KR100975927B1 - Method of manufacturing package board - Google Patents

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Abstract

본 발명은 패키지 기판 제조방법에 관한 것으로서, 코어층의 양면에 적층되는 층의 갯수가 서로 다른 비대칭 기판을 제작하여, 기판의 신호 전달 속도를 증가시키고, 제조 원가를 감소시킬 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a method for manufacturing a package substrate, by producing an asymmetric substrate having a different number of layers stacked on both sides of the core layer, thereby increasing the signal transmission speed of the substrate and reducing the manufacturing cost.

이를 위한 본 발명에 의한 패키지 기판 제조방법은, 코어층을 준비하는 단계와, 상기 코어층의 일면에 블록 필름(block film)을 적층하는 단계와, 상기 코어층의 상기 블록 필름이 적층되지 않은 면에 제1 절연층 및 제1 도금층을 적층하는 단계와, 상기 블록 필름을 제거하는 단계 및 상기 코어층의 양면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계를 포함할 수 있다.The method for manufacturing a package substrate according to the present invention includes preparing a core layer, stacking a block film on one surface of the core layer, and a surface on which the block film of the core layer is not laminated. And laminating a first insulating layer and a first plating layer on the substrate, removing the block film, and laminating a second insulating layer and a second plating layer on both surfaces of the core layer.

동박적층판, 블록 필름, 빌드업(build-up), 비대칭 Copper Clad Laminate, Block Film, Build-up, Asymmetric

Description

패키지 기판 제조방법{Method of manufacturing package board}Package board manufacturing method {Method of manufacturing package board}

본 발명은 패키지 기판 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 코어층의 일면에 블록 필름(block film)을 형성하여, 상기 코어층의 양면에 빌드업(build-up)되는 층의 갯수를 서로 다르게 한 패키지 기판 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a package substrate, and more particularly, a block film is formed on one surface of a core layer, and the number of layers to be built up on both surfaces of the core layer is different from each other. Another method relates to a package substrate manufacturing method.

전자제품이 소형화, 박판화, 고밀도화, 패키지(package)화 및 개인 휴대화로 경박 단소화되는 추세에 따라 다층 인쇄회로기판 역시 미세 패턴(fine pattern)화, 소형화 및 패키지화가 동시에 진행되고 있다. 이에 다층 인쇄회로기판의 미세 패턴 형성, 신뢰성 및 설계 밀도를 높이기 위해 원자재의 변경과 함께 회로의 층구성을 복합화하는 구조로 변화하는 추세이고, 부품 역시 DIP(Dual In-Line Package) 타입에서 SMT(Surface Mount Technology) 타입으로 변경되면서 그 실장 밀도 역시 높아지고 있는 추세이다. 또한 전자기기의 휴대화와 더불어 고기능화, 인터넷, 동영상, 고용량의 데이터 송수신 등으로 인쇄회로기판의 설계가 복잡해지고 고난이도 의 기술을 요하게 된다.As electronic products are miniaturized in size, thickness, density, package, and personal portability, multilayer printed circuit boards are also undergoing fine patterns, miniaturization, and packaging simultaneously. Accordingly, in order to increase the fine pattern formation, reliability, and design density of multilayer printed circuit boards, there is a tendency to change to a structure that combines the layer structure of the circuit with the change of raw materials, and the parts also have SMT (Dual In-Line Package) type. As the surface mount technology type is changed, the mounting density is also increasing. In addition to the portableization of electronic devices, high functionalization, the Internet, moving pictures, and high-capacity data transmission and complexity make the design of printed circuit boards complicated and require high-level technology.

