KR100904663B1 - Scrubber which uses plasma arc torch - Google Patents

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Abstract

본 발명은 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버에 관한 것으로, 고온의 화염을 발생시키는 플라즈마 아크 토치와, 상기 플라즈마 아크 토치에서 발생된 화염을 확장시키고, 그 확장된 화염의 주변에 폐가스를 분산공급하는 챔버와, 상기 챔버의 과열을 방지하는 냉각부와, 상기 냉각부에 상기 폐가스의 처리과정에서 발생된 부산물이 적층되는 것을 방지하는 적층방지부를 포함한다. 이와 같이 구성된 본 발명은 챔버의 유입관의 구조를 변경하여 플라즈마 아크 토치에서 발생된 화염을 P확산시키고, 그 확산된 화염의 측면부 전체에서 폐가스가 공급되도록 하여, 폐가스의 처리 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.The present invention relates to a scrubber using a plasma arc torch, a plasma arc torch for generating a high temperature flame, a chamber for expanding the flame generated in the plasma arc torch, and dispersing and supplying waste gas to the surroundings of the expanded flame; And, the cooling unit for preventing overheating of the chamber, and the stacking prevention unit for preventing the by-products generated during the treatment of the waste gas is laminated to the cooling unit. The present invention configured as described above can change the structure of the inlet pipe of the chamber to P-spread the flame generated in the plasma arc torch, so that the waste gas is supplied from the entire side surface of the diffused flame, thereby improving the treatment efficiency of the waste gas. There is.

플라즈마 아크 토치, 스크러버, 적층방지, 환형 폐가스공급부 Plasma arc torch, scrubber, stacking prevention, annular waste gas supply

Description

플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버{Scrubber which uses plasma arc torch}Scrubber which uses plasma arc torch}

본 발명은 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 가스 처리량을 증가시킨 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버에 관한 것이다.The present invention relates to a scrubber using a plasma arc torch, and more particularly to a scrubber using a plasma arc torch with increased gas throughput.

일반적으로, 플라즈마 아크 토치는 음전극과 양전극 사이의 아크방전을 이용하여 플라즈마 생성가스를 플라즈마 상태로 전환하여 고온의 화염을 발생시키는 것으로, 그 화염의 온도 또한 제어가 가능하다.In general, the plasma arc torch generates a high temperature flame by converting the plasma generating gas into a plasma state by using an arc discharge between the negative electrode and the positive electrode, and the temperature of the flame can also be controlled.

상기와 같이 플라즈마 아크 토치는 두 전극 사이의 아크방전에 기인하는 화염을 발생시키며, 그 화염을 이용하여 폐가스를 정화처리하는 스크러버에 적용하고 있다. 상기 폐가스는 반도체 또는 평판디스플레이 제조에 사용하는 독성이 있는 가스로서 직접 대기에 배출할 수 없다.As described above, the plasma arc torch generates a flame resulting from the arc discharge between the two electrodes, and is applied to a scrubber for purifying waste gas using the flame. The waste gas is a toxic gas used in the manufacture of semiconductor or flat panel displays and cannot be discharged directly to the atmosphere.

종래에는 정화 대상인 폐가스를 플라즈마 아크 토치의 음전극과 양전극의 사 이에서 배출되도록 하여 폐가스가 상기 플라즈마 아크 토치의 화염을 위에서 아래의 방향으로 지나도록 하고 있으며, 이와 같은 종래 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Conventionally, the waste gas to be purified is discharged between the negative electrode and the positive electrode of the plasma arc torch so that the waste gas passes through the flame of the plasma arc torch from the top to the bottom, and a scrubber using the conventional plasma arc torch is attached. Referring to the drawings in detail as follows.

도 1은 종래 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 구성도이다.1 is a block diagram of a scrubber using a conventional plasma arc torch.

도 1을 참조하면, 종래 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버는 몸체에 마련된 폐가스 유입관(14)을 통해 유입되는 폐가스를 양전극(13)과 음전극(11)사이의 아크방전을 이용하여 정화하는 플라즈마 아크 토치(10)와, 상기 플라즈마 아크 토치(10)의 화염에 의해 폐가스의 정화처리가 다시 이루어지도록 하는 챔버(20)와, 냉각수의 순환에 의해 상기 챔버(20)를 냉각시키는 냉각부(30)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 1, a scrubber using a conventional plasma arc torch purifies waste gas introduced through a waste gas inlet pipe 14 provided in a body by using an arc discharge between the positive electrode 13 and the negative electrode 11. (10), the chamber (20) for the waste gas purifying process to be performed again by the flame of the plasma arc torch (10), and the cooling unit (30) for cooling the chamber (20) by circulation of the cooling water. It is configured to include.

