KR100955256B1 - Uv cure apparatus equipped with charge neutralizer - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 혼합분사수단은 이온화된 공기와 열풍이 믹싱된 혼합가스를 기재에 분사함으로써 기재인 도광판에 부착된 파티클(particle)이나 먼지 등에 대전된 입자를 공급하여 정전기를 제거하고, 아울러 일정 온도의 열풍을 공급하여 기재에 습기가 물기를 제거하여 이온화된 공기의 대전입자의 극성이 바뀌는 것을 방지하여 제전 효율을 높이며, 기재가 일정 점성을 유지하도록 하여 밀착력을 좋게 하여 성형성을 우수하게 유지할 수 있는 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치에 관한 것이다.In the present invention, the mixed spraying means injects a mixed gas mixed with ionized air and hot air to the substrate to supply particles charged to particles or dust attached to the light guide plate as a substrate to remove static electricity, and By supplying hot air to remove moisture from the substrate to prevent the polarization of the charged particles of the ionized air to change the antistatic efficiency, and to maintain a constant viscosity of the substrate to improve the adhesion to maintain excellent moldability The present invention relates to a UV curing apparatus provided with an antistatic assembly.
일반적으로 백라이트 유닛이나 디스플레이 모듈에 사용되는 도광판을 생산하는 공정에서 도광판을 만들기 위한 기재에 일정한 패턴을 형성하기 위해 UV 경화 과정을 거치게 된다.In general, in the process of producing a light guide plate used for a backlight unit or a display module, a UV curing process is performed to form a predetermined pattern on a substrate for making the light guide plate.
이 경우 기재에는 파티클이나 먼지 등이 부착되어 있어 정전기가 제거하기 위하여 대전된 입자를 공급하여 정전기를 제거하는 제전 공정을 거치게 되는데,In this case, particles or dust are attached to the base material, and thus, a static electricity removal process is performed by supplying charged particles to remove static electricity.
이러한 경우 기재에는 습기나 물기가 존재하는 경우에는 습기나 물기에 의하여 대전된 입자의 극성이 바뀌거나 스위칭되어 제전효율을 떨어지는 문제가 발생하게 된다.In this case, when moisture or water is present in the substrate, the polarity of the particles charged by moisture or water is changed or switched, thereby lowering the static elimination efficiency.
아울러 종래의 제전장치는 도광판에 프리즘 또는 확산 패턴을 형성하기 위하하여 기재인 도광판이 상온에서 일정한 점성을 유지하지 못하는 경우 패턴 형성을 어려워 성형성이 떨어지는 문제와,In addition, in the conventional antistatic device, in order to form a prism or a diffusion pattern on the light guide plate, when the light guide plate which is a substrate does not maintain a constant viscosity at room temperature, it is difficult to form a pattern, and thus formability is deteriorated.
또한 도광판에 형성된 패턴의 두께를 일정하게 유지하지 못하게 되는 문제가 있다.In addition, there is a problem in that the thickness of the pattern formed on the light guide plate cannot be kept constant.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로,The present invention has been made to solve the above problems,
혼합분사수단은 이온화된 공기와 열풍이 믹싱된 혼합가스를 기재에 분사함으로써 기재인 도광판에 부착된 파티클(particle)이나 먼지 등에 대전된 입자를 공급하여 정전기를 제거하고,The mixed spraying means sprays a mixed gas mixed with ionized air and hot air to the substrate to supply particles charged to particles or dust attached to the light guide plate as a substrate to remove static electricity,
아울러 일정 온도의 열풍을 공급하여 기재에 습기나 물기를 제거하여 이온화된 공기의 대전입자의 극성이 바뀌는 것을 방지하여 제전 효율을 높이며, 기재가 일정 점성을 유지하도록 하여 밀착력을 좋게 하여 성형성을 우수하게 유지할 수 있는 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치를 제공하는 것을 하나의 목적으로 한다.In addition, by supplying hot air of a certain temperature to remove moisture or moisture on the substrate to prevent the polarization of the charged particles of the ionized air to change the antistatic efficiency, and to maintain the constant viscosity of the substrate to improve the adhesion to improve the formability One object of the present invention is to provide a UV curing apparatus equipped with an antistatic assembly.
