KR101193072B1 - Holder airknife for device plating ion arc - Google Patents

Holder airknife for device plating ion arc Download PDF

Info

Publication number
KR101193072B1
KR101193072B1 KR1020110016095A KR20110016095A KR101193072B1 KR 101193072 B1 KR101193072 B1 KR 101193072B1 KR 1020110016095 A KR1020110016095 A KR 1020110016095A KR 20110016095 A KR20110016095 A KR 20110016095A KR 101193072 B1 KR101193072 B1 KR 101193072B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
air knife
vacuum chamber
holder
bracket
support
Prior art date
Application number
KR1020110016095A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20120096786A (en
Inventor
허기복
서찬열
백경철
Original Assignee
주식회사 삼우에코
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 삼우에코 filed Critical 주식회사 삼우에코
Priority to KR1020110016095A priority Critical patent/KR101193072B1/en
Publication of KR20120096786A publication Critical patent/KR20120096786A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101193072B1 publication Critical patent/KR101193072B1/en

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating
    • C23C14/325Electric arc evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/243Crucibles for source material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

본 발명은 내부가 비어있는 형태로 전방에 도어(11)가 개방 또는 밀폐되도록 설치된 진공챔버(10)와; 상기 진공챔버(10)의 외부에서 내부로 관통되도록 마련되어 아크 방전을 발생시켜 방출되는 물질을 에어나이프(A)의 표면에 조사하기 위한 다수의 증발원(20)과; 상기 진공챔버(10)의 전방에 설치되어 에어나이프(A)를 진공챔버(10)의 내부로 공급 또는 외부로 배출시키기 위한 장입부재(30)와; 상기 장입부재(30)의 상부에 설치되어 다수의 에어나이프(A)를 고정하여 거치하기 위한 홀더로 구성되는 아크 이온 도금장비(1)에 있어서, 상기 홀더는 상부에 원판(111)이 구비된 지지축(110)과; 상기 지지축(110)의 상부 일측에 형성된 상부브라켓(120)과; 상기 지지축(110)의 하부 일측에 형성된 하부브라켓(130)과; 상기 상부브라켓(120)의 일측과 하부브라켓(130)의 일측을 연결하도록 수직방향으로 설치되고 표면에는 수직방향으로 다수의 장공(141)이 형성된 다수의 상부지지대(140)와; 상기 하부브라켓(130)의 일측에서 하부방향으로 설치되고 표면에는 수직방향으로 다수의 장공(151)이 형성된 다수의 하부지지대(150)와; 상기 하부지지대(150)의 일측면에 결합된 하부거치대(160)와; 상기 상부지지대(140)의 일측면에 결합된 상부거치대(170)로 구성되는 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더를 제공하기 위한 것으로, 본 발명은 에어나이프의 길이에 따라서 간격 및 위치를 조절하여 견고하게 고정할 수 있으므로 작업효율을 향상시킴은 물론 도금품질의 저하를 사전에 방지할 수 있는 효과를 갖는다.The present invention is a vacuum chamber 10 is installed so that the door 11 is opened or closed in front of the empty form; A plurality of evaporation sources 20 provided to penetrate from the outside of the vacuum chamber 10 to irradiate the surface of the air knife A with the material emitted by generating an arc discharge; A charging member (30) installed in front of the vacuum chamber (10) for supplying or discharging the air knife (A) to the inside of the vacuum chamber (10); In the arc ion plating equipment (1) is installed on the top of the charging member 30 is composed of a holder for fixing and mounting a plurality of air knife (A), the holder is provided with a disc 111 on the top A support shaft 110; An upper bracket 120 formed at an upper side of the support shaft 110; A lower bracket 130 formed at one lower side of the support shaft 110; A plurality of upper supports 140 installed in a vertical direction to connect one side of the upper bracket 120 and one side of the lower bracket 130 and having a plurality of long holes 141 formed on a surface thereof; A plurality of lower support members 150 installed at one side of the lower bracket 130 in a lower direction and formed with a plurality of long holes 151 in a vertical direction on a surface thereof; A lower cradle 160 coupled to one side of the lower support 150; To provide an air knife holder for arc ion plating equipment consisting of an upper supporter 170 coupled to one side of the upper support 140, the present invention is firmly adjusted by adjusting the spacing and position according to the length of the air knife. It can be fixed so as to improve the work efficiency as well as to prevent the degradation of the plating quality in advance.

