KR100898518B1 - Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter - Google Patents

Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter Download PDF

Info

Publication number
KR100898518B1
KR100898518B1 KR20060036975A KR20060036975A KR100898518B1 KR 100898518 B1 KR100898518 B1 KR 100898518B1 KR 20060036975 A KR20060036975 A KR 20060036975A KR 20060036975 A KR20060036975 A KR 20060036975A KR 100898518 B1 KR100898518 B1 KR 100898518B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
weight
paste composition
printing
printing paste
pattern
Prior art date
Application number
KR20060036975A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20070105034A (en
Inventor
김봉기
전승훈
백나영
박찬석
Original Assignee
주식회사 동진쎄미켐
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 주식회사 동진쎄미켐 filed Critical 주식회사 동진쎄미켐
Priority to KR20060036975A priority Critical patent/KR100898518B1/en
Priority to CN2007800151512A priority patent/CN101432375B/en
Priority to JP2009507578A priority patent/JP5209606B2/en
Priority to PCT/KR2007/001883 priority patent/WO2007123324A1/en
Priority to TW096113793A priority patent/TW200745177A/en
Publication of KR20070105034A publication Critical patent/KR20070105034A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100898518B1 publication Critical patent/KR100898518B1/en

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/03Printing inks characterised by features other than the chemical nature of the binder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/106Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
    • C09D11/107Printing inks based on artificial resins containing macromolecular compounds obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds from unsaturated acids or derivatives thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J17/00Gas-filled discharge tubes with solid cathode
    • H01J17/38Cold-cathode tubes
    • H01J17/48Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
    • H01J17/49Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current

Abstract

본 발명은 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a printing paste composition used to prepare a mesh filter for shielding electromagnetic waves using a gravure offset printing method.

본 발명에 따른 인쇄용 페이스트 조성물은 미세 패턴을 직접 형성할 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄에 특히 적합하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 미세 전극 제조시 발생하는 재료의 재처리 문제점을 원천적으로 해결할 수 있으며, 동시에 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정 절차에 요구되는 페이스트 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있다.The printing paste composition according to the present invention is particularly suitable for gravure offset printing capable of directly forming a fine pattern, and reprocessing of materials generated when manufacturing an electrode pattern or an electromagnetic shielding fine electrode of a plasma display panel using a conventional photolithography method. The problem can be solved at the source, and at the same time, in order to exhibit proper offset printing characteristics, each of the various required properties of the paste composition required for the printing process procedure can be satisfied.

페이스트, 그라비아 옵셋 Paste, Gravure Offset

Description

그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물 {PRINTING PASTE COMPOSITION USING IN GRAVURE OFF-SET PRINTING FOR MAKING ELECTRO WAVE SHIELDING MASH FILTER}Printing paste composition used for manufacturing electromagnetic shielding mesh filter by gravure offset printing method {PRINTING PASTE COMPOSITION USING IN GRAVURE OFF-SET PRINTING ELECTRO WAVE SHIELDING MASH FILTER}

본 발명은 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 미세 패턴을 직접 형성할 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄에 특히 적합하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 미세 전극 제조시 발생하는 재료의 재처리 문제점을 원천적으로 해결할 수 있으며, 동시에 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정 절차에 요구되는 페이스트 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 인쇄용 페이스트 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a printing paste composition used to prepare an electromagnetic shielding mesh filter using a gravure offset printing method, and more particularly, is particularly suitable for gravure offset printing capable of directly forming a fine pattern, and conventional photolithography It is possible to fundamentally solve the problem of reprocessing of materials generated in manufacturing electrode patterns or electromagnetic shielding fine electrodes of plasma display panels using the method, and at the same time, it is necessary to solve the problem The present invention relates to a printing paste composition capable of meeting various required physical properties.

최근, 디스플레이 장치들에 있어서, 대형화, 고밀도화, 고정밀화, 및 고신뢰성의 요구가 높아짐에 따라, 여러 가지 패턴 가공 기술의 개발이 이루어지고 있으며, 또한 이러한 다양한 패턴 가공 기술에 적합한 각종의 미세 전극 형성용 조성물에 대한 연구가 활발히 이루어지고 있다.In recent years, in the display devices, as the demand for larger size, higher density, higher precision, and higher reliability increases, various pattern processing techniques have been developed, and various fine electrode formations suitable for such various pattern processing techniques have been made. There is an active research into the composition for use.

플라즈마 디스플레이 패널 (이하, 'PDP'라 칭함)은 액정 패널과 비교할 때에 응답속도가 빠르고, 대형화가 용이하여 현재 다양한 분야에 이용되고 있다. 종래에 이러한 PDP 상에 전극을 형성하는 방법으로는 일반적으로 스크린 인쇄법을 이용 한 전극 재료의 패터닝 방법이 사용되어 왔다. 그러나, 종래의 스크린 인쇄법은 고도의 숙련도를 요하고, 스크린 인쇄를 행할 시에 점도가 낮아 기판 상에서 페이스트가 흘러내릴 수 있으며, 스크린에 의한 정밀도가 떨어지기 때문에 스크린 인쇄법을 이용하여 PDP에 요구되는 고정밀도의 대화면 패턴을 얻기가 힘들다. 또한, 종래의 스크린 인쇄법에는 인쇄시 스크린에 의한 단락 또는 단선이 생길 수 있는 단점이 있었다.Plasma display panels (hereinafter referred to as 'PDP') are used in various fields at present because they have a faster response speed and easier size than those of liquid crystal panels. Conventionally, as a method of forming an electrode on such a PDP, a patterning method of electrode materials using a screen printing method has been generally used. However, the conventional screen printing method requires a high degree of skill, and the viscosity is low when screen printing is performed, so that the paste can flow down on the substrate, and the accuracy of the screen is reduced. It is difficult to obtain a high precision large screen pattern. In addition, the conventional screen printing method has a disadvantage in that short-circuit or disconnection may occur due to the screen during printing.

