KR100937697B1 - Waste Gas Processing - Google Patents

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Abstract

반도체, 평판 디스플레이 등의 제조에 사용된 인체 유해물질, 공해유발물질 등을 포함하는 폐가스의 처리장치가 개시된다. 본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 폐가스가 내부에서 처리되는 챔버, 상기 챔버 상부의 가장자리를 따라 배치되고 상기 폐가스가 유입되는 복수 개의 폐가스 유입부, 상기 챔버의 측면부에 배치되고, 상기 챔버의 내부를 지나는 상기 폐가스를 정화 처리하는 복수 개의 열처리부, 상기 챔버를 통하여 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부를 포함하여 구성된다. 따라서, 상기 열처리부에서 발생하는 화염의 중앙부에 상기 폐가스를 노출시켜 고온에서 상기 폐가스를 효율적으로 처리할 수 있는 효과가 있다.Disclosed is a waste gas treatment apparatus including human hazardous substances, pollutants, and the like used in the manufacture of semiconductors and flat panel displays. The waste gas treating apparatus according to the present invention includes a chamber in which waste gas is processed therein, a plurality of waste gas inlet portions disposed along an edge of the upper portion of the chamber and into which the waste gas is introduced, and disposed on side surfaces of the chamber, and passing through the inside of the chamber. And a plurality of heat treatment units for purifying the waste gas, and a cooling unit for cooling the purged gas through the chamber. Therefore, the waste gas is exposed to the central portion of the flame generated in the heat treatment unit, thereby effectively treating the waste gas at a high temperature.
플라즈마, 히터, 퍼지가스, PFC(Perfluorocompound) Plasma, Heater, Purge Gas, Perfluorocompound (PFC)

Description

폐가스 처리장치{Waste Gas Processing}Waste Gas Processing Equipment
본 발명은 폐가스 처리장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 반도체 제조 공정이나 화학 공정 등에서 발생한 유독성 폐가스를 정화 처리하는 폐가스 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a waste gas treating apparatus, and more particularly, to a waste gas treating apparatus for purifying a toxic waste gas generated in a semiconductor manufacturing process, a chemical process, or the like.
일반적으로, 반도체 제조공정이나 화학공정 등에서 배출되는 유독성, 가연성 및 부식성 등 그 독성이 강한 각종 폐가스, 예를 들면 C2F4, CF4, C3F8, NF3, SF6과 같은 PFC(Perfluorocompound)가스는 유해성분의 함량을 허용농도 이하로 낮추는 무해화 처리과정을 필수적으로 거친 후 대기 중으로 배출된다.Generally, various toxic gases such as C 2 F 4 , CF 4 , C 3 F 8 , NF 3 , SF 6 , such as toxic, flammable and corrosive, emitted from semiconductor manufacturing or chemical processes, etc. Perfluorocompound gases are discharged into the atmosphere after being essentially detoxified to reduce the content of hazardous components below the allowable concentration.
상기한 무해와 처리과정을 위해 종래에는 건식 또는 습식의 가스세정이 이루어졌는데, 최근 들어서는 열분해를 이용하는 방식 중에서 액화천연가스(LNG) 및 산소(O2)를 별도로 필요로 하지 않는 플라즈마 분해 방식이 각광을 받고 있는 추세이다.Conventionally, dry or wet gas cleaning has been performed for the above-mentioned harmlessness and treatment. Recently, plasma decomposition method that does not require liquefied natural gas (LNG) and oxygen (O 2 ) among the methods using pyrolysis has been spotlighted. The trend is getting.
여기서, 상기 플라즈마 분해 방식의 종류로는 쇼크(shock), 스파크방전(spark discharge), 핵반응 및 아크방전(arc discharge) 방식 등이 있다. 이중 상기 아크방전 방식은 두 개의 전극 사이에 고전압 전류를 인가하여 아크 방전을 일으키고, 상기 아크 방전을 이용하여 폐가스를 열 분해하는 방식을 말한다. 이러한 아크 방전 방식에 대해 좀더 상세히 설명하면 다음과 같다.In this case, the plasma decomposition method may include a shock, a spark discharge, a nuclear reaction, and an arc discharge method. The arc discharge method refers to a method of generating an arc discharge by applying a high voltage current between two electrodes, and thermally decomposing waste gas using the arc discharge. The arc discharge method will be described in more detail as follows.