그리고 본 발명에 혼합모듈의 이온공급부에는 경사진 형태의 분출공이 상호 엇갈려 배열된 분출관이 구비되고, 이 분출관을 열풍공급부가 감싸는 형태로 배열되어 일정한 압력으로 공급되는 이온풍압과 열풍이 상호 혼합되면서 상쇄되거나 감퇴되는 것을 방지하여 일정한 압력의 혼합가스를 제공하고,In addition, the ion supply unit of the mixing module according to the present invention is provided with a blowout pipe in which the inclined blowout holes are arranged to cross each other, the air blower is arranged in a form surrounding the hot air supply unit, and the ion wind pressure and hot air supplied at a constant pressure are mixed with each other. To prevent offset or decay while providing a mixed gas of a constant pressure,
아울러 배기부에 평판부재와 파형부재가 상호 번갈아 배열되어 파형부재의 파형에 의하여 형성되는 토출로를 통하여 일정한 압력의 혼합가스 기재에 균일 분포되도록 공급함으로써 제전 및 제습 효율을 높일 수 있는 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치를 제공하는 것을 또 하나의 목적으로 한다.In addition, the flat plate member and the corrugated member are alternately arranged in the exhaust portion, and the antistatic assembly is provided to increase the efficiency of the dehumidification and dehumidification by supplying the gas to the mixed gas substrate at a constant pressure through the discharge path formed by the corrugated member. Another object is to provide a UV curing apparatus.
본 발명에 따른 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치는 배기부를 갖는 하우징; 및 상기 하우징과 연결되고, 이온화된 공기와 열풍을 믹싱(mixing)하는 혼합모듈과, 상기 혼합모듈과 연결되고, 상기 하우징 내에 배열된 분사모듈을 포함하는 혼합분사수단;을 포함하여 이루어진다.UV curing apparatus provided with the antistatic assembly according to the present invention comprises a housing having an exhaust; And a mixing module connected to the housing and mixing the ionized air and hot air, and a mixing module including a spray module connected to the mixing module and arranged in the housing.
그리고 본 발명에 따른 상기 혼합분사수단의 혼합모듈은 믹싱블록과, 상기 믹싱블록을 통하여 상호 연결된 이온공급부와 열풍공급부를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 한다.And the mixing module of the mixing spray means according to the invention is characterized in that it comprises a mixing block, the ion supply and the hot air supply connected to each other through the mixing block.
또 본 발명에 따른 상기 이온공급부에는 경사진 형태의 분출공이 상호 엇갈려 배열된 분출관이 더 구비되고, 상기 열풍공급부는 상기 분출관을 감싸도록 배열되어 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the ion supply unit according to the present invention is further provided with a blowoff pipe in which the inclined blowing holes are arranged alternately, the hot air supply is characterized in that arranged to surround the blowoff pipe.
더 나아가 본 발명에 따른 상기 하우징에서 상기 배기부에는 평판부재와 파형부재가 상호 번갈아 배열되어 있는 것을 특징으로 한다.Further, in the housing according to the present invention, the exhaust part is characterized in that the flat plate member and the corrugated member are alternately arranged.
본 발명에 따른 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치는 혼합분사수단은 이온화된 공기와 열풍이 믹싱된 혼합가스를 기재에 분사함으로써 기재인 도광판에 부착 된 파티클(particle)이나 먼지 등에 대전된 입자를 공급하여 정전기를 제거하고,In the UV curing apparatus equipped with the antistatic assembly according to the present invention, the mixed spray means supplies particles charged to particles or dust attached to the light guide plate as a substrate by injecting a mixed gas mixed with ionized air and hot air to the substrate. To eliminate static electricity,
아울러 일정 온도의 열풍을 공급하여 기재에 습기나 물기를 제거하여 이온화된 공기의 대전입자의 극성이 바뀌는 것을 방지하여 제전 효율을 높이며, 기재가 일정 점성을 유지하도록 하여 밀착력을 좋게 하여 성형성을 우수하게 유지할 수 있게 된다.In addition, by supplying hot air of a certain temperature to remove moisture or moisture on the substrate to prevent the polarization of the charged particles of the ionized air to change the antistatic efficiency, and to maintain the constant viscosity of the substrate to improve the adhesion to improve the formability I can keep it.