Description

아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더{Holder airknife for device plating ion arc}Air knife holder for arc ion plating equipment {Holder airknife for device plating ion arc}

본 발명은 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 에어나이프의 길이에 관계없이 견고하게 고정하여 작업효율을 향상시킴은 물론 도금품질의 저하를 사전에 방지할 수 있도록 하는 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더에 관한 것이다.
The present invention relates to an air knife holder for arc ion plating equipment, and more specifically, to firmly fix an irrespective of the length of the air knife to improve work efficiency and to prevent the deterioration of plating quality in advance. The present invention relates to an air knife holder for ion plating equipment.

일반적으로 아크 이온 도금장비는 에어나이프 등과 같은 가공물의 내마모성, 표면이형성, 코팅접착력, 내산화성 등을 개선하기 위해서 진공챔버 내에 아크 방전을 형성시켜 타깃(증착대상물)으로부터 방출되는 물질을 가공물의 표면에 도금(증착)시키기 위해서 사용된다.In general, arc ion plating equipment forms an arc discharge in a vacuum chamber to improve wear resistance, surface releasability, coating adhesion, oxidation resistance, etc. of a workpiece such as an air knife, so that the material discharged from the target (deposition object) is formed on the surface of the workpiece. Used for plating (deposition) on

이를 위한 종래의 아크 이온 도금장비는 진공 챔버와, 상기 진공 챔버 내에 적재된 기판을 이동시키기 위한 것으로 상기 진공 챔버 내에 마련되어 상기 기판을 상기 진공 챔버의 높이 방향에 수직한 방향으로 이동시키는 이동 부재와, 상기 진공 챔버 내에 마련되어 기판 표면을 세척하기 위해 아크 방전에 의해 증발된 금속 이온을 상기 기판의 표면에 조사하기 위한 충돌용 아크 증발원과, 상기 진공 챔버 내에 마련되어 아크 방전에 의해 증발된 금속 이온을 상기 기판의 표면에 증착하기 위한 증착용 아크 증발원을 포함하고, 상기 증착용 아크 증발원은 상기 진공 챔버의 높이 방향으로 서로 중첩되지 않고 상기 이동 부재에 설치된 상기 기판에 대향되어 배열되는 복수의 상기 증착용 아크 증발원으로 구성되는 증착용 아크 증발원 그룹을 구성하고, 상기 충돌용 아크 증발원은 상기 진공 챔버의 높이 방향으로 서로 중첩되지 않고 상기 기판에 대향되어 배열되는 적어도 하나의 아크 증발원으로 구성되는 충돌용 아크 증발원 그룹을 구성하고, 상기 충돌용 아크 증발원의 높이 방향에 수직한 방향의 길이는 상기 증착용 아크 증발원의 높이 방향에 수직한 방향의 길이보다 길게 형성된 국내특허등록 제0800223호 "아크 이온 도금장치"와,Conventional arc ion plating equipment for this purpose is to move a substrate loaded in the vacuum chamber and the substrate in the vacuum chamber is provided in the vacuum chamber to move the substrate in a direction perpendicular to the height direction of the vacuum chamber, A collision arc evaporation source for irradiating the surface of the substrate with metal ions provided in the vacuum chamber and evaporated by arc discharge to clean the substrate surface, and metal ions provided in the vacuum chamber and evaporated by arc discharge for the substrate A deposition arc evaporation source for depositing on a surface of the deposition arc evaporation source, wherein the deposition arc evaporation sources are arranged to face the substrate installed on the moving member without overlapping each other in the height direction of the vacuum chamber; Constitute a vapor evaporation source group for deposition, The pre-impacting arc evaporation source constitutes a collision arc evaporation source group consisting of at least one arc evaporation source arranged opposite to the substrate without overlapping each other in the height direction of the vacuum chamber, and in the height direction of the collision arc evaporation source. The length of the vertical direction is domestic patent registration No. 0800223 "arc ion plating apparatus" formed longer than the length of the direction perpendicular to the height direction of the evaporation arc evaporation source,