패키지에 사용되는 인쇄회로기판에는 절연기판의 한쪽 면에만 배선을 형성한 단면 인쇄회로기판, 양쪽 면에 배선을 형성한 양면 인쇄회로기판 및 다층으로 배선한 다층 인쇄회로기판(Multi Layered Board; MLB)가 있다. 과거에는 부품 소자들이 단순하고 회로 패턴도 간단하여 단면 인쇄회로기판을 사용하였으나, 최근에는 회로의 고밀도 및 소형화에 대한 요구가 증가하여 대부분 양면 인쇄회로기판 또는 다층 인쇄회로기판을 사용하는 것이 일반적이다.The printed circuit board used in the package includes a single-sided printed circuit board with wiring formed only on one side of the insulated substrate, a double-sided printed circuit board with wiring formed on both sides, and a multi-layered printed circuit board (MLB). There is. In the past, single-sided printed circuit boards were used because component elements were simple and circuit patterns were simple. However, in recent years, the demand for high density and miniaturization of circuits has increased, and it is common to use double-sided printed circuit boards or multilayer printed circuit boards.

다층 인쇄회로기판은 배선 영역을 확대하기 위해 배선이 가능한 층을 추가로 형성한 것이다. 구체적으로, 다층 인쇄회로기판은 내층과 외층으로 구분되며 내층의 재료로서 박판 코어(core)를 사용하고, 외층과 내층을 프리프레그(prepreg)로 접착하고, 각 층의 배선은 비아홀(via hole)을 이용하여 연결한다.Multilayer printed circuit boards are formed by additional wiring layers in order to enlarge the wiring area. Specifically, a multilayer printed circuit board is divided into an inner layer and an outer layer, and a thin plate core is used as the inner layer material, and the outer layer and the inner layer are bonded by prepreg, and the wiring of each layer is a via hole. Use to connect.

상술한 바와 같은 다층 인쇄회로기판은 빌드업(build-up) 방식으로 제조될 수 있다. 여기서, 빌드업 방식이란 회로패턴이 형성되는 내층을 형성하고, 그 위에 추가적으로 외층들을 한층씩 쌓아나가는 방식의 제조 방법을 말한다.The multilayer printed circuit board as described above may be manufactured by a build-up method. Here, the build-up method refers to a manufacturing method of forming an inner layer on which a circuit pattern is formed, and additionally stacking outer layers one by one.

즉, 코어층인 동박적층판(Copper Clad Lamination; CCL)의 양면에 층간 절연을 위한 절연층을 동시에 적층하고 비아, 회로 및 도금 작업을 반복하여 패키지 기판을 형성한다.That is, an insulating layer for interlayer insulation is simultaneously stacked on both surfaces of a copper clad laminate (CCL), which is a core layer, and a package substrate is formed by repeating vias, circuits, and plating operations.

이러한 종래의 패키지 기판은 코어층의 양면에 빌드업되는 층의 갯수가 동일한 대칭적인 구조를 갖게 된다.Such a conventional package substrate has a symmetrical structure in which the number of layers built up on both sides of the core layer is the same.

그러나, 종래의 패키지 기판은 코어층의 양면에 동일한 갯수의 빌드업층을 형성하는 것으로 인하여, 필연적으로 기판의 전체 두께가 두꺼워지기 때문에 고속화 및 소형화의 추세에 대처하기에 한계가 있으며, 다층화에 따른 제조 원가 상승의 문제점이 있었다.However, the conventional package substrate has a limitation in coping with the trend of high speed and miniaturization because the entire thickness of the substrate is inevitably increased by forming the same number of buildup layers on both sides of the core layer. There was a problem of cost increase.

따라서, 최근에는 신호 전달의 고속화와 원가 절감을 위하여, 코어층의 양면에 빌드업되는 층의 갯수가 다른 비대칭 형태의 기판 제작에 대한 연구가 이루어지고 있는 추세이다.Therefore, in recent years, in order to speed up signal transmission and reduce costs, research on fabrication of asymmetric substrates having different numbers of layers built up on both sides of the core layer has been made.