그리고 본 발명에 혼합모듈의 이온공급부에는 경사진 형태의 분출공이 상호 엇갈려 배열된 분출관이 구비되고, 이 분출관을 열풍공급부가 감싸는 형태로 배열되어 일정한 압력으로 공급되는 이온풍압과 열풍이 상호 혼합되면서 상쇄되거나 감퇴되는 것을 방지하여 일정한 압력의 혼합가스를 제공하고,In addition, the ion supply unit of the mixing module according to the present invention is provided with a blowout pipe in which the inclined blowout holes are arranged to cross each other, the air blower is arranged in a form surrounding the hot air supply unit, and the ion wind pressure and hot air supplied at a constant pressure are mixed with each other. To prevent offset or decay while providing a mixed gas of a constant pressure,
아울러 배기부에 평판부재와 파형부재가 상호 번갈아 배열되어 파형부재의 파형에 의하여 형성되는 토출로를 통하여 일정한 압력의 혼합가스 기재에 균일 분포되도록 공급함으로써 제전 및 제습 효율을 높일 수 있게 된다.In addition, the flat plate member and the corrugated member are alternately arranged in the exhaust part, so that the static elimination and dehumidification efficiency can be increased by supplying the flat member and the corrugated member to be uniformly distributed to the mixed gas substrate at a constant pressure through the discharge path formed by the corrugated member of the corrugated member.
본 발명에 따른 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치를 첨부된 도면을 참조하여 설명하면,If described with reference to the accompanying drawings, a UV curing device equipped with an antistatic assembly according to the present invention,
도 1은 본 발명에 따른 UV 경화장치의 제전어셈블리를 나타내는 단면도,1 is a cross-sectional view showing the antistatic assembly of the UV curing apparatus according to the present invention,
도 2는 본 발명에 따른 제전어셈블리의 하우징을 나타내는 사시도, 단면도, 확대도,2 is a perspective view, a sectional view, an enlarged view of a housing of an antistatic assembly according to the present invention;
도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 제전어셈블리의 평판부재 및 파형부재를 나타내는 평면도,3 and 4 are a plan view showing a flat plate member and a wave member of the antistatic assembly according to the present invention;
도 5 내지 도 7은 본 발명에 따른 혼합분사수단에서 혼합모듈의 믹싱블록 및 분출관과, 분사모듈을 나타내는 단면도,5 to 7 is a cross-sectional view showing the mixing block and the ejection pipe and the injection module of the mixing module in the mixing injection means according to the present invention,
도 8은 본 발명에 따른 UV 경화장치의 썩션어셈블리를 나타내는 사시도 및 단면도이다.8 is a perspective view and a cross-sectional view showing an assembly of the UV curing apparatus according to the present invention.
우선 본 명세서상에 사용되는 엄밀하지 않은 방향 기준을 첨부된 도 1을 참조하여 특정하면,First, referring to FIG. 1 attached to the non-strict direction reference used in the present specification,
본 발명에 따른 열풍공급부(24)가 구비된 쪽을 ‘상부 또는 상방’이라 하고, 본 발명에 따른 이온공급부(26)가 구비된 쪽을 ‘하부 또는 하방’이라 특정한다.The side provided with the hot
그리고 본 발명에 따른 UV 경화장치는 제전어셈블리(CN), 썩션어셈블리(SA), 기타 보조 제전어셈블리(미도시)와, UV 경화어셈블리(미도시)를 포함하여 이루어지며,In addition, the UV curing apparatus according to the present invention is made of an antistatic assembly (CN), an assembly assembly (SA), other auxiliary antistatic assembly (not shown), and UV curing assembly (not shown),
상기 제전어셈블리, 썩션어셈블리 및 보조 제전어셈블리 등은 순차적으로 또는 다른 배열 순으로 또는 반복하여 배열되는 등 다양한 형태로 구현될 수 있다. The antistatic assembly, the interruption assembly, the auxiliary antistatic assembly, and the like may be implemented in various forms, such as being arranged sequentially or in a different order or repeatedly.
