KR100980024B1 - Panel supporting apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은, 챔버 내에 마련되어 상기 챔버 내로 이송된 유리기판을 지지하기 위한 기판지지장치에 있어서, 상기 유리기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대의 가장자리에 출입가능하게 마련되어 상기 유리기판을 승강시키는 복수의 핀을 갖는 지지부와; 상기 핀에 의해 상승된 상기 유리기판과 상기 지지대 사이로 이동하여 상기 유리기판을 상승시키는 적어도 하나의 보조지지부를 포함하는 것을 특징으로 한다. 이에 의해, 유리기판의 이송을 용이하게 할 수 있다.According to an aspect of the present invention, there is provided a substrate support apparatus for supporting a glass substrate provided in a chamber, the substrate supporting apparatus comprising: a support for supporting the glass substrate, and a plurality of lifting and lowering of the glass substrate provided at an edge of the support; A support having a pin; And at least one auxiliary support moving between the glass substrate and the support lifted by the pin to lift the glass substrate. Thereby, the transfer of the glass substrate can be facilitated.
Description
도 1은 종래 기판지지장치의 단면도,1 is a cross-sectional view of a conventional substrate support apparatus,
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판지지장치가 장착된 건식식각장치의 개략적인 단면도,2 is a schematic cross-sectional view of a dry etching apparatus equipped with a substrate supporting apparatus according to a first embodiment of the present invention;
도 3은 도 2의 기판지지장치의 사시도,3 is a perspective view of the substrate supporting apparatus of FIG.
도 4 내지 도 6은 도 2의 기판지지장치의 작동 단면도,4 to 6 is an operation cross-sectional view of the substrate support device of FIG.
도 7은 본 발명의 제2실시예에 따른 기판지지장치의 보조지지대의 사시도,7 is a perspective view of an auxiliary support of a substrate supporting apparatus according to a second embodiment of the present invention;
도 8은 본 발명의 제3실시예에 따른 기판지지장치의 보조지지대의 사시도,8 is a perspective view of an auxiliary support of a substrate supporting apparatus according to a third embodiment of the present invention;
도 9는 본 발명의 제4실시예에 따른 기판지지장치의 보조지지대의 사시도이다.9 is a perspective view of the auxiliary support of the substrate support apparatus according to the fourth embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1 : 건식식각장치 3 : 챔버1: dry etching device 3: chamber
4 : 기판출입부 5 : 상부전극4
7 : 유리기판 10 : 기판지지장치7
11 : 지지부 13 : 지지대11: support 13: support
14 : 핀수용부 15 : 핀구동부14: pin receiving portion 15: pin driving portion
16 : 핀 18 : 하부전극
16
21 : 보조지지부 23 : 보조지지대21: auxiliary support 23: auxiliary support
25 : 이송부 26 : 슬롯25
27 : 연결부재 28 : 경사부27: connecting member 28: inclined portion
29 : 롤러 30 : 로봇암29
본 발명은 기판지지장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 챔버 내로 이송된 유리기판의 지지구조를 개선한 기판지지장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE
일반적으로, 기판지지장치는 반도체 웨이퍼(Wafer)의 제조공정이나 액정표시패널의 TFT(Thin Film Transistor)기판과 같은 유리기판의 제조공정에 마련된 챔버 내에 장착되며, 챔버 내로 이송되는 웨이퍼나 유리기판을 지지하기 위한 장치이다. 그리고, 이러한 챔버는 그 내부로 공급되는 가스를 플라즈마방전 등을 이용하여 분리시켜 웨이퍼나 유리기판과 같은 기판에 증착시키거나 기판을 식각시킨다.In general, a substrate supporting apparatus is mounted in a chamber provided in a manufacturing process of a semiconductor wafer or a manufacturing process of a glass substrate, such as a thin film transistor (TFT) substrate of a liquid crystal display panel, and includes a wafer or a glass substrate transferred into the chamber. It is a device for supporting. In addition, such a chamber separates the gas supplied therein using plasma discharge or the like and deposits the gas on a substrate such as a wafer or a glass substrate or etches the substrate.
이하 명세서에서는, 일예로 액정표시장치에 사용되는 TFT기판과 같은 유리기판을 식각시키기 위한 건식식각장치에 마련된 기판지지장치에 대하여 설명하도록 하겠다.In the following description, a substrate supporting apparatus provided in a dry etching apparatus for etching a glass substrate such as a TFT substrate used in a liquid crystal display device will be described as an example.