한편, 최근에는 대면적에 적합한 고정밀의 전극회로를 형성하기 위하여 감광성 수지 조성물을 이용한 포토리소그라피법이 개발되었다. 이는, 미세 도전성 분말이 분산된 감광성 수지 조성물을 이용하여, 인쇄법을 통하여 균일한 후막을 형성하고, 형성된 후막을 원하는 형상의 마스크를 사용하여 노광한 다음, 알칼리 현상액을 사용하여 필요한 패턴을 구현하는 방법이다. On the other hand, in recent years, the photolithography method using the photosensitive resin composition was developed in order to form the high precision electrode circuit suitable for a large area. This uses a photosensitive resin composition in which fine conductive powder is dispersed to form a uniform thick film through a printing method, expose the formed thick film using a mask having a desired shape, and then implement a necessary pattern using an alkaline developer. It is a way.

그러나, 상기와 같은 포토리소그라피법을 이용하여 패턴을 형성할 경우 제조비용 절감을 위해 현상 공정시 제거되는 재료의 재처리가 요구되었으며 이에 대한 많은 논의가 진행되고 있다.However, when the pattern is formed using the photolithography method as described above, reprocessing of the material removed during the development process is required to reduce the manufacturing cost, and many discussions have been made.

상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 종래 인쇄산업에서 널리 사용되고 있는 그라비아 옵셋 인쇄법이나 잉크젯 프린팅 방식과 같이 기재에 원하는 패턴을 직접 형성하는 방법에 대한 연구가 진행되고 있다.In order to solve the above problems, researches on a method of directly forming a desired pattern on a substrate, such as a gravure offset printing method or an inkjet printing method, which are widely used in the conventional printing industry, are being conducted.

상기와 같은 종래기술의 문제점을 해결하고자, 본 발명은 미세 패턴을 직접 형성할 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄에 특히 적합하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 미세 전극 제조시 발생하는 재료의 재처리 문제점을 원천적으로 해결할 수 있는 인쇄용 페이스트 조성물 및 상기 페이스트 조성물을 이용한 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.In order to solve the problems of the prior art as described above, the present invention is particularly suitable for gravure offset printing that can directly form a fine pattern, when manufacturing the electrode pattern of the plasma display panel using a conventional photolithography method or the fine electrode for shielding electromagnetic waves It is an object of the present invention to provide a printing paste composition and an electrode forming method of an electromagnetic shielding mesh filter using the paste composition which can fundamentally solve a problem of reprocessing of materials.

삭제delete

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 인쇄용 페이스트 조성물에 있어서,In order to achieve the above object, the present invention provides a printing paste composition,

a) ⅰ) 메타크릴산 20 내지 50 중량%, ⅱ) 벤질메타크릴레이트 10 내지 30 중량%, ⅲ) 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트 또는 메틸(메타)아크릴레이트 20 내지 60 중량%를 용매하에서 중합하여 제조된 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000인 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%;a) 20 to 50% by weight of methacrylic acid, ii) 10 to 30% by weight of benzyl methacrylate, and v) 20 to 60% by weight of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate or methyl (meth) acrylate. 5 to 30% by weight of an acrylate polymer resin having a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000 prepared by polymerization in a solvent;

b) 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 우레탄 결합을 포함하는 디아크릴레이트 유도체, 및 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중결합을 갖는 가교성 올리고머 5 내지 30 중량%;b) a crosslinkable oligomer having at least two or more ethylenic double bonds selected from the group consisting of trimethylpropanetriacrylate, a diacrylate derivative containing a urethane bond, and dipentaerythritol polyacrylate; weight%;

c) 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2‘-디에톡시아세토페논, 2,2’-디부톡시아세토페논로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 광중합개시제 0.1 내지 5 중량%; 및 c) 0.1 to 5% by weight of photoinitiator selected from the group consisting of 2,2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2,2'-diethoxyacetophenone, and 2,2'-dibutoxyacetophenone ; And

d) 은 분말 50 내지 85 중량%d) 50-85 wt% silver powder

를 포함하는 것을 특징으로 하는 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물을 제공한다.It provides a printing paste composition used to manufacture a mesh filter for shielding electromagnetic waves using a gravure offset printing method comprising a.

삭제delete

또한 본 발명은 상기 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방 법을 제공한다.In another aspect, the present invention provides a method for forming an electrode of the mesh filter for electromagnetic shielding comprising the step of forming a pattern by a gravure offset printing method using the printing paste composition.

이하 본 발명을 상세하게 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail.

본 발명자들은 각각의 인쇄공정 절차에 요구되는 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄용 페이스트 조성물을 제조하고자 오프(off) 공정에서 요구되는 조성물의 적절한 탄성특성 발휘를 위해 적절한 분자량의 아크릴레이트 고분자를 사용하고, 셋(set) 공정시 발생하는 블랑킷의 팽윤현상을 최소화하기 위해 인쇄용 페이스트 조성물 중 존재하는 유기용제를 대신하여 가교성 올리고머를 사용한 결과, 그라비아 옵셋 인쇄법에 특히 적합한 인쇄용 페이스트 조성물을 제조할 수 있음을 확인하고, 이를 토대로 본 발명을 완성하게 되었다.The inventors of the present invention have shown that acrylates of the appropriate molecular weight can be used to demonstrate the appropriate elastic properties of the composition required in the off process in order to produce a gravure offset printing paste composition that can meet the various required physical properties of the composition required for each printing process procedure. Printing paste composition which is particularly suitable for gravure offset printing as a result of using a polymer and using a crosslinkable oligomer in place of the organic solvent present in the printing paste composition in order to minimize the swelling of the blanket generated during the set process. It was confirmed that can be prepared, based on this it was to complete the present invention.

