KR100981603B1 - Apparatus plating ion arc - Google Patents

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KR100981603B1
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ion plating
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KR1020100054186A
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허기복
서찬열
강법성
이진희
백경철
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주식회사 삼우에코
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Abstract

PURPOSE: An arc ion plating system is provided to load work pieces into a vacuum chamber stably without collision and thereby prevent damage to the work pieces. CONSTITUTION: An arc ion plating system comprises an entry rail(110), a support rail(120), a transfer rail(130), one or more loading rails(140), a second cylinder(150), a loading table, and a third cylinder(170). The entry rail is installed in front of a door(11). A first cylinder(121) is connected in the longitudinal direction on a side of the support rail. The transfer rail is installed on the top of the support rail and moves lengthwise. The loading rail moves in the width direction of the transfer rail. The second cylinder transfers the loading rail back and forth. A holder(30) is attached to and detached from the loading table. The third cylinder transfers the loading table toward the inside of a vacuum chamber(10).

Description

아크 이온 도금장비{Apparatus plating ion arc}Arc ion plating equipment {Apparatus plating ion arc}

본 발명은 아크 이온 도금장비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가공물을 안정적으로 공급 및 장입하여 작업효율을 증대시킴은 물론 가공물의 도금작업을 순차적으로 안전하게 진행하여 생산성 및 도금품질을 향상시킬 수 있도록 하는 아크 이온 도금장비에 관한 것이다.
The present invention relates to an arc ion plating equipment, and more particularly, to stably supply and load a workpiece to increase work efficiency, and to safely proceed with plating operations of a workpiece in order to improve productivity and plating quality. It relates to an arc ion plating equipment.

일반적으로 아크 이온 도금장비는 에어나이프 등과 같은 가공물의 내마모성, 표면이형성, 코팅접착력, 내산화성 등을 개선하기 위해서 진공챔버 내에 아크 방전을 형성시켜 타깃(증착대상물)으로부터 방출되는 물질을 가공물의 표면에 도금(증착)시키기 위해서 사용된다.In general, arc ion plating equipment forms an arc discharge in a vacuum chamber to improve wear resistance, surface releasability, coating adhesion, oxidation resistance, etc. of a workpiece such as an air knife, so that the material discharged from the target (deposition object) is formed on the surface of the workpiece. Used for plating (deposition) on

이를 위한 종래의 아크 이온 도금장비는 진공 챔버와, 상기 진공 챔버 내에 적재된 기판을 이동시키기 위한 것으로 상기 진공 챔버 내에 마련되어 상기 기판을 상기 진공 챔버의 높이 방향에 수직한 방향으로 이동시키는 이동 부재와, 상기 진공 챔버 내에 마련되어 기판 표면을 세척하기 위해 아크 방전에 의해 증발된 금속 이온을 상기 기판의 표면에 조사하기 위한 충돌용 아크 증발원과, 상기 진공 챔버 내에 마련되어 아크 방전에 의해 증발된 금속 이온을 상기 기판의 표면에 증착하기 위한 증착용 아크 증발원을 포함하고, 상기 증착용 아크 증발원은 상기 진공 챔버의 높이 방향으로 서로 중첩되지 않고 상기 이동 부재에 설치된 상기 기판에 대향되어 배열되는 복수의 상기 증착용 아크 증발원으로 구성되는 증착용 아크 증발원 그룹을 구성하고, 상기 충돌용 아크 증발원은 상기 진공 챔버의 높이 방향으로 서로 중첩되지 않고 상기 기판에 대향되어 배열되는 적어도 하나의 아크 증발원으로 구성되는 충돌용 아크 증발원 그룹을 구성하고, 상기 충돌용 아크 증발원의 높이 방향에 수직한 방향의 길이는 상기 증착용 아크 증발원의 높이 방향에 수직한 방향의 길이보다 길게 형성된 국내특허등록 제0800223호 "아크 이온 도금장치"와,Conventional arc ion plating equipment for this purpose is to move a substrate loaded in the vacuum chamber and the substrate in the vacuum chamber is provided in the vacuum chamber to move the substrate in a direction perpendicular to the height direction of the vacuum chamber, A collision arc evaporation source for irradiating the surface of the substrate with metal ions provided in the vacuum chamber and evaporated by arc discharge to clean the substrate surface, and metal ions provided in the vacuum chamber and evaporated by arc discharge for the substrate A deposition arc evaporation source for depositing on a surface of the deposition arc evaporation source, wherein the deposition arc evaporation sources are arranged to face the substrate installed on the moving member without overlapping each other in the height direction of the vacuum chamber; Constitute a vapor evaporation source group for deposition, The pre-impacting arc evaporation source constitutes a collision arc evaporation source group consisting of at least one arc evaporation source arranged opposite to the substrate without overlapping each other in the height direction of the vacuum chamber, and in the height direction of the collision arc evaporation source. The length of the vertical direction is domestic patent registration No. 0800223 "arc ion plating apparatus" formed longer than the length of the direction perpendicular to the height direction of the evaporation arc evaporation source,

