KR100879379B1 - Inline type vacuum coating apparatus - Google Patents

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Abstract

An inline type vacuum deposition apparatus capable of manufacturing thin film of high quality is provided to perform deposition on a top surface and a bottom surface at the same time by arranging an incline target on a top side and a bottom side of a product. A base vacuum is made by a vacuum apparatus inside a vacuum chamber(10). A pair of input parts(20) are arranged in both sides of the vacuum chamber. An object is entered and ejected in the both sides of the vacuum chamber by a pair of input parts. A target(40) is mounted inside the vacuum chamber, and is operated in order to deposit a surface of the object. The object is consecutively entered in the input part and the vacuum chamber by a transfer unit. The target is arranged with inclined direction about transfer direction of the object.

Description

인라인 타입 진공증착장치{Inline type vacuum coating apparatus}Inline type vacuum coating apparatus

본 발명은 인라인 타입 진공증착장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 증착 코팅을 위한 제품이 진공챔버의 양쪽에서 투입 및 배출되어 생산성이 향상될 수 있고, 제품에 대한 스퍼터링 과정 등이 고르게 이루어져 제품 표면의 증착 박막이 고르게 형성되고, 고품질의 증착 박막을 갖는 제품을 취득할 수 있으며, 초기 제품과 증착 코팅 박막의 접착력이 향상되어, 제품의 신뢰도 등이 향상될 수 있도록 된 인라인 타입 진공증착장치에 관한 것이다.The present invention relates to an inline vacuum deposition apparatus, and more particularly, the product for deposition coating may be introduced and discharged from both sides of the vacuum chamber to improve productivity, and the sputtering process for the product may be made evenly. The invention relates to an inline vacuum deposition apparatus in which a deposited thin film is evenly formed, a product having a high quality deposited thin film can be obtained, and the adhesion between the initial product and the deposited coating thin film is improved, thereby improving the reliability of the product. .

사출물 등의 피가공물 표면에 전도성 박막을 코팅하는 방법으로 스퍼터링 방식이나 진공증착 방식 등을 채용하고 있다. 진공증착 방식으로 피가공물에 코팅막을 입히는 방법은 트레이에 코팅시키고자 하는 제품을 부착하여 진공 상태로 만들어 놓은 챔버에 투입하고 타깃(target)에 전류를 흘리게 되면, 타깃 자체에 플라즈마가 형성이 되어 이온화된 원자, 즉, 코팅물질이 스퍼터링(또는 분사) 형식으로 전방에 튀겨져 나가면서 제품에 코팅이 된다.As a method of coating a conductive thin film on the surface of a workpiece such as an injection molded product, a sputtering method or a vacuum deposition method is employed. The method of coating the coating film on the workpiece by vacuum deposition method attaches the product to be coated on the tray, puts it into the chamber made into a vacuum state, and when a current flows to the target, plasma is formed on the target itself and ionized. Atoms, ie, the coating material, are splashed forward in the form of sputtering (or spraying) to coat the product.

그런데, 종래에는 스퍼터링 과정 등이 고르게 이루어지지 않아 박막이 고르게 형성되지 못하는 단점이 있고, 이로 인해, 고품질의 증착 박막을 얻지 못하는 결과를 초래한다. However, in the related art, the sputtering process is not made evenly, and thus there is a disadvantage in that the thin film is not evenly formed, resulting in a failure to obtain a high quality deposited thin film.

또한, 종래에는 초기 제품과 증착 코팅 박막의 접착력이 저하되어, 제품의 신뢰도 등이 떨어지는 단점이 있으며, 증착 코팅을 위한 제품이 진공챔버의 한쪽으로만 투입되고 배출되기 때문에, 대기 시간 등으로 인하여 생산성이 저하되는 단점도 있다.In addition, in the related art, the adhesion between the initial product and the deposition coating thin film is lowered, and thus the reliability of the product is lowered. In addition, since the product for the deposition coating is injected and discharged only to one side of the vacuum chamber, the productivity is due to the waiting time. There is also a disadvantage that this is lowered.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 증착 코팅을 위한 주요부인 타겟을 경사지게 배치하여 제품의 모든 면에 균질하게 증착 코팅을 수행할 수 있으며, 증착을 위한 제품이 진공챔버의 양쪽에서 투입 및 배출되므로, 제품의 생산성 향상을 기대할 수 있도록 된 새로운 구성의 인라인 타입 진공증착장치를 제공하고자 하는 것이다.The present invention is to solve the problems as described above, the object of the present invention is to place the target, which is the main part for the deposition coating inclined to perform the deposition coating homogeneously on all sides of the product, the product for deposition Since the input and discharge from both sides of the vacuum chamber, to provide a new configuration inline vacuum deposition apparatus that can be expected to improve the productivity of the product.