방전된 아크 사이에 불활성 가스 및 질소 등의 플라즈마를 형성할 수 있는 가스를 통과시켜 매우 높은 고온까지 가열하면 가스가 이온화하게 된다. 이와 같은 방법으로 다양한 종류의 반응성 입자를 생성함으로써 플라즈마를 형성하게 된다. 이와 같이 형성된 플라즈마의 온도는 적어도 1000℃ 이상이 되고, 이 1000℃ 이상의 플라즈마에 폐가스를 주입하여 열 분해 처리하게 된다.The gas is ionized by passing a gas capable of forming a plasma such as an inert gas and nitrogen between discharged arcs and heating it to a very high temperature. In this way, plasma is formed by generating various kinds of reactive particles. The temperature of the plasma thus formed is at least 1000 占 폚, and waste gas is injected into the plasma of at least 1000 占 폚 for thermal decomposition treatment.
하지만, 종래의 플라즈마에 의한 폐가스 처리장치는 플라즈마가 형성된 영역만 국부적으로 온도가 높고 플라즈마의 주변 온도는 상대적으로 낮아 폐가스가 처리되는 챔버 내의 온도가 고르지 못한 문제점이 있었다.However, the conventional waste gas treatment apparatus by plasma has a problem that the temperature in the chamber in which the waste gas is treated is uneven because the temperature is locally high only in the region where the plasma is formed and the ambient temperature of the plasma is relatively low.
이에 따라, 종래의 플라즈마 폐가스 처리장치로만 폐가스를 처리할 경우, 상대적으로 온도가 낮은 영역이 존재하여 열분해가 제대로 이루어지지 못했고, 따라서 폐가스를 효과적으로 허용농도 이하까지 무해화하기 힘들뿐만 아니라, 폐가스의 무해화의 효능이 상당히 떨어지는 문제점이 있었다. 그러므로, 폐가스 처리를 위한 챔버 내에서 플라즈마에 의해 형성된 온도가 높은 부분으로 상기 폐가스를 집중적으로 유도하여 상기 폐가스를 효율적으로 제거하기 위한 폐가스 처리장치의 개발이 절실히 요구되고 있는 실정이다.Accordingly, when the waste gas is treated only with a conventional plasma waste gas treatment device, there is a region where the temperature is relatively low, so that pyrolysis is not properly performed. Therefore, the waste gas is not only harmlessly effective to be below the allowable concentration, and the waste gas is harmless. There was a problem that the efficacy of anger falls considerably. Therefore, there is an urgent need to develop a waste gas treatment apparatus for efficiently removing the waste gas by intensively inducing the waste gas into a portion having a high temperature formed by plasma in the chamber for waste gas treatment.
본 발명은 상기한 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 본 발명의 목적은 폐가스 처리를 위한 챔버 내의 온도가 높은 열처리부 주변으로 폐가스를 집중적으로 유도하여 폐가스를 효율적으로 처리하는 폐가스 처리장치를 제공하는 것에 있다.The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention to provide a waste gas treatment apparatus for efficiently treating waste gas by intensively inducing waste gas around the heat treatment unit having a high temperature in the chamber for waste gas treatment. Is in.
본 발명의 다른 목적은 고온 처리로 폐가스 처리효율을 높여 가스가 배출되는 과정에서 생성되는 유해물질의 발생을 최소화하여 대기 환경오염을 막는데 효과가 있는 폐가스 처리장치를 제공하는 것에 있다.Another object of the present invention is to provide a waste gas treatment apparatus that is effective in preventing atmospheric pollution by minimizing the generation of harmful substances generated in the process of discharging gas by increasing waste gas treatment efficiency by high temperature treatment.
