KR100956346B1 - 액정 표시 장치용 처리 시스템 - Google Patents
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Abstract
기판 인덱서를 포함하는 로드락 챔버, 기판이 그 내부로 이송되어 기판을 처리하는 공정 챔버, 로드락 챔버로부터 공정 챔버로 기판을 이송하는 기판 이송 장치를 포함하는 이송 챔버를 포함하고, 로드락 챔버의 전면부에 복수개의 기판 스캐닝 센서가 설치되어 있는 액정 표시 장치용 처리 시스템.
센서, 유리깨짐, 공정챔버, 로드락챔버
Description
도 1은 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템을 도시한 도면이고,
도 2는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템 중 로드락 챔버 및 기판 스캐닝 센서를 도시한 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
20 : 기판 스캐닝 센서 23 : 센서
110 : 기판 200 : 로드락 챔버
300 : 공정 챔버
본 발명은 액정 표시 장치용 처리 시스템에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 현재 가장 널리 사용되고 있는 평판 표시 장치 중 하나로서, 전계 생성 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어져, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시킴 으로써 액정층을 통과하는 빛의 투과율을 조절하는 표시 장치이다.
일반적으로 액정 표시 장치용 처리 시스템은 대형 유리 모기판을 가공 처리하기 위한 공정 챔버(process chamber), 공정 챔버로 이송되기 전에 대형 유리 모기판이 적재되는 로드 락 챔버(roadlock chamber) 및 로드 락 챔버 내에 적재된 대형 유리 모기판을 공정 챔버로 이송하기 위한 이송 장치를 포함하는 이송 챔버(transfer chamber)로 이루어진다.
공정 챔버 내에서는 유리 기판의 깨짐을 감지할 수 있는 방법이 마땅치 않다. 따라서, 유리 기판이 깨진 것을 감지하지 못하고 후속 공정을 진행할 경우에는 이상 증착 등 심각한 불량을 야기하여 생산 및 수율에 지대한 악영향을 미치게 된다.
이러한 문제점을 해결하기 위하여 중앙에 위치한 이송 챔버의 바닥에 14 포인트에 14개의 글래스 인식 센서를 설치하여 포인트별 조합을 통해 유리 기판의 깨짐 유무를 확인하였다. 그러나, 이러한 방법은 14개의 인식 센서가 고정 위치에 있으므로 유리 기판의 깨짐을 확인할 수 없는 감지 불가 영역이 생긴다는 문제점이 있다.
본 발명의 기술적 과제는 유리 기판의 깨짐 유무를 감지하는 액정 표시 장치용 처리 시스템을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템은 기판 인덱서를 포함하는 로 드락 챔버, 상기 기판이 그 내부로 이송되어 상기 기판을 처리하는 공정 챔버, 상기 로드락 챔버로부터 상기 공정 챔버로 기판을 이송하는 기판 이송 장치를 포함하는 이송 챔버를 포함하고, 상기 로드락 챔버의 전면부에 복수개의 기판 스캐닝 센서가 설치되어 있는 것이 바람직하다.
그러면, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예에 대하여 첨부한 도면을 참고로 하여 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다.
이제 본 발명의 실시예에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템에 대하여 도면을 참고로 하여 상세하게 설명한다.
먼저, 도 1에는 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템은 도시되어 있고, 도 2에는 로드락 챔버 및 기판 스캐닝 센서가 도시되어 있다.
도 1을 참조하면, 본 발명의 한 실시예에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템은 기판(110)을 적재하는 로드락 챔버(200), 기판(110)을 이송하는 이송 챔버(100) 및 기판(110)을 가공 처리하는 공정 챔버(300)를 포함한다.
도 2에 도시된 바와 같이, 로드 락 챔버(200)는 기판(110)을 임시로 적재하는 기판 인덱서(130)를 포함한다.
그리고, 이송 챔버(100)는 기판(110)을 공정 챔버(300)로 이송하기 위한 기판 이송 장치(140)를 포함한다. 이러한 기판 이송 장치(140)는 로봇암의 형태인 것이 바람직하다.
기판 이송 장치(140)는 기판(110)을 로드 락 챔버(200)나 이송 챔버(100)에서 공정 챔버(300)로 또는 공정 챔버(300)에서 로드 락 챔버(200)나 이송 챔버(100)로 이송시키는 역할을 수행한다.
공정 챔버(300)의 분위기를 진공 상태로 계속 유지하기 위해서는 로드 락 챔버(200) 및 이송 챔버(100)의 분위기 또한 진공 상태로 유지시키는 것이 바람직하다.
로드 락 챔버(200) 및 이송 챔버(100) 내에는 760 Torr 내지 10-3 Torr의 저진공 내지 중진공이 요구되며, 이러한 진동을 만들기 위해서 드라이 진공 펌프(Dry vacuum pump)(미도시)가 연결되어 있다.