이러한 목적을 구현하기 위한 본 발명에 따르면, 내부가 진공장치에 의해 베이스 진공이 형성되도록 된 진공챔버와, 상기 진공챔버의 양측에 배치되어 상기 진공챔버의 양측에서 피가공물을 투입하고 배출하도록 된 한 쌍의 투입부와, 상기 진공챔버에 내장되어 상기 진공챔버의 내부로 투입되는 피가공물의 표면을 증착 코팅하도록 작동되는 타겟과, 상기 피가공물을 상기 투입부와 진공챔버에 연속적으로 투입되도록 이송시키는 이송수단을 포함하여 구성되며, 상기 투입부는 상기 진공챔버를 중심으로 양쪽에 배치되어 증착 코팅될 피가공물이 양쪽에서 상기 진공챔버의 내부로 투입 및 배출되는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 진공증착장치가 제공될 수 있다.According to the present invention for realizing this object, as long as the inside of the vacuum chamber to form a base vacuum by the vacuum device, and the vacuum chamber is disposed on both sides of the vacuum chamber to input and discharge the workpieces on both sides of the vacuum chamber A pair of inputs, a target embedded in the vacuum chamber, the target operable to deposit and coat the surface of the workpiece introduced into the vacuum chamber, and the workpiece to be continuously fed into the input and the vacuum chamber. It is configured to include a transfer means, wherein the inlet is disposed on both sides around the vacuum chamber to provide the workpiece to be deposited coated on both sides into and out of the vacuum chamber provides an inline type vacuum deposition apparatus Can be.

본 발명은 증착 코팅을 위한 주요부인 타겟을 경사지게 배치하여 제품의 모든 면에 균질하게 증착 코팅을 수행할 수 있고, 경사진 타겟을 제품의 상측과 하측에 모두 배치하여 제품의 상하면을 동시에 증착 코팅할 수 있어 효율적이며, 증착을 위한 제품이 진공챔버의 한쪽에서만 투입 및 배출되어 대기시간으로 인해 생산성이 저하되었던 종래에 비하여 제품이 진공챔버의 양측에서 투입 및 배출되어 대기 시간 등으로 인한 작업 지연 등을 방지하므로, 제품의 생산성 향상을 기대할 수 있다.The present invention can be carried out uniformly on all sides of the product by arranging the target, which is the main part for the deposition coating inclined, and by depositing the inclined target on both the upper side and the lower side of the product to deposit coating on the upper and lower surfaces of the product at the same time It is efficient, and the product is deposited and discharged from only one side of the vacuum chamber, and the productivity is decreased due to the waiting time. As a result, the productivity of the product can be expected to increase.

또한, 본 발명은 제품에 대한 스퍼터링 과정 등이 고르게 이루어져 제품 표면의 증착 박막이 고르게 형성되고, 나아가, 고품질의 증착 박막을 갖는 제품을 취득할 수 있으며, 초기 제품과 증착 코팅 박막의 접착력이 향상되어, 제품의 신뢰도 등이 향상될 수 있다.In addition, the present invention is evenly formed sputtering process for the product is formed evenly deposited thin film on the product surface, and further can obtain a product having a high quality deposited thin film, the adhesion between the initial product and the deposition coating thin film is improved The reliability of the product can be improved.