상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 형태에서는 폐가스가 내부에서 처리되는 챔버, 상기 챔버 상부의 가장자리를 따라 배치되고 상기 폐가스가 유입되는 복수 개의 폐가스 유입부, 상기 챔버의 측면부에 배치되고, 상기 챔버의 내부를 지나는 상기 폐가스를 정화 처리하는 복수 개의 열처리부, 상기 챔버를 통하여 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부를 포함하여 구성되는 폐가스 처리장치를 제공한다.In order to achieve the above object, in one embodiment of the present invention, a waste gas is disposed in the chamber, a plurality of waste gas inlet portions disposed along an edge of the upper portion of the chamber and into which the waste gas is introduced, and disposed on a side portion of the chamber. And a plurality of heat treatment units configured to purify the waste gas passing through the inside of the chamber, and a cooling unit configured to cool the purified gas through the chamber.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리장치는 상기 챔버의 중앙부에 배치되어 상기 챔버 내의 상기 폐가스를 열 분해하는 보조열처리부를 더 포함하여 이루어질 수 있다.The waste gas treating apparatus according to an embodiment of the present invention may further include an auxiliary heat treatment unit disposed at the center of the chamber to thermally decompose the waste gas in the chamber.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리 장치에서, 상기 보조열처리부는 상 기 폐가스의 유동 방향과 평행하게 배치되고 전기 코일이 감싸고 있는 봉 형태로 상기 챔버 내부에 열을 발생시키는 히터 및 상기 히터의 외측에서 상기 히터를 감싸며 상기 히터를 보호하는 히터 하우징을 포함하여 구성될 수 있다.In the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the auxiliary heat treatment unit is disposed in parallel with the flow direction of the waste gas and the heater for generating heat in the chamber in the form of a rod wrapped around the electric coil and the outside of the heater The heater may be configured to surround the heater and to protect the heater.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리 장치에서, 상기 열처리부는 아크 방전을 일으키는 플라즈마 토치를 포함하여 이루어질 수 있으며, 상기 챔버 내부로 유입된 상기 폐가스를 열 분해 하는 역할을 담당한다.In the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the heat treatment unit may include a plasma torch causing an arc discharge, and serves to thermally decompose the waste gas introduced into the chamber.
본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리 장치에서, 상기 냉각부는 상기 챔버 내에서 열 분해된 가스가 유해가스로 재결합 하는 것을 방지하는 퍼지가스를 분사하는 유입구를 가지도록 구성될 수 있다.In the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the cooling unit may be configured to have an inlet for injecting a purge gas to prevent the thermally decomposed gas in the chamber to be recombined into harmful gas.
그리고, 본 발명의 일 실시예에 따른 폐가스 처리 장치에서, 상기 냉각부는 상기 폐가스가 열 분해될 때 발생하는 파우더가 적층되어 냉각수의 흐름을 방해하는 것을 방지하기 위한 고압의 가스를 상기 냉각부의 내벽으로 분사하는 유입구를 구비하도록 구성될 수도 있다.And, in the waste gas treatment apparatus according to an embodiment of the present invention, the cooling unit is a high-pressure gas to prevent the interference of the flow of cooling water is laminated to the powder generated when the waste gas is thermally decomposed to the inner wall of the cooling unit It may also be configured to have an inlet for injecting.
상기의 구성을 가지는 본 발명에 따른 폐가스 처리장치는 다음과 같은 효과가 있다.Waste gas treatment apparatus according to the present invention having the above configuration has the following effects.
첫째, 폐가스가 상대적으로 고온인 플라즈마 토치 중앙부를 경유하도록 폐가스 유입구를 챔버의 가장자리에 배치함으로써, 폐가스를 고온에서 효율적으로 처리할 수 있어 결과적으로 가스 처리효율을 향상시킬 수 있다. 따라서, 가스가 배출되는 과정에서 생성되는 유해물질의 발생을 최소화하여 대기 환경오염을 막는데 효 과가 있다.First, by disposing the waste gas inlet at the edge of the chamber via the plasma torch center portion where the waste gas is relatively high temperature, the waste gas can be efficiently processed at high temperature, and consequently, the gas treatment efficiency can be improved. Therefore, it is effective in minimizing the generation of harmful substances generated in the process of gas discharge to prevent air pollution.
