KR100968195B1 - Wafer zig for plating apparatus - Google Patents
Wafer zig for plating apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- KR100968195B1 KR100968195B1 KR1020080049052A KR20080049052A KR100968195B1 KR 100968195 B1 KR100968195 B1 KR 100968195B1 KR 1020080049052 A KR1020080049052 A KR 1020080049052A KR 20080049052 A KR20080049052 A KR 20080049052A KR 100968195 B1 KR100968195 B1 KR 100968195B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- wafer
- cover
- sealing
- head
- ring
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/001—Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/004—Sealing devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/005—Contacting devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
- C25D17/06—Suspending or supporting devices for articles to be coated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Sustainable Development (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
본 발명은 볼트 체결없이 회전을 통해 결합되는 체결 수단을 이용하여 헤드와 커버를 결합시킴으로써 조립이 용이하도록 하는 도금 장비용 웨이퍼 지그에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer jig for plating equipment to facilitate assembly by coupling the head and the cover using a fastening means coupled through rotation without bolt fastening.
이를 위한 본 발명의 도금 장비용 웨이퍼 지그는, 원형의 헤드와, 상기 원형 헤드 상부에 장착되는 원형의 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트 상부에 구비되는 링형 플레이트와, 상기 링형 플레이트 상부에 삽입되며 웨이퍼에 대응되는 형상을 가지는 더미 플레이트와, 상기 헤드와 결합되며 웨이퍼를 노출시키는 개방부가 형성된 원형 커버와, 상기 베이스 플레이트의 전면 둘레와 상기 커버 사이를 밀봉하는 제 1 실링부재와, 상기 커버의 개방부 내측 둘레와 웨이퍼의 전면 둘레 전면 사이를 밀봉하는 제 2 실링부재와, 상기 웨이퍼와 링형 플레이트 경계부에 접촉되는 다수의 전극핀을 포함하는 도금 장비용 웨이퍼 지그에 있어서, 상기 원형의 커버 하부에는 내측 방향으로 돌출되며 상부면이 일방향으로 상향 경사진 다수의 돌출턱이 형성되고, 상기 돌출턱의 경사 방향과 반대 방향으로 상향 경사지고 회전을 통해 상기 돌출턱에 결합되는 다수의 체결턱이 둘레에 형성된 체결부재를 포함한다.The wafer jig for plating equipment of the present invention for this purpose, a circular head, a circular base plate mounted on the circular head, a ring-shaped plate provided on the base plate, and inserted into the ring-shaped plate on the wafer A dummy plate having a corresponding shape, a circular cover having an opening coupled to the head and exposing a wafer, a first sealing member sealing a front circumference of the base plate and the cover, and an inside of the opening of the cover A wafer jig for a plating equipment comprising a second sealing member for sealing between a circumference and a front circumferential front surface of a wafer, and a plurality of electrode pins in contact with the wafer and the ring-shaped plate boundary, wherein the circular cover has a bottom inward direction. A plurality of protrusions protruding and the upper surface is inclined upward in one direction is formed And a fastening member having a plurality of fastening jaws formed around the inclined upward direction in the opposite direction to the inclined direction of the protruding jaw and coupled to the protruding jaw through rotation.
도금 장비, 웨이퍼, 지그, 실링, 체결부재 Plating equipment, wafers, jigs, seals, fasteners
Description
본 발명은 도금 장비용 웨이퍼 지그에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 볼트 체결없이 회전을 통해 결합되는 체결 수단을 이용하여 헤드와 커버를 결합시킴으로써 조립이 용이하도록 하는 도금 장비용 웨이퍼 지그에 관한 것이다.The present invention relates to a wafer jig for plating equipment, and more particularly, to a wafer jig for plating equipment to facilitate assembly by combining the head and the cover by using a fastening means that is coupled through rotation without bolt fastening.
일반적으로, 반도체 소자를 제조하기 위한 공정에서 도금공정은 증착 특성이 우수한 기술로서 널리 이용되고 있다.In general, the plating process in the process for manufacturing a semiconductor device is widely used as a technique having excellent deposition characteristics.
