KR100954363B1 - Probe and making method of probe - Google Patents
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Abstract
제조 비용이 절감되고 검사 신뢰성이 향상된 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법이 제공된다.Provided are probes and methods for manufacturing probes for use in probe cards with reduced manufacturing costs and improved inspection reliability.
프로브의 제조 방법은 가요성 판을 마련하는 단계, 상기 가요성 판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 프로브의 판면에 대응하는 프로브 영역을 개구하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 프로브 영역에 도전성 물질을 채워 상기 프로브를 형성하는 단계 및 상기 가요성 판을 휘어서 상기 가요성 판으로부터 상기 프로브를 분리하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a probe includes providing a flexible plate, forming a photoresist layer on the flexible plate, exposing and developing the photoresist layer to open a probe region corresponding to the plate surface of the probe. Forming a pattern, filling the probe region with a conductive material to form the probe, and bending the flexible plate to separate the probe from the flexible plate.
프로브 카드, 프로브, 가요성 판 Probe card, probe, flexible plate
Description
본 발명은 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 공간 변환이 수행되는 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a probe and a method of manufacturing a probe for use in a probe card including a printed circuit board, and more particularly, to a probe and a method for manufacturing a probe for a probe card in which a spatial transformation is performed.
일반적으로 반도체 디바이스는 웨이퍼(wafer) 상에 회로 패턴 및 검사를 위한 접촉 패드를 형성하는 패브리케이션(fabrication) 공정과 회로 패턴 및 접촉 패드가 형성된 웨이퍼를 각각의 반도체 칩으로 조립하는 어셈블리(assembly) 공정을 통해서 제조된다.In general, semiconductor devices have a fabrication process of forming contact pads for circuit patterns and inspections on a wafer, and an assembly process of assembling wafers having circuit patterns and contact pads into respective semiconductor chips. It is manufactured through.
패브리케이션 공정과 어셈블리 공정 사이에는 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 전기 신호를 인가하여 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 검사 공정이 수행된다. 이 검사 공정은 웨이퍼의 불량을 검사하여 어셈블리 공정 시 불량이 발생한 웨이퍼의 일 부분을 제거하기 위해 수행하는 공정이다.An inspection process is performed between the fabrication process and the assembly process to inspect the electrical characteristics of the wafer by applying an electrical signal to the contact pads formed on the wafer. This inspection process is performed to inspect a defect of a wafer and to remove a portion of a wafer in which a defect occurs during an assembly process.
검사 공정 시에는 웨이퍼에 전기적 신호를 인가하는 테스터라고 하는 검사 장비와 웨이퍼와 테스터 사이의 인터페이스 기능을 수행하는 프로브 카드라는 검사 장비가 주로 이용된다. 이 중에서 프로브 카드는 테스터로부터 인가되는 전기 신호 를 수신하는 인쇄 회로 기판 및 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 복수개의 프로브를 포함한다.In the inspection process, inspection equipment called a tester for applying an electrical signal to a wafer and probe equipment for performing an interface function between the wafer and the tester are mainly used. Among them, the probe card includes a printed circuit board that receives an electrical signal applied from a tester and a plurality of probes in contact with contact pads formed on the wafer.
이하, 도 1을 참조하여 종래의 프로브 카드를 설명한다.Hereinafter, a conventional probe card will be described with reference to FIG. 1.
도 1은 종래의 프로브 카드를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional probe card.