둘째, 열처리부가 챔버의 측면부에 배치되면서 온도가 상대적으로 낮아지는 점을 감안하여 챔버 중앙부에 보조 열처리부를 추가적으로 구비하여 챔버 내부의 온도분포를 더욱 균일하게 고열 분위기로 고르게 분포시킬 수 있다. 따라서, 챔버의 처리공간으로 유입된 폐가스가 정화 처리되는 효율이 더욱 높아지게 된다.Second, in consideration of the fact that the temperature is relatively lowered as the heat treatment unit is disposed on the side of the chamber, an auxiliary heat treatment unit may be additionally provided at the center of the chamber to more evenly distribute the temperature distribution inside the chamber in a high temperature atmosphere. Therefore, the efficiency of purifying the waste gas introduced into the processing space of the chamber is further increased.
셋째, 폐가스가 챔버 내부에서 열 분해되면 파우더가 발생하게 되는데 이러한 파우더가 냉각부로 유입되어 냉각수의 흐름을 방해하는 것을 방지하기 위하여 고압의 가스를 냉각부의 내벽으로 분사하는 유입구를 구비함으로써, 파우더가 적층되지 않고 냉각수와 함께 외부로 배출되어 내구성이 향상되는 효과가 있다.Third, when the waste gas is thermally decomposed inside the chamber, powder is generated. In order to prevent the powder from flowing into the cooling unit and obstructing the flow of the cooling water, the powder is laminated by providing an inlet for injecting high-pressure gas into the inner wall of the cooling unit. Rather, it is discharged to the outside with the cooling water, thereby improving durability.
이하 본 발명의 목적이 구체적으로 실현될 수 있는 본 발명의 바람직한 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명한다. 본 실시예를 설명함에 있어서, 동일 구성에 대해서는 동일 명칭 및 동일 부호가 사용되며 이에 따른 부가적인 설명은 생략하기로 한다.DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of this embodiment, the same name and the same reference numerals are used for the same configuration and additional description thereof will be omitted.
우선, 도 1 내지 도 3을 참조하여, 본 발명의 제1실시예에 따른 폐가스 처리 장치의 구성을 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 1은 제1실시예에 따른 폐가스 처리 장치의 구성도이고, 도 2는 도 1의 평면도이며, 도 3은 도 1의 냉각부를 확대한 구성도이다.First, referring to Figures 1 to 3, the configuration of the waste gas treatment apparatus according to the first embodiment of the present invention will be described. 1 is a configuration diagram of a waste gas treatment apparatus according to a first embodiment, FIG. 2 is a plan view of FIG. 1, and FIG. 3 is an enlarged configuration diagram of the cooling unit of FIG. 1.
본 실시예에 따른 폐가스 처리 장치는 크게 폐가스가 내부에서 처리되는 챔버(10), 상기 챔버(10) 상부의 가장자리를 따라 배치되고 상기 폐가스가 유입되는 복수 개의 폐가스 유입부(12), 상기 챔버(10)의 측면부에 배치되고, 상기 챔버(10)의 내부를 지나는 상기 폐가스를 정화 처리하는 복수 개의 열처리부(20), 상기 챔버(10)를 통하여 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부(40)를 포함하여 구성된다.The waste gas treating apparatus according to the present exemplary embodiment includes a chamber 10 in which waste gas is largely disposed therein, a plurality of waste gas inlets 12 and a chamber disposed along an upper edge of the chamber 10 and into which the waste gas is introduced. 10 is disposed on the side portion, a plurality of heat treatment unit 20 for purifying the waste gas passing through the interior of the chamber 10, the cooling unit 40 for cooling the purified gas through the chamber 10 It is configured to include.
여기서, 상기 열처리부(20)는 도면에 도시되지는 않았지만, 인가된 전압에 따라 열전자를 방출하는 음극봉, 상기 음극봉과 소정거리 이격되어 전압의 인가 시 아크 방전을 발생시키는 양전극, 상기 양전극의 하단부에 위치하며 상기 음극봉과 양전극에서 발생된 아크 방전이 유지되도록 함과 아울러 플라즈마 생성 가스를 공급하는 플라즈마 생성 가스 공급관을 포함하여 구성된 플라즈마 토치로 이루어질 수 있다. 위와 같이 구성되어 아크 방전을 일으키는 플라즈마 토치는 현재 아크 방전 방식의 폐가스 처리 장치에 적용되어 사용되고 있으므로, 이에 대한 더 이상의 상세한 설명은 생략한다.Here, although not shown in the drawings, the heat treatment part 20 is a cathode rod for emitting hot electrons according to an applied voltage, a cathode electrode which is spaced apart from the cathode rod by a predetermined distance to generate an arc discharge when a voltage is applied, and a lower end portion of the anode electrode. The plasma torch may be configured to include a plasma generation gas supply pipe configured to maintain the arc discharge generated in the cathode rod and the positive electrode and supply the plasma generation gas. The plasma torch configured as described above to generate an arc discharge is applied to the waste gas treatment apparatus of the arc discharge type, and thus, a detailed description thereof will be omitted.
