KR100947836B1 - Apparatus for manufacturing silicon ingot - Google Patents

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KR100947836B1
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silicon ingot
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ingot manufacturing
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이근택
박성은
박종훈
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(주)세미머티리얼즈
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Abstract

PURPOSE: An apparatus for manufacturing a silicon ingot is provided to make the silicon ingot with high cultivation by controlling a temperature of a heating unit. CONSTITUTION: A crucible(120) is installed inside a chamber(110). A heating unit(130) heats the crucible. The crucible is loaded on a crucible mounting unit(140). A water cooling load group(151-153) is formed under the crucible mounting unit. The water cooling load group is separately installed from the center of the crucible mounting unit to the outside and is connected to water supply units.

Description

실리콘 잉곳 제조장치{Apparatus for manufacturing silicon ingot}Silicon ingot manufacturing apparatus {Apparatus for manufacturing silicon ingot}

본 발명은 실리콘 잉곳 제조장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 실리콘 잉곳 응고시 응고계면을 개별 수냉로드 제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳 제조장치에 관한 것이다.The present invention relates to a silicon ingot manufacturing apparatus, and more particularly, to a silicon ingot manufacturing apparatus having a <100> direction coagulation structure with good cultureability through the control of the individual water cooling rod to coagulate the silicon ingot solidification.

최근 지구온난화의 문제가 대두가 되면서 신재생에너지의 개발이 활발히 이루어 지고있다. 그중에서도 태양광 산업은 무공해, 에너지의 자원 보존, 무보수, 고신뢰성 등의 장점으로 인하여 최근 5년간 연평균 40%이상의 성장을 보이고 있다. Recently, with the problem of global warming, the development of new and renewable energy is being actively conducted. Among them, the solar industry has grown at an annual average of more than 40% over the last five years due to the advantages of pollution-free, energy conservation, maintenance and high reliability.

현재 태양전지의 기본 원료인 폴리실리콘의 공급이 원활히 이루어지지 못하여 역피라미드형 밸류 체인을 보이고 있다. 이것은 태양전지를 이용한 태양광 모듈 시스템의 수요량에 따른 공급이 원활하지 못하기 때문에 원재료인 폴리실리콘의 가격 상승의 원인이 되고 있다. Currently, polysilicon, which is a basic raw material for solar cells, cannot be supplied smoothly, showing a reverse pyramid type value chain. This is causing a rise in the price of polysilicon, a raw material, because supply is not smooth according to the demand of the solar module system using the solar cell.

이에 실리콘 원재료의 원활한 수급을 확보하기 위한 노력이 관련 산업계에서 현안으로 등장하고 있다. 실리콘 원재료의 원활한 수급을 확보하기 위해, 현재 사용되고 있는 방안은 반도체 실리콘 웨이퍼 제조 공정에서 발생하는 많은 양의 폐실리콘을 정제하여 실리콘 잉곳으로 성장시켜 사용하는 것이다.As a result, efforts to secure smooth supply and demand of silicon raw materials have emerged as an issue in related industries. In order to secure smooth supply and demand of silicon raw materials, the presently used method is to purify a large amount of waste silicon generated in a semiconductor silicon wafer manufacturing process and grow it into a silicon ingot.

실리콘 잉곳 제조공정에서 중요한 인자로는 용융시 실리콘의 녹는 온도, 용융시간, 가스 분위기, 감압상태 등이 있으며, 응고시에는 응고속도(V)= 냉각속도(R)/온도구배(G)에 의해 일방향 응고를 제어할 수 있다. 통상적으로 다결정 실리콘의 일방향 응고는 수냉로드를 이용하여 초기 핵생성 후 배향성이 좋은 <100>의 결정방향을 갖는 실리콘 잉곳을 만드는 과정이다. Important factors in the silicon ingot manufacturing process include melting temperature of silicon during melting, melting time, gas atmosphere, and reduced pressure.In the case of solidification, solidification rate (V) = cooling rate (R) / temperature gradient (G). One-way coagulation can be controlled. Typically, unidirectional solidification of polycrystalline silicon is a process of making a silicon ingot having a crystal orientation of <100> with good orientation after initial nucleation using a water-cooled rod.

최근에 연구된 바에 의하면, 실리콘 잉곳 제조공정에서 응고시 중요한 변수로는 실리콘 잉곳의 응고계면 냉각온도를 제어하는 것이다. 실리콘 잉곳의 응고계면 냉각온도 불안정은 실리콘 잉곳의 결정 조직이 안쪽으로 모이는 현상, 한쪽으로 치우치는 현상, 결정 크기가 불균일하게 성장하는 현상 및 실리콘 잉곳에 크렉이 발생하는 원인이 되기도 한다. Recently studied, an important parameter in solidification in the silicon ingot manufacturing process is to control the cooling temperature of the solidification interface of the silicon ingot. The unstable cooling temperature of the silicon ingot may cause the silicon ingot to gather inwardly, deviate to one side, grow unevenly in crystal size, and cause cracks in the silicon ingot.

한편, 기존 실리콘 잉곳 제조방법 중에는 도가니가 아래로 이동하며 온도차에 의해 실리콘 잉곳을 응고하는 방법(SRS 법)이 있다. 이 방법은 샤프트 엘리베이터의 진동에 따라 도가니 내에 형성되는 실리콘 잉곳에 결함이 발행되는 문제점이 있다. 이에 수냉로드를 이용하여 실리콘 잉곳을 성장시키는 방법이 제시되고 있다. On the other hand, among the existing silicon ingot manufacturing method there is a method (SRS method) to solidify the silicon ingot by the temperature difference to move the crucible down. This method has a problem that a defect is issued to a silicon ingot formed in the crucible according to the vibration of the shaft elevator. Thus, a method of growing a silicon ingot using a water-cooled rod has been proposed.

수냉로드를 이용하여 실리콘 잉곳을 성장시키고자 제안된 기술로는 일본 공개특허 공개평 11-310496호(발명의 명칭: 배향성이 좋은 일방향 응고 조직을 가지는 실리콘의 제조하는 방법 및 장치, 이하 “인용발명1”이라 함)가 있다.As a technique proposed to grow a silicon ingot using a water-cooled rod, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-310496 (name of the invention: a method and apparatus for producing silicon having a unidirectional solidification structure having good orientation, hereinafter referred to as “quoting invention” 1 ”).

인용발명1 에는 결정성장로의 히터부가 상부와 하부에만 존재하며, 응고시 도가니가 샤프트 엘리베이터에 의해 아래로 이동하며 응고를 진행시키는 방법을 사용하고 있다. 또한 수냉로드에 냉매가스로 불활성 기체인 아르곤(Ar) 가스를 투입 하며, 냉매가스를 챔버 안으로 이동시키는 냉매 공급부와 배출구와 불활성가스의 예열 히터부를 사용한다. 이때 수냉로드 쪽에서 냉매로 사용된 아르곤(Ar) 가스를 다시 챔버 내부로 공급하여 아르곤(Ar) 가스 분위기를 만들어 SiO, SiC의 불순물 형성을 감소시키는 실리콘 잉곳의 제조방법 및 장치에 대한 기술이 기재되어 있다.In the cited invention 1, the heater part of the crystal growth furnace exists only in the upper part and the lower part, and during the solidification, the crucible is moved downward by the shaft elevator and the solidification method is used. In addition, argon (Ar) gas, which is an inert gas, is introduced into the water cooling rod as a refrigerant gas, and a refrigerant supply unit, a discharge port, and a preheating heater unit of an inert gas are used to move the refrigerant gas into the chamber. In this case, a method for manufacturing a silicon ingot and a device for supplying argon (Ar) gas used as a refrigerant from the water-cooling rod to the inside of the chamber to create an argon (Ar) gas atmosphere to reduce impurities in SiO and SiC are described. have.