본 발명의 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물은 a) ⅰ) 메타크릴산 20 내지 50 중량%, ⅱ) 벤질메타크릴레이트 10 내지 30 중량%, ⅲ) 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 또는 메틸(메타)아크릴레이트 20 내지 60 중량%를 용매하에서 중합하여 제조된 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000인 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%;
b) 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 우레탄 결합을 포함하는 디아크릴레이트 유도체, 및 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중결합을 갖는 가교성 올리고머 5 내지 30 중량%;
c) 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2‘-디에톡시아세토페논, 2,2’-디부톡시아세토페논으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 광중합개시제 0.1 내지 5 중량%; 및
d) 은 분말 50 내지 85 중량%
를 포함하는 것을 특징으로 하는 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물를 포함하는 것을 특징으로 한다.
The printing paste composition used to prepare the electromagnetic wave shielding mesh filter using the gravure offset printing method of the present invention comprises a) iii) 20 to 50% by weight of methacrylic acid, ii) 10 to 30% by weight of benzyl methacrylate, 5 to 30% by weight of an acrylate polymer resin having a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000 prepared by polymerizing 20 to 60% by weight of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate or methyl (meth) acrylate in a solvent;
b) a crosslinkable oligomer having at least two or more ethylenic double bonds selected from the group consisting of trimethylpropanetriacrylate, a diacrylate derivative containing a urethane bond, and dipentaerythritol polyacrylate; weight%;
c) 0.1 to 5% by weight of photoinitiator selected from the group consisting of 2,2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2,2'-diethoxyacetophenone and 2,2'-dibutoxyacetophenone ; And
d) 50-85 wt% silver powder
Characterized in that it comprises a printing paste composition used to prepare a mesh filter for shielding electromagnetic waves using a gravure offset printing method comprising a.

본 발명에 사용되는 상기 a)의 아크릴레이트 고분자 수지는 통상의 아크릴레이트 고분자 수지를 사용할 수 있음은 물론이며, 바람직하게 본 발명에서 사용하는 아크릴레이트 고분자 수지는 불포화 카르본산 단량체, 방향족 단량체, 및 기타 단량체를 중합하여 제조할 수 있다.The acrylate polymer resin of a) used in the present invention can be used a common acrylate polymer resin, of course, preferably the acrylate polymer resin used in the present invention is unsaturated carboxylic acid monomer, aromatic monomer, and other It can be prepared by polymerizing monomers.

상기 불포화 카르본산 단량체는 고분자 내의 수소 결합을 통해 고분자의 탄성을 증가시키는 작용을 하며, 구체적으로 메타크릴산을 사용할 수 있다.The unsaturated carboxylic acid monomer acts to increase the elasticity of the polymer through hydrogen bonding in the polymer, specifically, methacrylic acid may be used.

상기 불포화 카르본산 단량체는 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 총 단량체에 20 내지 50 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 그 함량이 상기 범위 내인 경우 고분자의 탄성 특성, 중합시 겔화의 방지, 및 중합도 조절을 모두 만족시킬 수 있어 좋다.The unsaturated carboxylic acid monomer is preferably included in 20 to 50% by weight in the total monomer used in the production of the acrylate polymer resin, when the content is in the above range, the elastic properties of the polymer, prevention of gelation during polymerization, and control of the degree of polymerization It is good to be able to satisfy all.

상기 방향족 단량체는 기판과의 밀착성과 안정적인 패턴을 형성시키는 작용을 하며, 구체적으로 벤질메타크릴레이트를 사용할 수 있다. The aromatic monomer functions to form adhesion with the substrate and a stable pattern, and specifically, benzyl methacrylate may be used.

상기 방향족 단량체는 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 총 단량체에 10 내지 30 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 15 내지 20 중량%로 포함되는 것이 좋다. 그 함량이 상기 범위 내인 경우 기판과의 밀착성, 패턴의 접착력, 형성된 패턴의 직진성, 안정적인 패턴 구현, 소성 공정시 유기물의 용이한 제거를 모두 만족시킬 수 있어 좋다.The aromatic monomer is preferably included in 10 to 30% by weight, more preferably 15 to 20% by weight in the total monomer used in the production of the acrylate polymer resin. When the content is within the above range, the adhesion to the substrate, the adhesion of the pattern, the linearity of the formed pattern, the stable pattern can be implemented, it can be satisfactorily all the organic matters removed during the firing process.

상기 불포화 카르본산 단량체와 방향족 단량체 이외에 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 기타 단량체는 고분자의 유리전이온도와 극성을 조절하는 작용을 한다.In addition to the unsaturated carboxylic acid monomer and the aromatic monomer, other monomers used in the production of the acrylate polymer resin serve to control the glass transition temperature and polarity of the polymer.

상기 기타 단량체는 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 메틸(메타)아크릴레이트를 사용할 수 있으며, 그 함량은 고분자의 유리전이온도, 내열성, 기재와의 친밀성 등을 고려하여 아크릴레이트 고분자 수지 제조시 사용되는 총 단량체에 20 내지 60 중량%로 포함되는 것이 좋다.The other monomers may be used 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, the content of which is in consideration of the glass transition temperature of the polymer, heat resistance, intimacy with the substrate, etc. It is preferably included in 20 to 60% by weight in the total monomers used in the preparation.

상기와 같은 단량체들을 중합하여 제조되는 아크릴레이트 고분자 수지는 불포화 카르본산 단량체, 방향족 단량체, 및 기타 단량체의 겔화를 방지하고, 옵셋 인쇄공정시 적절한 휘발성을 제어할 수 있도록 용매하에서 중합하여 제조할 수 있다.The acrylate polymer resin prepared by polymerizing such monomers may be prepared by polymerizing in a solvent to prevent gelation of unsaturated carboxylic acid monomers, aromatic monomers, and other monomers, and to control proper volatility during the offset printing process. .

상기 용매로는 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르프로피오네이트, 에틸에테르프로피오네이트, 터핀올, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디메틸아미노 포름알데히드, 메틸에틸케톤, 부틸카비톨, 부틸카비톨아세테이트, 감마부티로락톤, 또는 에틸락테이트 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The solvent is propylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether propionate, ethyl ether propionate, terpinol, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethylamino formaldehyde, methyl ethyl ketone , Butyl carbitol, butyl carbitol acetate, gamma butyrolactone or ethyl lactate may be used alone or in combination of two or more thereof.