한편, 본 실시예에서 상기 열처리부(20)는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 한 쌍이 상기 챔버(10)의 측면부에 배치되고, 상기 폐가스가 유입되는 방향과 수직하게 구성되어 있다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되지 않고 상기 열처리부(20)의 설치 개수나 배치 각도 등은 다양하게 변형이 가능하다.On the other hand, in the present embodiment, the heat treatment unit 20 is a pair is disposed in the side portion of the chamber 10, as shown in Figs. 1 and 2 is configured to be perpendicular to the direction in which the waste gas flows. However, the present invention is not limited thereto, and the number and arrangement angles of the heat treatment unit 20 may be variously modified.
상기 폐가스 유입부(12)는 도 1 내지 도 2에 도시된 바와 같이 상기 챔버(10) 상부의 가장자리를 따라 복수 개가 배치된다. 이에 따라, 상기 폐가스를 열 분해 하는 역할을 담당하는 상기 열처리부(20)의 플라즈마 토치에서 발생한 화염의 중앙부가 상대적인 고온을 유지하는 것을 이용하여 상기 폐가스가 화염의 중앙부를 경유하도록 유도 할 수 있다.As illustrated in FIGS. 1 and 2, the waste gas inlet 12 is disposed along the edge of the upper portion of the chamber 10. Accordingly, it is possible to induce the waste gas to pass through the central portion of the flame by using the central portion of the flame generated in the plasma torch of the heat treatment portion 20 which serves to thermally decompose the waste gas to maintain a relatively high temperature.
도 3에 도시된 바와 같이 상기 냉각부(40)는 상기 챔버(10)의 아래에 배치되며, 상기 챔버(10)를 통과하면서 열분해 된 후 그 내부로 유입된 가스를 냉각한다.As shown in FIG. 3, the cooling unit 40 is disposed below the chamber 10 and cools the gas introduced into the chamber 10 after being pyrolyzed while passing through the chamber 10.
상기 냉각부(40)는 예를 들어 상부와 하부가 개방된 원추형으로 형성되며, 그 상단에는 상기 챔버(10)의 하단에 고정되는 플랜지(41)가 구비된다. 상기 냉각부(40)의 측면에는 유입구(42)가 구비되는데, 상기 유입구(42)를 통해서 퍼지 가스가 상기 냉각부(40)의 내부로 공급된다. 상기 냉각부(40)의 내부로 공급된 퍼지 가스는 상기 챔버(10)에서 열 분해된 가스가 재결합하여 유해가스가 생성되는 것을 방지한다. 좀더 상세히 설명하면, 상기 퍼지 가스는 예를 들어 질소 가스로 이루어질 수 있으며, 상기 챔버(10)에서 열 분해되어 생성된 가스의 일부와 결합하여 상기 챔버(10)에서 열 분해된 가스들이 상기 냉각부(40) 내에서 다시 결합하여 유해 가스로 되는 것을 방지하는 것이다.The cooling unit 40 is, for example, formed in a conical shape of the upper and lower openings, the upper end is provided with a flange 41 fixed to the lower end of the chamber 10. An inlet 42 is provided at a side surface of the cooling unit 40, and a purge gas is supplied into the cooling unit 40 through the inlet 42. The purge gas supplied into the cooling unit 40 prevents the thermally decomposed gas from the chamber 10 to recombine to generate harmful gas. In more detail, the purge gas may be made of, for example, nitrogen gas, and the gases thermally decomposed in the chamber 10 by combining with a portion of the gas generated by thermal decomposition in the chamber 10 may be the cooling unit. It is to prevent it from becoming a harmful gas by recombining in 40.