복수개의 공정 챔버(300)는 고진공이 형성된 밀폐 공간으로서 내부에 상부 전극 및 하부 전극이 형성되어 플라즈마 방전을 이용하여 플라즈마 CVD(Chemical Vaporized Deposition)공정 또는 건식 식각 공정 등과 같은 공정이 진행된다.
공정 챔버(300)에서는 상기와 같은 공정을 수행하기 위해 항상 진공 상태의 분위기로 유지되어야 한다. 이는 기판(110)의 가공 처리 공정 중 불순물로 인한 오염을 방지하기 위함이다.
그리고, 기판(110)은 공정 챔버(300)내로 이송되기 위해서 일련의 과정을 거친다. 즉, 외부로부터 이송된 기판(110)은 먼저 로드 락 챔버(200)에서 이송 챔버(100)로 기판 이송 장치(140)에 의해 이송된 후 공정 챔버(300)로 이송된다. 이때, 각각의 챔버(100, 200, 300)에는 기판(100)이 통과될 정도의 크기로 게이트(가 형성된다. 따라서, 기판(110)이 각각의 챔버(100, 200, 300) 사이를 통과할 때 각 챔버(100, 200, 300)의 게이트가 개구되어 기판(110)을 통과시킨다.
이와 같은 과정을 거쳐 기판(110)이 이송되기 때문에 공정 챔버(300)를 진공 상태로 계속 유지하기 위해서는 로드 락 챔버(200) 및 이송 챔버(100)의 분위기 또한 진공 상태로 유지되어야 한다.
이 때, 공정 챔버(300) 내에는 10-3 Torr이하의 고진공 내지 초고진공이 요구되며, 이러한 진공을 만들기 위해서는 일반적으로 터보 분자 펌프(Turbo Molecule Pump)(미도시)를 사용한다.
그리고, 로드락 챔버(200)의 전면부에 복수개의 기판 스캐닝 센서(20)가 설치되어 있다.
도 1 및 도 2를 참조하여 이를 상세히 설명한다.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 로드락 챔버(200)에 적재된 기판(110)은 이송 챔버(100)를 통해 복수개의 공정 챔버(300)로 유입되므로 항상 로드락 챔버(200)를 통과한다. 따라서, 로드락 챔버(200)의 전면부에 복수개의 기판 스캐닝 센서(20)를 설치하면 기판(110)의 로딩 및 언로딩시 기판(110)의 모든 부분을 스캐닝하여 기판의 깨짐 유무를 감지할 수 있다.
그러므로, 깨진 기판(110)을 적시에 감지하여 후속 공정에서 깨진 기판(110)에 의한 피해를 최소화 할 수 있다는 장점이 있다.
이러한 복수개의 기판 스캐닝 센서(20)는 로드락 챔버(200)의 전면부에서 연 장된 아암(21), 아암(21)에서 4방향으로 연장된 서브 아암(22) 및 서브 아암(22)의 각각에 설치되어 있는 센서(23)를 포함한다.
4개의 센서(23)는 기판(110)이 로드락 챔버(200)에서 로딩 및 언로딩될 때 기판(110)의 모든 부분의 깨짐 유무를 감지할 수 있도록 기판(110)에 대응되는 상부에 설치되어 있다.
본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 보호범위는 첨부된 청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.
본 발명에 따른 액정 표시 장치용 처리 시스템은 로드락 챔버 전면부에 기판 스캐닝 센서를 설치함으로써 유리 기판의 모든 부분에서의 깨짐 유무를 감지할 수 있다는 장점이 있다.
Claims (1)
- 기판 인덱서를 포함하는 로드락 챔버,상기 기판이 그 내부로 이송되어 상기 기판을 처리하는 공정 챔버,상기 로드락 챔버로부터 상기 공정 챔버로 기판을 이송하는 기판 이송 장치를 포함하는 이송 챔버를 포함하고,상기 로드락 챔버의 전면부에 복수개의 기판 스캐닝 센서가 설치되어 있으며,상기 기판 스캐닝 센서는 상기 로드락 챔버에서 연장된 아암,상기 아암에서 4방향으로 연장된 서브 아암 그리고상기 서브 아암의 각각에 설치되어 있는 센서를 포함하는액정 표시 장치용 처리 시스템.
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KR1020030049028A KR100956346B1 (ko) | 2003-07-18 | 2003-07-18 | 액정 표시 장치용 처리 시스템 |
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- 2003-07-18 KR KR1020030049028A patent/KR100956346B1/ko not_active IP Right Cessation
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KR19990069531A (ko) * | 1998-02-10 | 1999-09-06 | 윤종용 | 로드락 챔버의 웨이퍼 위치 검출장치 |
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