식각장치는 유리기판 상에 증착된 박막의 소정부위를 제거하여 박막을 원하는 패턴으로 가공하는 기술로써, 플라즈마를 이용하는 건식식각장치와, 식각액을 이용하는 습식식각장치가 있다. The etching apparatus is a technology for processing a thin film into a desired pattern by removing a predetermined portion of the thin film deposited on a glass substrate, and includes an etching apparatus using a plasma and a wet etching apparatus using an etching solution.
건식식각장치는 건식식각공정을 수행하기 위한 챔버와, 챔버 내의 상측 및 하측에 상호 이격되어 마련된 상부전극 및 하부전극과, 챔버 내로 이송된 유리기판을 지지하는 기판지지장치를 포함한다.The dry etching apparatus includes a chamber for performing a dry etching process, an upper electrode and a lower electrode spaced apart from each other at upper and lower sides of the chamber, and a substrate support apparatus supporting a glass substrate transferred into the chamber.
도 1은 종래 기판지지장치의 개략적인 단면도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 종래의 기판지지장치(110)는 유리기판(107)을 지지하는 지지대(113)와, 지지대(113)의 가장자리에 출입가능하게 마련되어 유리기판(107)을 승강시키는 복수의 핀(116)으로 구성된다.1 is a schematic cross-sectional view of a conventional substrate supporting apparatus. As shown in this figure, the conventional
지지대(113)의 상부면은 챔버(미도시) 내로 이송되는 유리기판(107)의 하부를 지지할 수 있도록 평편하게 마련된다. 그리고, 지지대(113)의 가장자리에는 상하방향으로 함몰 형성된 복수의 핀수용부(114)가 형성되며, 지지대(113)의 중앙영역에는 하부전극(118)이 마련된다.The upper surface of the
핀(116)은 지지대(113)의 핀수용부(114)에 출입가능하게 수용된다.The
이에, 식각이 완료된 유리기판(107)을 챔버(미도시) 외부로 이송하기 위해, 복수의 핀(116)이 상승하여 유리기판()을 들어올린다. 그러면, 챔버(미도시)의 외부에서 내부로 이송되는 로봇암(미도시)이 지지대(113)와 유리기판(107)사이로 삽입되어 유리기판(107)을 들어올려 챔버(미도시) 외부로 이송시키게 된다.Thus, in order to transfer the
그리고, 최근에 액정표시장치가 대형화되면서, 이러한 대형 액정표시장치에 장착되는 유리기판 역시 대형화되어야만 한다.In recent years, as the liquid crystal display device is enlarged, the glass substrate mounted on the large liquid crystal display device must also be enlarged.
그러나, 이러한 종래의 기판지지장치(110)는 지지대(113)의 가장자리에 출입가능하게 복수의 핀(116)이 마련되므로 대형화된 유리기판(107)을 상승시킬 경우, 유리기판(107)의 중앙영역에 처짐현상이 발생되며, 이런 경우 로봇암(미도시)을 유리기판(107)과 지지대(113) 사이로 이동시키게 되면 유리기판(107)의 처진영역과 부딪혀 유리기판(107)이 손상될 수도 있으므로 유리기판(107)의 이송이 용이하지 못한 문제점이 있다.However, such a conventional
따라서 본 발명의 목적은, 유리기판의 이송을 용이하게 할 수 있는 기판지지장치를 제공하는 것이다.It is therefore an object of the present invention to provide a substrate support apparatus which can facilitate the transfer of a glass substrate.
상기 목적은, 본 발명에 따라, 챔버 내에 마련되어 상기 챔버 내로 이송된 유리기판을 지지하기 위한 기판지지장치에 있어서, 상기 유리기판을 지지하는 지지대와, 상기 지지대의 가장자리에 출입가능하게 마련되어 상기 유리기판을 승강시키는 복수의 핀을 갖는 지지부와; 상기 핀에 의해 상승된 상기 유리기판과 상기 지지대 사이로 이동하여 상기 유리기판을 상승시키는 적어도 하나의 보조지지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판지지장치에 의해 달성된다.The object of the present invention is a substrate supporting apparatus for supporting a glass substrate provided in a chamber and transported into the chamber, comprising: a support for supporting the glass substrate, and a glass substrate provided to be accessible to an edge of the support; A support having a plurality of pins for elevating; It is achieved by a substrate support device comprising at least one auxiliary support for moving the glass substrate and the support raised by the pin to raise the glass substrate.
여기서, 상기 보조지지부는 상기 지지부를 사이에 두고 상호 대향되게 한 쌍으로 마련되는 것이 바람직하다.Here, the auxiliary support is preferably provided in pairs to face each other with the support therebetween.
