KR100911911B1 - Chamber unit and apparatus for proceeding a substrate - Google Patents

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Abstract

챔버 유닛은 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하고 일측에 개구가 형성된 챔버, 개구를 커버하며, 챔버 내부의 기판 처리 공정의 진행 상황을 확인하기 위하여 투명 재질을 갖는 윈도우 및 윈도우의 내측에 배치되며, 윈도우에 잔류하는 이물질을 제거하는 와이퍼를 포함한다. 따라서, 작업자는 챔버 내부의 기판 처리 현황을 육안으로 용이하게 확인할 수 있다.The chamber unit is disposed inside a window and window having a transparent material to provide a processing space for processing the substrate, an opening formed at one side thereof, an opening, and a progress of the substrate processing process inside the chamber, And a wiper for removing foreign matters remaining in the window. Therefore, the operator can easily confirm the substrate processing status inside the chamber with the naked eye.

Description

챔버 유닛 및 이를 포함하는 기판 처리 장치{CHAMBER UNIT AND APPARATUS FOR PROCEEDING A SUBSTRATE}≪ Desc / Clms Page number 1 > CHAMBER UNIT AND APPARATUS FOR PROCESSING A SUBSTRATE

본 발명은 챔버 유닛 및 챔버 유닛을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다. 더욱 상세하게는 본 발명은 기판에 대하여 일련의 처리 공정을 수행하기 위하여 기판 처리 공간을 제공하는 챔버 유닛과 챔버 유닛을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus including a chamber unit and a chamber unit. More particularly, the present invention relates to a substrate processing apparatus including a chamber unit and a chamber unit for providing a substrate processing space for performing a series of processing processes on the substrate.

일반적으로 평판 표시 장치는, 현재 널리 사용되는 표시 장치의 하나로서, 액정 표시 장치(liquid crystal display; LCD)와 유기 발광 다이오드(organic light emitting diode; OLED) 등의 여러 종류가 있다.2. Description of the Related Art In general, a flat panel display device is one of widely used display devices, and there are various types such as a liquid crystal display (LCD) and an organic light emitting diode (OLED).

이중 액정 표시 장치는 화소 전극과 박막 트랜지스터가 형성된 하부 표시 패널, 상기 하부 표시 패널에 대향하고 상기 화소 전극에 대응되는 공통전극과 특정된 색을 표시하는 컬러 필터층이 형성된 상부 표시 패널 및 상기 하부 표시 패널 및 상기 표시 패널 사이에 개재된 액정을 포함한다. 액정 표시 장치는 상기 화소 전극과 상기 공통 전극 사이에 형성된 전기장에 의하여 액정 분자의 배열을 변경시켜 이에 의하여 투과되는 빛의 투과율을 조절하여 화상을 표시한다. The dual display device includes a lower display panel having a pixel electrode and a thin film transistor formed thereon, an upper display panel facing the lower display panel and having a common electrode corresponding to the pixel electrode and a color filter layer displaying a specified color, And a liquid crystal interposed between the display panels. The liquid crystal display changes the arrangement of the liquid crystal molecules by the electric field formed between the pixel electrode and the common electrode, thereby adjusting the transmittance of the transmitted light to display an image.

상기 액정 표시 장치를 제조하기 위하여, 기판 상에 세척, 증착, 포토리소그래피, 에칭 등과 같은 일련의 처리 공정이 수행된다. 특히 기판 상에 형성된 포토레지스트층은 에칭 마스크로 이용된 후 기판으로부터 제거된다. 예를 들면, 포토레지스트층을 기판으로부터 제거하기 위하여 스트립 공정이 수행될 수 있다.In order to manufacture the liquid crystal display device, a series of processing steps such as cleaning, deposition, photolithography, etching, and the like are performed on the substrate. In particular, the photoresist layer formed on the substrate is removed from the substrate after being used as an etching mask. For example, a strip process may be performed to remove the photoresist layer from the substrate.