도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 프로브 카드(10)는 인쇄 회로 기판(11), 인터포져(12), 공간 변환기(13) 및 프로브(14)를 포함한다.As shown in FIG. 1, a
인쇄 회로 기판(11)은 검사 공정을 위해 형성된 프로브 회로 패턴(미도시) 및 기판 패드(11a)를 포함하며, 테스터(미도시)로부터 인가된 전기 신호를 수신하여 프로브(14)로 전달하는 기능을 수행한다.The printed
인터포져(12)는 인쇄 회로 기판(11)의 프로브 회로 패턴과 연결되어 인쇄 회로 기판(11)과 프로브(14) 사이를 전기적으로 연결하는 기능을 수행한다.The
공간 변환기(13)는 상면에 형성되어 있으며, 인터포져(12)와 연결된 제 1 패드(13a) 및 하면에 형성되어 있으며, 프로브(14)와 연결된 제 2 패드(13b)를 포함한다. 서로 마주하는 제 2 패드(13b)간 거리는 서로 마주하는 제 1 패드(13a)간 거리보다 좁게 형성되어, 공간 변환기(13)는 인터포져(12)로부터 프로브(14)까지 공간 변환의 기능을 수행한다.The
프로브(14)는 검사 공정 시, 웨이퍼 등의 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드와 접촉하여, 테스터(미도시)로부터 인쇄 회로 기판(11), 인터포져(12) 및 공간 변환기(13)를 통해 프로브(14)로 전달된 전기 신호를 접촉 패드로 전달한다.The
이상과 같이, 종래의 프로브 카드(10)는 피검사체에 미세 피치(pitch)로 형 성된 접촉 패드와 접촉하기 위해 공간 변환의 기능을 수행하는 공간 변환기(13)를 필수적으로 사용하였다.As described above, the
그런데, 종래의 프로브 카드(10)는 공간 변환기(13)로서, 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC) 등의 고가의 재료를 사용하기 때문에 제조 비용이 상승하는 문제가 있었다.By the way, since the
또한, 종래의 프로브 카드(10)는 프로브(14) 전체가 외부로 노출되어 있기 때문에, 검사 공정 시 피검사체에 형성된 접촉 패드 또는 접촉 패드 상에 위치할 수 있는 파티클(particle) 등의 간섭에 의해 프로브(14)가 최초 설정된 위치로부터 이격되어 그 다음 검사 공정 시 검사 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.In addition, since the
본 발명의 일 실시예는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로써, 제조 비용을 절감하고 검사 신뢰성을 향상시킬 수 있는 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.One embodiment of the present invention is to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide a probe and a method for manufacturing a probe used in a probe card that can reduce the manufacturing cost and improve the inspection reliability.
상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 제 1 측면은 프로브 카드에 사용되는 판형의 프로브의 제조 방법에 있어서, 가요성 판을 마련하는 단계, 상기 가요성 판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 프로브의 판면에 대응하는 프로브 영역을 개구하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 프로브 영역에 도전성 물질을 채워 상기 프로브를 형성하는 단계 및 상기 가요성 판을 휘어서 상기 가요성 판으로부터 상기 프로브를 분리하는 단계를 포함하는 프로브의 제조 방법이 제공된다.As a technical means for achieving the above-described technical problem, the first aspect of the present invention is a method for manufacturing a plate-shaped probe used for a probe card, comprising the steps of: providing a flexible plate, a photoresist layer on the flexible plate Forming a photoresist pattern, exposing and developing the photoresist layer to open a probe region corresponding to the plate surface of the probe, filling the probe region with a conductive material to form the probe, and A method of making a probe is provided that includes bending a flexible plate to separate the probe from the flexible plate.
상기 가요성 판과 상기 포토레지스트층 사이에 위치하도록 도전층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming a conductive layer to be positioned between the flexible plate and the photoresist layer.
상기 프로브를 형성하는 단계는 상기 도전층을 이용한 도금 공정에 의해 형성될 수 있다.The forming of the probe may be formed by a plating process using the conductive layer.
상기 프로브를 이용하여 상기 도전층을 에칭하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include etching the conductive layer using the probe.
상기 가요성 판과 상기 도전층 사이에 위치하도록 접착층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming an adhesive layer to be positioned between the flexible plate and the conductive layer.
상기 프로브를 이용하여 상기 도전층 및 상기 접착층을 에칭하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include etching the conductive layer and the adhesive layer using the probe.
상기 가요성 판은 도전성 물질로 이루어져 있을 수 있다.The flexible plate may be made of a conductive material.
상기 프로브를 형성하는 단계는 상기 가요성 판을 이용한 도금 공정에 의해 형성될 수 있다.Forming the probe may be formed by a plating process using the flexible plate.
상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include removing the photoresist pattern.