이하, 상기와 같이 구성된 종래 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the scrubber using the conventional plasma arc torch configured as described above will be described in more detail.

먼저, 상기 음전극(11)과 양전극(13)은 상호 소정거리 이격되어 있으며, 음전극(11)과 양전극(13)의 사이에 전위차가 발생하면, 음전극(11)의 첨점부와 양전극(13) 사이에 아크가 발생된다.First, the negative electrode 11 and the positive electrode 13 are spaced apart from each other by a predetermined distance, and when a potential difference occurs between the negative electrode 11 and the positive electrode 13, between the peak portion of the negative electrode 11 and the positive electrode 13. An arc is generated.

이때 음전극(11)와 양전극(13)의 사이는 플라즈마 상태가 되며, 고온에 의한 화염이 양전극(13)의 내측에서 아래쪽으로 발생된다.At this time, between the negative electrode 11 and the positive electrode 13 is in a plasma state, a flame caused by a high temperature is generated from the inside of the positive electrode 13 downward.

상기 폐가스 유입관(14)을 통해 음전극(11)과 양전극(13)의 사이에 공급되는 폐가스는 플라즈마화되어 화염에 의해 정화처리된다.The waste gas supplied between the negative electrode 11 and the positive electrode 13 through the waste gas inlet pipe 14 is converted into plasma and purified by flame.

그러나 폐가스 유입관(14)이 양전극(13)과 음전극(11)의 사이에 위치하기 때문에 그 폐가스는 챔버(20)로의 좁은 유입관(21)를 지나면서 정화처리되기 때문에 대량의 폐가스를 처리할 수 없었다.However, since the waste gas inlet pipe 14 is located between the positive electrode 13 and the negative electrode 11, the waste gas is purified by passing through the narrow inlet pipe 21 into the chamber 20 to process a large amount of waste gas. Could not.

상기와 같이 화염에 의해 정화처리된 폐가스는 그 챔버(20)의 측면에 마련된 배기관(22)을 통해 배기된다. 상기 폐가스를 화염으로 정화처리 할 때 분말인 부산물이 발생되며, 그 챔버(20)의 내에서 부산물은 폐가스로부터 분리되어 하향 이동한다.The waste gas purified by the flame as described above is exhausted through the exhaust pipe 22 provided on the side surface of the chamber 20. When the waste gas is purified by flame, a by-product is generated as a powder, and the by-product is separated from the waste gas and moves downward in the chamber 20.

상기와 같은 플라즈마 아크 토치(10)는 음전극(11)과 양전극(13)에 고압의 전원이 공급되며, 방전과 폐가스 처리시의 압력 등에 의해 그 전원을 공급하는 전원부에 잦은 이상이 발생한다.The plasma arc torch 10 as described above is supplied with a high voltage power to the negative electrode 11 and the positive electrode 13, and frequent abnormalities occur in the power supply unit for supplying the power by pressure during discharge and waste gas treatment.

상기 챔버(20)의 하부에는 챔버(20)의 과열을 방지하기 위한 냉각부(30)가 위치한다. 상기 냉각부(30)는 냉각수유입관(31)을 통해 유입된 냉각수가 일시 저장되는 저장공간부(32)와, 그 저장공간부(32)에서 오버 플로우된 냉각수가 외부로 배출되는 냉각수배출관(33)으로 구성된다.The cooling unit 30 is positioned below the chamber 20 to prevent overheating of the chamber 20. The cooling unit 30 is a storage space 32 for temporarily storing the coolant introduced through the coolant inlet pipe 31, and a cooling water discharge pipe through which the coolant overflowed from the storage space 32 is discharged to the outside ( 33).

상기 냉각수배출관(33)으로는 사용된 냉각수함께 상기 정화처리의 부산물이 함께 배출되며, 이는 정수처리장치(도면 미도시)를 통해 정수처리된다.The by-product of the purification treatment is discharged together with the cooling water used as the cooling water discharge pipe 33, which is purified through a water treatment device (not shown).