진공 환경을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 고정되며, 내부 동공을 통해 외부로부터 주입되는 아르곤 가스를 이온화시켜 피증착물 표면을 이온 에칭하여 이온피막을 형성하는 이온봉; 상기 챔버의 내면에 판형으로 고정되며, 전면으로 강자기장을 발생시키는 자장 발생부; 상기 자장 발생부로부터 도달한 자기장을 통하여 글로우 방전으로 이온화된 금속 이온을 챔버 내로 제공하여 피증착물에 증착시키는 반응판; 상기 챔버의 내부에 고정되며, 전자빔의 충돌을 통해 아크 방전으로 증발된 티타늄 이온과 반응가스 주입구를 통해 주입된 반응가스의 화합물을 챔버 내로 제공하여 피증착물에 증착시키는 아크봉; 상기 챔버의 내부에 배치되어 피증착물을 거치시키고 소정 경로를 따라 공전하고 자체 회전함으로써 상기 반응판 및 아크봉으로부터 제공되는 코팅용 증착물질이 피증착물의 표면에 고루 증착되도록 하는 적어도 하나 이상의 거치부재를 포함하는 진공 환경을 제공하는 국내특허등록 제0614530호 "플라즈마 진공 코팅 장치"가 안출된 바가 있다.A chamber providing a vacuum environment; An ion rod fixed to the inside of the chamber and ionizing argon gas injected from the outside through an inner cavity to ion-etch the surface of the deposit to form an ion coating; A magnetic field generating unit fixed to an inner surface of the chamber and generating a strong magnetic field to the front; A reaction plate which provides metal ions ionized by glow discharge into the chamber through the magnetic field reached from the magnetic field generating unit and deposits the deposits on the deposit; An arc rod which is fixed inside the chamber and provides a compound of titanium ions evaporated by an arc discharge through an impact of an electron beam and a reaction gas injected through a reaction gas inlet into the chamber and deposits the deposited material on the deposit; At least one mounting member disposed inside the chamber to hold the deposit, revolve along a predetermined path, and self-rotate so that the deposition material for coating provided from the reaction plate and the arc rod is evenly deposited on the surface of the deposit. Korean Patent Registration No. 0614530 "Plasma Vacuum Coating Device" providing a vacuum environment comprising a bar has been devised.

그러나 종래의 "아크 이온 도금장치" 및 "플라즈마 진공 코팅 장치"는 에어나이프를 고정하여 거치하기 위한 홀더의 길이가 조절할 수 없는 구조이므로, 에어나이프의 규격에 따라서 길이가 달라질 경우 견고한 고정 및 거치가 불가능하여 사용효율은 물론 도금품질이 저하되는 문제점을 갖게 되었다.However, the conventional "arc ion plating apparatus" and "plasma vacuum coating apparatus" is a structure that can not be adjusted the length of the holder for fixing the air knife fixed, so if the length is changed according to the specification of the air knife, the fixed and fixed It is impossible to have a problem that the use efficiency as well as the plating quality is reduced.

아울러 종래의 "아크 이온 도금장치" 및 "플라즈마 진공 코팅 장치"는 에어나이프의 길이에 따라서 알맞은 홀더를 각각 준비해야 하므로 보관 및 유지보수의 불편함은 물론 경제적인 비용이 가중되는 문제점을 갖게 되었다.
In addition, the conventional "arc ion plating apparatus" and "plasma vacuum coating apparatus" have to prepare a suitable holder according to the length of the air knife, so that the inconvenience of storage and maintenance, as well as the economic cost has a problem.