이하, 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부한 도면에 의거하여 설명하면 다음과 같다. 도 1은 본 발명의 구조를 보여주는 평면도, 도 2는 도 1의 A 방향 측면도, 도 3은 도 2의 주요부의 확대도, 도 4는 도 1의 B 방향 측면도이다. 이를 참조하면, 본 발명은 중앙의 진공챔버(10) 양쪽 위치에 증착을 위한 피가공물(1)이 진입되는 투입부(20)가 구비되고, 피가공물(1)은 이송수단에 의해 한 쌍의 투입부(20)를 통해 진공챔버(10)에 연속적으로 투입되도록 구성된다. 또한, 진공챔버(10)는 중앙부의 제1진공챔버(18)를 포함하며, 제1진공챔버(18)의 양쪽 위치에는 한 쌍의 이온소스구간(16)이 배치되고, 각 이온소스구간(16)에는 한 쌍의 버퍼구간(12)이 이어지며, 각각의 버퍼구간(12)과 투입부(20) 사이에는 제2진공챔버(14)가 배치되어, 증착 코팅될 피가공물(1)이 양쪽에서 제1진공챔버(18)의 내부로 투입되도록 구성된다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. 1 is a plan view showing the structure of the present invention, Figure 2 is a side view of the A direction of Figure 1, Figure 3 is an enlarged view of the main portion of Figure 2, Figure 4 is a side view of the B direction of FIG. Referring to this, the present invention is provided with an input unit 20 for entering the workpiece (1) for deposition in both positions of the central vacuum chamber 10, the workpiece (1) is a pair of conveying means by the conveying means It is configured to continuously input the vacuum chamber 10 through the input unit 20. In addition, the vacuum chamber 10 includes a first vacuum chamber 18 in a central portion, and a pair of ion source sections 16 are disposed at both positions of the first vacuum chamber 18, and each ion source section ( 16, a pair of buffer sections 12 are connected, and a second vacuum chamber 14 is disposed between each of the buffer sections 12 and the input unit 20, so that the workpiece 1 to be deposited and coated is provided. It is configured to be introduced into the first vacuum chamber 18 from both sides.

상기 투입부(20)는 진공챔버(10)를 기준으로 피가공물(1) 이송라인 양측에 한 쌍으로 배치된다. 투입부(20)에는 이송수단(컨베이어 벨트 등)이 설치되어, 지그(또는, 파렛트)에 장착된 피가공물(1)이 이송수단에 의해 투입부(20)로 이송될 수 있게 된다. 이때, 투입부(20)는 실린더 등의 승강작동수단(24)에 의해 상하로 개폐되는 챔버 도어(24)에 의해 진공챔버(10)의 투입구를 막을 수 있도록 구성된다.The input unit 20 is disposed in pairs on both sides of the workpiece 1 transfer line with respect to the vacuum chamber 10. The feeding part 20 is provided with a conveying means (conveyor belt, etc.) so that the workpiece 1 mounted on the jig (or pallet) can be transferred to the feeding part 20 by the conveying means. At this time, the inlet 20 is configured to block the inlet of the vacuum chamber 10 by the chamber door 24 that is opened and closed by the lifting operation means 24 such as a cylinder.

상기 진공챔버(10)는 중앙부의 제1진공챔버(18)와, 이 제1진공챔버(18)의 양측에 배치되어 제1진공챔버(18)와 한 쌍의 투입부(20) 사이에 설치된 한 쌍의 제2진공챔버(14)를 포함한다. 이러한 제1진공챔버(18)와 제2진공챔버(14)는 사각 챔버 형상으로 구성된다. 제1진공챔버(18)는 상측부에 힌지부를 매개로 회동패널(18)이 구비되어, 이 회동패널(18)의 저면에 후술할 제3타겟(46)과 제4타겟(48)이 장착되어 있다.The vacuum chamber 10 is disposed at both sides of the first vacuum chamber 18 at the center and between the first vacuum chamber 18 and the first vacuum chamber 18 and the pair of input portions 20. And a pair of second vacuum chambers 14. The first vacuum chamber 18 and the second vacuum chamber 14 has a rectangular chamber shape. The first vacuum chamber 18 is provided with a pivot panel 18 via a hinge portion at an upper side thereof, and a third target 46 and a fourth target 48 to be described later are mounted on the bottom of the pivot panel 18. It is.