또한, 본 발명의 제 2 측면은 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 형성된 슬릿에 지지되는 판형의 프로브에 있어서, 본체부 및 상기 본체부와 일체로 형성되어 있으며, 상기 인쇄 회로 기판에 연결되는 리드부를 포함하며, 상기 본체부는, 외팔보부, 외팔보 회전 공간부, 상기 외팔보부의 종단 상부에 형성되는 접촉 가이드부 및 상기 외팔보부의 종단 하부에 형성되는 접촉 핀부를 포함하되, 상기 외팔보부, 상기 외팔보 회전 공간부 및 상기 접촉 가이드부는 상기 슬릿 내부로 삽입되어 위치하는 것인 프로브를 제공한다.In addition, a second aspect of the present invention is a plate-shaped probe supported by a slit formed on a probe card including a printed circuit board, which is formed integrally with the main body portion and the main body portion, and is connected to the printed circuit board. And a main body portion, including a cantilever portion, a cantilever rotating space portion, a contact guide portion formed at an upper end of the cantilever portion, and a contact pin portion formed at an end portion of the cantilever portion, wherein the cantilever portion and the cantilever rotating space are included. Part and the contact guide provides a probe that is inserted into the slit and positioned.
상기 프로브 카드에는 수평 지지부 수용 홈이 더 형성되어 있으며, 상기 본체부는 수평 방향으로 돌출되어 있으며, 상기 수평 지지부 수용 홈에 고정되는 수평 지지부를 더 포함할 수 있다.The probe card may further include a horizontal support accommodating groove, and the main body may further include a horizontal support protruding in the horizontal direction and fixed to the horizontal support accommodating groove.
상기 본체부는 결합 시 상기 슬릿 내부로 삽입되어 상기 슬릿의 측벽을 탄성 지지하는 측벽 지지부를 더 포함할 수 있다.The body part may further include a sidewall support part inserted into the slit when elastically supporting the sidewall of the slit.
전술한 본 발명의 과제 해결 수단의 일부 실시예 중 하나에 의하면, 구조를 향상시켜 제조 비용을 절감하고 검사 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.According to one of the embodiments of the above-described problem solving means of the present invention, there is an effect of improving the structure to reduce the manufacturing cost and improve the inspection reliability.
아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.
명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재와 “상에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 “포함” 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a member is located “on” another member, this includes not only when one member is in contact with another member but also when another member exists between the two members. In addition, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, without excluding other components unless otherwise stated.
이하, 도 2 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)를 설명한다.Hereinafter, the
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a probe card according to a first embodiment of the present invention.
도 2에 도시된 바와 같이, 프로브 카드(1000)는 인쇄 회로 기판(100), 하부 보강판(200), 결합 나사(300), 프로브 지지 기판(400), 프로브 가이드 기판(500), 프로브(600) 및 보호 커버(700)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the
인쇄 회로 기판(100)은 인쇄 회로 기판 본체부(110), 제 1 단자부(120), 제 2 단자부(130) 및 제 1 중공부(140)를 포함한다.The printed