따라서 본 발명은 상기와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서,Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art,

본 발명은 에어나이프의 길이에 따라서 위치를 조절하여 견고하게 고정할 수 있는 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더를 제공함에 목적이 있다.
It is an object of the present invention to provide an air knife holder for an arc ion plating apparatus that can be firmly fixed by adjusting its position according to the length of the air knife.

본 발명은 내부가 비어있는 형태로 전방에 도어(11)가 개방 또는 밀폐되도록 설치된 진공챔버(10)와; 상기 진공챔버(10)의 외부에서 내부로 관통되도록 마련되어 아크 방전을 발생시켜 방출되는 물질을 에어나이프(A)의 표면에 조사하기 위한 다수의 증발원(20)과; 상기 진공챔버(10)의 전방에 설치되어 에어나이프(A)를 진공챔버(10)의 내부로 공급 또는 외부로 배출시키기 위한 장입부재(30)와; 상기 장입부재(30)의 상부에 설치되어 다수의 에어나이프(A)를 고정하여 거치하기 위한 홀더로 구성되는 아크 이온 도금장비(1)에 있어서,The present invention is a vacuum chamber 10 is installed so that the door 11 is opened or closed in front of the empty form; A plurality of evaporation sources 20 provided to penetrate from the outside of the vacuum chamber 10 to irradiate the surface of the air knife A with the material emitted by generating an arc discharge; A charging member (30) installed in front of the vacuum chamber (10) for supplying or discharging the air knife (A) to the inside of the vacuum chamber (10); In the arc ion plating equipment 1, which is installed on the charging member 30 is configured as a holder for fixing and mounting a plurality of air knife (A),

상기 홀더는 상부에 원판(111)이 구비된 지지축(110)과; 상기 지지축(110)의 상부 일측에 형성된 상부브라켓(120)과; 상기 지지축(110)의 하부 일측에 형성된 하부브라켓(130)과; 상기 상부브라켓(120)의 일측과 하부브라켓(130)의 일측을 연결하도록 수직방향으로 설치되고 표면에는 수직방향으로 다수의 장공(141)이 형성된 다수의 상부지지대(140)와; 상기 하부브라켓(130)의 일측에서 하부방향으로 설치되고 표면에는 수직방향으로 다수의 장공(151)이 형성된 다수의 하부지지대(150)와; 상기 하부지지대(150)의 일측면에 결합된 하부거치대(160)와; 상기 상부지지대(140)의 일측면에 결합된 상부거치대(170)로 구성되는 것을 특징으로 한다.
The holder and the support shaft 110 is provided with a disc 111 on the top; An upper bracket 120 formed at an upper side of the support shaft 110; A lower bracket 130 formed at one lower side of the support shaft 110; A plurality of upper supports 140 installed in a vertical direction to connect one side of the upper bracket 120 and one side of the lower bracket 130 and having a plurality of long holes 141 formed on a surface thereof; A plurality of lower support members 150 installed at one side of the lower bracket 130 in a lower direction and formed with a plurality of long holes 151 in a vertical direction on a surface thereof; A lower cradle 160 coupled to one side of the lower support 150; Characterized in that it consists of an upper support 170 coupled to one side of the upper support 140.

본 발명은 에어나이프의 길이에 따라서 간격 및 위치를 조절하여 견고하게 고정할 수 있으므로 작업효율을 향상시킴은 물론 도금품질의 저하를 사전에 방지할 수 있는 효과를 갖는다.
The present invention can be firmly fixed by adjusting the distance and position according to the length of the air knife to improve the work efficiency as well as to prevent the degradation of the plating quality in advance.

도 1은 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 구조를 나타내기 위한 분리 사시도.
도 2는 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 구조를 나타내기 위한 결합 사시도.
도 3은 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 구조를 나타내기 위한 측면도.
도 4는 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 설치상태를 나타내기 위한 참고도.
Figure 1 is an exploded perspective view showing the structure of the air knife holder for the present invention arc ion plating equipment.
Figure 2 is a perspective view for showing the structure of the air knife holder for the present invention arc ion plating equipment.
Figure 3 is a side view for showing the structure of the air knife holder for the present invention arc ion plating equipment.
Figure 4 is a reference diagram for showing the installation state of the air knife holder for the present invention arc ion plating equipment.

