KR100995654B1 - Solar cell and method for manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

태양전지 및 그 제조방법이 제공된다.A solar cell and a method of manufacturing the same are provided.

본 발명에 따른 태양전지 제조방법은 (a) 제 1형 불순물을 포함하며 상호 이격된 복수의 금속전극을 제 2형 불순물을 포함하는 기판 상에 형성하는 단계; (b) 상기 복수의 금속전극 사이의 기판 상에 제 1형 불순물을 포함하는 페이스트를 적층하는 단계; (c) 상기 금속전극 및 페이스트를 가열하여 제 1형 불순물을 함유하는 에미터층을 상기 기판에 형성하는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; 및 (d) 상기 기판 및 금속전극상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하며, 하나의 가열 공정을 통하여 기판의 에미터층 형성 및 전면 전극의 소결 공정을 동시에 진행할 수 있으므로, 매우 경제적이고, 전면 전극 내에 포함된 불순물을 이용하여 전면전극 하부의 에미터층을 형성하므로, 종래 기술과 같이 공정 조건에 따라 전면전극이 기 형성된 에미터층에 접촉하지 않거나, 베이스층에 접촉함으로써 발생하는 션트 등의 문제를 방지할 수 있다. A solar cell manufacturing method according to the present invention comprises the steps of: (a) forming a plurality of metal electrodes containing a first type impurities and spaced apart from each other on a substrate containing a second type impurities; (b) depositing a paste containing a first type impurity on a substrate between the plurality of metal electrodes; (c) heating the metal electrode and the paste to form an emitter layer containing a first type impurity on the substrate and simultaneously sintering the metal electrode; And (d) laminating an anti-reflection film on the substrate and the metal electrode. Since the emitter layer of the substrate and the sintering of the front electrode can be simultaneously processed through one heating process, the front electrode is very economical. Since the emitter layer under the front electrode is formed using impurities contained therein, it is possible to prevent problems such as shunt caused by the front electrode not contacting the previously formed emitter layer or contacting the base layer according to the process conditions as in the prior art. can do.

Description

태양전지 및 그 제조방법{Solar cell and method for manufacturing the same}Solar cell and method for manufacturing the same

본 발명은 태양전지 및 그 제조방법 관한 것으로, 보다 상세하게는 보다 안정한 구조를 가지는 태양전지 및 이를 보다 경제적인 방식으로 제조할 수 있는방법에 관한 것이다.The present invention relates to a solar cell and a method for manufacturing the same, and more particularly, to a solar cell having a more stable structure and a method for manufacturing the same in a more economical manner.

1839년 프랑스의 물리학자 Edmond Becquerel은 처음으로 전해질 (electrolyte)에 담근 전극(electrode)사이에서 재료들이 빛을 받을 때 작은 양의 전류가 흐르는 것을 발견하였다. 또한, 1876년 Heinrich Hertz가 셀레늄과 같은 고체에서도 같은 현상이 발생됨을 관찰하였다. 이런 현상을 광전효과(photovoltaic effect)라고 하며, 이와 같은 광전효과를 보이는 재료를 태양전지(solar cells or PV cells) 라고 부른다.당시의 빛 전환 전류 효율은 1% ~ 2% 정도였을 뿐이다. In 1839, French physicist Edmond Becquerel discovered for the first time that a small amount of current flows when materials receive light between electrodes immersed in an electrolyte. Heinrich Hertz also observed the same phenomenon in solids such as selenium in 1876. This phenomenon is called the photovoltaic effect, and the material that exhibits this photovoltaic effect is called solar cells or PV cells, and the light conversion current efficiency at that time was only 1% to 2%.

따라서, 태양을 에너지원으로 활용하는 태양광발전시스템의 핵심인 태양전지는 광전효과(photovoltaic effect)를 이용해 빛에너지를 전기에너지로 전환하는 반도체 소자이며, 광전 효과를 이용한 태앙 전지의 상업화는 1940년대와 1950년대 사이에서 이루어졌다.이때 적정한 효율을 내는 실리콘(Si) 태양전지가 연구되었고, 1954년에 이르러 고순도 결정질 실리콘을 생산할 수 있는 Czochralski 방법이 개발되어 벨(Bell) 연구소는 4%의 효율을 내는 첫 번째 결정질 실리콘 태양전지가 만들어졌다.  Therefore, solar cell, which is the core of photovoltaic power generation system that uses the sun as an energy source, is a semiconductor device that converts light energy into electrical energy by using the photovoltaic effect. Between the 1950s and 1950s, silicon (Si) solar cells with moderate efficiency were studied, and by 1954 the Czochralski method was developed to produce high-purity crystalline silicon. I have made the first crystalline silicon solar cell.

상업용 태양전지는 주로 실리콘을 소재의 p-n 접합 구조를 가지며, 빛이 태양전지 내부로 흡수가 잘 되도록 하기 위한 반사방지막(AR Layer)과 실리콘 내부에서 만들어진 전기를 외부로 끌어내기 위한 상부전극(전면전극) 및 하부전극(후면전극)으로 구성된다. 즉, 상업용 태양전지에서 광전 효과에 의하여 발생한 전자는 n형 실리콘에 접촉하는 금속 전극으로 이동하고, 반대로 정공은 p형 실리콘에 접촉하는 금속 전극으로 이동한다. Commercial solar cells mainly have a pn junction structure made of silicon, and an antireflection film (AR layer) to allow light to be absorbed well into the solar cell and an upper electrode (front electrode) to draw electricity generated inside the silicon to the outside. ) And a lower electrode (rear electrode). That is, in the commercial solar cell, electrons generated by the photoelectric effect move to the metal electrode in contact with the n-type silicon, whereas holes move to the metal electrode in contact with the p-type silicon.

도 1a 내지 1f는 종래의 태양전지 제조방법을 나타내는 단계도이다.1A to 1F are steps illustrating a conventional solar cell manufacturing method.

도 1a 내지 1f를 참조하면, p형 불순물이 도핑된 실리콘 기판(100)에 대하여 POCl3 기체를 투입한 후, 고온 처리함으로써 n형층(110), 즉 에미터층을 형성하여 p-n 접합 구조를 만든다(도 1a). 이러한 에미터층의 형성은 하기 화학식에 따라 인(P)이 실리콘 기판에 주입, 확산됨으로써 이루어진다. Referring to FIGS. 1A through 1F, POCl 3 is applied to a silicon substrate 100 doped with p-type impurities. After the gas is introduced, the n-type layer 110, that is, the emitter layer, is formed by high temperature treatment to form a pn junction structure (FIG. 1A). The emitter layer is formed by implanting and diffusing phosphorus (P) into the silicon substrate according to the following formula.