상기 스트립 공정은 기판 상에 소정의 처리액을 노즐을 통하여 공급하여 기판으로부터 이물질을 제거한다. 이때 노즐을 통하여 공급된 처리액이 기판으로부터 분산되어 미스트가 발생하고 상기 미스트는 공정 챔버를 이루는 윈도우에 맺히게 된다. 따라서 미스트가 윈도우에 맺힘에 따라 작업자는 윈도우를 통하여 챔버 내부에서 진행중인 기판 처리 상황을 육안으로 확인할 수 없다. In the stripping process, a predetermined process liquid is supplied onto the substrate through a nozzle to remove foreign matter from the substrate. At this time, the process liquid supplied through the nozzles is dispersed from the substrate to generate mist, and the mist is formed in the window forming the process chamber. Therefore, as the mist is formed on the window, the operator can not visually confirm the on-going substrate processing state in the chamber through the window.

따라서, 본 발명은 이와 같은 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 목적은 윈도우에 맺힌 이물질을 제거할 수 있는 챔버 유닛을 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present invention has been made keeping in mind the above problems occurring in the prior art, and it is an object of the present invention to provide a chamber unit capable of removing foreign matters formed in a window.

또한, 본 발명의 다른 목적은 윈도우에 맺힌 이물질을 제거할 수 있는 챔버 유닛을 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 것이다.It is another object of the present invention to provide a substrate processing apparatus including a chamber unit capable of removing foreign substances formed in a window.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 챔버 유닛은 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하고 일측에 개구가 형성된 챔버, 상기 개구를 커버하며, 상기 챔버 내부의 기판 처리 공정의 진행 상황을 확인하기 위하여 투명 재질을 갖는 윈도우 및 상기 윈도우의 내측에 배치되며, 상기 윈도우에 잔류하는 이물질을 제거하는 와이퍼를 포함한다. 여기서, 상기 윈도우는 상기 챔버의 내부에 접하는 내측 창 및 상기 챔버의 외부에 접하는 외측 창으로 구성된 이중창 구조를 갖는다. 또한, 상기 와이퍼는 상기 외측창 상에 배치된 제1 자성 부재, 상기 내측창 중 상기 챔버의 내부와 접하는 면상에 배치된 제2 자성 부재 및 상기 외측창 및 상기 내측창 사이에 개재되며, 상기 제1 자성 부재 및 제2 자성 부재와 자기적으로 연결되어 상기 제1 자성 부재의 이동에 따라 상기 제2 자성 부재에 구동력을 전달하는 제3 자성 부재를 포함한다. 여기서, 상기 제2 자성 부재는, 상기 제3 자성 부재와 자기적으로 연결된 자성체 및 상기 자성체를 감싸 상기 자성체가 상기 챔버 내부에 노출되는 것을 억제하기 위한 봉지부를 포함한다. According to an aspect of the present invention, there is provided a chamber unit comprising: a chamber provided with a processing space for processing a substrate and having an opening formed at one side thereof; a cover covering the opening; A window having a transparent material for confirmation, and a wiper disposed inside the window to remove foreign matter remaining in the window. Here, the window has a double window structure composed of an inner window in contact with the inside of the chamber and an outer window in contact with the outside of the chamber. The wiper is disposed between the inner window and the outer window. The wiper includes a first magnetic member disposed on the outer window, a second magnetic member disposed on a surface of the inner window in contact with the inside of the chamber, And a third magnetic member magnetically connected to the first magnetic member and the second magnetic member and transmitting a driving force to the second magnetic member in accordance with the movement of the first magnetic member. Here, the second magnetic member may include a magnetic body magnetically coupled to the third magnetic member, and an encapsulant for enclosing the magnetic body to prevent the magnetic body from being exposed to the inside of the chamber.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 챔버 유닛은 상기 와이퍼가 이동할 수 있도록 상기 와이퍼에 구동력을 제공하는 구동부를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the chamber unit may further include a driving unit for providing a driving force to the wiper so that the wiper can move.