따라서, 본 발명은 상기 문제점을 해결하기 위하여 이루어진 것으로서, 본 발명의 목적은, 코어층의 일면에 블록 필름(block film)을 형성하여, 상기 코어층의 양면에 빌드업(build-up)되는 층의 갯수가 서로 다른 비대칭 기판을 제작하여, 기판의 신호 전달 속도를 증가시키고, 제조 원가를 절감시킬 수 있는 패키지 기판 제조방법을 제공하는데 있다.Therefore, the present invention has been made to solve the above problems, an object of the present invention is to form a block film (block film) on one surface of the core layer, the layer being built up (build-up) on both sides of the core layer The present invention provides a method for manufacturing a package substrate that can fabricate asymmetric substrates having different numbers, increase signal transmission speed of the substrate, and reduce manufacturing costs.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 의한 패키지 기판 제조방법은, 코어층을 준비하는 단계; 상기 코어층의 일면에 블록 필름(block film)을 적층하는 단계; 상기 코어층의 상기 블록 필름이 적층되지 않은 면에 제1 절연층 및 제1 도금층을 적층하는 단계; 상기 블록 필름을 제거하는 단계; 및 상기 코어층의 양면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계;를 포함할 수 있다.Package substrate manufacturing method according to an embodiment of the present invention for achieving the above object comprises the steps of preparing a core layer; Stacking a block film on one surface of the core layer; Stacking a first insulating layer and a first plating layer on a surface on which the block film of the core layer is not laminated; Removing the block film; And laminating a second insulating layer and a second plating layer on both surfaces of the core layer.

여기서, 상기 코어층의 상기 블록 필름이 적층되지 않은 면에 제1 절연층 및 제1 도금층을 적층하는 단계에서, 상기 제1 절연층 및 상기 제1 도금층을 차례로 1회 이상 반복하여 적층할 수 있다.Here, in the step of laminating the first insulating layer and the first plating layer on the surface on which the block film of the core layer is not laminated, the first insulating layer and the first plating layer may be repeatedly stacked one or more times in sequence. .

또한, 상기 코어층의 양면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계에서, 상기 제2 절연층 및 상기 제2 도금층을 차례로 1회 이상 반복하여 적층할 수 있다.In addition, in the stacking of the second insulating layer and the second plating layer on both surfaces of the core layer, the second insulating layer and the second plating layer may be repeatedly stacked one or more times in sequence.

또한, 상기 코어층을 준비하는 단계는, 절연층의 양면에 동박이 적층된 동박적층판에 비아홀을 형성하는 단계; 상기 비아홀을 포함한 상기 동박적층판의 표면에 도금층을 형성하는 단계; 및 상기 비아홀에 페이스트를 충진하는 단계;를 포함할 수 있다.In addition, the preparing of the core layer may include forming a via hole in a copper foil laminated plate in which copper foils are laminated on both surfaces of the insulating layer; Forming a plating layer on a surface of the copper-clad laminate including the via hole; And filling paste into the via hole.

또한, 상기 페이스트는 절연성 페이스트 또는 전도성 페이스트를 이용할 수 있다.In addition, the paste may use an insulating paste or a conductive paste.

또한, 상기 제1 절연층 및 상기 제2 절연층은 ABF 또는 프리프레그로 이루어질 수 있다.In addition, the first insulating layer and the second insulating layer may be made of ABF or prepreg.

또한, 상기 코어층의 양면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계 이후에, 상기 제2 도금층 상에 솔더레지스트층을 형성하는 단계; 상기 솔더레지스트층의 일부분을 제거하여, 상기 제2 도금층을 노출시키는 단계; 및 상기 노출된 제2 도금층과 접속되는 범프를 형성하는 단계;를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming a solder resist layer on the second plating layer after laminating a second insulating layer and a second plating layer on both surfaces of the core layer; Removing a portion of the solder resist layer to expose the second plating layer; And forming a bump connected to the exposed second plating layer.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따른 패키지 기판 제조방법에 의하면, 코어층의 일면에 블록 필름(block film)을 형성하고, 상기 블록 필름이 형성되지 않은 상기 코어층의 다른 일면에만 빌드업을 진행한 후, 상기 블록 필름을 제거하고 나서 다시 상기 코어층의 양면에 빌드업을 진행함으로써, 상기 코어층의 양면에 빌드업(build-up)되는 층의 갯수가 서로 다른 비대칭형의 패키지 기판을 제작할 수 있다.As described above, according to the method of manufacturing a package substrate according to the present invention, a block film is formed on one surface of a core layer, and build-up is performed only on the other surface of the core layer on which the block film is not formed. After the block film is removed, build-up is performed on both sides of the core layer again, thereby producing an asymmetric package substrate having a different number of layers to be built up on both sides of the core layer. Can be.