도금이라 하면 처리대상물 표면에 금속 또는 합금의 얇은 층을 입히는 조작을 뜻하는 것으로서, 도금은 그 방법이나 목적에 따라 다양하게 구분될 수 있지만, 특히 중심이 되는 방법은 전기도금 방식이 널리 이용되고 있다. Plating refers to an operation of coating a thin layer of a metal or alloy on the surface of the object to be treated. Plating may be classified in various ways depending on the method and purpose, but the electroplating method is widely used. .
전기도금의 원리를 간단히 설명하면, 도금하고자 하는 대상물을 음극으로 하고, 전착(電着)시키고자 하는 금속을 양극으로 하여, 전착시키고자 하는 금속이온을 함유한 전해액 속에 이들을 넣고 두 전극을 통전(通電)하여 전해함으로써 원하는 금속이온이 처리대상물 표면에 증착되는 현상을 이용하는 것이다. Briefly explaining the principle of electroplating, the object to be plated is a cathode, the metal to be electrodeposited is an anode, and these are put in an electrolyte solution containing metal ions to be electrodeposited and the two electrodes are energized. It is to utilize the phenomenon that the desired metal ions are deposited on the surface of the object to be treated by electrolysis.
이러한 전기도금방법은 현재 ULSI(Ultra Large Scale Integration) 등의 고밀도로 집적화된 반도체 소자(semiconductor device)의 제조 및 이의 패키 징(packaging) 공정이나, 마이크로시스템(microsystem) 등의 제조에 빠질 수 없는 중요한 공정으로 인식되고 있다.Such an electroplating method is important for the manufacture of high density integrated semiconductor devices such as ULSI (Ultra Large Scale Integration) and the packaging process thereof, or the manufacture of microsystems. It is recognized as a process.
일반적으로 반도체 분야에서 도금 장비는 전해액이 수용되는 도금액조와 이 도금액조에 웨이퍼를 위치시키기 위한 웨이퍼 지그를 구비한다. In general, in the semiconductor field, plating equipment includes a plating solution tank in which an electrolyte is accommodated and a wafer jig for placing a wafer in the plating solution tank.
이러한 도금 장비의 구성 요소인 지그에 관한 기술은 대한민국 특허출원 제2006-54988호(2006.06.19 출원)에 "전기도금용 지그"라는 제목으로 개시된 바 있다. Description of the jig which is a component of such plating equipment has been disclosed in the title of "electroplating jig" in the Republic of Korea Patent Application No. 2006-54988 (filed June 19, 2006).
대한민국 특허출원 제2006-54988호(2006.06.19 출원)에 개시된 "전기도금용 지그"는 제1 및 제 2 절연판, 내측 실링부재, 외측 실링부재, 전도판인 도전고무, 금속판, 탄성 시트를 포함한다.The "electroplating jig" disclosed in Korean Patent Application No. 2006-54988 (filed June 19, 2006) includes the first and second insulating plates, the inner sealing member, the outer sealing member, the conductive rubber which is a conductive plate, a metal plate, and an elastic sheet. do.
이 기술의 전기도금용 지그는 웨이퍼 하부의 금속판과 도전고무 사이에만 실링부재가 구비된바, 웨이퍼 상부의 제 2 절연판과 웨이퍼 사이의 도금액 침투 현상을 방지할 수 없는 단점이 있다. The electroplating jig of this technology is provided with a sealing member only between the metal plate and the conductive rubber under the wafer, there is a disadvantage that can not prevent the penetration of the plating solution between the second insulating plate and the wafer on the wafer.
이러한 단점을 해소하기 위한 기술이 본 출원인에 의해 기출원된 대한민국 특허출원 제2008-0035289호에 "도금 장비용 웨이퍼 지그"라는 제목으로 개시된 바 있다.Techniques for resolving these shortcomings have been disclosed in the Korean Patent Application No. 2008-0035289 filed by the present applicant entitled "wafer jig for plating equipment".
이 기술은 통전을 위한 링형 플레이트와 커버 사이에 실링부재를 장착하고, 웨이퍼 둘레와 커버 사이에 실링부재를 장착함으로써 기밀성을 확보하여 도금액 침투를 방지하는 기술이다.This technology is a technique for mounting a sealing member between the ring-shaped plate and the cover for energization, and by installing a sealing member between the wafer circumference and the cover to secure airtightness and prevent penetration of the plating liquid.
아울러, 이 기술은 케이스와 커버를 볼트 체결 없이 원터치형 클램프를 체결 함으로써 조립 및 분해가 용이하도록 한다.In addition, this technology facilitates assembly and disassembly by fastening the case and cover to the one-touch clamp without bolting.