진공 환경을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 고정되며, 내부 동공을 통해 외부로부터 주입되는 아르곤 가스를 이온화시켜 피증착물 표면을 이온 에칭하여 이온피막을 형성하는 이온봉; 상기 챔버의 내면에 판형으로 고정되며, 전면으로 강자기장을 발생시키는 자장 발생부; 상기 자장 발생부로부터 도달한 자기장을 통하여 글로우 방전으로 이온화된 금속 이온을 챔버 내로 제공하여 피증착물에 증착시키는 반응판; 상기 챔버의 내부에 고정되며, 전자빔의 충돌을 통해 아크 방전으로 증발된 티타늄 이온과 반응가스 주입구를 통해 주입된 반응가스의 화합물을 챔버 내로 제공하여 피증착물에 증착시키는 아크봉; 상기 챔버의 내부에 배치되어 피증착물을 거치시키고 소정 경로를 따라 공전하고 자체 회전함으로써 상기 반응판 및 아크봉으로부터 제공되는 코팅용 증착물질이 피증착물의 표면에 고루 증착되도록 하는 적어도 하나 이상의 거치부재를 포함하는 진공 환경을 제공하는 국내특허등록 제0614530호 "플라즈마 진공 코팅 장치"가 안출된 바가 있다.A chamber providing a vacuum environment; An ion rod fixed to the inside of the chamber and ionizing argon gas injected from the outside through an inner cavity to ion-etch the surface of the deposit to form an ion coating; A magnetic field generating unit fixed to an inner surface of the chamber and generating a strong magnetic field to the front; A reaction plate which provides metal ions ionized by glow discharge into the chamber through the magnetic field reached from the magnetic field generating unit and deposits the deposits on the deposit; An arc rod which is fixed inside the chamber and provides a compound of titanium ions evaporated by an arc discharge through an impact of an electron beam and a reaction gas injected through a reaction gas inlet into the chamber and deposits the deposited material on the deposit; At least one mounting member disposed inside the chamber to hold the deposit, revolve along a predetermined path, and self-rotate so that the deposition material for coating provided from the reaction plate and the arc rod is evenly deposited on the surface of the deposit. Korean Patent Registration No. 0614530 "Plasma Vacuum Coating Device" providing a vacuum environment comprising a bar has been devised.

그러나 종래의 "아크 이온 도금장치" 및 "플라즈마 진공 코팅 장치"는 진공챔버의 상부를 통해서 내부로 가공물을 장입하는 구조로 작업성이 극히 제한되는 문제점을 갖게 되었다.However, the conventional "arc ion plating apparatus" and "plasma vacuum coating apparatus" have a problem in that workability is extremely limited to a structure in which a workpiece is charged through the upper portion of the vacuum chamber.