상술한 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하는 챔버, 상기 챔버의 경계에 배치되며, 상기 챔버 내부의 기판 처리 진행 상황을 확인하기 위한 투명 재질을 갖는 윈도우, 상기 윈도우의 내측에 배치되며, 상기 윈도우의 내측에 잔류하는 이물질을 제거하는 와이퍼를 포함하는 챔버 유닛, 상기 챔버 내부 중 하부에 배치되고, 상기 기판을 일방향으로 이동시키는 이동 유닛 및 상기 챔버 내부중 상부에 배치되고, 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함한다. 여기서, 상기 윈도우는 상기 챔버의 내부에 접하는 내측창 및 상기 챔버의 외부에 접하는 외측창으로 구성된 이중창 구조를 갖고, 상기 와이퍼는, 상기 외측창 상에 배치된 제1 자성 부재, 상기 내측창 중 상기 챔버의 내부와 접하는 면상에 배치된 제2 자성 부재 및 상기 외측창 및 상기 내측창 사이에 개재되며, 상기 제1 자성 부재의 이동에 따라 상기 제2 자성 부재에 구동력을 전달하는 제3 자성 부재를 포함한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a substrate processing apparatus including a chamber for providing a processing space for processing a substrate, a transparent substrate disposed at a boundary of the chamber, A chamber unit including a window having a material, a wiper disposed inside the window and removing foreign matter remaining inside the window, a moving unit disposed below the inside of the chamber and moving the substrate in one direction, And a processing liquid supply unit disposed above the inside of the chamber and supplying the processing liquid to the substrate. Here, the window has a double window structure composed of an inner window in contact with the inside of the chamber and an outer window in contact with the outside of the chamber, and the wiper includes a first magnetic member disposed on the outer window, A second magnetic member disposed on a surface in contact with the inside of the chamber and a third magnetic member interposed between the outer window and the inner window for transmitting a driving force to the second magnetic member in accordance with the movement of the first magnetic member, .

본 발명의 일 실시예에 있어서, 기판 처리 장치는 상기 와이퍼가 이동할 수 있도록 상기 와이퍼에 구동력을 제공하는 구동력 제공 부재를 더 포함할 수 있다.In one embodiment of the present invention, the substrate processing apparatus may further include a driving force providing member for providing a driving force to the wiper so that the wiper moves.

윈도우의 내면에 접하도록 와이퍼가 배치되어, 상기 와이퍼가 공정 중에 발생하여 윈도우에 잔류하는 이물질을 효과적으로 제거한다. 따라서 작업자는 윈도우를 통하여 챔버 유닛의 내부에 진행되는 기판 처리 현황을 육안으로 확인할 수 있 다.A wiper is disposed so as to contact the inner surface of the window, and the wiper is generated during the process to effectively remove foreign matter remaining in the window. Therefore, the operator can visually check the state of the substrate processing inside the chamber unit through the window.

첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 챔버 유닛과 이를 갖는 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하거나, 개략적인 구성을 이해하기 위하여 실제보다 축소하여 도시한 것이다. A chamber unit and a substrate processing apparatus having the chamber unit according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The present invention is capable of various modifications and various forms, and specific embodiments are illustrated in the drawings and described in detail in the text. It should be understood, however, that the invention is not intended to be limited to the particular forms disclosed, but includes all modifications, equivalents, and alternatives falling within the spirit and scope of the invention. Like reference numerals are used for like elements in describing each drawing. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are enlarged to illustrate the present invention, and are actually shown in a smaller scale than the actual dimensions in order to understand the schematic structure.

또한, 제1 및 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Also, the terms first and second, etc. may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as a second component, and similarly, the second component may also be referred to as a first component.

한편, 다르게 정의되지 않는 한, 기술적이거나 과학적인 용어를 포함해서 여기서 사용되는 모든 용어들은 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 일반적으로 이해되는 것과 동일한 의미를 가지고 있다. 일반적으로 사용되는 사전에 정의되어 있는 것과 같은 용어들은 관련 기술의 문맥 상 가지는 의미 와 일치하는 의미를 가지는 것으로 해석되어야 하며, 본 출원에서 명백하게 정의하지 않는 한, 이상적이거나 과도하게 형식적인 의미로 해석되지 않는다. On the other hand, unless otherwise defined, all terms used herein, including technical or scientific terms, have the same meaning as commonly understood by one of ordinary skill in the art to which this invention belongs. Terms such as those defined in commonly used dictionaries are to be interpreted as having a meaning consistent with the contextual meaning of the related art and are to be interpreted as either ideal or overly formal in the sense of the present application Do not.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a chamber unit according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버 유닛(100)은 챔버(101), 윈도우(110) 및 와이퍼(120)를 포함한다.Referring to FIG. 1, a chamber unit 100 according to an embodiment of the present invention includes a chamber 101, a window 110, and a wiper 120.