따라서, 본 발명은 기존의 코어층의 양면에 빌드업되는 층의 갯수가 동일한 대칭형의 패키지 기판에 비해, 기판 전체의 층수를 줄일 수 있으므로 기판의 신호 전달 속도를 증가시키고, 제조 원가를 절감시킬 수 있는 효과가 있다.Therefore, the present invention can reduce the number of layers of the entire substrate compared to the symmetrical package substrate having the same number of layers built up on both sides of the existing core layer, thereby increasing the signal transmission speed of the substrate and reducing the manufacturing cost. It has an effect.

또한, 본 발명은 코어층의 양면에 빌드업되는 층의 갯수 차이 또한 자유자재로 조절이 가능하여, 기판의 설계 자유도가 증가되는 장점이 있다.In addition, the present invention has the advantage that the difference in the number of layers to be built up on both sides of the core layer can also be adjusted freely, the design freedom of the substrate is increased.

본 발명에 따른 패키지 기판 제조방법의 상기 목적에 대한 기술적 구성을 비롯한 작용효과에 관한 사항은 본 발명의 바람직한 실시예가 도시된 도면을 참조한 아래의 상세한 설명에 의해서 명확하게 이해될 것이다.Matters relating to the operational effects including the technical configuration for the above object of the method for manufacturing a package substrate according to the present invention will be clearly understood by the following detailed description with reference to the drawings in which preferred embodiments of the present invention are shown.

이하, 도 1 내지 도 9를 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 패키지 기판 제조방법에 대하여 상세히 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a package substrate according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 9.

도 1 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 패키지 기판 제조방법을 설명하기 위해 순차적으로 나타낸 공정 단면도이다.1 to 9 are cross-sectional views sequentially showing the method for manufacturing a package substrate according to an embodiment of the present invention.

본 발명의 실시예에 따른 패키지 기판 제조방법은, 우선 도 1에 도시된 바와 같이, 절연층(101)의 양면에 동박(102)이 적층된 동박적층판(Copper Clad Lamination; CCL)을 제공한다.The method of manufacturing a package substrate according to an embodiment of the present invention, as shown in FIG. 1, first provides a copper clad laminate (CCL) in which copper foil 102 is laminated on both surfaces of an insulating layer 101.

상기 동박적층판은, 일반적으로 인쇄회로기판이 제조되는 원판으로 절연층(101)에 동막(102)를 입힌 적층판으로서, 그 용도에 따라 유리/에폭시 동박적층 판, 내열수지 동박적층판, 종이/페놀 동박적층판, 고주파용 동박적층판, 플렉시블 동박적층판(폴리이미드 필름) 및 복합 동박적층판 등 여러 가지가 있으나, 양면 인쇄회로기판 및 다층 인쇄회로기판의 제작에는 주로 유리/에폭시 동박적층판이 사용된다.The copper clad laminated board is a laminated board in which a copper film 102 is coated on an insulating layer 101, which is generally a printed circuit board, and is made of glass / epoxy copper clad laminate, heat-resistant resin copper clad laminate, and paper / phenolic copper foil according to its use. There are various kinds of laminates, copper foil laminates for high frequency, flexible copper laminates (polyimide films), and composite copper foil laminates, but glass / epoxy copper laminates are mainly used in the production of double-sided printed circuit boards and multilayer printed circuit boards.

상기 유리/에폭시 동박적층판은 유리 섬유에 에폭시 수지(Epoxy Resin)을 침투시킨 보강기재와 동박으로 만들어진다. 유리/에폭시 동박적층판은 보강기재에 따라 구분되는데, 일반적으로 FR-1 내지 FR-5와 같이 NEMA(National Electrical Manufacturers Association: 국제전기공업협회)에서 정한 규격에 의해 보강기재와 내열성에 따른 등급이 정해져 있다. 이들 등급 중에서, FR-4가 가장 많이 사용되고 있으나, 최근에는 수지의 유리전이 온도(Tg) 특성 등을 향상시킨 FR-5의 수요도 증가하고 있다.The glass / epoxy copper clad laminate is made of a reinforcing base material and copper foil in which an epoxy resin is infiltrated into the glass fiber. Glass / epoxy copper clad laminates are classified according to reinforcement materials. Generally, grades according to reinforcement materials and heat resistance are determined by standards set by the National Electrical Manufacturers Association (NEMA) such as FR-1 to FR-5. have. Among these grades, FR-4 is most commonly used, but in recent years, the demand for FR-5, which has improved the glass transition temperature (Tg) characteristics of resins, has also increased.

