 9중량% 이상이다. 또한, 보다 바람직하게는 17중량% 이하이고, 더욱 바람직하게는 15중량% 이하이다. 마그네슘, 산소 이외의 상기 원소를 적당량 함유하는 것으로, 내식성을 손상시키지 않고, 양호한 전기 전도성을 갖게 되는 것으로 추측할 수 있다. 본 발명의 양극 산화 피막은 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위내에서 상기 이외의 원소를 포함하고 있어도 상관없다. 그러나, 원료인 마그네슘 합금이 원래 함유하고 있는 것을 제외하고, 중금속, 특히 크롬 원소를 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. 또한, 불소 원소도 실질적으로 함유하지 않는 것이 바람직하다. It is preferable that the said anodic oxide film contains 4-15 weight% of phosphorus elements. The content of phosphorus element is more preferably 5% by weight or more, and even more preferably 6% by weight or more. More preferably, it is 12 weight% or less, More preferably, it is 10 weight% or less. Moreover, it is preferable to contain 5-20 weight% of aluminum elements. Content of an aluminum element becomes like this. More preferably, it is 7 weight% or more, More preferably, it is 9 weight% or more. More preferably, it is 17 weight% or less, More preferably, it is 15 weight% or less. By containing an appropriate amount of the above elements other than magnesium and oxygen, it can be inferred to have good electrical conductivity without impairing the corrosion resistance. The anodizing film of the present invention may contain elements other than those described above within the range of not impairing the effects of the present invention. However, it is preferable that substantially no heavy metal, especially chromium element is contained, except that the magnesium alloy which is a raw material originally contains. Moreover, it is preferable that substantially no fluorine element is included.

양극 산화 피막을 표면에 갖는 본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품의 용도는 특별히 한정되지 않고, 각종 전기기기 또는 자동차용 부품 등에 사용할 수 있다. 사용에 있어서 필요에 따라서 양극 산화 피막 표면에 덧칠의 도장을 실시하여도 좋지만, 전기 전도성이 양호한 본 발명의 양극 산화 피막의 특징을 살리기 위해서는 제품의 전체를 절연막으로 이루어지는 도장으로 피복되어 안된다. The use of the product which consists of the magnesium or magnesium alloy of this invention which has an anodizing film on the surface is not specifically limited, It can be used for various electrical equipment, automobile parts, etc. In use, a coating of the anodized film may be applied to the surface of the anodized film as necessary, but in order to take advantage of the characteristics of the anodized film of the present invention having good electrical conductivity, the whole product should not be covered with a coating made of an insulating film.

사용되는 도료는 특별히 한정되지 않고, 금속 표면의 도장에 사용되는 각종 도료를 사용할 수 있다. 용제형 도료, 수성 도료, 분체 도료 등을 사용하여 수지 도막을 형성할 수 있다. 도포 후에 고온 소결을 요하는 열경화형 도료 또는 비교적 저온에서 용제 또는 물을 휘발시키는 것만으로 충분한 도료가 가능하지만, 조작이 용이한 후자를 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 외관을 미려하게 하기 위해서는 투명 수지 도료를 사용하는 것이 바람직하고, 적절하게 착색된 것을 사용하여도 좋다. 도장방법도 특별히 한정되지 않고, 스프레이 도장, 침지 도장, 전착 도장, 분체 도장 등의 공지 방법을 채용할 수 있다. 일부에 도막을 갖지 않는 부분을 갖는 것이 바람직한 본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품에 있어서 스프레이 도장 또는 용사법에 의한 분체 도장이 적절하게 채용된다. The coating material to be used is not particularly limited, and various coating materials used for coating the metal surface can be used. A resin coating film can be formed using a solvent type coating material, an aqueous coating material, a powder coating material, etc. Although sufficient coating is possible only by volatilizing a solvent or water at a relatively low temperature or a thermosetting paint requiring high temperature sintering after application, it is preferable to use the latter which is easy to operate. Moreover, in order to make an external appearance beautiful, it is preferable to use a transparent resin paint, and you may use suitably colored thing. A coating method is not specifically limited, either, A well-known method, such as spray coating, immersion coating, electrodeposition coating, powder coating, can be employ | adopted. In the product which consists of the magnesium or magnesium alloy of this invention in which it is preferable to have a part which does not have a coating film in part, powder coating by spray coating or the spraying method is employ | adopted suitably.

양극 산화처리한 후에, 양극 산화 피막 표면에 수지 도막을 1회만 도장하여 도막을 형성하는 것이 바람직하다. 전기기기 케이스 등에서는 복잡한 형상을 갖는 경우가 많아서, 균질한 도막을 형성하는 것은 반드시 용이하지는 않다. 복수회의 도장을 실시하는 것으로 내식성이 한층 더 향상되는 경우가 많지만, 도장의 회수가 많으면 비용의 상승도 커진다. 이러한 점에서, 내식성이 양호한 본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품에 있어서 1회의 도장만으로도 충분히 양호한 내식성을 수득할 수 있는 경우가 많다.  After anodizing, it is preferable to coat the resin coating film only once on the surface of the anodizing film to form a coating film. In electrical equipment cases and the like, they often have complicated shapes, and it is not always easy to form a homogeneous coating film. In many cases, the corrosion resistance is further improved by applying a plurality of coatings, but the increase in the cost also increases when the number of coatings is large. For this reason, in the product which consists of the magnesium or magnesium alloy of this invention which is favorable in corrosion resistance, sufficient corrosion resistance can be obtained by only one coating in many cases.