챔버(101)는 기판을 처리하는 기판 처리 공간을 제공한다. 챔버(101)의 일측에는 작업자가 챔버(101) 내부를 확인할 수 있도록 하는 윈도우(110) 설치를 위한 개구(105)가 형성된다. 예를 들면, 챔버(101)의 내부에는 기판에 형성된 박막을 식각하여 박막 패턴을 형성하는 식각 공정 또는 기판 상에 잔류하는 이물질을 제거하기 위하여 세정액을 이용하여 기판을 세정하는 세정 공정 등이 수행될 수 있다.The chamber 101 provides a substrate processing space for processing the substrate. At one side of the chamber 101, an opening 105 for installing a window 110 is formed so that an operator can confirm the inside of the chamber 101. For example, in the chamber 101, a thin film formed on the substrate is etched to form a thin film pattern, or a cleaning process for cleaning the substrate using a cleaning liquid to remove foreign substances remaining on the substrate is performed .

윈도우(110)는 챔버(101)의 일측에 형성된 개구(105)에 커버하도록 배치된다. 윈도우(110)를 통하여 작업자는 챔버(101) 내부에서 진행되는 기판 처리 공정의 진행 상태를 파악할 수 있다. 윈도우(110)는, 예를 들면, 유리와 같은 투명 재질 또는 반투명 재질로 이루어 질 수 있다. 또한, 윈도우(110)는 볼록 렌즈로 이루어 질 수 있다. 이 경우, 작업자는 윈도우(110)를 통하여 기판의 처리 상태를 보다 용이하게 육안을 확인할 수 있다.The window 110 is arranged to cover the opening 105 formed on one side of the chamber 101. The operator can grasp the progress of the substrate processing process in the chamber 101 through the window 110. The window 110 may be made of, for example, a transparent material such as glass or a semi-transparent material. Further, the window 110 may be formed of a convex lens. In this case, the operator can visually confirm the processing state of the substrate through the window 110 more easily.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 윈도우(110)는 챔버(101)의 내측면과 접하는 내측 창(116)과 챔버(101)의 외부와 접하는 외측 창(111)으로 이루어진 이중창 구조를 가질 수 있다. 처리액을 이용하는 기판 처리 공정중 처리액과 기판 사이에 발생하는 화학 반응이 이루어지고, 상기 화학 반응중 흄이 발생할 수 있다. 따라서 이중창 구조를 갖는 윈도우(111)는 흄이 챔버 외부로 유출되는 것을 억제한다.The window 110 may have a dual window structure consisting of an inner window 116 in contact with the inner side of the chamber 101 and an outer window 111 in contact with the outside of the chamber 101 . A chemical reaction occurs between the treatment liquid and the substrate during the substrate treatment process using the treatment liquid, and a fume may be generated during the chemical reaction. Therefore, the window 111 having a double-pane structure inhibits the fume from flowing out of the chamber.

와이퍼(120)는 상기 윈도우(110)의 내측에 배치된다. 와이퍼(120)는 윈도우(110)의 내면에 잔류하는 이물질을 제거한다. 이물질의 예로는, 처리액이 노즐을 통하여 기판으로 공급될 때 발생하는 미스트를 들 수 있다.The wiper 120 is disposed inside the window 110. The wiper 120 removes foreign matter remaining on the inner surface of the window 110. An example of the foreign substance is a mist generated when the treatment liquid is supplied to the substrate through the nozzle.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 윈도우(110)가 내측 창(116)과 외측 창(111)으로 구비된 이중창 구조를 가질 경우, 와이퍼(120)는 제1 자성 부재(121), 제2 자성 부재(122) 및 제3 자성 부재(123)를 포함한다. 상기 제1 내지 제3 자성 부재들(121, 122, 123)은 상호 자기적으로 결합되어 있다. 제1 내지 제3 자성 부재들(121, 122, 123) 중 어느 하나가 이동할 경우, 나머지 자성 부재들 또한, 함께 이동하게 된다.In an embodiment of the present invention, when the window 110 has a dual window structure including an inner window 116 and an outer window 111, the wiper 120 may include a first magnetic member 121, A member 122 and a third magnetic member 123. [ The first to third magnetic members 121, 122, and 123 are magnetically coupled to each other. When any one of the first to third magnetic members 121, 122 and 123 moves, the remaining magnetic members also move together.