2P2O5 + 5Si → 2P + 5SiO2 2P 2 O 5 + 5Si → 2P + 5SiO 2

하지만, 이때 실리콘 기판의 전면뿐만 아니라 측면에도 POCl3의 접촉 및 인 확산에 따른 n형층이 형성된다. 따라서 기판 측면에 존재하는 이러한 n형층을 제거하는 공정이 요구된다(도 1b).However, at this time, the n-type layer is formed not only on the front surface but also on the side surface of the silicon substrate by the contact and phosphorus diffusion of POCl 3 . Therefore, a process for removing such an n-type layer existing on the side of the substrate is required (FIG. 1B).

이후, 실리콘 기판(100) 전면에 적층된 에미터층(110) 상에 반사방지막(120)을 적층하는데, 상기 반사방지막(120)은 태양전지의 표면에 조사된 빛의 반사를 방해하는 기능을 수행하며, 일반적으로 TiO2 , MgF2 , ZnS, SiNx 등을 화학증기증착법(CVD)에 의하여 적층하는 방식이 사용된다(도 1c).Thereafter, an anti-reflection film 120 is stacked on the emitter layer 110 stacked on the silicon substrate 100, and the anti-reflection film 120 functions to prevent reflection of light irradiated on the surface of the solar cell. In general, a method of laminating TiO 2 , MgF 2 , ZnS, SiN x, or the like by chemical vapor deposition (CVD) is used (FIG. 1C).

이후, 스크린 인쇄법 등을 이용하여 상기 반사 방지막 상에 전면 전극(130)을 형성하는데(도 1d), 상기 전면 전극(130)은 추후 진행되는 소성 공정에서 상기 n형층인 에미터층(110)과 접촉하여, 빛의 조사에 따라 발생하는 전자가 이동할 수 있는 통로를 제공한다. 또한, 이러한 전면 전극(130)의 재료로 은을 포함하는 도전성 페이스트가 일반적으로 사용하는데, 현재 일반적으로 사용되는 상기 도전성 페이스트는 글라스 프릿(Glass frit)을 포함한다. 상기 도전성 페이스트에 포함된 글라스 프릿은 전면 전극의 전기전도성을 떨어뜨리는 단점에도 불구하고, 추후 진행되는 소성공정에서 전면전극(130)이 질화규소막과 같은 반사방지막을 통과하여 에미터층에 접촉하기 위해서 반드시 요구되는 물질이다.Subsequently, the front electrode 130 is formed on the anti-reflection film by using a screen printing method (FIG. 1D), and the front electrode 130 is formed of the n-type emitter layer 110 and the n-type layer in a subsequent firing process. In contact with each other, it provides a passage through which electrons generated by light irradiation can move. In addition, a conductive paste containing silver is generally used as the material of the front electrode 130, and the conductive paste currently used generally includes glass frit. The glass frit included in the conductive paste is detrimental to the electrical conductivity of the front electrode, and in order to contact the emitter layer through the antireflection film such as a silicon nitride film in a subsequent firing process. Material required.

이후, 전면 전극(130)이 전면에 형성된 실리콘 기판(100)의 후면에는 후면전극(140)이 적층되는데(도 1e 참조), 상기 후면전극(140)으로는 Al 또는 Cu 등과 같은 금속 물질을 포함하는 도전성 페이스트가 일반적으로 사용된다.Subsequently, a rear electrode 140 is stacked on the rear surface of the silicon substrate 100 on which the front electrode 130 is formed on the front surface (see FIG. 1E). The back electrode 140 includes a metal material such as Al or Cu. A conductive paste to be used is generally used.

전면 전극(130), 후면전극(140) 및 기판(100)은 이후 소성(firing)과정을 거치게 되고, 기판 상의 전면 및 후면 전극은 동시에 소결된다. 또한, 상기 전면 전극(130)에 존재하는 글라스 프릿은 반사방지막(120)을 선택적으로 식각, 제거하여 전면전극이 에미터층과 접촉하게 한다(도 1f 참조). The front electrode 130, the back electrode 140, and the substrate 100 are then subjected to a firing process, and the front and back electrodes on the substrate are sintered at the same time. In addition, the glass frit present in the front electrode 130 selectively etches and removes the anti-reflection film 120 so that the front electrode contacts the emitter layer (see FIG. 1F).

도 2는 상술한 종래의 일반적인 태양전지의 상기 제조 공정에 대한 온도 및 시간조건을 나타내는 그래프이다.Figure 2 is a graph showing the temperature and time conditions for the above-described manufacturing process of the conventional general solar cell.

도 2를 참조하면, POCl3의 확산에 따른 에미터층 형성공정(PN 접합 형성 공정)은 약 900℃의 온도조건에서 30분가량 진행되고, 이후 반사방지막을 적층시킨 후 전극을 스크린 프린팅 등에 의하여 형성하고 다시 약 700℃ 이상의 고온에서 소성 공정을 진행한다. 따라서 종래의 기술에 따른 태양전지 제조공정은 두 단계의 가열 공정을 필요로 하는데, 이러한 고온의 공정은 많은 에너지를 소모시키고, 또한 냉각 등에 따른 많은 공정시간을 요구하므로 비경제적이다.Referring to FIG. 2, an emitter layer forming process (PN junction forming process) according to diffusion of POCl 3 is performed for about 30 minutes at a temperature condition of about 900 ° C., and then an electrode is formed by screen printing after laminating an antireflection film. And then proceeds to the firing process at a high temperature of about 700 ℃ or more. Therefore, the solar cell manufacturing process according to the prior art requires a two-step heating process, such a high temperature process is uneconomical because it consumes a lot of energy, and also requires a lot of processing time due to cooling.

하지만, SiO2를 주성분으로 하는 글라스 프릿은 상술한 바와 같이 전극의 전기전도도를 감쇄시키므로, 이러한 글라스 프릿의 사용은 결국 태양전지의 전기적 효율을 떨어뜨리게 된다.However, since the glass frit mainly composed of SiO 2 attenuates the electrical conductivity of the electrode as described above, the use of such glass frit ultimately degrades the electrical efficiency of the solar cell.