도 1 내지 도 7에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치는As shown in Figure 1 to Figure 7 UV curing device equipped with an antistatic assembly according to the invention
배기부(12)를 갖는 하우징(10); 및 상기 하우징(10)과 연결되고, 이온화된 공기와 열풍을 믹싱(mixing)하기 위한 혼합모듈(20)과, 상기 혼합모듈(20)과 연결되고, 상기 하우징(10) 내에 배열된 분사모듈(30)을 포함하는 혼합분사수단(MS);을 포함하여 이루어진다.A
도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치에서, 상기 하우징(10)은1 to 4, in the UV curing apparatus provided with the antistatic assembly according to the present invention, the
일정한 길이를 갖는 장방형 형태로 이루어지고,Has a rectangular shape with a constant length,
그 내부에 형성된 챔버(11)와,A
상기 챔버(11) 하부에 형성되고, 하우징(10)의 길이방향을 따라 형성된 배기부(12)를 포함하여 이루어진다.It is formed below the
본 발명에 따른 하우징(10) 일측에는 상기 챔버(11)와 연통된 수용부(13)가 형성되고,One side of the
상기 챔버(11) 내에는 상기 수용부(13)를 통하여 분사모듈(30)의 분사파이프(31)가 투입되어 배열되며,In the
상기 수용부(13) 주변에는 혼합모듈(20)의 믹싱블록(21)을 장착시키기 위한 결합부(14)가 복수로 구비되고, 상기 결합부(14)의 내주면에는 나사산이 형성된다.A plurality of
그리고 상기 배기부(12)는 장방형 형태로 이루어지고, 상기 분사모듈(30)의 분사파이프(31)를 통하여 분사되는 혼합가스(즉 이온화된 공기와 열풍이 혼합된 가스)를 기재에 토출함으로써 정전기 및 습기를 제거하게 된다.In addition, the
더 나아가 하기할 분사모듈(30)의 분사파이프(31)에는 상기 배기부(12)를 향해 상호 이격된 분사공(31a)이 형성되는데,Further, in the
이 경우 상기 분사공(31a)을 통하여 분출되는 혼합가스는 일정한 압력으로 분사되기 때문에 상기 배기부(12)의 폭이 지나치게 좁은 경우에는 혼합가스가 역류하는 현상이 일어날 수 있고,In this case, since the mixed gas jetted through the
반대로 상기 배기부(12)의 폭이 지나치게 넓은 경우에는 혼합가스가 배기부(12)를 직접 통과하여 기재의 특정 부분으로만 집중되는 현상이 일어나 제전 및 제습 효율이 떨어지는 문제가 발생하게 된다.On the contrary, when the width of the
따라서 본 발명에 따른 배기부(12)에는 복수의 평판부재(15)와 파형부재(16)가 상호 번갈아 배열되고,Therefore, in the
상기 파형부재(16)의 파형에 의하여 평판부재(15) 사이에 지그재즈 형태로 배열되는 토출로(17)를 통하여 분출되는 혼합가스가 기재에 균일하게 분포되도록 함으로써 제전 및 제습 효율을 높일 수 있게 된다.Due to the waveform of the
그리고 상기 배기부(12)에는 그 하부에 상기 평판부재(15)와 파형부재(16)를 수용하기 위한 수납부(12a)가 형성되고,In the
상기 평판부재(15)와 파형부재(16)의 양단부에는 오목한 형태의 고정부(15a)(16a)가 형성되며,
상기 수납부(12a) 양단부에는 하우징(10)과 힌지 결합된 고정블록(12b)이 구비되어 평판부재(15)와 파형부재(16)의 고정부(15a)(16a) 상부 및 하부에 배열된 평면부(15b)(16b)를 지지하게 된다.Both ends of the
이 경우 상기 각 고정블록(12b)은 힌지축을 중심으로 외측방향으로 일정한 각도로 조절가능한데,In this case, each
이때 상기 평판부재(15)와 파형부재(16)를 수납부(12a)에 삽입되는 경우 상기 각 고정블록(12b)은 원상태로 복귀하면서 상기 평판부재(15)와 파형부재(16)의 각 평면부(15b)(16b)와 맞닿게 되어 상기 고정블록(12b)이 상기 평판부재(15)와 파형부재(16)를 지지하게 된다.In this case, when the