상기와 같은 단량체들을 용매의 존재하에서 중합하여 얻어진 상기 아크릴레이트 고분자 수지는 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000인 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 20,000 내지 50,000인 것이 좋다. 중량평균분자량이 상기 범위 내인 경우 고분자 수지의 유리전이온도가 낮아 고분자의 유동특성이 증가하여 오프 공정시 그라비아 홈으로부터 블랑킷으로의 패턴 전달이 어려울 수 있는 문제점과 고분자 수지의 과다한 탄성 특성으로 인해 그라비아 홈으로의 조성물 투입이 어렵다는 문제점을 동시에 해결할 수 있다.The acrylate polymer resin obtained by polymerizing such monomers in the presence of a solvent preferably has a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000, more preferably 20,000 to 50,000. If the weight average molecular weight is within the above range, the glass transition temperature of the polymer resin is low, which increases the flow characteristics of the polymer, which makes it difficult to transfer the pattern from the gravure groove to the blanket during the off process and the gravure due to the excessive elasticity of the polymer resin. At the same time, it is possible to solve the problem that it is difficult to add the composition into the groove.

상기 아크릴레이트 고분자 수지는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 5 내 지 30 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 5 중량% 미만일 경우에는 조성물의 탄성 감소로 인해 오프 공정시 문제가 발생할 수 있는 가능성이 있으며, 30 중량%를 초과할 경우에는 형성된 패턴의 전기저항이 증가하게 된다는 문제점이 있다.The acrylate polymer resin is preferably contained in 5 to 30% by weight in the printing paste composition of the present invention. When the content is less than 5% by weight, there is a possibility that a problem may occur during the off process due to the decrease in elasticity of the composition, and when the content exceeds 30% by weight, there is a problem that the electrical resistance of the formed pattern is increased.

본 발명에 사용되는 상기 b)의 가교성 올리고머는 적어도 2 개 이상의 에틸렌계 이중 결합을 갖는 것이 바람직하며, 구체적으로 1,4-부탄디올디아크릴레이트, 1,3-부틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 디펜타에리스리톨디아크릴레이트, 솔비톨트리아크릴레이트, 비스페놀 A 디아크릴레이트 유도체, 우레탄 결합을 포함하는 디아크릴레이트 유도체, 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트, 또는 이들의 메타크릴레이트류 등을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The crosslinkable oligomer of b) used in the present invention preferably has at least two or more ethylenic double bonds, specifically 1,4-butanediol diacrylate, 1,3-butylene glycol diacrylate, ethylene Glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, triethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, dipentaerythritol diacrylate, sorbitol triacrylate, bisphenol A diacrylate derivative, diacryl containing urethane bonds A late derivative, trimethyl propane triacrylate, dipentaerythritol polyacrylate, these methacrylates, etc. can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 가교성 올리고머는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 5 내지 30 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 5 내지 15 중량%로 포함되는 것이다. 상기 함량이 5 중량% 미만일 경우에는 인쇄용 페이스트 조성물의 점도 증가로 인해 패턴 구현이 어렵다는 문제점이 있으며, 30 중량%를 초과할 경우에는 인쇄용 페이스트 조성물의 탄성 감소로 인해 off 특성이 떨어지고, 패턴의 직진성이 나빠진다는 문제점이 있다.The crosslinkable oligomer is preferably included in the printing paste composition of the present invention at 5 to 30% by weight, more preferably at 5 to 15% by weight. If the content is less than 5% by weight, there is a problem in that the pattern is difficult to implement due to an increase in the viscosity of the printing paste composition. When the content is more than 30% by weight, the off characteristic is decreased due to the decrease in elasticity of the printing paste composition, and the straightness of the pattern is reduced. There is a problem of worsening.

본 발명에 사용되는 상기 c)의 광중합 개시제는 트리아진계, 벤조인, 아세토페논계, 이미다졸계, 또는 트산톤계 등의 화합물을 1 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다. 구체적으로, 상기 광중합개시제는 2,4-비스트리클로로메틸-6-p-메톡시스티릴-s-트리아진, 2-p-메톡시스티릴-4,6-비스트리클로로메틸-s-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-6-트리아진, 2,4-트리클로로메틸-4-메틸나프틸-6-트리아진, 벤조페논, p-(디에틸아미노)벤조페논, 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2'-디에톡시아세토페논, 2,2'-디부톡시아세토페논, 2-히드록시-2-메틸프로리오페논, p-t-부틸트리클로로아세토페논, 2-메틸티오크산톤, 2-이소부틸티오크산톤, 2-도데실티오크산톤, 2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2,2'-비스-2-클로로페닐-4,5,4',5'-테트라페닐-2'-1,2'-비이미다졸, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐 이미다졸 이량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디(m-메톡시페닐) 이미다졸 이량체, 2-(o-플루오르페닐)-4,5-디페닐 이미다졸 이량체, 2-(o-클로로페닐)-4,5-디페닐 이미다졸 이량체, 2-(o-메톡시페닐)-4,5-디페닐 이미다졸 이량체, 2,4-디(p-메톡시페닐)-5-페닐 이미다졸 이량체, 2-(2,4-디메톡시페닐)-4,5-디페닐 이미다졸 이량체, 또는 2-(p-메틸머캅토페닐)-4,5-디페닐 이미다졸 이량체 등의 화합물을 단독 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.The photopolymerization initiator of c) used in the present invention may be used by mixing one or more kinds of compounds such as triazine, benzoin, acetophenone, imidazole or tanthone. Specifically, the photopolymerization initiator is 2,4-bistrichloromethyl-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2-p-methoxystyryl-4,6-bistrichloromethyl-s- Triazine, 2,4-trichloromethyl-6-triazine, 2,4-trichloromethyl-4-methylnaphthyl-6-triazine, benzophenone, p- (diethylamino) benzophenone, 2, 2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2,2'-diethoxyacetophenone, 2,2'-dibutoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methylproriophenone, pt-butyltrichloroacetophenone , 2-methyl thioxanthone, 2-isobutyl thioxanthone, 2-dodecyl thioxanthone, 2,4-dimethyl thioxanthone, 2,4-diethyl thioxanthone, 2,2'-bis-2 -Chlorophenyl-4,5,4 ', 5'-tetraphenyl-2'-1,2'-biimidazole, 2- (o-chlorophenyl) -4,5-diphenyl imidazole dimer, 2 -(o-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) imidazole dimer, 2- (o-fluorophenyl) -4,5-diphenyl imidazole dimer, 2- (o- Chlorophenyl) -4,5-diphenyl di Dazole dimer, 2- (o-methoxyphenyl) -4,5-diphenyl imidazole dimer, 2,4-di (p-methoxyphenyl) -5-phenyl imidazole dimer, 2- (2 Compounds such as 4-dimethoxyphenyl) -4,5-diphenyl imidazole dimer or 2- (p-methylmercaptophenyl) -4,5-diphenyl imidazole dimer alone or two or more It can be mixed and used.

