KR100896124B1 - Curable liquid resin composition and method for producing multilayer body using same - Google Patents

Curable liquid resin composition and method for producing multilayer body using same Download PDF

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Abstract

본 발명은

(A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체,

(B) 수평균 입경이 100 nm 이하이고, 또한 굴절률이 1.50 이상인 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물 입자(이하, 「(B) 금속 산화물 입자」라 함),

(C) (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높은 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(C) 속휘발성 용제」라 함),

(D) (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높고, 또한 (C) 속휘발성 용제와 상용성인 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(D) 지연 휘발성 용제」라 함),

(E) 경화성 화합물,

(F) 열산 발생제

를 함유하고, 또한 (C) 속휘발성 용제의 상대 증발 속도가 (D) 지연 휘발성 용제의 상대 증발 속도보다 큰 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물을 제공한다.

Figure R1020067019026

액상 경화성 수지 조성물, 수산기 함유 불소 함유 중합체

The present invention

(A) a fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in a molecule,

(B) One or two or more metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.50 or more (hereinafter, referred to as "(B) metal oxide particles"),

(C) one or two or more solvents having high solubility in the fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the (A) molecule (hereinafter referred to as "(C) volatile solvent"),

(D) one or two or more solvents having high dispersion stability to the metal oxide particles (B) and compatible with the (C) fast-volatile solvent (hereinafter referred to as "(D) delayed volatile solvent"),

(E) curable compound,

(F) thermal acid generator

And (C) the relative evaporation rate of the fast volatile solvent is greater than the relative evaporation rate of the (D) delayed volatile solvent.

Figure R1020067019026

Liquid curable resin composition, hydroxyl-containing fluorine-containing polymer

Description

액상 경화성 수지 조성물 및 그것을 이용한 적층체의 제조 방법 {CURABLE LIQUID RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER BODY USING SAME}Liquid curable resin composition and manufacturing method of laminated body using same {CURABLE LIQUID RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER BODY USING SAME}

본 발명은 액상 경화성 수지 조성물 및 그것을 이용한 적층체의 제조 방법에 관한 것이고, 특히 2 이상의 층을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있는 액상 경화성 수지 조성물 및 그것을 이용한 적층체의 제조 방법에 관한 것이다. This invention relates to the liquid curable resin composition and the manufacturing method of the laminated body using the same, and especially relates to the liquid curable resin composition which can form two or more layers from one coating film, and the manufacturing method of the laminated body using the same.

현재 멀티미디어의 발달에 따라서 각종 표시 장치(디스플레이 장치)에서 다양한 발전이 보이고 있다. 또한, 각종 표시 장치 중, 특히 휴대용을 중심으로 옥외에서 사용되는 것에서는 그의 시인성(視認性) 향상이 점점 더 중요해지고 있고, 대형 표시 장치에 있어서도, 보다 보기 쉽게 하는 것이 수요자에게서 요구되고 있으며, 이 사항이 그대로 기술 과제로 되었다. According to the development of multimedia, various developments have been made in various display devices (display devices). In addition, among various display devices, especially those that are used outdoors, especially in portable devices, the improvement of visibility thereof becomes more and more important, and even in large display devices, it is required from the consumer to make it easier to see. The matter became a technical task.

종래 표시 장치의 시인성을 향상시키기 위한 한 수단으로서, 저굴절률 재료로 구성되는 반사 방지막을 표시 장치의 기판에 피복하는 것이 행해지고 있고, 반사 방지막을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 불소 화합물의 박막을 증착법에 의해 형성하는 방법이 알려져 있다. 그런데, 최근에는 액정 표시 장치를 중심으로 하여 낮은 비용이면서 또한 대형 표시 장치에 대해서도 반사 방지막을 형성할 수 있는 기술이 요구되고 있다. 그러나, 증착법에 의한 경우에는 대면적의 기판에 대 하여 높은 효율로 균일한 반사 방지막을 형성하는 것이 곤란하고, 또한 진공 장치를 필요로 하기 때문에 비용을 낮추는 것이 곤란하다. As a means for improving the visibility of a conventional display device, an antireflection film made of a low refractive index material is coated on a substrate of the display device. As a method of forming the antireflection film, for example, a thin film of a fluorine compound is deposited. The method of forming by is known. By the way, the technique which can form an anti-reflective film in low cost and large size display apparatus centering on a liquid crystal display device is calculated | required in recent years. However, in the case of the vapor deposition method, it is difficult to form a uniform antireflection film with high efficiency on a large-area substrate, and it is difficult to lower the cost because a vacuum device is required.

이러한 사정 때문에 굴절률이 낮은 불소계 중합체를 유기 용제에 용해시켜 액상 조성물을 제조하고, 이것을 기판의 표면에 도포함으로써 반사 방지막을 형성하는 방법이 검토되었다. 예를 들면, 기판의 표면에 불소화 알킬실란을 도포하는 것이 제안되었다(예를 들면, 특허 문헌 1 및 특허 문헌 2 참조). 또한, 특정 구조를 갖는 불소계 중합체를 도포하는 방법이 제안되었다(예를 들면, 특허 문헌 3 참조).For this reason, a method of forming an antireflection film by dissolving a fluorinated polymer having a low refractive index in an organic solvent to produce a liquid composition and applying it to the surface of a substrate has been studied. For example, it is proposed to apply fluorinated alkylsilane to the surface of a substrate (see Patent Document 1 and Patent Document 2, for example). Moreover, the method of apply | coating the fluoropolymer which has a specific structure was proposed (for example, refer patent document 3).

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 (소)61-40845호 공보 Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 61-40845

특허 문헌 2: 일본 특허 공고 (평)6-98703호 공보 Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-98703

특허 문헌 3: 일본 특허 공개 (평)6-115023호 공보 Patent Document 3: Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-115023

이들 종래의 반사 방지막은 기재 상에 상이한 굴절률의 층, 대전 방지층, 하드 코팅층 등이 형성된 적층체인 경우가 대부분이다. 종래의 제조 방법에서는 기재 상에 각 층을 각각 도포하는 공정을 반복하였다. Most of these conventional antireflection films are laminates in which different refractive index layers, antistatic layers, hard coating layers and the like are formed on a substrate. In the conventional manufacturing method, the process of apply | coating each layer on the base material was repeated.

본 발명은 이상과 같은 상황을 배경으로 하여 이루어진 것이며, 그의 목적은 저굴절률층과 고굴절률층 등의 임의의 연속되는 2층 이상의 층을 효율적으로 제조할 수 있는 액상 경화성 수지 조성물을 제공하는 것에 있다. This invention is made on the background of the above situation, The objective is to provide the liquid curable resin composition which can efficiently manufacture two or more continuous arbitrary layers, such as a low refractive index layer and a high refractive index layer. .

본 발명의 다른 목적은 투명성이 높고, 기재에 대한 밀착성이 크며 또한 우수한 내찰상성(耐擦傷性) 및 먼지 제거성을 갖는 경화막을 제공하는 것에 있다. Another object of the present invention is to provide a cured film having high transparency, large adhesiveness to a substrate, and excellent scratch resistance and dust removal property.

본 발명의 다른 목적은 조성물을 도포하여 얻어지는 하나의 도막으로부터 2 이상의 층을 형성할 수 있는 적층체의 제조 방법 및 그에 의해 얻어지는 적층체를 제공하는 것에 있다. Another object of this invention is to provide the manufacturing method of the laminated body which can form two or more layers from one coating film obtained by apply | coating a composition, and the laminated body obtained by this.

본 발명의 다른 목적은 양호한 반사 방지 효과를 갖는 적층체의 제조 방법 및 그에 의해 얻어지는 적층체를 제공하는 것에 있다. Another object of the present invention is to provide a method for producing a laminate having a good antireflection effect and a laminate obtained thereby.

본 발명의 다른 목적은 기재에 대한 밀착성이 우수하고, 내찰상성이 높은 적층체의 제조 방법 및 그에 의해 얻어지는 적층체를 제공하는 것에 있다. The other object of this invention is to provide the manufacturing method of the laminated body which is excellent in adhesiveness with respect to a base material, and has high scratch resistance, and the laminated body obtained by this.

<발명의 개시><Start of invention>

상기 목적을 달성하기 위해서 본 발명자들은 하나의 도막으로부터 2층 이상의 층 구조를 갖는 경화막을 제공하는 액상 경화성 수지 조성물, 및 2층 이상으로 분리되는 메카니즘을 해명하기 위해 예의 연구를 거듭하여, 특정 구조를 갖는 불소 함유 중합체와 특정 금속 산화물 입자에, 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성 및 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성 및 상대 증발 속도에 의해 2종류로 나누어지는 용제 종류로부터 각각 1종 이상을 선택하여 조합함으로써, 이 액상 경화성 수지 조성물을 도포하여 얻어지는 하나의 도막이 복수층으로 분리되는 것, 및 용제의 종류, 그 밖의 조건을 선택함으로써 어떠한 종류의 금속 산화물 입자라도 복수층으로 분리 가능한 것을 발견하고, 본 발명을 완성시켰다. In order to achieve the above object, the present inventors have made intensive studies to clarify a liquid curable resin composition which provides a cured film having a layer structure of two or more layers from one coating film, and a mechanism that is separated into two or more layers. The fluorine-containing polymer and specific metal oxide particles having at least one selected from the group of solvents divided into two types by the solubility of the fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the molecule, the dispersion stability to the metal oxide particles and the relative evaporation rate By combining the liquid curable resin composition to find that one coating film obtained by applying the liquid curable resin composition is separated into a plurality of layers, and that any kind of metal oxide particles can be separated into a plurality of layers by selecting a kind of solvent and other conditions. The present invention has been completed.

본 발명에 따르면, 이하의 액상 경화성 수지 조성물 등을 제공할 수 있다. According to this invention, the following liquid curable resin compositions etc. can be provided.

1. (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체,1. (A) a fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in a molecule,

(B) 수평균 입경이 100 nm 이하이고, 또한 굴절률이 1.50 이상인 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물 입자(이하, 「(B) 금속 산화물 입자」라 함),(B) One or two or more metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.50 or more (hereinafter, referred to as "(B) metal oxide particles"),

(C) (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높은 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(C) 속휘발성 용제」라 함),(C) one or two or more solvents having high solubility in the fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the (A) molecule (hereinafter referred to as "(C) volatile solvent"),

(D) (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높고, 또한 (C) 속휘발성 용제와 상용성인 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(D) 지연 휘발성 용제」라 함),(D) one or two or more solvents having high dispersion stability to the metal oxide particles (B) and compatible with the (C) fast-volatile solvent (hereinafter referred to as "(D) delayed volatile solvent"),

(E) 경화성 화합물,(E) curable compound,

(F) 열산 발생제(F) thermal acid generator

를 함유하고, 또한 (C) 속휘발성 용제의 상대 증발 속도가 (D) 지연 휘발성 용제의 상대 증발 속도보다 큰 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물. And (C) the relative evaporation rate of the rapid volatile solvent is greater than the relative evaporation rate of the (D) delayed volatile solvent.

2. (C) 속휘발성 용제가 (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 낮은 1종 또는 2종 이상의 용제이고, (D) 지연 휘발성 용제가 (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 낮은 1종 또는 2종 이상의 용제인 것을 특징으로 하는 1에 기재된 액상 경화성 수지 조성물. 2. (C) The fast volatile solvent is (B) one or two or more solvents having low dispersion stability to the metal oxide particles, and (D) the delayed volatile solvent is (A) for the fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the molecule. It is 1 type or 2 or more types of solvents with low solubility, The liquid curable resin composition of 1 characterized by the above-mentioned.

3. (B) 금속 산화물 입자가 산화티탄, 산화지르코늄, 안티몬 함유 산화주석, 주석 함유 산화인듐, 산화알루미늄, 산화세륨, 산화아연, 알루미늄 함유 산화아연, 산화주석, 안티몬 함유 산화아연 및 인듐 함유 산화아연, 인 함유 산화주석으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물을 주성분으로 하는 입자인 것을 특징으로 하는 1 또는 2에 기재된 액상 경화성 수지 조성물. 3. (B) Metal oxide particles include titanium oxide, zirconium oxide, antimony-containing tin oxide, tin-containing indium oxide, aluminum oxide, cerium oxide, zinc oxide, aluminum-containing zinc oxide, tin oxide, antimony-containing zinc oxide and indium-containing oxide The liquid curable resin composition as described in 1 or 2 which is a particle | grain which has 1 type, or 2 or more types of metal oxides chosen from zinc and phosphorus containing tin oxide as a main component.

4. (B) 금속 산화물 입자가 산화티탄을 주성분으로 하는 입자인 것을 특징으로 하는 3에 기재된 액상 경화성 수지 조성물. 4. (B) The liquid curable resin composition according to 3, wherein the metal oxide particles are particles containing titanium oxide as a main component.

5. (B) 금속 산화물 입자가 다층 구조를 갖는 금속 산화물 입자인 것을 특징으로 하는 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물. 5. (B) The metal oxide particle is a metal oxide particle which has a multilayered structure, The liquid curable resin composition in any one of 1-4 characterized by the above-mentioned.

6. 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지고, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막. 6. Cured film obtained by hardening | curing the liquid curable resin composition in any one of 1-5, and having a multilayered structure of two or more layers.

7. 상기 다층 구조를 구성하는 각 층이 (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 또는 (B) 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이며, 한층 이상이 (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층인 것을 특징으로 하는 6에 기재된 경화막. 7. Each layer constituting the multilayer structure is a layer in which (B) metal oxide particles are present at a high density, or a layer in which (B) metal oxide particles are substantially not present, and at least one layer is (B) metal oxide particles in a high density. It is a layer which exists with the cured film of 6 characterized by the above-mentioned.

8. 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물을 가열하거나 또는 방사선을 조사함으로써 경화시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 경화막의 제조 방법. 8. It has the process of hardening by heating the liquid curable resin composition in any one of 1-5, or irradiating a radiation, The manufacturing method of the cured film characterized by the above-mentioned.

9. 기재 상 또는 기재 상에 형성된 층 상에 1 내지 5 중 어느 한 항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, 9. Applying the liquid curable resin composition in any one of 1-5 on the base material or the layer formed on the base material, and form a coating film,

이 하나의 도막으로부터 용매를 증발시킴으로써 2 이상의 층을 형성하는 것을 특징으로 하는, 기재와 그 위에 다층 구조를 갖는 적층체의 제조 방법. Forming two or more layers by evaporating a solvent from this one coating film, The base material and the manufacturing method of the laminated body which has a multilayered structure on it.

10. 상기 2 이상의 층의 각 층이 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 또는 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이며, 1층 이상은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층인 것을 특징으로 하는 9에 기재된 적층체의 제조 방법. 10. Each layer of the two or more layers is a layer in which metal oxide particles are present at high density, or a layer substantially free of metal oxide particles, and at least one layer is a layer in which metal oxide particles are present at high density. The manufacturing method of the laminated body of Claim.

11. 상기 2 이상의 층이 2층인 것을 특징으로 하는 10에 기재된 적층체의 제조 방법. 11. Said two or more layers are two layers, The manufacturing method of the laminated body of 10 characterized by the above-mentioned.

12. 상기 2 이상의 층을 가열에 의해 더 경화시키는 것을 특징으로 하는 9 내지 11 중 어느 한 항에 기재된 적층체의 제조 방법. 12. The method for producing a laminate according to any one of 9 to 11, wherein the two or more layers are further cured by heating.

13. 적층체가 광학용 부품인 것을 특징으로 하는 9 내지 12 중 어느 한 항에 기재된 적층체의 제조 방법. 13. The laminated body is an optical component, The manufacturing method of the laminated body in any one of 9-12 characterized by the above-mentioned.

14. 적층체가 반사 방지막인 것을 특징으로 하는 9 내지 12 중 어느 한 항에 기재된 적층체의 제조 방법. 14. The laminated body is an antireflection film, The manufacturing method of the laminated body in any one of 9-12 characterized by the above-mentioned.

15. 상기 적층체가 기재 상에 적어도 고굴절률층 및 저굴절률층이 기재에 가까운 측에서 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막이고, 11에 기재된 2층이 고굴절률층 및 저굴절률층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 11에 기재된 적층체의 제조 방법. 15. The laminate is an antireflection film in which at least a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order on a side close to the base material, and the two layers described in 11 consist of a high refractive index layer and a low refractive index layer. The manufacturing method of the laminated body of 11 to do.

16. 저굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.20 내지 1.55이고, 16. The refractive index at 589 nm of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55,

고굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.50 내지 2.20이며, 저굴절률층의 굴절률보다 높은 것을 특징으로 하는 15에 기재된 적층체의 제조 방법. The refractive index at 589 nm of a high refractive index layer is 1.50-2.20, and is higher than the refractive index of a low refractive index layer, The manufacturing method of the laminated body of 15 characterized by the above-mentioned.

17. 상기 적층체가 기재 상에 적어도 중굴절률층, 고굴절률층 및 저굴절률층이 기재에 가까운 측에서 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막이고, 11에 기재된 2층이 고굴절률층 및 저굴절률층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 11에 기재된 적층체의 제조 방법. 17. The laminate is an antireflection film in which at least a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order on a side close to the base material, and the two layers described in 11 are the high refractive index layer and the low refractive index layer. The manufacturing method of the laminated body of 11 characterized by the above-mentioned.

18. 저굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.20 내지 1.55이고, 18. The refractive index at 589 nm of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55,

중굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.50 내지 1.90이며, 저굴절률층의 굴절률보다 높고, The refractive index at 589 nm of the medium refractive index layer is 1.50 to 1.90, which is higher than the refractive index of the low refractive index layer,

고굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.51 내지 2.20이며, 중굴절률층의 굴절률보다 높은 것을 특징으로 하는 17에 기재된 적층체의 제조 방법. The refractive index at 589 nm of a high refractive index layer is 1.51-2.20, and is higher than the refractive index of a medium refractive index layer, The manufacturing method of the laminated body of 17 characterized by the above-mentioned.

19. 기재 상에 하드 코팅층 및/또는 대전 방지층을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 15 내지 18 중 어느 한 항에 기재된 적층체의 제조 방법. 19. The method for producing a laminate according to any one of 15 to 18, further comprising forming a hard coat layer and / or an antistatic layer on the substrate.

20. 9 내지 19 중 어느 한 항에 기재된 적층체의 제조 방법에 의해 제조된 적층체. 20. The laminated body manufactured by the manufacturing method of the laminated body in any one of 9-19.

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물은 하나의 도막으로부터 고굴절률층과 저굴절률층 등의 다층 구조를 갖는 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 경화막의 제조 공정을 간략화할 수 있다. Since the liquid curable resin composition of this invention can form the cured film which has multilayered structures, such as a high refractive index layer and a low refractive index layer, from one coating film, the manufacturing process of a cured film can be simplified.

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물은 조성물을 도포하여 얻어지는 하나의 도막으로부터 2 이상의 층을 형성할 수 있기 때문에, 다층 구조를 갖는 적층체의 제조 공정을 간략화할 수 있다. Since the liquid curable resin composition of this invention can form two or more layers from one coating film obtained by apply | coating a composition, the manufacturing process of the laminated body which has a multilayered structure can be simplified.

또한, 금속 산화물 입자를 편재화시킴으로써 경화막 또는 적층체의 내찰상성을 향상시킬 수 있다. Moreover, the scratch resistance of a cured film or a laminated body can be improved by localizing metal oxide particle.