도 3은 소성 온도에 따라 나타날 수 있는 전면전극의 구조를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a structure of a front electrode which may appear depending on the firing temperature.

도 3을 참조하면, 충분한 소성 과정을 거치지 않은 경우 태양전지의 전면전극은 에미터층(n형층)과 접촉하지 않게 되며(a), 만약 과도한 소성과정을 거치는 경우 태양전지의 베이스층인 p형 실리콘 기판에 전극이 접촉하게 되면서 션트(shunt)된다(c).Referring to FIG. 3, the front electrode of the solar cell does not come into contact with the emitter layer (n-type layer) if not sufficiently baked (a), and if the excessive firing is performed, the p-type silicon, which is the base layer of the solar cell The electrode contacts the substrate and is shunted (c).

따라서, 전면전극과 에미터층이 옴 접촉을 할 수 있는(b) 최적의 공정 조건 의 도출은 종래의 공정에서 필수적으로 요구되며, 이러한 공정 조건이 적절하지 않은 경우, 전극의 비접촉 또는 션트 등과 같은 불량을 만들 수 있다.Therefore, derivation of the optimal process condition that (b) the front electrode and the emitter layer can make ohmic contact is essential in the conventional process, and if such process conditions are not appropriate, defects such as non-contact or shunt of the electrode are required. You can make

또한 종래의 기술에 따른 태양전지는 상술한 바와 같이 반사 방지막이 전면전극의 하단에 위치하고 있으므로, 태양전지의 전면전극은 외부에 노출되어 있는 구조를 갖는다. 따라서 이러한 구조를 갖는 태양전지가 장시간 사용되는 경우 외부로 노출된 전극에서 산화현상이 나타날 수 있으며, 이는 결국 전극의 전도도를 낮추는 문제점을 가지고 있다. In addition, in the solar cell according to the related art, since the anti-reflection film is positioned at the lower end of the front electrode as described above, the front electrode of the solar cell has a structure in which it is exposed to the outside. Therefore, when a solar cell having such a structure is used for a long time, an oxidation phenomenon may appear in an electrode exposed to the outside, which in turn has a problem of lowering the conductivity of the electrode.

따라서 본 발명이 이루고자 하는 첫 번째 과제는 공정단계를 줄여 보다 경제적이고, 효율적인 방식으로 안정한 구조의 태양전지를 제조할 수 있는 태양전지 제조방법을 제공하는 데 있다.Therefore, the first object of the present invention is to provide a solar cell manufacturing method capable of manufacturing a solar cell of a stable structure in a more economical and efficient manner by reducing the process step.

본 발명이 이루고자 하는 두 번째 과제는 전면금속이 반사방지막에 의해 보호되는 안정된 구조를 가지며 우수한 태양전지를 제공하는 데 있다.The second object of the present invention is to provide an excellent solar cell having a stable structure in which the front metal is protected by an antireflection film.

상기 첫 번째 과제를 달성하기 위하여 본 발명은 (a) 제 1형 불순물을 포함하며 상호 이격된 복수의 금속전극을 제 2형 불순물을 포함하는 기판 상에 형성하는 단계; (b) 상기 복수의 금속전극 사이의 기판 상에 제 1형 불순물을 포함하는 페이스트를 적층하는 단계; (c) 상기 금속전극 및 페이스트를 가열하여 제 1형 불순물을 함유하는 에미터층을 상기 기판에 형성하는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; 및 (d) 상기 기판 및 금속전극상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법을 제공한다.In order to achieve the first object of the present invention, (a) forming a plurality of metal electrodes including a first type impurity and spaced apart from each other on a substrate including a second type impurity; (b) depositing a paste containing a first type impurity on a substrate between the plurality of metal electrodes; (c) heating the metal electrode and the paste to form an emitter layer containing a first type impurity on the substrate and simultaneously sintering the metal electrode; And (d) depositing an anti-reflection film on the substrate and the metal electrode.

(c) 단계의 상기 에미터층은 상기 금속전극과 접하는 에미터층의 제 1형 불순물 농도가 상기 금속전극 사이의 에미터층의 제 1형 불순물 농도보다 높으며, 상기 제 1형 불순물은 n형 불순물, 상기 제 2형 불순물을 p형 불순물이다. 본 발명의 일 실시예에서 상기 제 1형 불순물은 인(P)이며, 상기 페이스트는 POCl3을 포함한다.The emitter layer of step (c) has a first type impurity concentration of the emitter layer in contact with the metal electrode is higher than the first type impurity concentration of the emitter layer between the metal electrodes, the first type impurity is n-type impurity, Type 2 impurities are p-type impurities. In one embodiment of the present invention, the first type impurity is phosphorus (P), and the paste includes POCl 3 .

또한, 상기 금속전극은 은을 함유하는 태양전지 전면전극이며, 상기 반사방지막은 질화규소막(SiNx)일 수 있다. 본 발명에서 상기 반사방지막 적층은 플라즈마-강화 CVD(Plasma Enhanced CVD, 이하 PE-CVD)에 의하여 진행될 수 있다.In addition, the metal electrode is a solar cell front electrode containing silver, and the anti-reflection film may be a silicon nitride film (SiNx). In the present invention, the anti-reflection film stacking may be performed by plasma-enhanced CVD (PE-CVD).

본 발명에 따른 태양전지 제조방법 중 상기 (c) 단계의 가열 공정은 700 내지 800℃의 온도조건에서 수 분간 진행한다.The heating process of step (c) of the solar cell manufacturing method according to the present invention proceeds for several minutes at a temperature condition of 700 to 800 ℃.

상기 첫 번째 과제를 해결하기 위하여 본 발명은 (a) 제 2형 불순물을 포함하는 기판상에 제 1형 불순물을 포함하며 서로 이격된 복수의 금속전극을 기판상에 형성하는 단계; (b) 상기 기판에 제 1형 불순물을 포함하는 기체를 도입하는 단계; (c) 상기 금속전극 및 기판을 가열하여 제 1형 불순물을 포함하는 에미터층을 상기 기판에 형성하는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; (d) 상기 기판의 측면에 형성된 에미터층을 제거하는 단계; 및 (e) 상기 기판상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법을 제공한다.In order to solve the first problem, the present invention comprises the steps of: (a) forming a plurality of metal electrodes on the substrate including a first type impurities and spaced apart from each other on the substrate including the second type impurities; (b) introducing a gas containing a first type impurity into the substrate; (c) heating the metal electrode and the substrate to form an emitter layer containing first type impurities on the substrate and simultaneously sintering the metal electrode; (d) removing the emitter layer formed on the side of the substrate; And (e) laminating an anti-reflection film on the substrate.