그러나 인용발명1 에서는 수냉로드로 냉매가스로 사용되는 아르곤(Ar) 가스를 결정성장로의 가동시간 동안 끊임없이 공급해야 한다. 즉, 30시간 이상 아르곤(Ar) 가스를 냉각 매체로 사용하기 때문에 실리콘 잉곳 제작비용이 커지는 문제점이 있다. However, in Cited Invention 1, argon (Ar) gas, which is used as a refrigerant gas as a water-cooled rod, must be continuously supplied during the operation of the crystal growth furnace. That is, since argon (Ar) gas is used as the cooling medium for 30 hours or more, there is a problem in that the manufacturing cost of silicon ingot becomes large.

본 발명은 상기와 같은 배경에서 제안된 것으로, 본 발명의 목적은 도가니 내부의 용융된 실리콘을 응고시 냉각수량 제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳을 제조할 수 있는 실리콘 잉곳 제조장치를 제공하는 것이다.The present invention has been proposed in the background as described above, and an object of the present invention is to produce a silicon ingot having a <100> direction coagulation structure with good cultureability by controlling the amount of cooling water when solidifying the molten silicon inside the crucible It is to provide a silicon ingot manufacturing apparatus.

본 발명의 부가적인 목적은 도가니를 가열시키는 발열부의 온도제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳을 제조할 수 있는 실리콘 잉곳 제조장치를 제공하는 것이다.It is an additional object of the present invention to provide a silicon ingot manufacturing apparatus capable of manufacturing a silicon ingot having a <100> direction coagulation structure with good cultureability through temperature control of a heating part for heating a crucible.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 양상에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 챔버와, 챔버 내에 설치되는 도가니와, 도가니를 발열시키는 발열부와, 도가니가 올려지는 도가니 탑재부와, 도가니 탑재부 아래에 형성되는 적어도 2개 이상의 수냉로드군을 포함하되, 적어도 2개 이상의 수냉로드군은 도가니 탑재부 중심으로부터 외측으로 서로 이격되게 설치되며 서로 다른 물 공급관이 연결되는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, a silicon ingot manufacturing apparatus according to an aspect of the present invention includes a chamber, a crucible installed in the chamber, a heat generating part for generating a crucible, a crucible mounting part on which a crucible is mounted, and a crucible mounting part It includes at least two or more water-cooled rod group formed in, at least two or more water-cooled rod group is installed to be spaced apart from each other from the center of the crucible mounting portion and characterized in that different water supply pipe is connected.

본 발명의 부가적인 양상에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 도가니 상부에 설치되는 상부 발열부와, 도가니 측면의 상부에 설치되는 제1 측면 발열부와, 도가니 측면의 중간부에 설치되는 제2 측면 발열부와, 도가니 측면의 하부에 설치되는 제3 측면 발열부를 포함한다. Silicon ingot manufacturing apparatus according to an additional aspect of the present invention, the upper heating portion is installed on the top of the crucible, the first side heating portion installed on the upper side of the crucible side, the second side heat generation is installed in the middle portion of the crucible side And a third side heating part installed below the crucible side.

본 발명의 다른 부가적인 양상에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 도가니 탑재부가 도가니를 지지하는 제1 도가니 탑재부와, 수냉로드가 삽입되는 삽입홈이 형성되는 제2 도가니 탑재부와, 제2 도가니 탑재부와 제1 도가니 탑재부 사이에 설치되는 냉각판을 포함한다. According to another aspect of the present invention, a silicon ingot manufacturing apparatus includes a first crucible mounting portion in which a crucible mounting portion supports a crucible, a second crucible mounting portion in which an insertion groove into which a water cooling rod is inserted is formed, and a second crucible mounting portion and a first crucible mounting portion. 1 includes a cooling plate installed between the crucible mounting portion.

본 발명의 다른 부가적인 양상에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 발열부에서 발열되는 열을 단열시키는 상부 단열판과, 도가니 탑재부와 수냉로드군 사이에 설치되는 하부 단열판과, 하부 단열판과 상부 단열판 사이에 형성되는 측면 단열재와, 하부 단열판과 함께 수냉로드군을 밀폐 및 단열시키는 수냉로드 단열부를 포함한다.Silicon ingot manufacturing apparatus according to another additional aspect of the present invention, the upper heat insulating plate to insulate the heat generated in the heat generating portion, the lower heat insulating plate provided between the crucible mounting portion and the water-cooled rod group, formed between the lower heat insulating plate and the upper heat insulating plate And a water-cooled rod heat insulating part for sealing and insulating the water-cooled rod group together with the side heat insulating material and the lower heat insulating plate.

본 발명의 다른 부가적인 양상에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 수냉로드군에 포함되는 수냉로드가 물 공급관으로부터 냉각수가 유입되는 제1, 제2 냉각수 유입구와, 제1, 제2 냉각수 유입구로부터 유입되는 냉각수가 흐르는 제1, 제2 냉각수 경로부와, 제1, 제2 냉각수 경로부를 통과한 냉각수를 외부로 배출하는 냉각수 배출구를 포함한다. 여기서, 제1, 제2 냉각수 경로부는 냉각수 배출구를 기준으로 좌, 우에 형성되되 미앤더(meander) 패턴 또는 루프 안테나 패턴 중 어느 하나로 구현되는 것을 특징으로 한다. According to another aspect of the present invention, a silicon ingot manufacturing apparatus includes a water cooling rod included in a water cooling rod group, the first and second cooling water inlets through which coolant is introduced from a water supply pipe, and the first and second cooling water inlets. And a cooling water discharge port configured to discharge the cooling water passing through the first and second cooling water path parts through which the cooling water flows, and to the outside. The first and second cooling water path parts may be formed at left and right sides of the cooling water discharge port, and may be implemented as one of a meander pattern and a loop antenna pattern.

본 발명의 다른 부가적인 양상에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 수냉로드군에 물 공급관을 통해 냉각수를 공급하는 냉각수 공급부와, 물 공급관을 개폐시키는 밸브와, 발열부의 발열온도를 감지하는 제1 열감지부와, 도가니 탑재부의 발열온도를 감지하는 제2 열감지부와, 제1, 제2 열감지부에서 감지된 발열온도에 따라 밸브의 개폐동작을 제어하는 밸브 제어기를 포함한다.Silicon ingot manufacturing apparatus according to another additional aspect of the present invention, the cooling water supply unit for supplying the cooling water to the water cooling rod group through the water supply pipe, the valve for opening and closing the water supply pipe, and the first heat sensing unit for detecting the heating temperature of the heat generating unit And a second heat sensing unit sensing a heating temperature of the crucible mounting unit and a valve controller controlling the opening and closing operation of the valve according to the heating temperature sensed by the first and second heat sensing units.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 도가니 탑재부 아래에 적어도 2개 이상의 수냉로드군이 형성됨으로써, 도가니 내부의 용융된 실리콘 잉곳 응고시 도가니의 이동없이 수냉로드군 각각에 공급되는 냉각수량 제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳을 제조할 수 있는 유용한 효과가 있다. In the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention having the configuration described above, at least two or more water-cooled rod groups are formed under the crucible mounting portion, so that the molten silicon ingot solidifies inside the crucible and is supplied to each of the water-cooled rod groups without moving the crucible. Through controlling the amount of cooling water, there is a useful effect of producing a silicon ingot having a <100> direction coagulation structure with good culture.