상기 광중합 개시제는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 0.1 내지 5 중량%로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 3 중량%로 포함되는 것이다. 상기 함량이 0.1 중량% 미만일 경우에는 형성된 패턴의 접착력이 저하된다는 문제점이 있으며, 5 중량%를 초과할 경우에는 광중합 개시제의 용해성에 문제가 생길 수 있다는 문제점이 있다.The photopolymerization initiator is preferably included in the printing paste composition of the present invention in 0.1 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 3% by weight. If the content is less than 0.1% by weight, there is a problem in that the adhesion of the formed pattern is lowered. When the content is more than 5% by weight, there is a problem in that solubility of the photopolymerization initiator may occur.

본 발명에 사용되는 상기 d)의 금속 분말은 PDP 전극형성에 사용될 수 있는 금속 분말이나 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극에 사용될 수 있는 금속 분말이면 특별히 한정되지 않으며, 구체적인 예로서 은, 구리, 니켈 또는 이들을 포함하는 합금 등을 사용할 수 있다.The metal powder of d) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a metal powder that can be used for forming a PDP electrode or a metal powder that can be used for an electrode of an electromagnetic shielding mesh filter, and specific examples include silver, copper, nickel or Alloys containing these and the like can be used.

상기 금속 분말은 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 50 내지 85 중량%로 포함되는 것이 바람직하다. 상기 함량이 50 중량% 미만일 경우에는 형성된 패턴의 전기저항 증가로 인해 요구되는 전극으로서의 성능이나 전자파차폐 성능이 저하될 수 있다는 문제점이 있으며, 85 중량%를 초과할 경우에는 인쇄용 페이스트 조성물이 점도가 상승하고 분산이 어려워져 인쇄특성이 저하될 수 있다는 문제점이 있다.The metal powder is preferably included in the printing paste composition of the present invention in 50 to 85% by weight. If the content is less than 50% by weight, there is a problem that the performance as a required electrode or the electromagnetic shielding performance may be lowered due to an increase in the electrical resistance of the formed pattern. When the content exceeds 85% by weight, the viscosity of the printing paste composition is increased. And it is difficult to disperse, there is a problem that the printing characteristics can be reduced.

상기와 같은 성분으로 이루어지는 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물은 필요에 따라 선택적으로 금속 분말의 분산을 위한 분산제, 명암(contrast) 조절을 위한 블랙 안료, 소성시 글라스와의 접착력 증가를 위한 유리 파우더(glass powder) 등을 더욱 포함할 수 있으며, 그 함량은 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물에 대하여 0.01 내지 10 중량%를 사용하는 것이 좋으며, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 3 중량%를 사용하는 것이 좋다.The printing paste composition of the present invention comprising the above components may optionally have a dispersant for dispersing the metal powder, a black pigment for controlling contrast, and a glass powder for increasing adhesion to glass during firing. ) May be further included, and the content thereof is preferably used in an amount of 0.01 to 10% by weight, and more preferably 0.1 to 3% by weight, based on the printing paste composition of the present invention.

삭제delete

또한 본 발명은 상기 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법을 제공하는 바, 본 발명의 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법은 인쇄용 페이스트를 사용하여 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극을 형성하는 방법에 있어서, 상기 통상적인 페이스트 조성물을 대신하여 상기 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물을 사용하고, 그라비아 옵셋 인쇄방법을 채택함에 특징이 있으며, 기타 공지의 방법을 공정을 수반하여 전자파 차폐용 메쉬 필터 전극을 형성할 수 있음은 물론이다.In another aspect, the present invention provides a method for forming an electrode of the electromagnetic wave shielding mesh filter comprising the step of forming a pattern by a gravure offset printing method using the printing paste composition, the electrode forming method of the electromagnetic wave shielding mesh filter of the present invention A method of forming an electrode of an electromagnetic shielding mesh filter using silver printing paste, the printing paste composition of the present invention is used in place of the conventional paste composition, and a gravure offset printing method is adopted. It is a matter of course that the mesh filter electrode for electromagnetic wave shielding can be formed with other known methods.

상기 본 발명의 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 제조방법은 인쇄특성이 우수하며, 형성된 패턴의 직진성 및 안정성이 우수하며, 특히 직접인쇄 방식을 취하기 때문에 포토리소그라피법을 이용하는 것보다 경제성이 현저히 향상되는 장점이 있다.The manufacturing method of the electromagnetic wave shielding mesh filter using the printing paste composition of the present invention is excellent in printing characteristics, excellent in straightness and stability of the formed pattern, and in particular, since it takes a direct printing method, it is more economical than using the photolithography method. There is a significant improvement.

이하, 본 발명의 이해를 돕기 위하여 바람직한 실시예를 제시하나, 하기 실시예는 본 발명을 예시하는 것일 뿐 본 발명의 범위가 하기 실시예에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, preferred examples are provided to help understanding of the present invention, but the following examples are merely to illustrate the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following examples.