제1 자성 부재(121)는 외측창(111) 중 챔버(101)의 외부와 접하는 면상에 배치된다. 제1 자성 부재(121)는 제1 극성을 가진다. The first magnetic member 121 is disposed on a surface of the outer window 111 which is in contact with the outside of the chamber 101. The first magnetic member 121 has a first polarity.

제2 자성 부재(122)는 내측창(116) 중 챔버(101)의 내부와 접하는 면상에 배치된다. 제2 자성 부재(122)는 제1 자성 부재(121)가 갖는 제1 극성과 대립되는 제2 극성을 가진다. 예를 들면, 제1 자성 부재(121)가 N극을 가질 경우, 제2 자성 부재(122)는 S극을 가진다. 이와 다르게, 제1 자성 부재(121)가 S극을 가질 경우, 제2 자성 부재(122)는 N극을 가진다.The second magnetic member 122 is disposed on a surface of the inner window 116 that is in contact with the inside of the chamber 101. The second magnetic member 122 has a second polarity opposite to the first polarity of the first magnetic member 121. For example, when the first magnetic member 121 has the N pole, the second magnetic member 122 has the S pole. Alternatively, when the first magnetic member 121 has the S pole, the second magnetic member 122 has the N pole.

본 발명의 일 실시예에 있어서, 제2 자성 부재(122)는 상기 제1 극성을 갖는 제1 자성체(126) 및 상기 제1 자성체(126)를 감싸 상기 제1 자성체(126)가 챔버(101)에 노출되는 것을 억제하는 봉지부(127)를 포함할 수 있다. 따라서 제1 자 성체(126)가 처리 공정 중에 발생하는 화학물질에 노출되는 것이 억제되어 제1 자성체(126)의 자기적 성질이 악화되는 것이 방지될 수 있다.In one embodiment of the present invention, the second magnetic member 122 surrounds the first magnetic body 126 having the first polarity and the first magnetic body 126 so that the first magnetic body 126 covers the chamber 101 (Not shown). Therefore, exposure of the first magnetic body 126 to chemicals generated during the treatment process is suppressed, and the magnetic properties of the first magnetic body 126 can be prevented from deteriorating.

제3 자성 부재(123)는 내측 창(116)과 외측 창(111) 사이에 개재된다. 제3 자성 부재(126)는 대립되는 극성을 갖는 막대 자석과 같은 구조를 가질 수 있다. 즉, 제3 자성 부재(126)는 상호 대립되는 극성을 갖는 제2 자성체 및 제3 자성체를 갖는다. 예를 들면, 제1 자성 부재(121)가 제1 극성과 제2 자성 부재(122)가 제1 극성과 대립되는 제2 극성을 가질 경우, 제3 자성 부재(123)는 제2 극성을 갖는 제2 자성체와 제1 극성을 갖는 제3 자성체를 포함한다. 따라서, 제1 자성 부재(121)가 이동할 경우, 제3 자성 부재(123)는 제1 자성 부재(121)가 이동함에 따라 동일 방향으로 이동한다. 따라서 제3 자성 부재(123)가 이동하게 되고 이에 따라 제3 자성 부재(123)는 상호 자기적으로 연결된 제2 자성 부재(122)에 구동력을 제공하여 제2 자성 부재(122)가 이동하게 된다. 결과적으로 제2 자성 부재(122)가 이동함에 따라 내측창(116) 중 챔버(101) 내부와 접하는 면에 잔류하는 이물질이 제거될 수 있다.The third magnetic member 123 is interposed between the inner window 116 and the outer window 111. The third magnetic member 126 may have the same structure as the bar magnet having opposite polarity. That is, the third magnetic member 126 has the second magnetic body and the third magnetic body having mutually opposing polarities. For example, when the first magnetic member 121 has the first polarity and the second magnetic member 122 has the second polarity opposite to the first polarity, the third magnetic member 123 has the second polarity And includes a second magnetic body and a third magnetic body having a first polarity. Accordingly, when the first magnetic member 121 moves, the third magnetic member 123 moves in the same direction as the first magnetic member 121 moves. Accordingly, the third magnetic member 123 is moved so that the third magnetic member 123 provides a driving force to the second magnetic member 122 magnetically coupled to move the second magnetic member 122 . As a result, as the second magnetic member 122 moves, foreign matter remaining on the surface of the inner window 116 that contacts the inside of the chamber 101 can be removed.