특히 종래의 "아크 이온 도금장치" 및 "플라즈마 진공 코팅 장치"는 가공물을 진공챔버의 내부에 장입 및 배출하는 과정에서 크레인 및 호이스트를 이용하여 들어올려야 하므로 작업시간이 지연됨은 물론 쉽게 부딪쳐서 가공물의 손상을 유발하는 문제점을 갖게 되었다.In particular, the conventional "arc ion plating apparatus" and "plasma vacuum coating apparatus" must be lifted by using a crane and a hoist in the process of charging and discharging the workpiece into the vacuum chamber, thereby delaying the work time and easily hitting the workpiece. It has caused a problem.

또한, 종래의 "아크 이온 도금장치" 및 "플라즈마 진공 코팅 장치"는 한꺼번에 다수의 가공물을 장입 및 공급할 수 없으므로 생산성이 저하되는 문제점을 갖게 되었다.
In addition, the conventional "arc ion plating apparatus" and "plasma vacuum coating apparatus" have a problem in that productivity cannot be reduced because a plurality of workpieces cannot be charged and supplied at one time.

따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서,Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art,

본 발명은 가공물이 장착된 적어도 하나 이상의 홀더를 진공챔버의 내부로 순차적으로 장입하여 생산성 및 작업효율을 향상시킬 수 있는 아크 이온 도금장비를 제공함에 목적이 있다.It is an object of the present invention to provide an arc ion plating apparatus capable of improving productivity and work efficiency by sequentially loading at least one holder with a workpiece into a vacuum chamber.

또한, 본 발명은 진공챔버의 전방이 개방되도록 도어를 구비하여 가공물이 부딪치지 않고 안정적으로 장입할 수 있는 아크 이온 도금장비를 제공함에 목적이 있다.
In addition, an object of the present invention is to provide an arc ion plating equipment that can be stably loaded without a workpiece hit by having a door to open the front of the vacuum chamber.

본 발명은 전방에 도어(11)가 개방 또는 밀폐되도록 설치된 진공챔버(10)와; 상기 진공챔버(10)에 마련되어 아크 방전을 형성시켜 타깃으로부터 방출되는 물질을 가공물의 표면에 조사하기 위한 다수의 증발원(20)으로 구성되는 아크 이온 도금장비에 있어서,The present invention is a vacuum chamber 10 is installed so that the front door 11 is opened or closed; In the arc ion plating equipment comprising a plurality of evaporation sources 20 for irradiating the surface of the workpiece to the material discharged from the target by forming an arc discharge in the vacuum chamber 10,

상기 도어(11)의 전방에 설치된 진입레일(110)과; 상기 진입레일(110)의 후방에 폭방향으로 설치되며 일측에는 길이방향으로 제1실린더(121)가 결합된 지지레일(120)과; 상기 제1실린더(121)의 로드와 결합되고 상기 지지레일(120)의 상부에 안착되어 길이방향으로 이동할 수 있도록 설치된 이동레일(130)과; 상기 이동레일(130)의 상부에 안착되어 폭방향으로 이동할 수 있도록 설치된 적어도 하나 이상의 장입레일(140)과; 상기 지지레일(120)의 일측에 폭방향으로 설치되어 상기 장입레일(140)을 상기 도어(11)를 향하도록 전후방향으로 이동시키기 위한 제2실린더(150)와; 상기 장입레일(140)의 상부에 안착되어 폭방향으로 이동할 수 있도록 설치되고 상부에는 다수의 가공물이 장착된 홀더(30)가 탈착되도록 설치된 장입테이블(160)과; 상기 장입레일(140)의 일측에 폭방향으로 설치되어 상기 장입테이블(160)을 상기 진공챔버(10)의 내부를 향하도록 전후방향으로 이동시키기 위한 제3실린더(170)로 구성되는 것을 특징으로 한다.An entrance rail 110 installed in front of the door 11; A support rail 120 installed in the width direction at the rear of the entry rail 110 and having a first cylinder 121 coupled to one side in a length direction; A moving rail 130 coupled to the rod of the first cylinder 121 and installed on the support rail 120 to move in the longitudinal direction; At least one charging rail 140 mounted on an upper portion of the moving rail 130 and installed to move in the width direction; A second cylinder (150) installed at one side of the support rail (120) to move the charging rail (140) in the front-rear direction toward the door (11); A charging table 160 mounted on the charging rail 140 so as to be movable in the width direction, and a holder 30 having a plurality of workpieces mounted thereon detachable from the charging rail 140; It is installed in the width direction on one side of the charging rail 140 is characterized in that consisting of a third cylinder 170 for moving the charging table 160 in the front and rear direction toward the interior of the vacuum chamber 10 do.