그런데, 이 기술에서는 링형 플레이트와 커버 이의 실링을 위하여 실링부재를 링형 플레이트 상에 장착하고 커버와 조립을 하므로, 링형 플레이트와 커버가 실링부재에 의해 밀착력이 높아 웨이퍼 지그 분해시 커버가 잘 안 빠져 분해가 어려운 단점이 있다.However, in this technology, the sealing member is mounted on the ring-shaped plate and assembled with the cover for sealing the ring-type plate and the cover tooth, so that the ring-type plate and the cover have high adhesion by the sealing member, so that the cover is not easily disassembled when disassembling the wafer jig. This has a hard disadvantage.
또한, 원터치형 클램프로 체결하기 때문에 링형 플레이트와 커버 사이의 제 2 실링부재에만 하중이 커져, 웨이퍼와 커버 사이에 장착되는 제 1 실링부재의 체결력이 약해져 실링이 잘 안되는바, 도금액이 침투할 수 있는 문제가 있다.In addition, since the fastening is performed by the one-touch clamp, the load is increased only on the second sealing member between the ring-shaped plate and the cover, and the fastening force of the first sealing member mounted between the wafer and the cover is weakened, so that the sealing solution is difficult to penetrate. There is a problem.
상기 종래 기술의 문제점을 개선하기 위한 본 발명의 목적은, 커버와 헤드를 회전을 통해 스크류 타입으로 체결되는 체결부재를 이용하여 커버의 전후를 밀봉하는 실링부재에 가해지는 하중을 균일하게 하며 조립 및 분해가 용이하도록 하는 도금 장비용 웨이퍼 지그를 제공함에 있다.An object of the present invention for improving the problems of the prior art, by using a fastening member that is fastened to the screw type by rotating the cover and the head uniformly load and applied to the sealing member for sealing the front and rear of the cover It is to provide a wafer jig for plating equipment to facilitate disassembly.
또한, 본 발명의 목적은 베이스 플레이트와 커버의 후방을 밀봉하는 실링부재를 커버의 내측 실링홈에 삽입 구비함으로써 커버와 베이스 플레이트의 분해가 용이하도록 하는 도금 장비용 웨이퍼 지그를 제공함에 있다. In addition, an object of the present invention is to provide a wafer jig for plating equipment to facilitate the disassembly of the cover and the base plate by inserting a sealing member for sealing the base plate and the back of the cover into the inner sealing groove of the cover.
본 발명의 도금 장비용 웨이퍼 지그는, 원형의 헤드와, 상기 원형 헤드 상부에 장착되는 원형의 베이스 플레이트와, 상기 베이스 플레이트 상부에 구비되는 링형 플레이트와, 상기 링형 플레이트 상부에 삽입되며 웨이퍼에 대응되는 형상을 가지는 더미 플레이트와, 상기 헤드와 결합되며 웨이퍼를 노출시키는 개방부가 형성된 원형 커버와, 상기 베이스 플레이트의 전면 둘레와 상기 커버 사이를 밀봉하는 제 1 실링부재와, 상기 커버의 개방부 내측 둘레와 웨이퍼의 전면 둘레 전면 사이를 밀봉하는 제 2 실링부재와, 상기 웨이퍼와 링형 플레이트 경계부에 접촉되는 다수의 전극핀을 포함하는 도금 장비용 웨이퍼 지그에 있어서, 상기 원형의 커버 하부에는 내측 방향으로 돌출되며 상부면이 일방향으로 상향 경사진 다수의 돌출턱이 형성되고, 상기 돌출턱의 경사 방향과 반대 방향으로 상향 경사지고 회전을 통해 상기 돌출턱에 결합되는 다수의 체결턱이 둘레에 형성된 체결부재를 포함함을 특징으로 한다.The wafer jig for plating equipment of the present invention includes a circular head, a circular base plate mounted on an upper portion of the circular head, a ring-shaped plate provided on the base plate, and inserted into an upper portion of the ring-shaped plate to correspond to a wafer. A dummy plate having a shape, a circular cover having an opening coupled to the head to expose the wafer, a first sealing member sealing the front circumference of the base plate and the cover, and an inner circumference of the opening of the cover; In the wafer jig for plating equipment comprising a second sealing member for sealing between the front circumferential front surface of the wafer and a plurality of electrode pins in contact with the wafer and the ring-shaped plate boundary, protruding inward in the lower portion of the circular cover A plurality of protrusions inclined upward in one direction is formed, the stone It characterized in that a plurality of fastening projection through the oblique direction and an upward slope is rotated in the opposite direction of the jaws coupled to the protruding jaw comprises a fastening member formed on the circumference.