그러나 상기 정화처리의 부산물은 냉각수배출관(33)뿐만 아니라 저장공간부(32)에 유입될 수 있으며, 이와 같이 유입된 부산물은 냉각수유입관(31)을 막아 원활한 냉각이 이루어지는 것을 방해하게 된다.However, the by-products of the purification treatment may be introduced into the storage space 32 as well as the cooling water discharge pipe 33, and the by-products thus blocked prevent the cooling water inlet pipe 31 from being smoothly cooled.

이와 같이 부산물의 적층에 따라 상기 냉각부(30)는 정기적으로 세정되어야 하며, 이때 폐가스의 처리공정이 중단되어야 하기 때문에 그 폐가스를 방출하는 반도체 또는 평판디스플레이의 제조공정도 중단되어야 하며, 제품의 생산성을 저하시키는 원인이 된다.As such, the cooling unit 30 should be periodically cleaned according to the stacking of the by-products, and at this time, the process of treating waste gas should be stopped, so that the manufacturing process of semiconductor or flat panel display emitting the waste gas should be stopped, and the productivity of the product. This causes a decrease.

본 발명의 과제는 동일 시간내에 보다 더 많은 폐가스를 처리할 수 있으며, 부산물이 냉각부에 적층되는 것을 방지할 수 있는 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버를 제공함에 있다.An object of the present invention is to provide a scrubber using a plasma arc torch that can process more waste gas within the same time, and can prevent by-products from being laminated to the cooling unit.

상기와 같은 과제를 해결하기 위한 본 발명은 고온의 화염을 발생시키는 플라즈마 아크 토치와, 상기 플라즈마 아크 토치에서 발생된 화염을 확장시키고, 그 확장된 화염의 주변에 폐가스를 분산공급하는 챔버와, 상기 챔버의 과열을 방지하는 냉각부와, 상기 냉각부에 상기 폐가스의 처리과정에서 발생된 부산물이 적층되는 것을 방지하는 적층방지부를 포함한다.The present invention for solving the above problems is a plasma arc torch for generating a high-temperature flame, a chamber for expanding the flame generated in the plasma arc torch, the chamber for dispersing and supplying waste gas to the surrounding of the expanded flame, and It includes a cooling unit for preventing overheating of the chamber, and the stacking prevention unit for preventing the by-products generated during the treatment of the waste gas is laminated to the cooling unit.

본 발명은 챔버의 유입관의 구조를 변경하여 플라즈마 아크 토치에서 발생된 화염을 확산시키고, 그 확산된 화염의 측면부 전체에서 폐가스가 공급되도록 하여, 폐가스의 처리 효율을 높일 수 있는 효과가 있다.The present invention has the effect of changing the structure of the inlet pipe of the chamber to diffuse the flame generated in the plasma arc torch, so that the waste gas is supplied from the entire side portion of the flame spread, thereby improving the treatment efficiency of the waste gas.

또한 본 발명은 챔버를 냉각하는 냉각부에 정화처리의 부산물이 적층되는 것을 방지하여, 정기적인 관리가 요구되지 않아 사용효율을 높일 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention is to prevent the by-products of the purification process is laminated to the cooling unit for cooling the chamber, there is an effect that can increase the use efficiency because no regular management is required.

상기와 같이 구성되는 본 발명 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 바 람직한 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Preferred embodiments of the scrubber using the plasma arc torch of the present invention configured as described above will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 바람직한 실시예에 따른 단면 구성도이다.2 is a cross-sectional view according to a preferred embodiment of the scrubber using the plasma arc torch of the present invention.

도 2를 참조하면 본 발명 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 바람직한 실시예는, 음전극(110)과 양전극(120)을 구비하여, 고온의 화염을 발생시키는 플라즈마 아크 토치(100)와, 상기 플라즈마 아크 토치(100)에서 발생된 화염을 확장시키고, 그 확장된 화염의 주변에 폐가스를 분산공급하여 정화처리가 일어나도록 하는 챔버(200)와, 상기 챔버(200)의 하부측에 위치하여 그 챔버(200)의 과열을 방지하는 냉각부(300)와, 상기 챔버(200)와 냉각부(300)의 사이에 위치하여 부산물이 냉각부(300)에 적층되는 것을 방지하는 적층방지부(400)를 포함한다.Referring to FIG. 2, a preferred embodiment of the scrubber using the plasma arc torch of the present invention includes a plasma arc torch 100 including a negative electrode 110 and a positive electrode 120 to generate a high temperature flame, and the plasma arc torch A chamber 200 which expands the flame generated at 100 and disperses and supplies waste gas around the expanded flame, and is located at a lower side of the chamber 200 to provide the chamber 200 Cooling unit 300 to prevent overheating of) and the stack prevention unit 400 is located between the chamber 200 and the cooling unit 300 to prevent the by-products are laminated to the cooling unit 300. do.

