KR100954363B1 - Probe and making method of probe - Google Patents

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윌테크놀러지(주)
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Abstract

제조 비용이 절감되고 검사 신뢰성이 향상된 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법이 제공된다.Provided are probes and methods for manufacturing probes for use in probe cards with reduced manufacturing costs and improved inspection reliability.

프로브의 제조 방법은 가요성 판을 마련하는 단계, 상기 가요성 판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 프로브의 판면에 대응하는 프로브 영역을 개구하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 프로브 영역에 도전성 물질을 채워 상기 프로브를 형성하는 단계 및 상기 가요성 판을 휘어서 상기 가요성 판으로부터 상기 프로브를 분리하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a probe includes providing a flexible plate, forming a photoresist layer on the flexible plate, exposing and developing the photoresist layer to open a probe region corresponding to the plate surface of the probe. Forming a pattern, filling the probe region with a conductive material to form the probe, and bending the flexible plate to separate the probe from the flexible plate.

프로브 카드, 프로브, 가요성 판 Probe card, probe, flexible plate

Description

프로브 및 프로브의 제조 방법{PROBE AND MAKING METHOD OF PROBE}PROBE AND MAKING METHOD OF PROBE

본 발명은 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 공간 변환이 수행되는 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a probe and a method of manufacturing a probe for use in a probe card including a printed circuit board, and more particularly, to a probe and a method for manufacturing a probe for a probe card in which a spatial transformation is performed.

일반적으로 반도체 디바이스는 웨이퍼(wafer) 상에 회로 패턴 및 검사를 위한 접촉 패드를 형성하는 패브리케이션(fabrication) 공정과 회로 패턴 및 접촉 패드가 형성된 웨이퍼를 각각의 반도체 칩으로 조립하는 어셈블리(assembly) 공정을 통해서 제조된다.In general, semiconductor devices have a fabrication process of forming contact pads for circuit patterns and inspections on a wafer, and an assembly process of assembling wafers having circuit patterns and contact pads into respective semiconductor chips. It is manufactured through.

패브리케이션 공정과 어셈블리 공정 사이에는 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드에 전기 신호를 인가하여 웨이퍼의 전기적 특성을 검사하는 검사 공정이 수행된다. 이 검사 공정은 웨이퍼의 불량을 검사하여 어셈블리 공정 시 불량이 발생한 웨이퍼의 일 부분을 제거하기 위해 수행하는 공정이다.An inspection process is performed between the fabrication process and the assembly process to inspect the electrical characteristics of the wafer by applying an electrical signal to the contact pads formed on the wafer. This inspection process is performed to inspect a defect of a wafer and to remove a portion of a wafer in which a defect occurs during an assembly process.

검사 공정 시에는 웨이퍼에 전기적 신호를 인가하는 테스터라고 하는 검사 장비와 웨이퍼와 테스터 사이의 인터페이스 기능을 수행하는 프로브 카드라는 검사 장비가 주로 이용된다. 이 중에서 프로브 카드는 테스터로부터 인가되는 전기 신호 를 수신하는 인쇄 회로 기판 및 웨이퍼 상에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 복수개의 프로브를 포함한다.In the inspection process, inspection equipment called a tester for applying an electrical signal to a wafer and probe equipment for performing an interface function between the wafer and the tester are mainly used. Among them, the probe card includes a printed circuit board that receives an electrical signal applied from a tester and a plurality of probes in contact with contact pads formed on the wafer.

이하, 도 1을 참조하여 종래의 프로브 카드를 설명한다.Hereinafter, a conventional probe card will be described with reference to FIG. 1.

도 1은 종래의 프로브 카드를 나타낸 단면도이다.1 is a cross-sectional view showing a conventional probe card.

도 1에 도시된 바와 같이, 종래의 프로브 카드(10)는 인쇄 회로 기판(11), 인터포져(12), 공간 변환기(13) 및 프로브(14)를 포함한다.As shown in FIG. 1, a conventional probe card 10 includes a printed circuit board 11, an interposer 12, a space converter 13, and a probe 14.

인쇄 회로 기판(11)은 검사 공정을 위해 형성된 프로브 회로 패턴(미도시) 및 기판 패드(11a)를 포함하며, 테스터(미도시)로부터 인가된 전기 신호를 수신하여 프로브(14)로 전달하는 기능을 수행한다.The printed circuit board 11 includes a probe circuit pattern (not shown) and a substrate pad 11a formed for an inspection process, and receives and transmits an electrical signal applied from a tester (not shown) to the probe 14. Do this.

인터포져(12)는 인쇄 회로 기판(11)의 프로브 회로 패턴과 연결되어 인쇄 회로 기판(11)과 프로브(14) 사이를 전기적으로 연결하는 기능을 수행한다.The interposer 12 is connected to the probe circuit pattern of the printed circuit board 11 to electrically connect between the printed circuit board 11 and the probe 14.

공간 변환기(13)는 상면에 형성되어 있으며, 인터포져(12)와 연결된 제 1 패드(13a) 및 하면에 형성되어 있으며, 프로브(14)와 연결된 제 2 패드(13b)를 포함한다. 서로 마주하는 제 2 패드(13b)간 거리는 서로 마주하는 제 1 패드(13a)간 거리보다 좁게 형성되어, 공간 변환기(13)는 인터포져(12)로부터 프로브(14)까지 공간 변환의 기능을 수행한다.The space transducer 13 is formed on the upper surface and includes a first pad 13a connected to the interposer 12 and a second pad 13b formed on the lower surface and connected to the probe 14. The distance between the second pads 13b facing each other is formed to be narrower than the distance between the first pads 13a facing each other, so that the spatial transducer 13 performs a function of spatial transformation from the interposer 12 to the probe 14. do.

프로브(14)는 검사 공정 시, 웨이퍼 등의 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드와 접촉하여, 테스터(미도시)로부터 인쇄 회로 기판(11), 인터포져(12) 및 공간 변환기(13)를 통해 프로브(14)로 전달된 전기 신호를 접촉 패드로 전달한다.The probe 14 contacts the contact pads formed on the inspected object, such as a wafer, during the inspection process, and passes through the printed circuit board 11, the interposer 12, and the space transducer 13 from a tester (not shown). The electrical signal delivered to the probe 14 is delivered to the contact pads.

이상과 같이, 종래의 프로브 카드(10)는 피검사체에 미세 피치(pitch)로 형 성된 접촉 패드와 접촉하기 위해 공간 변환의 기능을 수행하는 공간 변환기(13)를 필수적으로 사용하였다.As described above, the conventional probe card 10 essentially uses a space transducer 13 that performs a function of spatial conversion in order to contact a contact pad formed at a fine pitch on the inspected object.

