KR100897546B1 - 기판 세정 장치 - Google Patents
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- H05K3/26—Cleaning or polishing of the conductive pattern
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- H05K2203/07—Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
Claims (13)
- 기판을 세정 처리하는 세정 처리 유닛과;상기 세정 처리 유닛으로 하강 기류를 형성하여 공기를 공급하는 송풍 부재와;상기 송풍 부재로 역류하는 공기의 흐름을 차단하는 차단 부재를 포함하되,상기 송풍 부재는 상부 및 하부가 개방된 팬 하우징과, 상기 팬 하우징의 내측에 설치되며 상기 팬 하우징의 개방된 상부로부터 하부로 공기를 유동시키는 팬을 포함하고,상기 차단 부재는 상기 팬 하우징과 상기 팬 사이의 유격 공간으로 역류하는 공기의 흐름을 차단하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 삭제
- 제 1 항에 있어서,상기 송풍 부재는 상기 팬과 상기 팬 하우징이 내장되는 메인 하우징;을 더 포함하며,상기 차단 부재는 상기 팬에 의해 형성된 하강 기류가 통과하도록 상기 메인 하우징에 형성된 개구부에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 3 항에 있어서,상기 차단 부재는 상기 팬 하우징과 상기 팬 사이의 상기 유격 공간에 대응하는 환형 플레이트로 제공되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 4 항에 있어서,상기 차단 부재의 하면은 오목한 형상의 곡면으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 팬과, 상기 팬이 내장되는 팬 하우징을 가지는 송풍 부재;상기 팬과 상기 팬 하우징 사이의 유격 공간으로 역류하는 공기의 흐름을 차단하는 차단 부재; 및상기 송풍 부재에 의해 송풍되는 공기를 여과하는 필터 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.
- 제 6 항에 있어서,상기 차단 부재는 링 형상의 플레이트로 제공되고, 상기 유격 공간으로의 공기 흐름의 역류를 차단하도록 상기 팬 하우징의 공기가 송풍되는 면에 설치되는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.
- 제 7 항에 있어서,상기 링 형상의 차단 부재의 내측 반경은 상기 팬의 회전 반경에 대응되고,상기 링 형상의 차단 부재의 외측 반경은 상기 팬 하우징의 송풍구의 반경보다 큰 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.
- 제 8 항에 있어서,상기 차단 부재의 하면은 오목한 형상의 곡면으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 팬 필터 유닛.
- 기판이 놓이는 기판 지지 부재;상기 기판 지지 부재에 놓인 기판으로 세정액을 공급하는 약액 공급 부재;상기 기판 지지 부재의 둘레에 배치되며, 상기 기판의 세정 처리에 사용된 세정액을 회수하는 약액 회수 부재; 및상기 기판 지지 부재의 상부에 제공되며, 상기 기판 지지 부재를 향해 하강 기류를 형성하여 공기를 공급하는 팬 필터 유닛을 포함하되,상기 팬 필터 유닛은,팬과, 상기 팬이 내장되는 팬 하우징을 가지는 송풍 부재;상기 팬과 상기 팬 하우징 사이의 유격 공간으로 역류하는 공기의 흐름을 차단하는 차단 부재; 및상기 송풍 부재에 의해 송풍되는 공기를 여과하는 필터 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 10 항에 있어서,상기 차단 부재는 링 형상의 플레이트로 제공되고, 상기 유격 공간으로의 공기 흐름의 역류를 차단하도록 상기 팬 하우징의 공기가 송풍되는 면에 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 11 항에 있어서,상기 링 형상의 차단 부재의 내측 반경은 상기 팬의 회전 반경에 대응되고,상기 링 형상의 차단 부재의 외측 반경은 상기 팬 하우징의 송풍구의 반경보다 큰 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
- 제 12 항에 있어서,상기 차단 부재의 하면은 오목한 형상의 곡면으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 기판 세정 장치.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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KR1020070098074A KR100897546B1 (ko) | 2007-09-28 | 2007-09-28 | 기판 세정 장치 |
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ID=40759429
Family Applications (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR19980019186A (ko) * | 1996-08-29 | 1998-06-05 | 히가시 데쓰로 | 기판 처리시스템(substrate treatment system) |
JP2003069265A (ja) * | 2001-08-27 | 2003-03-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 小型冷却ファン |
KR200402843Y1 (ko) | 2005-09-28 | 2005-12-06 | 김진형 | 환풍장치 |
KR20060027597A (ko) * | 2004-09-23 | 2006-03-28 | 주식회사 케이씨텍 | 기판세정장치 및 기판세정방법 |
-
2007
- 2007-09-28 KR KR1020070098074A patent/KR100897546B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
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KR20060027597A (ko) * | 2004-09-23 | 2006-03-28 | 주식회사 케이씨텍 | 기판세정장치 및 기판세정방법 |
KR200402843Y1 (ko) | 2005-09-28 | 2005-12-06 | 김진형 | 환풍장치 |
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