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물은 특히 반사 방지막, 선택 투과막 필터 등의 광학 재료의 형성에 유리하게 사용할 수 있고, 또한 불소 함량이 높은 것을 이용하여 내후성이 요구되는 기재에 대한 도료용 재료, 내후 필름용 재료, 코팅용 재료, 기타로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 상기 경화막은 기재에 대한 밀착성이 우수하고, 내찰상성이 높으며 양호한 반사 방지 효과를 부여할 수 있다. 따라서, 본 발명의 경화막 또는 적층체는 반사 방지막으로서 매우 유용하고, 각종 표시 장치에 적용함으로써 그의 시인성을 향상시킬 수 있다. The liquid curable resin composition of the present invention can be advantageously used for the formation of optical materials such as antireflection films, selective transmission membrane filters, and the like, and materials for paints and weathering films for substrates requiring weather resistance using a high fluorine content. It can be preferably used as a material for coating, a material for coating, and the like. In addition, the cured film is excellent in adhesion to the substrate, high scratch resistance and can impart a good antireflection effect. Therefore, the cured film or laminated body of this invention is very useful as an antireflection film, and the visibility thereof can be improved by applying to various display apparatuses.

도 1A는 「하나의 도막으로부터 형성되는 2 이상의 층」을 설명하기 위한 도면이다. It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film."

도 1B는 「하나의 도막으로부터 형성되는 2 이상의 층」을 설명하기 위한 도면이다. 1B is a view for explaining "two or more layers formed from one coating film".

도 1C는 「하나의 도막으로부터 형성되는 2 이상의 층」을 설명하기 위한 도면이다. 1C is a diagram for explaining "two or more layers formed from one coating film".

도 1D는 「하나의 도막으로부터 형성되는 2 이상의 층」을 설명하기 위한 도면이다. It is a figure for demonstrating "two or more layers formed from one coating film."

도 1E는 「하나의 도막으로부터 형성되는 2 이상의 층」을 설명하기 위한 도면이다. 1E is a view for explaining "two or more layers formed from one coating film".

도 2는 본 발명에 따른 하나의 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 2 is a cross-sectional view of an antireflection film as an embodiment according to the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 3 is a cross-sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 4 is a sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 5 is a cross-sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 6 is a sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 7 is a sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 8은 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 8 is a sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 9는 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 9 is a sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 10은 본 발명에 따른 다른 실시 형태인 반사 방지막의 단면도이다. 10 is a sectional view of an antireflection film according to another embodiment of the present invention.

도 11은 2층 분리, 분리되지 않음(일부 응집) 및 균일 구조의 각 상태의 개념을 나타내는 전자 현미경 사진이다. 11 is an electron micrograph showing the concept of each state of two-layer separation, unseparation (partial aggregation), and uniform structure.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>Best Mode for Carrying Out the Invention

이하, 본 발명을 액상 경화성 수지 조성물, 경화막 및 적층체로 나누어 상세히 설명한다. Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into a liquid curable resin composition, a cured film, and a laminate.

1. 액상 경화성 수지 조성물1. Liquid curable resin composition

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물은 하기 성분 (A) 내지 (F)를 함유한다.The liquid curable resin composition of this invention contains the following components (A)-(F).

(A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체(A) Fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the molecule

(B) 수평균 입경이 100 nm 이하이고, 또한 굴절률이 1.50 이상인 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물 입자(이하, 「(B) 금속 산화물 입자」라 함)(B) One or two or more metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.50 or more (hereinafter, referred to as "(B) metal oxide particles").

(C) (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높은 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(C) 속휘발성 용제」라 함)(C) One or two or more solvents having high solubility to the fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the (A) molecule (hereinafter referred to as "(C) fast volatile solvent")

(D) (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높고, 또한 (C) 속휘발성 용제와 상용성인 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(D) 지연 휘발성 용제」라 함)(D) One or two or more solvents having high dispersion stability to the metal oxide particles (B) and compatible with the (C) fast-volatile solvent (hereinafter referred to as "(D) delayed volatile solvent").

(E) 경화성 화합물(E) curable compound

(F) 열산 발생제(F) thermal acid generator

이하, 이들 성분에 대하여 각각 설명한다. Hereinafter, these components are demonstrated, respectively.

(A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체(A) Fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the molecule

불소 함유 중합체란 분자 내에 탄소-불소 결합을 갖는 중합체이고, 그의 불소 함량은 30 질량% 이상인 것이 바람직하며, 또한 겔 투과 크로마토그래피에 의해서 얻어지는 폴리스티렌 환산에 의한 수평균 분자량이 5000 이상인 것이 바람직하다. 여기서, 불소 함량은 알리자린 콤플렉손법에 의해 측정된 값이고, 수평균 분자량은 전개 용제로서 테트라히드로푸란을 이용하였을 때의 값이다. A fluorine-containing polymer is a polymer which has a carbon-fluorine bond in a molecule | numerator, It is preferable that the fluorine content is 30 mass% or more, and it is preferable that the number average molecular weight by polystyrene conversion obtained by gel permeation chromatography is 5000 or more. Here, fluorine content is the value measured by the alizarin complexon method, and a number average molecular weight is the value when tetrahydrofuran was used as a developing solvent.

본 발명에서 사용되는 불소 함유 중합체의 예로서는 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체(이하, 「수산기 함유 불소 함유 중합체」라 함)이다. 수산기 함유 불소 함유 중합체의 바람직한 예로서는, 수산기를 함유하는 단량체 유래의 구조 단위를 10 몰% 내지 50 몰% 함유하여 이루어지는, 주쇄 중에 폴리실록산 세그먼트를 갖는 것을 들 수 있다. 이 수산기 함유 불소 함유 중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산 세그먼트를 주쇄 중에 갖는 올레핀계 중합체이고, 불소 함유 중합체에 있어서의 상기 폴리실록산 세그먼트의 비율은 통상 0.1 내지 20 몰%인 것이 바람직하다. As an example of the fluorine-containing polymer used by this invention, it is a fluorine-containing polymer (henceforth "hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer") which has a hydroxyl group in a molecule | numerator. As a preferable example of a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, what has a polysiloxane segment in the main chain which contains 10 mol%-50 mol% of structural units derived from the monomer containing a hydroxyl group is mentioned. This hydroxyl group containing fluorine-containing polymer is an olefin type polymer which has the polysiloxane segment represented by following General formula (1) in a principal chain, and it is preferable that the ratio of the said polysiloxane segment in a fluorine-containing polymer is 0.1-20 mol% normally.

Figure 112006066817222-pct00001
Figure 112006066817222-pct00001

식 중, R1 및 R2는 동일하거나 상이할 수도 있고, 수소 원자, 알킬기, 할로겐화 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. In formula, R <1> and R <2> may be same or different and represents a hydrogen atom, an alkyl group, a halogenated alkyl group, or an aryl group.

또한, 수산기 함유 불소 함유 중합체는 바람직하게는 불소 함량이 30 질량% 이상, 보다 바람직하게는 40 내지 60 질량%인 것이고, 또한 겔 투과 크로마토그래피에 의해서 얻어지는 폴리스티렌 환산에 의한 수평균 분자량이 바람직하게는 5000 이상, 보다 바람직하게는 10000 내지 500000인 것이다. Further, the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer preferably has a fluorine content of 30% by mass or more, more preferably 40 to 60% by mass, and preferably a number average molecular weight in terms of polystyrene obtained by gel permeation chromatography. 5000 or more, More preferably, it is 10000-500000.

수산기 함유 불소 함유 중합체는 (a) 불소 함유 올레핀 화합물(이하, 「(a) 성분」이라 함), (b) 상기 (a) 성분과 공중합 가능한 수산기를 함유하는 단량체 화합물(이하, 「(b) 성분」이라 함) 및 (c) 아조기 함유 폴리실록산 화합물(이하 「(c) 성분」이라 함), 및 필요에 따라서 (d) 반응성 유화제(이하, 「(d) 성분」이라 함), 및/또는 (e) 상기 (a) 성분과 공중합 가능한 (b) 성분 이외의 단량체 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다. The hydroxyl group-containing fluoropolymer includes (a) a fluorine-containing olefin compound (hereinafter referred to as "(a) component") and (b) a monomer compound containing a hydroxyl group copolymerizable with the component (a) (hereinafter, "(b) Components ") and (c) azo group-containing polysiloxane compounds (hereinafter referred to as" (c) component ") and (d) reactive emulsifiers (hereinafter referred to as" (d) component ") as needed, and / or (e) It can obtain by making monomer compounds other than the (b) component copolymerizable with the said (a) component react.

(a) 성분인 불소 함유 올레핀 화합물로서는 1개 이상의 중합성 불포화 이중 결합과 1개 이상의 불소 원자를 갖는 화합물을 들 수 있고, 그의 구체예로서는, 예를 들면 (1) 테트라플루오로에틸렌, 헥사플루오로프로필렌, 3,3,3-트리플루오로프로필렌 등의 플루오로올레핀류; (2) 퍼플루오로(알킬비닐에테르)류 또는 퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)류; (3) 퍼플루오로(메틸비닐에테르), 퍼플루오로(에틸비닐에테르), 퍼플루오로(프로필비닐에테르), 퍼플루오로(부틸비닐에테르), 퍼플루오로(이소부틸비닐에테르) 등의 퍼플루오로(알킬비닐에테르)류; (4) 퍼플루오로(프로폭시프로필비닐에테르) 등의 퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)류; 기타를 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수 있다. 이상 중, 특히 헥사플루오로프로필렌, 퍼플루오로(알킬비닐에테르) 또는 퍼플루오로(알콕시알킬비 닐에테르)가 바람직하고, 이들을 조합하여 사용하는 것이 더욱 바람직하다. Examples of the fluorine-containing olefin compound as the component (a) include compounds having at least one polymerizable unsaturated double bond and at least one fluorine atom. Specific examples thereof include (1) tetrafluoroethylene and hexafluoro. Fluoroolefins such as propylene and 3,3,3-trifluoropropylene; (2) perfluoro (alkylvinylether) s or perfluoro (alkoxyalkylvinylether) s; (3) Perfluoro (methyl vinyl ether), perfluoro (ethyl vinyl ether), perfluoro (propyl vinyl ether), perfluoro (butyl vinyl ether), perfluoro (isobutyl vinyl ether), etc. Perfluoro (alkyl vinyl ether) s; (4) perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) such as perfluoro (propoxypropyl vinyl ether); And the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Among the above, hexafluoropropylene, perfluoro (alkyl vinyl ether) or perfluoro (alkoxyalkyl vinyl ether) is particularly preferable, and a combination thereof is more preferable.

(b) 성분인 수산기를 함유하는 단량체 화합물로서는, 예를 들면 (1) 2-히드록시에틸비닐에테르, 3-히드록시프로필비닐에테르, 2-히드록시프로필비닐에테르, 4-히드록시부틸비닐에테르, 3-히드록시부틸비닐에테르, 5-히드록시펜틸비닐에테르, 6-히드록시헥실비닐에테르 등의 수산기 함유 비닐에테르류; (2) 2-히드록시에틸알릴에테르, 4-히드록시부틸알릴에테르, 글리세롤 모노알릴에테르 등의 수산기 함유 알릴에테르류; (3) 알릴알코올; (4) 히드록시에틸(메트)아크릴산에스테르; 기타를 들 수 있다. 이들 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수 있다. 바람직하게는 수산기 함유 알킬비닐에테르류이다. As a monomer compound containing the hydroxyl group which is (b) component, it is (1) 2-hydroxyethyl vinyl ether, 3-hydroxypropyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, for example. Hydroxyl group-containing vinyl ethers such as 3-hydroxybutyl vinyl ether, 5-hydroxypentyl vinyl ether, and 6-hydroxyhexyl vinyl ether; (2) hydroxyl group-containing allyl ethers such as 2-hydroxyethyl allyl ether, 4-hydroxybutyl allyl ether, and glycerol monoallyl ether; (3) allyl alcohol; (4) hydroxyethyl (meth) acrylic acid ester; And the like. These compounds can be used alone or in combination of two or more. Preferably they are hydroxyl-containing alkyl vinyl ethers.

(c) 성분인 아조기 함유 폴리실록산 화합물로서는, -N=N-로 표시되는 열 분해 용이한 아조기를 함유함과 동시에 상기 화학식 1로 표시되는 폴리실록산 세그먼트를 갖는 화합물이고, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)6-93100호 공보에 기재된 방법에 의해 제조할 수 있는 것이다. (c) 성분의 구체예로서는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물을 들 수 있다. As the azo group-containing polysiloxane compound as the component (c), a compound containing azo groups readily thermally decomposed as -N = N- and having a polysiloxane segment represented by the above formula (1), for example, It can manufacture by the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 6-93100. As a specific example of (c) component, the compound represented by following General formula (2) is mentioned.

Figure 112006066817222-pct00002
Figure 112006066817222-pct00002

식 중, y는 10 내지 500, z는 1 내지 50이다. In formula, y is 10-500 and z is 1-50.

상기 (a) 성분, (b) 성분 및 (c) 성분의 바람직한 조합은 예를 들면 (1) 플루오로올레핀/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (2) 플루오로올 레핀/퍼플루오로(알킬비닐에테르)/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (3) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (4) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알킬비닐에테르)/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위, (5) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)/수산기 함유 알킬비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위이다. Preferred combinations of the component (a), the component (b) and the component (c) include, for example, (1) a fluoroolefin / hydroxyl-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit, (2) fluorool reffin / perfluoro Furnace (alkylvinylether) / hydroxyl group-containing alkylvinylether / polydimethylsiloxane unit, (3) fluoroolefin / perfluoro (alkoxyalkylvinylether) / hydroxyl group-containing alkylvinylether / polydimethylsiloxane unit, (4) fluoro Low olefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit, (5) fluoro olefin / perfluoro (alkoxy alkyl vinyl ether) / hydroxyl group-containing alkyl vinyl ether / polydimethylsiloxane unit to be.

수산기 함유 불소 함유 중합체에 있어서, (a) 성분에서 유래하는 구조 단위는 바람직하게는 20 내지 70 몰%, 더욱 바람직하게는 25 내지 65 몰%, 특히 바람직하게는 30 내지 60 몰%이다. (a) 성분에서 유래하는 구조 단위의 비율이 20 몰% 미만이면, 얻어지는 불소 함유 중합체 중의 불소 함량이 너무 적어지기 쉽고, 얻어지는 액상 경화성 수지 조성물의 경화물은 굴절률이 충분히 낮아지기 어렵다. 한편, (a) 성분에서 유래하는 구조 단위의 비율이 70 몰%를 초과하면, 얻어지는 불소 함유 중합체의 유기 용제에의 용해성이 현저히 저하됨과 동시에, 얻어지는 액상 경화성 수지 조성물은 투명성 및 기재에의 밀착성이 작아진다.In the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, the structural unit derived from the component (a) is preferably 20 to 70 mol%, more preferably 25 to 65 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol%. When the ratio of the structural unit derived from (a) component is less than 20 mol%, the fluorine content in the fluorine-containing polymer obtained will become too small, and the hardened | cured material of the obtained liquid curable resin composition does not become low enough in refractive index. On the other hand, when the ratio of the structural unit derived from (a) component exceeds 70 mol%, the solubility to the organic solvent of the fluoropolymer obtained will fall remarkably, and the liquid-curable resin composition obtained will have transparency and adhesiveness to a base material Becomes smaller.

수산기 함유 불소 함유 중합체에 있어서, (b) 성분에서 유래하는 구조 단위는 바람직하게는 10 내지 50 몰%이다. 보다 바람직하게는 하한값은 13 몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20 몰%를 초과하고, 21 몰% 이상이며, 더욱 바람직하게는 상한값이 45 몰% 이하이고, 더욱 바람직하게는 35 몰% 이하이다. 이러한 (b) 성분을 소정량 함유하는 불소 함유 중합체를 이용하여 액상 경화성 수지 조성물을 구성함으로써, 그의 경화물에 있어서 양호한 내찰상성과 먼지 제거성을 실현할 수 있다. 한편, (b) 성분에서 유래하는 구조 단위의 비율이 10 몰% 미만이면, 불소 함유 중합체는 유기 용제에의 용해성이 열악해지고, 50 몰%를 초과하면, 액상 경화성 수지 조성물에 의한 경화물은 투명성 및 낮은 반사율의 광학 특성이 악화된다.In the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, the structural unit derived from the component (b) is preferably 10 to 50 mol%. More preferably, the lower limit is 13 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, 21 mol% or more, still more preferably an upper limit of 45 mol% or less, and still more preferably 35 mol% or less. . By constructing a liquid curable resin composition using a fluorine-containing polymer containing a predetermined amount of such a component (b), good scratch resistance and dust removal property can be realized in the cured product thereof. On the other hand, when the ratio of the structural unit derived from the component (b) is less than 10 mol%, the fluorine-containing polymer has poor solubility in an organic solvent, and when it exceeds 50 mol%, the cured product by the liquid curable resin composition is transparent. And low reflectance optical properties deteriorate.

(c) 성분인 아조기 함유 폴리실록산 화합물은 그 자체가 열 라디칼 발생제이고, 불소 함유 중합체를 얻기 위한 중합 반응에 있어서 중합 개시제로서 작용하지만, 다른 라디칼 개시제를 병용할 수도 있다. 불소 함유 중합체에 있어서의 (c) 성분에서 유래하는 구조 단위의 비율은 화학식 1로 표시되는 폴리실록산 세그먼트가 바람직하게는 0.1 내지 20 몰%, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 15 몰%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 10 몰%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5 몰%가 되는 비율이다. 화학식 1로 표시되는 폴리실록산 세그먼트의 비율이 20 몰%를 초과하는 경우에는, 얻어지는 수산기 함유 불소 함유 중합체는 투명성이 열악해지고, 또한 도포제로서 이용하는 경우에는 도포시에 크레이터링(cratering) 등이 발생하기 쉬워진다.Although the azo group containing polysiloxane compound which is (c) component is itself a thermal radical generating agent, and acts as a polymerization initiator in the polymerization reaction for obtaining a fluorine-containing polymer, you may use another radical initiator together. The proportion of the structural unit derived from component (c) in the fluorine-containing polymer is preferably 0.1 to 20 mol%, more preferably 0.1 to 15 mol%, particularly preferably 0.1 to the polysiloxane segment represented by the formula (1). To 10 mol%, particularly preferably 0.1 to 5 mol%. When the ratio of the polysiloxane segment represented by General formula (1) exceeds 20 mol%, the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer obtained becomes inferior in transparency, and when used as a coating agent, it is easy to produce cratering etc. at the time of application | coating. Lose.

상기 (a) 내지 (c) 성분 이외에 또한 (d) 성분으로서, 반응성 유화제를 단량체 성분으로서 이용하는 것이 바람직하다. 이 (d) 성분을 이용함으로써, 수산기 함유 불소 함유 중합체를 도포제로서 사용하는 경우에 양호한 도포성 및 퍼짐성을 얻을 수 있다. 이 반응성 유화제로서는, 특히 비이온성 반응성 유화제를 이용하는 것이 바람직하다. 비이온성 반응성 유화제의 구체예로서는, 예를 들면 하기 화학식 3 또는 화학식 4로 표시되는 화합물을 들 수 있다. It is preferable to use a reactive emulsifier as a monomer component other than the said (a)-(c) component as (d) component. By using this (d) component, when using a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer as a coating agent, favorable applicability | paintability and spreadability can be obtained. Especially as this reactive emulsifier, it is preferable to use a nonionic reactive emulsifier. As a specific example of a nonionic reactive emulsifier, the compound represented by following formula (3) or (4) is mentioned, for example.

Figure 112006066817222-pct00003
Figure 112006066817222-pct00003

식 중, n은 1 내지 20이고, m 및 s는 반복 단위수를 나타내고, m은 0 내지 4, s는 3 내지 50이다. In formula, n is 1-20, m and s represent the repeating unit number, m is 0-4, and s is 3-50.

Figure 112006066817222-pct00004
Figure 112006066817222-pct00004

식 중, m 및 s는 화학식 3과 동일하다. R3은 직쇄상일 수도 분지상일 수도 있는 알킬기이고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 40의 알킬기이다. In the formula, m and s are the same as in the general formula (3). R <3> is an alkyl group which may be linear or branched, Preferably it is a C1-C40 alkyl group.