상기 보조지지부는, 상기 핀에 의해 상승된 유리기판과 지지대 사이로 이송된 후 상승되어 상기 유리기판의 하측과 접촉하는 적어도 하나의 보조지지대와; 상기 보조지지대를 이송하기 위한 이송부와; 상기 보조지지대 및 상기 이송부를 연결하는 연결부재를 포함하는 것이 바람직하다. The auxiliary support may include at least one auxiliary support which is moved between the glass substrate and the support raised by the pin and then lifted to contact the lower side of the glass substrate; A transfer unit for transferring the auxiliary support; It is preferable to include a connecting member for connecting the auxiliary support and the transfer unit.
상기 보조지지대의 상부면은 상기 유리기판방향으로 하향 경사지게 형성되는 것이 바람직하다.The upper surface of the auxiliary support is preferably formed to be inclined downward in the glass substrate direction.
상기 보조지지대의 상부면에는 상기 유리기판방향으로 이동될 때 상기 유리기판과 구름접촉하는 적어도 하나의 롤러가 마련되는 것이 바람직하다.It is preferable that at least one roller is provided on the upper surface of the auxiliary support in contact with the glass substrate when moved in the glass substrate direction.
상기 지지대의 중앙영역에 전극이 마련되는 것이 바람직하다.It is preferable that an electrode is provided in the center region of the support.
이하 본 발명에서는, 일예로 액정표시장치에 사용되는 TFT기판과 같은 유리기판을 식각시키기 위한 건식식각장치에 마련된 기판지지장치에 대하여 설명하도록 하겠다.Hereinafter, the substrate support apparatus provided in the dry etching apparatus for etching a glass substrate, such as a TFT substrate used in the liquid crystal display device as an example.
설명에 앞서, 여러 실시예에 있어서, 동일한 구성을 가지는 구성요소에 대해서는 동일한 부호를 사용하여 대표적으로 제1실시예에서 설명하고, 그 외의 실시예에서는 제1실시예와 다른 구성에 대해서만 설명하기로 하다.Prior to the description, in various embodiments, components having the same configuration will be representatively described in the first embodiment using the same reference numerals, and in other embodiments, only the configuration different from the first embodiment will be described. Do.
이하에서는, 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 기판지지장치(10)가 마련된 건식식각장치(1)의 개략적인 단면도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 건식식각장치(1)는 식각공정을 수행하기 위한 챔버(3)와, 챔버(3) 내의 상측 및 하측에 플라즈마를 형성하기 위해 상호 이격되게 마련된 상부전극(5) 및 하부전극(18)과, 챔버(3) 내로 이송된 유리기판(7)을 지지하는 기판지지장치(10)와, 챔버(3)의 외부와 챔버(3)의 내부 간을 이동가능하게 마련되어 유리기판(7)을 이송하는 한 쌍의 로봇암(30)을 포함한다.2 is a schematic cross-sectional view of a
챔버(3)에는 로봇암(30)에 의해 이송되는 유리기판(7)이 출입가능하게 개방 되며, 식각공정이 수행되는 동안에 폐쇄되는 기판출입부(4)가 마련된다.The
도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판지지장치(10)는 챔버(3) 내로 이송된 유리기판(7)을 지지하는 지지부(11)와, 유리기판(7)을 챔버(3)의 외부로 이송시키도록 유리기판(7)을 상승시키는 보조지지부(21)를 포함한다.As shown in FIG. 3, the
지지부(11)는 유리기판(7)을 지지하는 지지대(13)와, 지지대(13)의 가장자리에 출입가능하게 마련되어 유리기판(7)을 승강시키는 복수의 핀(16)을 갖는다.The
지지대(13)는 그 상부면이 챔버(3) 내로 이송되는 유리기판(7)의 하부를 지지할 수 있도록 평편하게 마련된다. 그리고, 지지대(13)의 가장자리에는 상하방향으로 함몰 형성된 복수의 핀수용부(14)가 형성되며, 지지대(13)의 중앙영역에는 전술한 하부전극(18)이 마련된다.The
핀(16)은 지지대(13)의 핀수용부(14)에 출입가능하게 수용되며, 그 하측에는 지지대(13)와 결합되어 핀(16)을 승강시키는 핀구동부(15)가 마련된다. 그리고, 핀(16)은 핀수용부(14)로부터 소정 높이 상승하여 식각공정이 완료된 유리기판(7)을 들어올리는 역할을 한다.The
보조지지부(21)는 핀(16)에 의해 상승된 유리기판(7)과 지지대(13) 사이로 이동하여 유리기판(7)을 상승시킨다. 그리고, 보조지지부(21)는 지지부(11)를 사이에 두고 상호 대향되게 한 쌍으로 마련되는 것이 바람직하나, 하나로 마련될 수도 있으며, 셋 이상이 마련될 수도 있음은 물론이다. 그리고, 보조지지부(21)는 핀(16)에 의해 상승된 유리기판(7)과 지지대(13) 사이로 이송된 후 다시 상승되어 유리기판(7)의 하측과 접촉하도록 마련된 보조지지대(23)와, 보조지지대(23)를 이송하기 위한 이송부(25)와, 보조지지대(23) 및 이송부(25)를 연결하는 연결부재(27)를 포함한다.The
보조지지대(23)는 소정의 면적을 갖는 단일의 판 형상으로 마련되며, 일측이 연결부재(27)의 상측과 일체로 결합된다.