상기한 바와 같이 본 발명의 구성을 첨부한 도면에 의해 상세히 설명하면 다음과 같다.When described in detail by the accompanying drawings, the configuration of the present invention as described above are as follows.

도 1은 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 구조를 나타내기 위한 분리 사시도이고, 도 2는 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 구조를 나타내기 위한 결합 사시도이며, 도 3은 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 구조를 나타내기 위한 측면도이고, 도 4는 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더의 설치상태를 나타내기 위한 참고도를 도시한 것이다.1 is an exploded perspective view for showing the structure of the air knife holder for the arc ion plating equipment of the present invention, Figure 2 is a perspective view for showing the structure of the air knife holder for the arc ion plating equipment of the present invention, Figure 3 4 is a side view for showing the structure of the air knife holder for the invention arc ion plating equipment, Figure 4 shows a reference diagram for showing the installation state of the air knife holder for the arc ion plating equipment of the present invention.

본 발명은 내부가 비어있는 형태로 전방에 도어(11)가 개방 또는 밀폐되도록 설치된 진공챔버(10)와; 상기 진공챔버(10)의 외부에서 내부로 관통되도록 마련되어 아크 방전을 발생시켜 방출되는 물질을 에어나이프(A)의 표면에 조사하기 위한 다수의 증발원(20)과; 상기 진공챔버(10)의 전방에 설치되어 에어나이프(A)를 진공챔버(10)의 내부로 공급 또는 외부로 배출시키기 위한 장입부재(30)와; 상기 장입부재(30)의 상부에 설치되어 다수의 에어나이프(A)를 고정하여 거치하기 위한 홀더로 구성되는 아크 이온 도금장비(1)에 있어서,The present invention is a vacuum chamber 10 is installed so that the door 11 is opened or closed in front of the empty form; A plurality of evaporation sources 20 provided to penetrate from the outside of the vacuum chamber 10 to irradiate the surface of the air knife A with the material emitted by generating an arc discharge; A charging member (30) installed in front of the vacuum chamber (10) for supplying or discharging the air knife (A) to the inside of the vacuum chamber (10); In the arc ion plating equipment 1, which is installed on the charging member 30 is configured as a holder for fixing and mounting a plurality of air knife (A),

상기 홀더는 상부에 원판(111)이 구비된 지지축(110)과; 상기 지지축(110)의 상부 일측에 형성된 상부브라켓(120)과; 상기 지지축(110)의 하부 일측에 형성된 하부브라켓(130)과; 상기 상부브라켓(120)의 일측과 하부브라켓(130)의 일측을 연결하도록 수직방향으로 설치된 다수의 상부지지대(140)와; 상기 하부브라켓(130)의 일측에서 하부방향으로 설치된 다수의 하부지지대(150)와; 상기 하부지지대(150)의 일측면에 결합된 하부거치대(160)와; 상기 상부지지대(140)의 일측면에 결합된 상부거치대(170)로 구성된다.The holder and the support shaft 110 is provided with a disc 111 on the top; An upper bracket 120 formed at an upper side of the support shaft 110; A lower bracket 130 formed at one lower side of the support shaft 110; A plurality of upper supports 140 installed in a vertical direction to connect one side of the upper bracket 120 and one side of the lower bracket 130; A plurality of lower supports 150 installed in a lower direction on one side of the lower bracket 130; A lower cradle 160 coupled to one side of the lower support 150; The upper supporter 170 is coupled to one side of the upper supporter 140.

본 발명에서 상기 진공챔버(10), 증발원(20), 장입부재(30)에 대한 구조 및 작동원리는 국내특허등록 제0800223호와 제0614530호 및 제0981603호에 기재된 바와 같이 당업계에서 보편적으로 사용되는 기술이므로 상세한 서술은 생략하기로 한다.In the present invention, the structure and operation principle of the vacuum chamber 10, the evaporation source 20, the charging member 30 is commonly used in the art as described in Korean Patent Registration Nos. 0800223 and 0614530 and 0981603. Since the technology is used, a detailed description thereof will be omitted.