제1진공챔버(18)의 양쪽 위치에는 한 쌍의 이온소스구간(16)이 이어지고, 이온소스구간(16)에는 한 쌍의 버퍼구간(12)이 이어지며, 버퍼구간(12)의 내부로는 진공장치가 연결되어, 진공장치에 의해 버퍼구간(12)과 이온소스구간(16) 및 제1진공챔버(18)가 베이스 진공 상태로 유지된다. 바람직하게, 버퍼구간(12)의 내부에는 저진공장치(26)와 중진공장치(28) 및 고진공장치(30)에 의해 진공 상태로 유지되어, 이온소스구간(16)은 물론 제1진공챔버(18)의 내부에 최적화된 베이스 진공이 잡히도록 한다.A pair of ion source sections 16 are connected to both positions of the first vacuum chamber 18, and a pair of buffer sections 12 are connected to the ion source sections 16, and into the buffer section 12. The vacuum device is connected so that the buffer section 12, the ion source section 16 and the first vacuum chamber 18 are maintained in the base vacuum state by the vacuum device. Preferably, the inside of the buffer section 12 is maintained in a vacuum state by the low vacuum device 26, the medium vacuum device 28 and the high vacuum device 30, the ion source section 16 as well as the first vacuum chamber ( 18) Optimize the base vacuum inside.

상기 제2진공챔버(14)도 사각 챔버 형상으로 이루어진 것으로, 각각의 버퍼구간(12)과 각각의 투입부(20) 사이에 배치되어, 한 쌍의 제2진공챔버(14)가 제1진공챔버(18)의 양쪽 위치에 배치된 구조를 이룬다. 바람직하게, 제2진공챔버(14)의 내부는 저진공장치(26)와 중진공장치(28)에 의해 진공 상태가 유지되어, 제2진공챔버(14) 내부의 진공도가 제1진공챔버(18)의 진공도보다 낮은 상태가 되도록 한다. 그리고, 제2진공챔버(14)와 버퍼구간(12) 사이에는 승강작동수단(32)에 의해 베큐업 게이트(Vacuum gate)(34)가 상하로 개폐되도록 구성되어, 베큐엄 게이트(34)를 닫으면 제1진공챔버(18)와 버퍼구간(12) 및 이온소스구간(16)이 베이스 진공 상태로 유지될 수 있게 된다.The second vacuum chamber 14 also has a rectangular chamber shape. The second vacuum chamber 14 is disposed between each buffer section 12 and each input unit 20, so that a pair of second vacuum chambers 14 are formed in the first vacuum. A structure arranged at both positions of the chamber 18 is achieved. Preferably, the inside of the second vacuum chamber 14 is maintained in a vacuum state by the low vacuum device 26 and the medium vacuum device 28, so that the degree of vacuum inside the second vacuum chamber 14 is the first vacuum chamber 18. The vacuum level is lower than). In addition, between the second vacuum chamber 14 and the buffer section 12, the lifting gate 32 is configured to open and close the vacuum gate 34 up and down, thereby opening the vacuum gate 34. When closed, the first vacuum chamber 18, the buffer section 12, and the ion source section 16 may be maintained in the base vacuum state.

상기 이송수단은 한쪽의 제2진공챔버(14)에서 제1진공챔버(18)의 내부까지 연속적으로 이어지도록 설치된 한 쪽의 콘베이어 벨트와, 반대쪽의 제2진공챔버(14)에서 제1진공챔버(18)의 내부까지 연속적으로 이어지도록 설치된 다른 쪽의 콘베이어 벨트 등으로 구성된다. 즉, 이송수단을 구성하는 콘베이어 벨트 등이 제1진공챔버(18)를 기준으로 좌우 한 쌍으로 배열된 구성을 이룬다. 또한, 각각의 콘베이어 벨트는 피가공물(1)을 제1진공챔버(18)에 투입하고 제1진공챔버(18)에서 다시 인출하기 위해 정역회전 가능하게 구성된다.The conveying means comprises a conveyor belt on one side which is continuously connected from one second vacuum chamber 14 to the inside of the first vacuum chamber 18 and a first vacuum chamber on the opposite second vacuum chamber 14. It consists of the other conveyor belt etc. which were provided so that it may continue continuously to the inside of (18). That is, the conveyor belt constituting the conveying means and the like constitute a pair arranged left and right with respect to the first vacuum chamber 18. Each conveyor belt is also configured to be capable of forward and reverse rotation to feed the workpiece 1 into the first vacuum chamber 18 and to withdraw it from the first vacuum chamber 18 again.