또한, 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 도가니 상부와 측면 각 부분에 설치되는 다수의 발열부가 형성되도록 구현됨으로써, 도가니를 가열시키는 발열부의 온도제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳을 제조할 수 있는 유용한 효과가 있다.In addition, the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention is implemented so that a plurality of heating parts installed on each side of the crucible upper and side, is formed, the <100> direction coagulation structure with good cultureability through temperature control of the heating part to heat the crucible There is a useful effect that can produce a silicon ingot with.

또한, 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 상부 단열판과, 도가니 탑재부와 수냉로드군 사이에 설치되는 하부 단열판과, 하부 단열판과 상부 단열판 사이에 형성되는 측면 단열재와, 하부 단열판과 함께 수냉로드군을 밀폐 및 단열시키는 수냉로드 단열부를 포함하여 구현됨으로써, 도가니에 열을 가하여 실리콘을 용융하는 경우 수냉로드군을 보호할 수 있다. 또한, 용융된 실리콘을 응고시키기 위해 하부 단열판을 개방하더라도 수냉로드 단열부가 챔버 내부의 열이 외부로 방출되는 것을 막아주어 수냉로드군 각각에 공급되는 냉각수량 제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳을 제조할 수 있는 유용한 효과가 있다. In addition, the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention, the upper heat insulating plate, the lower heat insulating plate installed between the crucible mounting portion and the water-cooled rod group, the side heat insulating material formed between the lower heat insulating plate and the upper heat insulating plate, and the lower heat insulating plate group Implemented by including a water-cooled rod heat insulating to seal and insulate the heat, it can protect the water-cooled rod group when melting the silicon by applying heat to the crucible. In addition, even if the lower heat insulating plate is opened to solidify the molten silicon, the water cooling rod heat insulating part prevents the heat inside the chamber from being discharged to the outside, thereby controlling the amount of cooling water supplied to each of the water cooling rod groups. There is a useful effect of making silicone ingots with a solidified texture.

또한, 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는, 제1, 제2 냉각수 유입구로부터 유입되는 냉각수가 흐르는 제1, 제2 냉각수 경로부가 냉각수 배출구를 기준으로 좌, 우에 형성되되 미앤더(meander) 패턴 또는 루프 안테나 패턴 중 어느 하나로 구현됨으로써, 도가니 내부의 용융된 실리콘을 응고시 수냉로드 내에서의 온도편차를 최소할 수 있는 유용한 효과가 있다.In addition, the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention, the first and second cooling water inlet flows flowing from the first and second cooling water inlet is formed on the left and right with respect to the cooling water outlet, the meander pattern (meander) or By implementing one of the loop antenna patterns, there is a useful effect of minimizing the temperature deviation in the water-cooled rod when solidifying the molten silicon in the crucible.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 기술되는 바람직한 실시예를 통하여 본 발명을 당업자가 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art can easily understand and reproduce the present invention.

도 1 은 본 발명의 일실시예에 따른 실리콘 잉곳 제조장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도이고, 도 2a, 2b 는 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치의 수냉로드 단면도를 도시한 실시예, 도 3 은 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치에서 다수의 수냉로드(130)를 연결하는 구조를 설명하기 위한 실시예이다. 1 is a schematic configuration diagram for explaining a silicon ingot manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention, Figures 2a, 2b is an embodiment showing a cross-sectional view of the water cooling rod of the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention, Figure 3 Is an embodiment for explaining a structure for connecting a plurality of water cooling rods 130 in the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention.

먼저 도 1을 참조하여 설명하면, 도시한 바와 같이, 본 실시예에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 크게 챔버(110)와, 도가니(120)와, 발열부(130)와, 도가니 탑재부(140)와, 수냉로드군(151, 152, 153)을 포함하여 구현될 수 있다. Referring first to Figure 1, as shown, the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present embodiment is largely the chamber 110, the crucible 120, the heat generating unit 130, the crucible mounting portion 140 and It may be implemented, including the water-cooled rod group (151, 152, 153).

챔버(110)는 보통 내부공간을 갖는 2중 구조로 형성되어, 발열부(130)가 가동되어 도가니(120)를 가열하는 경우, 챔버(110)의 표면에 가해지는 열을 식히기 위해 2중 구조 내부공간에 냉각수가 순환되도록 구현된다. The chamber 110 is usually formed in a double structure having an internal space, and when the heating unit 130 is operated to heat the crucible 120, the double structure is used to cool the heat applied to the surface of the chamber 110. Cooling water is circulated in the inner space.

도가니(120)는 실리콘 잉곳으로 성장시킬 실리콘 원료를 투입받는 것으로, 도가니(120)는 용융물의 용융온도를 견딜 수 있는 재질로 구현되어야 한다. 일례로 본 발명에서 도가니(120)는 석영으로 구현되는 것이 바람직하다.Crucible 120 is to receive the silicon raw material to be grown into a silicon ingot, the crucible 120 should be implemented with a material that can withstand the melting temperature of the melt. For example, in the present invention, the crucible 120 is preferably implemented by quartz.

발열부(130)는 도가니(120)를 발열시키는 것으로, 챔버(110) 내부에 배치된 다. 일례로, 발열부(130)는 그라파이트(graphite)로 이루어진 전극 및 발열체로 구현될 수 있다. 본 발명의 특징적인 양상에 따라 발열부(130)는 도가니(120) 상부에 설치되는 상부 발열부(131)와, 도가니(120) 측면의 상부에 설치되는 제1 측면 발열부(132)와, 도가니(120) 측면의 중간부에 설치되는 제2 측면 발열부(133)와, 도가니(120) 측면의 하부에 설치되는 제3 측면 발열부(134)를 포함하여 구현된다. 이에, 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 온도제어를 통해 용융된 실리콘을 응고시켜 실리콘 잉곳을 형성할 수 있다.The heat generating unit 130 heats the crucible 120 and is disposed in the chamber 110. For example, the heating unit 130 may be implemented as an electrode and a heating element made of graphite (graphite). According to a characteristic aspect of the present invention, the heating unit 130 may include an upper heating unit 131 installed on the top of the crucible 120, a first side heating unit 132 installed on an upper side of the crucible 120, and The second side heating part 133 is installed in the middle of the crucible 120 side, and the third side heating part 134 is installed at the bottom of the crucible 120 side. Thus, the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention may form a silicon ingot by solidifying the molten silicon through temperature control.

도가니 탑재부(140)는 도가니(120)가 올려지는 것으로, 그라파이트(graphite)로 구현되며, 표면은 SiC로 코팅된 것을 사용한다. 일례로, 도가니 탑재부(140)는 도가니(120)를 지지하는 제1 도가니 탑재부(141)와, 수냉로드가 삽입되는 삽입홈이 형성되는 제2 도가니 탑재부(142)와, 제2 도가니 탑재부(142)와 제1 도가니 탑재부(141) 사이에 설치되는 냉각판(143)을 포함하여 구현될 수 있다. 여기서, 냉각판(143)은 구리와 텅스텐 합금 또는 구리와 몰리브덴 합금으로 구현될 수 있다. The crucible mounting portion 140 is a crucible 120 is mounted, it is implemented in graphite (graphite), the surface is used that is coated with SiC. For example, the crucible mounting portion 140 includes a first crucible mounting portion 141 supporting the crucible 120, a second crucible mounting portion 142 having an insertion groove into which a water cooling rod is inserted, and a second crucible mounting portion 142. ) And the first crucible mounting portion 141 may be implemented to include a cooling plate 143. Here, the cooling plate 143 may be implemented with copper and tungsten alloy or copper and molybdenum alloy.