수산기 함유 불소 함유 중합체에 있어서, (d) 성분 유래의 구성 단위의 비율은 바람직하게는 0 내지 10 몰%이고, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 몰%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 1 몰%이다. 이 비율이 10 몰%를 초과하면, 얻어지는 액상 경화성 수지 조성물이 점착성을 띠게 되기 때문에 취급이 곤란해지고, 도포제로서 사용하는 경우에 내습성이 저하된다. In the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, the proportion of the structural unit derived from the component (d) is preferably 0 to 10 mol%, more preferably 0.1 to 5 mol%, particularly preferably 0.1 to 1 mol%. When this ratio exceeds 10 mol%, since the liquid curable resin composition obtained becomes adhesive, handling becomes difficult, and when used as a coating agent, moisture resistance falls.

(e) 성분의, (a) 성분과 공중합 가능한 (b) 성분 이외의 단량체 화합물로서는 (1) 메틸비닐에테르, 에틸비닐에테르, n-프로필비닐에테르, 이소프로필비닐에테르, n-부틸비닐에테르, 이소부틸비닐에테르, tert-부틸비닐에테르, n-펜틸비닐에테르, n-헥실비닐에테르, n-옥틸비닐에테르, n-도데실비닐에테르, 2-에틸헥실비닐에테르, 시클로헥실비닐에테르 등의 알킬비닐에테르 또는 시클로알킬비닐에테르류; (2) 아세트산비닐, 프로피온산비닐, 부티르산비닐, 피발산비닐, 카프로산비닐, 버사트산비닐, 스테아르산비닐 등의 카르복실산비닐에스테르류; (3) 메틸(메트)아크릴레이트, 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 2-메톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메트)아크릴레이트, 2-(n-프로폭시)에틸(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산에스테르류; (4) (메트)아크릴산, 크로톤산, 말레산, 푸마르산, 이타콘산 등의 카르복실기 함유 단량체 화합물 등이며, 수산기를 함유하지 않는 것을 들 수 있다. 바람직하게는 알킬비닐에테르이다. As monomer compounds other than the (b) component copolymerizable with (a) component of (e) component, it is (1) methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, n-propyl vinyl ether, isopropyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, Alkyl such as isobutyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, n-pentyl vinyl ether, n-hexyl vinyl ether, n-octyl vinyl ether, n-dodecyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether Vinyl ether or cycloalkyl vinyl ether; (2) carboxylic acid vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl pivalate, vinyl caproate, vinyl versatate, and vinyl stearate; (3) methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (Meth) acrylic acid esters, such as (meth) acrylate and 2- (n-propoxy) ethyl (meth) acrylate; (4) It is carboxyl group-containing monomer compounds, such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, a maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid, and the thing which does not contain a hydroxyl group is mentioned. Preferably it is alkyl vinyl ether.

수산기 함유 불소 함유 중합체에 있어서, (e) 성분 유래의 구성 단위의 비율은 바람직하게는 0 내지 70 몰%이고, 더욱 바람직하게는 5 내지 35 몰%이다. 이 비율이 70 몰%를 초과하면, 얻어지는 액상 경화성 수지 조성물이 점착성을 띠게 되기 때문에 취급이 곤란해지고, 도포제로서 사용하는 경우에 내습성이 저하된다. In the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, the proportion of the structural unit derived from the component (e) is preferably 0 to 70 mol%, more preferably 5 to 35 mol%. When this ratio exceeds 70 mol%, since the liquid curable resin composition obtained becomes adhesive, handling becomes difficult, and when used as a coating agent, moisture resistance falls.

(d) 성분을 함유하는 경우의, (a) 성분, (b) 성분, (c) 성분, (d) 성분 및 (e) 성분의 바람직한 조합은 다음과 같다. Preferable combinations of (a) component, (b) component, (c) component, (d) component and (e) component in the case of containing (d) component are as follows.

(1) 플루오로올레핀/수산기 함유 비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위/비이온성 반응성 유화제/알킬비닐에테르, (2) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알킬비닐에테르)/수산기 함유 비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위/비이온성 반응성 유화제/알킬비닐에테르, (3) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)/수산기 함유 비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위/비이온성 반응성 유화제/알킬비닐에테르, (4) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알킬비닐에테르)/수산기 함유 비닐에테르/폴리디메틸실 록산 단위/비이온성 반응성 유화제/알킬비닐에테르, (5) 플루오로올레핀/퍼플루오로(알콕시알킬비닐에테르)/수산기 함유 비닐에테르/폴리디메틸실록산 단위/비이온성 반응성 유화제/알킬비닐에테르. (1) Fluoroolefin / hydroxyl group containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether, (2) Fluoroolefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / hydroxyl group containing vinyl ether / polydimethylsiloxane Unit / nonionic reactive emulsifier / alkylvinylether, (3) fluoroolefin / perfluoro (alkoxyalkylvinylether) / hydroxyl group-containing vinylether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkylvinylether, (4) Fluoroolefin / perfluoro (alkyl vinyl ether) / hydroxyl group containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether, (5) fluoroolefin / perfluoro (alkoxy alkyl vinyl ether) / Hydroxyl group-containing vinyl ether / polydimethylsiloxane unit / nonionic reactive emulsifier / alkyl vinyl ether.

(c) 성분과 병용할 수 있는 라디칼 중합 개시제로서는, 예를 들면 (1) 아세틸퍼옥시드, 벤조일퍼옥시드 등의 디아실퍼옥시드류; (2) 메틸에틸케톤퍼옥시드, 시클로헥사논퍼옥시드 등의 케톤퍼옥시드류; (3) 과산화수소, tert-부틸히드로퍼옥시드, 쿠멘히드로퍼옥시드 등의 히드로퍼옥시드류; (4) 디-tert-부틸퍼옥시드, 디쿠밀퍼옥시드, 디라우로일퍼옥시드 등의 디알킬퍼옥시드류; (5) tert-부틸퍼옥시아세테이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트 등의 퍼옥시에스테르류; (6) 아조비스이소부티로니트릴, 아조비스이소발레로니트릴 등의 아조계 화합물류; (7) 과황산암모늄, 과황산나트륨, 과황산칼륨 등의 과황산염류; 기타를 들 수 있다. As a radical polymerization initiator which can be used together with (c) component, For example, (1) diacyl peroxides, such as acetyl peroxide and benzoyl peroxide; (2) ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and cyclohexanone peroxide; (3) hydroperoxides such as hydrogen peroxide, tert-butylhydroperoxide and cumene hydroperoxide; (4) dialkyl peroxides such as di-tert-butyl peroxide, dicumyl peroxide and dilauroyl peroxide; (5) peroxy esters such as tert-butyl peroxy acetate and tert-butyl peroxy pivalate; (6) azo compounds such as azobisisobutyronitrile and azobisisovaleronitrile; (7) persulfates such as ammonium persulfate, sodium persulfate and potassium persulfate; And the like.

상기 라디칼 중합 개시제 이외의 구체예로서는, 예를 들면 퍼플루오로에틸요오다이드, 퍼플루오로프로필요오다이드, 퍼플루오로부틸요오다이드, (퍼플루오로부틸)에틸요오다이드, 퍼플루오로헥실요오다이드, 2-(퍼플루오로헥실)에틸요오다이드, 퍼플루오로헵틸요오다이드, 퍼플루오로옥틸요오다이드, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸요오다이드, 퍼플루오로데실요오다이드, 2-(퍼플루오로데실)에틸요오다이드, 헵타플루오로-2-요오도프로판, 퍼플루오로-3-메틸부틸요오다이드, 퍼플루오로-5-메틸헥실요오다이드, 2-(퍼플루오로-5-메틸헥실)에틸요오다이드, 퍼플루오로-7-메틸옥틸요오다이드, 2-(퍼플루오로-7-메틸옥틸)에틸요오다이드, 퍼플루오로-9-메틸데실요오다이드, 2-(퍼플루오로-9-메틸데실)에틸요오다이드, 2,2,3,3-테트라플루오로프 로필요오다이드, 1H,1H,5H-옥타플루오로펜틸요오다이드, 1H,1H,7H-도데카플루오로헵틸요오다이드, 테트라플루오로-1,2-디요오도에탄, 옥타플루오로-1,4-디요오도부탄, 도데카플루오로-1,6-디요오도헥산 등의 요오드 함유 불소 화합물을 들 수 있다. 요오드 함유 불소 화합물은 단독으로 또는 상기 유기 과산화물, 아조계 화합물 또는 과황산염과 병용할 수 있다. As a specific example other than the said radical polymerization initiator, For example, perfluoro ethyl iodide, perfluoro propyl iodide, perfluoro butyl iodide, (perfluoro butyl) ethyl iodide, perfluoro Hexyl iodide, 2- (perfluorohexyl) ethyl iodide, perfluoroheptyl iodide, perfluorooctyl iodide, 2- (perfluorooctyl) ethyl iodide, perfluoro Decyl iodide, 2- (perfluorodecyl) ethyl iodide, heptafluoro-2-iodopropane, perfluoro-3-methylbutyl iodide, perfluoro-5-methylhexyl iodide Dide, 2- (perfluoro-5-methylhexyl) ethyl iodide, perfluoro-7-methyloctyl iodide, 2- (perfluoro-7-methyloctyl) ethyl iodide, perfluor Rho-9-methyldecyl iodide, 2- (perfluoro-9-methyldecyl) ethyl iodide, 2,2,3,3-tetrafluoroprone iodide, 1H, 1H, 5 H-octafluoropentyl iodide, 1H, 1H, 7H-dodecafluoroheptyl iodide, tetrafluoro-1,2-diiodoethane, octafluoro-1,4-diiodobutane And iodine-containing fluorine compounds such as dodecafluoro-1,6-diiodohexane. The iodine-containing fluorine compound may be used alone or in combination with the organic peroxide, azo compound or persulfate.

수산기 함유 불소 함유 중합체를 제조하기 위한 중합 양식으로서는, 라디칼 중합 개시제를 이용하는 유화 중합법, 현탁 중합법, 괴상 중합법 또는 용액 중합법 중 어느 것도 사용할 수 있고, 중합 조작으로서도 회분식, 반연속식 또는 연속식의 조작 등으로부터 적절한 것을 선택할 수 있다. As a polymerization mode for producing a hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer, any of emulsion polymerization, suspension polymerization, block polymerization or solution polymerization using a radical polymerization initiator can be used, and also as a polymerization operation, it may be batchwise, semi-continuous or continuous. A suitable thing can be selected from operation of a formula, etc.

수산기 함유 불소 함유 중합체를 얻기 위한 중합 반응은 용제를 이용한 용제계에서 행하는 것이 바람직하다. 여기서, 바람직한 유기 용제로서는, 예를 들면 (1) 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세트산이소프로필, 아세트산이소부틸, 아세트산셀로솔브 등의 에스테르류; (2) 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; (3) 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 환상 에테르류; (4) N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; (5) 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 기타를 들 수 있다. 필요에 따라서 알코올류, 지방족 탄화수소류 등을 혼합 사용할 수도 있다. It is preferable to perform the polymerization reaction for obtaining a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer in the solvent system using a solvent. Here, as a preferable organic solvent, For example, (1) Ester, such as ethyl acetate, butyl acetate, isopropyl acetate, isobutyl acetate, a cellosolve; (2) ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; (3) cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; (4) amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; (5) aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; And the like. Alcohol, aliphatic hydrocarbons, etc. can also be mixed and used as needed.

상기와 같이 하여 얻어지는 수산기 함유 불소 함유 중합체는 그의 중합 반응으로 얻어진 반응 용액을 그대로 액상 경화성 수지 조성물로서 사용하는 것이 가능한 경우도 있지만, 중합 반응 용액에 대하여 적절한 후처리를 행하는 것도 가능하 다. 이 후처리로서는, 예를 들면 중합 반응 용액을 알코올 등으로 이루어지는 상기 수산기 함유 불소 함유 중합체의 불용화 용제에 적가하여 상기 수산기 함유 불소 함유 중합체를 응고시키는 정제 방법으로 대표되는 일반적인 재침전 처리를 행할 수 있고, 이어서 얻어지는 고형의 공중합체를 용제에 용해시킴으로써 수산기 함유 불소 함유 중합체의 용액을 제조할 수 있다. 또한, 중합 반응 용액으로부터 잔류 단량체를 제거한 것을 그대로 수산기 함유 불소 함유 중합체의 용액으로서 사용할 수도 있다. The hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer obtained as described above may sometimes use the reaction solution obtained by the polymerization reaction as it is as the liquid curable resin composition, but it is also possible to perform appropriate post-treatment with respect to the polymerization reaction solution. As this post-treatment, for example, a general reprecipitation treatment typified by a purification method in which the polymerization reaction solution is added dropwise to the insoluble solvent of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer made of alcohol or the like to solidify the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer can be performed. The solution of the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer can be manufactured by dissolving the solid copolymer obtained in the solvent next. Moreover, what removed the residual monomer from the polymerization reaction solution can also be used as it is as a solution of a hydroxyl-containing fluoropolymer.

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량% 중의 (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체의 배합 비율은 통상 5 내지 70 질량%이고, 바람직하게는 10 내지 50 질량%로 함으로써 경화막의 투명성이 양호해진다. The compounding ratio of the (A) hydroxyl-containing fluorine-containing polymer in 100 mass% of solid content of the liquid curable resin composition of this invention is 5-70 mass% normally, Preferably it is 10-50 mass%, and transparency of a cured film becomes favorable.

(B) 금속 산화물 입자(B) metal oxide particles

본 발명에서 사용되는 (B) 금속 산화물 입자는 수평균 입경이 100 nm 이하이고, 또한 굴절률이 1.50 이상(파장 550 nm)인 금속 산화물 입자이다. 수평균 입경이 100 nm를 초과하면, 금속 산화물 입자를 균일하게 분산시키는 것이 곤란해지는 경우가 있다. 또한, 금속 산화물 입자가 침강하기 쉬워지고, 보존 안정성이 부족한 경우가 있다. 또한, 얻어지는 경화막의 투명성이 저하되거나 탁도(헤이즈값)가 상승하는 경우가 있다. The (B) metal oxide particles used in the present invention are metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.50 or more (wavelength 550 nm). When the number average particle diameter exceeds 100 nm, it may be difficult to uniformly disperse the metal oxide particles. In addition, the metal oxide particles tend to settle, and the storage stability may be insufficient. Moreover, transparency of the cured film obtained may fall, or turbidity (haze value) may rise.

수평균 입경은 10 내지 80 nm가 보다 바람직하고, 20 내지 50 nm가 더욱 바람직하다. As for a number average particle diameter, 10-80 nm is more preferable, and 20-50 nm is further more preferable.

또한, 「수평균 입경」은 전자 현미경법으로 측정한 수평균 입경이고, 금속 산화물 입자가 응집되어 있을 때는 1차 입경이고, 금속 산화물 입자가 구형이 아닐 때는(예를 들면, 침상 ATO 등), 장경(세로 길이)과 단경(가로 길이)의 평균이다. 또한, 입자 형상이 막대 형상(종횡비가 1을 넘고 10 이하인 형상을 말함)인 경우에는, 단경을 입경으로 하였다.In addition, "number average particle diameter" is the number average particle diameter measured by the electron microscopy method, and when a metal oxide particle is aggregated, it is a primary particle diameter, and when a metal oxide particle is not spherical (for example, acicular ATO etc.), It is the average of long diameter (length) and short diameter (length). In addition, when particle shape was a rod shape (referring to a shape whose aspect ratio exceeds 1 and 10 or less), the short diameter was made into the particle size.

금속 산화물 입자로서, 바람직하게는 산화티탄, 산화지르코늄(지르코니아), 안티몬 함유 산화주석, 주석 함유 산화인듐, 산화알루미늄(알루미나), 산화세륨, 산화아연, 알루미늄 함유 산화아연, 산화주석, 안티몬 함유 산화아연 및 인듐 함유 산화아연, 인 함유 산화주석으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물을 주성분으로 하는 입자를 사용할 수 있다. As the metal oxide particles, preferably titanium oxide, zirconium oxide (zirconia), antimony-containing tin oxide, tin-containing indium oxide, aluminum oxide (alumina), cerium oxide, zinc oxide, aluminum-containing zinc oxide, tin oxide, and antimony-containing oxide Particles composed mainly of one or two or more metal oxides selected from zinc and indium-containing zinc oxide and phosphorus-containing tin oxide can be used.

여기서, 금속 산화물 입자를 상기 금속 산화물 이외의 상기 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물로 피복한 다층 구조를 갖는 금속 산화물 입자를 이용할 수도 있다. 다층 구조를 갖는 금속 산화물 입자의 구체예로서는, 실리카 피복 산화티탄 입자, 알루미나 피복 산화티탄 입자, 지르코니아 피복 산화티탄 입자, 알루미나, 지르코니아 피복 산화티탄 입자 등을 들 수 있다. 이러한 금속 산화물 입자 중에서, 산화티탄을 주성분으로 하는 입자, 또는 알루미나, 지르코니아 피복 산화티탄 입자가 특히 바람직하다. Here, the metal oxide particle which has a multilayered structure which coat | covered metal oxide particle with the said 1 type, or 2 or more types of metal oxides other than the said metal oxide can also be used. Specific examples of the metal oxide particles having a multilayer structure include silica coated titanium oxide particles, alumina coated titanium oxide particles, zirconia coated titanium oxide particles, alumina and zirconia coated titanium oxide particles. Among these metal oxide particles, particles mainly composed of titanium oxide or alumina and zirconia coated titanium oxide particles are particularly preferable.

다층 구조를 갖는 금속 산화물 입자를 이용함으로써, 산화티탄의 광 촉매 활성을 억제할 수 있고 경화물의 분해를 억제할 수 있다. 그 결과, 고굴절률이며 내광성이 우수한 경화막을 얻을 수 있다. By using the metal oxide particle which has a multilayered structure, the photocatalytic activity of titanium oxide can be suppressed and decomposition | disassembly of hardened | cured material can be suppressed. As a result, a cured film with high refractive index and excellent light resistance can be obtained.

또한, 안티몬 함유 산화주석 입자(ATO) 등을 이용함으로써 경화막에 대전 방 지성을 부여할 수 있다. 이 경우, 후술하는 바와 같이, ATO 입자가 편재화되기 때문에, 보다 소량의 입자 첨가량으로 효과적인 대전 방지성과 양호한 투명성을 양립시킬 수 있다. In addition, antistatic properties can be imparted to the cured film by using antimony-containing tin oxide particles (ATO) or the like. In this case, as will be described later, since the ATO particles are localized, effective antistatic properties and good transparency can be achieved at a smaller amount of particle addition.

산화티탄을 주성분으로 하는 입자로서는 공지된 것을 사용할 수 있으며, 또한 그의 형상도 중공 입자, 다공질 입자, 코어ㆍ쉘형 입자 등이어도 상관없다. 또한, 구형으로 한정되지 않고, 막대 형상(종횡비가 1을 넘고 10 이하인 형상을 말함)이나 부정형의 입자일 수도 있으며, 막대 형상이 바람직하다. 전자 현미경법으로 구한 수평균 입경이 1 내지 100 nm의 범위 내인 것이 바람직하다. As the particle containing titanium oxide as a main component, known particles can be used, and the shape thereof may also be hollow particles, porous particles, core-shell particles, or the like. Moreover, it is not limited to spherical form, It may be rod-shaped (referring to the aspect ratio exceeding 1 and 10 or less), or an amorphous particle, and rod shape is preferable. It is preferable that the number average particle diameter calculated | required by the electron microscopy exists in the range of 1-100 nm.