이러한 구성의 본 발명에 의하면, 지그(또는, 팔레트)에 장착된 피가공물(1)이 한 쪽의 이송수단에 의해 한 쪽의 투입부(20)로 투입되면, 챔버 도어(24)가 열리면서 제2진공챔버(14)의 내부로 피가공물(1)이 투입되고 계속해서 버퍼구간(12)으로 투입된다. 동시에, 다른 쪽의 이송수단에 의해 피가공물(1)이 반대쪽의 투입부(20)로 투입되면, 다른 쪽의 챔버 도어(24)가 열리면서 제2진공챔버(14)를 지나서 다른 쪽의 버퍼구간(12)으로 투입된다.According to the present invention having such a configuration, when the workpiece 1 mounted on the jig (or pallet) is introduced into one feeding portion 20 by one conveying means, the chamber door 24 is opened and the The workpiece 1 is introduced into the second vacuum chamber 14 and then is introduced into the buffer section 12. At the same time, when the workpiece 1 is introduced into the opposite feeding portion 20 by the other conveying means, the other chamber door 24 is opened, passing through the second vacuum chamber 14 and the other buffer section. It is injected into (12).

이어서, 한 쪽의 프로세스 구간(즉, 한 쪽의 투입부(20)와 제2진공챔버(14) 및 버퍼구간(12))에서 제1진공챔버(18) 내부로 피가공물(1)이 투입되고, 상기 타겟(40)에 의해 스퍼터링되는 증착용 재료가 피가공물(1) 표면에 증착됨으로써, 피가공물(1) 표면에 증착 코팅막을 형성한다.Subsequently, the workpiece 1 is introduced into the first vacuum chamber 18 in one process section (i.e., one input unit 20, the second vacuum chamber 14, and the buffer section 12). The deposition material sputtered by the target 40 is deposited on the workpiece 1 to form a deposition coating film on the workpiece 1 surface.

한편, 다른 쪽 프로세스 구간(즉, 다른 쪽의 투입부(20)와 제2진공챔버(14) 및 버퍼구간(12))에서의 피가공물(1)은 한 쪽 프로세스 구간의 피가공물(1)이 증착 코팅되는 동안 제2진공챔버(14)에서 대기 상태로 있게 된다.On the other hand, the workpiece 1 in the other process section (i.e., the other insert 20, the second vacuum chamber 14, and the buffer section 12) is the workpiece 1 in one process section. It is in the standby state in the second vacuum chamber 14 during this deposition coating.

다음, 한 쪽 프로세스 구간에서의 피가공물(1)의 증착 코팅이 완료되면, 이송수단의 한 쪽 컨베이어 벨트가 역회전하여 증착 코팅된 피가공물(1)을 다시 제1진공챔버(18)와 이온소스구간(16) 및 제2진공챔버(14)를 거쳐 한 쪽의 투입부(20) 방향으로 인출한다.Next, when the deposition coating of the workpiece 1 in one process section is completed, one conveyor belt of the transfer means is rotated in reverse to return the deposition-coated workpiece 1 to the first vacuum chamber 18 and the ions again. It is withdrawn in the direction of one input unit 20 via the source section 16 and the second vacuum chamber 14.

동시에, 다른 쪽 프로세스 구간의 제2진공챔버(14)에 대기하고 있던 피가공물(1)이 이송수단에 의해 다른 쪽의 버퍼구간(12)과 이온소스구간(16)을 거쳐 제1진공챔버(18)의 내부로 투입되어 표면에 증착 코팅막이 형성된다.At the same time, the workpiece 1 waiting in the second vacuum chamber 14 of the other process section passes through the other buffer section 12 and the ion source section 16 by the transfer means. 18) the deposition coating film is formed on the surface.

따라서, 본 발명은 한 쪽 프로세스 구간의 피가공물(1)이 증착 코팅이 완료되어 다시 인출될 때, 동시에 다른 쪽 프로세스 구간의 피가공물(1)이 진공챔버(10)로 투입되어 증착 코팅 작업을 수행한다. 이를테면, 본 발명은 진공챔버(10)를 중심으로 피가공물(1)의 양쪽으로의 투입 및 배출이 이루어지도록 구성되어, 새로운 피가공물(1) 투입을 하기 위한 대기 시간 등에 의해 작업이 중단되는 경우 없이 계속적으로 코팅 작업을 수행할 수 있으므로, 생산성이 증가되는 효과를 볼 수 있는 것이다.Therefore, in the present invention, when the workpiece 1 in one process section is finished with the deposition coating and is withdrawn again, the workpiece 1 in the other process section is introduced into the vacuum chamber 10 to perform the deposition coating operation. Perform. For example, the present invention is configured such that the input and discharge to both sides of the workpiece (1) around the vacuum chamber 10 is made, when the work is interrupted by the waiting time for the new workpiece (1) input Since the coating can be carried out continuously without, the productivity will be increased.