상기 커버의 상부에는 외측에 원주 형상으로 형성되어 상기 제 1 실링부재가 삽입되는 제 1 실링홈과 상기 제 1 실링홈의 내측에 원주 형상으로 형성되어 상기 제 2 실링부재가 삽입되는 제 2 실링홈이 형성된다.The first sealing groove is formed in the outer circumferential shape on the top of the cover and the second sealing groove is formed in the circumferential shape inside the first sealing groove to insert the second sealing member. Is formed.
본 발명은 커버와 헤드를 회전을 통해 스크류 타입으로 체결되는 체결부재를 이용함으로써, 조립 및 분해가 용이하여 작업 효율을 향상시켜 생산성을 향상시킬 수 있다.The present invention by using a fastening member that is fastened to the screw type by rotating the cover and the head, it is easy to assemble and disassemble can improve the work efficiency to improve productivity.
또한, 본 발명은 기존의 클램프 체결 수단 대신 스크류 타입의 체결부재를 이용함으로써 기존 방식이 전방 실링부재의 실링이 잘 안되는 문제를 개선하여 전방과 후방 실링부재에 균일한 하중이 가해지도록 하여 도금액의 침투 방지를 통해 신뢰성을 향상시킬 수 있다.In addition, the present invention by using a screw-type fastening member instead of the conventional clamp fastening means to improve the problem of the sealing of the front sealing member is not good so that the uniform load is applied to the front and rear sealing member to penetrate the plating solution Prevention can improve reliability.
또한, 본 발명은 베이스 플레이트와 커버의 후방을 밀봉하는 실링부재를 커버의 내측 실링홈에 삽입 구비함으로써 커버와 베이스 플레이트의 분해가 용이하도록 하여 작업 효율을 높일 수 있다. In addition, the present invention by inserting a sealing member for sealing the back of the base plate and the cover in the inner sealing groove of the cover to facilitate the disassembly of the cover and the base plate can increase the work efficiency.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금 장비용 웨이퍼 지그의 하부 결합 사시도이고, 도 2는 본 발명의 실시예에 따른 도금 장비용 웨이퍼 지그 저면 사시도이고, 도 3은 본 발명의 실시예에 따른 도금 장비용 웨이퍼 지그의 A-A'선 단면도, 도 4는 도 3의 B부 확대도로서, 본 발명은 도금액이 저장된 도금조 내에 웨이퍼를 담지하고 웨이퍼를 통전시켜 웨이퍼에 도금을 수행하는 도금 장비용 웨이퍼 지그에 관한 것이다.1 is a bottom coupled perspective view of a wafer jig for plating equipment according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a bottom perspective view of a wafer jig for plating equipment according to an embodiment of the present invention, Figure 3 according to an embodiment of the present invention A-A 'cross-sectional view of the wafer jig for plating equipment, Figure 4 is an enlarged view of the portion B of Figure 3, the present invention is a plating sheet for supporting the wafer in the plating bath in which the plating liquid is stored and energizing the wafer to perform plating on the wafer The cost relates to wafer jig.