그런데, 종래의 프로브 카드(10)는 공간 변환기(13)로서, 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC) 등의 고가의 재료를 사용하기 때문에 제조 비용이 상승하는 문제가 있었다.By the way, since the conventional probe card 10 uses expensive materials, such as a multilayer ceramic substrate (MLC), as a space converter 13, there existed a problem that manufacturing cost rose.

또한, 종래의 프로브 카드(10)는 프로브(14) 전체가 외부로 노출되어 있기 때문에, 검사 공정 시 피검사체에 형성된 접촉 패드 또는 접촉 패드 상에 위치할 수 있는 파티클(particle) 등의 간섭에 의해 프로브(14)가 최초 설정된 위치로부터 이격되어 그 다음 검사 공정 시 검사 신뢰성이 저하되는 문제가 있었다.In addition, since the entire probe 14 is exposed to the outside of the conventional probe card 10, the probe pad 10 may be caused by interference such as contact pads formed on the object under test or particles that may be located on the contact pads. There was a problem that the probe 14 is spaced apart from the initially set position and the inspection reliability is degraded in the next inspection process.

본 발명의 일 실시예는 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로써, 제조 비용을 절감하고 검사 신뢰성을 향상시킬 수 있는 프로브 카드에 사용되는 프로브 및 프로브의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.One embodiment of the present invention is to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide a probe and a method for manufacturing a probe used in a probe card that can reduce the manufacturing cost and improve the inspection reliability.

상술한 기술적 과제를 달성하기 위한 기술적 수단으로서, 본 발명의 제 1 측면은 프로브 카드에 사용되는 판형의 프로브의 제조 방법에 있어서, 가요성 판을 마련하는 단계, 상기 가요성 판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계, 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 프로브의 판면에 대응하는 프로브 영역을 개구하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계, 상기 프로브 영역에 도전성 물질을 채워 상기 프로브를 형성하는 단계 및 상기 가요성 판을 휘어서 상기 가요성 판으로부터 상기 프로브를 분리하는 단계를 포함하는 프로브의 제조 방법이 제공된다.As a technical means for achieving the above-described technical problem, the first aspect of the present invention is a method for manufacturing a plate-shaped probe used for a probe card, comprising the steps of: providing a flexible plate, a photoresist layer on the flexible plate Forming a photoresist pattern, exposing and developing the photoresist layer to open a probe region corresponding to the plate surface of the probe, filling the probe region with a conductive material to form the probe, and A method of making a probe is provided that includes bending a flexible plate to separate the probe from the flexible plate.

상기 가요성 판과 상기 포토레지스트층 사이에 위치하도록 도전층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming a conductive layer to be positioned between the flexible plate and the photoresist layer.

상기 프로브를 형성하는 단계는 상기 도전층을 이용한 도금 공정에 의해 형성될 수 있다.The forming of the probe may be formed by a plating process using the conductive layer.

상기 프로브를 이용하여 상기 도전층을 에칭하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include etching the conductive layer using the probe.

상기 가요성 판과 상기 도전층 사이에 위치하도록 접착층을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include forming an adhesive layer to be positioned between the flexible plate and the conductive layer.

상기 프로브를 이용하여 상기 도전층 및 상기 접착층을 에칭하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include etching the conductive layer and the adhesive layer using the probe.

상기 가요성 판은 도전성 물질로 이루어져 있을 수 있다.The flexible plate may be made of a conductive material.

상기 프로브를 형성하는 단계는 상기 가요성 판을 이용한 도금 공정에 의해 형성될 수 있다.Forming the probe may be formed by a plating process using the flexible plate.

상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 더 포함할 수 있다.The method may further include removing the photoresist pattern.

또한, 본 발명의 제 2 측면은 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 형성된 슬릿에 지지되는 판형의 프로브에 있어서, 본체부 및 상기 본체부와 일체로 형성되어 있으며, 상기 인쇄 회로 기판에 연결되는 리드부를 포함하며, 상기 본체부는, 외팔보부, 외팔보 회전 공간부, 상기 외팔보부의 종단 상부에 형성되는 접촉 가이드부 및 상기 외팔보부의 종단 하부에 형성되는 접촉 핀부를 포함하되, 상기 외팔보부, 상기 외팔보 회전 공간부 및 상기 접촉 가이드부는 상기 슬릿 내부로 삽입되어 위치하는 것인 프로브를 제공한다.In addition, a second aspect of the present invention is a plate-shaped probe supported by a slit formed on a probe card including a printed circuit board, which is formed integrally with the main body portion and the main body portion, and is connected to the printed circuit board. And a main body portion, including a cantilever portion, a cantilever rotating space portion, a contact guide portion formed at an upper end of the cantilever portion, and a contact pin portion formed at an end portion of the cantilever portion, wherein the cantilever portion and the cantilever rotating space are included. Part and the contact guide provides a probe that is inserted into the slit and positioned.

상기 프로브 카드에는 수평 지지부 수용 홈이 더 형성되어 있으며, 상기 본체부는 수평 방향으로 돌출되어 있으며, 상기 수평 지지부 수용 홈에 고정되는 수평 지지부를 더 포함할 수 있다.The probe card may further include a horizontal support accommodating groove, and the main body may further include a horizontal support protruding in the horizontal direction and fixed to the horizontal support accommodating groove.

상기 본체부는 결합 시 상기 슬릿 내부로 삽입되어 상기 슬릿의 측벽을 탄성 지지하는 측벽 지지부를 더 포함할 수 있다.The body part may further include a sidewall support part inserted into the slit when elastically supporting the sidewall of the slit.

전술한 본 발명의 과제 해결 수단의 일부 실시예 중 하나에 의하면, 구조를 향상시켜 제조 비용을 절감하고 검사 신뢰성을 향상시키는 효과가 있다.According to one of the embodiments of the above-described problem solving means of the present invention, there is an effect of improving the structure to reduce the manufacturing cost and improve the inspection reliability.

아래에서는 첨부한 도면을 참조하여 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다. 그러나 본 발명은 여러 가지 상이한 형태로 구현될 수 있으며 여기에서 설명하는 실시예에 한정되지 않는다. 그리고 도면에서 본 발명을 명확하게 설명하기 위해서 설명과 관계없는 부분은 생략하였으며, 명세서 전체를 통하여 유사한 부분에 대해서는 유사한 도면 부호를 붙였다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the present invention. As those skilled in the art would realize, the described embodiments may be modified in various different ways, all without departing from the spirit or scope of the present invention. In the drawings, parts irrelevant to the description are omitted in order to clearly describe the present invention, and like reference numerals designate like parts throughout the specification.

명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재와 “상에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다. 또한 어떤 부분이 어떤 구성 요소를 “포함” 한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성 요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.Throughout the specification, when a member is located “on” another member, this includes not only when one member is in contact with another member but also when another member exists between the two members. In addition, when a part is said to "include" a certain component, it means that it can further include other components, without excluding other components unless otherwise stated.