한편, 상기 제1진공챔버(18)의 내부에는 복수개의 타겟(40)이 설치되고, 타겟(40)은 피가공물(1)의 이송 방향에 대해 상향으로 경사지게 배치된다. 즉, 타겟(40)은 피가공물(1) 이송 방향을 따라 하향으로 경사지게 배치된 제1타겟(42)과, 제1타겟(42)에 대해 대칭되는 방향으로 경사진 제2타겟(44)과, 제1타겟(42)의 상측에 위치되도록 배치됨과 동시에 피가공물(1)의 이송 방향을 따라 상향으로 경사지게 배치된 제3타겟(46)과, 제3타겟(46)에 대해 대칭되는 방향으로 경사지게 배치된 제4타겟(48)을 포함하여 구성된다. 이러한 제1타겟(42) 내지 제4타겟(48)으로 이루어진 타겟(40)이 피가공물(1) 이송 방향을 따라 복수개로 연속되도록 배열된다. Meanwhile, a plurality of targets 40 are installed in the first vacuum chamber 18, and the targets 40 are disposed to be inclined upward with respect to the conveying direction of the workpiece 1. That is, the target 40 may include a first target 42 disposed to be inclined downward along the moving direction of the workpiece 1, and a second target 44 inclined in a symmetrical direction with respect to the first target 42. The third target 46 is disposed to be positioned above the first target 42 and is inclined upwardly along the transfer direction of the workpiece 1, and in a direction symmetrical with respect to the third target 46. The fourth target 48 is disposed to be inclined. The targets 40 formed of the first targets 42 to the fourth targets 48 are arranged to be plurally continuous along the moving direction of the workpiece 1.

이에 따라, 제1타겟(42) 내지 제4타겟(48)을 기울어지도록 설치함으로써, 고품질의 증착 박막을 형성할 수 있는 장점이 있으며, 아울러, 제1타겟(42)과 제2타겟(44)은 하측에 배치되고, 제3타겟(46)과 제4타겟(48)은 상측에 배치되어, 이송라인의 상하측 위치에 타겟(40)을 동시에 설치한 구조를 취함으로써, 피가공물(1)의 양면(즉, 상면과 저면)을 동시에 증착 코팅할 수 있기 때문에, 피가공물(1)의 상면을 먼저 코팅하고 피가공물(1)의 저면을 다시 코팅하였던 종래에 비하여 생산성이 현저히 향상되는 효과를 기대할 수 있게 된다.Accordingly, by installing the first target 42 to the fourth target 48 to be inclined, there is an advantage of forming a high quality deposited thin film, and the first target 42 and the second target 44. Is disposed on the lower side, the third target 46 and the fourth target 48 is disposed on the upper side, the workpiece (1) by taking a structure in which the target 40 is installed at the same time in the upper and lower positions of the transfer line Since both surfaces (that is, the upper surface and the lower surface) of can be deposited by coating at the same time, productivity is significantly improved compared to the conventional case where the upper surface of the workpiece 1 is first coated and the lower surface of the workpiece 1 is coated again. You can expect.

구체적으로, 두께가 있는 사각형 피가공물(1)을 증착 코팅하는 경우, 제1타겟(42)과 제2타겟(44)에 의해 피가공물(1)의 저면과 전후 좌우측 둘레부가 균일하게 증착 코팅되고, 제3타겟(46)과 제4타겟(48)에 의해 피가공물(1)의 저면과 전후 좌우측 둘레부가 균일하게 증착 코팅되므로, 피가공물(1)의 형상에 관계없이 피가공물(1) 전체면에 대해 균질한 증착 코팅을 수행하는 효과가 있는 것이다.Specifically, in the case of depositing and coating the rectangular workpiece 1 having a thickness, the bottom surface and the front, rear, left, and right peripheral portions of the workpiece 1 are uniformly deposited by the first target 42 and the second target 44. The bottom and front left and right front and rear circumferences of the workpiece 1 are uniformly deposited and coated by the third target 46 and the fourth target 48, so that the entire workpiece 1 is independent of the shape of the workpiece 1. There is an effect of performing a homogeneous deposition coating on the cotton.