도 1 내지 도 4를 참조하면, 본 발명은 헤드(1)와, 베이스 플레이트(2)와, 링형 플레이트(3)와, 더미 플레이트(4)와, 커버(6)와, 체결부재(7) 및 다수의 전극핀(8)을 포함한다. 1 to 4, the present invention provides a
헤드(1)는 하부에 통전을 위한 통전부(미도시함)와 연결되며 웨이퍼를 도금조 내에 위치시키는 것으로서, 본 발명의 실시예에서는 통전 샤프트(미도시함)가 관통 삽입되어 통전 샤프트의 회전에 의해 웨이퍼를 회전시키거나 도금조 내에서의 웨이퍼 각도 조절이 가능하도록 구성하였다.The
이를 위하여, 헤드(1)는 원판형의 몸체(11)로 이루어지며, 몸체(11) 중앙에는 관통홀(111)이 형성되고, 몸체(11)의 하부에는 관통홀(111)이 연장되어 통전 샤프트(미도시함)가 삽입되는 삽입관(12)이 형성된 구조를 갖는다.To this end, the
이때, 본 발명의 실시예는 헤드(1)를 통전시키기 위한 통전부로서 통전 헤드를 이용하는 것으로 하였으나, 다른 변형된 실시예를 통해 판형상의 통전부를 헤드(1)의 하부에 장착하고, 헤드(1)를 공지된 기술의 도금액조 내에 배치되는 바 형태의 장착부에 고리와 같은 장착부재를 통해 장착하도록 구성할 수 있다.At this time, the embodiment of the present invention is to use the energizing head as the energizing part for energizing the
베이스 플레이트(2)는 헤드(1)의 상부에 구비되며 통전 샤프트와의 접촉을 통해 통전되는 것이며, 웨이퍼 장착을 위한 홈부(23)가 상부에 형성된 원판체(21)로 이루어지며, 원판체(21)의 하부에는 헤드(1)의 몸체(11) 중앙에 형성된 관통 홀(111)에 삽입되는 삽입 돌출부(22)가 형성된다. The
이러한 구성에 따라, 베이스 플레이트(2)의 삽입 돌출부(22)는 헤드(1) 중앙의 관통홀(111)에 삽입되며, 베이스 플레이트(2)를 관통하는 볼트가 헤드(1)의 전면에 결합됨으로써 일체화된다.According to this configuration, the
링형 플레이트(3)는 베이스 플레이트(2) 상부에 구비되어 베이스 플레이트(2)와의 접촉을 통해 통전되는 것으로서, 링형 플레이트(3)의 중앙에는 홀(31)이 형성되며 홀(31)의 둘레에는 더미 플레이트가 로딩 되도록 단턱(32)이 형성된다. The ring-
이때, 링형 플레이트(3) 상부의 둘레에는 웨이퍼 제거가 용이하도록 반경 방향으로 착탈홈(33)이 형성됨이 바람직하다.At this time, it is preferable that the removable groove 33 is formed in the radial direction around the upper portion of the ring-
즉, 링형 플레이트(3)의 홈부(23)의 단턱(32)에 더미 플레이트(4)가 로딩되고, 그 상부에 웨이퍼(5)가 밀착된 상태에서 웨이퍼(5)를 착탈홈(33)을 통해 쉽게 꺼낼 수 있다.That is, the
더미 플레이트(4)는 링형 플레이트(3)의 홀(31)에 삽입되며 웨이퍼가 로딩되도록 웨이퍼(5)에 대응되는 형상을 갖는다. The
여기서, 더미 플레이트(4)는 웨이퍼(5)의 두께에 따라 다양한 두께의 더미 플레이트가 가변적으로 교체 장착될 수 있다.Here, the
이에 따라, 단일 두께를 갖는 웨이퍼에만 적용되는 것이 아니라 다양한 두께를 갖는 웨이퍼(5)를 장착할 수 있어 실용성을 향상시킬 수 있다. Accordingly, not only the wafer having a single thickness but also the
커버(6)는 더미 플레이트(4)와 링형 플레이트(3)와 베이스 플레이트(2)를 수용하도록 헤드(1)의 상부에서 헤드(1)와 결합되며 상부로 웨이퍼(5)를 노출시킨다.The
이를 위하여, 커버(6)는 전면에 웨이퍼(5) 노출을 위한 개방부(61)가 형성되며 각 구성 요소들을 수용하기 위한 공간부를 갖는 원형으로 이루어진다. To this end, the
그리고, 본 발명의 특징적인 양상에 따라 커버(6) 하부에는 내측 방향으로 돌출되며 상부면이 일방향으로 상향 경사진 다수의 돌출턱(62)이 형성된다. In addition, according to a characteristic aspect of the present invention, a plurality of protruding
그리고, 체결부재(7)는 링형상의 체결판(71)과 체결판(71) 둘레에 형성된 다수의 체결턱(711)으로 이루어지되, 체결턱(711)은 커버(6)의 돌출턱(62) 경사 방향과 반대 방향으로 상향 경사지게 형성되어 회전을 통해 돌출턱과 체결턱이 결합됨으로써 웨이퍼 지그의 조립이 이루어지도록 한다. And, the fastening
또한, 체결부재(7)에는 체결판(71)을 회전시켜 조립하거나 분해를 할 수 있도록 그 하부에 손잡이(72)가 구비된다. 이때, 손잡이(72)는 체결부재(7)를 커버(6)에 조립할 때 균일한 하중을 가하여 조립이 이루어지도록 적어도 둘 이상으로 구비됨이 바람직하다.In addition, the