용제형 도료 또는 수성 도료를 사용한 경우에는 40 내지 120℃의 온도에서 가열하여 도막을 건조시키는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 50℃ 이상 100℃ 이하이다. 내식성이 양호한 본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품에 있어서 비교적 저온의 가열공정에서 건조 경화되는 수지 도장만으로 충분한 경우가 많아서, 결과적으로 제조 비용을 삭감하는 것이 가능해진다. 가열 건조방법은 특별히 한정되지 않고, 범용의 오븐 등을 사용할 수 있다. When using a solvent type coating or an aqueous coating, it is preferable to heat at 40-120 degreeC, and to dry a coating film. More preferably, they are 50 degreeC or more and 100 degrees C or less. In the product which consists of the magnesium or magnesium alloy of this invention which is favorable in corrosion resistance, it is often sufficient only by resin coating hardened | cured at the comparatively low temperature heating process, and as a result, manufacturing cost can be reduced. The heat drying method is not particularly limited, and a general-purpose oven or the like can be used.

본 발명의 적절한 실시형태는, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면 전부가 양극 산화 피막으로 피복되고, 당해 양극 산화 피막 표면의 일부에만 수지 도장이 실시되고 나머지 부분의 양극 산화 피막이 노출되어 있는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품이다. 이와 같이 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면 전부가 양극 산화 피막으로 피복되어 있는 것으로, 제품 전체의 내식성을 확보할 수 있다. 단, 여기서 말하는 전부란, 실질적으로 전부라는 것이며, 양극 산화처리시에 전원과 도통시킨 접점 부분 등, 양극 산화 피막이 형성되어 있지 않은 부분이 약간 있어도 상관없다. 또한, 양극 산화 피막 표면의 일부에만 수지 도장이 실시되고 나머지 부분의 양극 산화 피막이 노출되어 있는 것으로, 전자파 실드성 또는 접지 특성을 확보하면서, 수지 도장에 의해서 외관이 미려하고, 내마찰성이 뛰어난 제품을 제공할 수 있는 것이다. A preferred embodiment of the present invention comprises a magnesium or magnesium alloy in which all of the magnesium or magnesium alloy surfaces are covered with anodized film, and resin coating is applied only to a part of the anodized film surface and the anodized film of the remaining part is exposed. Product. Thus, the whole surface of magnesium or magnesium alloy is coat | covered with an anodizing film, and the corrosion resistance of the whole product can be ensured. However, all here is substantially everything, and there may be some parts in which the anodic oxide film is not formed, such as the contact part connected to the power supply during the anodic oxidation treatment. In addition, the resin coating is applied only to a part of the surface of the anodized film, and the anodized film of the remaining part is exposed, so that the appearance is beautiful and the friction resistance is excellent by the resin coating while ensuring electromagnetic shielding or grounding properties. It can be provided.

특히 적절한 실시형태는, 케이스 내면에는 수지 도장이 실시되지 않고, 케이스 외면에는 수지 도장이 실시된 전기기기 케이스이다. 케이스 외면에 수지 도장이 실시되는 것으로, 외관을 미려하게 할 수 있을 뿐만 아니라, 사용시의 손상을 방지할 수 있다. 한편, 케이스의 내면에서는 전도성을 갖는 양극 산화 피막이 노출되어 있기 때문에, 전기배선으로부터의 접지를 용이하게 확보할 수 있고, 케이스 내부의 전자회로로부터의 전자파를 효과적으로 실드할 수도 있다. A particularly suitable embodiment is an electrical equipment case in which resin coating is not applied to the inner surface of the case and resin coating is applied to the outer surface of the case. By coating the outer surface of the case, not only the appearance can be made beautiful but also the damage during use can be prevented. On the other hand, since the conductive anodization film is exposed on the inner surface of the case, it is possible to easily secure the ground from the electrical wiring and effectively shield the electromagnetic waves from the electronic circuits inside the case.

이렇게 해서 수득된 본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품은 각종 용도로 사용할 수 있다. 휴대전화, 퍼스널 컴퓨터, 비디오카메라, 스틸카메라, 광디스크 플레이어, 디스플레이(CRT, 플라즈마, 액정), 프로젝터 등의 전기기기 케이스 또는 자동차용 부품 등에 사용할 수 있다. The product which consists of magnesium or magnesium alloy of this invention obtained in this way can be used for various uses. It can be used for electronic device cases such as mobile phones, personal computers, video cameras, still cameras, optical disk players, displays (CRT, plasma, liquid crystal), projectors, and automobile parts.

도 1은 실시예 1에서 수득된 양극 산화 피막 표면을 주사형 전자현미경으로 관찰한 사진이다. 1 is a photograph of the surface of the anodized film obtained in Example 1 observed with a scanning electron microscope.

도 2는 온수 침지시험에 제공된 후의 실시예 1의 시험편 표면의 사진이다. 2 is a photograph of the surface of the test piece of Example 1 after being provided in the warm water immersion test.

도 3은 염수 분무시험에 제공된 후의 실시예 1의 시험편 표면의 사진이다. 3 is a photograph of the surface of a test piece of Example 1 after being subjected to a salt spray test.

도 4는 온수 침지시험에 제공된 후의 비교예 3의 시험편 표면의 사진이다. 4 is a photograph of the surface of a test piece of Comparative Example 3 after being provided in a warm water immersion test.

도 5는 염수 분무시험에 제공된 후의 비교예 3의 시험편 표면의 사진이다. 5 is a photograph of the surface of a test piece of Comparative Example 3 after being provided in a salt spray test.

이하, 실시예를 사용하여 본 발명을 더욱 상세하게 설명하지만, 본 발명은 이들에 한정되는 것은 아니다. 본 실시예 중에서의 시험방법은 하기의 방법에 따라서 실시하였다.
Hereinafter, although an Example demonstrates this invention still in detail, this invention is not limited to these. The test method in this Example was performed according to the following method.

(1) 양극 산화 피막의 막 두께 측정 (1) Film thickness measurement of anodized film

시험편을 5㎜×10mm의 치수로 절단하여, 에폭시 수지에 묻고 나서, 절단면을 연마하여 경면(鏡面)을 수득하였다. 시료의 단면방향으로부터, 닛폰덴시가부시키가이샤제 X선 마이크로 애널라이저 「JXA-8900」을 사용하여 전자현미경사진을 촬영하여, 막 두께를 측정하였다.
The test piece was cut | disconnected to the dimension of 5 mm x 10 mm, and it buried in the epoxy resin, and the cut surface was grind | polished, and the mirror surface was obtained. From the cross-sectional direction of a sample, the electron micrograph was image | photographed using the Nippon Denshi Corporation X-ray micro analyzer "JXA-8900", and the film thickness was measured.