상기 (c) 단계의 상기 에미터층은 상기 금속전극과 접하는 에미터층의 제 1형 불순물 농도가 상기 금속전극 사이의 에미터층의 제 1형 불순물 농도보다 높으며, 상기 제 1형 불순물은 n형 불순물, 상기 제 2형 불순물을 p형 불순물이다. 본 발명의 일 실시예에서 상기 제 1형 불순물은 인(P)이며, 상기 페이스트는 POCl3을 포함한다.In the emitter layer (c), the first type impurity concentration of the emitter layer in contact with the metal electrode is higher than the first type impurity concentration of the emitter layer between the metal electrodes, and the first type impurity is n-type impurity, The second type impurities are p-type impurities. In one embodiment of the present invention, the first type impurity is phosphorus (P), and the paste includes POCl 3 .

또한, 상기 금속전극은 은을 함유하는 태양전지 전면전극이며, 상기 반사방 지막은 질화규소막(SiNx)일 수 있다. 본 발명에서 상기 반사방지막 적층은 플라즈마-강화 CVD(Plasma Enhanced CVD, 이하 PE-CVD)에 의하여 증착 진행될 수 있다.In addition, the metal electrode may be a solar cell front electrode containing silver, and the reflection preventing layer may be a silicon nitride film (SiNx). In the present invention, the anti-reflection film stack may be deposited by plasma-enhanced CVD (PE-CVD).

본 발명에 따른 태양전지 제조방법 중 상기 (c) 단계의 가열 공정은 700 내지 800℃의 온도조건에서 수 분간 진행한다.The heating process of step (c) of the solar cell manufacturing method according to the present invention proceeds for several minutes at a temperature condition of 700 to 800 ℃.

상기 두 번째 과제를 달성하기 위하여 상술한 방법에 따라 제조된 태양전지를 제공한다.In order to achieve the second object, there is provided a solar cell manufactured according to the above-described method.

본 발명에 따른 태양전지는 외부 배선과 연결되는 일부를 제외한 나머지 전면전극 상에 적층된 반사방지막을 포함하고 있는 것을 특징으로 하며, 본 발명의 일 실시예에서 상기 반사방지막은 질화규소막이다.The solar cell according to the present invention is characterized in that it includes an anti-reflection film laminated on the front electrode except for a part connected to the external wiring, in the embodiment of the present invention the anti-reflection film is a silicon nitride film.

본 발명에 따른 태양전지의 제조방법은 하나의 가열 공정을 통하여 기판의 에미터층 형성 및 전면 전극의 소결 공정을 동시에 진행할 수 있으므로, 매우 경제적이다. 또한 전면 전극 내에 포함된 불순물을 이용하여 전면전극 하부의 에미터층을 형성하므로, 종래 기술과 같이 공정 조건에 따라 전면전극이 기 형성된 에미터층에 접촉하지 않거나, 베이스층에 접촉함으로써 발생하는 션트 등의 문제를 방지할 수 있다. 더 나아가, 본 발명에 따라 제조된 태양전지는 상부에 적층된 반사방지막에 의하여 전면전극이 외부 분위기에 노출되지 않으므로, 전면전극의 산화 현상 등을 방지할 수 있고, 전극의 전도도를 향상시킬 수 있다.The method of manufacturing a solar cell according to the present invention is very economical because it can simultaneously proceed to form the emitter layer of the substrate and the sintering of the front electrode through one heating process. In addition, since the emitter layer under the front electrode is formed by using impurities contained in the front electrode, the front electrode does not come into contact with the previously formed emitter layer or the shunt generated by contacting the base layer according to the process conditions as in the prior art. Problems can be prevented. Furthermore, in the solar cell manufactured according to the present invention, since the front electrode is not exposed to the external atmosphere by the anti-reflection film stacked thereon, oxidation of the front electrode may be prevented and the conductivity of the electrode may be improved. .

상술한 바와 같이 본 발명은 제 1형 불순물을 포함하며 서로 이격된 복수의 금속 전극을 제 2형 불순물을 포함하는 기판상에 형성하는 단계; 상기 복수의 금속전극 사이의 기판 상에 제 1형 불순물을 포함하는 페이스트를 적층하는 단계; 상기 금속 전극 및 기판을 가열하여 제 1형 불순물을 함유하는 에미터층을 기판에 형성시키는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; 및 상기 기판 및 금속전극상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법을 제공한다.As described above, the present invention includes forming a plurality of metal electrodes including a first type impurity and spaced apart from each other on a substrate including a second type impurity; Stacking a paste including a first type impurity on a substrate between the plurality of metal electrodes; Heating the metal electrode and the substrate to form an emitter layer containing a first type impurity on the substrate and simultaneously sintering the metal electrode; And it provides a solar cell manufacturing method comprising the step of laminating an anti-reflection film on the substrate and the metal electrode.

본 발명에 따른 태양전지 제조방법을 이하 도면을 이용하여 보다 상세히 설명한다.The solar cell manufacturing method according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings.

도 4a 내지 4d는 본 발명에 따른 태양전지 제조방법의 일 실시예를 나타내는 단면도이다.4A to 4D are cross-sectional views showing an embodiment of a method of manufacturing a solar cell according to the present invention.

도 4a를 참조하면, 먼저 제 2형 분순물인 p형 불순물로 도포된 기판(400) 상에 상호 이격된 복수의 은 페이스트를 적층함으로써 전면전극인 금속 전극(410)을 형성한다. Referring to FIG. 4A, first, a plurality of silver pastes spaced apart from each other are stacked on a substrate 400 coated with p-type impurities, which are second type impurities, to form a metal electrode 410 as a front electrode.