수냉로드군(151, 152, 153)의 개별 수냉로드는 도가니 탑재부(140) 아래에 형성되며, 재질은 구리(Cu)로 구현되며, 표면은 텅스텐이나 경질크롬도금으로 코팅된다. 수냉로드는 도가니(120)의 바닥 부분의 온도를 실리콘의 녹는점 이하로 급격히 낮추어 용융물의 초기 응고를 시작하는데 사용된다. The individual water-cooled rods of the water-cooled rod groups 151, 152, and 153 are formed under the crucible mounting portion 140, and the material is made of copper (Cu), and the surface is coated with tungsten or hard chromium plating. The water-cooled rod is used to start the initial solidification of the melt by rapidly lowering the temperature of the bottom portion of the crucible 120 below the melting point of silicon.

이하, 도 2a, 도 2b 및 도 3을 참조하여 수냉로드군(151, 152, 153)의 구조를 자세히 설명하기로 한다. Hereinafter, the structures of the water-cooled rod groups 151, 152, and 153 will be described in detail with reference to FIGS. 2A, 2B, and 3.

먼저, 도 2a는 제1 실시예에 따른 수냉로드를 도시한 것으로, 도시한 바와 같이, 수냉로드군(151, 152, 153)의 개별 수냉로드는 물 공급관으로부터 냉각수가 유입되는 제1, 제2 냉각수 유입구(251a, 251b)와, 제1, 제2 냉각수 유입구(251a, 251b)로부터 유입되는 냉각수가 흐르는 제1, 제2 냉각수 경로부(252a, 252b)와, 제1, 제2 냉각수 경로부(252a, 252b)를 통과한 냉각수를 외부, 예컨대 냉각수 공급부(도1의 참조부호 413)로 배출하는 냉각수 배출구(253)를 포함하여 구현된다. First, FIG. 2A illustrates the water cooling rod according to the first embodiment. As shown in FIG. First and second cooling water path parts 252a and 252b through which the cooling water inlets 251a and 251b, the cooling water flowing from the first and second cooling water inlets 251a and 251b flow, and the first and second cooling water path parts It is implemented to include a coolant outlet 253 for discharging the coolant passing through the (252a, 252b) to the outside, for example, the cooling water supply (reference numeral 413 in FIG. 1).

도 2a에 도시한 바와 같이, 수냉로드의 모양은 '┳'자형으로, 냉각수 배출구(253)를 기준으로 양쪽에 제1, 제2 냉각수 유입구(251a, 251b)가 형성되는 기둥(257)과 제1, 제2 냉각수 경로부(252a, 252b)가 냉각수 배출구(253)를 기준으로 좌,우에 형성되되 미앤더(meander) 패턴을 갖는 상부몸체(258)로 구현된다. 제1, 제2 냉각수 경로부(252a, 252b)는 도 2a에 도시한 바와 같이, 냉각수 흐름 경로가 길게 형성되어, 수냉로드 내에서의 온도편차를 최소할 수 있고 나아가 도가니 탑재부(도1의 참조번호 140)에 냉각수의 열효율을 높여줄 수 있다. As shown in FIG. 2A, the shape of the water cooling rod has a '기둥' shape, and the pillars 257 and the first and second cooling water inlets 251a and 251b are formed on both sides of the cooling water outlet 253. The first and second cooling water path parts 252a and 252b are formed at the left and right sides of the cooling water discharge port 253 and are implemented as an upper body 258 having a meander pattern. As shown in FIG. 2A, the first and second cooling water path parts 252a and 252b have a long cooling water flow path, so that the temperature deviation in the water cooling rod can be minimized, and the crucible mounting part (see FIG. 1). Number 140) can increase the thermal efficiency of the cooling water.

도 2b는 제2 실시예에 따른 수냉로드를 도시한 것으로, 도시한 바와 같이, 수냉로드군(151, 152, 153)의 개별 수냉로드는 물 공급관으로부터 냉각수가 유입되는 제1, 제2 냉각수 유입구(261a, 261b)와, 제1, 제2 냉각수 유입구(261a, 261b)로부터 유입되는 냉각수가 흐르는 제1, 제2 냉각수 경로부(262a, 262b)와, 제1, 제2 냉각수 경로부(262a, 262b)를 통과한 냉각수를 외부, 예컨대 냉각수 공급부(도1의 참조부호 413)로 배출하는 냉각수 배출구(263)를 포함하여 구현된다. FIG. 2B illustrates a water cooling rod according to the second embodiment. As illustrated, the individual water cooling rods of the water cooling rod groups 151, 152, and 153 may include first and second cooling water inlets through which cooling water is introduced from a water supply pipe. First and second cooling water path portions 262a and 262b through which 261a and 261b, cooling water flowing from the first and second cooling water inlets 261a and 261b flow, and the first and second cooling water path portions 262a. And a coolant outlet 263 for discharging the coolant that has passed through 262b to the outside, for example, to the coolant supply unit (413 of FIG. 1).

도 2b에 도시한 바와 같이, 수냉로드의 모양은 '┳'자형으로, 냉각수 배출구(263)를 기준으로 양쪽에 제1, 제2 냉각수 유입구(261a, 261b)가 형성되고, 제1, 제2 냉각수 경로부(262a, 262b)가 냉각수 배출구(263)를 기준으로 양쪽에 동일한 패턴을 갖도록 구현된다. 제1, 제2 냉각수 유입구(261a, 261b) 및 냉각수 배출구(263)는 z방향으로 형성되고, 제1, 제2 냉각수 경로부(262a, 262b)는 x-y 평면상에 루프 안테나 패턴으로 형성된다. 제1, 제2 냉각수 경로부(262a, 262b)는 도 2b에 도시한 바와 같이, 냉각수 흐름 경로가 길게 형성되어, 수냉로드 내에서의 온도편차를 최소할 수 있고 나아가 도가니 탑재부(도1의 참조번호 140)에 냉각수의 열효율을 높여줄 수 있다. As shown in FIG. 2B, the shape of the water cooling rod has a '┳' shape, and first and second cooling water inlets 261a and 261b are formed at both sides of the cooling water discharge port 263, and the first and second cooling rods are formed. The coolant path parts 262a and 262b are implemented to have the same pattern on both sides of the coolant outlet 263. The first and second coolant inlets 261a and 261b and the coolant outlet 263 are formed in the z direction, and the first and second coolant path parts 262a and 262b are formed in a loop antenna pattern on the x-y plane. As shown in FIG. 2B, the first and second cooling water path parts 262a and 262b have a long cooling water flow path, so that the temperature deviation in the water cooling rod can be minimized, and the crucible mounting part (see FIG. 1). Number 140) can increase the thermal efficiency of the cooling water.