(2) 양극 산화 피막의 화학 조성 분석 (2) chemical composition analysis of anodized film

닛폰덴시가부시키가이샤제 X선 마이크로 애널라이저 「JXA-8900」을 사용하여, 피막 표면 및 단면의 2방향으로부터 막 조성을 분석하였다. 각 방향에 관하여 3개소씩 측정을 실시하고, 이것들의 평균치로부터 화학 조성을 구하였다. 측정은, 가속전압 15kV, 시료 조사전류 2×10-8A의 조건으로 실시하였다. 데이터 해석은, ZAH 보정에 의해서 실시하였다.
The film composition was analyzed from two directions of the film surface and the cross section using the X-ray micro analyzer "JXA-8900" by Nippon Denshi Corporation. Measurement was carried out in three places in each direction, and the chemical composition was determined from these average values. The measurement was performed under the conditions of an acceleration voltage of 15 kV and a sample irradiation current of 2x10 -8 A. Data analysis was performed by ZAH correction.

(3) 양극 산화 피막 표면의 저항치 측정 (3) Resistance measurement on the surface of anodized film

미츠비시가가쿠가부시키가이샤제 저저항률계 「로레스타 AP MCP-T400」을 사 용하여, 2탐침식(二探針式) 프로브 「MCP-TP01」을 사용하여 측정하였다. 시험편의 중앙부분에서 피막 표면에 측정단자를 가압하도록 하여 저항치(Ω)를 측정하였다. 상기 프로브는 10mm의 간격으로 측정단자가 배치된 것이며, 단자는 베릴륨 합금에 금 도금한 것으로, 이의 선단 형상은 직경 2㎜의 원주형이고, 단자를 피막 표면에 가압하는 하중은 단자 1개당 240g이다.
It was measured using a two-probe probe "MCP-TP01" using a low-resistance meter "Lolesta AP MCP-T400" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The resistance value (Ω) was measured by pressing the measurement terminal on the film surface at the center of the test piece. The probe is a measuring terminal arranged at intervals of 10 mm, the terminal is gold-plated beryllium alloy, its tip shape is a cylindrical shape with a diameter of 2 mm, the load for pressing the terminal to the film surface is 240g per one terminal .

(4) 온수 침지시험 (4) hot water immersion test

시험편을, 70℃로 유지한 온수 중에 24시간 침지하였다. 24시간 경과 후, 시험편을 추출하여, 수분을 닦아내고 나서, 수지 도막과 양극 산화 피막을 관통하도록 약 1㎜의 간격으로 바둑판 눈금형의 절단을 넣어, JIS K5400에 준거하여 테이프 박리시험하여, 도막의 박리 상황 또는 기타 결함의 발생 유무를 육안으로 관찰하였다.
The test piece was immersed in hot water maintained at 70 degreeC for 24 hours. After 24 hours, the test piece was extracted, the moisture was wiped off, and a checkerboard cut was inserted at intervals of about 1 mm to penetrate the resin coating film and the anodizing film, and the tape peeling test was conducted in accordance with JIS K5400. Peeling or other defects were visually observed.

(5) 염수 분무시험 (5) salt spray test

시험편 표면에, 수지 도막과 양극 산화 피막을 관통하도록 열십자형의 절단(크로스커트)을 넣고 나서, JIS Z-2371에 준거하여 5% 염수 분무시험을 120시간 동안 실시하였다. 120시간 경과 후, 시험편을 추출하여, 크로스커트 부분으로부터의 수포의 발생 상황 또는 기타 결함의 발생 유무를 육안으로 관찰하였다.
A cross-shaped cut (crosscut) was put on the surface of the test piece so as to penetrate the resin coating film and the anodized film, and then a 5% salt spray test was conducted for 120 hours in accordance with JIS Z-2371. After 120 hours, the test pieces were extracted and visually observed the occurrence of blisters from the crosscut portion or the presence of other defects.

실시예 1Example 1

마그네슘 90중량%, 알루미늄 9중량% 및 아연 1중량%로 이루어지는 ASTM No. AZ91D의 마그네슘 합금을 원료로 하여, 핫 챔버법으로 주조된 치수 170㎜×50㎜×2㎜의 합금판을 시험편으로서 사용하였다. 상기 시험편을 2.2중량%의 인산과 미량의 계면활성제를 함유하는 산성 수용액에 침지한 다음, 이온교환수로 세정하였다. 계속해서, 18중량%의 수산화나트륨을 함유하는 알칼리성 수용액에 침지한 다음, 이온교환수로 세정하여, 시험편 표면을 전처리하였다. ASTM No. consisting of 90% magnesium, 9% aluminum and 1% zinc. Using a magnesium alloy of AZ91D as a raw material, an alloy plate having a size of 170 mm x 50 mm x 2 mm cast by a hot chamber method was used as a test piece. The test piece was immersed in an acidic aqueous solution containing 2.2% by weight of phosphoric acid and a trace amount of surfactant, and then washed with ion-exchanged water. Subsequently, it was immersed in the alkaline aqueous solution containing 18 weight% sodium hydroxide, and then washed with ion-exchange water, and the test piece surface was pretreated.