상기 퍼지 가스는 상기 유입구(42)를 통해 상기 냉각부(40)의 내벽을 향해 고압으로 분사될 수 있다. 그러면, 상기 폐가스가 상기 챔버(10) 내에서 연소되고 열 분해될 때 발생된 파우더가 상기 냉각부(40)의 내벽에 적층되는 것을 효과적으로 방지할 수 있다. 여기서, 상기 냉각부(40)의 내벽에 적층된 파우더를 털어 내기 위해서, 상기 퍼지 가스 대신 고압의 공기나 다른 가스 등을 상기 유입구(42) 들 중 어느 하나로 분사해도 좋을 것이다.The purge gas may be injected at a high pressure toward the inner wall of the cooling unit 40 through the inlet 42. Then, the powder generated when the waste gas is burned and thermally decomposed in the chamber 10 can be effectively prevented from being deposited on the inner wall of the cooling unit 40. Here, in order to shake off the powder laminated on the inner wall of the cooling unit 40, high pressure air or other gas may be injected into any one of the inlets 42 instead of the purge gas.
상기 냉각부(40)는 내벽(47)과 외벽(45)으로 구성되어 있다. 상기 챔버(10) 내부에서 열 분해된 고온의 가스를 냉각시키기 위하여 도 3에 도시된 바와 같이 냉각수 주입관(46)으로부터 유입된 냉각수가 상기 냉각부의 내벽(47)과 외벽(45) 사 이로 안내되어 냉각수 가이드(48)를 통하여 흐르게 된다. 따라서, 상기 냉각부(40)를 거친 처리 가스는 상온까지 냉각된 후 외부로 배출되게 된다.The cooling unit 40 is composed of an inner wall 47 and an outer wall 45. In order to cool the hot gas pyrolyzed in the chamber 10, the coolant introduced from the coolant injection pipe 46 is guided between the inner wall 47 and the outer wall 45 of the cooling unit as illustrated in FIG. 3. And flows through the coolant guide 48. Therefore, the processing gas passing through the cooling unit 40 is cooled to room temperature and then discharged to the outside.
상기 냉각부(40)에는 차단판(44)이 더 구비될 수 있는데, 상기 차단판(44)은 도 3에 도시된 바와 같이 상기 냉각부의 상부에 위치하여 상기 열처리부(20)에 의해 상기 폐가스가 열 분해되는 과정에서 발생되는 파우더가 상기 냉각수의 흐름을 방해하는 것을 차단하고 오버플로우(over-flow)되는 냉각수가 상기 챔버(10)의 내부로 튀는 것을 방지한다. 여기에서, 상기 차단판(44)에 적층되는 파우더는 위에서 설명한 바와 같이 상기 유입구(42)를 통하여 분사되는 고압의 퍼지가스에 의하여 상기 냉각수와 함께 외부로 배출된다.The cooling plate 40 may be further provided with a blocking plate 44, the blocking plate 44 is located in the upper portion of the cooling unit as shown in Figure 3 by the heat treatment unit 20 by the waste gas The powder generated during the thermal decomposition process is prevented from interfering with the flow of the cooling water and prevents the overflowed cooling water from splashing into the chamber 10. Here, the powder deposited on the blocking plate 44 is discharged to the outside together with the cooling water by the high-pressure purge gas injected through the inlet 42 as described above.
다음으로, 도 4 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 제2실시예에 따른 폐가스 처리 장치의 구성을 설명하면 다음과 같다. 여기서, 도 4는 본 실시예에 따른 폐가스 처리장치의 구성도이고, 도 5는 도 3의 보조열처리부의 단면도이다.Next, referring to Figures 4 to 5, the configuration of the waste gas treatment apparatus according to a second embodiment of the present invention will be described. 4 is a configuration diagram of the waste gas treating apparatus according to the present embodiment, and FIG. 5 is a cross-sectional view of the auxiliary heat treatment unit of FIG. 3.