이하, 상기와 같이 구성된 본 발명 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 구성과 작용을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the configuration and operation of the scrubber using the present invention plasma arc torch configured as described above in more detail.

먼저, 플라즈마 아크 토치(100)의 내부에는 종래와는 다르게 폐가스를 공급하는 관로가 형성되어 있지 않고, 음전극(110)과 양전극(120)의 전위차에 의한 고온의 화염을 발생시킨다.First, unlike the related art, a pipeline for supplying waste gas is not formed inside the plasma arc torch 100, and a high temperature flame is generated due to a potential difference between the negative electrode 110 and the positive electrode 120.

이와 같이 발생된 화염은 챔버(200)의 내부로 일부 유입되며, 그 챔버(200)에서 화염이 유입되는 화염유입관(210)의 구성은 챔버의 내측으로 갈수록 내경이 더 증가하도록 경사진 경사면이며, 따라서 상기 플라즈마 아크 토치(100)에서 발생된 화염은 그 면적이 더 확장된다.The flame generated as described above is partially introduced into the chamber 200, and the configuration of the flame inlet pipe 210 through which the flame is introduced in the chamber 200 is an inclined surface that is inclined so that an inner diameter increases further toward the inside of the chamber. Therefore, the flame generated in the plasma arc torch 100 is further expanded in area.

상기의 면적 확장에 의하여 화염의 온도는 상대적으로 낮아져 약 2000℃가 되나, 가스의 처리온도가 1300℃이기 때문에 폐가스의 정화처리가 가능하게 된다. 이와 같이 온도를 낮추는 경우 상기 음전극(110)과 양전극(120)에 전원을 공급하는 전원부의 손상을 방지할 수 있다.By expanding the area, the temperature of the flame is relatively lowered to about 2000 ° C., but since the processing temperature of the gas is 1300 ° C., the waste gas can be purified. When the temperature is lowered as described above, damage to the power supply unit supplying power to the negative electrode 110 and the positive electrode 120 can be prevented.

상기 챔버(200)의 내측으로 확장되어 인가되는 화염의 측면부로 폐가스를 공급하는 폐가스공급부(230)가 마련되어 있다. 상기 폐가스공급부(230)는 챔버(200)의 상단측에 마련되어 있다.A waste gas supply unit 230 is provided to supply waste gas to a side portion of the flame which is extended inside the chamber 200. The waste gas supply unit 230 is provided on the upper side of the chamber 200.

도 3은 상기 폐가스공급부(230)의 일부 절개 사시도이다.3 is a partially cutaway perspective view of the waste gas supply unit 230.

도 3을 참조하면 상기 폐가스 공급부(230)는, 외부에서 폐가스가 공급되는 폐가스공급관(231)과, 상기 폐가스공급관(231)을 통해 공급된 폐가스를 버퍼링하는 버퍼공간부(232)가 내측에 마련되며, 내경에 마련된 다수의 공급홀(233)을 통해 그 버퍼공간부(232)의 폐가스를 상기 화염의 측면에 공급하는 환형의 공급기재(234)를 포함하여 구성된다.Referring to FIG. 3, the waste gas supply unit 230 includes a waste gas supply pipe 231 through which waste gas is supplied from the outside, and a buffer space 232 buffering the waste gas supplied through the waste gas supply pipe 231. It is configured to include an annular feed base 234 for supplying the waste gas of the buffer space portion 232 to the side of the flame through a plurality of supply holes 233 provided in the inner diameter.

이와 같은 구성에 의해 본 발명은 화염의 측면부에서 고르게 폐가스를 공급할 수 있으며, 종래에 비하여 보다 폐가스 공급량을 보다 증가시킬 수 있는 설치공 간을 확보할 수 있다.With this configuration, the present invention can supply waste gas evenly from the side of the flame, and can secure an installation space that can increase the amount of waste gas supply more than in the prior art.