인쇄 회로 기판 본체부(110)는 대략 원판 형상으로 형성되며, 검사 공정을 위한 회로 패턴이 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 내부에는 공간 변환을 수행하는 공간 변환 배선(111)이 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판 본체부(110)는 상부면(112) 및 상부면(112)과 대향하는 하부면(113)을 포함한다.The printed circuit board
제 1 단자부(120)는 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 상부면(112) 중 내주부에 형성되어 있으며, 후술할 프로브(600)의 리드부(620)가 연결되어 있다.The first
제 2 단자부(130)는 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 상부면(112) 중 외주부에 형성되어 있으며, 검사 공정을 위한 테스터와 연결될 수 있다.The
제 1 단자부(120) 및 제 2 단자부(130)는 공간 변환 배선(111)과 연결되어 있으며, 제 1 단자부(120)와 제 2 단자부(130)의 사이는 공간 변환 배선(111)으로 인해 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 내부에서 공간 변환된다.The
제 1 중공부(140)는 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 중앙 영역에 위치하며, 인쇄 회로 기판 본체부(110)를 관통하여 형성되어 있다. 제 1 중공부(140) 내에는 프로브(600)의 리드부(620)가 위치하고 있다.The first
인쇄 회로 기판(100)의 하측에는 하부 보강판(200)이 위치하고 있다.The lower reinforcement plate 200 is positioned below the printed
하부 보강판(200)은 인쇄 회로 기판(100)과 후술할 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500) 사이에 위치하고 있다. 하부 보강판(200)의 중앙 영역에는 제 2 중공부(210)가 형성되어 있으며, 제 2 중공부(210) 내에는 프로브(600)의 리드부(620)가 위치하고 있다. 하부 보강판(200)은 인쇄 회로 기판 본체부(110) 의 하부면(113)에 결합되어 있으며, 외부의 충격 등으로부터 인쇄 회로 기판(100)을 보호하는 역할을 한다. 하부 보강판(200)은 후술할 결합 나사(300)에 의해, 인쇄 회로 기판(100), 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500)과 나사 결합하고 있다. 구체적으로, 하부 보강판(200)은 인쇄 회로 기판(100), 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500)을 상호 결합시키는 역할을 하며, 외부의 충격 등으로부터 인쇄 회로 기판(100), 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500)을 보호한다.The lower reinforcement plate 200 is positioned between the printed
결합 나사(300)는 제 1 나사(310), 제 2 나사(320) 및 제 3 나사(330)를 포함한다. 제 1 나사(310)는 인쇄 회로 기판(100)을 관통하여 하부 보강판(200)에 삽입되어 있고, 제 2 나사(320)는 프로브 지지 기판(400)을 관통하여 하부 보강판(200)에 삽입되어 있으며, 제 3 나사(330)는 프로브 가이드 기판(500)을 관통하여 하부 보강판(200)에 삽입되어 있다.The
프로브 지지 기판(400)은 프로브 가이드 기판(500)의 상부에 결합되어 있으며, 하부 보강판(200)과 프로브 가이드 기판(500) 사이에 위치하고 있다. 프로브 지지 기판(400)은 유리 등의 세라믹 또는 실리콘으로 형성되며, 관통홀(410) 및 수평 지지부 수용 홈(420)을 포함한다.The
관통홀(410)은 후술할 프로브 가이드 기판(500)의 슬릿(510)과 연통하도록 복수개로 형성되어 있으며, 제 1 중공부(140) 및 제 2 중공부(210)와 대응하고 있다. 관통홀(410) 내에는 프로브(600)의 리드부(620)가 위치하고 있다.The through
수평 지지부 수용 홈(420)은 프로브 지지 기판(400)과 프로브 가이드 기 판(500) 사이에 대응하는 프로브 지지 기판(400)의 하부면에 형성되어 있다. 수평 지지부 수용 홈(420)의 내부에는 후술할 프로브(600)의 수평 지지부(615)가 위치하고 있다. 구체적으로, 수평 지지부 수용 홈(420)은 프로브(600)의 수평 지지부(615)를 프로브 가이드 기판(500)에 대해 고정하고 있다.The horizontal
다른 실시예에서, 관통홀(410)은 프로브 지지 기판(400)의 중앙 영역에 프로브 가이드 기판(500)의 슬릿(510)과 연통하도록 한 개로 형성될 수 있다.In another embodiment, the through
프로브 지지 기판(400) 하측에는 프로브 가이드 기판(500)이 위치하고 있다.The
프로브 가이드 기판(500)은 복수개의 프로브 고정용 슬릿(510)을 포함한다. 각 슬릿(510)은 서로 이격되어 관통홀(410)과 연통되도록 형성되며, 각 슬릿(510)에는 프로브(600)가 삽입되어 있다.The
도 3은 도 2의 A부분의 확대도이며, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에 포함되어 있는 프로브의 사시도이다.3 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2, and FIG. 4 is a perspective view of a probe included in the probe card according to the first embodiment of the present invention.