인산 수용액과 암모니아수를 혼합하고, 인산 그룹을 0.25mol/L, 암모니아 또는 암모늄 이온을 합계량으로 1.5mol/L 함유하는 전해액을 조제하여, 20℃로 유지하였다. 이 전해액의 pH는 11이었다. 이 중에 상기 전처리를 실시한 마그네슘 합금 시험편을 양극으로서 침지하여, 양극 산화처리를 하였다. 이때의 음극으로서는 상기 양극의 4배의 표면적을 갖는 SUS316L 판을 사용하였다. 정전류전원을 사용하여 양극 표면의 전류밀도가 1A/d㎡가 되도록 하여 120초간 통전하였다. 통전 개시시에는 낮은 인가전압이었던 것이, 통전 종료시에는 약 200볼트까지 상승하였다. 통전 종료 후, 이온교환수, 질산 수용액, 이온교환수의 순서로 세정한 다음 건조시켰다. Aqueous phosphoric acid solution and ammonia water were mixed, an electrolyte solution containing 1.5 mol / L of phosphoric acid groups in a total amount of 0.25 mol / L and ammonia or ammonium ions was prepared, and maintained at 20 ° C. PH of this electrolyte solution was 11. Among them, the magnesium alloy test piece subjected to the pretreatment was immersed as an anode and subjected to anodization. As the negative electrode at this time, a SUS316L plate having a surface area four times that of the positive electrode was used. Using a constant current power source, the current density on the surface of the anode was 1 A / dm 2, and the current was supplied for 120 seconds. The low applied voltage at the start of energization rose to about 200 volts at the end of energization. After the energization was completed, the mixture was washed in the order of ion-exchanged water, aqueous nitric acid solution, and ion-exchanged water, followed by drying.

수득된 양극 산화 피막 표면을 주사형 전자현미경으로 관찰한 사진을 도 1에 도시한다. 양극 산화 피막 표면에 통전중의 스파크에 유래하는 것으로 생각되는 다수의 공극의 존재가 인식되었다. 이 양극 산화 피막의 막 두께는 약 1.5㎛이었다. 여기서 말하는 막 두께는, 다수의 공극을 갖기 때문에 국소적인 막 두께 불균일함이 있는 피막에 있어서, 두꺼운 부분의 표면으로부터 기재(基材)의 마그네슘 합금면에서의 평균적인 거리이다. 수득된 양극 산화 피막은 마그네슘 원소를 48.0중량%, 산소 원소를 33.5중량%, 인 원소를 7.0중량% 및 알루미늄 원소를 11.2중량% 함유하고 있었다. 양극 산화 피막 표면의 저항치는 0.25Ω이었다.The photograph which observed the obtained anodic oxide film surface with the scanning electron microscope is shown in FIG. On the surface of the anodic oxide film, the presence of a large number of pores, which are thought to be derived from sparks during energization, were recognized. The film thickness of this anodic oxide film was about 1.5 micrometers. The film thickness here is an average distance in the magnesium alloy surface of a base material from the surface of a thick part in the film which has a local film thickness nonuniformity because it has many voids. The resulting anodic oxide film contained 48.0% by weight of magnesium, 33.5% by weight of oxygen, 7.0% by weight of phosphorus and 11.2% by weight of aluminum. The resistance value of the anodized film surface was 0.25?.

수득된 양극 산화 피막 표면에, 카슈가부시키가이샤제 아크릴 실리콘계 도료 「아스코트300J」를 에어 스프레이 도장하였다. 이때, 도장에 있어서 프라이머 도장하지 않고, 양극 산화 피막 표면에 당해 아크릴 실리콘계 도료를 1회만 도포하였다. 도포 후, 60℃에서 20분간 가열하여, 용제를 휘발 제거하여 도막을 경화시켰다. 이에 의해, 양극 산화 피막 표면에 막 두께 약 20㎛의 도막이 형성되었다. The surface of the anodic oxide film thus obtained was air-sprayed with an acrylic silicone paint "Ascote 300J" manufactured by Kyushu Chemical Co., Ltd. At this time, the acrylic silicone paint was applied only once to the surface of the anodized film without primer coating in coating. After coating, the mixture was heated at 60 ° C. for 20 minutes to evaporate the solvent to cure the coating film. As a result, a coating film having a thickness of about 20 μm was formed on the surface of the anodized film.

수득된 시험편을 온수 침지시험 및 염수 분무시험에 제공한 바, 어느 경우에나, 표면에 외관상의 변화는 관찰되지 않았다. 온수 침지시험에 제공된 후의 시험편 표면의 사진을 도 2에, 염수 분무시험에 제공된 후의 시험편 표면의 사진을 도 3에 각각 도시한다. The obtained test piece was subjected to the hot water immersion test and the salt spray test, and in either case, no change in appearance was observed on the surface. The photograph of the test piece surface after being provided for the hot water immersion test is shown in FIG. 2, and the photograph of the test piece surface after being provided for the salt spray test is shown in FIG.

비교예 1Comparative Example 1

인산 수용액과 암모니아수를 혼합하고, 인산 그룹을 0.08mol/L, 암모니아 또는 암모늄 이온을 합계량으로 0.8mol/L 함유하는 전해액을 조제하여, 20℃로 유지하였다. 이 전해액의 pH는 11이었다. 이 중에 실시예 1과 같은 전처리를 실시한 마그네슘 합금 시험편을 양극으로서 침지하여, 양극 산화처리를 하였다. 이때의 음극으로서는 실시예 1과 같은 것을 사용하였다. 정전류전원을 사용하여 양극 표면의 전류밀도가 1A/d㎡가 되도록 하여 120초간 통전한 통전 개시시에는 낮은 인가 전압이었지만, 통전 종료시에는 약 200볼트까지 상승하였다. 통전 종료 후, 이온교환수, 질산 수용액, 이온교환수의 순서로 세정한 다음 건조시켰다. Aqueous phosphoric acid solution and ammonia water were mixed, an electrolyte solution containing 0.88 mol / L of phosphoric acid groups in a total amount of 0.08 mol / L and ammonia or ammonium ions was prepared, and maintained at 20 ° C. PH of this electrolyte solution was 11. Among them, the magnesium alloy test piece subjected to the pretreatment as in Example 1 was immersed as an anode, and anodized. As a negative electrode at this time, the same thing as Example 1 was used. Although the voltage applied at the anode surface was 1 A / dm 2 using a constant current power source, the voltage was low at the start of energization for 120 seconds, but rose to about 200 volts at the end of energization. After the energization was completed, the mixture was washed in the order of ion-exchanged water, aqueous nitric acid solution, and ion-exchanged water, followed by drying.