본 실시예에 따른 폐가스 처리장치 역시 제1실시예와 그 구성에 있어서 큰 차이는 없으나 도 4에 도시된 바와 같이, 상기 열처리부(20)가 상기 챔버(10)의 측면부에 배치되면서 중앙부의 온도가 상대적으로 낮아지는 것을 보완하기 위하여, 상기 챔버(10)의 중앙부에 배치되어 상기 챔버 내로 유입된 상기 폐가스를 열 분해하는 보조열처리부(30)를 더 포함하여 구성된다.In the waste gas treatment apparatus according to the present embodiment, there is no significant difference between the first embodiment and the configuration thereof, but as shown in FIG. 4, the temperature of the central portion is provided while the heat treatment unit 20 is disposed at the side of the chamber 10. In order to compensate for the relatively low, it is configured to further include an auxiliary heat treatment unit 30 is disposed in the center of the chamber 10 to thermally decompose the waste gas introduced into the chamber.
상기 보조열처리부(30)는 상기 챔버 내부에 열을 발생시키는 히터(32), 및 상기 히터(32)의 외측에서 상기 히터를 감싸며 상기 히터를 보호하는 히터 하우징(34)을 포함하여 구성된다. 이와 같이 구성된 상기 보조열처리부(30)는 길이 방 향으로 길게 형성되어 상기 폐가스의 유입 방향과 평행하게 배치되는 것이 바람직하다. 이에 따라, 상기 열처리부(20)가 상기 챔버(10)의 측면부에 배치되면서 상기 챔버(10) 중앙부의 온도가 상대적으로 낮아지는 것을 보완하여 상기 챔버(10) 내부의 온도분포를 더욱 균일하게 고열 분위기로 고르게 분포시킬 수 있다.The auxiliary heat treatment unit 30 includes a heater 32 that generates heat in the chamber, and a heater housing 34 that surrounds the heater and protects the heater from the outside of the heater 32. The auxiliary heat treatment unit 30 configured as described above is preferably formed long in the longitudinal direction and disposed in parallel with the inflow direction of the waste gas. Accordingly, the heat treatment unit 20 is disposed on the side surface of the chamber 10 to compensate for the relatively low temperature of the central portion of the chamber 10, thereby more uniformly heating the temperature distribution inside the chamber 10. Evenly distributed in the atmosphere.
본 실시예에서 상기 보조열처리부(30)는 전열선을 이용한 전기 히터(30)를 사용하여 발열을 하고 상기 히터 하우징(32)을 통하여 상기 폐가스가 유입되는 상기 챔버(10) 내부로 열을 전달하여 상기 챔버(10) 중앙부로 유입된 상기 폐가스를 열 분해 하는 역할을 담당한다.In the present embodiment, the auxiliary heat treatment unit 30 generates heat using the electric heater 30 using a heating wire and transfers heat into the chamber 10 through which the waste gas is introduced through the heater housing 32. It serves to thermally decompose the waste gas introduced into the center of the chamber 10.
이상과 같이 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 살펴보았으며, 앞서 설명된 실시예 이외에도 본 발명이 그 취지나 범주에서 벗어남이 없이 다른 특정 형태로 구체화 될 수 있다는 사실은 해당 기술에 통상의 지식을 가진 이들에게는 자명한 것이다. 그러므로, 상술된 실시예는 제한적인 것이 아니라 예시적인 것으로 여겨져야 하고, 이에 따라 본 발명은 상술한 설명에 한정되지 않고 첨부된 청구항의 범주 및 그 동등 범위 내에서 변경될 수도 있다.As described above, the preferred embodiments of the present invention have been described, and the fact that the present invention can be embodied in other specific forms in addition to the above-described embodiments without departing from the spirit or scope thereof has ordinary skill in the art. It is obvious to them. Therefore, the above-described embodiments should be regarded as illustrative rather than restrictive, and thus, the present invention is not limited to the above description and may be modified within the scope of the appended claims and their equivalents.
도 1은 제1실시예에 따른 폐가스 처리장치의 구성도; 1 is a block diagram of a waste gas treatment apparatus according to a first embodiment;
도 2는 도 1의 평면도;2 is a plan view of FIG. 1;
도 3은 도 1의 냉각부를 확대한 구성도; 3 is an enlarged configuration diagram of the cooling unit of FIG. 1;
도 4는 제2실시예에 따른 폐가스 처리장치의 구성도; 및4 is a configuration diagram of a waste gas treating apparatus according to a second embodiment; And
도 5는 도 4의 보조열처리부의 단면도이다.5 is a cross-sectional view of the auxiliary heat treatment unit of FIG. 4.