아울러 상기 각 고정블록(12b) 내측 방향에는 고정블록(12b)과 근접한 위치에 상기 수납부(12a)를 관통하는 삽입공(12c)이 형성되고,In addition, an
상기 삽입공(12c)에는 고정핀(12d)이 삽입되어 상기 수납부(12a)에 수용된 상기 평판부재(15)와 파형부재(16)의 각 고정부(15a)(16a)에 배열됨으로써 상기 평판부재(15)와 파형부재(16)를 수납부(12a)에 고정시키게 된다.A
그리고 상기 하우징(10) 상면부에는 장착부(18)가 형성되어 본 발명에 따른 제전어셈블리(CN)가 사용되는 UV 경화장치이나 공정 라인을 구성하기 위한 프레임(미도시)이나 본체에 장착시킬 수 있게 된다.And the
도 1, 도 2, 도 5 내지 도 7에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치에서, 상기 혼합분사수단(MS)은1, 2, 5 to 7 in the UV curing apparatus equipped with the antistatic assembly according to the present invention, the mixed injection means (MS) is
상기 하우징(10)과 연결되고, 이온화된 공기와 열풍을 믹싱(mixing)하기 위한 혼합모듈(20)과, 상기 혼합모듈(20)과 연결되고, 상기 하우징(10) 내에 배열된 분사모듈(30)을 포함하여 이루어진다.A mixing module 20 connected to the
즉 본 발명에 따른 혼합분사수단(MS)은 이온화된 공기와 열풍이 믹싱된 혼합가스를 기재에 분사함으로써 기재인 도광판에 부착된 파티클(particle)이나 먼지 등에 대전된 입자를 공급하여 정전기를 제거하고,In other words, the mixed injection means (MS) according to the present invention by spraying a mixed gas mixed with ionized air and hot air to the substrate to supply the charged particles (particles) and dust attached to the light guide plate as a substrate to remove static electricity ,
아울러 일정 온도의 열풍을 공급하여 기재에 습기나 물기를 제거하여 이온화된 공기의 대전입자의 극성이 바뀌는 것을 방지하여 제전 효율을 높이며,In addition, by supplying hot air at a constant temperature to remove moisture or moisture on the substrate to prevent the polarization of the charged particles of the ionized air to increase the antistatic efficiency,
기재가 일정 점성을 유지하도록 하여 밀착력을 좋게 하여 성형성을 우수하게 유지할 수 있게 된다.It is possible to maintain excellent viscosity to improve the adhesion by allowing the substrate to maintain a constant viscosity.
이를 위한 본 발명에 따른 혼합분사수단(MS)에서 상기 혼합모듈(20)은In the mixing injection means (MS) according to the invention for this purpose the mixing module 20 is
이온화된 공기인 이온풍을 공급하기 위한 이온공급부(24)와,An
일정한 온도의 열풍을 공급하기 위한 열풍공급부(26)와,Hot
그리고 상기 이온공급부(24)의 이온풍과 상기 열풍공급부(26)의 열풍을 혼합하기 위한 믹싱블록(21)을 포함하여 이루어진다. And a mixing
상기 혼합모듈(20)에서 믹싱블록(21)은 상기 이온공급부(24)와 연결되는 제1 연결부(21a)와,In the mixing module 20, the mixing
상기 제1 연결부(21a)의 반대편에 배열되고, 상기 열풍공급부(26)와 연결되는 제2 연결부(21b)와,A second connecting