수득된 양극 산화 피막의 막 두께는 약 1.5㎛이고, 마그네슘 원소를 54.8중량%, 산소 원소를 37.7중량%, 인 원소를 3.2중량% 및 알루미늄 원소를 4.3중량% 함유하고 있었다. 양극 산화 피막 표면의 저항치는 측정에 사용한 저항률 측정기의 측정한계인 107Ω를 넘었다. The film thickness of the anodic oxide film thus obtained was about 1.5 mu m, and contained 54.8 wt% magnesium element, 37.7 wt% oxygen element, 3.2 wt% phosphorus element, and 4.3 wt% aluminum element. The resistivity on the surface of the anodized film exceeded 10 7 Ω, which is the measurement limit of the resistivity meter used for the measurement.

수득된 양극 산화 피막 표면에, 실시예 1과 같이 하여 수지 도막을 형성하였다. 수득된 시험편을 온수 침지시험 및 염수 분무시험에 제공한 바, 어느 경우에나, 표면에 외관상의 변화는 관찰되지 않았다.
On the obtained anodized film surface, a resin coating film was formed in the same manner as in Example 1. The obtained test piece was subjected to the hot water immersion test and the salt spray test, and in either case, no change in appearance was observed on the surface.

비교예 2Comparative Example 2

Dow17법이라고 불리는 공지의 양극 산화 피막 형성방법을 시험한 예이다. 산성 플루오르화암모늄 300g/L, 중크롬산나트륨 100g/L 및 인산 90g/L을 함유하는 전해액을 조제하여, 75℃로 유지하였다. 이 중에 실시예 1과 같은 전처리를 실시한 마그네슘 합금 시험편을 양극으로서 침지하여, 양극 산화처리를 하였다. 이때의 음극으로서는 실시예 1과 같은 것을 사용하였다. 정전류전원을 사용하여 양극 표면의 전류밀도가 4A/d㎡가 되도록 하여 300초간 통전하였다. 통전 종료시에는 약 70볼트까지 상승하였다. 통전 종료 후, 이온교환수로 세정한 다음 건조시켰다. It is the example which tested the well-known anodized film formation method called Dow17 method. An electrolyte solution containing 300 g / L of acidic ammonium fluoride, 100 g / L of sodium dichromate and 90 g / L of phosphoric acid was prepared and maintained at 75 ° C. Among them, the magnesium alloy test piece subjected to the pretreatment as in Example 1 was immersed as an anode, and anodized. As a negative electrode at this time, the same thing as Example 1 was used. Using a constant current power source, the current density was 4 A / dm 2 at the surface of the positive electrode, and energized for 300 seconds. At the end of energization it rose to about 70 volts. After the end of energization, it was washed with ion-exchanged water and dried.

수득된 양극 산화 피막의 막 두께는 약 1.5㎛이고, 마그네슘 원소를 26.0중 량%, 산소 원소를 25.7중량%, 인 원소를 11.2중량%, 알루미늄 원소를 1.0중량%, 불소 원소를 23.4중량%, 크롬 원소를 9.2중량% 및 나트륨 원소를 3.6중량% 함유하고 있었다. 양극 산화 피막 표면의 저항치는 측정에 사용한 저항률 측정기의 측정 한계인 107Ω를 넘었다.
The film thickness of the anodic oxide film thus obtained was about 1.5 µm, 26.0 weight% of magnesium element, 25.7 weight% of oxygen element, 11.2 weight% of phosphorus element, 1.0 weight% of aluminum element, 23.4 weight% of fluorine element, It contained 9.2 weight% of chromium elements and 3.6 weight% of sodium elements. The resistivity on the surface of the anodized film exceeded 10 7 Ω, the measurement limit of the resistivity meter used for the measurement.

비교예 3Comparative Example 3

양극 산화처리하는 대신에, 시판하는 화성 처리액을 사용하여 화성처리를 실시한 예이다. 밀리언가가쿠가부시키가이샤제 화성 처리액 「MC-1000」을 75g/L의 비율로 함유하도록 이온교환수로 희석하여 처리액을 조제하여, 40℃로 유지한다. 당해 화성 처리액의 상세한 화학 조성은 불분명하지만, 인산 이온, 망간(또는 망간 산화물) 이온 및 칼슘 이온을 함유하는 화성 처리액이라고 추정되고 있다. 이 처리액 중에, 실시예 1과 같은 전처리를 실시한 마그네슘 합금 시험편을 30초간 침지하였다. 침지 종료 후, 이온교환수로 세정한 다음 건조시켰다. Instead of anodizing, the chemical conversion treatment is carried out using a commercial chemical treatment solution. The treatment liquid was prepared by diluting it with ion-exchange water so that the conversion treatment solution "MC-1000" made from Million Chemical Co., Ltd. may be contained at a ratio of 75 g / L, and maintained at 40 degreeC. Although the detailed chemical composition of this chemical conversion liquid is unclear, it is estimated that it is a chemical conversion liquid containing phosphate ion, manganese (or manganese oxide) ion, and calcium ion. In this processing liquid, the magnesium alloy test piece subjected to the pretreatment as in Example 1 was immersed for 30 seconds. After immersion, it was washed with ion-exchanged water and dried.