이송부(25)는 연결부재(27)의 하측과 결합되며, 보조지지대(23)가 유리기판(7)의 하측으로 삽입가능하게 유리기판(7)의 판면방향 즉, 좌우방향으로 이동가능하도록 연결부재(27)를 이송시킨다. 그리고, 이송부(25)는 그 상측에 연결부재(27)가 좌우방향으로 이동가능하게 마련된 슬롯(26)을 가지며, 유리기판(7)의 하측으로 삽입된 보조지지대(23)가 유리기판(7)의 하측과 접촉하여 유리기판(7)을 소정 높이 상승시키도록 연결부재(27)를 승강시킨다. 또한, 이송부(25)는 연결부재(27)를 좌우 및 상하방향으로 이송시키기 위해 연결부재(27)의 이송을 안내하는 이송가이드(미도시)와 이송가이드(미도시)를 좌우 및 상하방향으로 이송시키는 구동모터(미도시)를 포함하는 것이 바람직하다. 그러나, 이송부(25)는 연결부재(27)를 좌우 및 상하방향으로 이송시키기 위해 랙 및 피니언과 같은 기어장치(미도시)와 기어장치를 구동하는 구동수단(미도시)을 포함할 수도 있음은 물론이다.The
연결부재(27)는 상측이 보조지지대(23)와 결합되며, 하측이 이송부(25)와 결합되어 보조지지대(23)를 지지하는 역할을 한다. 그리고, 연결부재(27)는 긴 막대형상이며, 그 중간영역이 "ㄱ"자 형상으로 절곡되는 것이 바람직하다.
The
이러한 구성에 의해, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판지지장치(10)의 작동과정을 살펴보면 다음과 같다.With this configuration, the operation of the
우선, 로봇암(30)에 의해 챔버(3) 외부에서 위치한 유리기판(7)이 챔버(3) 내의 지지대(13) 상측으로 이송된다(도 2참조). 이때, 복수의 핀(16)은 지지대(13)의 핀수용부(14)에 삽입된 상태로 위치한다. 그런 후, 챔버(3) 내에서 식각공정을 수용하여 유리기판(7)을 식각시킨다.First, the
그리고, 식각공정이 완료된 유리기판(7)의 가장자리를 복수의 핀(16)이 핀수용부(14)로부터 상승하여 들어올린다(도 4참조). 이때, 핀(16)에 의해 지지되지 않는 유리기판(7)의 영역에는 처짐현상이 발생하게 되며, 이러한 처짐현상은 유리기판(7)이 대형화될수록 더 심해진다.Then, the plurality of
그런 후, 이송부(25)에 의해 보조지지대(23)가 유리기판(7)과 지지대(13)사이로 이송된다(도 5참조). 그리고, 이송부(25)에 의해 보조지지대(23)가 상승하여 유리기판(7)과 접촉하면서 유리기판(7)을 들어올려 로봇암(30)이 삽입될 수 있는 공간을 형성시킨다(도 6참조). 그러면, 로봇암(30)이 유리기판(7)과 지지대(13) 사이로 이동하여 유리기판(7)을 들어올린 후 챔버(3) 외부로 이동하게 된다.Then, the
이에, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판지지장치(10)는 보조지지부(21)를 마련하여 로봇암(30)이 유리기판(7)을 용이하게 이송할 수 있다. 특히, 대형 유리기판(7)의 경우에는 핀(16)에 의한 상승된 유리기판(7)의 처짐이 심하게 발생되므로, 본 발명에 따른 보조지지부(21)에 의해 더욱 효과적으로 유리기판(7)을 이송시킬 수 있다.