상기 은 페이스트는 제 1형 불순물인 n형 불순물인 인(P)을 포함하며, 스크린 인쇄법 등에 의하여 기판(400)상에 적층될 수 있다. 또한 상기 전면 전극의 형성 이전에 상기 실리콘 웨이퍼 기판의 후면에 알루미늄 페이스트를 적층한 후면전극(420)이 형성될 수 있다.The silver paste includes phosphorus (P), which is an n-type impurity, which is a first type impurity, and may be stacked on the substrate 400 by screen printing. In addition, a back electrode 420 having an aluminum paste laminated on the back surface of the silicon wafer substrate may be formed before the front electrode is formed.

도 4b를 참조하면, n형 불순물인 인을 포함하는 또 다른 페이스트(430)를 전면 전극 사이의 기판 상에 적층하는데, 본 발명의 일 실시예에서는 POCl3을 함유하는 페이스트를 스크린 인쇄법에 의하여 적층한다. Referring to FIG. 4B, another paste 430 containing phosphorus, which is an n-type impurity, is laminated on the substrate between the front electrodes. In one embodiment of the present invention, a paste containing POCl 3 is formed by screen printing. Laminated.

도 4c를 참조하면, 상기 기판을 700 내지 800℃의 온도조건에서 수 분간 가열, 소성(firing)시킨다. 본 발명에서는 상기 소성 공정을 통하여 두 가지 효과를 달성할 수 있는데, 그 중 하나는 n형 불순물을 포함하는 에미터층(440)의 형성이다. 즉, 상기 고온의 소성과정에서 실리콘 기판과 접하는 POCl3 함유 페이스트(430)는 상기 화학식 1의 반응에 따라 n형 불순물인 인을 기판에 확산시키게 되고, 그 결과 실리콘 기판에 에미터 층이 형성된다. 이때 본 발명은 기체 상태의 POCl3를 이용하여 에미터층을 형성하는 종래의 방식과는 달리 기판의 전면에만 선택적으로 적층할 수 있는 페이스트를 사용하므로, 기판의 측면에 형성되는 에미터 층 등을 분리(isolation)시키는 공정이 불필요하다. 더 나아가, 본 발명에 따른 태양전지의 전면전극은 그 자체가 n형 불순물인 인을 함유하고 있으므로, 상기 소성 공정을 통하여 상기 전면전극에 함유된 n형 불순물인 인이 상기 전면전극과 접하는 기판으로 침투, 확산하게 되며, 전면전극과 기판이 접촉하는 영역에서 에미터층을 형성하게 된다. 따라서 본 발명에 따른 에미터층 형성공정은 기판 상에 적층된 금속전극 및 페이스트를 동시에 가열함으로써 진행되며, 이로써 상이한 농도 조건의 에미터층을 자유로이 선택, 형성할 수 있는 장점이 있다. Referring to Figure 4c, the substrate is heated and fired for several minutes at a temperature condition of 700 to 800 ℃. In the present invention, two effects can be achieved through the firing process, one of which is the formation of an emitter layer 440 including n-type impurities. That is, the POCl 3 -containing paste 430 in contact with the silicon substrate during the high temperature baking process diffuses phosphorus, which is an n-type impurity, onto the substrate according to the reaction of Chemical Formula 1, whereby an emitter layer is formed on the silicon substrate. . In this case, unlike the conventional method of forming the emitter layer using the gaseous POCl 3 , the present invention uses a paste that can be selectively stacked only on the front surface of the substrate, thereby separating the emitter layer formed on the side of the substrate. There is no need for an isolating process. Furthermore, since the front electrode of the solar cell according to the present invention contains phosphorus which is itself an n-type impurity, the phosphorus as the n-type impurity contained in the front electrode is contacted with the front electrode through the firing process. It penetrates and diffuses, and forms an emitter layer in a region where the front electrode and the substrate contact each other. Therefore, the emitter layer forming process according to the present invention proceeds by simultaneously heating the metal electrode and the paste laminated on the substrate, thereby having the advantage that can be freely selected and formed emitter layers of different concentration conditions.

특히, 전면전극 사이의 에미터층(440a)은 가능한 얇은 두께로 저농도 n형 불순물을 함유하는 것이 바람직하나, 전극과 실리콘 기판이 만나는 접점에서는 고농도의 n형 에미터층(440b)을 형성하는 것은 전극과 기판상의 저항을 감소시킬 수 있으므로, 두 가지의 농도 구성을 가지는 에미터층 형성이 바람직하다는 것은 당업계 에 이미 공지된 사실이다. 본 발명은 태양전지에서 요구되는 이러한 에미터층의 농도 조건을 상기 전면전극에 포함되는 n형 불순물 농도를 조절함으로써 간단히 달성할 수 있는데, 예를 들면 전면전극의 n형 불순물을 높임으로써 전면전극과 접하는 기판의 에미터층(440b)의 n형 불순물 농도를 전극 사이의 에미터층(440a)보다 높게 만들 수 있다.In particular, the emitter layer 440a between the front electrodes preferably contains a low concentration n-type impurity as thin as possible, but at the contact point between the electrode and the silicon substrate, the high concentration of the n-type emitter layer 440b is formed between the electrode and the electrode. Since resistance on the substrate can be reduced, it is already known in the art that formation of emitter layers having two concentration configurations is desirable. The present invention can easily achieve the concentration condition of the emitter layer required by the solar cell by adjusting the n-type impurity concentration contained in the front electrode, for example, by contacting the front electrode by increasing the n-type impurity of the front electrode. The n-type impurity concentration of the emitter layer 440b of the substrate may be made higher than the emitter layer 440a between the electrodes.

더 나아가, 본 발명의 가열, 소성 공정은 상술한 기판의 에미터층(440) 형성 효과와 함께 적층된 전면 및 후면전극을 동시에 소결시키는 효과를 발생시키므로, 본 발명에 따른 태양전지 제조방법은 상이한 농도 조건의 에미터층 형성 및 전면, 후면전극의 소결을 하나의 가열공정에 의하여 동시에 달성할 수 있으므로, 우수한 특성의 태양전지를 경제적으로 제조할 수 있게 한다.Furthermore, the heating and firing process of the present invention generates the effect of simultaneously sintering the stacked front and rear electrodes together with the above-mentioned effect of forming the emitter layer 440 of the substrate, so that the solar cell manufacturing method according to the present invention has different concentrations. Formation of the emitter layer under conditions and sintering of the front and rear electrodes can be simultaneously achieved by one heating process, thereby making it possible to economically manufacture a solar cell having excellent characteristics.