또한, 분산매는 물 또는 유기 용매가 바람직하다. 유기 용매로서는 메탄올, 이소프로필알코올, 에틸렌글리콜, 부탄올, 에틸렌글리콜 모노프로필에테르 등의 알코올류; 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤 등의 케톤류; 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, γ-부티로락톤 등의 에스테르류; 테트라히드로푸란, 1,4-디옥산 등의 에테르류 등의 유기 용제를 들 수 있고, 이들 중에서 알코올류 및 케톤류가 바람직하다. 이들 유기 용제는 단독으로 또는 2종 이상 혼합하여 분산매로서 사용할 수 있다. In addition, the dispersion medium is preferably water or an organic solvent. As an organic solvent, Alcohol, such as methanol, isopropyl alcohol, ethylene glycol, butanol, ethylene glycol monopropyl ether; Ketones such as methyl ethyl ketone and methyl isobutyl ketone; Aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide and N-methylpyrrolidone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate and γ-butyrolactone; Organic solvents, such as ethers, such as tetrahydrofuran and a 1, 4- dioxane, are mentioned, Among these, alcohol and ketones are preferable. These organic solvents can be used individually or in mixture of 2 or more types as a dispersion medium.

산화티탄을 주성분으로 하는 입자의 시판품으로서는, 예를 들면 테이카(주) 제품이나 CI 가세이(주)의 제품 등을 들 수 있다. As a commercial item of the particle which has a titanium oxide as a main component, the product of Teika Co., Ltd. product, CI Kasei Co., etc. is mentioned, for example.

액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량%에 대한 (B) 금속 산화물 입자의 배합 비율은 통상 10 내지 90 질량%이고, 바람직하게는 20 내지 80 질량%이 다. The compounding ratio of (B) metal oxide particle with respect to 100 mass% of solid content of a liquid curable resin composition is 10-90 mass% normally, Preferably it is 20-80 mass%.

(C) 속휘발성 용제(C) fast volatile solvent

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 포함되는 (C) 속휘발성 용제는 상기 (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높은 1종 또는 2종 이상의 용제이다. 여기서, 수산기 함유 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높다는 것은, (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체를 50 질량%가 되도록 각 용제에 첨가하고, 실온에서 8 시간 교반하였을 때에 육안으로 균일한 용액이 되는 것을 말한다. 또한, (C) 속휘발성 용제의 상대 증발 속도는 후술하는 (D) 지연 휘발성 용제의 상대 증발 속도보다 큰 것이 필요하다. 여기서, 「상대 증발 속도」란 아세트산부틸이 90 질량% 증발되는 데 소요되는 시간을 기준으로 하는 증발 속도의 상대값을 말하며, 상세하게는 문헌 [TECHNIQUES OF CHEMISTRY VOL.2 ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62)]에 기재된 바와 같다. 또한, (C) 속휘발성 용제는 상기 (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 낮은 것이 바람직하다. (C) 속휘발성 용제는 상대 증발 속도가 (D)보다 크고, (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높으며, 또한 (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 낮기 때문에, 본 발명의 액상 경화성 수지 조성물을 기재에 도포하고 용제(C) 및 (D)를 증발시키는 과정에서 (B) 금속 산화물 입자를 편재화시킬 수 있다. The (C) fast volatile solvent contained in the liquid curable resin composition of this invention is a 1 type, or 2 or more types of solvent with high solubility to the said (A) hydroxyl-containing fluorine-containing polymer. Here, the solubility with respect to a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer means that (A) hydroxyl-containing fluoropolymer is added to each solvent so that it may become 50 mass%, and when it is stirred at room temperature for 8 hours, it becomes a visually uniform solution. . In addition, the relative evaporation rate of the (C) rapid volatile solvent needs to be larger than the relative evaporation rate of the (D) delayed volatile solvent mentioned later. Here, the "relative evaporation rate" refers to a relative value of the evaporation rate based on the time taken for butyl acetate to evaporate 90 mass%, and more specifically, in the technical literature of ORGANIC SOLVENTS Physical Properties and methods of purification 4th ed. (Interscience Publishers, Inc. 1986 page 62). Moreover, it is preferable that (C) fast volatile solvent is low in dispersion stability with respect to the said (B) metal oxide particle. (C) The fast volatile solvent is a liquid phase of the present invention because the relative evaporation rate is higher than (D), (A) the solubility in the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer, and (B) the dispersion stability to the metal oxide particles is low. In the process of apply | coating curable resin composition to a base material, and evaporating a solvent (C) and (D), (B) metal oxide particle can be localized.

본 발명에서 (C) 속휘발성 용제에 해당하는 용제로서는, 상대 증발 속도가 대략 1.7 이상인 용제이고, 구체적으로는 메틸에틸케톤(MEK; 상대 증발 속도 3.8), 이소프로판올(IPA; 1.7), 메틸이소부틸케톤(MIBK; 상대 증발 속도 1.6), 메틸아밀케톤(MAK; 0.3), 아세톤, 메틸프로필케톤 등을 들 수 있다. In the present invention, the solvent corresponding to the (C) fast volatile solvent is a solvent having a relative evaporation rate of approximately 1.7 or more, specifically methyl ethyl ketone (MEK; relative evaporation rate 3.8), isopropanol (IPA; 1.7), methyl isobutyl Ketone (MIBK; relative evaporation rate 1.6), methyl amyl ketone (MAK; 0.3), acetone, methyl propyl ketone and the like.

(D) 지연 휘발성 용제(D) delayed volatile solvent

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 포함되는 (D) 지연 휘발성 용제는 상기 (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높은 1종 또는 2종 이상의 용제이다. 여기서, (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높다는 것은, (B) 금속 산화물 입자 분산액에 유리판을 침지하여 (B) 금속 산화물 입자를 유리벽에 부착시키고, 그 (B) 금속 산화물 입자가 부착된 유리판을 각 용제에 침지한 경우에, (B) 금속 산화물 입자가 상기 용제 중에 육안으로 균일하게 분산되는 것을 말한다. 또한, (D) 지연 휘발성 용제는 상기 (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 낮은 것이 바람직하다. The (D) delayed volatile solvent contained in the liquid curable resin composition of this invention is a 1 type, or 2 or more types of solvent with high dispersion stability with respect to the said (B) metal oxide particle. Here, (B) high dispersion stability with respect to metal oxide particle means that (B) metal oxide particle dispersion liquid is immersed in glass plate, and (B) metal oxide particle adheres to a glass wall, (B) metal oxide particle adheres When immersed glass plate is immersed in each solvent, it means that (B) metal oxide particle is uniformly disperse | distributed visually in the said solvent. Moreover, it is preferable that (D) delayed volatile solvent is low solubility with respect to the said (A) hydroxyl-containing fluorine-containing polymer.

본 발명에서 (D) 지연 휘발성 용제에 해당하는 용제로서는, 상대 증발 속도가 대략 1.7 이하인 용제이고, 구체적으로는 메탄올(상대 증발 속도 2.1), 이소프로판올(IPA; 1.7), n-부탄올(n-BuOH; 0.5), tert-부탄올, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르, 프로필렌글리콜 모노에틸에테르, 프로필렌글리콜 모노프로필에테르, 에틸셀로솔브, 프로필셀로솔브, 부틸셀로솔브 등을 들 수 있다. In the present invention, the solvent corresponding to the (D) delayed volatile solvent is a solvent having a relative evaporation rate of approximately 1.7 or less, specifically methanol (relative evaporation rate 2.1), isopropanol (IPA; 1.7), n-butanol (n-BuOH). 0.5), tert-butanol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, ethyl cellosolve, propyl cellosolve, butyl cellosolve and the like.

본 발명에서 사용되는 (C) 속휘발성 용제 및/또는 (D) 지연 휘발성 용제는 통상 상기 (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체의 제조에 이용한 용제를 그대로 사용할 수 있다. The (C) fast volatile solvent and / or (D) delayed volatile solvent used by this invention can use the solvent normally used for manufacture of said (A) hydroxyl-containing fluorine-containing polymer normally.

본 발명에서 사용되는 (C) 속휘발성 용제와 (D) 지연 휘발성 용제는 상용성 인 것이 필요하다. 상용성은 본 발명의 조성물의 구체적 구성에 있어서 (C) 속휘발성 용제와 (D) 지연 휘발성 용제가 분리되지 않는 정도의 상용성이 있으면 된다. The (C) fast volatile solvent and (D) delayed volatile solvent used in the present invention need to be compatible. Compatibility should just be compatible with the grade which (C) fast volatile solvent and (D) delayed volatile solvent do not separate in the specific structure of the composition of this invention.

여기서, 선택된 용제가 본 발명에서 사용되는 (C) 속휘발성 용제 또는 (D) 지연 휘발성 용제 중 어디에 해당하는가는, 선택된 복수개의 용제 종류 사이에서 상대적으로 결정되는 것이다. 또한, 상대 증발 속도가 1.7인 이소프로판올은 (C) 속휘발성 용제 및 (D) 지연 휘발성 용제 중 어디에도 해당하지만, 다른 (C) 속휘발성 용제와 조합하여 (D) 지연 휘발성 용제로서만 이용되는 것으로 한다. Here, whether the selected solvent corresponds to (C) a fast volatile solvent or (D) a delayed volatile solvent used in the present invention is relatively determined among a plurality of selected solvent types. In addition, isopropanol having a relative evaporation rate of 1.7 corresponds to any of (C) fast-volatile solvents and (D) delayed-volatile solvents, but is used only as (D) delayed-volatile solvents in combination with other (C) fast-volatile solvents. .

또한, 본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 있어서는, 용제는 조성물의 도포성 등을 개선하는 것, 그 밖의 목적으로 상기 (C) 속휘발성 용제 및 (D) 지연 휘발성 용제 이외의 용제를 배합할 수 있다. 이러한 목적으로 배합되는 용제로서는, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸 등의 에스테르류를 들 수 있다. 또한, 본 발명의 액상 경화성 수지 조성물의 용액에는, 불소 함유 중합체를 용해시킬 수 없는 용제, 예를 들면 물, 알코올류, 에테르류 등의 빈용제를 불소 함유 중합체가 석출되지 않는 범위에서 병용할 수 있다. 이에 의해, 상기 불소 함유 중합체의 용액이 양호한 보존성과 바람직한 도포성을 갖는 것이 되는 경우가 있다. 이와 같은 빈용제로서는 에틸알코올, 이소프로필알코올, tert-부틸알코올, 에틸셀로솔브, 부틸셀로솔브 등을 들 수 있다. Moreover, in the liquid curable resin composition of this invention, a solvent can mix | blend solvents other than the said (C) fast-volatile solvent and (D) delayed volatile solvent for the purpose of improving the coating property of a composition, etc. . As a solvent mix | blended for this purpose, ketones, such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone, ester, such as ethyl acetate and butyl acetate, are mentioned. Moreover, in the solution of the liquid curable resin composition of this invention, the solvent which cannot melt | dissolve a fluoropolymer, for example, poor solvents, such as water, alcohol, ether, can be used together in the range which does not precipitate a fluoropolymer. have. Thereby, the solution of the said fluorine-containing polymer may have favorable storage property and preferable applicability | paintability in some cases. As such a poor solvent, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, tert- butyl alcohol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, etc. are mentioned.

액상 경화성 수지 조성물 중의 용제((C) 성분 및 (D) 성분을 포함함) 이외의 성분 총량 100 질량부에 대하여, 용제(C) 및 용제(D)의 합계량은 통상 300 내지 5000 질량부, 바람직하게는 300 내지 4000 질량부, 보다 바람직하게는 300 내지 3000 질량부를 이용한다. 용제(C)와 용제(D)의 배합비(질량비)는 1:99 내지 99:1의 범위에서 임의로 할 수 있다. The total amount of the solvent (C) and the solvent (D) is usually 300 to 5000 parts by mass, preferably 100 parts by mass of the component other than the solvent (including the component (C) and the component (D)) in the liquid curable resin composition. Preferably from 300 to 4000 parts by mass, more preferably from 300 to 3000 parts by mass. The compounding ratio (mass ratio) of a solvent (C) and a solvent (D) can be arbitrarily set in the range of 1: 99-99: 1.

(E) 경화성 화합물(E) curable compound

(E) 경화성 화합물은 가열 등을 함으로써 중합하여 본원 조성물에 경화성을 부여하는 성분이다. (E) A curable compound is a component which superposes | polymerizes by heating etc. and gives curability to this composition.

경화성 화합물로서는, 예를 들면 각종 아미노 화합물이나 펜타에리트리톨, 폴리페놀, 글리콜 등의 각종 수산기 함유 화합물, 기타를 들 수 있다. Examples of the curable compound include various amino compounds, various hydroxyl group-containing compounds such as pentaerythritol, polyphenols, glycols, and the like.

경화성 화합물로서 이용되는 아미노 화합물은 상기 (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체 중의 수산기와 반응 가능한 아미노기, 예를 들면 히드록시알킬아미노기 및 알콕시알킬아미노기 중 어느 하나 또는 둘다를 합계로 2개 이상 함유하는 화합물이고, 구체적으로는 예를 들면 멜라민계 화합물, 요소계 화합물, 벤조구아나민계 화합물, 글리콜우릴계 화합물 등을 들 수 있다. The amino compound used as the curable compound is a compound containing two or more amino groups which can react with hydroxyl groups in the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer, for example, hydroxyalkylamino groups and alkoxyalkylamino groups in total. Specific examples thereof include melamine compounds, urea compounds, benzoguanamine compounds, glycoluril compounds, and the like.

멜라민계 화합물은 일반적으로 트리아진환에 질소 원자가 결합된 골격을 갖는 화합물로서 알려져 있는 것이며, 구체적으로는 멜라민, 알킬화 멜라민, 메틸올멜라민, 알콕시화 메틸멜라민 등을 들 수 있지만, 1 분자 중에 메틸올기 및 알콕시화 메틸기 중 어느 하나 또는 둘다를 합계로 2개 이상 갖는 것이 바람직하다. 구체적으로는 멜라민과 포름알데히드를 염기성 조건하에서 반응시켜 얻어지는 메틸올화 멜라민, 알콕시화 메틸멜라민 또는 이들의 유도체가 바람직하고, 특히 액상 경화성 수지 조성물에 양호한 보존 안정성이 얻어지는 점, 및 양호한 반응성이 얻어지는 점에서 알콕시화 메틸멜라민이 바람직하다. 경화성 화합물로서 이용되는 메 틸올화 멜라민 및 알콕시화 메틸멜라민에는 특별히 제약은 없고, 예를 들면 문헌 [플라스틱 재료 강좌 [8] 우레아ㆍ멜라민 수지(닛간 고교 신분사)]에 기재되어 있는 방법으로 얻어지는 각종 수지상 물질의 사용도 가능하다. Melamine compounds are generally known as compounds having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples thereof include melamine, alkylated melamine, methylolmelamine, alkoxylated methylmelamine, and the like. It is preferable to have two or more of either or both of the alkoxylated methyl groups in total. Specifically, methylolated melamine, alkoxylated methylmelamine or derivatives thereof obtained by reacting melamine and formaldehyde under basic conditions are preferable, and in particular, in terms of obtaining good storage stability in the liquid curable resin composition, and good reactivity, Preference is given to alkoxylated methylmelamine. There is no restriction | limiting in particular in the methylolation melamine and the alkoxylation methylmelamine used as a curable compound, For example, the various kinds obtained by the method described in the literature [Plastic material course [8] urea melamine resin (Nggan High School new injection)] The use of dendritic materials is also possible.

또한, 요소계 화합물로서는, 요소 이외에 폴리메틸올화 요소 및 그의 유도체인 알콕시화 메틸요소, 우론환을 갖는 메틸올화 우론 및 알콕시화 메틸우론 등을 들 수 있다. 또한, 요소 유도체 등의 화합물에 대해서도 상기 문헌에 기재되어 있는 각종 수지상 물질의 사용이 가능하다. Examples of the urea compound include polymethylolated urea and derivatives thereof, alkoxylated methyl urea, methylolated ureon having a uron ring, alkoxylated methyluron and the like. Moreover, also about compounds, such as a urea derivative, the use of the various dendritic materials described in the said document is possible.

액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량% 중에 포함되는 경화성 화합물의 배합 비율은 통상 3 내지 70 질량%이고, 바람직하게는 3 내지 50 질량%, 더욱 바람직하게는 5 내지 30 질량%이다. 경화성 화합물의 사용량이 너무 적으면, 얻어지는 액상 경화성 수지 조성물에 의해 형성되는 박막의 내구성이 불충분해지는 경우가 있고, 3 내지 70 질량%의 범위를 벗어나면, 불소 함유 중합체와의 반응에 있어서 겔화를 피하는 것이 곤란하고, 경화물이 취약한 것으로 되는 경우가 있다. The compounding ratio of the curable compound contained in 100 mass% of solid content of a liquid curable resin composition is 3 to 70 mass% normally, Preferably it is 3 to 50 mass%, More preferably, it is 5 to 30 mass%. If the amount of the curable compound is too small, the durability of the thin film formed by the resulting liquid curable resin composition may be insufficient. If the amount is out of the range of 3 to 70 mass%, gelation is avoided in the reaction with the fluorine-containing polymer. It is difficult, and hardened | cured material may become weak.

(A) 수산기 함유 불소 함유 중합체와 (E) 경화성 화합물과의 반응은, 예를 들면 수산기 함유 불소 함유 중합체를 용해시킨 유기 용제의 용액에 경화성 화합물을 첨가하고, 적절한 시간 가열, 교반 등에 의해 반응계를 균일화시키면서 행할 수 있다. 이 반응을 위한 가열 온도는 바람직하게는 30 내지 150 ℃의 범위이고, 더욱 바람직하게는 50 내지 120 ℃의 범위이다. 이 가열 온도가 30 ℃ 미만이면, 반응의 진행이 매우 느리고, 150 ℃를 초과하면, 목적으로 하는 반응 외에, 경화성 화합물 중의 메틸올기나 알콕시화 메틸기끼리의 반응에 의한 가교 반응이 일어나 겔이 생성되기 때문에 바람직하지 않다. 반응의 진행은 메틸올기 또는 알콕시화 메틸기를 적외 분광 분석 등에 의해 정량화하는 방법, 또는 용해되어 있는 중합체를 재침전법에 의해 회수하여 그의 증가량을 측정함으로써 정량적인 확인을 행할 수 있다. The reaction of the (A) hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer with the (E) curable compound includes, for example, adding a curable compound to a solution of an organic solvent in which the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer is dissolved, and reacting the reaction system by appropriate time heating and stirring. It can carry out while making it uniform. The heating temperature for this reaction is preferably in the range of 30 to 150 ° C, more preferably in the range of 50 to 120 ° C. When this heating temperature is less than 30 degreeC, reaction progress is very slow and when it exceeds 150 degreeC, the crosslinking reaction by reaction of the methylol group and alkoxylated methyl groups in a curable compound will generate | occur | produce a gel in addition to the target reaction. Because it is not desirable. The progress of the reaction can be quantitatively confirmed by the method of quantifying the methylol group or the alkoxylated methyl group by infrared spectroscopic analysis or the like, or by recovering the dissolved polymer by reprecipitation method and measuring the increase amount thereof.

또한, (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체와 (E) 경화성 화합물과의 반응에는 유기 용제, 예를 들면 수산기 함유 불소 함유 중합체의 제조에 있어서 이용되는 유기 용제와 동일한 것을 이용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서는, 이와 같이 하여 얻어지는 수산기 함유 불소 함유 중합체와 경화성 화합물에 의한 반응 용액을 그대로 액상 경화성 수지 조성물의 용액으로서 이용할 수도 있고, 필요에 따라서 각종 첨가제를 배합한 후에 사용할 수도 있다. Moreover, it is preferable to use the same thing as the organic solvent used for manufacture of an organic solvent, for example, a hydroxyl-containing fluorine-containing polymer, for reaction of (A) hydroxyl-containing fluoropolymer and (E) curable compound. In this invention, the reaction solution by the hydroxyl-containing fluoropolymer and curable compound obtained in this way may be used as a solution of a liquid curable resin composition as it is, and may be used after mix | blending various additives as needed.