[실시예]EXAMPLE

실시예 1Example 1

아크릴레이트 고분자 수지로 메타크릴산(MA) : 벤질메타크릴레이트(BM) : 2- 히드록시에틸(메타)아크릴레이트(2-HEMA) : 메틸(메타)아크릴레이트(MMA) = 30 : 20 : 10 : 40의 중량비율로 중합된 고분자 수지(중량평균분자량 25,000) 15 중량%, 가교성 올리고머로 M310(미원상사 제공) : DPHA(일본화약 제공) : U-108A(신나카무라화학 제공) = 1 : 2 : 1의 중량비로 혼합된 가교성 올리고머 10 중량%, 광중합 개시제로 I-907(시바스페셜케미칼 제공) 2 중량%, 금속 분말로 은 71 중량%, 및 분산제로 아민기를 포함하는 유기분산제 2 중량%를 상온에서 혼합, 교반하고, 최종적으로 3-롤(roll) 밀을 이용하여 원하는 인쇄용 페이스트 조성물을 제조하였다.Methacrylic acid (MA): benzyl methacrylate (BM): 2-hydroxyethyl (meth) acrylate (2-HEMA): methyl (meth) acrylate (MMA) = 30: 20 15% by weight of polymer resin (weight average molecular weight 25,000) polymerized at a weight ratio of 10:40, M310 (provided by Miwon Corporation) as a crosslinking oligomer: DPHA (provided by Nippon Kayaku): U-108A (provided by Shinnakamura Chemical) = 1 : 10% by weight of crosslinkable oligomer mixed at a weight ratio of 2: 1, 2% by weight of I-907 (provided by Ciba Special Chemical) as a photopolymerization initiator, 71% by weight of silver as metal powder, and an organic dispersant comprising an amine group as a dispersant 2 The wt% was mixed and stirred at room temperature, and finally a desired printing paste composition was prepared using a 3-roll mill.

실시예 2∼3 및 비교예 1∼2Examples 2-3 and Comparative Examples 1-2

상기 실시예 1에서 하기 표 1에 나타낸 조성비로 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 실시하여 인쇄용 페이스트 조성물을 제조하였다.Except for using the composition ratio shown in Table 1 in Example 1 was carried out in the same manner as in Example 1 to prepare a printing paste composition.

하기 표 1의 단위는 중량%이다.The unit in Table 1 below is weight percent.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 아크릴레이트 고분자 수지Acrylate polymer resin 1515 1010 1414 2222 -- 가교성 올리고머Crosslinkable oligomer 1010 1515 99 33 2525 I-907I-907 22 22 44 22 22 silver 7171 7171 7171 7171 7171 분산제Dispersant 22 22 22 22 22

상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 또는 2에서 제조한 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄를 실시하여 인쇄특성, 최소선폭, 및 패턴의 직진성을 평가하고, 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.Gravure offset printing was performed using the printing paste compositions prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 or 2 to evaluate printing characteristics, minimum line width, and straightness of the pattern, and the results are shown in Table 2 below. .

상기 그라비아 옵셋 인쇄는 상기 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 또는 2에서 제조한 인쇄용 페이스트 조성물을 각각 그라비아 판에 도포한 후, 블레이드를 이용하여 상기 조성물들을 그라비아 판에 균일하게 도포한 다음, 블랑킷을 이용하여 그라비아 판의 조성물을 전이시켰다(off 공정). 그 다음, 블랑킷에 전이된 패턴을 UV 램프를 이용하여 1차 경화시킨 후, 블랑킷이 전이된 패턴을 기판이 전이시켰다(셋 공정). 상기 기판에 전이된 패턴을 UV 램프를 이용하여 2차 경화시키는 공정으로 실시하였다.In the gravure offset printing, the printing paste compositions prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 or 2 are applied to the gravure plate, respectively, and then the compositions are uniformly applied to the gravure plate using a blade, followed by a blanket The composition of the gravure plate was transferred (off process) using. Then, the pattern transferred to the blanket was first cured using a UV lamp, and then the substrate was transferred to the pattern transferred to the blanket (set process). The pattern transferred to the substrate was subjected to a second curing step using a UV lamp.

또한, 인쇄특성 평가는 셋(set) 공정시 기판에 전이되지 않고 블랑킷에 남아있는 조성물 수준으로 광학현미경으로 관찰하여 평가하였으며, 셋 공정시 블랑킷에 잔존 인쇄 조성물 없이 우수한 경우를 ○로, 셋 공정시 블랑킷에 인쇄 조성물이 보통인 경우를 △로, 셋 공정시 블랑킷에 인쇄 조성물 과량으로 잔존하며 기판에 패턴 전이 불가능한 경우를 × 로 나타내었다. 최소선폭은 그라비아 옵셋 인쇄법을 통해 형성 가능한 패턴의 최소 크기를 측정하였으며, 크기가 작을수록 좋다. 또한, 패턴직진성은 인쇄 후 기판에 형성된 패턴의 직진성 정도로 광학 현미경으로 관찰하였으며, 패턴의 직진성이 우수한 경우 "양호", 불량한 경우 "불량"으로 나타내었다.In addition, the evaluation of the printing characteristics was evaluated by observing with an optical microscope at the level of the composition remaining on the blanket without transferring to the substrate during the set-set process. The case where the printing composition is usually on the blanket during the process is represented by Δ, and the case where the printing composition is excessively left on the blanket during the three process and the pattern transfer is not possible on the substrate are represented by ×. The minimum line width measured the minimum size of the pattern that can be formed by gravure offset printing. The smaller the size, the better. In addition, the pattern straightness was observed with an optical microscope to the degree of the straightness of the pattern formed on the substrate after printing, it was shown as "good" if the pattern is excellent, and "bad" if it is poor.