도 3에 도시한 바와 같이, 각 수냉로드군(151, 152, 153)은 도가니 탑재부(40) 중심으로부터 외측으로 서로 이격되게 설치된다. 수냉로드군(151)은 물 공급관(도 1의 참조부호 211)으로부터 냉각수를 공급 받으며, 수냉로드군(152)은 물 공급관(도 1의 참조부호 212)으로부터 냉각수를 공급 받으며, 수냉로드군(153)은 물 공급관(도 1의 참조부호 213)으로부터 냉각수를 공급 받는다. 각 수냉로드군(151, 152, 153)은 동일한 온도의 냉각수를 공급 받을 수도 있고, 서로 다른 온도의 냉각수를 공급 받을 수도 있다. 또한 각 수냉로드군(151, 152, 153)은 서로 다른 냉각수량을 공급 받을 수도 있다. 도3에서 각 수냉로드군(151, 152, 153)은 직사각형으로 배치된 것을 예시하였지만, 도가니 탑재부(40) 중심으로부터 외측으로 원형을 띄도록 구현될 수 있다. As shown in FIG. 3, each of the water cooling rod groups 151, 152, and 153 is provided to be spaced apart from the center of the crucible mounting portion 40 to the outside. The water cooling rod group 151 receives the cooling water from the water supply pipe (reference numeral 211 of FIG. 1), and the water cooling rod group 152 receives the cooling water from the water supply tube (reference numeral 212 of FIG. 1), and the water cooling rod group ( 153 receives cooling water from a water supply pipe (reference numeral 213 of FIG. 1). Each of the water cooling rod groups 151, 152, and 153 may be supplied with cooling water having the same temperature, or may be supplied with cooling water having different temperatures. In addition, the water cooling rod groups 151, 152, and 153 may be supplied with different amounts of cooling water. Although each of the water-cooled rod groups 151, 152, and 153 is illustrated in FIG. 3 as being rectangular, the water-cooling rod groups 151, 152, and 153 may be implemented to have a circular shape from the center of the crucible mounting portion 40 to the outside.

이하, 다시 도 1을 참조하여 설명하기로 한다. 도 1 에 도시한 바와 같이, 본 발명의 부가적인 양상에 따라 본 발명의 실리콘 잉곳 제조장치는 수냉로드군(151, 152, 153)에 물 공급관(211, 212, 213)을 통해 냉각수를 공급하는 냉각수 공급부(411, 412, 413)와, 물 공급관(211, 212, 213)을 개폐시키는 밸브(171, 172, 173)와, 발열부(130)의 발열온도를 감지하는 제1 열감지부(181a, 181b)와, 도가니 탑재부(140)의 발열온도를 감지하는 제2 열감지부(182)와, 제1, 제2 열감지부(181a, 181b, 182)에서 감지된 발열온도에 따라 밸브(171, 172, 173)의 개폐동작을 제어하는 밸브 제어기(414)를 더 포함할 수 있다. 여기서, 도면부호 214는 챔버(110)의 내부공간에 냉각수 공급부(413)로부터의 냉각수를 제공하는 물 공급관이다. Hereinafter, it will be described with reference to FIG. 1 again. As shown in FIG. 1, according to an additional aspect of the present invention, the silicon ingot manufacturing apparatus of the present invention supplies cooling water to the water cooling rod groups 151, 152, and 153 through water supply pipes 211, 212, and 213. Valves 171, 172, and 173 for opening and closing the cooling water supply units 411, 412, and 413, the water supply pipes 211, 212, and 213, and a first heat sensing unit 181a for sensing the heating temperature of the heat generator 130. , 181b, the second heat sensing unit 182 for sensing the heating temperature of the crucible mounting unit 140, and the valves 171, according to the heating temperature detected by the first and second heat sensing units 181a, 181b, and 182. It may further include a valve controller 414 for controlling the opening and closing operations of the 172, 173. Here, reference numeral 214 denotes a water supply pipe that provides the cooling water from the cooling water supply unit 413 to the inner space of the chamber 110.

밸브(171, 172, 173)는 예컨대, 솔레노이드 밸브로 구현될 수 있다. 각 냉각수 공급부(411, 412, 413)는 냉각수 저장용량이 같을 수도 있고, 서로 다르게 구현될 수도 있다. 여기서, 냉각수 공급부(411, 412, 413)는 다수의 물 공급관(211, 212, 213) 각각에 연결되며, 냉각수 저장용량이 다른 다수의 냉각수 저장부와, 냉각수 저장부에 투입되는 물을 일례로, 냉매가스를 이용하여 냉각시키는 냉각장치를 포함한다. The valves 171, 172, 173 may be implemented with, for example, a solenoid valve. Each cooling water supply unit 411, 412, 413 may have the same cooling water storage capacity or may be implemented differently. Here, the coolant supply unit 411, 412, 413 is connected to each of the plurality of water supply pipes (211, 212, 213), a plurality of coolant storage unit having a different cooling water storage capacity, and water introduced into the cooling water storage unit as an example. It includes a cooling device for cooling by using a refrigerant gas.

이 같은 양상에 따라 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 밸브 제어기(414)에 의해 수냉로드군(151, 152, 153)으로 공급되는 냉각수의 온도와 냉각수량을 개별적으로 제어하여 용융된 실리콘을 응고시 냉각수 온도와 냉각수량 제어를 통해 배양성이 좋은 <100>방향의 응고 조직을 갖는 실리콘 잉곳을 제조할 수 있다. According to this aspect, the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention solidifies the molten silicon by individually controlling the temperature and the amount of cooling water supplied to the water cooling rod groups 151, 152 and 153 by the valve controller 414. By controlling the cooling water temperature and the cooling water amount, a silicon ingot having a solidification structure in the <100> direction having good cultureability can be manufactured.

본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 도가니 탑재부(140)를 상하로 이동시키는 도가니 탑재부 이동부(도시하지 않음.)와, 도가니 탑재부(140)를 챔버 바닥면(111)으로부터 소정 높이로 지지하며 도가니 탑재부 이동부의 동작에 따라 챔버 바닥면(111)을 개폐하는 도가니 탑재부 지지체(341)를 더 포함하여 구현될 수 있다. 여기서, 도가니 탑재부 이동부는 도가니 탑재부(140)를 상하로 이동시킬 수 있는 장치로서, 예컨대 모터와 모터의 동작을 제어하는 제어장치로 구현될 수 있다. The apparatus for manufacturing a silicon ingot according to the present invention supports a crucible mounting part moving part (not shown) for moving the crucible mounting part 140 up and down, and supports the crucible mounting part 140 to a predetermined height from the chamber bottom surface 111. The apparatus may further include a crucible mounting part supporter 341 which opens and closes the chamber bottom surface 111 according to an operation of the mounting part moving part. Here, the crucible mounting unit moving unit is a device that can move the crucible mounting unit 140 up and down, for example, may be implemented as a control device for controlling the operation of the motor and the motor.