여기서 상기 이동레일(130), 장입레일(140), 장입테이블(160)의 하부에는 다수의 가이드롤러(131,141,161)가 설치되는 것을 특징으로 한다.Here, a plurality of guide rollers 131, 141, and 161 are installed below the moving rail 130, the charging rail 140, and the charging table 160.

또한, 상기 장입레일(140)의 하부 일측에는 걸림홈(142)이 형성되고, 상기 제2실린더(150)의 로드에는 상기 걸림홈(142)에 삽입되어 걸리도록 걸림구(151)가 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, a locking groove 142 is formed at one lower side of the charging rail 140, and the locking hole 151 is inserted into the locking groove 142 to be hooked to the rod of the second cylinder 150. It is characterized by.

이때 상기 걸림홈(142)은 상기 장입레일(140)의 길이방향을 따라서 전후방향으로 개방되도록 형성되는 것을 특징으로 한다.
At this time, the engaging groove 142 is characterized in that it is formed to open in the front and rear direction along the longitudinal direction of the charging rail 140.

본 발명은 가공물이 장착된 적어도 하나 이상의 홀더를 진공챔버의 내부로 순차적으로 장입하여 대기시간 및 작업시간을 획기적으로 단축시킬 수 있는 효과를 갖는다.The present invention has the effect of significantly reducing the waiting time and working time by sequentially loading at least one holder with the workpiece into the vacuum chamber.

특히 본 발명은 장입과정에서 발생하는 가공물의 충격 및 손상을 사전에 방지하여 생산품질을 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
In particular, the present invention has the effect of preventing the impact and damage of the workpiece in the charging process in advance to improve the production quality.

도 1은 본 발명 아크 이온 도금장비의 구조를 나타내기 위한 측면도.
도 2는 본 발명 아크 이온 도금장비의 구조를 나타내기 위한 평면도.
도 3 내지 도 6은 본 발명 아크 이온 도금장비의 작동상태를 나타내기 위한 참고도.1 is a side view for showing the structure of the present invention arc ion plating equipment.
Figure 2 is a plan view for showing the structure of the present invention arc ion plating equipment.
3 to 6 is a reference diagram for showing the operating state of the present invention arc ion plating equipment.

상기한 바와 같이 본 발명의 구성을 첨부한 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail by the accompanying drawings, the configuration of the present invention as described above are as follows.

도 1은 본 발명 아크 이온 도금장비의 구조를 나타내기 위한 측면이고, 도 2는 본 발명 아크 이온 도금장비의 구조를 나타내기 위한 평면도를 도시한 것이다.1 is a side for showing the structure of the arc ion plating equipment of the present invention, Figure 2 shows a plan view for showing the structure of the arc ion plating equipment of the present invention.

본 발명에서 상기 진공챔버(10), 증발원(20), 홀더(30)에 대한 구조 및 작동원리는 국내특허등록 제0800223호 및 제0614530호 등에 기재된 바와 같이 당업계에서 보편적으로 사용되는 기술이므로 상세한 서술은 생략하기로 한다.Structure and operation principle for the vacuum chamber 10, the evaporation source 20, the holder 30 in the present invention, as described in the domestic patent registration No. 0800223 and 0614530, etc. The description will be omitted.