다음으로, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 동박적층판에 층간 접속을 위한 비아홀(103)을 형성한다.Next, as shown in FIG. 2, via holes 103 for interlayer connection are formed in the copper-clad laminate.

상기 비아홀(103)은, 기계적 드릴링에 의해 형성될 수도 있고, YAG 레이저나 CO2 레이저 등에 의해 형성될 수도 있다.The via hole 103 may be formed by mechanical drilling, or may be formed by a YAG laser, a CO 2 laser, or the like.

그런 다음, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 비아홀(103)을 포함한 상기 동박적층판의 표면에 동도금층(104)을 형성한다.3, the copper plating layer 104 is formed on the surface of the copper-clad laminate including the via hole 103.

상기 동도금층(104)은, 무전해 동도금 및 전해 동도금을 순차로 수행하여 형성할 수 있다.The copper plating layer 104 may be formed by sequentially performing electroless copper plating and electrolytic copper plating.

그 다음에, 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 비아홀(103)에 페이스트(105)를 충진하여 코어층(100)의 제작을 완성한다.Next, as shown in FIG. 4, the via hole 103 is filled with the paste 105 to complete the fabrication of the core layer 100.

여기서, 상기 페이스트(105)는, 절연성의 잉크재질을 사용하는 것이 일반적이나, 인쇄회로기판의 사용 목적에 따라 도전성 페이스트도 사용될 수 있다. 이때, 상기 도전성 페이스트는 주성분이 Cu, Ag, Au, Sn 및 Pb 등의 금속을 단독 또는 합금 형식으로 유기 접착제와 함께 혼합한 것일 수 있다.In this case, the paste 105 generally uses an insulating ink material, but a conductive paste may be used according to the purpose of using the printed circuit board. In this case, the conductive paste may be a main component of the metal, such as Cu, Ag, Au, Sn and Pb mixed with an organic adhesive in the form of a single or alloy.

다음으로, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 코어층(100)의 일면에 블록 필름(block film; 200)을 적층한다. 여기서, 상기 블록 필름(200)으로서, 접착 테이프 등을 사용할 수 있다.Next, as shown in FIG. 5, a block film 200 is laminated on one surface of the core layer 100. Here, an adhesive tape or the like may be used as the block film 200.

그런 다음, 도 6에 도시된 바와 같이, 상기 코어층(100)의 상기 블록 필름(200)이 적층되지 않은 면에 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)을 차례로 적층한다.Then, as shown in FIG. 6, the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a are sequentially stacked on the surface where the block film 200 of the core layer 100 is not laminated.

한편, 도면에 도시하지는 않았지만, 상기 제1 절연층(106) 내에는 층간 접속을 위한 비아홀(도면 미도시) 및 상기 비아홀 표면의 도금층(도면 미도시) 등이 형성될 수 있다.Although not shown in the drawings, a via hole (not shown) and a plating layer (not shown) on the surface of the via hole for interlayer connection may be formed in the first insulating layer 106.

상기 제1 절연층(106)으로는 접착력 및 유동성을 갖고 추후 드릴 공정 등에 의해 가공이 가능한 절연 물질, 예컨대 아지노모토(Ajinomoto) 사의 ABF(Ajinomoto Build-up Film), 또는 프리프레그(prepreg) 등을 사용할 수 있다.As the first insulating layer 106, an insulating material that can be processed by a drill process or the like with adhesive force and fluidity, for example, Ajinomoto's ABF (Ajinomoto Build-up Film), or prepreg, etc. may be used. Can be.