구분division 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 비교예 1Comparative Example 1 비교예 2Comparative Example 2 인쇄특성Printing characteristics ×× 최소선폭Line width 15 ㎛15 μm 20 ㎛20 μm 20 ㎛20 μm -- 100 ㎛100 μm 패턴직진성Pattern Straightness 양호Good 양호Good 양호Good -- 불량Bad

상기 표 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명에 따른 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법에 의해 패턴을 형성한 실시예 1 내지 3은 비교예 1 및 비교예 2와 비교하여 인쇄특성이 우수하고, 최소선폭이 20 ㎛ 이하로 좁으며, 패턴직진성이 우수함을 확인할 수 있었다. 상기에서 비교예 1의 경우 인쇄가 되지 않아 패턴이 형성되지 못하였다.As shown in Table 2, Examples 1 to 3, the pattern was formed by the gravure offset printing method using the printing paste composition according to the present invention is excellent in printing characteristics compared to Comparative Example 1 and Comparative Example 2, The minimum line width was narrow to 20 μm or less, and it was confirmed that the pattern straightness was excellent. In the case of Comparative Example 1, the printing was not performed, and thus the pattern was not formed.

본 발명에 따른 인쇄용 페이스트 조성물은 미세 패턴을 직접 형성할 수 있는 그라비아 옵셋 인쇄에 특히 적합하며, 종래 포토리소그라피 방법을 이용한 플라즈마 디스플레이 패널의 전극 패턴이나 전자파 차폐용 미세 전극 제조시 발생하는 재료의 재처리 문제점을 원천적으로 해결할 수 있으며, 동시에 적절한 옵셋 인쇄 특성 발휘를 위하여 각각이 인쇄공정 절차에 요구되는 페이스트 조성물의 다양한 요구 물성을 충족시킬 수 있는 효과가 있다.The printing paste composition according to the present invention is particularly suitable for gravure offset printing capable of directly forming a fine pattern, and reprocessing of materials generated when manufacturing an electrode pattern or an electromagnetic shielding fine electrode of a plasma display panel using a conventional photolithography method. The problem can be solved at the source, and at the same time, in order to exhibit appropriate offset printing characteristics, there is an effect that each can satisfy various requirements of the paste composition required for the printing process procedure.

Claims (12)

a) ⅰ) 메타크릴산 20 내지 50 중량%, ⅱ) 벤질메타크릴레이트 10 내지 30 중량%, ⅲ) 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 또는 메틸(메타)아크릴레이트 20 내지 60 중량%를 용매하에서 중합하여 제조된 중량평균분자량이 10,000 내지 100,000인 아크릴레이트 고분자 수지 5 내지 30 중량%;a) 20 to 50% by weight of methacrylic acid, ii) 10 to 30% by weight of benzyl methacrylate, i) 20 to 60% by weight of 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, or methyl (meth) acrylate 5 to 30% by weight of an acrylate polymer resin having a weight average molecular weight of 10,000 to 100,000 prepared by polymerization in a solvent; b) 트리메틸프로판트리아크릴레이트, 우레탄 결합을 포함하는 디아크릴레이트 유도체, 및 디펜타에리스리톨폴리아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 적어도 2개 이상의 에틸렌계 이중결합을 갖는 가교성 올리고머 5 내지 30 중량%;b) a crosslinkable oligomer having at least two or more ethylenic double bonds selected from the group consisting of trimethylpropanetriacrylate, a diacrylate derivative containing a urethane bond, and dipentaerythritol polyacrylate; weight%; c) 2,2-디클로로-4-페녹시아세토페논, 2,2‘-디에톡시아세토페논, 2,2’-디부톡시아세토페논으로 이루어지는 군으로부터 1 종 이상 선택되는 광중합개시제 0.1 내지 5 중량%; 및 c) 0.1 to 5% by weight of photoinitiator selected from the group consisting of 2,2-dichloro-4-phenoxyacetophenone, 2,2'-diethoxyacetophenone and 2,2'-dibutoxyacetophenone ; And d) 은 분말 50 내지 85 중량%d) 50-85 wt% silver powder 를 포함하는 것을 특징으로 하는 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물.Printing paste composition used to prepare a mesh filter for electromagnetic shielding using a gravure offset printing method comprising a. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 인쇄용 페이스트 조성물이 분산제, 블랙 안료, 및 유리 파우더(glass powder)로 이루어지는 첨가제 0.01 내지 10 중량%를 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 그라비아 옵셋 인쇄법을 이용하여 전자파 차폐용 메쉬필터를 제조하는데 사용되는 인쇄용 페이스트 조성물.The printing paste composition is used to prepare a mesh filter for electromagnetic shielding using a gravure offset printing method, characterized in that it further comprises 0.01 to 10% by weight of an additive consisting of a dispersant, a black pigment, and a glass powder. Printing paste composition. 삭제delete 제1항 또는 제10항 기재의 인쇄용 페이스트 조성물을 이용하여 그라비아 옵셋 인쇄법으로 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 전자파 차폐용 메쉬 필터의 전극형성방법.An electrode forming method of an electromagnetic shielding mesh filter comprising forming a pattern by a gravure offset printing method using the printing paste composition of claim 1.
KR20060036975A 2006-04-25 2006-04-25 Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter KR100898518B1 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20060036975A KR100898518B1 (en) 2006-04-25 2006-04-25 Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter
CN2007800151512A CN101432375B (en) 2006-04-25 2007-04-18 Paste composition for printing
JP2009507578A JP5209606B2 (en) 2006-04-25 2007-04-18 Paste composition for printing
PCT/KR2007/001883 WO2007123324A1 (en) 2006-04-25 2007-04-18 Paste composition for printing
TW096113793A TW200745177A (en) 2006-04-25 2007-04-19 Paste composition for printing

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20060036975A KR100898518B1 (en) 2006-04-25 2006-04-25 Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070105034A KR20070105034A (en) 2007-10-30
KR100898518B1 true KR100898518B1 (en) 2009-05-20