(F) 열산 발생제(F) thermal acid generator

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있는 열산 발생제는 상기 액상 경화성 수지 조성물의 도막 등을 가열하여 경화시키는 경우에 그의 가열 조건을 보다 온화한 것으로 개선할 수 있는 물질이다. 상기 열산 발생제의 구체예로서는, 예를 들면 각종 지방족 술폰산과 그의 염, 시트르산, 아세트산, 말레산 등의 각종 지방족 카르복실산과 그의 염, 벤조산, 프탈산 등의 각종 방향족 카르복실산과 그의 염, 알킬벤젠술폰산과 그의 암모늄염, 각종 금속염, 인산이나 유기산의 인산에스테르 등을 들 수 있다. The thermal acid generator which can be mix | blended with the liquid curable resin composition of this invention is a substance which can improve the heating conditions to be milder when the coating film etc. of the said liquid curable resin composition are heated and hardened | cured. As specific examples of the thermal acid generator, for example, various aliphatic carboxylic acids and salts thereof, various aliphatic carboxylic acids such as citric acid, acetic acid and maleic acid, salts thereof, various aromatic carboxylic acids such as benzoic acid and phthalic acid, salts thereof and alkylbenzene sulfonic acid And ammonium salts thereof, various metal salts, and phosphoric acid esters of phosphoric acid and organic acids.

액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량% 중에 포함되는 상기 열산 발생제의 사용 비율은 통상 0.01 내지 10 질량%, 바람직하게는 0.1 내지 5 질량%이 다. 이 비율이 너무 커지면, 액상 경화성 수지 조성물의 보존 안정성이 열악해지기 때문에 바람직하지 않다. The use ratio of the said thermal acid generator contained in 100 mass% of solid content of a liquid curable resin composition is 0.01-10 mass% normally, Preferably it is 0.1-5 mass%. If this ratio is too large, it is not preferable because the storage stability of the liquid curable resin composition becomes poor.

(G) 첨가제(G) additive

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에는 상기 액상 경화성 수지 조성물의 도포성 및 경화 후의 박막의 물성 개선이나 도막에 대한 감광성 부여 등을 목적으로 하여, 예를 들면 수산기를 갖는 다양한 중합체나 단량체, 안료 또는 염료 등의 착색제, 노화 방지제나 자외선 흡수제 등의 안정화제, 감광성 산 발생제, 계면 활성제, 중합 금지제 등의 각종 첨가제를 함유시킬 수 있다. 특히, 형성되는 경화막의 경도 및 내구성의 개선을 목적으로 광산 발생제를 첨가하는 것이 바람직하고, 특히 액상 경화성 수지 조성물의 경화 후의 투명성을 저하시키지 않고, 또한 그 용액에 균일하게 용해시키는 것을 선택하여 이용하는 것이 바람직하다. The liquid curable resin composition of the present invention includes, for example, various polymers, monomers, pigments, dyes, etc. having a hydroxyl group, for the purpose of improving the coating properties of the liquid curable resin composition, the physical properties of the thin film after curing, and providing photosensitivity to a coating film. And various additives such as stabilizers such as colorants, antioxidants, ultraviolet absorbers, photosensitive acid generators, surfactants, and polymerization inhibitors. In particular, it is preferable to add a photoacid generator for the purpose of improving the hardness and durability of the cured film to be formed, and in particular, it is used to select and dissolve uniformly in the solution without lowering the transparency after curing of the liquid curable resin composition. It is preferable.

(1) 수산기를 갖는 중합체(1) a polymer having a hydroxyl group

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있는 수산기를 갖는 중합체로서는, 예를 들면 히드록시에틸(메트)아크릴레이트 등의 수산기 함유 공중합성 단량체를 공중합하여 얻어지는 중합체, 노볼락 수지 또는 레졸 수지로서 공지된 페놀 골격을 갖는 수지 등을 들 수 있다. As a polymer which has a hydroxyl group which can be mix | blended with the liquid curable resin composition of this invention, it is known as a polymer obtained by copolymerizing hydroxyl-containing copolymerizable monomers, such as hydroxyethyl (meth) acrylate, a novolak resin, or a resol resin, for example. The resin etc. which have the phenol skeleton which were made are mentioned.

(2) 안료 또는 염료 등의 착색제(2) coloring agents such as pigments or dyes

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있는 착색제로서는, 예를 들면 (1) 알루미나 백, 점토, 탄산바륨, 황산바륨 등의 체질 안료; (2) 산화아연, 연백, 황연, 연단, 군청, 감청, 산화티탄, 크롬산아연, 철단(鐵丹), 카본 블랙 등 의 무기 안료; (3) 브릴리언트 카민 6B, 퍼머넌트 레드 6B, 퍼머넌트 레드 R, 벤지딘 옐로우, 프탈로시아닌 블루, 프탈로시아닌 그린 등의 유기 안료; (4) 마젠타, 로다민 등의 염기성 염료; (5) 다이렉트 스칼렛, 다이렉트 오렌지 등의 직접 염료; (6) 로셀린, 메타닐 옐로우 등의 산성 염료; 기타를 들 수 있다. As a coloring agent which can be mix | blended with the liquid curable resin composition of this invention, For example, (1) extender pigments, such as alumina bag, clay, barium carbonate, barium sulfate; (2) inorganic pigments such as zinc oxide, lead white, sulfur lead, briquette, ultramarine blue, royal blue, titanium oxide, zinc chromate, iron group, carbon black and the like; (3) organic pigments such as brilliant carmine 6B, permanent red 6B, permanent red R, benzidine yellow, phthalocyanine blue and phthalocyanine green; (4) basic dyes such as magenta and rhodamine; (5) direct dyes such as direct scarlet and direct orange; (6) acid dyes such as loselin and methyl yellow; And the like.

(3) 노화 방지제, 자외선 흡수제 등의 안정화제(3) stabilizers such as anti-aging agents and ultraviolet absorbers

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있는 노화 방지제, 자외선 흡수제로서는 공지된 것을 사용할 수 있다. A well-known thing can be used as an antioxidant and ultraviolet absorber which can be mix | blended with the liquid curable resin composition of this invention.

노화 방지제의 구체예로서는, 예를 들면 디-tert-부틸페놀, 피로갈롤, 벤조퀴논, 히드로퀴논, 메틸렌 블루, tert-부틸카테콜, 모노벤질에테르, 메틸히드로퀴논, 아밀퀴논, 아밀옥시히드로퀴논, n-부틸페놀, 페놀, 히드로퀴논 모노프로필에테르, 4,4'-[1-[4-(1-(4-히드록시페닐)-1-메틸에틸)페닐]에틸리덴]디페놀, 1,1,3-트리스(2,5-디메틸-4-히드록시페닐)-3-페닐프로판, 디페닐아민류, 페닐렌디아민류, 페노티아진, 머캅토벤즈이미다졸 등을 들 수 있다. Specific examples of the anti-aging agent include, for example, di-tert-butylphenol, pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert-butylcatechol, monobenzyl ether, methylhydroquinone, amylquinone, amyloxyhydroquinone and n-butyl. Phenol, phenol, hydroquinone monopropyl ether, 4,4 '-[1- [4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl] ethylidene] diphenol, 1,1,3- Tris (2,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3-phenylpropane, diphenylamines, phenylenediamines, phenothiazine, mercaptobenzimidazole and the like.

또한, 자외선 흡수제의 구체예로서는, 예를 들면 페닐살리실레이트로 대표되는 살리실산계 자외선 흡수제, 디히드록시벤조페논, 2-히드록시-4-메톡시벤조페논 등의 벤조페논계 자외선 흡수제, 벤조트리아졸계 자외선 흡수제, 시아노아크릴레이트계 자외선 흡수제 등의 각종 플라스틱 첨가제로서 사용되는 자외선 흡수제를 이용할 수 있다. Moreover, as a specific example of a ultraviolet absorber, benzophenone type ultraviolet absorbers, such as the salicylic acid type ultraviolet absorber represented by phenyl salicylate, dihydroxy benzophenone, and 2-hydroxy-4- methoxy benzophenone, benzotria, for example. The ultraviolet absorber used as various plastic additives, such as a sol type ultraviolet absorber and a cyanoacrylate type ultraviolet absorber, can be used.

(4) 감광성 산 발생제(4) photosensitive acid generator

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있는 감광성 산 발생제는 상기 액상 경화성 수지 조성물의 도막에 감광성을 부여하고, 예를 들면 빛 등의 방사선을 조사함으로써 상기 도막을 광 경화시키는 것을 가능하게 하는 물질이다. 이 감광성 산 발생제로서는, 예를 들면 (1) 요오도늄염, 술포늄염, 포스포늄염, 디아조늄염, 암모늄염, 피리디늄염 등의 각종 오늄염; (2) β-케토에스테르, β-술포닐술폰과 이들의 α-디아조 화합물 등의 술폰 화합물; (3) 알킬술폰산에스테르, 할로알킬술폰산에스테르, 아릴술폰산에스테르, 이미노술포네이트 등의 술폰산 에스테르류; (4) 하기 화학식 5로 표시되는 술폰이미드 화합물류; (5) 하기 화학식 6으로 표시되는 디아조메탄 화합물류; 기타를 들 수 있다. The photosensitive acid generator which can be blended into the liquid curable resin composition of the present invention imparts photosensitivity to the coating film of the liquid curable resin composition, and makes it possible to photocure the coating film by, for example, irradiating radiation such as light. It is a substance. As this photosensitive acid generator, it is (1) various onium salts, such as an iodonium salt, a sulfonium salt, a phosphonium salt, a diazonium salt, an ammonium salt, a pyridinium salt; (2) sulfone compounds such as β-ketoester and β-sulfonylsulfone and α-diazo compounds thereof; (3) sulfonic acid esters such as alkyl sulfonic acid esters, haloalkyl sulfonic acid esters, aryl sulfonic acid esters, and imino sulfonates; (4) sulfonimide compounds represented by the following formula (5); (5) diazomethane compounds represented by the following formula (6); And the like.

Figure 112006066817222-pct00005
Figure 112006066817222-pct00005

식 중, X는 알킬렌기, 아릴렌기, 알콕실렌기 등의 2가의 기를 나타내고, R4는 알킬기, 아릴기, 할로겐 치환 알킬기, 할로겐 치환 아릴기 등의 1가의 기를 나타낸다. In formula, X represents bivalent groups, such as an alkylene group, an arylene group, and an alkoxylene group, and R <4> represents monovalent groups, such as an alkyl group, an aryl group, a halogen substituted alkyl group, and a halogen substituted aryl group.

Figure 112006066817222-pct00006
Figure 112006066817222-pct00006

식 중, R5 및 R6은 서로 동일하거나 상이할 수도 있고, 알킬기, 아릴기, 할 로겐 치환 알킬기, 할로겐 치환 아릴기 등의 1가의 기를 나타낸다. In formula, R <5> and R <6> may be same or different from each other, and represents monovalent groups, such as an alkyl group, an aryl group, a halogen substituted alkyl group, and a halogen substituted aryl group.

감광성 산 발생제는 단독으로 또는 2종 이상을 병용할 수도 있고, 또한 상기열산 발생제와 병용할 수도 있다. 액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량부중의 감광성 산 발생제의 사용 비율은 바람직하게는 0 내지 20 질량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 10 질량부이다. 이 비율이 너무 크면, 경화막의 강도가 열악해지고, 투명성도 저하되기 때문에 바람직하지 않다. A photosensitive acid generator may be used individually or in combination of 2 or more types, and may be used together with the said thermal acid generator. The use ratio of the photosensitive acid generator in 100 mass parts of solid content of a liquid curable resin composition becomes like this. Preferably it is 0-20 mass parts, More preferably, it is 0.1-10 mass parts. If this ratio is too large, the strength of the cured film is inferior and transparency is also not preferable.

(5) 계면 활성제(5) surfactant

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에는 상기 액상 경화성 수지 조성물의 도포성을 개선할 목적으로 계면 활성제를 배합할 수 있다. 이 계면 활성제로서는 공지된 것을 사용할 수 있고, 구체적으로는 예를 들면 각종 음이온계 계면 활성제, 양이온계 계면 활성제, 비이온계 계면 활성제를 이용할 수 있지만, 특히 경화막이 우수한 강도를 가지고, 또한 양호한 광학 특성을 갖는 것으로 하기 위해서, 양이온계 계면 활성제를 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 제4급 암모늄염인 것이 바람직하고, 그 중에서도 제4급 폴리에테르암모늄염을 이용하면, 먼지 제거성이 더욱 개선되는 점에서 특히 바람직하다. 제4급 폴리에테르암모늄염인 양이온계 계면 활성제로서는, 아사히 덴카 고교사 제조 아데카콜 CC-15, CC-36, CC-42 등을 들 수 있다. 계면 활성제의 사용 비율은 액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여 바람직하게는 5 질량부 이하이다. Surfactant can be mix | blended with the liquid curable resin composition of this invention for the purpose of improving the applicability | paintability of the said liquid curable resin composition. A well-known thing can be used as this surfactant, For example, various anionic surfactant, cationic surfactant, and nonionic surfactant can be used, but especially a cured film has the outstanding strength, and also the favorable optical characteristic In order to make it have, it is preferable to use a cationic surfactant. Moreover, it is preferable that it is a quaternary ammonium salt, and especially a quaternary polyether ammonium salt is especially preferable at the point which further improves dust removal property. As cationic surfactant which is a quaternary polyether ammonium salt, Adekachol CC-15, CC-36, CC-42, etc. by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. are mentioned. The use ratio of surfactant is preferably 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of solid content of a liquid curable resin composition.

(6) 중합 금지제(6) polymerization inhibitor

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에 배합할 수 있는 열 중합 금지제로서 는, 예를 들면 피로갈롤, 벤조퀴논, 히드로퀴논, 메틸렌 블루, tert-부틸카테콜, 모노벤질에테르, 메틸히드로퀴논, 아밀퀴논, 아밀옥시히드로퀴논, n-부틸페놀, 페놀, 히드로퀴논 모노프로필에테르, 4,4'-[1-[4-(1-(4-히드록시페닐)-1-메틸에틸)페닐]에틸리덴]디페놀, 1,1,3-트리스(2,5-디메틸-4-히드록시페닐)-3-페닐프로판 등을 들 수 있다. 이 열 중합 금지제는 액상 경화성 수지 조성물의 고형분 100 질량부에 대하여 바람직하게는 5 질량부 이하로 이용된다. As a thermal polymerization inhibitor which can be mix | blended with the liquid curable resin composition of this invention, for example, pyrogallol, benzoquinone, hydroquinone, methylene blue, tert- butylcatechol, monobenzyl ether, methylhydroquinone, amylquinone, amyl Oxyhydroquinone, n-butylphenol, phenol, hydroquinone monopropyl ether, 4,4 '-[1- [4- (1- (4-hydroxyphenyl) -1-methylethyl) phenyl] ethylidene] diphenol, 1,1,3-tris (2,5-dimethyl-4-hydroxyphenyl) -3-phenylpropane etc. are mentioned. This thermal polymerization inhibitor is preferably used in an amount of 5 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the solid content of the liquid curable resin composition.

(7) (C) 및 (D) 성분 이외의 용제(7) Solvents other than (C) and (D) component

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물에는 (C) 및 (D) 성분 이외의 용제를 첨가할 수 있다. 이러한 용제의 종류와 배합량은 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 자유롭게 선택할 수 있다. Solvents other than (C) and (D) component can be added to the liquid curable resin composition of this invention. The kind and compounding quantity of such a solvent can be selected freely in the range which does not impair the effect of this invention.

2. 경화막2. Cured film

본 발명의 경화막은 상기 본 발명의 액상 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지고, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 한다. 특히, 상기 (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 1 이상의 층과 상기 (B) 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 1 이하의 층으로 이루어지는 2층 이상의 층 구조를 가지고 있는 것이 바람직하다. The cured film of this invention is obtained by hardening | curing the liquid curable resin composition of the said invention, and has a multilayer structure of two or more layers, It is characterized by the above-mentioned. In particular, it is preferable to have a two-layer or more layer structure which consists of one or more layers in which the said (B) metal oxide particle exists in high density, and one or less layers in which the said (B) metal oxide particle does not exist substantially.

또한, 후술하는 적층체는 경화막을 포함하기 때문에, 경화막의 설명은 적층체의 설명에, 적층체의 설명은 경화막의 설명에 적용할 수 있다. In addition, since the laminated body mentioned later contains a cured film, description of a cured film is applicable to description of a laminated body, and description of a laminated body is applicable to description of a cured film.

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물로부터 경화막을 형성하는 경우, 기재(적용 부재)에 대하여 코팅하는 것이 바람직하다. 이러한 코팅 방법으로서는, 침지 법, 분무법, 바 코팅법, 롤 코팅법, 스핀 코팅법, 커튼 코팅법, 그라비아 인쇄법, 실크 스크린법 또는 잉크 젯트법 등의 방법을 사용할 수 있다. When forming a cured film from the liquid curable resin composition of this invention, it is preferable to coat with respect to a base material (application member). As such a coating method, methods, such as the dipping method, the spraying method, the bar coating method, the roll coating method, the spin coating method, the curtain coating method, the gravure printing method, the silk screen method, or the ink jet method, can be used.

또한, 액상 경화성 수지 조성물을 경화하는 수단도 특별히 제한되지 않지만, 예를 들면 가열하는 것이 바람직하다. 이 경우, 30 내지 200 ℃에서 1 내지 180 분간 가열하는 것이 바람직하다. 이와 같이 가열함으로써 기재나 형성되는 경화막을 손상시키지 않고 보다 효율적으로 반사 방지성이 우수한 경화막을 얻을 수 있다. 바람직하게는 50 내지 180 ℃에서 1 내지 120 분간, 보다 바람직하게는 80 내지 150 ℃에서 1 내지 60 분간 가열한다. The means for curing the liquid curable resin composition is also not particularly limited, but heating is preferable, for example. In this case, it is preferable to heat at 30-200 degreeC for 1 to 180 minutes. By heating in this way, the cured film excellent in antireflection can be obtained more efficiently, without damaging a base material or the cured film formed. Preferably it is heated at 50-180 degreeC for 1 to 120 minutes, More preferably, it is heated at 80 to 150 degreeC for 1 to 60 minutes.

또한, 상술한 광산 발생제를 첨가함으로써, 방사선을 조사함으로써도 경화할 수 있다. 이 경우, 예를 들면 자외선 조사 장치(금속 할로겐 램프, 고압 수은 램프 등)를 이용하여 0.001 내지 10 J/cm2의 광 조사 조건 하에서 경화를 행할 수 있지만, 조사 조건은 이것으로 한정되지 않는다. 0.01 내지 5 J/cm2가 보다 바람직하고, 0.1 내지 3 J/cm2가 더욱 바람직하다. Moreover, hardening can also be carried out by irradiating a radiation by adding the photo-acid generator mentioned above. In this case, although it can harden | cure under the light irradiation conditions of 0.001-10 J / cm <2> using an ultraviolet irradiation device (metal halogen lamp, a high pressure mercury lamp, etc.), irradiation conditions are not limited to this, for example. 0.01-5 J / cm <2> is more preferable, and 0.1-3 J / cm <2> is further more preferable.

또한, 경화막의 경화 정도는, 예를 들면 경화성 화합물로서 멜라민 화합물을 이용한 경우에 멜라민 화합물의 메틸올기 또는 알콕시화 메틸기의 양을 적외 분광 분석하거나 또는 겔화율을 속슬레 추출기를 이용하여 측정함으로써 정량적으로 확인할 수 있다. In addition, the hardening degree of a cured film is quantitatively determined by infrared spectroscopic analysis of the quantity of the methylol group or the alkoxylated methyl group of a melamine compound, or the gelation rate using a Soxhlet extractor, for example, when a melamine compound is used as a curable compound. You can check it.