본 발명에서 상기 소성공정의 온도범위는 700 내지 800℃가 바람직한데, 만약 상기 온도범위보다 낮은 경우 은, 알루미늄 등의 금속전극이 충분히 소결되기 어렵고, 상기 온도범위보다 높은 경우 비경제적이다. 상기 소성단계의 공정 시간은 10분이내가 바람직한데, 만약 소성시간이 길어진다면 금속전극의 n형 불순물이 과도하게 확산되는 문제가 있고, 이와 반대로 소성시간이 너무 짧다면 금속전극의 n형 불순물이 기판내로 충분히 확산되지 않아 고농도 에미터 층이 형성되지 못하는 문제가 있다. In the present invention, the temperature range of the firing process is preferably 700 to 800 ° C. If the temperature range is lower than the temperature range, metal electrodes such as silver and aluminum are hardly sintered, and if the temperature range is higher than the temperature range, it is uneconomical. The process time of the firing step is preferably within 10 minutes. If the firing time is longer, there is a problem that the n-type impurities of the metal electrode are excessively diffused. On the contrary, if the firing time is too short, the n-type impurities of the metal electrode may be There is a problem that a high concentration emitter layer is not formed because it does not diffuse sufficiently into.

도 4d를 참조하면, 상기 가열단계를 거친 기판을 냉각한 후, 상기 기판 상에 반사방지막(450)을 적층시킨다. 상기 반사방지막으로 당업계에 사용되는 한 어떠한 물질도 사용 가능한데, 본 발명의 일 실시예에서 상기 반사방지막 물질은 질화규소 막(SiNx)이고, 상기 반사방지막은 PE-CVD에 의하여 기판 상에 적층된다. 따라서 전면전극의 하부에 적층된 반사방지막을 포함하는 종래의 태양전지와는 달리 본 발명에 따른 태양전지는 전면전극의 상부에 형성된 반사방지막을 포함한다. 그 결과, 본 발명에 따른 태양전지의 전면전극은 소성과정에서 질화규소막과 같은 반사방지막을 식각시켜 전면전극을 반사방지막 하부에 위치한 에미터층과 접촉시키기 위한 글라스 프릿이 필요하지 않게 되며, 이로써 SiO2를 주성분으로 하는 글라스 프릿에 의한 전면전극의 전기전도도 감쇄를 방지할 수 있다. 더 나아가, 상술한 바와 같이 종래의 태양전지의 전면전극은 장시간 사용에 따라 산화 과정을 거치게 되므로, 태양전지의 전면전극이 가지는 전기전도도의 감소로 이어졌다. 하지만, 본 발명에서는 전면전극의 상부에 반사방지막을 적층함으로써 이러한 문제를 해결할 수 있으며, 전면전극의 외부노출에 따른 산화 현상을 방지할 수 있으며, 이로써 태양전지를 보다 장시간 안정적으로 사용할 수 있다.Referring to FIG. 4D, after cooling the substrate after the heating step, an anti-reflection film 450 is laminated on the substrate. Any material can be used as long as it is used in the art as the anti-reflection film. In an embodiment of the present invention, the anti-reflection material is a silicon nitride film (SiNx), and the anti-reflection film is laminated on the substrate by PE-CVD. Therefore, unlike the conventional solar cell including the anti-reflection film laminated on the bottom of the front electrode, the solar cell according to the present invention includes an anti-reflection film formed on the top of the front electrode. As a result, the front electrode of a solar cell according to the invention does not require a glass frit for by etching the anti-reflection film such as a silicon nitride film in the firing process, in contact with the emitter layer in the front electrode the anti-reflection film lower, so that SiO 2 It is possible to prevent attenuation of the electrical conductivity of the front electrode by the glass frit having the main component. Furthermore, as described above, since the front electrode of the conventional solar cell undergoes an oxidation process according to a long time use, the front electrode of the solar cell has reduced the electrical conductivity of the front electrode of the solar cell. However, in the present invention, such a problem may be solved by stacking an anti-reflection film on the top of the front electrode, and may prevent oxidation due to external exposure of the front electrode, thereby allowing the solar cell to be stably used for a long time.

하지만, 모든 전면전극 상에 반사방지막을 적층하는 경우 외부 배선과의 연결이 불가능하므로, 본 발명에 따른 태양전지의 구성은 복수의 전면전극 중 외부 배선과 연결되는 전면전극 일부만 노출시키는 구조를 가지며, 본 발명에 따른 태양전지의 구조를 하기 보다 상세히 설명한다.However, when the anti-reflection film is laminated on all the front electrodes, connection with external wiring is impossible, and thus the configuration of the solar cell according to the present invention has a structure in which only a part of the front electrodes connected to the external wiring are exposed. The structure of the solar cell according to the present invention will be described in more detail below.

도 5는 본 발명에 따른 태양전지의 정면도이다.5 is a front view of a solar cell according to the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명에 따른 태양전지는 전면전극으로 이루어진 버스바(510) 중 외부 배선과 연결되는 배선접촉부위(520)만을 제외한 나머지 부분 이 반사방지막으로 적층된 구조를 갖는다. 따라서 전면전극의 외부 노출 부위를 최소화함으로써 전면전극의 산화 등을 방지할 수 있으면서, 태양전지의 전극이 외부 배선과 연결된 종래의 태양전지의 구성을 동일하게 유지시킬 수 있다.Referring to FIG. 5, the solar cell according to the present invention has a structure in which the remaining portions except the wiring contact portion 520 connected to the external wiring of the bus bar 510 made of the front electrode are stacked with the anti-reflection film. Accordingly, by minimizing the external exposed portion of the front electrode, oxidation of the front electrode can be prevented, and the configuration of the conventional solar cell in which the electrode of the solar cell is connected to the external wiring can be kept the same.

또한, 본 발명에서는 이러한 전면전극 상의 선택적 반사방지막 형성은 반사방지막 적층 공정 중 선택된 배선접촉부위상에 지그 등을 제공함으로써 간단히 달성할 수 있다. Further, in the present invention, the selective antireflection film formation on the front electrode can be easily achieved by providing a jig or the like on the wiring contact portion selected during the antireflection film stacking process.