이하, 도 2 내지 도 4를 참조하여 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)를 설명한다.Hereinafter, the probe card 1000 according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of a probe card according to a first embodiment of the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이, 프로브 카드(1000)는 인쇄 회로 기판(100), 하부 보강판(200), 결합 나사(300), 프로브 지지 기판(400), 프로브 가이드 기판(500), 프로브(600) 및 보호 커버(700)를 포함한다.As shown in FIG. 2, the probe card 1000 may include a printed circuit board 100, a lower reinforcement plate 200, a coupling screw 300, a probe support substrate 400, a probe guide substrate 500, and a probe ( 600 and protective cover 700.

인쇄 회로 기판(100)은 인쇄 회로 기판 본체부(110), 제 1 단자부(120), 제 2 단자부(130) 및 제 1 중공부(140)를 포함한다.The printed circuit board 100 includes a printed circuit board main body 110, a first terminal portion 120, a second terminal portion 130, and a first hollow portion 140.

인쇄 회로 기판 본체부(110)는 대략 원판 형상으로 형성되며, 검사 공정을 위한 회로 패턴이 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 내부에는 공간 변환을 수행하는 공간 변환 배선(111)이 형성되어 있다. 인쇄 회로 기판 본체부(110)는 상부면(112) 및 상부면(112)과 대향하는 하부면(113)을 포함한다.The printed circuit board main body 110 is formed in a substantially disk shape, and a circuit pattern for an inspection process is formed. The space conversion wiring 111 that performs space conversion is formed in the printed circuit board main body 110. The printed circuit board body 110 includes an upper surface 112 and a lower surface 113 opposite the upper surface 112.

제 1 단자부(120)는 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 상부면(112) 중 내주부에 형성되어 있으며, 후술할 프로브(600)의 리드부(620)가 연결되어 있다.The first terminal part 120 is formed on an inner circumferential part of the upper surface 112 of the printed circuit board main body part 110, and the lead part 620 of the probe 600, which will be described later, is connected.

제 2 단자부(130)는 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 상부면(112) 중 외주부에 형성되어 있으며, 검사 공정을 위한 테스터와 연결될 수 있다.The second terminal unit 130 is formed at an outer circumference of the upper surface 112 of the printed circuit board main body unit 110 and may be connected to a tester for an inspection process.

제 1 단자부(120) 및 제 2 단자부(130)는 공간 변환 배선(111)과 연결되어 있으며, 제 1 단자부(120)와 제 2 단자부(130)의 사이는 공간 변환 배선(111)으로 인해 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 내부에서 공간 변환된다.The first terminal portion 120 and the second terminal portion 130 are connected to the space conversion wiring 111, and the space between the first terminal portion 120 and the second terminal portion 130 is printed due to the space conversion wiring 111. The space is converted inside the circuit board main body 110.

제 1 중공부(140)는 인쇄 회로 기판 본체부(110)의 중앙 영역에 위치하며, 인쇄 회로 기판 본체부(110)를 관통하여 형성되어 있다. 제 1 중공부(140) 내에는 프로브(600)의 리드부(620)가 위치하고 있다.The first hollow part 140 is positioned in the central region of the printed circuit board main body 110 and is formed through the printed circuit board main body 110. The lead part 620 of the probe 600 is positioned in the first hollow part 140.

인쇄 회로 기판(100)의 하측에는 하부 보강판(200)이 위치하고 있다.The lower reinforcement plate 200 is positioned below the printed circuit board 100.

하부 보강판(200)은 인쇄 회로 기판(100)과 후술할 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500) 사이에 위치하고 있다. 하부 보강판(200)의 중앙 영역에는 제 2 중공부(210)가 형성되어 있으며, 제 2 중공부(210) 내에는 프로브(600)의 리드부(620)가 위치하고 있다. 하부 보강판(200)은 인쇄 회로 기판 본체부(110) 의 하부면(113)에 결합되어 있으며, 외부의 충격 등으로부터 인쇄 회로 기판(100)을 보호하는 역할을 한다. 하부 보강판(200)은 후술할 결합 나사(300)에 의해, 인쇄 회로 기판(100), 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500)과 나사 결합하고 있다. 구체적으로, 하부 보강판(200)은 인쇄 회로 기판(100), 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500)을 상호 결합시키는 역할을 하며, 외부의 충격 등으로부터 인쇄 회로 기판(100), 프로브 지지 기판(400) 및 프로브 가이드 기판(500)을 보호한다.The lower reinforcement plate 200 is positioned between the printed circuit board 100 and the probe support substrate 400 and the probe guide substrate 500 to be described later. The second hollow part 210 is formed in the central region of the lower reinforcing plate 200, and the lead part 620 of the probe 600 is located in the second hollow part 210. The lower reinforcing plate 200 is coupled to the lower surface 113 of the printed circuit board main body 110, and serves to protect the printed circuit board 100 from external impacts. The lower reinforcement plate 200 is screw-coupled with the printed circuit board 100, the probe support board 400, and the probe guide board 500 by the coupling screw 300 to be described later. In detail, the lower reinforcing plate 200 serves to couple the printed circuit board 100, the probe support substrate 400, and the probe guide substrate 500 to each other. The probe support substrate 400 and the probe guide substrate 500 are protected.

결합 나사(300)는 제 1 나사(310), 제 2 나사(320) 및 제 3 나사(330)를 포함한다. 제 1 나사(310)는 인쇄 회로 기판(100)을 관통하여 하부 보강판(200)에 삽입되어 있고, 제 2 나사(320)는 프로브 지지 기판(400)을 관통하여 하부 보강판(200)에 삽입되어 있으며, 제 3 나사(330)는 프로브 가이드 기판(500)을 관통하여 하부 보강판(200)에 삽입되어 있다.The coupling screw 300 includes a first screw 310, a second screw 320 and a third screw 330. The first screw 310 is inserted into the lower reinforcement plate 200 through the printed circuit board 100, and the second screw 320 penetrates the probe support substrate 400 to the lower reinforcement plate 200. The third screw 330 is inserted into the lower reinforcing plate 200 through the probe guide substrate 500.

프로브 지지 기판(400)은 프로브 가이드 기판(500)의 상부에 결합되어 있으며, 하부 보강판(200)과 프로브 가이드 기판(500) 사이에 위치하고 있다. 프로브 지지 기판(400)은 유리 등의 세라믹 또는 실리콘으로 형성되며, 관통홀(410) 및 수평 지지부 수용 홈(420)을 포함한다.The probe support substrate 400 is coupled to the upper portion of the probe guide substrate 500 and is located between the lower reinforcement plate 200 and the probe guide substrate 500. The probe support substrate 400 is formed of ceramic or silicon, such as glass, and includes a through hole 410 and a horizontal support portion receiving groove 420.