수득된 화성처리 피막의 막 두께는 0.1㎛ 이하이며, 정량적으로 측정하는 것이 곤란한 얇은 막 두께이었다. 이 화성 피막은 단위 면적당 함유량으로서, 칼슘 원소를 85㎎/㎡, 망간 원소를 95㎎/㎡, 인 원소를 220mg/㎡ 함유하는 것이었다. 또한, 이 화성처리 피막 표면의 저항치는 0.5Ω이었다. The film thickness of the obtained chemical conversion treatment film was 0.1 micrometer or less, and was thin film thickness which is difficult to measure quantitatively. This chemical conversion film contained 85 mg / m 2 of calcium elements, 95 mg / m 2 of manganese elements, and 220 mg / m 2 of phosphorus elements as content per unit area. Moreover, the resistance value of this chemical conversion coating surface was 0.5 ohms.

수득된 화성 피막 표면에, 실시예 1과 같이 하여 수지 도막을 형성하였다. 수득된 시험편을 온수 침지시험에 제공된 후의 외관을 도 4에, 염수 분무시험에 제공된 후의 외관을 도 5에 각각 도시한다. 어느 경우에나, 피막에 넣은 절단 주위에서 수지 도막의 박리가 현저하게 인식되었다. On the obtained chemical conversion film surface, the resin coating film was formed like Example 1. The external appearance after the obtained test piece was provided to the hot water immersion test is shown in FIG. 4, and the external appearance after being provided to the salt spray test is shown in FIG. In either case, peeling of the resin coating film was remarkably recognized around the cutting | disconnection which put into the film.

비교예 4Comparative Example 4

양극 산화처리하는 대신에, 비교예 3과 다른 시판의 화성 처리액을 사용하여 화성처리를 한 예이다. 일본 파카라이징가부시키가이샤제 화성 처리액 「MB-C10M」을 75g/L의 비율로 함유하도록 이온교환수로 희석하여 처리액을 조제하여, 50℃로 유지하였다. 당해 화성 처리액의 상세한 화학 조성은 불분명하지만, 무수 크롬산 14중량% 및 플루오르화수소 0.7중량%를 주성분으로서 함유하는 화성 처리액이라고 추정되고 있다. 이 처리액 중에, 실시예 1과 같은 전처리를 실시한 마그네슘 합금 시험편을 60초간 침지하였다. 침지 종료 후, 이온교환수로 세정한 다음 건조시켰다. Instead of the anodizing treatment, a chemical conversion treatment is performed using a commercially available chemical treatment solution different from Comparative Example 3. The treatment liquid was prepared by diluting with Nippon Parka Co., Ltd. chemical conversion treatment liquid "MB-C10M" in 75 g / L ratio, and preparing the process liquid, and maintaining it at 50 degreeC. Although the detailed chemical composition of this chemical conversion treatment liquid is unclear, it is estimated that it is a chemical conversion treatment liquid containing 14 weight% of chromic anhydride and 0.7 weight% of hydrogen fluoride as a main component. In this treatment liquid, the magnesium alloy test piece subjected to the same pretreatment as in Example 1 was immersed for 60 seconds. After immersion, it was washed with ion-exchanged water and dried.

수득된 화성처리 피막의 막 두께는 0.1㎛ 이하이며, 정량적으로 측정하는 것이 곤란한 얇은 막 두께이었다. 이 화성 피막은 단위 면적당 함유량으로서, 크롬 원소를 190mg/㎡ 함유하는 것이었다. 또한, 이 화성처리 피막 표면의 저항치는 0.75Ω이었다. The film thickness of the obtained chemical conversion treatment film was 0.1 micrometer or less, and was thin film thickness which is difficult to measure quantitatively. This chemical conversion film contained 190 mg / m <2> of chromium element as content per unit area. Moreover, the resistance value of this chemical conversion coating surface was 0.75 ohms.

수득된 화성 피막 표면에, 실시예 1과 같이 하여 수지 피막을 형성하였다. 수득된 시험편을 온수 침지시험 및 염수 분무시험에 제공한 바, 어느 경우에나, 피막에 넣은 절단 주위에서의 수지 도막의 박리 또는 수포는 인식되지 않았다. 그러나, 온수 침지시험 후, 시험편의 에지에 가까운 부분에서 도막에 도트형으로 부푼 점(수포)이 복수개 발생하고 있는 것이 관찰되었다. On the obtained chemical conversion film surface, the resin film was formed like Example 1. The obtained test piece was subjected to the hot water immersion test and the salt spray test, and in either case, no peeling or blistering of the resin coating film around the cut put into the film was recognized. However, after the hot water immersion test, it was observed that a plurality of dots (bubbles) bulging in dots were generated in the coating film at a portion near the edge of the test piece.

이상 설명한 바와 같이, 실시예 1에서 양극 산화처리하여 수득된 본 발명의 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품은 전기 전도성과 뛰어난 내식성을 겸비한 것이었다. 이에 대하여, 비교예 1 또는 2에 개시되는 바와 같은 종래의 양극 산화처리로 수득된 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품은 내식성은 뛰어나지만, 전기 전도성은 인식되지 않았다. 한편, 비교예 3에 개시되는 바와 같은 화성처리로 수득된 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품은 전기 전도성은 인정되었지만, 내식성이 충분하지 않았다.
As described above, the product made of the magnesium alloy of the present invention obtained by anodizing in Example 1 had both electrical conductivity and excellent corrosion resistance. In contrast, a product made of a magnesium alloy obtained by conventional anodizing treatment as disclosed in Comparative Examples 1 or 2 was excellent in corrosion resistance, but electrical conductivity was not recognized. On the other hand, the product which consists of magnesium alloy obtained by the chemical conversion treatment as disclosed in the comparative example 3 was recognized electrical conductivity, but corrosion resistance was not enough.