한편, 상기 진입레일(110)은 가공물이 장착된 홀더(30)가 진공챔버(10)의 내부로 장입될 수 있도록 유도하는 역할을 수행한다.On the other hand, the entry rail 110 serves to guide the holder (30) on which the workpiece is mounted to be charged into the vacuum chamber (10).

이를 위해 상기 진입레일(110)은 도어(11)가 개방되는 전방에 형성되어 홀더(30)와 장입레일(140)의 이동성을 확보하였다.To this end, the entry rail 110 is formed in front of the door 11 is opened to secure the mobility of the holder 30 and the charging rail 140.

또한, 상기 지지레일(120)은 상부에 안착된 상기 이동레일(130)이 원활하게 이동할 수 있도록 유도한다.In addition, the support rail 120 guides the moving rail 130 seated on the top to move smoothly.

이때 상기 제1실린더(121)는 홀더(30)를 교체하여 진공챔버(10)의 내부로 장입하는 과정에서 상기 홀더(30)의 위치를 조절하는 역할을 수행한다.In this case, the first cylinder 121 plays a role of adjusting the position of the holder 30 in the process of charging the inside of the vacuum chamber 10 by replacing the holder 30.

특히 상기 이동레일(130)의 하부에는 다수의 가이드롤러(131)가 형성되어 상기 지지레일(120)의 상부에서 원활한 구름운동을 유도한다.In particular, a plurality of guide rollers 131 are formed in the lower portion of the moving rail 130 to induce a smooth rolling motion on the upper portion of the support rail 120.

여기서 상기 이동레일(130)은 도 2에 도시된 바와 같이 평면상태에서 보았을 때 적어도 하나 이상의 장입레일(140)이 상부에 안착되어 이동할 수 있는 길이와 폭을 갖도록 제작됨이 바람직하다.Here, the moving rail 130 is preferably manufactured to have a length and width that can be moved at least one charging rail 140 is seated on the top when viewed in a planar state as shown in FIG.

한편, 상기 장입레일(140)은 상기 제2실린더(150)의 전진작동으로 진공챔버(10)의 전방까지 이동할 수 있는데, 이때 하부에는 다수의 가이드롤러(141)가 형성되어 상기 이동레일(130)의 상부에서 원활한 구름운동을 유도한다.On the other hand, the charging rail 140 may move to the front of the vacuum chamber 10 by the forward operation of the second cylinder 150, a plurality of guide rollers 141 is formed at the bottom of the moving rail 130 Induces a smooth rolling motion at the top of).

특히 상기 장입레일(140)의 하부 일측에는 걸림홈(142)이 형성되고, 상기 제2실린더(150)의 로드에는 상기 걸림홈(142)에 삽입되어 걸리도록 걸림구(151)가 설치될 수 있다.In particular, a locking groove 142 is formed at one lower side of the charging rail 140, and the locking hole 151 may be installed to be inserted into and caught in the locking groove 142 in the rod of the second cylinder 150. have.

이때 상기 걸림홈(142)은 상기 장입레일(140)의 길이방향을 따라서 전후방향으로 개방되도록 형성되어 상기 걸림구(151)가 전후방향으로 이동할 경우에는 맞닿아 상기 장입레일(140)을 이동시킬 수 있고, 반대로 장입레일(140)을 교체하는 과정에서 길이방향으로 이동하게 되면 간섭없이 상기 걸림홈(142)에서 이탈될 수 있다.At this time, the locking groove 142 is formed to open in the front and rear direction along the longitudinal direction of the charging rail 140, when the locking hole 151 moves in the front and rear direction to abut the moving of the charging rail 140. On the contrary, if the charging rail 140 is moved in the longitudinal direction in the process of replacing the charging rail 140, it may be separated from the locking groove 142 without interference.