상기 제1 및 제2 연결부(21a)(21b)를 잇는 혼합유로(22)와,A mixing
상기 혼합유로(22)와 연통되고, 상기 제1 및 제2 연결부(21a)(21b)와 직교하는 형태로 배열되어 상기 분사모듈(30)의 분사파이프(31)와 연결되는 제3 연결부(21c)를 포함하여 이루어진다.A
그리고 상기 제1 , 제2 및 제3 연결부(21a)(21b)(21c)에는 각각 그 내주면에 나사산이 형성되어 상기 각 연결부(21a)(21b)(21c)에 대응하도록 형성된 이온공급부(24)의 제1 대응연결부(24e), 열풍공급부(26)의 제2 대응연결부(26e) 및 분사모듈(30)의 분사파이프(31)의 제3 대응연결부(31b)가 각각 나사체결방식에 의하여 결합된다.The first, second, and third connecting
아울러 상기 믹싱블록(21)에는 상기 하우징(10)의 결합부(14)에 대응하는 대 응결합부(23)가 형성 관통공 형태로 이루어져,In addition, the mixing
상기 결합부(14)와 대응결합부(23)가 결합볼트(미도시)에 의하여 체결 결합되며,The
이 경우 상기 제3 연결부(21c) 주변에는 돌출부(21d)가 형성되어 상기 하우징(10)의 수용부(13)에 삽입 배열되어 기밀성을 유지하여 혼합가스가 외부로 누출되는 것을 방지하게 된다.In this case, a protruding
그리고 본 발명에 따른 혼합분사수단(MS)에서 상기 혼합모듈(20)의 이온공급부(24)는And the
몸체(24a)와,
상기 몸체(24a) 하부에 배열되고, 이온화된 공기가 담겨져 대전된 입자를 생성하여 공급하는 대전입자 생성부(24f)와 공급관(P)에 의하여 연결된 제1 유입부(24b)와,A
상기 몸체(24a) 일측에 배열되어 이온풍의 풍량을 조절하기 위한 제1 조절부(24c)와,A first adjusting
상기 몸체(24a) 상부에 배열되는 제1 유입관(24d)을 포함하여 이루어지고,It comprises a
상기 제1 유입관(24d) 단부에는 상기 믹싱블록(21)의 제1 연결부(21a)에 결합되는 제1 대응연결부(24e)가 구비된다.A first
특히 본 발명에 따른 혼합모듈(20)에서 상기 이온공급부(24)의 제1 유입 관(24d)에는 경사진 형태의 분출공(25a)이 상호 엇갈려 배열된 분출관(25)이 연결되는데,Particularly, in the mixing module 20 according to the present invention, the
상기 분출관(25)의 분출공(25a)의 경사 방향은 제1 유입관(24d) 내에서 이온풍의 유동 방향과 반대 방향, 즉 도 1 및 도 6 상에서 아랫방향으로 이온풍이 분출되도록 구성된다.The inclination direction of the
이는 하기할 열풍공급부(26)에 구비된 제2 유입관(26d)에 상기 분출관(25)이 삽입되고,This is the
이때 열풍공급부(26)에서 공급되는 열풍이 제2 유입관(26d) 내에서의 유동방향과 이온풍의 유동방향을 동일하게 유지함으로써 일정한 압력으로 유입되는 이온풍압과 열풍압이 상호 상쇄되는 것을 방지하여 혼합가스의 분출압을 일정하게 유지하기 위함이다.At this time, the hot wind supplied from the hot
아울러 상기 분출관(25)의 분출공(25a)이 상호 엇갈린 형태로 배열되는 것은In addition, the ejection holes 25a of the
상기 분출공(25a)이 동일한 위치에 배열되는 경우 이온풍이 동일한 위치에서 동시에 분출됨으로써 이온풍의 분출압이 감쇄되는 현상이 발생하는 것을 방지하여When the ejection holes 25a are arranged at the same position, the ion wind is simultaneously ejected at the same position, thereby preventing the phenomenon that the ejection pressure of the ion wind is attenuated.
일정한 압력으로 공급되는 이온풍압을 그대로 유지하기 위함이다.This is to maintain the ion wind pressure supplied at a constant pressure.