상기 제1 도금층(106a)은 구리 도금층 등으로 형성할 수 있다.The first plating layer 106a may be formed of a copper plating layer or the like.

여기서, 상기 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)의 빌드업시, 도 6에 도 시된 바와 같이, 상기 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)을 순차로 1회만 적층할 수도 있으나, 이들층(106,106a)을 차례로 2회, 3회, 4회, 또는 그 이상으로 반복하여 적층할 수도 있다.Here, when building up the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a, as illustrated in FIG. 6, the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a are sequentially stacked only once. Alternatively, the layers 106 and 106a may be repeatedly stacked two times, three times, four times, or more.

이때, 상기 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)은, 상기 블록 필름(200)에 의해 상기 코어층(100)의 양면에 형성되지 않고 일면에만 형성되는 것이므로, 1회만 적층할 경우, 최종적으로 제조되는 패키지 기판은 코어층(100)을 기준으로 상,하 양면에 빌드업되는 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)의 갯수가 각각 1층만큼 차이가 나는 비대칭형 기판으로 제조될 수 있다.In this case, since the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a are not formed on both surfaces of the core layer 100 by the block film 200, they are formed only on one surface, and thus, only one time of lamination is performed. The finally manufactured package substrate is an asymmetric type in which the number of the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a, which are built up on both sides of the core layer 100, differs by one layer, respectively. It can be made into a substrate.

또한, 상기 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)이 상기 코어층(100)의 일면에 상기한 바와 같이 2회 이상 반복하여 적층될 경우에는, 최종적으로 제조되는 패키지 기판은, 상기 코어층(100)을 기준으로 상,하 양면에 빌드업되는 제1 절연층(106) 및 제1 도금층(106a)의 갯수가 각각 2층 이상 만큼씩 차이가 나게 된다.In addition, when the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a are repeatedly stacked two or more times as described above on one surface of the core layer 100, the finally produced package substrate is the The number of the first insulating layer 106 and the first plating layer 106a, which are built up on both upper and lower surfaces based on the core layer 100, may differ by two or more layers, respectively.

그리고 나서, 도 7에 도시된 바와 같이, 상기 블록 필름(200)을 제거한다.Then, as shown in FIG. 7, the block film 200 is removed.

그 다음에, 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 블록 필름(200)이 제거된 상기 코어층(100)의 양면에 제2 절연층(107) 및 제2 도금층(107a)을 차례로 적층한다.Next, as shown in FIG. 8, the second insulating layer 107 and the second plating layer 107a are sequentially stacked on both surfaces of the core layer 100 from which the block film 200 is removed.

상기 제2 절연층(107)은 상기 제1 절연층(106)과 동일하게 ABF 또는 프리프레그 등으로 형성될 수 있다. 상기 제2 도금층(107a) 또한 상기 제1 도금층(106a)과 동일한 구리 도금층 등으로 형성될 수 있다.The second insulating layer 107 may be formed of ABF or prepreg in the same manner as the first insulating layer 106. The second plating layer 107a may also be formed of the same copper plating layer as the first plating layer 106a.

이때, 상기 코어층(100)의 양면에 동시에 적층되는 상기 제2 절연층(107) 및 제2 도금층(107a) 역시, 도 8에 도시된 바와 같이 1회만 적층할 수도 있으나, 이들 층(107,107a)을 차례로 2회, 3회, 4회, 또는 그 이상으로 원하는 만큼 반복하여 적층할 수도 있다.In this case, the second insulating layer 107 and the second plating layer 107a which are simultaneously stacked on both surfaces of the core layer 100 may also be stacked only once as shown in FIG. 8, but these layers 107 and 107a may be stacked. ) May be repeated two times, three times, four times, or more times, as desired.

그런 후에, 도 9에 도시된 바와 같이, 상기 제2 도금층(107a) 상에 솔더레지스트(solder resist)층(108)을 형성한다. 상기 솔더레지스트층(108)은 상기 코어층(100)의 상하부에 모두 형성될 수 있다.Thereafter, as shown in FIG. 9, a solder resist layer 108 is formed on the second plating layer 107a. The solder resist layer 108 may be formed on both upper and lower portions of the core layer 100.