이처럼 진동챔버(10)의 내부로 장입되는 홀더(30)의 순서에 따라서 대기하고 있는 다른 홀더(30)의 위치를 변경시키는 과정에서 상기 제2실린더(150)가 하나의 상기 장입레일(140)과 고정되도록 설치될 경우 다수의 홀더(30)를 원활하게 이동시킬 수 없으므로, 이를 해소하기 위해서 상기 걸림홈(142)에 상기 걸림구(151)가 삽입되어 걸리게 되고 길이방향으로 이동할 경우 분리되므로 홀더(30)의 이동위치에 따라서 원활한 탈착작업이 가능해 진다.Thus, in the process of changing the position of the other holder 30 waiting in accordance with the order of the holder 30 is charged into the vibration chamber 10, the second cylinder 150 is one of the charging rail 140 When the holder is installed to be fixed with the plurality of holders 30 can not be moved smoothly, in order to solve this, the locking groove 142 is inserted into the locking groove 142 is caught and is removed when moving in the longitudinal direction holder According to the movement position of the 30, the smooth detachable work becomes possible.

또한, 상기 장입테이블(160)은 상기 장입레일(140)이 진공챔버(10)의 전방까지 이동된 상태에서 진공챔버(10)의 내부까지 장입되어 홀더(30)를 진공챔버(10)의 내부에 장착할 수 있도록 유도하는 역할을 수행한다.In addition, the charging table 160 is charged to the interior of the vacuum chamber 10 in a state in which the charging rail 140 is moved to the front of the vacuum chamber 10 to the holder 30 to the interior of the vacuum chamber 10. It serves to guide the installation to

이때 상기 장입테이블(160)의 하부에는 다수의 가이드롤러(161)가 형성되어 상기 장입레일(140)의 상부에서 원활한 구름운동을 유도한다.At this time, a plurality of guide rollers 161 are formed in the lower portion of the charging table 160 to induce a smooth rolling motion in the upper portion of the charging rail 140.

따라서 상기 제3실린더(170)의 전진작동으로 상기 장입테이블(160)과 홀더(30)를 진공챔버(10)의 내부로 장입할 수 있다.Therefore, the charging table 160 and the holder 30 may be charged into the vacuum chamber 10 by the forward operation of the third cylinder 170.

이때 진공챔버(10)의 내부에는 홀더(30)와 맞닿아 고정시킬 수 있는 클램핑장치가 형성되어 홀더(30)를 고정시킨 후 상기 제3실린더(170)의 후진작동으로 상기 장입테이블(160)만 외부로 이동시킬 수 있다.
In this case, a clamping device is formed inside the vacuum chamber 10 to contact and fix the holder 30. The holder 30 is fixed, and the charging table 160 is operated by the backward operation of the third cylinder 170. Can only be moved outside.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명의 작동상태를 첨부한 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다. When described in detail by the accompanying drawings the operating state of the present invention having the configuration as described above are as follows.

도 3 내지 도 6은 본 발명 아크 이온 도금장비의 작동상태를 나타내기 위한 참고도를 도시한 것이다.3 to 6 show a reference diagram for showing the operating state of the arc ion plating equipment of the present invention.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이 진공챔버(10)의 도어(11)가 개방된 상태에서 상기 제2실린더(150)의 전진작동으로 상기 장입레일(140)과 장입테이블(160) 및 홀더(30)가 진공챔버(10)의 입구까지 이동하게 된다.As shown in FIGS. 3 and 4, the charging rail 140, the charging table 160, and the holder are operated by the forward operation of the second cylinder 150 while the door 11 of the vacuum chamber 10 is opened. 30 moves to the inlet of the vacuum chamber 10.

도 5에 도시된 바와 같이 상기 제3실린더(170)의 전진작동으로 상기 장입테이블(160)과 홀더(30)가 진공챔버(10)의 내부로 장입된다.As shown in FIG. 5, the charging table 160 and the holder 30 are charged into the vacuum chamber 10 by the forward operation of the third cylinder 170.