한편, 커버(6)의 상부에는 도 5에 도시된 바와 같이 내측에 원주 형상의 제 1 실링홈(63a)과 제 2 실링홈(63b)이 형성되되, 제 2 실링홈(63b)은 개방부(61)의 둘레에 형성되고, 제 1 실링홈(63a)은 제 2 실링홈(63b)의 외측 둘레에 형성된다. Meanwhile, as shown in FIG. 5, the
제 1 실링홈(63a)에는 제 1 실링부재(631a)가 삽입되어 베이스 플레이트(2)의 전면 둘레와 커버(6) 내부 사이를 밀봉한다. The
제 2 실링홈(63b)에는 제 2 실링부재(631b)가 삽입되어 커버(6)의 개방부 내측 둘레와 웨이퍼(5)의 전면 둘레 사이를 밀봉한다. The
이때, 본 발명은 제 1 실링부재(631a)와 제 2 실링부재(631b)가 케이스의 내 부에 삽입 장착됨으로써 별도로 외부에 실링을 하지 않아도 되므로 지그 사이즈를 소형화할 수 있고, 나아가 지그가 담지되는 도금조의 사이즈를 감소시킬 수 있게 된다.In this case, since the
여기서, 기존 방식은 베이스 플레이트(2)의 전면 둘레와 커버(6) 내부 사이를 밀봉하는 실링부재가 베이스 플레이트(2)의 상부 둘레에 끼워진 상태에서 베이스 플레이트(2)과 커버(6)가 조립되나, 본 발명은 커버(6)에 실링홈이 형성되며 이 실링홈에 실링부재가 삽입됨으로써 베이스 플레이트(2)과 커버(6)의 분해가 용이하다.Here, in the conventional method, the
즉, 기존에는 베이스 플레이트(2)에 끼워진 실링부재와 커버(6)의 밀착력에 의해 커버가 잘 빠지지 않아 분해가 어려웠으나 본 발명에 따르면 커버(6)의 홈부에 실링부재가 삽입되어 있으므로, 커버(6)와 베이스 플레이트(2)의 분해가 쉽다.That is, in the past, the cover was hardly disassembled due to the adhesion between the sealing member and the
아울러, 커버(6)의 둘출턱(62)의 전후에는 체결부재(7)의 체결턱(711)이 삽입되는 홈(64)이 형성되어, 체결턱(711)을 홈(64)에 끼운 후에 회전시킴으로써, 체결털(71)과 돌출턱(62)을 스크류 결합하여 웨이퍼 지그 조립을 완성할 수 있다.In addition, before and after the
한편, 다수의 전극핀(8)은 각각 커버(6)의 제 2 실링부재(631b) 내측에 장착 구비되어, 커버(6)와 헤드(1) 결합시 웨이퍼(5)와 링형 플레이트(3) 경계부에 접촉됨으로써, 링형 플레이트(3)와 웨이퍼(5)를 통전시킨다. On the other hand, the plurality of electrode pins (8) are each mounted inside the second sealing member (631b) of the
아울러, 각각의 전극핀(8)은 커버(6)에 스프링과 같은 탄성부재(81)를 통해 장착되어 탄성력을 통해 웨이퍼(5)와 링형 플레이트(3)에 전기적으로 안정되게 접촉된다.In addition, each
즉, 웨이퍼(5)와 링형 플레이트(3)의 경계부에 전극핀(8)이 접촉됨에 따라 링형 플레이트(3)를 통해 웨이퍼(5)가 통전된다. That is, as the
이때, 탄성부재(81)의 탄성력에 의해 웨이퍼(5)의 높이에 따라 전극핀(8)의 높이가 자동으로 조절됨으로써 웨이퍼(5)의 두께와 무관하게 안정적인 전기 접촉이 이루어진다. At this time, the height of the
이와 같이 본 발명은 스크류 타입으로 회전하는 체결부재(7)를 커버(6)에 조립함으로써, 각각의 실링부재(631a,631b)에 가해지는 하중을 동일하게 할 수 있다.Thus, in the present invention, by assembling the
즉, 기존의 원터치형 클램프를 이용하는 경우 후방 실링부재에 가해지는 하중이 커 전방 실링부재의 실링이 원활하게 이루어지지 않는 문제점이 있었으나, 본 발명은 회전을 통해 조립되는 구조를 채택함으로써 전후방 실링부재에 균일한 하중이 가해지도록 하여 양쪽 모두 실링이 원활하게 이루어진다.That is, when the conventional one-touch clamp is used, there is a problem that the sealing of the front sealing member is not performed smoothly due to the large load applied to the rear sealing member, but the present invention adopts a structure that is assembled through rotation to the front and rear sealing members. Both sides are smoothly sealed by applying a uniform load.