액상 경화성 수지 조성물을 도포 후, 조성물 중의 용제(C) 및 용제(D)가 증발하는 과정에서 (B) 금속 산화물 입자가 도포 바탕측(인접층과의 경계 부근) 또는 그의 반대측에 편재화된다. 그 때문에, 경화막의 한쪽 계면 부근에서는 (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하고, 경화막의 다른쪽 계면 부근에서는 (B) 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않기 때문에, 저굴절률의 수지층이 형성된다. 따라서, 액상 경화성 수지 조성물로 이루어지는 하나의 도막을 경화시킴으로써 실질적으로 2층 이상의 다층 구조를 갖는 경화막이 얻어진다. 이들 분리되어 형성되는 각 층은, 예를 들면 얻어진 막의 단면을 전자 현미경으로 관찰함으로써 확인할 수 있다. (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층이란, 금속 산화물 입자가 집합되어 있는 부분을 가리키는 개념이고, 실질적으로 금속 산화물 입자를 주성분으로서 구성된 층이지만, 층 내부에 (A) 성분 등이 공존하는 경우가 있다. 한편, 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이란, 금속 산화물 입자가 존재하지 않는 부분을 가리키는 개념이지만, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 약간 포함되어 있을 수도 있다. 이 층은 실질적으로 (A) 성분과 (E) 성분의 경화물 등의 금속 산화물 입자 이외의 성분으로 구성된 층이다. 본 발명의 경화막은 대부분의 경우, 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층과 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이 각각 연속된 층을 형성한 2층 구조를 갖는다. 기재에 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 수지(접착 용이층(易接着層)을 갖는 PET 수지를 포함함) 등을 이용한 경우, 통상은 기재인 층, 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층, 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이 이 순서대로 인접하여 형성된다. 2층 이상의 층 구조에 대해서는 보다 상세하게 후술한다. After apply | coating a liquid curable resin composition, (B) metal oxide particle is localized on the application | coating base side (near boundary with an adjacent layer) or the opposite side in the process of evaporating the solvent (C) and solvent (D) in a composition. Therefore, since (B) metal oxide particle exists in high density near one interface of a cured film, and (B) metal oxide particle does not exist substantially in the vicinity of the other interface of a cured film, the low refractive index resin layer is formed. . Therefore, the cured film which has a multilayered structure of two or more layers substantially is obtained by hardening | curing one coating film which consists of liquid curable resin composition. Each layer formed by these separation can be confirmed by observing the cross section of the obtained film | membrane with an electron microscope, for example. (B) A layer in which metal oxide particles are present at a high density is a concept indicating a portion in which metal oxide particles are collected, and is a layer substantially composed of metal oxide particles as a main component. There is a case. On the other hand, the layer in which the metal oxide particles do not substantially exist is a concept indicating a portion in which the metal oxide particles do not exist, but may be included slightly in a range that does not impair the effects of the present invention. This layer is a layer comprised substantially from components other than metal oxide particles, such as hardened | cured material of (A) component and (E) component. In most cases, the cured film of the present invention has a two-layer structure in which a layer in which metal oxide particles are present at a high density and a layer in which the metal oxide particles are not substantially present are each formed of a continuous layer. When a polyethylene terephthalate (PET) resin (including a PET resin having an easy adhesion layer) is used as a substrate, a layer which is usually a substrate, a layer in which metal oxide particles are present at a high density, and a metal oxide particle Are formed adjacent to each other in this order. The layer structure of two or more layers will be described later in more detail.

얻어지는 경화막은 그의 막 두께 방향으로 굴절률이 0.05 내지 0.8 변화하는 것이 바람직하고, 0.1 내지 0.6 변화하는 것이 보다 바람직하다. 또한, 상기 굴절률 변화가 상기 실질적인 2층 구조의 경계 부근에서 주요한 변화를 갖는 것이 바람직하다. It is preferable that refractive index changes 0.05-0.8 in the film thickness direction, and, as for the cured film obtained, it is more preferable that it changes 0.1-0.6. It is also desirable that the refractive index change have a major change near the boundary of the substantially two-layer structure.

굴절률의 변화 정도는 (B) 금속 산화물 입자의 함유량, 종류, (A) 불소 함유 중합체의 함유량, 조성, 및 (E) 경화성 화합물의 함유량, 종류 등에 의해 조정할 수 있다. The change degree of refractive index can be adjusted with content, a kind of (B) metal oxide particle, content, a composition of (A) fluorine-containing polymer, content, a kind, etc. of (E) curable compound.

또한, 경화막의 저굴절률 부분에서의 굴절률은 예를 들면 1.3 내지 1.5이고, 고굴절률 부분에서의 굴절률은 1.6 내지 2.2이다. In addition, the refractive index in the low refractive index part of a cured film is 1.3-1.5, for example, and the refractive index in the high refractive index part is 1.6-2.2.

3. 적층체3. Laminate

본 발명의 적층체의 제조 방법에서는 기재 상 또는 기재 상에 형성된 층 상에 상기 액상 경화성 수지 조성물을 도포하여 얻어지는 하나의 도막으로부터 용매를 증발시킴으로써(이하, 용매를 증발시키는 것을 「건조」라 하는 경우도 있음) 2 이상의 층을 형성한다. 또한, 건조 후에는 용매가 완전히 없어진 상태가 아닐 수도 있고, 경화막으로서의 특성이 얻어지는 범위에서 용매가 잔존할 수도 있다. 또한, 본 발명에서는 하나의 도막으로부터 2 이상의 층의 형성을 2회 이상 실시할 수 있다. In the manufacturing method of the laminated body of this invention, when a solvent is evaporated from one coating film obtained by apply | coating the said liquid curable resin composition on the base material or the layer formed on the base material (Hereinafter, evaporating a solvent is called "drying." Also forms two or more layers). In addition, after drying, the solvent may not be completely eliminated, and a solvent may remain in the range from which the characteristic as a cured film is obtained. In addition, in this invention, formation of two or more layers from one coating film can be performed twice or more.

특정 액상 경화성 수지 조성물을 통상의 방법으로 도포하고, 그 후 건조시키면 2 이상의 층으로 분리된다. 여기서, 2 이상의 층이란 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층」과 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층」을 모두 포함하는 2 이상의 층인 경우도 있고, 또한 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층」만으로 이루어지는 2 이상의 층인 경우도 있다. The specific liquid curable resin composition is applied in a conventional manner, and then dried to separate into two or more layers. Here, two or more layers may be two or more layers containing both "a layer in which a metal oxide particle exists in high density", and a "layer in which a metal oxide particle does not exist substantially", and "the metal oxide particle exists in high density. It may be two or more layers which consist only of "layer to say."

이하, 도면을 이용하여 「2 이상의 층의 각 층이 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 또는 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이며, 1층 이상은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층」에 대하여 설명한다. 도 1A는 2 이상의 층이 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1)」과 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층 (3)」의 2층인 경우를 나타낸다. 도 1B는 2 이상의 층이 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1), (1a)」의 2층인 경우를 나타낸다. 도 1C는 2 이상의 층이 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1), (1a)」와 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층 (3)」의 3층인 경우를 나타낸다. 도 1D는 2 이상의 층이 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1), (1a)」와 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층 (3)」의 3층인 경우를 나타낸다. 도 1E는 2 이상의 층이 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1b)」와 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층 (3)」의 2층인 경우를 나타낸다. Hereinafter, referring to the drawings, "each layer of two or more layers is a layer in which metal oxide particles are present at high density, or a layer in which metal oxide particles are substantially not present, and at least one layer is a layer in which metal oxide particles are present at high density." It demonstrates. FIG. 1A shows the case where two or more layers are two layers of "layer (1) in which metal oxide particles are present at high density" and "layer (3) in which metal oxide particles do not substantially exist". 1B shows the case where two or more layers are two layers of "layers (1) and (1a) in which metal oxide particles are present at high density". FIG. 1C shows the case where two or more layers are three layers of "layers (1) and (1a) in which metal oxide particles are present at high density" and "layer (3) in which metal oxide particles are substantially absent." FIG. 1D shows a case where two or more layers are three layers of "layers (1) and (1a) in which metal oxide particles are present at high density" and "layer (3) in which metal oxide particles are substantially absent." FIG. 1E shows the case where two or more layers are two layers of "layer (1b) in which metal oxide particles are present at high density" and "layer (3) in which metal oxide particles do not substantially exist".

액상 경화성 수지 조성물이 2종 이상의 금속 산화물 입자를 포함할 때는, 도 1B, 1C, 1D에 나타낸 바와 같이 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층」이 2종류 이상 형성될 수 있다. When the liquid curable resin composition contains two or more kinds of metal oxide particles, two or more kinds of "layers in which metal oxide particles exist at high density" may be formed as shown in FIGS. 1B, 1C, and 1D.

또한, 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층」의 「금속 산화물 입자」는 1종 이상, 즉 1종 또는 2종 이상의 「금속 산화물 입자」를 의미한다. 액상 경화성 수지 조성물이 2종 이상의 금속 산화물 입자를 포함하는 경우, 「금속 산화 물 입자가 고밀도로 존재하는 층」이 2종 이상의 금속 산화물 입자로 구성되어 있을 수 있다(예를 들면, 도 1E). 도 1E에서는 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1b)」가 입자 X와 입자 Y로 구성되어 있다. 입자 Y가 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1b)」의 두께보다 크기 때문에, 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층 (3)」에 돌출되어 있지만, 이 돌출 부분도 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1b)」에 포함된다.In addition, the "metal oxide particle" of the "layer in which metal oxide particle exists in high density" means 1 or more types, ie, 1 or 2 or more types of "metal oxide particle." When the liquid curable resin composition contains two or more kinds of metal oxide particles, the "layer in which the metal oxide particles are present at high density" may be composed of two or more kinds of metal oxide particles (for example, FIG. 1E). In FIG. 1E, the "layer (1b) in which metal oxide particles exist at high density" is composed of particles X and Y. Since the particle Y is larger than the thickness of the "layer (1b) in which the metal oxide particles are present at a high density", it protrudes into the "layer (3) in which the metal oxide particles do not substantially exist," but this protruding portion is also "metal oxide." Layer (1b) in which particles are present at high density ”.

또한, 도 1A 내지 1E에서는 「금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층 (3)」에는 통상 금속 산화물 입자가 존재하지 않지만, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 약간 포함되어 있을 수도 있다. 또한, 「금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 (1), (1a), (1b)」도 동일하게 금속 산화물 입자 이외의 다른 물질이 포함되어 있을 수도 있다. In addition, in FIG. 1A-1E, although the metal oxide particle does not exist normally in the "layer (3) which a metal oxide particle does not exist substantially", it may be included in the range which does not impair the effect of this invention. In addition, "layers (1), (1a), and (1b) in which metal oxide particles are present at high density" may also contain other materials other than metal oxide particles.

액상 경화성 수지 조성물의 도포법으로서는 공지된 도포 방법을 사용할 수 있고, 특히 침지법, 코팅법, 인쇄법 등 각종 방법을 적용할 수 있다. As a coating method of a liquid curable resin composition, a well-known coating method can be used, In particular, various methods, such as an immersion method, a coating method, and a printing method, can be applied.

건조는 통상 실온으로부터 100 ℃ 정도의 가열로 1 내지 60 분 정도 실시된다. Drying is normally performed for about 1 to 60 minutes by heating at about 100 degreeC from room temperature.

바람직하게는 이들 2 이상의 층을 가열에 의해 경화시킨다. 구체적인 경화 조건은 후술한다. Preferably these two or more layers are cured by heating. Specific curing conditions will be described later.

본 발명에서는 액상 경화성 수지 조성물을 용액상으로 각종 기재에 도포하고, 얻어진 도막을 건조/경화시켜 적층체를 얻을 수 있다. 예를 들면, 기재가 투명 기재인 경우에는 최외층에 저굴절률층을 설치함으로써 우수한 반사 방지막이 형 성된다. In this invention, a liquid curable resin composition is apply | coated to various base materials in solution form, and the obtained coating film can be dried / cured, and a laminated body can be obtained. For example, when the substrate is a transparent substrate, an excellent antireflection film is formed by providing a low refractive index layer on the outermost layer.

반사 방지막의 구체적인 구조는 통상 기재 및 저굴절률막, 또는 기재, 고굴절률막 및 저굴절률막을 이 순서로 적층한 것이고, 이 외에 기재, 고굴절률막 및 저굴절률막 사이에 다른 층을 개재시킬 수도 있으며, 예를 들면 하드 코팅층, 대전 방지층, 중굴절률층, 저굴절률층, 고굴절률층의 조합 등의 층을 설치할 수 있다. The specific structure of the anti-reflection film is a laminate of a substrate and a low refractive index film, or a substrate, a high refractive index film, and a low refractive film in this order. In addition, another layer may be interposed between the substrate, the high refractive film, and the low refractive film. For example, layers, such as a combination of a hard coating layer, an antistatic layer, a medium refractive index layer, a low refractive index layer, and a high refractive index layer, can be provided.

도 2는 기재 (10) 상에 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. 2 shows an antireflection film in which a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on the substrate 10.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

도 3은 기재 (10) 상에 하드 코팅층 (20), 대전 방지층 (30), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. FIG. 3 shows an antireflection film in which a hard coating layer 20, an antistatic layer 30, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated on this substrate 10 in this order.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

도 4는 기재 (10) 상에 대전 방지층 (30), 하드 코팅층 (20), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. 4 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a hard coating layer 20, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated on the substrate 10 in this order.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

도 5는 기재 (10) 상에 하드 코팅층 (20), 대전 방지층 (30), 중굴절률층 (60), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. 5 shows an antireflection film in which a hard coating layer 20, an antistatic layer 30, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on a substrate 10. Indicates.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. 또는, 중굴절률층 (60) 및 고굴절률층 (40)은 모두 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에 해당하거나, 또는 중굴절률층 (60)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles. Alternatively, both the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 correspond to layers in which metal oxide particles are present at a high density, or the medium refractive index layer 60 is formed in a layer where the metal oxide particles are present at a high density. The refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 중굴절률층 (60)과 고굴절률층 (40), 또는 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. 바람직하게는, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성한다. According to the present invention, the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40, or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

도 6은 기재 (10) 상에 대전 방지층 (30), 하드 코팅층 (20), 중굴절률층 (60), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지 막을 나타낸다. 6 shows an antireflection in which an antistatic layer 30, a hard coating layer 20, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on the substrate 10. It represents a film.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. 또는, 중굴절률층 (60) 및 고굴절률층 (40)은 모두 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에 해당하거나, 또는 중굴절률층 (60)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles. Alternatively, both the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 correspond to layers in which metal oxide particles are present at a high density, or the medium refractive index layer 60 is formed in a layer where the metal oxide particles are present at a high density. The refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 중굴절률층 (60)과 고굴절률층 (40), 또는 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. 바람직하게는, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성한다. According to the present invention, the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40, or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

도 7은 기재 (10) 상에 하드 코팅층 (20), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. FIG. 7 shows an antireflection film in which a hard coating layer 20, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on the substrate 10. As shown in FIG.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

도 8은 기재 (10) 상에 하드 코팅층 (20), 중굴절률층 (60), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. FIG. 8 shows an antireflection film in which a hard coating layer 20, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on the substrate 10. As shown in FIG.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. 또는, 중굴절률층 (60) 및 고굴절률층 (40)은 모두 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에 해당하거나, 또는 중굴절률층 (60)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles. Alternatively, both the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 correspond to layers in which metal oxide particles are present at a high density, or the medium refractive index layer 60 is formed in a layer where the metal oxide particles are present at a high density. The refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 중굴절률층 (60)과 고굴절률층 (40), 또는 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. 바람직하게는, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성한다. According to the present invention, the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40, or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

도 9는 기재 (10) 상에 대전 방지층 (30), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. 9 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a high refractive index layer 40 and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on the substrate 10. As shown in FIG.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. According to the present invention, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film.

도 10은 기재 (10) 상에 대전 방지층 (30), 중굴절률층 (60), 고굴절률층 (40) 및 저굴절률층 (50)이 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막을 나타낸다. FIG. 10 shows an antireflection film in which an antistatic layer 30, a medium refractive index layer 60, a high refractive index layer 40, and a low refractive index layer 50 are laminated in this order on the substrate 10. As shown in FIG.

이 반사 방지막에 있어서, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 저굴절률층 (50)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. 또는, 중굴절률층 (60) 및 고굴절률층 (40)은 모두 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에 해당하거나, 또는 중굴절률층 (60)은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층에, 고굴절률층 (40)은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층에 해당한다. In this anti-reflection film, the high refractive index layer 40 corresponds to a layer having high density of metal oxide particles, and the low refractive index layer 50 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles. Alternatively, both the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40 correspond to layers in which metal oxide particles are present at a high density, or the medium refractive index layer 60 is formed in a layer where the metal oxide particles are present at a high density. The refractive index layer 40 corresponds to a layer substantially free of metal oxide particles.

본 발명에 따르면, 중굴절률층 (60)과 고굴절률층 (40), 또는 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성할 수 있다. 바람직하게는, 고굴절률층 (40)과 저굴절률층 (50)을 하나의 도막으로부터 형성한다. According to the present invention, the medium refractive index layer 60 and the high refractive index layer 40, or the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 can be formed from one coating film. Preferably, the high refractive index layer 40 and the low refractive index layer 50 are formed from one coating film.

또한, 상기 반사 방지막에 있어서 사용되는 액상 경화성 수지 조성물에 포함되는 금속 산화물로서, 안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자 등의 도전성 입자를 첨가하면, 얻어지는 금속 산화물을 고밀도로 포함하는 층이 대전 방지성을 갖는 막이 된다. 따라서, 예를 들면 고굴절률층 또는 중굴절률층을, 이러한 대전 방지성을 갖는 금속 산화물을 고밀도로 포함하는 층으로서 형성하면, 고굴절률층 또는 중굴절률층은 대전 방지성을 겸한 막으로 할 수 있다. 이 경우, 대전 방지막의 형성을 생략할 수 있다. Moreover, when electroconductive particle, such as antimony containing tin oxide (ATO) particle | grains, is added as a metal oxide contained in the liquid curable resin composition used for the said antireflection film, the layer containing a high density of the metal oxide obtained will be antistatic property. It has a film. Therefore, for example, when a high refractive index layer or a medium refractive index layer is formed as a layer containing such an antistatic metal oxide at a high density, the high refractive index layer or the medium refractive index layer can be an antistatic film. . In this case, the formation of the antistatic film can be omitted.

반사 방지막에 있어서의 본 발명의 경화막의 막 두께는, 예를 들면 0.05 ㎛ 내지 50 ㎛이지만, 이것으로 한정되지 않는다. Although the film thickness of the cured film of this invention in an antireflection film is 0.05 micrometer-50 micrometers, for example, it is not limited to this.

다음에, 상기 반사 방지막의 각 층에 대하여 설명한다. Next, each layer of the antireflection film will be described.

(1) 기재(1) mention

본 발명의 반사 방지막에 사용되는 기재의 종류는 특별히 제한되지 않지만, 기재의 구체예로서는, 예를 들면 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(도레이(주) 제조 루밀러 등), 유리, 폴리카르보네이트 수지, 아크릴 수지, 스 티릴 수지, 아크릴레이트 수지, 노르보르넨계 수지(JSR(주) 제조 아톤, 닛본 제온(주) 제조 제오넥스 등), 메틸메타크릴레이트/스티렌 공중합체 수지, 폴리올레핀 수지 등의 각종 투명 플라스틱판, 필름 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 트리아세틸셀룰로오스, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지(도레이(주) 제조 루밀러 등), 노르보르넨계 수지(JSR(주) 제조 아톤 등)이다. Although the kind of base material used for the antireflection film of this invention is not restrict | limited, As a specific example of a base material, For example, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate resin (Rumiler made by Toray Co., Ltd.), glass, polycarbonate Resins, acrylic resins, styryl resins, acrylate resins, norbornene-based resins (Aton manufactured by JSR Corporation, Zeonex manufactured by Nippon Xeon Corporation, etc.), methyl methacrylate / styrene copolymer resins, polyolefin resins, and the like. Various transparent plastic plates, films, etc. are mentioned. Preferably, they are triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate resin (Rumiler made by Toray Corporation etc.), and norbornene-type resin (Aton made by JSR Corporation etc.).