도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 프로브(600)는 판형이며, 서로 일체로 형성된 본체부(610) 및 리드부(620)를 포함한다.As shown in FIGS. 3 and 4, the
본체부(610)는 외팔보부(611), 외팔보 회전 공간부(612), 접촉 핀부(613), 접촉 가이드부(614), 수평 지지부(615) 및 측벽 지지부(616)를 포함한다.The
외팔보부(611)는 컨틸레버(cantilever)형으로 형성되어 있으며, 검사 공정 시 접촉 핀부(613)가 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드에 탄성적으로 대응할 수 있도록 한다. 외팔보부(611)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 외팔보부(611) 상측에는 외팔보 회전 공간부(612)가 위치하고 있다.The
외팔보 회전 공간부(612)는 외팔보부(611)가 탄성을 가질 수 있도록 외팔보부(611)의 상측 공간을 형성하고 있다. 외팔보 회전 공간부(612)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 외팔보부(611)를 사이에 두고 외팔보 회전 공간부(612)와 대향하는 외팔보부(611)의 종단 하부에는 접촉 핀부(613)가 위치하고 있다.The
접촉 핀부(613)는 슬릿(510) 외부에 위치하고 있으며, 검사 공정 시 반도체 장치 등의 피검사체에 형성된 접촉 패드와 접촉하여 접촉 패드에 검사 신호를 전달하는 역할을 한다. 외팔보부(611)를 사이에 두고 접촉 핀부(613)와 대향하여 외팔보부(611)의 종단 상부에는 접촉 가이드부(614)가 위치하고 있다.The
접촉 가이드부(614)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 외팔보 회전 공간부(612)를 마주하고 있다. 접촉 가이드부(614)는 검사 공정 시 접촉 핀부(613)가 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드에 접촉하여 적정 압력 이상으로 접촉 핀부(613)에 압력이 가해질 경우, B(도 3에 도시)와 같이 본체부(610)와 접촉하여 외팔보부(611)에 탄성 한계 이상의 압력이 인가되는 것을 억제한다.The
또한, 접촉 가이드부(614)는 검사 공정 시 피검사체에 형성된 접촉 패드 또는 접촉 패드 상에 위치할 수 있는 파티클(particle) 등의 간섭에 의해 접촉 핀부(613)가 하측 방향으로 이동할 경우, C(도 3에 도시)와 같이 슬릿(510) 내부에 위치하여 외팔보부(611) 및 접촉 핀부(613)가 슬릿 외부로 이탈하는 것을 억제한다.In addition, the
수평 지지부(615)는 본체부(610)로부터 수평 방향으로 돌출되어 형성되어 있으며, 프로브 지지 기판(400)과 프로브 가이드 기판(500) 사이에 위치하고 있다. 수평 지지부(615)는 프로브 지지 기판(400)의 수평 지지부 수용 홈(420)에 삽입되어 프로브 가이드 기판(500)에 고정된다.The
측벽 지지부(616)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 본체부(610)의 측부에 형성되어 있다. 측벽 지지부(616)는 슬릿(510)의 측벽(511)에 대해 탄성적으로 대응하며, 측벽(511)을 탄성 지지하여 프로브(600)의 움직임을 억제한다.The
리드부(620)는 본체부(610)로부터 상측 방향으로 연장되어 프로브 지지 기판(400)의 관통홀(410), 하부 보강판(200)의 제 2 중공부(210) 및 인쇄 회로 기판(100)의 제 1 중공부(140)를 관통한다. 리드부(620)의 단부는 인쇄 회로 기판(100)의 제 1 단자부(120)와 연결되어 있다. 리드부(620)는 제 1 단자부(120)와 연결됨으로써, 인쇄 회로 기판(100) 내부에서 공간 변환 배선(111)에 의해 공간 변환되어 제 2 단자부(130)로 연결된다. 즉, 프로브(600)는 리드부(620)가 인쇄 회로 기판(100)에 연결됨으로써, 인쇄 회로 기판(100)에 의해 공간 변환되어 인쇄 회로 기판(100)에 연결될 수 있는 테스터(미도시)와 연결된다. 리드부(620)의 표면은 절연 코팅되어 있으며, 이 절연 코팅으로 인해 이웃하는 프로브(600)의 리드부(620)간의 단락이 방지된다.The
다시, 도 2에 도시된 바와 같이, 인쇄 회로 기판(100) 상측에는 보호 커버(700)가 위치하고 있다.Again, as shown in FIG. 2, the