본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 발열부(130)에서 발열되는 열을 단열시키는 상부 단열판(191)과, 도가니 탑재부(140)와 수냉로드군(151, 152, 153) 사이에 설치되는 하부 단열판(192)과, 하부 단열판(192)과 상부 단열판(191)과 사이에 형성되는 측면 단열재(193)와, 하부 단열판(192)과 함께 수냉로드군(151, 152, 153)을 밀폐 및 단열시키는 수냉로드 단열부(194)와, 하부 단열판(192)을 도가니 탑재부(140)와 나란한 방향으로 이동시키는 하부 단열판 이동부(192a)와, 수냉로드군(151, 152, 153)을 상하로 이동키시는 수냉로드 이동부(도시하지 않음.)를 더 포함하여 구현될 수 있다. 도 1에서 도면부호 331은 단열판 지지대로서, 하부 단열판(192) 및 측면 단열판(193)을 지지한다. 도면부호 351은 수냉로드 지지대로서, 수냉로드군(151, 152, 153)을 지지한다. The silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention includes an upper heat insulating plate 191 for insulating heat generated from the heat generating part 130, and a lower heat insulating plate installed between the crucible mounting part 140 and the water cooling rod group 151, 152, and 153. 192, the side insulation 193 formed between the lower insulation plate 192 and the upper insulation plate 191, and the water cooling rod group 151, 152, and 153 together with the lower insulation plate 192. When the water cooling rod heat insulating part 194, the lower heat insulating plate moving part 192a for moving the lower heat insulating plate 192 in parallel with the crucible mounting part 140, and the water cooling rod groups 151, 152, and 153 are moved up and down. It may be implemented further comprising a water-cooled rod moving part (not shown). In FIG. 1, reference numeral 331 denotes a heat insulation board support, which supports the lower insulation board 192 and the side insulation board 193. Reference numeral 351 denotes a water cooling rod support, which supports the water cooling rod groups 151, 152, and 153.

여기서, 하부 단열판 이동부(192a)는 도가니(120)를 외부로 배출하거나 수냉로드군(151, 152, 153)을 도가니 탑재부(140)로 이동시킬 때 하부 단열판(192)을 이동시키는 장치로서, 일례로 모터와 모터의 동작을 제어하는 제어장치로 구현될 수 있다. 수냉로드 이동부는 도가니(120)에 저장된 실리콘 용융물을 일방향 응고할 때, 수냉로드군(151, 152, 153)을 상하로 이동시킬 수 있는 장치로서, 예컨대 모터와 모터의 동작을 제어하는 제어장치로 구현될 수 있다. Here, the lower insulation plate moving part 192a is a device for moving the lower insulation plate 192 when discharging the crucible 120 to the outside or moving the water cooling rod group 151, 152, 153 to the crucible mounting part 140. For example, it may be implemented as a control device for controlling the operation of the motor and the motor. The water-cooled rod moving unit is a device capable of moving the water-cooled rod groups 151, 152, and 153 up and down when solidifying the silicon melt stored in the crucible 120 in one direction. Can be implemented.

본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 상부 단열판(191)을 도가니 탑재부(140)와 나란한 방향으로 이동시키는 상부 단열판 이동부(191a)와, 도가니(120) 내부에 있는 용융물의 용융상태를 외부에서 확인할 수 있도록 해주는 투시창(196)과, 투시창(196)을 통해 도가니(120) 내부에 있는 용융물의 표면 온도를 측정하는 온도측정장치(197)를 더 포함하여 구현될 수 있다. The silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention checks the melting state of the melt inside the upper heat insulating plate moving part 191a and the crucible 120 to move the upper heat insulating plate 191 in a direction parallel to the crucible mounting part 140. It may be implemented by further comprising a viewing window (196) for allowing a, and a temperature measuring device (197) for measuring the surface temperature of the melt inside the crucible (120) through the viewing window (196).

상부 단열판 이동부(191a)은 도가니(120) 내부의 실리콘 용융물의 온도를 확인할 때, 상부 단열판(191)을 이동시킬 수 있는 장치로서, 예컨대 모터와 모터의 동작을 제어하는 제어장치로 구현될 수 있다. 온도측정장치(197)는 일례로, 도가니(120) 내부에 있는 용융물의 표면 온도를 측정하는 파이로미터(pyrometer)로 구현될 수 있다. 파이로미터(pyrometer)는 조사된 레이저가 물체에 의해 반사되어 나오는 용융물의 표면 밝기를 기초로 물체 표면의 온도를 측정하는 장치이다.The upper insulation plate moving unit 191a is a device capable of moving the upper insulation plate 191 when checking the temperature of the silicon melt inside the crucible 120. For example, the upper insulation plate moving unit 191a may be implemented as a controller for controlling the operation of the motor and the motor. have. For example, the temperature measuring device 197 may be implemented as a pyrometer for measuring the surface temperature of the melt inside the crucible 120. A pyrometer is a device that measures the temperature of an object's surface based on the surface brightness of the melt from which the irradiated laser is reflected by the object.

본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 챔버(110) 내부를 진공상태로 유지시키는 진공펌프(198)를 더 포함하여 구현될 수 있다. 진공펌프(198)는 챔버(110) 내부의 진공도를 일정하게 유지하기 위한 장치로서, 일례로 로터리 펌프와 부스터 펌프로 구현될 수 있다. The silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention may further include a vacuum pump 198 for maintaining the inside of the chamber 110 in a vacuum state. The vacuum pump 198 is a device for maintaining a constant degree of vacuum in the chamber 110, and may be implemented as, for example, a rotary pump and a booster pump.

본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치는 실리콘 및 가스 투입부(199a)와, 가스 배출구(199b)를 더 포함하여 구현될 수 있다. 실리콘 및 가스 투입부(199a)는 도가니(120) 내부로 실리콘과 실리콘에 함유된 불순물을 제거하는 정제 가스를 투입하는데 사용된다. 정제 가스는 실리콘을 실리콘 및 가스 투입부(130)로 유입시키는 캐리어 역할을 수행한다. 가스 배출구(199b)는 도가니(120)에 투입된 정제 가스와 실리콘이 반응하여 발생하는 가스를 외부로 배출한다. The silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention may further include a silicon and gas inlet 199a and a gas outlet 199b. The silicon and gas inlet 199a is used to inject a purge gas to remove impurities contained in silicon and silicon into the crucible 120. The purification gas serves as a carrier for introducing silicon into the silicon and gas inlet 130. The gas outlet 199b discharges the gas generated by the reaction between the purified gas introduced into the crucible 120 and silicon to the outside.

도 4a, 4b 는 도 1에 따른 실리콘 잉곳 제조장치의 실리콘 잉곳을 성장시키는 과정을 설명하기 위한 실시예이다.4A and 4B illustrate an example for describing a process of growing a silicon ingot of the silicon ingot manufacturing apparatus of FIG. 1.

먼저, 도 4a를 참조하여 설명하기로 한다. 챔버(110) 내부에 도가니(120)가 준비되면, 실리콘 및 가스 투입부(199a)를 통해 도가니(120) 내부로 실리콘과 정제 가스가 투입된다.First, it will be described with reference to FIG. 4A. When the crucible 120 is prepared in the chamber 110, silicon and purified gas are introduced into the crucible 120 through the silicon and gas inlet 199a.

이후, 발열부(130)를 구동하여 발열온도가 실리콘 용융온도, 예컨대 1420℃ 이상이 되도록 한다. 소정 시간 동안 발열부(130)를 구동한 후, 도가니(120) 내의 실리콘 용융물을 응고시키기 위해, 하부 단열판 이동부(192a)를 구동하여, 하부 단열판(192)을 이동시킨다. 이후, 수냉로드군(151, 152, 153)을 도가니 탑재부(140)로 이동시킨다. 이때, 하부 단열판(192)을 개방하더라도 수냉로드 단열부(194)가 챔버(110) 내부의 열이 외부로 방출되는 것을 막아준다. Thereafter, the heat generating unit 130 is driven so that the heat generating temperature is a silicon melting temperature, for example, 1420 ° C. or more. After driving the heat generating unit 130 for a predetermined time, the lower insulating plate moving unit 192a is driven to solidify the silicon melt in the crucible 120 to move the lower insulating plate 192. Thereafter, the water cooling rod groups 151, 152, and 153 are moved to the crucible mounting unit 140. At this time, even if the lower heat insulating plate 192 is opened, the water-cooled rod heat insulating part 194 prevents the heat inside the chamber 110 from being released to the outside.