(2) 저굴절률층 (2) low refractive index layer

저굴절률층이란, 파장 589 nm에서의 굴절률이 1.20 내지 1.55인 층을 나타낸다. The low refractive index layer refers to a layer having a refractive index of 1.20 to 1.55 at a wavelength of 589 nm.

저굴절률층에 사용되는 재료로는 목적으로 하는 특성이 얻어지면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 불소 함유 중합체를 함유하는 경화성 조성물, 아크릴 단량체, 불소 함유 아크릴 단량체, 에폭시기 함유 화합물, 불소 함유 에폭시기 함유 화합물 등의 경화물을 들 수 있다. 또한, 저굴절률층의 강도를 올리기 위해서 실리카 미립자 등을 배합할 수도 있다. Although the material used for a low refractive index layer will not be specifically limited if the target characteristic is acquired, For example, the curable composition containing a fluorine-containing polymer, an acrylic monomer, a fluorine-containing acrylic monomer, an epoxy-group-containing compound, a fluorine-containing epoxy group-containing compound Hardened | cured material, such as these, can be mentioned. Moreover, in order to raise the intensity | strength of a low refractive index layer, you may mix | blend a silica fine particle etc ..

(3) 고굴절률층(3) high refractive index layer

고굴절률층이란, 파장 589 nm에서의 굴절률이 1.50 내지 2.20이며 저굴절률층보다 높은 굴절률을 갖는 층을 나타낸다. The high refractive index layer refers to a layer having a refractive index of 1.50 to 2.20 at a wavelength of 589 nm and having a higher refractive index than the low refractive index layer.

고굴절률층을 형성하기 위해서 고굴절률의 무기 입자, 예를 들면 금속 산화물 입자를 배합할 수 있다. In order to form a high refractive index layer, high refractive index inorganic particles, for example, metal oxide particles can be blended.

금속 산화물 입자의 구체예로서는, 안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자, 주석 함유 산화인듐(ITO) 입자, 산화아연(ZnO) 입자, 안티몬 함유 산화아연, 알루미늄 함유 산화아연 입자, 지르코니아(ZrO2) 입자, 산화티탄(TiO2) 입자, 실리카 피복 산화티탄 입자, Al2O3/ZrO2 피복 TiO2 입자, 세리아(CeO2) 입자, 인 함유 산화 주석(PTO) 입자 등을 들 수 있다. 바람직하게는, 안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자, 주석 함유 산화인듐(ITO) 입자, 인 함유 산화주석 입자, 알루미늄 함유 산화아연 입자, Al2O3/ZrO2 피복 TiO2 입자이다. 이들 금속 산화물 입자는 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다.Specific examples of the metal oxide particles include antimony-containing tin oxide (ATO) particles, tin-containing indium oxide (ITO) particles, zinc oxide (ZnO) particles, antimony-containing zinc oxide, aluminum-containing zinc oxide particles, zirconia (ZrO 2 ) particles, Titanium oxide (TiO 2 ) particles, silica coated titanium oxide particles, Al 2 O 3 / ZrO 2 coated TiO 2 Particles, ceria (CeO 2 ) particles, phosphorus-containing tin oxide (PTO) particles, and the like. Preferably, they are antimony-containing tin oxide (ATO) particles, tin-containing indium oxide (ITO) particles, phosphorus-containing tin oxide particles, aluminum-containing zinc oxide particles, and Al 2 O 3 / ZrO 2 coated TiO 2 particles. These metal oxide particles can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

또한, 고굴절률층에 하드 코팅층이나 대전 방지층의 기능을 갖게 할 수도 있다. In addition, the high refractive index layer may have a function of a hard coating layer or an antistatic layer.

(4) 중굴절률층 (4) medium refractive index layer

3종 이상의 굴절률을 갖는 층을 조합시키는 경우에, 파장 589 nm에서의 굴절률이 1.50 내지 1.90이며, 저굴절률층보다 높고, 고굴절률층보다 낮은 굴절률을 갖는 층을 중굴절률층이라 나타낸다. 중굴절률층의 굴절률은 바람직하게는 1.50 내지 1.80, 보다 바람직하게는 1.50 내지 1.75이다. When combining layers having three or more refractive indices, a refractive index at a wavelength of 589 nm is 1.50 to 1.90, and a layer having a refractive index higher than the low refractive index layer and lower than the high refractive index layer is referred to as a medium refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.50 to 1.80, more preferably 1.50 to 1.75.

중굴절률층을 형성하기 위해서 고굴절률의 무기 입자, 예를 들면 금속 산화물 입자를 배합할 수 있다. In order to form a medium refractive index layer, high refractive index inorganic particles, for example, metal oxide particles can be blended.

금속 산화물 입자의 구체예로서는, 안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자, 주석 함유 산화인듐(ITO) 입자, 산화아연 입자, 안티몬 함유 산화아연, 알루미늄 함유 산화아연 입자, 지르코니아(ZrO2) 입자, 산화티탄 입자, 실리카 피복 산화티탄 입 자, Al2O3/ZrO2 피복 TiO2 입자, 세리아(CeO2) 입자 등을 들 수 있다. 바람직하게는 안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자, 주석 함유 산화인듐(ITO) 입자, 알루미늄 함유 산화아연 입자, 지르코니아(ZrO2) 입자, 인 함유 산화주석(PTO) 입자이다. 이들 금속 산화물 입자는 1종 단독 또는 2종 이상의 조합으로 사용할 수 있다. Specific examples of the metal oxide particles include antimony-containing tin oxide (ATO) particles, tin-containing indium oxide (ITO) particles, zinc oxide particles, antimony-containing zinc oxide, aluminum-containing zinc oxide particles, zirconia (ZrO 2 ) particles, and titanium oxide particles. , Silica coated titanium oxide particles, Al 2 O 3 / ZrO 2 coated TiO 2 particles, ceria (CeO 2 ) particles, and the like. Preferably, they are antimony-containing tin oxide (ATO) particles, tin-containing indium oxide (ITO) particles, aluminum-containing zinc oxide particles, zirconia (ZrO 2 ) particles, and phosphorus-containing tin oxide (PTO) particles. These metal oxide particles can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

또한, 중굴절률층에 하드 코팅층이나 대전 방지층의 기능을 갖게 할 수도 있다. The medium refractive index layer may also have a function of a hard coating layer and an antistatic layer.

저굴절률층과 고굴절률층을 조합함으로써 반사율을 낮게 할 수 있고, 또한 저굴절률층, 고굴절률층, 중굴절률층을 조합함으로써 반사율을 낮게 할 수 있음과 동시에 번쩍임, 청색조(색)를 감소시킬 수 있다. The combination of the low refractive index layer and the high refractive index layer can lower the reflectance, and the combination of the low refractive index layer, the high refractive index layer, and the medium refractive index layer can lower the reflectance and reduce the glare and blue tone (color). Can be.

(5) 하드 코팅층(5) hard coating layer

하드 코팅층의 구체예로서는 SiO2, 에폭시계 수지, 아크릴계 수지, 멜라민계 수지 등의 재료로 구성하는 것이 바람직하다. 또한, 이들 수지에 실리카 입자를 배합할 수도 있다. It is composed of a hard coat layer such as a concrete example of SiO 2, an epoxy resin, an acrylic resin, a melamine-based resin material is preferable. Moreover, silica particle can also be mix | blended with these resin.

하드 코팅층은 적층체의 기계적 강도를 높이는 효과가 있다. The hard coating layer has the effect of increasing the mechanical strength of the laminate.

(6) 대전 방지층(6) antistatic layer

대전 방지층의 구체예로서는, 안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자, 주석 함유 산화인듐(ITO) 입자, 알루미늄 함유 산화아연 입자, 인 함유 산화주석 입자 등의 도전성을 갖는 금속 산화물 입자, 또는 유기 또는 무기 도전성 화합물을 첨가한 경화성 막, 상기 금속 산화물을 증착 또는 스퍼터링함으로써 얻어지는 금속 산화물 막, 도전성 유기 고분자를 포함하는 막을 들 수 있다. 도전성 유기 고분자로서는 폴리아세틸렌계 도전성 고분자, 폴리아닐린계 도전성 고분자, 폴리티오펜계 도전성 고분자, 폴리피롤계 도전성 고분자, 폴리페닐렌비닐렌계 도전성 고분자 등을 예시할 수 있다. 또한, 상술한 바와 같이, 본 발명에서 사용하는 액상 경화성 수지 조성물에 포함되는 금속 산화물로서, ATO 입자, ITO 입자, 안티몬 함유 산화아연 입자, 알루미늄 함유 산화아연 입자, 인 함유 산화주석 입자 등의 도전성 입자를 첨가하면, 얻어지는 금속 산화물을 고밀도로 포함하는 층이 대전 방지성을 갖는 막이 된다. 이 경우, 별도의 대전 방지막의 형성을 생략할 수 있다. Specific examples of the antistatic layer include metal oxide particles having conductivity such as antimony-containing tin oxide (ATO) particles, tin-containing indium oxide (ITO) particles, aluminum-containing zinc oxide particles, phosphorus-containing tin oxide particles, or organic or inorganic conductive compounds. The film containing the curable film which added this, the metal oxide film obtained by depositing or sputtering the said metal oxide, and a conductive organic polymer is mentioned. Examples of the conductive organic polymer include polyacetylene-based conductive polymers, polyaniline-based conductive polymers, polythiophene-based conductive polymers, polypyrrole-based conductive polymers, and polyphenylenevinylene-based conductive polymers. As described above, as the metal oxide included in the liquid curable resin composition used in the present invention, conductive particles such as ATO particles, ITO particles, antimony-containing zinc oxide particles, aluminum-containing zinc oxide particles, and phosphorus-containing tin oxide particles When added, the layer containing the metal oxide obtained at high density becomes a film which has antistatic property. In this case, formation of another antistatic film can be omitted.

대전 방지층은 적층체에 도전성을 부여함으로써 대전에 의한 먼지 등의 부착을 방지한다. The antistatic layer prevents adhesion of dust and the like due to electrification by imparting conductivity to the laminate.

이들 층은 한층만 형성할 수도 있고, 또한 다른 층을 2층 이상 형성할 수도 있다. These layers may form only one layer, and may also form two or more other layers.

또한, 저, 중, 고굴절률층의 막 두께는 각각 통상 60 내지 150 nm, 대전 방지층의 막 두께는 통상 0.05 내지 3 ㎛, 하드 코팅층의 막 두께는 통상 1 내지 20 ㎛이다. In addition, the film thickness of the low, medium and high refractive index layers is usually 60 to 150 nm, the film thickness of the antistatic layer is usually 0.05 to 3 µm, and the film thickness of the hard coating layer is usually 1 to 20 µm.

본 발명에서는 적층체의 임의의 연속되는 2 이상의 층을 본 발명의 제조 방법으로 형성할 수 있지만, 본 발명의 제조 방법에 따르지 않는 층의 제조 방법은 공지된 도포와 경화, 증착, 스퍼터링 등의 방법에 의해 제조할 수 있다.In the present invention, any two or more successive layers of the laminate can be formed by the production method of the present invention, but the production method of the layer not in accordance with the production method of the present invention is a method such as known coating and curing, vapor deposition, sputtering, and the like. It can manufacture by.

또한, 본 발명에 의한 액상 경화성 수지 조성물로 이루어지는 층은, 경화시켜 우수한 광학 특성과 내구성을 갖는 경화막을 형성시키기 위해서, 특히 가열에 의한 열 이력을 제공하는 것이 바람직하다. 물론, 상온에서 방치한 경우에도 시간의 경과와 함께 경화 반응이 진행되어 목적으로 하는 경화막이 형성되지만, 실제로는 가열하여 경화시키는 것이 소요 시간을 단축하는 데에 효과적이다. 또한, 열산 발생제를 경화 촉매로서 첨가해 둠으로써 경화 반응을 더욱 촉진시킬 수 있다. 이 경화 촉매로서는 특별히 제한은 없고, 일반적인 우레아 수지, 멜라민 수지 등을 위한 경화제로서 사용되고 있는 각종 산류나 그의 염류를 이용할 수 있고, 특히 암모늄염을 바람직하게 이용할 수 있다. 경화 반응을 위한 가열 조건은 적절하게 선택할 수 있지만, 가열 온도는 도포의 대상인 기재의 내열 한계 온도 이하인 것이 필요하다.Moreover, in order to harden | cure the layer which consists of liquid curable resin composition by this invention to form the cured film which has the outstanding optical characteristic and durability, it is preferable to provide the heat history by heating especially. Of course, even when left at room temperature, the curing reaction proceeds with the passage of time to form a target cured film, but in practice, heating and curing are effective for shortening the required time. In addition, the curing reaction can be further promoted by adding a thermal acid generator as a curing catalyst. There is no restriction | limiting in particular as this hardening catalyst, Various acids and its salts used as hardening | curing agent for general urea resin, melamine resin, etc. can be used, Especially an ammonium salt can be used preferably. Although the heating conditions for hardening reaction can be selected suitably, heating temperature needs to be below the heat-resistant limit temperature of the base material of application | coating.

본 발명에 따르면, 하나의 도막으로부터 2 이상의 층을 형성할 수 있기 때문에 적층체의 제조 공정을 간략화할 수 있다. According to this invention, since two or more layers can be formed from one coating film, the manufacturing process of a laminated body can be simplified.

또한, 금속 산화물 입자를 편재화시킴으로써 적층체의 내찰상성을 향상시킬 수 있다. In addition, scratch resistance of the laminate can be improved by localizing the metal oxide particles.

본 발명의 적층체는 반사 방지막 외에도, 예를 들면 렌즈, 선택 투과막 필터 등의 광학용 부품에 사용할 수 있다. The laminated body of this invention can be used for optical components, such as a lens and a selective permeable membrane filter, in addition to an antireflection film.

이하의 설명에 있어서, 「부」 또는 「%」는 특별히 언급하지 않는 한 「질량부」 또는 「질량%」를 나타낸다. In the following description, "part" or "%" shows a "mass part" or the "mass%" unless there is particular notice.

제조예 1Preparation Example 1

(1) 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물의 합성(1) Synthesis of Organic Compound Having Polymeric Unsaturation

교반기가 부착된 용기 내의 머캅토프로필트리메톡시실란 221 부 및 디부틸주석디라우레이트 1 부의 혼합 용액에 이소포론 디이소시아네이트 222 부를 건조 공기 중에 50 ℃에서 1 시간에 걸쳐 적하한 후, 또한 70 ℃에서 3 시간 교반하였다. 222 parts of isophorone diisocyanate were dripped at 50 degreeC over 1 hour in dry air over the mixed solution of 221 parts of mercaptopropyl trimethoxysilane and 1 part of dibutyltin dilaurates in the container with a stirrer, and also 70 degreeC Stirred for 3 hours.

계속해서, 이 반응 용액 중에 신나카무라 가가꾸 제조 NK 에스테르 A-TMM-3 LM-N(펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 60 질량%와 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 40 질량%로 이루어진다. 이 중, 반응에 관여하는 것은 수산기를 갖는 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트만임) 549 부를 30 ℃에서 1 시간에 걸쳐 적하한 후, 또한 60 ℃에서 10 시간 교반하여 반응액을 얻었다. Subsequently, it consists of NK ester A-TMM-3 LM-N (60 mass% of pentaerythritol triacrylates and 40 mass% of pentaerythritol tetraacrylates) by the Shin-Nakamura Chemical Corporation in this reaction solution. 549 parts of pentaerythritol triacrylate having a hydroxyl group were added dropwise at 30 ° C. over 1 hour, followed by stirring at 60 ° C. for 10 hours to obtain a reaction solution.

이 반응액 중의 생성물, 즉 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물에 있어서의 잔존 이소시아네이트량을 FT-IR에서 측정한 결과, 0.1 질량% 이하이고, 각 반응이 거의 정량적으로 행해진 것을 확인하였다. 이상으로부터, 티오우레탄 결합, 우레탄 결합, 알콕시실릴기 및 중합성 불포화기를 갖는 화합물 773 부와 반응에 관여하지 않은 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 220 부의 조성물(A-1)을 얻었다. As a result of measuring the amount of remaining isocyanate in the product in this reaction liquid, ie, the organic compound which has a polymerizable unsaturated group, by FT-IR, it was 0.1 mass% or less, and it confirmed that each reaction was performed almost quantitatively. From the above, 773 parts of compounds which have a thiourethane bond, a urethane bond, an alkoxysilyl group, and a polymerizable unsaturated group, and the composition (A-1) of 220 parts of pentaerythritol tetraacrylate which were not involved in reaction were obtained.

제조예 2Preparation Example 2

(2) 우레탄 아크릴레이트의 합성(2) Synthesis of Urethane Acrylate

교반기가 붙은 용기 내의 이소포론 디이소시아네이트 18.8 부와 디부틸주석디라우레이트 0.2 부로 이루어지는 용액에 대하여 신나카무라 가가꾸 제조 NK 에스테르 A-TMM-3LM-N(반응에 관여하는 것은 수산기를 갖는 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트만임) 93 부를 10 ℃, 1 시간의 조건에서 적하한 후, 60 ℃, 6 시간의 조건에서 교반하여 반응액으로 하였다. NK ester A-TMM-3LM-N manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. in a solution consisting of 18.8 parts of isophorone diisocyanate and 0.2 part of dibutyltin dilaurate in a container with a stirrer After only 93 parts of triacrylates were dripped on the conditions of 10 degreeC and 1 hour, it stirred on the conditions of 60 degreeC and 6 hours, and set it as the reaction liquid.

이 반응액 중의 생성물, 즉 제조예 1과 동일하게 하여 잔존 이소시아네이트량을 FT-IR에서 측정한 결과, 0.1 질량% 이하이고, 반응이 거의 정량적으로 행해진 것을 확인하였다. 또한, 분자 내에 우레탄 결합 및 아크릴로일기(중합성 불포화기)를 포함하는 것을 확인하였다. As a result of measuring the amount of remaining isocyanate in FT-IR in the same manner as in Production Example 1, that is, Production Example 1, the reaction was confirmed to be 0.1 mass% or less, and the reaction was almost quantitatively performed. In addition, it was confirmed that the molecule contains a urethane bond and acryloyl group (polymerizable unsaturated group).

이상으로부터 우레탄 헥사아크릴레이트 화합물이 75 부 얻어지고, 반응에 관여하지 않은 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트 37 부가 혼재된 조성물(A-2)를 얻었다. 75 parts of urethane hexaacrylate compounds were obtained from the above, and the composition (A-2) which mixed 37 parts of pentaerythritol tetraacrylates which did not participate in reaction was obtained.