본 발명의 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품은 전기 전도성과 뛰어난 내식성을 겸비한 양극 산화 피막을 표면에 갖는 것이다. 따라서, 전자파 실드성 또는 접지 특성이 뛰어난 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품으로서 사용되고, 전기기기 케이스로서 특히 유용하다. 더구나, 당해 제품은 중금속을 함유하지 않고, 재활용에 적합하다. 또한, 중금속 이온 또는 불소 이온을 사용하지 않는 전해액으로 양극 산화처리할 수 있기 때문에, 환경보전의 관점에서도 뛰어난 제조방법을 제공할 수 있는 것이다.The product made of the magnesium or magnesium alloy of the present invention has an anodized film having electrical conductivity and excellent corrosion resistance on its surface. Therefore, it is used as a product which consists of magnesium or a magnesium alloy which is excellent in electromagnetic shielding property or grounding property, and is especially useful as an electrical equipment case. Moreover, the product does not contain heavy metals and is suitable for recycling. In addition, since the anodic oxidation treatment can be performed with an electrolyte solution that does not use heavy metal ions or fluorine ions, it is possible to provide an excellent production method in terms of environmental conservation.

Claims (13)

마그네슘 원소를 35 내지 65중량%, 산소 원소를 25 내지 45중량% 및 인 원소를 4 내지 15중량% 함유하고, 막 두께가 0.01 내지 10㎛이고, 서로 10㎜ 떨어진 2개의 단자간에서 측정한 피막 표면의 저항치가 100Ω 이하인 전도성 양극 산화 피막을 표면에 갖는 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품. A film measured between two terminals containing 35 to 65% by weight of magnesium element, 25 to 45% by weight of oxygen element and 4 to 15% by weight of phosphorus element and having a thickness of 0.01 to 10 µm and 10 mm apart from each other. A product made of magnesium or a magnesium alloy having a conductive anodized film having a surface resistance of 100 Ω or less. 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 양극 산화 피막이 알루미늄 원소를 5 내지 20중량% 함유하는, 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품.The product of claim 1, wherein the anodized film contains 5 to 20 wt% of an aluminum element. 삭제delete 제1항에 있어서, 마그네슘 또는 마그네슘 합금 표면 전부가 양극 산화 피막으로 피복되고, 상기 양극 산화 피막 표면의 일부에만 수지 도장이 실시되고 나머지 부분의 양극 산화 피막이 노출되어 있는, 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품.2. A product according to claim 1, wherein the entire surface of the magnesium or magnesium alloy is covered with anodized film, the resin coating is applied to only a part of the surface of the anodized film, and the remaining anodized film is exposed. . 제6항에 있어서, 케이스 내면에는 수지 도장이 실시되지 않고, 케이스 외면에는 수지 도장이 실시된 전기기기 케이스인, 마그네슘 또는 마그네슘 합금으로 이루어지는 제품.The product made of magnesium or a magnesium alloy according to claim 6, wherein the inner surface of the case is not coated with resin, and the outer surface of the case is a resin case coated with resin. 인산 그룹을 0.1 내지 1mol/L 함유하고, pH가 8 내지 14인 전해액에 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 침지하고, 이의 표면을 양극 산화처리하는 것을 특징으로 하는, 제1항에 기재된 제품의 제조방법.A method for producing a product according to claim 1, comprising 0.1 to 1 mol / L of phosphoric acid groups, immersing magnesium or a magnesium alloy in an electrolyte solution having a pH of 8 to 14, and anodizing the surface thereof. 제8항에 있어서, 전해액이 암모니아 또는 암모늄 이온을 0.2 내지 5mol/L 함유하는, 제품의 제조방법.The method of claim 8, wherein the electrolyte contains 0.2 to 5 mol / L of ammonia or ammonium ions. 제8항 또는 제9항에 있어서, 마그네슘 또는 마그네슘 합금을 미리 산성 수용액에 침지한 다음, 전해액에 침지하여 양극 산화처리하는, 제품의 제조방법. The method for producing a product according to claim 8 or 9, wherein the magnesium or magnesium alloy is previously immersed in an acidic aqueous solution and then immersed in an electrolyte solution. 제8항 또는 제9항에 있어서, 양극 산화처리한 후에, 양극 산화 피막 표면에 수지 도막을 1회만 도장하고, 40 내지 120℃의 온도에서 가열하여 도막을 건조시키는, 제품의 제조방법.The method for producing a product according to claim 8 or 9, wherein, after anodizing, the resin coating film is coated only once on the surface of the anodizing film, and the coating film is dried by heating at a temperature of 40 to 120 ° C. 제1항에 있어서, 상기 전도성 양극 산화 피막이 불소 원소를 함유하지 않는 제품.A product according to claim 1, wherein the conductive anodization film does not contain elemental fluorine. 제8항에 있어서, 상기 전해액이 불소 원소를 함유하지 않는, 제품의 제조방법.The method for producing a product according to claim 8, wherein the electrolyte solution does not contain fluorine element.
KR1020047015178A 2002-03-25 2003-03-13 Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof KR100999313B1 (en)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002083247 2002-03-25
JPJP-P-2002-00083247 2002-03-25
PCT/JP2003/002981 WO2003080897A1 (en) 2002-03-25 2003-03-13 Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20040099363A KR20040099363A (en) 2004-11-26
KR100999313B1 true KR100999313B1 (en) 2010-12-09

Family

ID=28449171

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020047015178A KR100999313B1 (en) 2002-03-25 2003-03-13 Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof

Country Status (6)

Country Link
JP (3) JP4367838B2 (en)
KR (1) KR100999313B1 (en)
CN (1) CN1653212B (en)
AU (1) AU2003213340A1 (en)
TW (1) TWI266814B (en)
WO (1) WO2003080897A1 (en)