수냉로드군(151, 152, 153)이 도가니 탑재부(140)에 위치하게 되면, 밸브 제어기(414)는 수냉로드군(151, 152, 153)으로 물 공급관(211, 212, 213)을 통해 냉각수를 공급한다. 밸브 제어기(414)는 발열부(130)의 발열온도를 감지하는 제1 열감지부(181a, 181b)와, 도가니 탑재부(140)의 발열온도를 감지하는 제2 열감지 부(182)와, 제1, 제2 열감지부((181a, 181b, 182)에서 감지된 발열온도에 따라 밸브(171, 172, 173)의 개폐동작을 제어하여 냉각수량을 제어한다. When the water cooling rod groups 151, 152, and 153 are positioned in the crucible mounting unit 140, the valve controller 414 passes through the water supply pipes 211, 212, and 213 to the water cooling rod groups 151, 152, and 153. To supply. The valve controller 414 may include the first heat detection units 181a and 181b for detecting the heat generation temperature of the heat generating unit 130, the second heat detection unit 182 for detecting the heat generation temperature of the crucible mounting unit 140, and The first and second heat sensing units 181a, 181b, and 182 control the opening and closing operations of the valves 171, 172, and 173 according to the heating temperature sensed to control the amount of cooling water.

이하, 도 4b를 참조하여 설명하기로 한다. 도 4a에서 설명한 바와 같이, 도가니(120)의 실리콘 용융물을 응고하여 실리콘 잉곳이 형성되면, 도가니 탑재부 이동부를 구동하여 도가니 탑재부 지지체(341)를 하부로 이동시킨다. 도면에 도시하지 않았지만, 도가니 탑재부 이동부는 예컨대 모터와 모터의 동작을 제어하는 제어장치로 구현될 수 있다. Hereinafter, a description will be given with reference to FIG. 4B. As described in FIG. 4A, when the silicon melt of the crucible 120 is solidified to form a silicon ingot, the crucible mounting unit moving part is driven to move the crucible mounting support 341 downward. Although not shown in the drawing, the crucible mounting unit moving part may be implemented as, for example, a motor and a control device for controlling the operation of the motor.

도가니 탑재부 지지체(341)가 아래로 이동될 때, 도가니 탑재부(140)와 수냉로드군(151, 152, 153)와 수냉로드 단열부(194) 및 챔버의 바닥면(111)도 함께 아래로 이동된다. 실리콘 용융물이 완전히 응고된 도가니(120)는 다른 장소로 옮겨지고, 새로운 도가니(120)가 도가니 탑재부(140)에 올려진다. 이후 새로운 도가니(120)가 챔버(110) 내부로 이동되면, 도가니(120)에 실리콘 및 정제 가스를 다시 투입함으로써, 다시 실리콘 융용물을 생성하는 과정을 실행한다. When the crucible mounting support 341 is moved downward, the crucible mounting portion 140, the water cooling rod group 151, 152, and 153, the water cooling rod heat insulating portion 194, and the bottom surface 111 of the chamber are also moved downward. do. The crucible 120 in which the silicon melt is completely solidified is transferred to another place, and a new crucible 120 is placed on the crucible mounting portion 140. Thereafter, when the new crucible 120 is moved into the chamber 110, the silicon and purifying gas are re-injected into the crucible 120, thereby again generating a silicon melt.

지금까지, 본 명세서에는 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 지닌 자가 본 발명을 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 도면에 도시한 실시예들을 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에 통상의 지식을 지닌 자라면 본 발명의 실시예들로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 기술적 보호범위는 첨부된 특허청구범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Thus far, the present specification has been described with reference to the embodiments shown in the drawings so that those skilled in the art to which the present invention pertains can easily understand and reproduce the present invention. Those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from the embodiments of the present invention. Therefore, the true technical protection scope of the present invention should be defined only by the appended claims.

도 1 은 본 발명의 일실시예에 따른 실리콘 잉곳 제조장치를 설명하기 위한 개략적인 구성도,1 is a schematic configuration diagram for explaining a silicon ingot manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention,

도 2a, 2b 는 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치의 수냉로드 단면도를 도시한 실시예, Figure 2a, 2b is an embodiment showing a water-cooled rod cross-sectional view of the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention,

도 3 은 본 발명에 따른 실리콘 잉곳 제조장치에서 다수의 수냉로드를 연결하는 구조를 설명하기 위한 실시예, Figure 3 is an embodiment for explaining a structure for connecting a plurality of water-cooled rod in the silicon ingot manufacturing apparatus according to the present invention,

도 4a, 4b 는 도 1에 따른 실리콘 잉곳 제조장치의 실리콘 잉곳을 성장시키는 과정을 설명하기 위한 실시예이다.4A and 4B illustrate an example for describing a process of growing a silicon ingot of the silicon ingot manufacturing apparatus of FIG. 1.

<주요 도면 부호의 간단한 설명><Simple description of the main reference signs>

110: 챔버 111: 챔버 바닥면110: chamber 111: chamber bottom

120: 도가니 120: crucible

130: 발열부130: heating unit

131: 상부 발열부 132: 제1 측면 발열부131: upper heating portion 132: first side heating portion

133: 제2 측면 발열부 134: 제3 측면 발열부133: second side heating portion 134: third side heating portion

140: 도가니 탑재부140: crucible mounting portion

141: 제1 도가니 탑재부 142: 제2 도가니 탑재부141: first crucible mounting portion 142: second crucible mounting portion

143: 냉각판143: cold plate

151, 152, 153: 수냉로드군151, 152, 153: water-cooled rod group

171, 172, 173: 밸브171, 172, 173: valve

181a, 181b: 제1 열감지부 182: 제2 열감지부181a and 181b: first heat detection part 182: second heat detection part

191: 상부 단열판 192: 하부 단열판191: upper insulation board 192: lower insulation board

191a: 상부 단열판 이동부 192a: 하부 단열판 이동부191a: upper insulation plate moving part 192a: lower insulation plate moving part

193: 측면 단열재 194: 수냉로드 단열부193: side insulation 194: water-cooled rod insulation

196: 투시창 197: 온도측정장치196: sight glass 197: temperature measuring device

198: 진공펌프198: vacuum pump

199a: 실리콘 및 가스 투입구 199b: 가스 배출구199a: silicon and gas inlet 199b: gas outlet

211, 212, 213, 214: 물 공급관211, 212, 213, 214: water supply pipe

251a, 261a: 제1 냉각수 유입구 251b, 261b: 제2 냉각수 유입구251a, 261a: first coolant inlet 251b, 261b: second coolant inlet

252a, 262a: 제1 냉각수 경로부 252b, 262b: 제2 냉각수 경로부252a and 262a: first coolant path part 252b and 262b: second coolant path part

253, 263: 냉각수 배출구253, 263: cooling water outlet

331: 단열판 지지대331: insulation plate support

341: 도가니 탑재부 지지대341: crucible mounting support

351: 수냉로드 지지대351: water cooling rod support

411, 412, 413: 냉각수 공급부411, 412, 413: cooling water supply

Claims (11)