한편, 와이퍼(120)는 작업자의 수작업으로 이동할 수 있다. 이와 다르게, 챔버 유닛(100)은 와이퍼(120)를 구동할 수 있는 구동부(150)를 더 포함할 수 있다. 예를 들면, 구동부(150)는 와이퍼(120) 중 제1 자성 부재(121)와 연결되어 제1 자성 부재(121)에 구동력을 제공하여 제1 자성 부재(121)를 포함하는 와이퍼(120)를 이용하여 윈도우(110)의 내측 창(116)에 잔류하는 이물질을 게거할 수 있다.On the other hand, the wiper 120 can be manually moved by the operator. Alternatively, the chamber unit 100 may further include a driving unit 150 capable of driving the wiper 120. For example, the driving unit 150 may be connected to the first magnetic member 121 of the wiper 120 to provide a driving force to the first magnetic member 121 so as to move the wiper 120 including the first magnetic member 121, The foreign matter remaining in the inner window 116 of the window 110 can be removed.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 사시도 이다.2 is a perspective view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 1 및 도 2를 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치(200)는 챔버 유닛(100), 이동 유닛(240) 및 처리액 공급 유닛(250)을 포함한다.Referring to FIGS. 1 and 2, a substrate processing apparatus 200 according to an embodiment of the present invention includes a chamber unit 100, a moving unit 240, and a process liquid supply unit 250.

챔버 유닛(100)은 기판(10)을 처리하는 처리 공간을 제공하는 챔버(101), 챔버(101)의 개구(105)에 배치되어 챔버(101) 내의 기판 처리 현황을 확인하기 위한 윈도우(110) 및 윈도우(110)의 내면에 배치되고 윈도우(110)의 내면에 잔류하는 이물질을 제거하는 와이퍼(120)를 포함한다. 챔버 유닛에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.The chamber unit 100 includes a chamber 101 for providing a processing space for processing the substrate 10, a window 110 for confirming the substrate processing status in the chamber 101 disposed in the opening 105 of the chamber 101, And a wiper 120 disposed on the inner surface of the window 110 and removing foreign matter remaining on the inner surface of the window 110. A detailed description of the chamber unit will be omitted.

이동 유닛(240)은 챔버(101) 내부중 하부에 배치되고, 상기 기판(10)을 일방향으로 이동시킨다. 예를 들면 이동 유닛(240)은 일련이 롤러들이 배열된 롤러들 및 롤러들을 구동하는 모터부를 포함한다. The mobile unit 240 is disposed below the inside of the chamber 101, and moves the substrate 10 in one direction. For example, the mobile unit 240 includes rollers in which a series of rollers are arranged and a motor portion for driving the rollers.

처리액 공급 유닛(250)은 챔버(101) 내부중 상부에 배치된다. 처리액 공급 유닛(250)은 이송중인 기판(10)으로 처리액을 공급한다. 처리액의 예로는, 세정액, 식각액, 감광물 등을 들 수 있다. 처리액 공급 유닛(250)은 처리액을 수용하는 수용공간이 형성된 처리액 저장부(미도시), 상기 처리액 저장부로부터 처리액을 챔버(101) 내부로 이동시키는 유로가 형성된 처리액 공급 라인(미도시) 및 상기 처리액 공급 라인의 단부와 연결되어 처리액을 분사하는 분사부(미도시)를 포함할 수 있다. 또한, 처리액 공급 유닛(250)은 챔버 내부의 하부에 배치될 수도 있다.The processing liquid supply unit 250 is disposed in the upper part of the inside of the chamber 101. The treatment liquid supply unit 250 supplies the treatment liquid to the substrate 10 during transportation. Examples of the treatment liquid include a cleaning liquid, an etching liquid, and a sensitized material. The process liquid supply unit 250 includes a process liquid storage unit (not shown) in which a storage space for storing process liquid is formed, a process liquid supply line (not shown) in which a process liquid is transferred from the process liquid storage unit to the inside of the chamber 101, (Not shown) connected to an end of the processing liquid supply line and a jetting unit (not shown) jetting the processing liquid. Further, the processing liquid supply unit 250 may be disposed at a lower portion inside the chamber.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 설명하기 위한 단면도이다. 도 3에 도시된 기판 처리 시스템은 습식 시각 공정을 수행하기 위한 시스 템의 일 예이다.3 is a cross-sectional view illustrating a substrate processing system according to an embodiment of the present invention. The substrate processing system shown in Fig. 3 is an example of a system for performing a wet visual processing.