본 발명은 상기 첫 번째 과제를 달성하기 위한 또 다른 방법으로 (a) 제 2형 불순물을 포함하는 기판 상에 제 1형 불순물을 포함하며 서로 이격된 복수의 금속전극을 형성하는 단계; (b) 상기 기판에 제 1형 불순물을 포함하는 기체를 도입하는 단계; (c) 상기 금속전극 및 기판을 가열하여 기판상에 제 1형 불순물을 포함하는 에미터층을 형성하는 단계; (d) 상기 기판의 측면에 형성된 에미터층을 제거하는 단계; 및 (e) 상기 기판상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법을 제공한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of forming a plurality of metal electrodes including a first type impurity and spaced apart from each other on a substrate including a second type impurity; (b) introducing a gas containing a first type impurity into the substrate; (c) heating the metal electrode and the substrate to form an emitter layer including a first type impurity on the substrate; (d) removing the emitter layer formed on the side of the substrate; And (e) stacking an anti-reflection film on the substrate.

도 6a 내지 6d는 상기 방법에 따른 본 발명을 나타내는 단계도이다.6a to 6d are steps illustrating the invention according to the above method.

도 6a를 참조하면, 먼저 제 2형 분순물인 p형 불순물로 도포된 기판(600) 상에 상호 이격된 복수의 은 페이스트를 적층함으로써 전면전극(610)을 형성한다. 이때 알루미늄 후면전극(620)이 이미 적층되어 있을 수 있다. 이때 상기 복수의 은 페이스트는 제 1형 불순물인 n형 불순물을 함유하며, 본 발명의 일 실시예에서 상기 n형 불순물은 인이다.Referring to FIG. 6A, a front electrode 610 is formed by first stacking a plurality of silver pastes spaced apart from each other on a substrate 600 coated with a p-type impurity that is a second type impurities. At this time, the aluminum back electrode 620 may be already stacked. In this case, the plurality of silver pastes contain n-type impurities which are first type impurities, and in one embodiment of the present invention, the n-type impurities are phosphorus.

도 6b를 참조하면, 제 1형 불순물을 함유하는 페이스트를 기판 상에 스크린 인쇄법 등에 의하여 적층하는 대신 기체 상태의 제 1형 불순물을 기판에 도입한 후, 가열, 확산시킴으로써 제 1형 불순물의 에미터층(630a)을 형성하게 되는데, 본 발명의 일 실시에서 상기 기체는 POCl3를 포함한다. 이때 상기 소성공정은 전면전극(610)에 함유된 제 1형 불순물을 동시에 확산시키기 때문에, 전면전극과 접하는 기판에 또 다른 농도 조건의 에미터층(630b)이 형성될 수 있다. 따라서 기체 확산에 따른 본 방식 또한 본 발명의 또 다른 태양전지 제조방법인 페이스트 방식과 동일하게 상이한 농도의 에미터층 형성 및 금속전극 소결을 하나의 가열 공정으로 달성할 수 있다. 다만, 이 방법에 따라 태양전지 기판에 에미터층을 형성하는 경우 제 1형 불순물을 포함하는 상기 기체와 접촉하는 기판의 측면 또한 에미터층(630c)이 형성될 수 있으므로, 이를 제거하는 공정(isolation 공정)이 필요하다는 공정상의 단점이 있지만(도 6c 참조), 기체를 복수의 기판에 동시에 도입, 확산시킬 수 있다는 점에서 태양전지의 경제적인 제조가 가능하다는 장점 또한 있다. 따라서 본 발명에 따른 상기 두 방식들 중 어떤 방법을 사용할 것인가는 공정 요구에 따라 자유로이 선택될 수 있으며, 상기 방식들은 모두 본 발명의 범위에 속한다.Referring to FIG. 6B, instead of laminating a paste containing the first type impurity on the substrate by screen printing or the like, the first type impurity in the gaseous state is introduced into the substrate, and then heated and diffused to emite the first type impurity. To form a turret layer 630a, in one embodiment of the present invention the gas comprises POCl 3 . In this case, the firing process simultaneously diffuses the first type impurities contained in the front electrode 610, so that an emitter layer 630b having another concentration condition may be formed on a substrate in contact with the front electrode. Therefore, the present method according to gas diffusion can also achieve the formation of emitter layers and metal electrode sintering at different concentrations in the same manner as the paste method, which is another solar cell manufacturing method of the present invention, in one heating process. However, when the emitter layer is formed on the solar cell substrate according to this method, since the emitter layer 630c may also be formed on the side of the substrate contacting the substrate including the first type impurity, an isolation process However, there is a disadvantage in the process (see FIG. 6C), but it is also advantageous in that an economical manufacturing of a solar cell is possible in that gas can be simultaneously introduced and diffused into a plurality of substrates. Therefore, which of the two methods according to the present invention can be freely selected depending on the process requirements, all of which are within the scope of the present invention.

도 6d를 참조하면, 이후 상기 기판 상에 반사방지막(640)이 형성되는데, 전면전극 상에 적층되는 반사 방지막으로부터 발생하는 효과는 상술한 바와 같다.Referring to FIG. 6D, an antireflection film 640 is formed on the substrate, and the effects generated from the antireflection film stacked on the front electrode are as described above.

도 7은 본 발명에 따른 태양전지의 제조 공정에 대한 온도 및 시간조건을 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the temperature and time conditions for the manufacturing process of the solar cell according to the present invention.

도 7을 참조하면, 본 발명에 따른 태양전지 제조방법은 기판을 800℃이상의 온도로 가열하는 단계를 하나의 단계로만 포함하고 있는 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 7, it can be seen that the solar cell manufacturing method according to the present invention includes only one step of heating the substrate to a temperature of 800 ° C. or higher.

도 1a 내지 1f는 종래의 태양전지 제조방법을 나타내는 단계도이다.1A to 1F are steps illustrating a conventional solar cell manufacturing method.

도 2는 종래의 일반적인 태양전지의 상기 제조 공정에 대한 온도 및 시간조건을 나타내는 그래프이다.Figure 2 is a graph showing the temperature and time conditions for the manufacturing process of a conventional general solar cell.

도 3은 소성 온도에 따라 나타날 수 있는 전면전극의 구조를 나타내는 단면도이다.3 is a cross-sectional view showing a structure of a front electrode which may appear depending on the firing temperature.