관통홀(410)은 후술할 프로브 가이드 기판(500)의 슬릿(510)과 연통하도록 복수개로 형성되어 있으며, 제 1 중공부(140) 및 제 2 중공부(210)와 대응하고 있다. 관통홀(410) 내에는 프로브(600)의 리드부(620)가 위치하고 있다.The through holes 410 are formed in plural to communicate with the slits 510 of the probe guide substrate 500 to be described later, and correspond to the first hollow part 140 and the second hollow part 210. The lead part 620 of the probe 600 is located in the through hole 410.

수평 지지부 수용 홈(420)은 프로브 지지 기판(400)과 프로브 가이드 기 판(500) 사이에 대응하는 프로브 지지 기판(400)의 하부면에 형성되어 있다. 수평 지지부 수용 홈(420)의 내부에는 후술할 프로브(600)의 수평 지지부(615)가 위치하고 있다. 구체적으로, 수평 지지부 수용 홈(420)은 프로브(600)의 수평 지지부(615)를 프로브 가이드 기판(500)에 대해 고정하고 있다.The horizontal support accommodating groove 420 is formed on the lower surface of the probe support substrate 400 corresponding to the probe support substrate 400 and the probe guide substrate 500. The horizontal support 615 of the probe 600 to be described later is located inside the horizontal support accommodating groove 420. In detail, the horizontal support accommodating groove 420 fixes the horizontal support 615 of the probe 600 to the probe guide substrate 500.

다른 실시예에서, 관통홀(410)은 프로브 지지 기판(400)의 중앙 영역에 프로브 가이드 기판(500)의 슬릿(510)과 연통하도록 한 개로 형성될 수 있다.In another embodiment, the through hole 410 may be formed to be in communication with the slit 510 of the probe guide substrate 500 in the central region of the probe support substrate 400.

프로브 지지 기판(400) 하측에는 프로브 가이드 기판(500)이 위치하고 있다.The probe guide substrate 500 is positioned under the probe support substrate 400.

프로브 가이드 기판(500)은 복수개의 프로브 고정용 슬릿(510)을 포함한다. 각 슬릿(510)은 서로 이격되어 관통홀(410)과 연통되도록 형성되며, 각 슬릿(510)에는 프로브(600)가 삽입되어 있다.The probe guide substrate 500 includes a plurality of probe fixing slits 510. Each of the slits 510 is spaced apart from each other to communicate with the through hole 410, and a probe 600 is inserted into each of the slits 510.

도 3은 도 2의 A부분의 확대도이며, 도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에 포함되어 있는 프로브의 사시도이다.3 is an enlarged view of a portion A of FIG. 2, and FIG. 4 is a perspective view of a probe included in the probe card according to the first embodiment of the present invention.

도 3 및 도 4에 도시된 바와 같이, 프로브(600)는 판형이며, 서로 일체로 형성된 본체부(610) 및 리드부(620)를 포함한다.As shown in FIGS. 3 and 4, the probe 600 has a plate shape and includes a main body 610 and a lead 620 integrally formed with each other.

본체부(610)는 외팔보부(611), 외팔보 회전 공간부(612), 접촉 핀부(613), 접촉 가이드부(614), 수평 지지부(615) 및 측벽 지지부(616)를 포함한다.The main body 610 includes a cantilever 611, a cantilever rotating space 612, a contact pin 613, a contact guide 614, a horizontal support 615, and a sidewall support 616.

외팔보부(611)는 컨틸레버(cantilever)형으로 형성되어 있으며, 검사 공정 시 접촉 핀부(613)가 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드에 탄성적으로 대응할 수 있도록 한다. 외팔보부(611)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 외팔보부(611) 상측에는 외팔보 회전 공간부(612)가 위치하고 있다.The cantilever portion 611 is formed in a cantilever shape and allows the contact pin portion 613 to elastically correspond to the contact pad formed on the inspected object during the inspection process. The cantilever part 611 is located inside the slit 510, and the cantilever rotating space part 612 is positioned above the cantilever part 611.

외팔보 회전 공간부(612)는 외팔보부(611)가 탄성을 가질 수 있도록 외팔보부(611)의 상측 공간을 형성하고 있다. 외팔보 회전 공간부(612)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 외팔보부(611)를 사이에 두고 외팔보 회전 공간부(612)와 대향하는 외팔보부(611)의 종단 하부에는 접촉 핀부(613)가 위치하고 있다.The cantilever rotating space 612 forms an upper space of the cantilever 611 so that the cantilever 611 has elasticity. The cantilever rotating space part 612 is located inside the slit 510, and the contact pin part 613 is disposed at the lower end of the cantilever part 611 facing the cantilever rotating space part 611 with the cantilever part 611 interposed therebetween. Is located.

접촉 핀부(613)는 슬릿(510) 외부에 위치하고 있으며, 검사 공정 시 반도체 장치 등의 피검사체에 형성된 접촉 패드와 접촉하여 접촉 패드에 검사 신호를 전달하는 역할을 한다. 외팔보부(611)를 사이에 두고 접촉 핀부(613)와 대향하여 외팔보부(611)의 종단 상부에는 접촉 가이드부(614)가 위치하고 있다.The contact pin part 613 is located outside the slit 510 and serves to transmit a test signal to the contact pad by contacting a contact pad formed on a test object such as a semiconductor device during a test process. The contact guide part 614 is located in the upper end of the cantilever part 611 facing the contact pin part 613 with the cantilever part 611 interposed therebetween.

접촉 가이드부(614)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 외팔보 회전 공간부(612)를 마주하고 있다. 접촉 가이드부(614)는 검사 공정 시 접촉 핀부(613)가 피검사체에 형성되어 있는 접촉 패드에 접촉하여 적정 압력 이상으로 접촉 핀부(613)에 압력이 가해질 경우, B(도 3에 도시)와 같이 본체부(610)와 접촉하여 외팔보부(611)에 탄성 한계 이상의 압력이 인가되는 것을 억제한다.The contact guide part 614 is located inside the slit 510 and faces the cantilever rotation space part 612. The contact guide part 614 may be connected to B (shown in FIG. 3) when the contact pin part 613 contacts the contact pad formed on the object under test and a pressure is applied to the contact pin part 613 above a proper pressure during the inspection process. As described above, contact with the main body 610 is suppressed from applying a pressure higher than the elastic limit to the cantilever 611.

또한, 접촉 가이드부(614)는 검사 공정 시 피검사체에 형성된 접촉 패드 또는 접촉 패드 상에 위치할 수 있는 파티클(particle) 등의 간섭에 의해 접촉 핀부(613)가 하측 방향으로 이동할 경우, C(도 3에 도시)와 같이 슬릿(510) 내부에 위치하여 외팔보부(611) 및 접촉 핀부(613)가 슬릿 외부로 이탈하는 것을 억제한다.In addition, the contact guide part 614 may be formed when the contact pin part 613 moves downward due to interference such as a contact pad formed on the inspected object or particles that may be located on the contact pad during the inspection process. As shown in FIG. 3, the cantilever part 611 and the contact pin part 613 are restrained from slit out of the slit 510.