보호 커버(700)는 인쇄 회로 기판(100)의 상부에 결합되며, 외부로부터의 충격 등으로부터 인쇄 회로 기판(100) 및 프로브(600)의 리드부(620)를 보호하는 역할을 한다. 보호 커버(700)는 내부에 형성된 방열부(710)를 포함한다. 방열부(710) 는 방열 수단으로서, 검사 공정 시 리드부(620) 및 인쇄 회로 기판(100)의 제 1 단자부(120)에서 발생할 수 있는 열을 대류, 전도 및 복사 현상을 이용하여 보호 커버(700) 외부로 방출하는 역할을 한다.The
이상과 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)는 인쇄 회로 기판(100) 및 프로브(600)의 리드부(620)에 의해 공간 변환이 수행되기 때문에, 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC) 등의 고가의 재료를 사용한 공간 변환기를 별도로 사용할 필요가 없다. 이에 의해 제조 비용이 절감된 프로브 카드(1000)가 제공된다.As described above, since the
또한, 피검사체에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 접촉 핀부(613)만이 외부로 노출되어 있고, 접촉 가이드부(614)가 프로브 가이드 기판(500)의 슬릿(510) 내부에 위치하기 때문에, 검사 공정 시 피검사체에 형성된 접촉 패드 또는 접촉 패드 상에 위치할 수 있는 파티클(particle) 등의 간섭에 의해 프로브(600)가 최초 설정된 위치로부터 이탈하는 것이 억제된다. 또한, 보호 커버(700)가 프로브(600) 및 인쇄 회로 기판(100)에서 발생할 수 있는 열을 외부로 방출하기 때문에 검사 공정 시 열에 의한 검사 오류가 억제된다. 이에 의하여 검사 신뢰성이 향상된 프로브 카드(1000)가 제공된다.In addition, since only the
이하, 도 4 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브(600)의 제조 방법을 설명한다. 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브(600)의 제조 방법에 의해 제조된 프로브(600)는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)에 포함되어 있는 프로브(600)이다.Hereinafter, a method of manufacturing the
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이고, 도 6 내지 도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 8은 도 7의 Ⅷ-Ⅷ을 따른 단면도이며, 도 12는 도 11의 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따른 단면도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention. FIGS. 6 to 13 are views illustrating a method of manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention. 7 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line II-XII of FIG.
우선, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)을 마련한다(S110).First, as illustrated in FIGS. 5 and 6, the
가요성 판(2000)은 절연성 물질 또는 도전성 물질로 이루어져 있으며, 휘어질 수 있는 성질을 가지고 있다. 본 발명의 제 2 실시예에서 가요성 판(2000)은 금속 호일(foil) 등의 도전성 물질로 이루어진 것이 바람직하다.The
다음, 접착층(2100) 및 도전층(2200)을 형성한다(S120).Next, an
구체적으로, 스퍼터링(sputtering) 공정을 이용해 가요성 판(2000) 상에 접착층(2100)을 형성하고, 접착층(2100) 상에 도전층(2200)을 순차적으로 형성한다. 접착층(2100)은 티타늄(Ti) 또는 크롬(Cr) 등을 포함한 금속 재료이며, 도전층(2200)은 금(Au) 또는 구리(Cu) 등을 포함한 금속 재료이다. 접착층(2100)은 도전층(2200)보다 가요성 판(2000)과 화학적 친화력이 더 높으며, 도전층(2200)과 가요성 판(2000) 사이의 접합을 용이하게 하는 역할을 한다.Specifically, the
여기서, 화학적 친화력이란, 두개의 물질에 있어서 상호간의 접착력을 의미한다.Here, chemical affinity means the adhesive force of two materials.