이러한 본 발명의 구성에 따르면, 우선 헤드(1)의 중앙 관통홀(111)에 베이스 플레이트(2)의 삽입 돌출부(22)가 끼워진 상태에서 볼트(24)를 통해 헤드(1)와 베이스 플레이트(2)가 일체로 결합된다.According to the configuration of the present invention, the
그리고, 베이스 플레이트(2)의 홈부(23)에 링형 플레이트(3)가 끼움 결합되고, 링형 플레이트(3)의 중앙에 형성된 홀(31)에 더미 플레이트(4)가 삽입된다.The
또한, 더미 플레이트(4) 상부에는 웨이퍼(5)가 로딩된다. In addition, the
커버의 각 실링홈(63a,63b)에는 각각 제 실링부재(631a)와 제 2 실링부재(631b)가 삽입되어 있다. The
이 상태에서 커버(6)를 헤드(1)를 체결부재(7)를 이용하여 결합시킨다.In this state, the
즉, 도 6에 도시된 바와 같이 커버(6)의 상부에 체결부재(7)를 위치시키고, 도 6에 도시된 바와 같이 커버(6) 홈부(64)에 체결턱(711)을 삽입시킨 후 손잡이(72)를 잡고 체결판(71)을 회전시키면, 도 8에 도시된 바와 같이 체결턱(711)이 돌출턱(62)을 슬라이딩하여 스크류 결합되는바, 체결턱(711)과 돌출턱(62)의 결합에 의해 웨이퍼 지그 조립이 완성된다. That is, as shown in FIG. 6, the
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 도금 장비용 웨이퍼 지그의 하부 결합 사시도.1 is a perspective view of the bottom coupling of the wafer jig for plating equipment according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 도금 장비용 웨이퍼 지그 저면 사시도. Figure 2 is a bottom perspective view of the wafer jig for plating equipment according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 도금 장비용 웨이퍼 지그의 A-A'선 단면도.Figure 3 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of the wafer jig for plating equipment according to an embodiment of the present invention.
도 4는 도 3의 B부 확대도.4 is an enlarged view of a portion B of FIG. 3;
도 5는 도 1의 커버 단면도.5 is a cross-sectional view of the cover of FIG.
도 6 및 도 7은 본 발명의 도금 장비용 웨이퍼 지그 조립 과정을 설명한 사시도.6 and 7 are perspective views illustrating the assembly process of the wafer jig for the plating equipment of the present invention.