수평 지지부(615)는 본체부(610)로부터 수평 방향으로 돌출되어 형성되어 있으며, 프로브 지지 기판(400)과 프로브 가이드 기판(500) 사이에 위치하고 있다. 수평 지지부(615)는 프로브 지지 기판(400)의 수평 지지부 수용 홈(420)에 삽입되어 프로브 가이드 기판(500)에 고정된다.The horizontal support part 615 is formed to protrude in the horizontal direction from the main body part 610 and is located between the probe support substrate 400 and the probe guide substrate 500. The horizontal support 615 is inserted into the horizontal support accommodating groove 420 of the probe support substrate 400 and fixed to the probe guide substrate 500.

측벽 지지부(616)는 슬릿(510) 내부에 위치하고 있으며, 본체부(610)의 측부에 형성되어 있다. 측벽 지지부(616)는 슬릿(510)의 측벽(511)에 대해 탄성적으로 대응하며, 측벽(511)을 탄성 지지하여 프로브(600)의 움직임을 억제한다.The sidewall support part 616 is located inside the slit 510 and is formed at the side of the main body part 610. The sidewall support 616 elastically corresponds to the sidewall 511 of the slit 510, and elastically supports the sidewall 511 to suppress the movement of the probe 600.

리드부(620)는 본체부(610)로부터 상측 방향으로 연장되어 프로브 지지 기판(400)의 관통홀(410), 하부 보강판(200)의 제 2 중공부(210) 및 인쇄 회로 기판(100)의 제 1 중공부(140)를 관통한다. 리드부(620)의 단부는 인쇄 회로 기판(100)의 제 1 단자부(120)와 연결되어 있다. 리드부(620)는 제 1 단자부(120)와 연결됨으로써, 인쇄 회로 기판(100) 내부에서 공간 변환 배선(111)에 의해 공간 변환되어 제 2 단자부(130)로 연결된다. 즉, 프로브(600)는 리드부(620)가 인쇄 회로 기판(100)에 연결됨으로써, 인쇄 회로 기판(100)에 의해 공간 변환되어 인쇄 회로 기판(100)에 연결될 수 있는 테스터(미도시)와 연결된다. 리드부(620)의 표면은 절연 코팅되어 있으며, 이 절연 코팅으로 인해 이웃하는 프로브(600)의 리드부(620)간의 단락이 방지된다.The lead part 620 extends upwardly from the main body part 610 so that the through hole 410 of the probe support substrate 400, the second hollow part 210 of the lower reinforcing plate 200, and the printed circuit board 100 are provided. Penetration through the first hollow portion 140 of the). An end portion of the lead portion 620 is connected to the first terminal portion 120 of the printed circuit board 100. Since the lead unit 620 is connected to the first terminal unit 120, the lead unit 620 is space-converted by the space conversion wiring 111 in the printed circuit board 100 and connected to the second terminal unit 130. That is, the probe 600 may include a tester (not shown) that may be connected to the printed circuit board 100 by being space-converted by the printed circuit board 100 by connecting the lead unit 620 to the printed circuit board 100. Connected. The surface of the lead portion 620 is coated with an insulation coating, and the insulation coating prevents a short circuit between the lead portions 620 of the neighboring probe 600.

다시, 도 2에 도시된 바와 같이, 인쇄 회로 기판(100) 상측에는 보호 커버(700)가 위치하고 있다.Again, as shown in FIG. 2, the protective cover 700 is positioned above the printed circuit board 100.

보호 커버(700)는 인쇄 회로 기판(100)의 상부에 결합되며, 외부로부터의 충격 등으로부터 인쇄 회로 기판(100) 및 프로브(600)의 리드부(620)를 보호하는 역할을 한다. 보호 커버(700)는 내부에 형성된 방열부(710)를 포함한다. 방열부(710) 는 방열 수단으로서, 검사 공정 시 리드부(620) 및 인쇄 회로 기판(100)의 제 1 단자부(120)에서 발생할 수 있는 열을 대류, 전도 및 복사 현상을 이용하여 보호 커버(700) 외부로 방출하는 역할을 한다.The protective cover 700 is coupled to the upper portion of the printed circuit board 100, and serves to protect the printed circuit board 100 and the lead 620 of the probe 600 from an impact from the outside. The protective cover 700 includes a heat radiating part 710 formed therein. The heat dissipation part 710 is a heat dissipation means. The heat dissipation part 710 is a heat dissipation means. The heat dissipation part 710 is a heat dissipation means. 700) It serves to release to the outside.

이상과 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)는 인쇄 회로 기판(100) 및 프로브(600)의 리드부(620)에 의해 공간 변환이 수행되기 때문에, 다층 세라믹 기판(multi layer ceramic, MLC) 등의 고가의 재료를 사용한 공간 변환기를 별도로 사용할 필요가 없다. 이에 의해 제조 비용이 절감된 프로브 카드(1000)가 제공된다.As described above, since the probe card 1000 according to the first exemplary embodiment of the present invention performs spatial conversion by the printed circuit board 100 and the lead unit 620 of the probe 600, the multi-layer ceramic substrate (multi There is no need to use a spatial transducer separately using expensive materials such as layer ceramic (MLC). As a result, a probe card 1000 having a reduced manufacturing cost is provided.

또한, 피검사체에 형성된 접촉 패드와 접촉하는 접촉 핀부(613)만이 외부로 노출되어 있고, 접촉 가이드부(614)가 프로브 가이드 기판(500)의 슬릿(510) 내부에 위치하기 때문에, 검사 공정 시 피검사체에 형성된 접촉 패드 또는 접촉 패드 상에 위치할 수 있는 파티클(particle) 등의 간섭에 의해 프로브(600)가 최초 설정된 위치로부터 이탈하는 것이 억제된다. 또한, 보호 커버(700)가 프로브(600) 및 인쇄 회로 기판(100)에서 발생할 수 있는 열을 외부로 방출하기 때문에 검사 공정 시 열에 의한 검사 오류가 억제된다. 이에 의하여 검사 신뢰성이 향상된 프로브 카드(1000)가 제공된다.In addition, since only the contact pin part 613 which contacts the contact pad formed in the object under test is exposed to the outside, and the contact guide part 614 is located inside the slit 510 of the probe guide substrate 500, during the inspection process. The detachment of the probe 600 from the initially set position is suppressed by the interference of the contact pad formed on the object under test or particles that may be located on the contact pad. In addition, since the protective cover 700 emits heat that may be generated in the probe 600 and the printed circuit board 100 to the outside, an inspection error due to heat during the inspection process is suppressed. This provides a probe card 1000 with improved inspection reliability.