Family

ID=38625193

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR20060036975A KR100898518B1 (en) 2006-04-25 2006-04-25 Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5209606B2 (en)
KR (1) KR100898518B1 (en)
CN (1) CN101432375B (en)
TW (1) TW200745177A (en)
WO (1) WO2007123324A1 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090108781A (en) * 2008-04-14 2009-10-19 주식회사 동진쎄미켐 Black paste composition having conductivity property, filter for shielding electromagnetic interference and display device comprising the same
KR101039523B1 (en) * 2009-07-17 2011-06-08 대한잉크 주식회사 Uv-Curing Ink For Ink-Jet And Method Of Forming The Printed Matter Using The Same
KR101803956B1 (en) * 2010-05-06 2017-12-01 주식회사 동진쎄미켐 Method for preparing copper nanoparticle which is capable of being calcined under atmospheric pressure
JP6121136B2 (en) * 2012-10-31 2017-04-26 セーレン株式会社 Gravure offset printing ink
CN105946382B (en) * 2016-05-12 2018-04-06 上海大学 The method that metallic shield part is prepared using screen printing
KR102510805B1 (en) * 2020-12-29 2023-03-17 애경케미칼주식회사 Photo curable resin composition for 3D printing comprising biomass-derived 1,5-pentamethylenediisocyanate-isocyanurate acrylate

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990063489A (en) * 1997-12-27 1999-07-26 기타지마 요시토시 Photosensitive conductor paste
JP2002129079A (en) * 2000-07-14 2002-05-09 Dainippon Ink & Chem Inc Photogravure ink composition for ultraviolet curable type resist
JP2003100208A (en) * 2001-09-26 2003-04-04 Taiyo Ink Mfg Ltd Formation method of electrode pattern and plasma display panel having the same formed thereupon
KR20070103262A (en) 2006-04-18 2007-10-23 주식회사 동진쎄미켐 Paste composition for printing

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3672105B2 (en) * 1991-09-09 2005-07-13 東レ株式会社 Photosensitive conductive paste
JP3218767B2 (en) * 1992-01-24 2001-10-15 東レ株式会社 Photosensitive conductive paste
JPH05287221A (en) * 1992-02-12 1993-11-02 Toray Ind Inc Photosensitive conductive paste
JP4399891B2 (en) * 1999-04-09 2010-01-20 東レ株式会社 Photosensitive paste and method for producing display member using the same
KR100380556B1 (en) * 2000-06-09 2003-04-18 대주정밀화학 주식회사 Black paste composition for the formation of black layer
JP2002285063A (en) * 2001-03-27 2002-10-03 Dainippon Printing Co Ltd Photo-curable conductor ink, method for forming electrode and electrode pattern
JP3774638B2 (en) * 2001-04-24 2006-05-17 ハリマ化成株式会社 Circuit pattern forming method using inkjet printing method
JP2004277688A (en) * 2003-01-23 2004-10-07 Sumitomo Chem Co Ltd Ink and electromagnetic wave-shielding material
CN1277893C (en) * 2005-07-11 2006-10-04 大连轻工业学院 Photo-curable conductive adhesive and method for making same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990063489A (en) * 1997-12-27 1999-07-26 기타지마 요시토시 Photosensitive conductor paste
JP2002129079A (en) * 2000-07-14 2002-05-09 Dainippon Ink & Chem Inc Photogravure ink composition for ultraviolet curable type resist
JP2003100208A (en) * 2001-09-26 2003-04-04 Taiyo Ink Mfg Ltd Formation method of electrode pattern and plasma display panel having the same formed thereupon
KR20070103262A (en) 2006-04-18 2007-10-23 주식회사 동진쎄미켐 Paste composition for printing

Also Published As

Publication number Publication date
KR20070105034A (en) 2007-10-30
WO2007123324A1 (en) 2007-11-01
CN101432375A (en) 2009-05-13
JP2009535443A (en) 2009-10-01
TW200745177A (en) 2007-12-16
CN101432375B (en) 2013-05-08
JP5209606B2 (en) 2013-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100871075B1 (en) Paste composition for printing
KR101276951B1 (en) Photosensitive electrically conductive paste and electrode pattern
KR100898518B1 (en) Printing paste composition using in gravure off-set printing for making electro wave shielding mash filter
JP5529370B2 (en) Photosensitive resin composition for black resist containing polyfunctional thiol compound, black matrix for color filter using the same, and color filter
KR100903356B1 (en) Photosensitive resin composition and dry film resist using the same
KR101491269B1 (en) Colored photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display
KR100931139B1 (en) Heat resistant black pigment slurry and method for preparing photocurable composition using thereof
KR100791817B1 (en) Photosensitive resin composition
EP1720232A2 (en) Black matrix composition for plasma display panel and plasma display panel
DE69607569T3 (en) USE OF A PHOTO SENSITIVE PASTE, METHOD FOR PRODUCING A PLASMA DISPLAY PANEL, AND PLASMA DISPLAY PANEL WHICH CAN BE PRODUCED BY THIS METHOD
KR101277020B1 (en) Photosensitive conductive paste
KR100791819B1 (en) Photosensitive resin composition
KR100934078B1 (en) Photosensitive paste for offset printing and use thereof
KR20100066912A (en) Photosensitive electrode paste
KR20070095496A (en) Photosensitive resin composition
JP2002008526A (en) Manufacturing method of dielectric layer and barrier forming resin composition element and plasma display panel substrate using the same
JP2002008525A (en) Manufacturing method of dielectric layer and barrier forming resin composition element and plasma display panel substrate using the same
JP2002025434A (en) Manufacturing method of plasma display panel
KR20080090149A (en) A paste for producing pdp electrode
KR20080076026A (en) A paste for electrode comprising al
JP2002025430A (en) Manufacturing method of substrate for plasma display panel

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
A302 Request for accelerated examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
AMND Amendment
B701 Decision to grant
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20130313

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20140401

Year of fee payment: 6

LAPS Lapse due to unpaid annual fee