도 4a 내지 4d는 본 발명에 따른 태양전지 제조방법의 일 실시예를 나타내는 단면도이다.4A to 4D are cross-sectional views showing an embodiment of a method of manufacturing a solar cell according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 태양전지의 정면도이다.5 is a front view of a solar cell according to the present invention.

도 6a 내지 6d는 본 발명에 따른 태양전지 제조방법 중 또 다른 실시예를 나타내는 단계도이다.6a to 6d are step views showing yet another embodiment of a method of manufacturing a solar cell according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 태양전지의 제조 공정에 대한 온도 및 시간조건을 나타내는 그래프이다.7 is a graph showing the temperature and time conditions for the manufacturing process of the solar cell according to the present invention.

Claims (19)

(a) 제 1형 불순물을 포함하며 상호 이격된 복수의 금속전극을 제 2형 불순물을 포함하는 기판상에 형성하는 단계; (a) forming a plurality of metal electrodes including first type impurities and spaced apart from each other on a substrate including second type impurities; (b) 상기 복수의 금속전극 사이의 기판 상에 제 1형 불순물을 포함하는 페이스트를 적층하는 단계; (b) depositing a paste containing a first type impurity on a substrate between the plurality of metal electrodes; (c) 상기 금속전극 및 페이스트를 가열하여 제 1형 불순물을 함유하는 에미터층을 상기 기판에 형성하는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; 및 (c) heating the metal electrode and the paste to form an emitter layer containing a first type impurity on the substrate and simultaneously sintering the metal electrode; And (d) 상기 기판 및 금속전극상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.(d) stacking an anti-reflection film on the substrate and the metal electrode. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, (c) 단계의 상기 에미터층은 상기 금속전극과 접하는 에미터층의 제 1형 불순물 농도가 상기 금속전극 사이의 에미터층의 제 1형 불순물 농도보다 높은 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법. and the emitter layer of step (c) has a first type impurity concentration of the emitter layer in contact with the metal electrode is higher than a first type impurity concentration of the emitter layer between the metal electrodes. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제 1형 불순물은 n형 불순물이고, 상기 제 2형 불순물을 p형 불순물인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법. The first type impurity is n-type impurity, the second type impurity is a solar cell manufacturing method, characterized in that the p-type impurity. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제 1형 불순물은 인(P)인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The first type impurity is phosphor (P) solar cell manufacturing method characterized in that. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 페이스트는 POCl3를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The paste is a solar cell manufacturing method comprising POCl 3 . 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 금속전극은 은을 함유하는 태양전지 전면전극인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The metal electrode is a solar cell manufacturing method, characterized in that the solar cell front electrode containing silver. 제 1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 반사방지막은 질화규소막(SiNx)이며, 상기 반사방지막의 적층은 플라즈마-강화 CVD(Plasma Enhanced CVD)에 의하여 진행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The anti-reflection film is a silicon nitride film (SiN x ), the stack of the anti-reflection film is a solar cell manufacturing method characterized in that the progress by plasma-enhanced CVD (Plasma Enhanced CVD). 삭제delete (a) 제 2형 불순물을 포함하는 기판상에 제 1형 불순물을 포함하며 서로 이격된 복수의 금속전극을 기판상에 형성하는 단계; (a) forming a plurality of metal electrodes on the substrate including the first type impurities and spaced apart from each other on the substrate including the second type impurities; (b) 상기 기판에 제 1형 불순물을 함유하는 기체를 도입하는 단계; (b) introducing a gas containing a first type impurity into the substrate; (c) 상기 금속전극 및 기판을 가열하여 제 1형 불순물을 포함하는 에미터층을 상기 기판에 형성하는 동시에 상기 금속전극을 소결시키는 단계; (c) heating the metal electrode and the substrate to form an emitter layer containing first type impurities on the substrate and simultaneously sintering the metal electrode; (d) 상기 기판의 측면에 형성된 에미터층을 제거하는 단계; 및 (d) removing the emitter layer formed on the side of the substrate; And (e) 상기 기판상에 반사방지막을 적층하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.(e) stacking an anti-reflection film on the substrate. 제 9항에 있어서, The method of claim 9, (c) 단계의 상기 에미터층은 상기 금속전극과 접하는 에미터층의 제 1형 불순물 농도가 상기 금속전극 사이의 에미터층의 제 1형 불순물 농도보다 높은 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법. and the emitter layer of step (c) has a first type impurity concentration of the emitter layer in contact with the metal electrode is higher than a first type impurity concentration of the emitter layer between the metal electrodes. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 제 1형 불순물은 n형 불순물이고, 상기 제 2형 불순물을 p형 불순물인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법. The first type impurity is n-type impurity, the second type impurity is a solar cell manufacturing method, characterized in that the p-type impurity. 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 제 1형 불순물은 인(P)인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The first type impurity is phosphor (P) solar cell manufacturing method characterized in that. 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 (b) 단계의 기체는 POCl3를 포함하는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The gas of step (b) is a solar cell manufacturing method characterized in that it comprises POCl 3 . 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 금속전극은 은을 함유하는 태양전지 전면전극인 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The metal electrode is a solar cell manufacturing method, characterized in that the solar cell front electrode containing silver. 제 9항에 있어서, The method of claim 9, 상기 반사방지막은 질화규소막(SiNx)이며, 상기 반사방지막의 적층은 플라즈마-강화 CVD(Plasma Enhanced CVD)에 의하여 진행되는 것을 특징으로 하는 태양전지 제조방법.The anti-reflection film is a silicon nitride film (SiNx), and the stack of the anti-reflection film is a solar cell manufacturing method characterized in that by the plasma-enhanced CVD (Plasma Enhanced CVD). 삭제delete 제 1항 내지 제 7항, 및 제 9항 내지 제 15항 중 어느 한 항에 따라 제조된 태양전지.The solar cell manufactured according to any one of claims 1 to 7, and 9 to 15. 제 17항에 있어서, The method of claim 17, 상기 태양전지는 외부 배선과 연결되는 일부를 제외한 나머지 전면전극 상에 적층된 반사방지막을 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 태양전지.The solar cell is a solar cell, characterized in that it comprises an anti-reflection film laminated on the remaining front electrode except a part connected to the external wiring. 제 18항에 있어서, The method of claim 18, 상기 반사방지막은 질화규소막인 것을 특징으로 하는 태양전지.The anti-reflection film is a solar cell, characterized in that the silicon nitride film.
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