이처럼 폐가스의 공급량을 증가시키는 경우에도 그 화염이 종래에 비해 면적이 확장되어 있기 때문에 용이하게 정화처리를 할 수 있게 된다.In this way, even if the supply amount of the waste gas is increased, since the area of the flame is enlarged as compared with the related art, the purification process can be easily performed.

상기와 같이 본 발명은 동일 시간 내에 종래에 비하여 더 많은 폐가스를 정화처리 할 수 있어 가스 처리 효율을 높일 수 있게 된다.As described above, the present invention can purify more waste gas compared to the conventional one within the same time, thereby increasing the gas treatment efficiency.

상기와 같이 처리된 가스는 챔버(200)의 측면에 마련된 배출관(220)을 통해 배출되며, 정화처리시 발생되는 부산물은 챔버(200)의 하부측으로 이동하게 된다.The gas treated as described above is discharged through the discharge pipe 220 provided on the side of the chamber 200, and the by-products generated during the purification process are moved to the lower side of the chamber 200.

상기 챔버(200)의 하부에는 챔버(200)의 과열방지를 위한 냉각부(300)가 마련되어 있으며, 그 냉각부(300)는 냉각수가 유입되는 냉각수유입관(310)과, 유입된 냉각수가 일시 저장되는 저장공간부(320)와, 상기 저장공간부(320)에 저장된 냉각수가 오버플로우 되어 외부로 배출되는 냉각수배출관(330)으로 구성된다.The lower portion of the chamber 200 is provided with a cooling unit 300 for preventing overheating of the chamber 200, the cooling unit 300 is a cooling water inlet tube 310, the cooling water flows into the cooling water, and the introduced cooling water is temporarily The storage space 320 to be stored, and the cooling water stored in the storage space 320 overflows the cooling water discharge pipe 330 is discharged to the outside.

상기 챔버(200)와 냉각부(300)의 사이에는 상기 화염에 의해 폐가스를 처리할 때 발생하는 부산물이 그 냉각부의 저장공간부(320)에 적층되는 것을 방지하는 적층방지부(400)가 마련되어 있다.Between the chamber 200 and the cooling unit 300 is provided with a stack prevention unit 400 to prevent the by-products generated when processing the waste gas by the flame is laminated to the storage space 320 of the cooling unit. have.

도 4는 상기 적층방지부(400)의 일실시 구성도이다.4 is a configuration diagram of one embodiment of the stack prevention unit 400.

도 4를 참조하면 상기 적층방지부(400)는, 내부에 불활성가스의 균일한 공급 을 위한 버퍼(410)가 마련되며 내경이 중앙을 향해 하향 경사진 환형상의 적층방지판(420)과, 상기 적층방지판(420)의 경사진 내경에 마련된 다수의 분사노즐(430)을 포함한다. Referring to FIG. 4, the stacking prevention part 400 includes a buffer 410 for uniformly supplying an inert gas therein, and an annular stacking prevention plate 420 having an inner diameter inclined downward toward the center thereof. It includes a plurality of injection nozzles 430 provided on the inclined inner diameter of the stack prevention plate 420.

상기 분사노즐(430)은 적층방지판(420)의 상면측에서 상부에서 불활성가스를 일방향으로 편향되게 분사할 수 있도록 내경측으로 수직인 방향이 아닌 경사진 방향으로 위치한다.The injection nozzle 430 is positioned in an inclined direction rather than a direction perpendicular to an inner diameter side so that the inert gas may be deflected in one direction from the upper surface side of the stack prevention plate 420.

따라서 적층방지판(420)의 상부측에서 불활성가스는 소용돌이 형태로 맴돌게 되며, 따라서 부산물이 더욱 부착되기 어렵게 된다.Therefore, the inert gas on the upper side of the anti-lamination plate 420 circulates in a vortex form, and thus the by-products are more difficult to attach.

이처럼 적층방지부(400)에 의해 부산물이 상기 냉각부(300) 및 적층방지판(420) 상에 부착 및 적층되는 것을 방지함으로써, 주기적인 세정이 요구되지 않으며, 그 세정이 요구되지 않음에 따라 폐가스 처리가 중단되는 것을 방지할 수 있게 된다.As such, by preventing the by-products from being attached and stacked on the cooling unit 300 and the anti-lamination plate 420 by the lamination prevention unit 400, periodic cleaning is not required, and thus the cleaning is not required. It is possible to prevent the waste gas treatment from being interrupted.

도 1은 종래 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 단면 구성도이다.1 is a cross-sectional configuration diagram of a scrubber using a conventional plasma arc torch.