마지막으로 새로운 홀더(30)로 교체할 경우에는 도 6에 도시된 바와 같이 상기 제1실린더(121)의 후진작동으로 상기 이동레일(130)과 장입레일(140) 및 장입테이블(160)를 이동시켜 상기 걸림홈(142)에 걸림구(151)가 걸리도록 유도하여 장입작업을 진행할 수 있다.Finally, when replacing with a new holder 30, as shown in FIG. 6, the movable rail 130, the charging rail 140 and the charging table 160 by the backward operation of the first cylinder 121 is moved. It is possible to guide the engaging hole 151 to be caught in the locking groove 142 to proceed with the charging operation.

따라서 본 발명은 다수의 가공물이 장착된 홀더(30)를 순차적으로 공급 및 교체하여 도금작업의 효율성 및 작업시간을 획기적으로 단축할 수 있다.Therefore, the present invention can sequentially supply and replace the holder 30 is equipped with a plurality of workpieces can significantly reduce the efficiency and work time of the plating operation.

이처럼 상기와 같이 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시예와 실질적으로 균등의 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리범위가 포함되는 것은 당연하다.
As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail, but the scope of the present invention is not limited thereto, and the scope of the present invention is included to those which are substantially equivalent to the embodiments of the present invention. Of course.

10: 진공챔버 11: 도어
20: 증발원 30: 홀더
100: 본 발명 아크 이온 도금장비
110: 진입레일 120: 지지레일
121: 제1실린더 130: 이동레일
131: 가이드롤러 140: 장입레일
141: 가이드롤러 142: 걸림홈
150: 제2실린더
151: 걸림구 160: 장입테이블
161: 가이드롤러 170: 제3실린더10: vacuum chamber 11: door
20: evaporation source 30: holder
100: the present invention arc ion plating equipment
110: entry rail 120: support rail
121: first cylinder 130: moving rail
131: guide roller 140: charging rail
141: guide roller 142: locking groove
150: second cylinder
151: hanger 160: charging table
161: guide roller 170: third cylinder

Claims (4)