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1653212B (en) * 2002-03-25 2010-06-16 堀金属表面处理工业股份有限公司 Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof
JP4808374B2 (en) * 2003-11-13 2011-11-02 富士通株式会社 Surface treatment method for metal molded products
JP4616573B2 (en) * 2004-04-05 2011-01-19 アーク岡山株式会社 Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
JP4736084B2 (en) * 2005-02-23 2011-07-27 オーエム産業株式会社 Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
JP4875853B2 (en) * 2005-04-15 2012-02-15 住友金属工業株式会社 Magnesium plate
JP4901296B2 (en) * 2006-05-09 2012-03-21 矢崎総業株式会社 Magnesium member surface treatment method
KR100980713B1 (en) * 2008-07-18 2010-09-07 현대자동차주식회사 Method for surface treatment of a magnesium alloy part
JP5517024B2 (en) 2009-02-02 2014-06-11 独立行政法人物質・材料研究機構 Mg-based structural member
JP5613917B2 (en) * 2009-05-26 2014-10-29 岡山県 Method for producing molded article made of magnesium or magnesium alloy
JP6123116B2 (en) * 2011-12-22 2017-05-10 岡山県 Manufacturing method of magnesium alloy products
JP2015085098A (en) * 2013-11-01 2015-05-07 オリンパス株式会社 Implant for living body
CN103911645B (en) * 2014-04-15 2017-04-19 中国科学院嘉兴轻合金技术工程中心 Magnesium alloy anode oxidation method
JP6403198B2 (en) * 2014-11-28 2018-10-10 堀金属表面処理工業株式会社 Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
JP6403199B2 (en) * 2014-11-28 2018-10-10 堀金属表面処理工業株式会社 Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
WO2016103423A1 (en) * 2014-12-25 2016-06-30 オリンパス株式会社 Implant for bone setting use, and method for producing same
CN105506702B (en) * 2015-12-11 2017-08-25 哈尔滨飞机工业集团有限责任公司 One kind brushes anodization thicknesses of layers detection method
JP2019119914A (en) * 2018-01-09 2019-07-22 ジオネーション株式会社 Resin zirconium alloy joined body and production method thereof
JP6546313B1 (en) * 2018-04-03 2019-07-17 ジオネーション株式会社 Resin carbon steel joined body and method for producing the same
CN110923777A (en) * 2019-09-10 2020-03-27 西北稀有金属材料研究院宁夏有限公司 Method for conducting oxidation on surface of beryllium-aluminum alloy
EP4053309A1 (en) * 2021-03-01 2022-09-07 Canon Kabushiki Kaisha Alloy member, sliding member, apparatus, and method for manufacturing alloy member

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11317331A (en) * 1998-03-03 1999-11-16 Acktar Ltd Manufacture of large surface area foil electrode

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5792335A (en) * 1995-03-13 1998-08-11 Magnesium Technology Limited Anodization of magnesium and magnesium based alloys
JP2002515092A (en) * 1997-03-24 2002-05-21 マグネシウム テクノロジー リミティド Anodizing of magnesium and magnesium alloys
CA2296539A1 (en) * 1997-07-11 1999-01-21 Magnesium Technology Limited Sealing procedures for metal and/or anodised metal substrates
US6335099B1 (en) * 1998-02-23 2002-01-01 Mitsui Mining And Smelting Co., Ltd. Corrosion resistant, magnesium-based product exhibiting luster of base metal and method for producing the same
JP2000345370A (en) * 1999-06-07 2000-12-12 Ueda Alumite Kogyo Kk Surface treatment of magnesium or magnesium alloy
JP3858257B2 (en) * 1999-10-28 2006-12-13 三菱アルミニウム株式会社 Method for surface treatment of magnesium or magnesium alloy
CN1653212B (en) * 2002-03-25 2010-06-16 堀金属表面处理工业股份有限公司 Magnesium or magnesium alloy article having electroconductive anodic oxidation coating on the surface thereof and method for production thereof

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11317331A (en) * 1998-03-03 1999-11-16 Acktar Ltd Manufacture of large surface area foil electrode

Also Published As

Publication number Publication date
TW200413572A (en) 2004-08-01
CN1653212A (en) 2005-08-10
JP4686727B2 (en) 2011-05-25
CN1653212B (en) 2010-06-16
JP2008214761A (en) 2008-09-18
JPWO2003080897A1 (en) 2005-07-28
JP2008231578A (en) 2008-10-02
JP4367838B2 (en) 2009-11-18
JP4686728B2 (en) 2011-05-25
KR20040099363A (en) 2004-11-26
AU2003213340A1 (en) 2003-10-08
WO2003080897A1 (en) 2003-10-02
TWI266814B (en) 2006-11-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4686727B2 (en) Magnesium or magnesium alloy products with conductive anodized film on the surface
CN107955961B (en) A kind of preparation method of Mg alloy surface conduction corrosion-inhibiting coating
JP4714945B2 (en) Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
JP4736084B2 (en) Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
JP4418985B2 (en) Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
JP5431081B2 (en) Magnesium-lithium alloy and surface treatment method thereof
US20090162678A1 (en) Magnesium alloy article and method for fabricating the same
JPWO2014203919A1 (en) Manufacturing method of magnesium alloy products
JP5613917B2 (en) Method for producing molded article made of magnesium or magnesium alloy
KR101790975B1 (en) Surface treatment method of aluminium material
US20030079997A1 (en) Method for coating metal surfaces
KR100935632B1 (en) Method for Treating the Surface on the Mobile Phone Case
US20080156653A1 (en) Cyanide-free pre-treating solution for electroplating copper coating layer on magnesium alloy surface and a pre-treating method thereof
KR20050044515A (en) Method of surface treatment for magnesium and/or magnesium alloy, and magnesium and/or magnesium alloy product
KR101313014B1 (en) Method for Treating the Surface of the Heat Sink for LED
US20190316270A1 (en) Dark colored electroceramic coatings for magnesium
JP6403199B2 (en) Manufacturing method of product made of magnesium or magnesium alloy
KR20170129652A (en) Surface treatment method of aluminium material
KR101135371B1 (en) Chemical Coating Solutions for Magnesium Alloys and Magnesium Alloy Substrates thereby
KR101516382B1 (en) Surface treatment method for magnesium or magnesium alloy
JP2008179888A (en) Composite material for electrical and electronic component, electrical and electronic component, and method for manufacturing composite material for electrical and electronic component
JP2009299082A (en) Metal treating method, method for manufacturing metal substrate and metal substrate

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131111

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141113

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151110

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161114

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171114

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181120

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191127

Year of fee payment: 10