도 1 내지 도 3을 참조하면, 기판 처리 시스템은 로딩 장치(610), 에칭 장치(620), 스트립 장치(630), 린스 장치(640)와 언로딩 장치(650)를 포함한다.1 to 3, the substrate processing system includes a loading device 610, an etching device 620, a strip device 630, a rinsing device 640, and an unloading device 650.

상기 스트립 장치(630)에 포함된 챔버에 기판 진행 상황을 확인할 수 있는 챔버 유닛(100)이 설치될 수 있다. 또한, 에칭 장치 및 린스 장치에도 챔버 내에 기판 진행 상황을 확인할 수 있는 챔버 유닛(100)이 배치될 수 있다.A chamber unit 100 for confirming the progress of the substrate may be installed in the chamber included in the strip device 630. In addition, the chamber unit 100 for confirming the progress of the substrate in the chamber may be disposed in the etching apparatus and the rinsing apparatus.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다. While the present invention has been described in connection with what is presently considered to be practical and exemplary embodiments, it is to be understood that the invention is not limited to the disclosed embodiments, but, on the contrary, It will be understood by those skilled in the art that various changes in form and details may be made therein without departing from the spirit and scope of the invention as defined by the appended claims.

이와 같은 챔버 유닛 및 챔버 유닛을 포함하는 기판 처리 장치에 따르면, 윈도우의 내면에 접하도록 와이퍼가 배치되어, 상기 와이퍼가 공정 중에 발생하여 윈도우에 잔류하는 이물질을 효과적으로 제거한다. 따라서 작업자는 윈도우를 통하여챔버 유닛의 내부에 진행되는 기판 처리 현황을 육안으로 확인할 수 있다.According to the substrate processing apparatus including the chamber unit and the chamber unit, a wiper is disposed so as to contact the inner surface of the window, and the wiper is generated during the process to effectively remove foreign matter remaining in the window. Therefore, the operator can visually check the substrate processing status inside the chamber unit through the window.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 챔버 유닛을 설명하기 위한 단면도이다.1 is a cross-sectional view illustrating a chamber unit according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 장치를 설명하기 위한 사시도이다.2 is a perspective view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 처리 시스템을 설명하기 위한 단면도이다.3 is a cross-sectional view illustrating a substrate processing system according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>Description of the Related Art

100 : 박막 증착 장치 110 : 공정 챔버100: thin film deposition apparatus 110: process chamber

120 : 수용 용기 130 : 회전식 개폐 유닛120: Storage container 130: Rotary opening / closing unit

131 : 덮개 133 : 샤프트131: lid 133: shaft

135 : 모터135: Motor

Claims (8)