한편, 상기 원판(111)과 지지축(110)은 외부에서 공급되는 -전류를 공급받아서 상기 상부지지대(140)와 하부지지대(150)에 전달하여 상기 증발원(20)에 공급되는 +전류와 아크 방전을 발생시켜 방출되는 물질을 에어나이프(A)의 표면에 조사하여 코팅이 완료된다.On the other hand, the disc 111 and the support shaft 110 receives the -current supplied from the outside and delivers to the upper support 140 and the lower support 150 to the + current and arc supplied to the evaporation source 20 The coating is completed by irradiating the surface of the air knife (A) with a substance generated by generating a discharge.

이때 상기 원판(111)은 회전하더라도 지속적으로 -전류가 공급될 수 있도록 원형의 판재형상을 갖도록 제작하였다.At this time, the disc 111 is manufactured to have a circular plate shape so that -current can be supplied continuously even when rotated.

또한, 상기 상부브라켓(120)과 하부브라켓(130)은 상기 상부지지대(140)와 하부지지대(150)를 고정시켜 지지하는 역할을 수행한다.In addition, the upper bracket 120 and the lower bracket 130 serves to fix and support the upper support 140 and the lower support 150.

이때 상기 상부지지대(140)와 하부지지대(150)는 체결구(141,151)를 이용하여 상기 상부브라켓(120)과 하부브라켓(130)의 표면에 나선결합된다.At this time, the upper support 140 and the lower support 150 are spirally coupled to the surface of the upper bracket 120 and the lower bracket 130 using fasteners (141, 151).

아울러 상기 상부지지대(140)와 하부지지대(150)는 도 1에 도시된 바와 같이 조립 및 유지보수의 용이성을 위해서 분리된 상태로 상기 상부지지대(140)는 상기 상부브라켓(120)의 일측과 하부브라켓(130)의 일측을 연결하도록 수직방향으로 설치되고, 상기 하부지지대(150)는 상기 하부브라켓(130)의 일측에서 하부방향으로 설치된다.In addition, the upper support 140 and the lower support 150, as shown in Figure 1 in the separated state for ease of assembly and maintenance, the upper support 140 is one side and the lower of the upper bracket 120 It is installed in the vertical direction to connect one side of the bracket 130, the lower support 150 is installed in the lower direction from one side of the lower bracket (130).

이때 상기 상부지지대(140)와 하부지지대(150)의 표면에는 에어나이프(A)의 길이에 따라서 상기 하부거치대(160)와 상부거치대(170)의 위치를 조절하여 견고하게 고정시킬 수 있도록 수직방향으로 다수의 장공(141,151)이 각각 형성될 수 있다.At this time, the surface of the upper support 140 and the lower support 150 in the vertical direction to be firmly fixed by adjusting the position of the lower support 160 and the upper support 170 according to the length of the air knife (A) A plurality of long holes 141 and 151 may be formed, respectively.

특히 상기 하부지지대(150)는 장입부재(30)의 상부 표면에 고정되어 장입부재(30)의 작동으로 상기 진공챔버(10)의 내부로 진입할 수 있다.In particular, the lower support 150 is fixed to the upper surface of the charging member 30 may enter the interior of the vacuum chamber 10 by the operation of the charging member (30).

또한, 상기 하부거치대(160)와 상부거치대(170)는 도 4에 도시된 바와 같이 에어나이프(A)의 상단과 하단에 맞닿은 상태로 견고하게 고정하는 역할을 수행한다.In addition, the lower cradle 160 and the upper cradle 170 serves to firmly fixed in contact with the top and bottom of the air knife (A) as shown in FIG.