Accordingly, the
도 7은 본 발명의 제2실시예에 따른 기판지지장치(10)의 보조지지대(23a)의 사시도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 제2실시예의 보조지지부(21)에 마련된 보조지지대(23a)가 한 쌍으로 마련되어 연결부재(27)에 결합되는 것이 제1실시예와의 차이점이다.7 is a perspective view of the
그리고, 이러한 보조지지대(23a)가 셋 이상이 마련되어 연결부재(27)에 결합될 수도 있음은 물론이다.And, the
이에, 제2실시예에 따른 기판지지장치(10)도 역시 본 발명의 목적을 달성할 수 있을 뿐만 아니라, 보조지지대(23a)가 유리기판(7)을 상승시킬 때, 보조지지대(23a)가 한 쌍의 마련되므로 제1실시예보다 더욱 안전하게 유리기판(7)을 지지할 수 있게 된다.Thus, the
도 8은 본 발명의 제3실시예에 따른 기판지지장치(10)의 보조지지대(23b)의 사시도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 제3실시예의 보조지지부(21)에 마련된 보조지지대(23b)가 그 상측에 유리기판(7)방향으로 하향 경사지게 마련된 경사부(28)를 갖는 것이 제1 및 제2실시예와의 차이점이다.8 is a perspective view of the
그리고, 이러한 경사부(28)를 갖는 보조지지대(23b)가 제2실시예와 같이, 한 쌍으로 마련될 수도 있으며, 셋 이상이 마련될 수도 있음은 물론이다.In addition, the
이에, 제3실시예에 따른 기판지지장치(10)도 역시 본 발명의 목적을 달성할 수 있을 뿐만 아니라, 보조지지대(23b)가 유리기판(7)과 지지대(13) 사이로 삽입될 때 보조지지대(23b)의 상측에 경사부(28)가 마련되어 유리기판(7)과의 접촉면을 더 넓게 할 수 있으므로 제1 및 제2실시예보다 더욱 안전하게 유리기판(7)을 지지할 수 있게 된다.Thus, the
도 9는 본 발명의 제4실시예에 따른 기판지지장치(10)의 보조지지대(23c)의 사시도이다. 이 도면에 도시된 바와 같이, 제4실시예의 보조지지부(21)에 마련된 보조지지대(23c)는 그 상측에 마련되어 유리기판(7)방향으로 이동될 때 유리기판(7)과 구름접촉하는 롤러(29)를 갖는 것이 제1 내지 제3실시예와의 차이점이다.9 is a perspective view of the auxiliary support 23c of the
롤러(29)는 한 쌍으로 마련되는 것이 바람직하나, 하나 또는 셋 이상이 마련될 수도 있음은 물론이다. 그리고, 롤러(29)는 제3실시예의 보조지지대(23b)의 상측에 형성된 경사부(28)에 마련되는 것이 바람직하나, 제1 또는 제2실시예의 보조지지대(23,23a)의 상측에 마련될 수도 있음은 물론이다.The
이에, 제4실시예에 따른 기판지지장치(10)도 역시 본 발명의 목적을 달성할 수 있을 뿐만 아니라, 보조지지대(23c)가 유리기판(7)과 지지대(13) 사이로 삽입될 때 보조지지대(23c)의 상측에 롤러(29)가 마련되어 유리기판(7)의 하측과 구름접촉하므로 제1 내지 제3실시예보다 더욱 안전하게 유리기판(7)을 지지할 수 있게 된다.Thus, the
이와 같이, 본 발명에 따른 기판지지장치는 유리기판을 지지하는 지지대와 지지대의 가장자리에 출입가능하게 마련되어 유리기판을 승강시키는 복수의 핀을 갖는 지지부와, 핀에 의해 상승된 유리기판과 지지대 사이로 이동하여 유리기판을 상승시키는 적어도 하나의 보조지지부를 포함하여, 유리기판의 이송을 용이하게 할 수 있다.As described above, the substrate supporting apparatus according to the present invention includes a support having a support for supporting a glass substrate and a support portion having a plurality of pins provided to be accessible to the edge of the support and lifting the glass substrate, and moving between the glass substrate and the support lifted by the pin. By including at least one auxiliary support for raising the glass substrate, it is possible to facilitate the transfer of the glass substrate.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 유리기판의 이송을 용이하게 할 수 있다.As described above, according to the present invention, it is possible to facilitate the transfer of the glass substrate.
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