기판을 처리하는 처리 공간을 제공하고, 그 일측에 개구가 형성된 챔버;A chamber provided with a processing space for processing the substrate and having an opening formed on one side thereof; 상기 챔버 일측의 개구를 커버하며, 상기 챔버 내부의 기판 처리 공정의 진행 상황을 확인하기 위하여 투명 재질을 갖고, 상기 챔버의 내부에 접하는 내측 창 및 상기 챔버의 외부에 접하는 외측 창으로 구성된 이중창 구조를 갖는 윈도우; 및A double-layer structure including a transparent material covering an opening at one side of the chamber, a transparent material for confirming the progress of the substrate processing process inside the chamber, an inner window contacting the inside of the chamber and an outer window contacting the outside of the chamber, A window having; And 상기 윈도우의 내측에 배치되며, 상기 윈도우에 잔류하는 이물질을 제거하는 와이퍼를 포함하고,And a wiper disposed inside the window to remove foreign matter remaining in the window, 상기 와이퍼는, The wiper 상기 외측창 상에 배치된 제1 자성 부재;A first magnetic member disposed on the outer window; 상기 내측창 중 상기 챔버의 내부와 접하는 면상에 배치된 제2 자성 부재; 및A second magnetic member disposed on a surface of the inner window that is in contact with the inside of the chamber; And 상기 외측창 및 상기 내측창 사이에 개재되며, 상기 제1 자성 부재 및 제2 자성 부재와 자기적으로 연결되어 상기 제1 자성 부재의 이동에 따라 상기 제2 자성 부재에 구동력을 전달하는 제3 자성 부재를 포함하고,A third magnetic member interposed between the outer window and the inner window and magnetically coupled to the first and second magnetic members to transmit a driving force to the second magnetic member in accordance with the movement of the first magnetic member, Member, 상기 제2 자성 부재는, 상기 제3 자성 부재와 자기적으로 연결된 자성체 및 상기 자성체를 감싸 상기 자성체가 상기 챔버 내부에 노출되는 것을 억제하기 위한 봉지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버 유닛.Wherein the second magnetic member includes a magnetic body magnetically coupled to the third magnetic member and an encapsulating portion for enclosing the magnetic body to suppress the magnetic body from being exposed to the inside of the chamber. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 와이퍼가 이동할 수 있도록 상기 와이퍼에 구동력을 제공하는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 챔버 유닛.The chamber unit according to claim 1, further comprising a driving unit that provides a driving force to the wiper so that the wiper moves. 기판을 처리하는 처리 공간을 제공하고 개구가 형성된 챔버, 상기 개구에 배치되며, 상기 챔버 내부의 기판 처리 진행 상황을 확인하기 위한 투명 재질을 갖고 상기 챔버의 내부에 접하는 내측 창 및 상기 챔버의 외부에 접하는 외측 창으로 구성된 이중창 구조를 갖는 윈도우, 상기 윈도우의 내측에 배치되며, 상기 윈도우의 내측에 잔류하는 이물질을 제거하는 와이퍼를 포함하는 챔버 유닛;A chamber having an opening formed therein for providing a processing space for processing the substrate, an inner window disposed in the opening, the inner window having a transparent material for confirming the progress of substrate processing inside the chamber and contacting the inside of the chamber, A chamber unit including a window having a double window structure composed of a tangential outer window, a wiper disposed on the inner side of the window and removing a foreign matter remaining inside the window; 상기 챔버 내부중 하부에 배치되고, 상기 기판을 일방향으로 이동시키는 이동 유닛; 및A moving unit disposed below the inside of the chamber, for moving the substrate in one direction; And 상기 챔버 내부중 상부에 배치되고, 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 공급 유닛을 포함하고,And a processing liquid supply unit disposed above the inside of the chamber and supplying the processing liquid to the substrate, 상기 와이퍼는, The wiper 상기 외측창 상에 배치된 제1 자성 부재;A first magnetic member disposed on the outer window; 상기 내측창 중 상기 챔버의 내부와 접하는 면상에 배치된 제2 자성 부재; 및A second magnetic member disposed on a surface of the inner window that is in contact with the inside of the chamber; And 상기 외측창 및 상기 내측창 사이에 개재되며, 상기 제1 자성 부재 및 제2 자성 부재와 자기적으로 연결되어 상기 제1 자성 부재의 이동에 따라 상기 제2 자성 부재에 구동력을 전달하는 제3 자성 부재를 포함하고,A third magnetic member interposed between the outer window and the inner window and magnetically coupled to the first and second magnetic members to transmit a driving force to the second magnetic member in accordance with the movement of the first magnetic member, Member, 상기 제2 자성 부재는, 상기 제3 자성 부재와 자기적으로 연결된 자성체 및 상기 자성체를 감싸 상기 자성체가 상기 챔버 내부에 노출되는 것을 억제하기 위한 봉지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.Wherein the second magnetic member includes a magnetic body magnetically connected to the third magnetic member and an encapsulant for enclosing the magnetic body and suppressing exposure of the magnetic body to the inside of the chamber. 삭제delete 제 6 항에 있어서, 상기 와이퍼가 이동할 수 있도록 상기 와이퍼에 구동력을 제공하는 구동력 제공 부재를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.7. The apparatus of claim 6, further comprising a driving force providing member for providing a driving force to the wiper so that the wiper moves.
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JPS63151336A (en) 1986-12-17 1988-06-23 Mitsubishi Heavy Ind Ltd Apparatus for purifying ultraviolet ray irradiation window
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