즉 상기 분출관(25)의 각 분출공(25a)은 상호 대칭하는 위치에 배열되고,That is, each of the blow holes 25a of the
일측에 배열되는 복수의 분출공(25a)과 타측에 배열된 복수의 분출공(25a)은 상호 그 형성 위치를 달리하면서 엇갈려 배열됨으로써 이온풍의 분출압이 감쇄되지 않고 일정한 압력으로 분출될 수 있게 된다.The plurality of
아울러 본 발명에 따른 혼합분사수단(MS)에서 상기 혼합모듈(20)의 열풍공급부(26)는In addition, the hot
몸체(26a)와,Body 26a,
상기 몸체(26a) 하부에 배열되고, 일정한 온도의 열풍을 생성하여 공급하는 열풍 생성부(26f)와 공급관(P)에 의하여 연결된 제2 유입부(26b)와,A
상기 몸체(26a) 일측에 배열되어 열풍의 풍량을 조절하기 위한 제2 조절부(26c)와,A second adjusting unit 26c arranged at one side of the body 26a to adjust the amount of hot air;
상기 몸체(26a) 상부에 배열되는 제2 유입관(26d)을 포함하여 이루어지고,It comprises a
상기 제2 유입관(26d) 단부에는 상기 믹싱블록(21)의 제2 연결부(21b)에 결합되는 제2 대응연결부(26e)가 구비된다.At the end of the
그리고 상기한 바와 같이 상기 열풍공급부(26)의 제2 유입관(26d) 내에는 상기 이온공급부(24)의 분출관(25)이 내장되고, 더 엄밀하게는 상기 분출관(25)에서 분출공(25a)이 형성된 부분까지 상기 제2 유입관(26d)이 감싸는 형태로 배열되어As described above, the
이온풍과 열풍이 혼합되어 상기 믹싱블록(21)의 혼합유로(22)를 통하여 분사모듈(30)로 공급된다.Ion wind and hot air are mixed and supplied to the
본 발명에 따른 혼합분사수단(MS)에서 상기 분사모듈(30)은The
원통형상의 분사파이프(31)와,A
상기 분사파이프(31) 하부에는 상기 혼합모듈(20)에서 공급되는 혼합가스를 분사하기 위한 분사공(31a)이 다수 개수 형성되어 혼합가스를 하우징(10)의 배기부(12)로 공급하게 된다.A plurality of
그리고 상기 분사파이프(31)는 그 일단부가 막힌 형태로 이루어져 혼합가스의 누출을 차단하여 분출압을 일정하게 유지하고, 그 타단부는 상기 믹싱블록(21)의 제3 연결부(21c)와 결합되는 제3 대응연결부(31b)가 형성된다.In addition, the
다음으로 도 8에 도시된 바와 같이 본 발명에 따른 UV 경화장치는 상기 제전어셈블리(MS)에 의한 제전 공정 전 또는 그 후 공정으로 썩션어셈블리(SA)가 더 구비되는데,Next, as shown in FIG. 8, the UV curing apparatus according to the present invention further includes a traction assembly SA before or after the antistatic process by the antistatic assembly MS.
상기 썩션어셈블리(SA)를 기재에 부착된 파티클이나 먼지 등의 이물질 등을 빨아들여 기재를 청결하게 유지하고,The substrate is kept clean by sucking foreign matters such as particles or dust attached to the base assembly SA.
동시에 정전기 발생의 원인을 차단하는 역할을 하게 된다.At the same time, it serves to block the cause of static electricity.
본 발명에 따른 썩션어셈블리(SA)는Suction assembly (SA) according to the present invention is
유로부(41)가 형성된 본체(40)와,The
상기 본체(40) 하부에 배열되고, 상기 유로부(41)와 연통된 흡기부(44)와,An
상기 본체(40) 상부에 배열되고, 상기 유로부(41)와 연통된 배기부(45)를 포함하여 이루어지고,Is arranged above the
상기 배기부(45)에는 흡입장치(미도시)가 연결되어 흡입압을 제공하게 된다.A suction device (not shown) is connected to the
그리고 본체(40)의 유로부(41)에는 하협상광(下狹上廣) 형태의 제1 유도블록(42)과In addition, the
하광상협(下廣上狹) 형태의 제2 유도블록(43)이 상호 연결되어 배열되고,The
상기 본체(40)는 대략적으로 단면 형상이 역삼각형 형태로 이루어져 상기 유로부(41)의 하부 부분의 유도로는 상기 제1 유도블록(42) 외벽면을 따라 협소하게 형성되어 상기 흡기부(44)와 연결되고,The
상기 유로부(41)의 상부 부분은 상대적으로 넓게 형성된 유도로를 갖게 된다.The upper portion of the
따라서 상기 흡기부(44)를 통하여 흡입되는 공기는 상기 유로부(41)의 하부 부분 유도로를 따라 빠른 속도로 유입되고,Therefore, the air sucked through the
이렇게 유입된 흡입공기는 상기 유로부(41)의 상부 부분 유도로에 모이게 되어 상기 배기부(45)를 통하여 배출된다.The intake air thus introduced is collected in the upper part induction path of the
이상에서 첨부된 도면을 참조하여 본 발명인 제전어셈블리가 구비된 UV 경화장치를 설명함에 있어 특정 형상 및 방향을 위주로 설명하였으나, 본 발명은 당업 자에 의하여 다양한 변형 및 변경이 가능하고, 이러한 변형 및 변경은 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.In the above description with reference to the accompanying drawings, the present invention, the UV curing apparatus provided with the antistatic assembly has been described mainly in a specific shape and direction, the present invention is capable of various modifications and changes by those skilled in the art, such variations and modifications Should be construed as being included in the scope of the invention.