그리고 나서, 칩(chip, 도면 미도시) 등이 다이 어태치(Die Attach)될 면에 해당하는 솔더레지스트층(108)의 일부분을 제거하여 상기 제2 도금층(107a)의 일부분을 노출시킨다.Then, a portion of the solder resist layer 108 corresponding to a surface on which a chip (not shown) is to be die attached is removed to expose a portion of the second plating layer 107a.

그런 다음, 상기 노출된 제2 도금층(107a) 상에, 이와 접속되는 범프(109)를 형성한다. 이 후, 상기 범프(109) 상에는, 상술한 바와 같이 칩 등이 다이 어태치된다.Then, a bump 109 connected to the second plating layer 107a is formed. After that, a chip or the like is die-attached on the bump 109 as described above.

이와 같이 본 발명의 실시예에 따른 패키지 기판 제조방법에서는, 빌드업을 수행하기 전에, 코어층(100)의 일면에 블록 필름(200)을 형성하여, 상기 블록 필름(200)이 형성되지 않은 면에만 빌드업 층이 형성되게 한 후, 상기 블록 필름(200)을 제거하고 나서 다시 코어층(100)의 양면에 빌드업 층을 형성한다.As described above, in the method of manufacturing a package substrate according to the exemplary embodiment of the present invention, the block film 200 is formed on one surface of the core layer 100 before the build-up, and thus the block film 200 is not formed. After the buildup layer is formed only, the block film 200 is removed, and then the buildup layer is formed on both surfaces of the core layer 100 again.

따라서, 상기 코어층(100)의 양면에 빌드업(build-up)되는 층의 갯수가 서로 다른 비대칭형의 패키지 기판을 제작할 수 있다.Therefore, an asymmetrical package substrate having different numbers of layers to be built up on both surfaces of the core layer 100 may be manufactured.

이러한 비대칭형 패키지 기판은, 기존의 코어층(100)의 양면에 빌드업되는 층의 갯수가 동일한 대칭형 기판에 비해, 기판 전체의 층수를 줄일 수 있으므로 패키지 기판의 신호 전달 속도를 증가시키고, 제조 원가를 절감시킬 수 있는 효과가 있다.Such an asymmetric package substrate can reduce the number of layers of the entire substrate, compared to a symmetric substrate having the same number of layers built up on both sides of the existing core layer 100, thereby increasing the signal transmission speed of the package substrate and manufacturing cost There is an effect to reduce the.

또한, 본 실시예에 따른 패키지 기판의 제조방법에 의하면, 상기 코어층(100)의 양면에 빌드업되는 층의 갯수 차이를 자유자재로 조절이 가능하기 때문에, 기판의 설계 자유도가 증가되는 장점이 있다.In addition, according to the manufacturing method of the package substrate according to the present embodiment, since it is possible to freely control the difference in the number of layers to be built up on both sides of the core layer 100, there is an advantage that the design freedom of the substrate is increased have.

한편, 본 발명의 실시예에 따라 제조되는 패키지 기판은, 플립 칩 볼 그리드 어레이(Flip Chip Ball Grid Array), 볼 그리드 어레이 및 칩 사이즈 패키지(Chip Size Package) 등의 인쇄회로기판으로 사용될 수 있다.Meanwhile, the package substrate manufactured according to the embodiment of the present invention may be used as a printed circuit board such as a flip chip ball grid array, a ball grid array, and a chip size package.

이상에서 설명한 본 발명의 바람직한 실시예들은 예시의 목적을 위해 개시된 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러가지 치환, 변형 및 변경이 가능할 것이나, 이러한 치환, 변경 등은 이하의 특허청구범위에 속하는 것으로 보아야 할 것이다.Preferred embodiments of the present invention described above are disclosed for the purpose of illustration, and various substitutions, modifications, and changes within the scope without departing from the spirit of the present invention for those skilled in the art to which the present invention pertains. It will be possible, but such substitutions, changes and the like should be regarded as belonging to the following claims.