이하, 도 4 내지 도 13을 참조하여 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브(600)의 제조 방법을 설명한다. 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브(600)의 제조 방법에 의해 제조된 프로브(600)는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드(1000)에 포함되어 있는 프로브(600)이다.Hereinafter, a method of manufacturing the probe 600 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 4 to 13. The probe 600 manufactured by the method of manufacturing the probe 600 according to the second embodiment of the present invention is a probe 600 included in the probe card 1000 according to the first embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이고, 도 6 내지 도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고, 도 8은 도 7의 Ⅷ-Ⅷ을 따른 단면도이며, 도 12는 도 11의 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따른 단면도이다.5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention. FIGS. 6 to 13 are views illustrating a method of manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention. 7 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII, and FIG. 12 is a cross-sectional view taken along the line II-XII of FIG.

우선, 도 5 및 도 6에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)을 마련한다(S110).First, as illustrated in FIGS. 5 and 6, the flexible plate 2000 is provided (S110).

가요성 판(2000)은 절연성 물질 또는 도전성 물질로 이루어져 있으며, 휘어질 수 있는 성질을 가지고 있다. 본 발명의 제 2 실시예에서 가요성 판(2000)은 금속 호일(foil) 등의 도전성 물질로 이루어진 것이 바람직하다.The flexible plate 2000 is made of an insulating material or a conductive material, and has a property that can be bent. In the second embodiment of the present invention, the flexible plate 2000 is preferably made of a conductive material such as a metal foil.

다음, 접착층(2100) 및 도전층(2200)을 형성한다(S120).Next, an adhesive layer 2100 and a conductive layer 2200 are formed (S120).

구체적으로, 스퍼터링(sputtering) 공정을 이용해 가요성 판(2000) 상에 접착층(2100)을 형성하고, 접착층(2100) 상에 도전층(2200)을 순차적으로 형성한다. 접착층(2100)은 티타늄(Ti) 또는 크롬(Cr) 등을 포함한 금속 재료이며, 도전층(2200)은 금(Au) 또는 구리(Cu) 등을 포함한 금속 재료이다. 접착층(2100)은 도전층(2200)보다 가요성 판(2000)과 화학적 친화력이 더 높으며, 도전층(2200)과 가요성 판(2000) 사이의 접합을 용이하게 하는 역할을 한다.Specifically, the adhesive layer 2100 is formed on the flexible plate 2000 using a sputtering process, and the conductive layer 2200 is sequentially formed on the adhesive layer 2100. The adhesive layer 2100 is a metal material including titanium (Ti), chromium (Cr), or the like, and the conductive layer 2200 is a metal material including gold (Au) or copper (Cu). The adhesive layer 2100 has a higher chemical affinity with the flexible plate 2000 than the conductive layer 2200, and serves to facilitate bonding between the conductive layer 2200 and the flexible plate 2000.

여기서, 화학적 친화력이란, 두개의 물질에 있어서 상호간의 접착력을 의미한다.Here, chemical affinity means the adhesive force of two materials.

다음, 포토레지스트층(3000)을 형성한다(S130).Next, the photoresist layer 3000 is formed (S130).

구체적으로, 포토레지스트 물질을 포함하는 수지를 도전층(2200) 상에 형성 하여 포토레지스트층(3000)을 형성한다.Specifically, a resin including a photoresist material is formed on the conductive layer 2200 to form the photoresist layer 3000.

다음, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다(S140).Next, as shown in FIGS. 7 and 8, the photoresist pattern 3100 is formed (S140).

구체적으로, 포토레지스트층(3000) 상에 프로브(600)의 판면에 대응하는 형상을 가지는 마스크를 정렬한 후, 마스크를 통해 포토레지스트층(3000)에 자외선 등을 조사하여 포토레지스트층(3000)을 노광한 후, 현상액을 이용하여 포토레지스트층(3000)을 현상해 프로브(600)의 판면에 대응하는 프로브 영역(3500)을 개구하는 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다. 포토레지스트 패턴(3100)에 의해, 프로브 영역(3500)에 대응하는 도전층(2200)이 노출된다.Specifically, after aligning a mask having a shape corresponding to the plate surface of the probe 600 on the photoresist layer 3000, by irradiating the photoresist layer 3000 with ultraviolet rays through the mask to the photoresist layer 3000 After exposing the photoresist layer 3000, the photoresist layer 3000 is developed using a developer to form a photoresist pattern 3100 that opens the probe region 3500 corresponding to the plate surface of the probe 600. The conductive layer 2200 corresponding to the probe region 3500 is exposed by the photoresist pattern 3100.

다음, 도 9에 도시된 바와 같이, 프로브(600)를 형성한다(S150).Next, as shown in Figure 9, to form a probe 600 (S150).

구체적으로, 도전층(2200)을 이용한 전해 도금 공정 등의 도금 공정을 이용하여 프로브 영역(3500)에 니켈(Ni) 및 코발트(Co) 합금 등의 도전성 물질을 채우면, 프로브(600)가 형성된다. 그런데 이 때, 도금 공정으로 인해, 포토레지스트 패턴(3100) 상으로 도전성 물질이 돌출될 수 있다. 이 경우, 돌출된 도전성 물질을 화학적 또는 물리적 연마 공정을 이용해 연마하여 프로브(600)를 형성한다.Specifically, the probe 600 is formed by filling a conductive material such as nickel (Ni) and cobalt (Co) alloy in the probe region 3500 using a plating process such as an electrolytic plating process using the conductive layer 2200. . However, at this time, due to the plating process, the conductive material may protrude onto the photoresist pattern 3100. In this case, the protruding conductive material is polished using a chemical or physical polishing process to form the probe 600.

다음, 도 10에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 패턴(3100)을 제거한다(S160).Next, as shown in FIG. 10, the photoresist pattern 3100 is removed (S160).

구체적으로, 에슁(ashing) 공정을 이용하여 포토레지스트 패턴(3100)을 도전층(2200)으로부터 제거한다.Specifically, the photoresist pattern 3100 is removed from the conductive layer 2200 using an ashing process.

다음, 도 11 및 도 12에 도시된 바와 같이, 접착층(2100) 및 도전층(2200)을 에칭한다(S170).Next, as shown in FIGS. 11 and 12, the adhesive layer 2100 and the conductive layer 2200 are etched (S170).

구체적으로, 습식 에칭(etching) 또는 건식 에칭 공정을 이용하여, 프로브(600)의 외곽에 노출된 접착층(2100) 및 도전층(2200)을 에칭한다. 본 발명의 제 2 실시예에서는 습식 에칭 공정을 이용하는 것이 바람직하다.Specifically, the adhesive layer 2100 and the conductive layer 2200 exposed to the outside of the probe 600 are etched by using a wet etching or dry etching process. In the second embodiment of the present invention, it is preferable to use a wet etching process.