< 도면의 주요부분에 대한 부호 설명 ><Explanation of Signs of Major Parts of Drawings>
10: 챔버 12: 폐가스 유입부10 chamber 12 waste gas inlet
20: 열처리부 30: 보조열처리부20: heat treatment unit 30: auxiliary heat treatment unit
32: 히터 34: 히터 하우징32: heater 34: heater housing
40: 냉각부 41: 플랜지40: cooling part 41: flange
42: 퍼지가스 유입구 44: 차단판42: purge gas inlet 44: blocking plate
45: 냉각부 외벽 47: 냉각부 내벽45: cooling unit outer wall 47: cooling unit inner wall
48: 냉각수 가이드 48: Coolant Guide

Claims (8)

  1. 폐가스가 내부에서 처리되는 챔버;A chamber in which waste gas is treated therein;
    상기 챔버 상부의 가장자리를 따라 배치되고 상기 폐가스가 유입되는 복수 개의 폐가스 유입부;A plurality of waste gas inlets disposed along an upper edge of the chamber and into which the waste gas flows;
    상기 챔버의 측면부에 배치되고, 상기 챔버의 내부를 지나는 상기 폐가스를 정화 처리하는 복수 개의 열처리부; 및A plurality of heat treatment parts disposed on a side surface of the chamber and configured to purify the waste gas passing through the chamber; And
    상기 챔버 내에서 열 분해된 가스가 유해가스로 재결합하는 것을 방지하는 퍼지가스를 분사하는 유입구가 구비되고, 상기 챔버를 통하여 정화 처리된 가스를 냉각시키는 냉각부;A cooling unit provided with an inlet for injecting a purge gas to prevent recombination of the thermally decomposed gas into the harmful gas in the chamber, and cooling the purified gas through the chamber;
    를 포함하여 구성되는 폐가스 처리장치.Waste gas treatment device configured to include.
  2. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 챔버의 중앙부에 배치되어 상기 챔버 내의 상기 폐가스를 열 분해하는 보조열처리부를 더 포함하여 이루어진 폐가스 처리장치.Disposed in the center of the chamber further comprises an auxiliary heat treatment for thermally decomposing the waste gas in the chamber.
  3. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 열처리부는,The heat treatment unit,
    아크 방전을 일으키는 플라즈마 토치를 포함하여 이루어진 폐가스 처리장치.A waste gas treating apparatus comprising a plasma torch causing an arc discharge.
  4. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 보조열처리부는,The auxiliary heat treatment unit,
    상기 챔버 내부에 열을 발생시키는 히터; 및A heater for generating heat in the chamber; And
    상기 히터의 외측에서 상기 히터를 감싸며 상기 히터를 보호하는 히터 하우징;A heater housing surrounding the heater and protecting the heater at an outside of the heater;
    을 포함하여 이루어진 폐가스 처리장치.Waste gas processing device comprising a.
  5. 제2항에 있어서,The method of claim 2,
    상기 보조열처리부는,The auxiliary heat treatment unit,
    길이 방향으로 길게 형성되어 상기 폐가스의 유입 방향과 평행하게 배치되는 것을 특징으로 하는 폐가스 처리장치.It is formed long in the longitudinal direction waste gas treatment apparatus, characterized in that disposed in parallel with the inflow direction of the waste gas.
  6. 삭제delete
  7. 제1항에 있어서,The method of claim 1,
    상기 냉각부는,The cooling unit,
    상기 폐가스가 열 분해될 때 발생하는 파우더가 적층되어 냉각수의 흐름을 방해하는 것을 방지하기 위한 고압의 가스를 상기 냉각부의 내벽으로 분사하는 유입구를 포함하여 이루어진 폐가스 처리장치.And an inlet for injecting a high-pressure gas to the inner wall of the cooling unit to prevent the powder generated when the waste gas is thermally decomposed to prevent the flow of cooling water.
  8. 삭제delete
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