실리콘 잉곳 제조장치에 있어서, In the silicon ingot manufacturing apparatus, 챔버;chamber; 상기 챔버 내에 설치되는 도가니;A crucible installed in the chamber; 상기 도가니를 발열시키는 발열부;A heating unit for generating the crucible; 상기 도가니가 올려지는 도가니 탑재부; A crucible mounting portion on which the crucible is mounted; 상기 도가니 탑재부 아래에 형성되는 적어도 2개 이상의 수냉로드군;을 포함하되, 상기 적어도 2개 이상의 수냉로드군은,At least two or more water-cooled rod group formed below the crucible mounting portion, wherein the at least two or more water-cooled rod group, 상기 도가니 탑재부 중심으로부터 외측으로 서로 이격되게 설치되며, 서로 다른 물 공급관이 연결되는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus, characterized in that spaced apart from each other from the center of the crucible mounting portion, different water supply pipes are connected. 제 1 항에 있어서, 상기 발열부가:The method of claim 1, wherein the heating portion: 상기 도가니 상부에 설치되는 상부 발열부; 및An upper heating part installed above the crucible; And 상기 도가니 측면의 상부에 설치되는 제1 측면 발열부와, 상기 도가니 측면의 중간부에 설치되는 제2 측면 발열부와, 상기 도가니 측면의 하부에 설치되는 제3 측면 발열부를 포함하는 측면 발열부; A side heating part including a first side heating part installed on an upper side of the crucible side, a second side heating part installed on an intermediate part of the crucible side, and a third side heating part installed on a lower side of the crucible side; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 도가니 탑재부가:The method of claim 1, wherein the crucible mounting portion: 상기 도가니를 지지하는 제1 도가니 탑재부;A first crucible mounting portion for supporting the crucible; 상기 수냉로드군에 포함되는 수냉로드가 삽입되는 삽입홈이 형성되는 제2 도가니 탑재부; 및A second crucible mounting portion in which an insertion groove into which the water cooling rod included in the water cooling rod group is inserted is formed; And 상기 제2 도가니 탑재부와 제1 도가니 탑재부 사이에 설치되는 냉각판;A cooling plate installed between the second crucible mounting portion and the first crucible mounting portion; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 수냉로드군에 포함되는 수냉로드가: The water cooling rod of claim 1, wherein the water cooling rod is included in: 상기 물 공급관으로부터 냉각수가 유입되는 제1, 제2 냉각수 유입구;First and second cooling water inlets through which the coolant flows from the water supply pipe; 상기 제1, 제2 냉각수 유입구로부터 유입되는 냉각수가 흐르는 제1, 제2 냉각수 경로부; 및First and second coolant path portions through which coolant flows from the first and second coolant inlets; And 상기 제1, 제2 냉각수 경로부를 통과한 냉각수를 외부로 배출하는 냉각수 배출구;A cooling water discharge port configured to discharge the cooling water passing through the first and second cooling water path parts to the outside; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치. Silicon ingot manufacturing apparatus comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가 :According to claim 1, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus is: 상기 발열부에서 발열되는 열을 단열시키는 상부 단열판; An upper heat insulating plate for insulating heat generated from the heat generating part; 상기 도가니 탑재부와 수냉로드군 사이에 설치되는 하부 단열판;A lower heat insulating plate installed between the crucible mounting portion and the water cooling rod group; 상기 하부 단열판과 상부 단열판 사이에 형성되는 측면 단열재; 및Side insulation formed between the lower insulation plate and the upper insulation plate; And 상기 하부 단열판과 함께 상기 수냉로드군을 밀폐 및 단열시키는 수냉로드 단열부; A water-cooled rod heat insulating part for sealing and insulating the water-cooled rod group together with the lower heat insulating plate; 을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a. 제 5 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가 :The method of claim 5, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus: 상기 하부 단열판을 상기 도가니 탑재부와 나란한 방향으로 이동시키는 하부 단열판 이동부; 및A lower insulating plate moving part for moving the lower insulating plate in a direction parallel to the crucible mounting part; And 상기 수냉로드군을 상하로 이동키시는 수냉로드 이동부;A water cooling rod moving unit for moving the water cooling rod group up and down; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a. 제 5 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가 :The method of claim 5, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus: 상기 상부 단열판을 상기 도가니 탑재부와 나란한 방향으로 이동시키는 상부 단열판 이동부; An upper insulating plate moving part for moving the upper insulating plate in a direction parallel to the crucible mounting part; 상기 도가니 내부에 있는 용융물의 용융상태를 외부에서 확인할 수 있도록 해주는 투시창; 및A see-through window for allowing a molten state of the melt inside the crucible to be checked from the outside; And 상기 투시창을 통해 상기 도가니 내부에 있는 용융물의 표면 온도를 측정하는 온도측정장치;A temperature measuring device for measuring the surface temperature of the melt inside the crucible through the see-through window; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가:The apparatus of claim 1, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus is: 상기 도가니 탑재부를 상하로 이동시키는 도가니 탑재부 이동부; 및A crucible mounting part moving part for moving the crucible mounting part up and down; And 상기 도가니 탑재부를 상기 챔버의 바닥면으로부터 소정 높이로 지지하며 상 기 도가니 탑재부 이동부의 동작에 따라 상기 챔버의 바닥면을 개폐하는 도가니 탑재부 지지체;A crucible mounting support for supporting the crucible mounting part at a predetermined height from the bottom surface of the chamber and opening and closing the bottom surface of the chamber according to the operation of the crucible mounting part moving part; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가 :According to claim 1, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus is: 상기 수냉로드군에 물 공급관을 통해 냉각수를 공급하는 냉각수 공급부;A cooling water supply unit supplying cooling water to the water cooling rod group through a water supply pipe; 상기 냉각수 공급부와 상기 수냉로드군 사이에 연결된 물 공급관을 개폐시키는 밸브;A valve for opening and closing a water supply pipe connected between the cooling water supply unit and the water cooling rod group; 상기 발열부의 발열온도를 감지하는 제1 열감지부; A first heat sensing unit sensing a heating temperature of the heat generating unit; 상기 도가니 탑재부의 발열온도를 감지하는 제2 열감지부; 및A second heat sensing unit sensing a heating temperature of the crucible mounting unit; And 상기 제1, 제2 열감지부에서 감지된 발열온도에 따라 상기 밸브의 개폐동작을 제어하는 밸브 제어기; A valve controller controlling the opening / closing operation of the valve according to the heating temperature sensed by the first and second heat sensing units; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가 :According to claim 1, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus is: 상기 챔버 내부를 진공상태로 유지시키는 진공펌프;A vacuum pump for maintaining the inside of the chamber in a vacuum state; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치.Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a. 제 1 항에 있어서, 상기 실리콘 잉곳 제조장치가 :According to claim 1, wherein the silicon ingot manufacturing apparatus is: 상기 도가니 내부로 실리콘과 상기 실리콘에 함유된 불순물을 제거하는 정제 가스가 투입되는 실리콘 및 가스 투입부; 및A silicon and gas input unit into which a purge gas for removing silicon and impurities contained in the silicon is introduced into the crucible; And 상기 도가니에 투입된 정제 가스와 실리콘이 반응하여 발생하는 가스를 외부로 배출하는 가스 배출구; A gas outlet for discharging the gas generated by reacting the purified gas introduced into the crucible with silicon to the outside; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 실리콘 잉곳 제조장치. Silicon ingot manufacturing apparatus further comprising a.
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