즉, 에어나이프(A)의 길이가 달라질 경우에는 작업자가 상기 하부거치대(160)와 상부거치대(170)를 상기 장공(141,151)을 따라서 위치를 조절한 후 고정하여 에어나이프(A)의 길이에 따라서 용이하게 적용할 수 있다.That is, when the length of the air knife (A) is changed, the operator adjusts the position after fixing the lower cradle 160 and the upper cradle 170 along the long holes (141, 151) to the length of the air knife (A) Therefore, it can be applied easily.

이때 상기 하부거치대(160)와 상부거치대(170)는 체결구(162,172)를 이용하여 상기 상부지지대(140)와 하부지지대(150)의 표면에 나선결합된다.At this time, the lower cradle 160 and the upper cradle 170 is spirally coupled to the surface of the upper support 140 and the lower support 150 using fasteners (162, 172).

따라서 본 발명은 에어나이프(A)를 견고하게 고정할 수 있음은 물론 에어나이프(A)의 길이에 따라서 고정위치를 조절하여 작업효율을 향상시킬 수 있다.Therefore, the present invention can firmly fix the air knife (A) as well as improve the working efficiency by adjusting the fixing position according to the length of the air knife (A).

이처럼 상기와 같이 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 권리범위는 이에 한정되지 않으며, 본 발명의 실시예와 실질적으로 균등의 범위에 있는 것까지 본 발명의 권리범위가 포함되는 것은 당연하다.
As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail, but the scope of the present invention is not limited thereto, and the scope of the present invention is included to those which are substantially equivalent to the embodiments of the present invention. Of course.

10: 진공챔버 11: 도어
20: 증발원 30: 장입부재
100: 본 발명 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더
110: 지지축 111: 원판
120: 상부브라켓 130: 하부브라켓
140: 상부지지대 141: 장공
142: 체결구
150: 하부지지대 151: 장공
152: 체결구
160: 하부거치대 161: 체결구
170: 상부거치대 171: 체결구
A: 에어나이프
10: vacuum chamber 11: door
20: evaporation source 30: charging member
100: air knife holder for the present invention arc ion plating equipment
110: support shaft 111: disc
120: upper bracket 130: lower bracket
140: upper support 141: long hole
142: fastener
150: lower support 151: long hole
152: fastener
160: lower cradle 161: fastener
170: upper cradle 171: fastener
A: Air Knife

Claims (1)

내부가 비어있는 형태로 전방에 도어(11)가 개방 또는 밀폐되도록 설치된 진공챔버(10)와; 상기 진공챔버(10)의 외부에서 내부로 관통되도록 마련되어 아크 방전을 발생시켜 방출되는 물질을 에어나이프(A)의 표면에 조사하기 위한 다수의 증발원(20)과; 상기 진공챔버(10)의 전방에 설치되어 에어나이프(A)를 진공챔버(10)의 내부로 공급 또는 외부로 배출시키기 위한 장입부재(30)와; 상기 장입부재(30)의 상부에 설치되어 다수의 에어나이프(A)를 고정하여 거치하기 위한 홀더로 구성되는 아크 이온 도금장비(1)에 있어서,
상기 홀더는 상부에 원판(111)이 구비된 지지축(110)과; 상기 지지축(110)의 상부 일측에 형성된 상부브라켓(120)과; 상기 지지축(110)의 하부 일측에 형성된 하부브라켓(130)과; 상기 상부브라켓(120)의 일측과 하부브라켓(130)의 일측을 연결하도록 수직방향으로 설치되고 표면에는 수직방향으로 다수의 장공(141)이 형성된 다수의 상부지지대(140)와; 상기 하부브라켓(130)의 일측에서 하부방향으로 설치되고 표면에는 수직방향으로 다수의 장공(151)이 형성된 다수의 하부지지대(150)와; 상기 하부지지대(150)의 일측면에 결합된 하부거치대(160)와; 상기 상부지지대(140)의 일측면에 결합된 상부거치대(170)로 구성되는 것을 특징으로 하는 아크 이온 도금장비용 에어나이프 홀더.
A vacuum chamber (10) installed so that the door (11) is opened or closed in the front in a hollow form; A plurality of evaporation sources 20 provided to penetrate from the outside of the vacuum chamber 10 to irradiate the surface of the air knife A with the material emitted by generating an arc discharge; A charging member (30) installed in front of the vacuum chamber (10) for supplying or discharging the air knife (A) to the inside of the vacuum chamber (10); In the arc ion plating equipment 1, which is installed on the charging member 30 is configured as a holder for fixing and mounting a plurality of air knife (A),
The holder and the support shaft 110 is provided with a disc 111 on the top; An upper bracket 120 formed at an upper side of the support shaft 110; A lower bracket 130 formed at one lower side of the support shaft 110; A plurality of upper supports 140 installed in a vertical direction to connect one side of the upper bracket 120 and one side of the lower bracket 130 and having a plurality of long holes 141 formed on a surface thereof; A plurality of lower support members 150 installed at one side of the lower bracket 130 in a lower direction and formed with a plurality of long holes 151 in a vertical direction on a surface thereof; A lower cradle 160 coupled to one side of the lower support 150; Arc knife plating equipment air knife holder, characterized in that consisting of the upper supporter 170 is coupled to one side of the upper support (140).
KR1020110016095A 2011-02-23 2011-02-23 Holder airknife for device plating ion arc KR101193072B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110016095A KR101193072B1 (en) 2011-02-23 2011-02-23 Holder airknife for device plating ion arc