다음, 도 13에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)으로부터 프로브(600)를 분리한다(S180).Next, as shown in FIG. 13, the probe 600 is separated from the flexible plate 2000 (S180).

구체적으로, 가요성 판(2000)을 제 1 방향으로 가압하여 휘어지게 하면, 프로브(600) 및 가요성 판(2000) 각각의 탄성 변형값이 다르기 때문에, 가요성 판(2000) 상에 위치하는 프로브(600)가 가요성 판(2000)으로부터 떨어지게 된다.Specifically, when the flexible plate 2000 is pressed and bent in the first direction, since the elastic deformation values of the probe 600 and the flexible plate 2000 are different from each other, the flexible plate 2000 is positioned on the flexible plate 2000. The probe 600 is separated from the flexible plate 2000.

다음, 스프레이(spray) 공정 또는 디핑(dipping) 공정 등을 이용해 프로브(600)의 리드부(620) 표면에 절연 코팅을 한다.Next, an insulating coating is performed on the surface of the lead portion 620 of the probe 600 using a spray process or a dipping process.

이상과 같은 방법에 의해, 도 4에 도시된 바와 같은 프로브(600)가 제조된다.By the above method, the probe 600 as shown in FIG. 4 is manufactured.

이에 의하여, 제조 비용을 절감되며, 검사 신뢰성이 향상된 프로브 카드(1000)에 포함되어 있는 프로브(600)의 제조 방법이 제공된다.As a result, a manufacturing method of the probe 600 included in the probe card 1000 which reduces manufacturing costs and improves inspection reliability is provided.

이하, 도 14 내지 도 18을 참조하여 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명한다.Hereinafter, a method of manufacturing a probe according to a third exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 14 to 18.

이하, 제 2 실시예와 구별되는 특징적인 부분만 발췌하여 설명하며, 설명이 생략된 부분은 제 2 실시예에 따른다. 그리고, 본 발명의 제 3 실시예에서는 설명의 편의를 위하여 동일한 구성요소에 대하여는 제 2 실시예와 동일한 참조번호를 사용하여 설명한다.Hereinafter, only the characteristic parts distinguished from the second embodiment will be described and described, and the descriptions thereof will be omitted according to the second embodiment. In the third embodiment of the present invention, for the convenience of description, the same components will be described with the same reference numerals as in the second embodiment.

도 14는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이며, 도 15 내지 도 18은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.14 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIGS. 15 to 18 are views illustrating a method of manufacturing a probe according to a third exemplary embodiment of the present invention.

우선, 도 14 및 도 15에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)을 마련한다(S210).First, as shown in FIGS. 14 and 15, a flexible plate 2000 is provided (S210).

가요성 판(2000)은 절연성 물질 또는 도전성 물질로 이루어져 있으며, 휘어질 수 있는 성질을 가지고 있다.The flexible plate 2000 is made of an insulating material or a conductive material, and has a property that can be bent.

다음, 포토레지스트층(3000)을 형성한다(S220).Next, a photoresist layer 3000 is formed (S220).

다음, 도 16에 도시된 바와 같이, 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다(S230).Next, as shown in FIG. 16, a photoresist pattern 3100 is formed (S230).

구체적으로, 포토레지스트층(3000)을 노광 및 현상하여 프로브 영역(3500)을 개구하는 포토레지스트 패턴(3100)을 형성한다. 포토레지스트 패턴(3100)에 의해, 프로브 영역(3500)에 대응하는 가요성 판(2000)이 노출된다.Specifically, the photoresist layer 3000 is exposed and developed to form a photoresist pattern 3100 that opens the probe region 3500. By the photoresist pattern 3100, the flexible plate 2000 corresponding to the probe region 3500 is exposed.

다음, 도 17에 도시된 바와 같이, 프로브(600)를 형성한다(S240).Next, as shown in FIG. 17, a probe 600 is formed (S240).

구체적으로, 프로브(600)의 형성은 가요성 판(2000)의 재질에 따라 두 가지 공정으로 나뉜다.Specifically, the formation of the probe 600 is divided into two processes according to the material of the flexible plate 2000.

먼저, 가요성 판(2000)이 절연성 물질로 이루어진 경우, 포토레지스트 패턴(3100) 상에 프로브 영역(3500)이 노출되도록 마스크를 정렬 시킨 후, 스퍼터링 공정을 이용해 프로브 영역(3500)에 도전성 물질을 채워 프로브(600)를 형성한다.First, when the flexible plate 2000 is made of an insulating material, the mask is aligned to expose the probe region 3500 on the photoresist pattern 3100, and then a conductive material is applied to the probe region 3500 using a sputtering process. To form the probe 600.

다음, 가요성 판(2000)이 도전성 물질로 이루어진 경우, 가요성 판(2000)을 이용한 전해 도금 공정 등의 도금 공정을 이용하여 프로브 영역(3500)에 도전성 물질을 채우고, 필요에 따라 돌출된 도전성 물질을 화학적 또는 물리적 연마 공정을 이용해 연마하여 프로브(600)를 형성한다.Next, when the flexible plate 2000 is made of a conductive material, the conductive material is filled in the probe region 3500 using a plating process such as an electrolytic plating process using the flexible plate 2000, and the conductive material protrudes as necessary. The material is polished using a chemical or physical polishing process to form the probe 600.

다음, 도 18에 도시된 바와 같이, 가요성 판(2000)으로부터 프로브(600)를 분리한다(S250).Next, as shown in FIG. 18, the probe 600 is separated from the flexible plate 2000 (S250).

구체적으로, 가요성 판(2000)을 제 1 방향으로 가압하여 휘어지게 하면, 프로브(600), 포토레지스트 패턴(3100) 및 가요성 판(2000) 각각의 탄성 변형값이 다르기 때문에, 가요성 판(2000) 상에 위치하는 프로브(600)가 가요성 판(2000) 및 포토레지스트 패턴(3100)으로부터 떨어지게 된다.Specifically, when the flexible plate 2000 is pressed and bent in the first direction, the elastic deformation values of the probe 600, the photoresist pattern 3100, and the flexible plate 2000 are different. The probe 600 positioned on the 2000 may be separated from the flexible plate 2000 and the photoresist pattern 3100.

다음, 스프레이 공정 또는 디핑 공정 등을 이용해 프로브(600)의 리드부(620) 표면에 절연 코팅을 한다.Next, an insulating coating is applied to the surface of the lead portion 620 of the probe 600 using a spray process or a dipping process.

이상과 같은 방법에 의해, 프로브가 제조된다.By the above method, a probe is manufactured.