다음, 포토레지스트층(3000)을 형성한다(S130).Next, the
구체적으로, 포토레지스트 물질을 포함하는 수지를 도전층(2200) 상에 형성 하여 포토레지스트층(3000)을 형성한다.Specifically, a resin including a photoresist material is formed on the
다음, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다(S140).Next, as shown in FIGS. 7 and 8, the
구체적으로, 포토레지스트층(3000) 상에 프로브(600)의 판면에 대응하는 형상을 가지는 마스크를 정렬한 후, 마스크를 통해 포토레지스트층(3000)에 자외선 등을 조사하여 포토레지스트층(3000)을 노광한 후, 현상액을 이용하여 포토레지스트층(3000)을 현상해 프로브(600)의 판면에 대응하는 프로브 영역(3500)을 개구하는 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다. 포토레지스트 패턴(3100)에 의해, 프로브 영역(3500)에 대응하는 도전층(2200)이 노출된다.Specifically, after aligning a mask having a shape corresponding to the plate surface of the
다음, 도 9에 도시된 바와 같이, 프로브(600)를 형성한다(S150).Next, as shown in Figure 9, to form a probe 600 (S150).
구체적으로, 도전층(2200)을 이용한 전해 도금 공정 등의 도금 공정을 이용하여 프로브 영역(3500)에 니켈(Ni) 및 코발트(Co) 합금 등의 도전성 물질을 채우면, 프로브(600)가 형성된다. 그런데 이 때, 도금 공정으로 인해, 포토레지스트 패턴(3100) 상으로 도전성 물질이 돌출될 수 있다. 이 경우, 돌출된 도전성 물질을 화학적 또는 물리적 연마 공정을 이용해 연마하여 프로브(600)를 형성한다.Specifically, the
다음, 도 10에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 패턴(3100)을 제거한다(S160).Next, as shown in FIG. 10, the
구체적으로, 에슁(ashing) 공정을 이용하여 포토레지스트 패턴(3100)을 도전층(2200)으로부터 제거한다.Specifically, the
다음, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 접착층(2100) 및 도전층(2200)을 에칭한다(S170).Next, as shown in FIGS. 11 and 12, the
구체적으로, 습식 에칭(etching) 또는 건식 에칭 공정을 이용하여, 프로브(600)의 외곽에 노출된 접착층(2100) 및 도전층(2200)을 에칭한다. 본 발명의 제 2 실시예에서는 습식 에칭 공정을 이용하는 것이 바람직하다.Specifically, the
다음, 도 13에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)으로부터 프로브(600)를 분리한다(S180).Next, as shown in FIG. 13, the
구체적으로, 가요성 판(2000)을 제 1 방향으로 가압하여 휘어지게 하면, 프로브(600) 및 가요성 판(2000) 각각의 탄성 변형값이 다르기 때문에, 가요성 판(2000) 상에 위치하는 프로브(600)가 가요성 판(2000)으로부터 떨어지게 된다.Specifically, when the
다음, 스프레이(spray) 공정 또는 디핑(dipping) 공정 등을 이용해 프로브(600)의 리드부(620) 표면에 절연 코팅을 한다.Next, an insulating coating is performed on the surface of the
이상과 같은 방법에 의해, 도 4에 도시된 바와 같은 프로브(600)가 제조된다.By the above method, the
이에 의하여, 제조 비용을 절감되며, 검사 신뢰성이 향상된 프로브 카드(1000)에 포함되어 있는 프로브(600)의 제조 방법이 제공된다.As a result, a manufacturing method of the
이하, 도 14 내지 도 18을 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a probe according to a third exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 14 to 18.
이하, 제 2 실시예와 구별되는 특징적인 부분만 발췌하여 설명하며, 설명이 생략된 부분은 제 2 실시예에 따른다. 그리고, 본 발명의 제 3 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 동일한 구성요소에 대하여는 제 2 실시예와 동일한 참조번호를 사용하여 설명한다.Hereinafter, only the characteristic parts distinguished from the second embodiment will be described and described, and the descriptions thereof will be omitted according to the second embodiment. In the third embodiment of the present invention, for the convenience of description, the same components will be described with the same reference numerals as in the second embodiment.