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020110016095A KR101193072B1 (en) 2011-02-23 2011-02-23 Holder airknife for device plating ion arc

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20120096786A KR20120096786A (en) 2012-08-31
KR101193072B1 true KR101193072B1 (en) 2012-10-22

Family

ID=46886612

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020110016095A KR101193072B1 (en) 2011-02-23 2011-02-23 Holder airknife for device plating ion arc

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101193072B1 (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100800223B1 (en) 2005-10-17 2008-02-01 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 Arc ion plating apparatus

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100800223B1 (en) 2005-10-17 2008-02-01 가부시키가이샤 고베 세이코쇼 Arc ion plating apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
KR20120096786A (en) 2012-08-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8658010B2 (en) Filtered cathodic arc deposition method and apparatus
US9911576B2 (en) Ion bombardment apparatus and method for cleaning of surface of base material using the same
JPH05507965A (en) Method and apparatus for coating substrate materials
KR101639630B1 (en) A vacuum arc deposition device comprising plasma duct
KR20070042086A (en) Arc ion plating apparatus
WO2015134108A1 (en) Ion beam sputter deposition assembly, sputtering system, and sputter method of physical vapor deposition
US20150247233A1 (en) Film deposition device
KR101193072B1 (en) Holder airknife for device plating ion arc
RU2014142802A (en) Plate coating machine for metallographic printing
JP6896691B2 (en) Low temperature arc discharge ion plating coating
RU2007139182A (en) METHOD FOR PRODUCING CARBON NANOMATERIAL CONTAINING METAL
KR100981603B1 (en) Apparatus plating ion arc
JP2008280579A (en) Electron-beam sputtering device
KR101376837B1 (en) Arc ion plating apparatus
US20230304140A1 (en) Film-forming device, film-forming unit, and film-forming method
KR101616855B1 (en) A vacuum arc deposition device comprising plasma duct
CN102017055B (en) Method for manufacturing workpieces with ion-etched surface
KR101105842B1 (en) Magnetron sputtering apparatus for toroidal target
KR101800202B1 (en) plasma deposition apparatus
JP2013136832A (en) Sputter gun and deposition apparatus using the same
RU2423754C2 (en) Method and device to manufacture cleaned substrates or pure substrates exposed to additional treatment
KR100727646B1 (en) Magnetic induction device for metal target of ion plating apparatus
KR20130045062A (en) Sputtering apparatus
JPH04346655A (en) Method and device for forming compound thin film
KR200232050Y1 (en) Multi-layer Arc Source Ion Plating Equipment

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171016

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181015

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20191015

Year of fee payment: 8