도 1 내지 도 9는 본 발명의 실시예에 따른 패키지 기판 제조방법을 설명하기 위해 순차적으로 나타낸 공정 단면도.1 to 9 is a cross-sectional view sequentially showing the method for manufacturing a package substrate according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 코어층 101: 절연층100: core layer 101: insulating layer

102: 동박 103: 비아홀102: copper foil 103: via hole

104: 동도금층 105: 페이스트104: copper plating layer 105: paste

106: 제1 절연층 106a: 제1 도금층106: first insulating layer 106a: first plating layer

107: 제2 절연층 107a: 제2 도금층107: second insulating layer 107a: second plating layer

108: 솔더레지스트층 109: 범프108: solder resist layer 109: bump

200: 블록 필름200: block film

Claims (7)

코어층의 양면에 동박을 적층시켜 동박적층판을 준비하는 단계;Preparing a copper clad laminate by laminating copper foils on both sides of the core layer; 상기 동박적층판에 비아홀을 형성하는 단계;Forming a via hole in the copper clad laminate; 상기 비아홀이 형성된 상기 동박적층판에 도금층을 형성하는 단계;Forming a plating layer on the copper-clad laminate in which the via holes are formed; 상기 비아홀에 페이스트를 충진하는 단계;Filling paste into the via hole; 상기 비아홀에 페이스트가 충진된 이후에, 상기 코어층의 일면에 블록 필름(block film)을 적층하는 단계;Stacking a block film on one surface of the core layer after the paste is filled in the via hole; 상기 일면의 반대편인 상기 코어층의 타면에 제1 절연층 및 제1 도금층을 적층하는 단계;Stacking a first insulating layer and a first plating layer on the other surface of the core layer opposite to the one surface; 상기 제1 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계 이후에, 상기 일면이 노출되도록 상기 블록 필름을 제거하는 단계; 및After the laminating the first insulating layer and the second plating layer, removing the block film to expose the one surface; And 상기 블록 필름이 제거된 상기 코어층의 상기 일면 및 상기 타면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계;Stacking a second insulating layer and a second plating layer on the one surface and the other surface of the core layer from which the block film is removed; 를 포함하는 패키지 기판 제조 방법.Package substrate manufacturing method comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코어층의 상기 타면에 제1 절연층 및 제1 도금층을 적층하는 단계에서,In the step of laminating a first insulating layer and a first plating layer on the other surface of the core layer, 상기 제1 절연층 및 상기 제1 도금층을 차례로 1회 이상 반복하여 적층하는 패키지 기판 제조방법.Method of manufacturing a package substrate for laminating the first insulating layer and the first plating layer repeatedly one or more times in sequence. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코어층의 상기 일면 및 상기 타면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계에서,In the step of laminating a second insulating layer and the second plating layer on the one surface and the other surface of the core layer, 상기 제2 절연층 및 상기 제2 도금층을 차례로 1회 이상 반복하여 적층하는 패키지 기판 제조방법.The second substrate and the second plating layer sequentially laminated one or more times a method of manufacturing a package substrate. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 페이스트는 절연성 페이스트 또는 전도성 페이스트를 이용하는 패키지 기판 제조방법.The paste is a package substrate manufacturing method using an insulating paste or a conductive paste. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 절연층 및 상기 제2 절연층은 ABF 또는 프리프레그로 이루어지는 패키지 기판 제조방법.The first insulating layer and the second insulating layer is a package substrate manufacturing method of the ABF or prepreg. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 코어층의 상기 일면 및 상기 타면에 제2 절연층 및 제2 도금층을 적층하는 단계 이후에,After laminating a second insulating layer and a second plating layer on the one surface and the other surface of the core layer, 상기 제2 도금층 상에 솔더레지스트층을 형성하는 단계;Forming a solder resist layer on the second plating layer; 상기 솔더레지스트층의 일부분을 제거하여, 상기 제2 도금층을 노출시키는 단계; 및Removing a portion of the solder resist layer to expose the second plating layer; And 상기 노출된 제2 도금층과 접속되는 범프를 형성하는 단계;Forming a bump connected to the exposed second plating layer; 를 더 포함하는 패키지 기판 제조방법.Package substrate manufacturing method further comprising.
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