나아가, 제1타겟(42) 내지 제4타겟(48)으로 이루어진 타겟(40) 유닛이 피가공물(1) 이송 방향을 따라 복수개로 연속되도록 배열되므로, 피가공물(1) 표면에 대한 증착 코팅이 보다 확실하게 이루어질 수 있도록 하므로, 피가공물(1)의 고품질을 더욱 확실하게 보장할 수 있게 된다. Furthermore, since the target 40 unit consisting of the first target 42 to the fourth target 48 is arranged to be plural along the transport direction of the workpiece 1, the deposition coating on the surface of the workpiece 1 is performed. Since it can be made more reliably, the high quality of the to-be-processed object 1 can be ensured more reliably.

또한, 상기 제1진공챔버(18)의 내부로 투입되는 피가공물(1) 표면에 이온을 공급하는 이온소스구간(16)이 더 구비되어, 공정가스(예를 들어, Ar) 주입 후에 이온소스(16)(Ion source)를 이용하여 피가공물(1) 표면의 유기물을 제거하고 동시에 표면 개질(표면 개선)을 실시하여 증착 코딩막(layer)의 부착력을 더욱 높여줄 수 있으며, 이에 따라, 증착 코팅 제품의 신뢰도를 더욱 높이는 효과가 있다.In addition, an ion source section 16 for supplying ions to the surface of the workpiece 1 introduced into the first vacuum chamber 18 is further provided, and after the process gas (eg, Ar) is injected, the ion source is provided. (16) (Ion source) can be used to remove the organic matter on the surface of the workpiece 1 and simultaneously perform surface modification (surface improvement) to further increase the adhesion of the deposition coding layer, thereby depositing There is an effect to further increase the reliability of the coating product.

이상에서 설명한 본 발명은 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 의해 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 점이 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에게 명백할 것이다.The present invention described above is not limited to the above-described embodiment and the accompanying drawings, and various permutations, modifications, and changes can be made without departing from the spirit of the present invention. It will be apparent to those who have it.

도 1은 본 발명의 구조를 보여주는 평면도1 is a plan view showing the structure of the present invention

도 2는 도 1의 A 방향 측면도2 is a side view of the A direction of FIG.

도 3은 도 2의 주요부의 확대도3 is an enlarged view of a main part of FIG.

도 4는 도 1의 B 방향 측면도
도 5는 본 발명의 주요부인 타겟에 의해 피가공물 표면에 증착 코팅되는 과정을 개념적으로 보여주는 측면도4 is a side view of the B direction of FIG.
5 is a side view conceptually illustrating a process of depositing and coating a workpiece surface by a target, which is an essential part of the present invention

Claims (6)