도 2는 본 발명 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버의 일실시 단면 구성도이다.2 is a cross-sectional configuration of an embodiment of a scrubber using the plasma arc torch of the present invention.

도 3은 도 2에서 폐가스공급부의 일부절개 사시도이다.3 is a partially cutaway perspective view of the waste gas supply unit of FIG. 2.

도 4는 도 1에서 적층방지부의 일실시 구성도이다.4 is a configuration diagram of one embodiment of the lamination prevention part in FIG. 1.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

100:플라즈마 아크 토치 110:음전극100: plasma arc torch 110: negative electrode

120:양전극 200:챔버120: positive electrode 200: chamber

210:유입관 220:배출관210: inlet pipe 220: discharge pipe

230:폐가스 공급부 231:폐가스공급관230: waste gas supply unit 231: waste gas supply pipe

232:버퍼공간부 233:공급홀232: buffer space portion 233: supply hole

234:공급기재 300:냉각부234: supply base 300: cooling unit

310:냉각수유입관 320:저장공간부310: cooling water inlet pipe 320: storage space

330:냉각수배출관 400:적층방지부330: cooling water discharge pipe 400: laminated prevention part

410:버퍼 420:적층방지판410: Buffer 420: laminated prevention plate

430:분사노즐430: spray nozzle

Claims (5)

고온의 화염을 발생시키는 플라즈마 아크 토치;A plasma arc torch generating a high temperature flame; 상기 플라즈마 아크 토치에서 발생된 화염이 내측에 유입될 수 있도록 하되, 그 내경이 확장되어 상기 화염의 면적을 확장하는 유입관과, 상기 유입관을 통해 확장된 화염의 측면부 전체에서 고르게 폐가스를 공급하는 폐가스공급부를구비하여, 상기 플라즈마 아크 토치에서 발생된 화염을 확장시키고, 그 확장된 화염의 주변에 폐가스를 분산공급하는 챔버;Allow the flame generated by the plasma arc torch to flow into the inner side, the inner diameter thereof is expanded to supply the waste gas evenly from the entire side portion of the flame extended through the inlet tube; A chamber configured to provide a waste gas supply unit to expand a flame generated in the plasma arc torch and disperse and supply waste gas around the expanded flame; 상기 챔버의 과열을 방지하는 냉각부; 및A cooling unit for preventing overheating of the chamber; And 상기 냉각부에 상기 폐가스의 처리과정에서 발생된 부산물이 적층되는 것을 방지하는 적층방지부를 포함하는 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버.Scrubber using a plasma arc torch comprising a stacking prevention portion for preventing the by-products generated in the processing of the waste gas is laminated to the cooling unit. 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 폐가스공급부는,The waste gas supply unit, 외부로부터 폐가스가 공급되는 폐가스공급관;A waste gas supply pipe through which waste gas is supplied from the outside; 내측에 상기 폐가스공급관을 통해 공급된 폐가스를 일시 저장하는 버퍼공간부가 마련되며, 내경에 다수의 폐가스공급구가 마련된 환형의 폐가스공급기재를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버.The scrubber using a plasma arc torch, characterized in that the buffer space portion for temporarily storing the waste gas supplied through the waste gas supply pipe is provided on the inner side, and includes an annular waste gas supply base having a plurality of waste gas supply holes provided therein. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 적층방지부는,The lamination prevention unit, 상기 부산물이 상기 냉각부 내측으로 유입되는 것을 차단하며, 상면이 중앙을 향해 하향 경사진 적층방지판; 및An anti-lamination plate which prevents the by-products from flowing into the cooling unit and has an upper surface inclined downward toward the center; And 상기 적층방지판의 내부에 다수로 위치하여 불활성 가스를 그 적층방지판의 상부 경사면에 분사하는 분사노즐을 포함하는 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버.A scrubber using a plasma arc torch positioned in a plurality of the anti-lamination plate and including a spray nozzle for injecting an inert gas to the upper inclined surface of the anti-lamination plate. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 분사노즐은 분사되는 불활성 가스가 소용돌이 형태로 맴돌 수 있도록 중앙을 향해 소정각도 경사진 것을 특징으로 하는 플라즈마 아크 토치를 이용한 스크러버.The injection nozzle is a scrubber using a plasma arc torch, characterized in that inclined at a predetermined angle toward the center so that the inert gas is circulated in the vortex form.
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