이와 같이, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법은 가요성 판(2000)의 재질에 따라 두가지 방법으로 나뉘게 되며, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법에 비해 간단한 공정으로 제조할 수 있다. 즉, 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법은 제조 비용이 절감된다.As described above, the method for manufacturing a probe according to the third embodiment of the present invention is divided into two methods according to the material of the flexible plate 2000, and a simpler process compared to the method for manufacturing the probe according to the second embodiment of the present invention. It can be prepared by. That is, the manufacturing cost of the probe according to the third embodiment of the present invention is reduced.

전술한 본 발명의 설명은 예시를 위한 것이며, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 쉽게 변형이 가능하다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 예를 들어, 단일형으로 설명되어 있는 각 구성 요소는 분산되어 실시될 수도 있으며, 마찬가지로 분산된 것으로 설명되어 있는 구성 요소들도 결합된 형태로 실시될 수 있다.The foregoing description of the present invention is intended for illustration, and it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be easily modified in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention. will be. It is therefore to be understood that the above-described embodiments are illustrative in all aspects and not restrictive. For example, each component described as a single type may be implemented in a distributed manner, and similarly, components described as distributed may be implemented in a combined form.

본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 균등 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.The scope of the present invention is shown by the following claims rather than the above description, and all changes or modifications derived from the meaning and scope of the claims and their equivalents should be construed as being included in the scope of the present invention. do.

도 1은 종래의 프로브 카드를 나타낸 단면도이고,1 is a cross-sectional view showing a conventional probe card,

도 2는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드의 단면도이고,2 is a cross-sectional view of a probe card according to a first embodiment of the present invention,

도 3은 도 2의 A부분의 확대도이고,3 is an enlarged view of portion A of FIG. 2,

도 4는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 프로브 카드에 포함되어 있는 프로브의 사시도이고,4 is a perspective view of a probe included in a probe card according to a first embodiment of the present invention;

도 5는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이고,5 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention.

도 6 내지 도 13은 본 발명의 제 2 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이고,6 to 13 are views for explaining a method for manufacturing a probe according to a second embodiment of the present invention,

도 8은 도 7의 Ⅷ-Ⅷ을 따른 단면도이고,8 is a cross-sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG. 7,

도 12는 도 11의 ⅩⅡ-ⅩⅡ를 따른 단면도이고,12 is a cross-sectional view taken along XII-XII of FIG. 11,

도 14는 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 나타낸 순서도이며,14 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a probe according to a third embodiment of the present invention.

도 15 내지 도 18은 본 발명의 제 3 실시예에 따른 프로브의 제조 방법을 설명하기 위한 도면이다.15 to 18 are diagrams for explaining a method for manufacturing a probe according to a third embodiment of the present invention.

Claims (12)

프로브 카드에 사용되는 판형의 프로브의 제조 방법에 있어서,In the manufacturing method of the plate-shaped probe used for the probe card, 가요성 판을 마련하는 단계,Preparing a flexible plate, 상기 가요성 판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계,Forming a photoresist layer on the flexible plate, 상기 포토레지스트층을 노광 및 현상하여 상기 프로브의 판면에 대응하는 프로브 영역을 개구하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계,Exposing and developing the photoresist layer to form a photoresist pattern opening the probe region corresponding to the plate surface of the probe; 상기 프로브 영역에 도전성 물질을 채워 상기 프로브를 형성하는 단계 및Filling the probe region with a conductive material to form the probe; and 상기 가요성 판을 휘어서 상기 가요성 판으로부터 상기 프로브를 분리하는 단계Bending the flexible plate to separate the probe from the flexible plate 를 포함하는 프로브의 제조 방법.Method for producing a probe comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가요성 판과 상기 포토레지스트층 사이에 위치하도록 도전층을 형성하는 단계를 더 포함하는 프로브의 제조 방법.And forming a conductive layer to be positioned between the flexible plate and the photoresist layer. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 프로브를 형성하는 단계는 상기 도전층을 이용한 도금 공정에 의해 형 성되는 것인 프로브의 제조 방법.Forming the probe is a method of manufacturing a probe that is formed by a plating process using the conductive layer. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 프로브를 이용하여 상기 도전층을 에칭하는 단계를 더 포함하는 프로브의 제조 방법.And etching the conductive layer using the probe. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 상기 가요성 판과 상기 도전층 사이에 위치하도록 접착층을 형성하는 단계를 더 포함하는 프로브의 제조 방법.And forming an adhesive layer to be positioned between the flexible plate and the conductive layer. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 프로브를 이용하여 상기 도전층 및 상기 접착층을 에칭하는 단계를 더 포함하는 프로브의 제조 방법.And etching the conductive layer and the adhesive layer using the probe. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 가요성 판은 도전성 물질로 이루어져 있는 것인 프로브의 제조 방법.And the flexible plate is made of a conductive material. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 프로브를 형성하는 단계는 상기 가요성 판을 이용한 도금 공정에 의해 형성되는 것인 프로브의 제조 방법.Forming the probe is a method of manufacturing a probe that is formed by a plating process using the flexible plate. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 더 포함하는 프로브의 제조 방법.And removing the photoresist pattern. 인쇄 회로 기판을 포함하는 프로브 카드에 형성된 슬릿에 지지되는 판형의 프로브에 있어서,In a plate-shaped probe supported by a slit formed on a probe card including a printed circuit board, 본체부 및Main body and 상기 본체부와 일체로 형성되어 있으며, 상기 인쇄 회로 기판에 연결되는 리드부A lead portion formed integrally with the main body portion and connected to the printed circuit board. 를 포함하며,Including; 상기 본체부는,The main body portion, 외팔보부,Cantilever, 외팔보 회전 공간부,Cantilever rotating space, 상기 외팔보부의 종단 상부에 형성되는 접촉 가이드부 및A contact guide part formed on an upper end of the cantilever part; 상기 외팔보부의 종단 하부에 형성되는 접촉 핀부를 포함하되,Including a contact pin formed on the lower end of the cantilever portion, 상기 외팔보부, 상기 외팔보 회전 공간부 및 상기 접촉 가이드부는 상기 슬릿 내부로 삽입되어 위치하는 것인 프로브.And the cantilever part, the cantilever rotating space part, and the contact guide part are inserted into the slit. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 프로브 카드에는 수평 지지부 수용 홈이 더 형성되어 있으며,The probe card further has a horizontal support portion receiving groove, 상기 본체부는,The main body portion, 수평 방향으로 돌출되어 있으며, 상기 수평 지지부 수용 홈에 고정되는 수평 지지부를 더 포함하는 프로브.And a horizontal support projecting in a horizontal direction and fixed to the horizontal support receiving groove. 제 10 항에 있어서,The method of claim 10, 상기 본체부는,The main body portion, 결합 시 상기 슬릿 내부로 삽입되어 상기 슬릿의 측벽을 탄성 지지하는 측벽 지지부를 더 포함하는 프로브.And a sidewall support portion inserted into the slit to resiliently support the sidewall of the slit.
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