<도면의 주요 부분에 대한 부호 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1 : 헤드1: head
11 : 몸체 11: body
111 : 관통홀 111: through hole
12 : 삽입관 12: insertion tube
2 : 베이스 플레이트2: base plate
21 : 원판체21: disc
22 : 삽입 돌출부22: insertion protrusion
23 : 홈부23: groove
24 : 볼트24: Bolt
3 : 링형 플레이트3: ring type plate
31 : 홀31: Hall
32 : 단턱32: step
33 : 착탈홈33: removable groove
4 : 더미 플레이트4: dummy plate
5 : 웨이퍼5: wafer
6 : 커버6: cover
61 : 개방부61: opening
62 : 돌출턱62: protruding jaw
63a : 제 1 실링홈63a: first sealing groove
63b : 제 2 실링홈63b: second sealing groove
631a : 제 1 실링부재631a: first sealing member
631b : 제 2 실링부재 631b: second sealing member
7 : 체결부재7: fastening member
71 : 체결판71: fastening plate
711 : 체결턱711: fastening jaw
72 : 손잡이72: handle
8 : 전극핀8: electrode pin
81 : 탄성부재81: elastic member
Claims (2)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080049052A KR100968195B1 (en) | 2008-05-27 | 2008-05-27 | Wafer zig for plating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080049052A KR100968195B1 (en) | 2008-05-27 | 2008-05-27 | Wafer zig for plating apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090123128A KR20090123128A (en) | 2009-12-02 |
KR100968195B1 true KR100968195B1 (en) | 2010-07-07 |
Family
ID=41685412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080049052A KR100968195B1 (en) | 2008-05-27 | 2008-05-27 | Wafer zig for plating apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100968195B1 (en) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20210122933A (en) * | 2020-04-01 | 2021-10-13 | (주)에스엔에이치 | Partial plating jig for impeller |
KR102643286B1 (en) * | 2022-04-21 | 2024-03-05 | 세메스 주식회사 | Supporting structure, apparatus for supporting substrate and facility for processing substrate |
CN116081568A (en) * | 2023-01-06 | 2023-05-09 | 航科新世纪科技发展(深圳)有限公司 | Metal filling method of wafer through hole structure |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0959795A (en) * | 1995-08-24 | 1997-03-04 | Nec Kansai Ltd | Plating jig |
JP2003064485A (en) * | 2001-08-23 | 2003-03-05 | Denso Corp | Surface treatment apparatus and surface treatment method |
JP2003301299A (en) | 2002-04-12 | 2003-10-24 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | Cathode cartridge of electroplating tester |
JP2006348373A (en) | 2005-06-20 | 2006-12-28 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | Holder for electroplating |
-
2008
- 2008-05-27 KR KR1020080049052A patent/KR100968195B1/en active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0959795A (en) * | 1995-08-24 | 1997-03-04 | Nec Kansai Ltd | Plating jig |
JP2003064485A (en) * | 2001-08-23 | 2003-03-05 | Denso Corp | Surface treatment apparatus and surface treatment method |
JP2003301299A (en) | 2002-04-12 | 2003-10-24 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | Cathode cartridge of electroplating tester |
JP2006348373A (en) | 2005-06-20 | 2006-12-28 | Yamamoto Mekki Shikenki:Kk | Holder for electroplating |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090123128A (en) | 2009-12-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2013057802A1 (en) | Substrate electroplating jig | |
EP2904133B1 (en) | Holding device for a product and treatment method | |
JP4820736B2 (en) | Electrolytic plating apparatus, electrolytic plating method, and plating jig | |
CN104838047B (en) | The wafer electroplating chucking appliance system and method for magnetic seal | |
WO2006127320A3 (en) | Electroplating apparatus based on an array of anodes | |
KR100968195B1 (en) | Wafer zig for plating apparatus | |
JPWO2014076781A1 (en) | Substrate plating jig | |
US20140318977A1 (en) | Microelectronic substrate electro processing system | |
TW201629275A (en) | Lipseals and contact elements for semiconductor electroplating apparatuses | |
KR20180087379A (en) | Substrate holding device | |
KR100981159B1 (en) | Wafer zig for plating apparatus | |
CN105648509B (en) | More size compatibility single-wafer electroplating clamps | |
WO2022127515A1 (en) | Cup-shaped chuck of substrate holding device, and substrate holding device | |
JP4037504B2 (en) | Semiconductor wafer plating jig | |
WO2006055145A3 (en) | Current collimation for thin seed and direct plating | |
CN114197021B (en) | Double-wafer film coating clamp | |
JP3620531B2 (en) | Electronic component, plating jig, and plating method using the same | |
JP2001247999A (en) | Substrate plating jig | |
JP5576848B2 (en) | Jig for holding plate member | |
WO2021049145A1 (en) | Substrate holder, substrate plating device equipped therewith, and electrical contact | |
JP2005220414A (en) | Plating apparatus | |
KR100988594B1 (en) | The jig for electroplating | |
CN111850664A (en) | Electroplating clamp for solar cell | |
KR102250050B1 (en) | A jig for electroplating and a method of manufacturing an electroplated article | |
JP2008025000A (en) | Electroplating method and apparatus for the same |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130710 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140625 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150619 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20160513 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170512 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190605 Year of fee payment: 10 |