전방에 도어(11)가 개방 또는 밀폐되도록 설치된 진공챔버(10)와; 상기 진공챔버(10)에 마련되어 아크 방전을 형성시켜 타깃으로부터 방출되는 물질을 가공물의 표면에 조사하기 위한 다수의 증발원(20)으로 구성되는 아크 이온 도금장비에 있어서,
상기 도어(11)의 전방에 설치된 진입레일(110)과; 상기 진입레일(110)의 후방에 폭방향으로 설치되며 일측에는 길이방향으로 제1실린더(121)가 결합된 지지레일(120)과; 상기 제1실린더(121)의 로드와 결합되고 상기 지지레일(120)의 상부에 안착되어 길이방향으로 이동할 수 있도록 설치된 이동레일(130)과; 상기 이동레일(130)의 상부에 안착되어 폭방향으로 이동할 수 있도록 설치된 적어도 하나 이상의 장입레일(140)과; 상기 지지레일(120)의 일측에 폭방향으로 설치되어 상기 장입레일(140)을 상기 도어(11)를 향하도록 전후방향으로 이동시키기 위한 제2실린더(150)와; 상기 장입레일(140)의 상부에 안착되어 폭방향으로 이동할 수 있도록 설치되고 상부에는 다수의 가공물이 장착된 홀더(30)가 탈착되도록 설치된 장입테이블(160)과; 상기 장입레일(140)의 일측에 폭방향으로 설치되어 상기 장입테이블(160)을 상기 진공챔버(10)의 내부를 향하도록 전후방향으로 이동시키기 위한 제3실린더(170)로 구성되는 것을 특징으로 하는 아크 이온 도금장비.A vacuum chamber 10 installed at the front to open or close the door 11; In the arc ion plating equipment comprising a plurality of evaporation sources 20 for irradiating the surface of the workpiece to the material discharged from the target by forming an arc discharge in the vacuum chamber 10,
An entrance rail 110 installed in front of the door 11; A support rail 120 installed in the width direction at the rear of the entry rail 110 and having a first cylinder 121 coupled to one side in a length direction; A moving rail 130 coupled to the rod of the first cylinder 121 and installed on the support rail 120 to move in the longitudinal direction; At least one charging rail 140 mounted on an upper portion of the moving rail 130 and installed to move in the width direction; A second cylinder (150) installed at one side of the support rail (120) to move the charging rail (140) in the front-rear direction toward the door (11); A charging table 160 mounted on the charging rail 140 so as to be movable in the width direction, and a holder 30 having a plurality of workpieces mounted thereon detachable from the charging rail 140; It is installed in the width direction on one side of the charging rail 140 is characterized in that consisting of a third cylinder 170 for moving the charging table 160 in the front and rear direction toward the interior of the vacuum chamber 10 Arc ion plating equipment. 제 1항에 있어서, 상기 이동레일(130), 장입레일(140), 장입테이블(160)의 하부에는 다수의 가이드롤러(131,141,161)가 설치되는 것을 특징으로 하는 아크 이온 도금장비.The arc ion plating apparatus according to claim 1, wherein a plurality of guide rollers (131, 141, 161) are installed below the moving rail (130), the charging rail (140), and the charging table (160). 제 1항에 있어서, 상기 장입레일(140)의 하부 일측에는 걸림홈(142)이 형성되고, 상기 제2실린더(150)의 로드에는 상기 걸림홈(142)에 삽입되어 걸리도록 걸림구(151)가 설치되는 것을 특징으로 하는 아크 이온 도금장비.The locking groove 142 of claim 1, wherein a locking groove 142 is formed at a lower side of the charging rail 140, and the locking hole 151 is inserted into the locking groove 142 to be hooked to the rod of the second cylinder 150. Arc ion plating equipment characterized in that the installation. 제 3항에 있어서, 상기 걸림홈(142)은 상기 장입레일(140)의 길이방향을 따라서 전후방향으로 개방되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 아크 이온 도금장비.According to claim 3, The engaging groove 142 arc ion plating equipment, characterized in that formed to open in the front and rear direction along the longitudinal direction of the charging rail (140).
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102203825B1 (en) * 2020-08-12 2021-01-14 이재헌 Arc ion plating apparatus
CN113308679A (en) * 2021-05-24 2021-08-27 赵润 Coating equipment

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20000032426A (en) * 1998-11-14 2000-06-15 손명호 Coating method of electromagnetic wave-shielding membrane and its coating equipment
JP2001271158A (en) 1993-03-15 2001-10-02 Kobe Steel Ltd Arc discharge ion plating equipment
KR100765941B1 (en) 2006-04-28 2007-10-11 주식회사 에이브이엠에스 A deposition apparatus and a system with the same
JP2009249730A (en) 2008-04-10 2009-10-29 Hyo Sok Ahn Vacuum evaporation recovery method and apparatus

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001271158A (en) 1993-03-15 2001-10-02 Kobe Steel Ltd Arc discharge ion plating equipment
KR20000032426A (en) * 1998-11-14 2000-06-15 손명호 Coating method of electromagnetic wave-shielding membrane and its coating equipment
KR100765941B1 (en) 2006-04-28 2007-10-11 주식회사 에이브이엠에스 A deposition apparatus and a system with the same
JP2009249730A (en) 2008-04-10 2009-10-29 Hyo Sok Ahn Vacuum evaporation recovery method and apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102203825B1 (en) * 2020-08-12 2021-01-14 이재헌 Arc ion plating apparatus
CN113308679A (en) * 2021-05-24 2021-08-27 赵润 Coating equipment

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