도 1은 본 발명에 따른 UV 경화장치의 제전어셈블리를 나타내는 단면도,1 is a cross-sectional view showing the antistatic assembly of the UV curing apparatus according to the present invention,
도 2는 본 발명에 따른 제전어셈블리의 하우징을 나타내는 사시도, 단면도, 확대도,2 is a perspective view, a sectional view, an enlarged view of a housing of an antistatic assembly according to the present invention;
도 3 및 도 4는 본 발명에 따른 제전어셈블리의 평판부재 및 파형부재를 나타내는 평면도,3 and 4 are a plan view showing a flat plate member and a wave member of the antistatic assembly according to the present invention;
도 5 내지 도 7은 본 발명에 따른 혼합분사수단에서 혼합모듈의 믹싱블록 및 분출관과, 분사모듈을 나타내는 단면도,5 to 7 is a cross-sectional view showing the mixing block and the ejection pipe and the injection module of the mixing module in the mixing injection means according to the present invention,
도 8은 본 발명에 따른 UV 경화장치의 썩션어셈블리를 나타내는 사시도 및 단면도.8 is a perspective view and a cross-sectional view showing an assembly of the UV curing apparatus according to the present invention.
< 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 ><Explanation of Signs of Major Parts of Drawings>
CN : 제전어셈블리 SA : 썩션어셈블리CN: Antistatic assembly SA: Action assembly
MS : 혼합분사수단 P : 공급관MS: Mixed injection means P: Supply pipe
10 : 하우징 11 : 챔버10
12 : 배기부 12a : 수납부12:
12b : 고정블록 12c : 삽입공12b: fixed
12d : 고정핀 13 : 수용부12d: fixing pin 13: receiving portion
14 : 결합부 15 : 평판부재14
16 : 파형부재 15a, 16a : 고정부16:
15b, 16b : 평면부 17 : 토출로15b, 16b: flat part 17: discharge path
18 : 장착부18: mounting portion
20 : 혼합모듈 21 : 믹싱블록20: mixing module 21: mixing block
21a, 21b, 21c : 제1, 제2 및 제3 연결부 21d : 돌출부21a, 21b, 21c: first, second and
22 : 혼합유로 23 : 대응결합부22: mixing flow path 23: counterpart coupling portion
24 : 이온공급부 24a : 몸체24:
24b : 제1 유입부 24c : 제1 조절부24b:
24d : 제1 유입관 24e : 제1 대응연결부24d:
24f : 대전입자 생성부 25 : 분출관24f: charged particle generating unit 25: ejection pipe
25a : 분출공 26 : 열풍공급부25a: blowout hole 26: hot air supply
26a : 몸체 26b : 제2 유입부26a:
26c : 제2 조절부 26d : 제2 유입관26c:
26e : 제2 대응연결부 26f : 열풍 생성부26e:
30 : 분사모듈 31 : 분사파이프30: injection module 31: injection pipe
31a : 분사공 31b : 제3 대응연결부31a:
40 : 본체 41 : 유로부40: main body 41: flow path
42 : 제1 유도블록 43 : 제2 유도블록42: first induction block 43: second induction block
44 : 흡기부 45 : 배기부44: intake portion 45: exhaust portion
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CN102861696A (en) * | 2012-09-14 | 2013-01-09 | 苏州市商祺光电有限公司 | Spraying device and spraying process for side reflection shading films of light guide plates |
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- 2009-12-03 KR KR1020090119050A patent/KR100955256B1/en not_active IP Right Cessation
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