도 14는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이며, 도 15 내지 도 18은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.14 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 15 to 18 are views illustrating a method of manufacturing a probe according to a third exemplary embodiment of the present invention.
우선, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)을 마련한다(S210).First, as shown in FIGS. 14 and 15, a
가요성 판(2000)은 절연성 물질 또는 도전성 물질로 이루어져 있으며, 휘어질 수 있는 성질을 가지고 있다.The
다음, 포토레지스트층(3000)을 형성한다(S220).Next, a
다음, 도 16에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다(S230).Next, as shown in FIG. 16, a
구체적으로, 포토레지스트층(3000)을 노광 및 현상하여 프로브 영역(3500)을 개구하는 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다. 포토레지스트 패턴(3100)에 의해, 프로브 영역(3500)에 대응하는 가요성 판(2000)이 노출된다.Specifically, the
다음, 도 17에 도시된 바와 같이, 프로브(600)를 형성한다(S240).Next, as shown in FIG. 17, a
구체적으로, 프로브(600)의 형성은 가요성 판(2000)의 재질에 따라 두 가지 공정으로 나뉜다.Specifically, the formation of the
먼저, 가요성 판(2000)이 절연성 물질로 이루어진 경우, 포토레지스트 패턴(3100) 상에 프로브 영역(3500)이 노출되도록 마스크를 정렬 시킨 후, 스퍼터링 공정을 이용해 프로브 영역(3500)에 도전성 물질을 채워 프로브(600)를 형성한다.First, when the
다음, 가요성 판(2000)이 도전성 물질로 이루어진 경우, 가요성 판(2000)을 이용한 전해 도금 공정 등의 도금 공정을 이용하여 프로브 영역(3500)에 도전성 물질을 채우고, 필요에 따라 돌출된 도전성 물질을 화학적 또는 물리적 연마 공정을 이용해 연마하여 프로브(600)를 형성한다.Next, when the
다음, 도 18에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)으로부터 프로브(600)를 분리한다(S250).Next, as shown in FIG. 18, the
구체적으로, 가요성 판(2000)을 제 1 방향으로 가압하여 휘어지게 하면, 프로브(600), 포토레지스트 패턴(3100) 및 가요성 판(2000) 각각의 탄성 변형값이 다르기 때문에, 가요성 판(2000) 상에 위치하는 프로브(600)가 가요성 판(2000) 및 포토레지스트 패턴(3100)으로부터 떨어지게 된다.Specifically, when the
다음, 스프레이 공정 또는 디핑 공정 등을 이용해 프로브(600)의 리드부(620) 표면에 절연 코팅을 한다.Next, an insulating coating is applied to the surface of the
이상과 같은 방법에 의해, 프로브가 제조된다.By the above method, a probe is manufactured.
이와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법은 가요성 판(2000)의 재질에 따라 두가지 방법으로 나뉘게 되며, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법에 비해 간단한 공정으로 제조할 수 있다. 즉, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법은 제조 비용이 절감된다.As described above, the method for manufacturing a probe according to the third embodiment of the present invention is divided into two methods according to the material of the
전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The foregoing description of the present invention is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.
본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the above description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.
도 1은 종래의 프로브 카드를 나타낸 단면도이고,1 is a cross-sectional view showing a conventional probe card,
도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 단면도이고,2 is a cross-sectional view of a probe card according to a first embodiment of the present invention,
도 3은 도 2의 A부분의 확대도이고,3 is an enlarged view of portion A of FIG. 2,
도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에 포함되어 있는 프로브의 사시도이고,4 is a perspective view of a probe included in a probe card according to a first embodiment of the present invention;
도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이고,5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention.
도 6 내지 도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고,6 to 13 are views for explaining a method for manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention,
도 8은 도 7의 Ⅷ-Ⅷ을 따른 단면도이고,8 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG. 7,
도 12는 도 11의 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따른 단면도이고,12 is a cross-sectional view taken along XII-XII of FIG. 11,
도 14는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이며,14 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a third embodiment of the present invention.
도 15 내지 도 18은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.15 to 18 are diagrams for explaining a method for manufacturing a probe according to a third embodiment of the present invention.
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