내부가 진공장치에 의해 베이스 진공이 형성되도록 된 진공챔버(10)와, 상기 진공챔버(10)의 양측에 배치되어 상기 진공챔버(10)의 양측에서 피가공물(1)을 투입하고 배출하도록 된 한 쌍의 투입부(20)와, 상기 진공챔버(10)에 내장되어 상기 진공챔버(10)의 내부로 투입되는 피가공물(1)의 표면을 증착 코팅하도록 작동되는 타겟(40)과, 상기 피가공물(1)을 상기 투입부(20)와 진공챔버에 연속적으로 투입되도록 이송시키는 이송수단을 포함하여 구성되며, 상기 투입부(20)는 상기 진공챔버(10)를 중심으로 양쪽에 배치되어 증착 코팅될 피가공물(1)이 양쪽에서 상기 진공챔버(10)의 내부로 투입 및 배출되며,A vacuum chamber 10 in which a base vacuum is formed by a vacuum device, and disposed on both sides of the vacuum chamber 10 to input and discharge the workpiece 1 from both sides of the vacuum chamber 10. A pair of input portions 20, a target 40 embedded in the vacuum chamber 10 and operable to deposit and coat the surface of the workpiece 1 introduced into the vacuum chamber 10; It comprises a conveying means for conveying the workpiece (1) to be continuously introduced into the input section 20 and the vacuum chamber, the input section 20 is disposed on both sides around the vacuum chamber (10) The workpiece 1 to be deposited coated is introduced into and discharged from the inside of the vacuum chamber 10 at both sides, 상기 제1진공챔버(18)의 내부에는 복수개의 타겟(40)이 설치되고, 상기 타겟(40)은 상기 피가공물(1)의 이송 방향에 대해 경사지게 배치되며,A plurality of targets 40 are installed in the first vacuum chamber 18, and the targets 40 are disposed to be inclined with respect to the transport direction of the workpiece 1, 상기 타겟(40)은 상기 피가공물(1)의 저면 위치에 배치됨과 동시에 상기 피가공물(1)의 이송 방향을 따라 하향으로 경사지게 배치된 제1타겟(42)과, 상기 제1타겟(42)에 대해 대칭되는 방향으로 경사진 제2타겟(44)과, 상기 제1타겟(42)의 상측에 위치되도록 배치됨과 동시에 상기 피가공물(1)의 이송 방향을 따라 상향으로 경사지게 배치되어 상기 제1타겟(42)과 마주하는 위치에 대칭된 형태로 배열된 제3타겟(46)과, 상기 제3타겟(46)에 대해 대칭되는 방향으로 경사지게 배치됨과 동시에 상기 제2타겟(44)과 마주하는 위치에 대칭된 형태로 배열된 제4타겟(48)을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 인라인 타입 진공증착장치.The target 40 is disposed at a bottom surface position of the workpiece 1 and at the same time, the first target 42 and the first target 42 disposed to be inclined downward along the transport direction of the workpiece 1. The second target 44 inclined in a symmetrical direction with respect to the first target 42 and the first target 42, and the first target 42 is disposed to be inclined upwardly along the conveying direction of the workpiece 1 and the first target 42. A third target 46 arranged in a symmetrical form at a position facing the target 42, and inclined in a symmetrical direction with respect to the third target 46 and at the same time facing the second target 44; Inline type vacuum deposition apparatus comprising a fourth target (48) arranged in a symmetrical form in position. 제 1 항에 있어서, 상기 진공챔버(10)는 내부에 상기 타겟(40)이 구비되어 피가공물(1)의 증착이 이루어지는 제1진공챔버(18)와, 상기 제1진공챔버(18)의 양측에 이어지도록 배치되며 내부는 진공 상태로 유지되는 한 쌍의 버퍼구간(12)과, 상기 버퍼구간(12)과 상기 투입부(20) 사이에 이어지도록 설치된 한 쌍의 제2진공챔버(14)를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 인라인 타입 진공증착장치.The vacuum chamber (10) of claim 1, wherein the vacuum chamber (10) is provided with the target (40) therein so as to deposit the workpiece (1) and the first vacuum chamber (18) of the first vacuum chamber (18). A pair of buffer sections 12 disposed on both sides and maintained inside the vacuum chamber, and a pair of second vacuum chambers 14 installed to connect between the buffer sections 12 and the input unit 20. Inline type vacuum deposition apparatus characterized in that comprises a). 제 2 항에 있어서, 상기 버퍼구간(12)과 상기 제1진공챔버(18) 사이에 연결 된 한 쌍의 이온소스구간(16)을 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 인라인 타입 진공증착장치.The inline vacuum deposition apparatus according to claim 2, further comprising a pair of ion source sections (16) connected between the buffer section (12) and the first vacuum chamber (18). 제 3 항에 있어서, 상기 투입부(20)와 상기 제2진공챔버(14)와 상기 버퍼구간(12) 및 상기 이온소스구간(16)은 상기 제1진공챔버(18)를 중심으로 양쪽에 배치되어 증착 코팅될 피가공물(1)이 양쪽에서 상기 제1진공챔버(18)의 내부로 투입되고 배출되는 것을 특징으로 하는 인라인 타입 진공증착장치.4. The input unit 20, the second vacuum chamber 14, the buffer section 12, and the ion source section 16 are formed at both sides of the first vacuum chamber 18. In-line vacuum deposition apparatus, characterized in that the workpiece (1) to be disposed and deposited coated is introduced into and discharged from the inside of the first vacuum chamber (18) on both sides. 삭제delete 삭제delete
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