제조예 3Preparation Example 3

[실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물의 제조] [Production of Composition for Silica Particle-containing Hard Coating Layer]

제조예 1에서 제조한 중합성 불포화기를 포함하는 조성물(A-1) 2.32 부, 실리카 입자 졸(메틸에틸케톤 실리카 졸, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조 MEK-ST, 수평균 입경 0.022 ㎛, 실리카 농도 30 %) 91.3 부(실리카 입자로서 27 부), 이온 교환수0.12 부 및 p-히드록시페닐모노메틸에테르 0.01 부의 혼합액을 60 ℃에서 4 시간 교반 후, 오르토포름산 메틸에스테르 1.36 부를 첨가하고, 동일 온도에서 1 시간 더 가열 교반함으로써 반응성 입자(분산액(A-3))를 얻었다. 이 분산액(A-3)을 알루미늄 접시에 2 g 칭량한 후, 175 ℃의 핫 플레이트 상에서 1 시간 건조, 칭량하여 고형분 함량을 구한 결과, 30.7 %였다. 또한, 분산액(A-3)을 자성(磁性) 도가니에 2 g 칭량한 후, 80 ℃의 핫 플레이트 상에서 30 분 예비 건조시키고, 750 ℃의 머플 로 내에서 1 시간 소성한 후의 무기 잔사로부터 고형분 중의 무기 함량을 구한 결과, 90 %였다. 2.32 parts of compositions (A-1) containing a polymerizable unsaturated group prepared in Production Example 1, silica particle sol (methyl ethyl ketone silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. MEK-ST, number average particle diameter 0.022 µm, silica Concentration 30%) After stirring a mixture liquid of 91.3 parts (27 parts as silica particles), 0.12 parts of ion-exchanged water, and 0.01 parts of p-hydroxyphenyl monomethyl ether at 60 degreeC for 4 hours, 1.36 parts of ortho formic acid methyl esters are added, and Reactive particles (dispersion liquid (A-3)) were obtained by heating and stirring at the temperature for 1 hour. After weighing 2g of this dispersion liquid (A-3) to the aluminum dish, it dried for 1 hour and weighed on the hot plate of 175 degreeC, and calculated | required solid content, and it was 30.7%. Furthermore, after weighing 2 g of the dispersion liquid (A-3) in a magnetic crucible, preliminarily drying for 30 minutes on a hot plate at 80 ° C., and in solid content from the inorganic residue after firing for 1 hour in a muffle furnace at 750 ° C. It was 90% when the inorganic content was calculated | required.

이 분산액(A-3) 98.6 g, 조성물(A-2) 3.4 g, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 2.1 g, IRGACURE 907(2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조) 1.2 g, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 33.2 g, 시클로헥사논 7 g을 혼합 교반하여 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물(고형분 농도 50 %)을 145 g 얻었다. 98.6 g of this dispersion (A-3), 3.4 g of composition (A-2), 2.1 g of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, IRGACURE 907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2 Morpholino propane-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 1.2 g, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 33 g, and cyclohexanone 7 g were mixed and stirred to prepare a composition for a silica particle-containing hard coating layer. 145g of (solid content concentration 50%) was obtained.

제조예 4Preparation Example 4

[지르코니아 입자 함유 조성물의 제조][Production of Zirconia Particle-Containing Composition]

다이이치 기겐소 가가꾸 고교(주) 제조, UEP-100(일차 입경 10 내지 30 nm) 300 부를 메틸에틸케톤(MEK) 700 부에 첨가하고, 유리 비드로 168 시간 분산을 행하고, 유리 비드를 제거하여 지르코니아 분산 졸 950 부를 얻었다. 지르코니아 분산 졸을 알루미늄 접시에 2 g 칭량한 후, 120 ℃의 핫 플레이트 상에서 1 시간 건조, 칭량하여 고형분 함량을 구한 결과 30 %였다. 이 지르코니아 분산 졸 100 g에 제조예 1에서 합성한 조성물(A-1) 0.86 g, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 13.4 g, p-메톡시페놀 0.016 g, 이온 교환수 0.033 g의 혼합액을 60 ℃에서 3 시간 교반 후, 오르토포름산 메틸에스테르 0.332 g을 첨가하고, 동일 온도에서 1 시간 더 가열 교반함으로써 표면 변성 지르코니아 입자의 분산액을 116 g 얻었다. 이 분산액 116 g, 조성물(A-2) 1.34 g, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 1.26 g, IRGACURE 907(2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조) 0.76 g, MEK 2846 g을 혼합 교반하여 지르코니아 입자 함유 조성물(고형분 농도 4 %)을 2964 g 얻었다. 300 parts of Daiichi Kigenso Kagaku Kogyo Co., Ltd. make and 100 parts of UEP-100 (primary particle diameters 10-30 nm) are added to 700 parts of methyl ethyl ketone (MEK), dispersion | distribution is carried out with glass beads for 168 hours, and glass beads are removed. 950 parts of zirconia dispersion sol was obtained. After weighing 2 g of zirconia dispersion sol in an aluminum dish, it was dried for 1 hour and weighed on a 120 degreeC hotplate, and solid content was calculated | required and it was 30%. A mixed solution of 0.86 g of the composition (A-1) synthesized in Production Example 1, 13.4 g of dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 0.016 g of p-methoxyphenol, and 0.033 g of ion-exchanged water, in 100 g of this zirconia dispersion sol. After stirring at 60 degreeC for 3 hours, 0.332 g of ortho formic acid methyl esters were added, and it stirred for further 1 hour at the same temperature, and obtained 116g of dispersion liquids of surface modified zirconia particle. 116 g of this dispersion, 1.34 g of composition (A-2), 1.26 g of 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, IRGACURE 907 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane 0.76 g of 1-one, Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., and MEK 2846 g were mixed and stirred to obtain 2964 g of a zirconia particle-containing composition (solid content concentration of 4%).

제조예 5Preparation Example 5

[주석 함유 산화인듐(ITO) 입자 함유 조성물의 제조][Production of Tin-Containing Indium Oxide (ITO) Particle-Containing Composition]

후지 가가꾸 가부시끼가이샤 제조 ITO 졸(10 중량% IPA 졸) 700 g, DPHA 29.5 g, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 1 g, 이소프로필알코올(IPA) 1769.5 g을 혼합하여 고형분 농도 4 %의 ITO 입자 함유 조성물을 얻었다. 700 g of ITO sol (10 weight% IPA sol) made by Fuji Chemical Co., Ltd., 29.5 g of DPHA, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 1 g and 1769.5 g of isopropyl alcohol (IPA) were mixed to obtain an ITO particle-containing composition having a solid content concentration of 4%.

제조예 6Preparation Example 6

[안티몬 함유 산화주석(ATO) 입자 함유 조성물의 제조] [Preparation of antimony-containing tin oxide (ATO) particle-containing composition]

ATO 입자(이시하라 테크노(주) 제조, SN-100P, 일차 입경 10 내지 30 nm), 분산제(아사히 덴까 고교(주) 제조, 아데카 플루로닉 TR-701) 및 메탄올을 90/2.78/211(중량비)의 배합량으로 혼합하였다(전체 고형분 함량 31 %, 전체 무기 함량 29.6 %). 페인트 쉐이커의 50 ml 폴리병에 유리 비드 40 g(TOSHINRIKO 제조, BZ-01)(비드 직경 0.1 mm)(체적 약 16 ml)과 상기 혼합액(30 g)을 넣고, 3 시간 분산시켜 메디안 직경 80 nm의 분산 졸을 얻었다. 이 졸 304 g에 조성물(A-1) 5.7 g, p-메톡시페놀 0.01 g, 이온 교환수 0.12 g의 혼합액을 60 ℃에서 3 시간 교반 후, 오르토포름산 메틸에스테르 1.3 g을 첨가하고, 동일 온도에서 1 시간 더 가열 교반함으로써 표면 변성 ATO 입자의 분산액을 311 g 얻었다. 이 분산액 278.3 g, 조성물(A-2) 1.7 g, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 8.59 g, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 0.88 g, 메탄올 33 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 1675 g을 혼합 교반하여 ATO 입자 함유 조성물(고형분 농도 5 %)을 2000 g 얻었다. ATO particle (Ishihara Techno Co., Ltd. make, SN-100P, primary particle diameter 10-30 nm), a dispersing agent (Asahi Denka Kogyo Co., Ltd. make, Adeka Pluronic TR-701) and methanol 90 / 2.78 / 211 ( Weight ratio) (31% total solids content, 29.6% total inorganic content). Into a 50 ml poly bottle of a paint shaker, 40 g of glass beads (BZ-01, manufactured by TOSHINRIKO, bead diameter 0.1 mm) (about 16 ml in volume) and the mixed solution (30 g) were added and dispersed for 3 hours, followed by median diameter of 80 nm. A dispersion sol was obtained. After stirring the mixture liquid of composition (A-1) 5.7g, p-methoxyphenol 0.01g, and 0.12g of ion-exchange water at 60 degreeC for 3 hours, 304 g of this sol, 1.3 g of ortho formic-acid methyl ester are added, and it is the same temperature 311g of dispersion liquid of surface-modified ATO particle | grains was obtained by further heating and stirring for 1 hour. 278.3 g of this dispersion, 1.7 g of composition (A-2), 8.59 g of pentaerythritol triacrylate, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one 0.88 g, 33 g of methanol, and 1675 g of propylene glycol monomethyl ether were mixed and stirred to obtain 2000 g of an ATO particle-containing composition (solid content concentration of 5%).

제조예 7Preparation Example 7

[알루미늄 함유 산화아연(Al 도핑 ZnO) 입자 함유 조성물의 제조] [Preparation of aluminum-containing zinc oxide (Al-doped ZnO) particle-containing composition]

산화아연 입자(사까이 가가꾸 제조 Al 도핑 ZnO 입자, 일차 입경 10 내지 20 nm), 분산제(구스모또 가세이(주) 제조, 하이플랫 ED151) 및 프로필렌글리콜 모노메틸에테르를 27.6/4.8/67.6(중량비)의 배합량으로 혼합하였다(전체 고형분 함량 30 %, 전체 무기 함량 27.6 %). 페인트 쉐이커의 50 ml 폴리병에 지르코니아 비드 40 g(비드 직경 0.1 mm)과 상기 혼합액(30 g)을 넣고, 8 시간 분산시켜 중앙 직경 40 nm의 분산 졸을 얻었다. 이 졸 290 g에 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 10 g, 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온 0.5 g, 프로필렌글리콜 모노메틸에테르 2138 g을 첨가하고, 혼합 교반하여, 산화아연 입자 함유 조성물(고형분 농도 4 %)을 2438 g 얻었다. Zinc oxide particles (Al-doped ZnO particles manufactured by Kakaku Chemical Co., Ltd., primary particle diameter 10 to 20 nm), dispersant (made by Kusumoto Kasei Co., Ltd., High Flat ED151) and propylene glycol monomethyl ether 27.6 / 4.8 / 67.6 ( Weight ratio) (total weight content 30%, total inorganic content 27.6%). In a 50 ml poly bottle of a paint shaker, 40 g of zirconia beads (0.1 mm of bead diameter) and the mixed solution (30 g) were added and dispersed for 8 hours to obtain a dispersion sol having a center diameter of 40 nm. To 290 g of this sol, 10 g of pentaerythritol triacrylate, 0.5 g of 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, and 2138 g of propylene glycol monomethyl ether Was added and mixed and stirred to give 2438 g of a zinc oxide particle-containing composition (solid content concentration 4%).

제조예 8Preparation Example 8

[수산기 함유 불소 함유 중합체의 제조][Production of hydroxyl-containing fluorine-containing polymer]

내용적 1.5 L의 전자 교반기가 부착된 스테인레스제 오토크레이브를 질소 가스로 충분히 치환한 후, 아세트산에틸 500 g, 퍼플루오로(프로필비닐에테르) 43.2 g, 에틸비닐에테르 41.2 g, 히드록시에틸비닐에테르 21.5 g, 비이온성 반응성 유화제로서 「아데카 리아소프 NE-30」(아사히 덴카 고교 가부시끼가이샤 제조) 40.5 g, 아조기 함유 폴리디메틸실록산으로서 「VPS-1001」(와코 쥰야쿠 고교 가부시끼가이샤 제조) 6.0 g 및 과산화라우로일 1.25 g을 첨가하고, 드라이아이스-메탄올로 -50 ℃까지 냉각시킨 후, 재차 질소 가스로 계 내의 산소를 제거하였다. After fully replacing the autoclave made of stainless steel with an internal volume 1.5 L stirrer with nitrogen gas, 500 g of ethyl acetate, 43.2 g of perfluoro (propyl vinyl ether), 41.2 g of ethyl vinyl ether, and hydroxyethyl vinyl ether As 21.5 g, nonionic reactive emulsifier, "Adeka Riaso NE-30" (made by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.) 40.5 g, azo-group containing polydimethylsiloxane "VPS-1001" (made by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 6.0 g and lauroyl peroxide 1.25 g were added, cooled to -50 ° C with dry ice-methanol, and then oxygen in the system was removed again with nitrogen gas.

이어서 헥사플루오로프로필렌 97.4 g을 첨가하여 승온을 개시하였다. 오토크레이브 내의 온도가 60 ℃에 도달한 시점에서의 압력은 5.3×105 Pa를 나타내었다. 그 후, 70 ℃에서 20 시간 교반하에서 반응을 계속하고, 압력이 1.7×105 Pa로 저하된 시점에서 오토크레이브를 수냉하여 반응을 정지시켰다. 실온에 도달한 후, 미반응 단량체를 방출하며 오토크레이브를 개방하고, 고형분 농도 26.4 %의 중합체 용액을 얻었다. 얻어진 중합체 용액을 메탄올에 투입하여 중합체를 석출시킨 후, 메탄올로써 세정하고, 50 ℃에서 진공 건조를 행하여 220 g의 불소 함유 중합체를 얻었다. Then, 97.4 g of hexafluoropropylene was added to start the temperature increase. The pressure when the temperature in autoclave reached 60 degreeC showed 5.3x10 <5> Pa. Thereafter, the reaction was continued under stirring at 70 ° C. for 20 hours, and the autoclave was water-cooled to stop the reaction when the pressure was lowered to 1.7 × 10 5 Pa. After reaching room temperature, the unreacted monomer was released and the autocrab was opened to obtain a polymer solution having a solid content concentration of 26.4%. The obtained polymer solution was thrown into methanol, and the polymer was deposited, washed with methanol, and vacuum dried at 50 deg. C to obtain 220 g of a fluorine-containing polymer.

얻어진 중합체에 대하여 겔 투과 크로마토그래피에 의한 폴리스티렌 환산 수평균 분자량(Mn)이 48000, DSC에 의한 유리 전이 온도(Tg)가 26.8 ℃, 및 알리자린 콤플렉손법에 의한 불소 함량이 50.3 %인 것을 확인하였다. With respect to the obtained polymer, it was confirmed that the polystyrene reduced number average molecular weight (Mn) by gel permeation chromatography was 48000, the glass transition temperature (Tg) by DSC was 26.8 ° C, and the fluorine content by the alizarin complexon method was 50.3%. .

제조예 9Preparation Example 9

[실리카 피복 TiO2 입자 분산액][Silica Coated TiO 2 Particle Dispersion]

실리카 피복된 산화티탄 미분말 350 질량부, 에틸렌옥시드-프로필렌옥시드 공중합체(평균 중합도: 약 20) 80 질량부, 이소프로필알코올 1000 질량부, 부틸셀로솔브 1000 질량부를 첨가하고, 유리 비드로 10 시간 분산을 행하고, 유리 비드를 제거하여 실리카 피복 산화티탄 입자 분산액을 2430 질량부 얻었다. 여기서, 얻어 진 실리카 피복 TiO2 입자 분산액을 알루미늄 접시 상에서 칭량하고, 120 ℃의 핫 플레이트 상에서 1 시간 건조시켜 전체 고형분 농도를 구한 결과, 17 질량%였다. 또한, 이 실리카 피복 TiO2 입자 분산액-1을 자성 도가니에 칭량하여 80 ℃의 핫 플레이트 상에서 30 분 예비 건조시킨 후, 750 ℃의 머플 로 내에서 1 시간 소성을 행하여 얻어진 무기 잔사량, 및 전체 고형분 농도로부터 전체 고형분 중의 무기 함량을 구한 결과, 82 질량%였다. 350 parts by mass of fine silica oxide powder coated with silica, 80 parts by mass of ethylene oxide-propylene oxide copolymer (average degree of polymerization: about 20), 1000 parts by mass of isopropyl alcohol, 1000 parts by mass of butyl cellosolve were added to the glass beads. It disperse | distributed for 10 hours, the glass bead was removed, and 2430 mass parts of silica coated titanium oxide particle dispersions were obtained. The silica-coated TiO 2 particle dispersion thus obtained was weighed on an aluminum plate, dried on a hot plate at 120 ° C. for 1 hour, and the total solid concentration was 17 mass%. Further, the silica-coated TiO 2 particle dispersion-1 was weighed in a magnetic crucible and preliminarily dried on a hot plate at 80 ° C. for 30 minutes, followed by firing for 1 hour in a muffle furnace at 750 ° C., and the total solid content. It was 82 mass% when the inorganic content in all solid content was calculated | required from concentration.

이 고형물의 전자 현미경 관찰의 결과, 단축 평균 입경 15 nm, 장축 평균 입경 46 nm, 종횡비 3.1이고, 수평균 입경은 15 nm였다. As a result of electron microscopic observation of this solid, the uniaxial average particle diameter was 15 nm, the long axis average particle diameter was 46 nm, the aspect ratio 3.1, and the number average particle diameter was 15 nm.

실시예 1, 비교예 1Example 1, Comparative Example 1

[액상 경화성 조성물의 제조][Production of Liquid Curable Composition]

(1) 액상 경화성 수지 조성물(조성 1 내지 5)의 제조 (1) Preparation of Liquid Curable Resin Composition (Compositions 1 to 5)

제조예 9에서 얻어진 실리카 피복 산화티탄 분산액 24 g(고형분 4.08 g), 제조예 8에서 얻어진 수산기 함유 불소 함유 중합체 2 g, 가교성 화합물의 메톡시화 메틸멜라민 「사이멜 303」(미쯔이 사이텍 가부시끼가이샤 제조) 1.2 g과 경화 촉매인 캐탈리스트 4050(미쯔이 사이텍(주) 제조, 방향족 술폰산 화합물) 0.68 g을 용제인 메틸에틸케톤 32 g, 메틸이소부틸케톤 24 g, 터셔리 부탄올 16 g 중에 용해시킴으로써 조성 1을 얻었다. 이 액상 경화성 수지 조성물 중의 전체 고형분 농도를 제조예 9와 동일하게 측정한 결과 7.5 질량%였다. 24 g of silica-coated titanium oxide dispersion liquid obtained in Production Example 9 (solid content 4.08 g), 2 g of hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer obtained in Production Example 8, and methoxylated methyl melamine `` cymel 303 '' of a crosslinkable compound (Mitsui Cytec Co., Ltd.) Composition) by dissolving 1.2 g of the catalyst and 0.68 g of Catalyst 4050 (manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd., aromatic sulfonic acid compound) as a curing catalyst in 32 g of methyl ethyl ketone, 24 g of methyl isobutyl ketone, and 16 g of tert-butanol. 1 was obtained. It was 7.5 mass% when the total solid content concentration in this liquid curable resin composition was measured similarly to Production Example 9.

동일하게 하여, 하기 표 1에 나타내는 배합 비율이 되도록 각 성분을 배합하 여 조성 2 내지 5를 얻었다. 또한, 조성 2 내지 5에서는 실리카 피복 산화티탄 분산액 대신에 알루미나, 지르코니아 피막 TiO2 입자 분산액(테이카(주) 제조)을 이용하고, 터셔리 부탄올 대신에 노르말 부탄올(n-BuOH)을 이용하며, 용제의 조성은 메틸에틸케톤(MEK)/이소프로판올(IPA)/메틸이소부틸케톤(MIBK)/노르말 부탄올(n-BuOH)=40/20/30/10을 이용하였다. In the same manner, each component was blended to obtain a blending ratio shown in Table 1 below to obtain compositions 2 to 5. In addition, in Compositions 2 to 5, alumina and zirconia-coated TiO 2 particle dispersions (manufactured by Teika Co., Ltd.) were used instead of silica-coated titanium oxide dispersions, and normal butanol (n-BuOH) was used instead of tertiary butanol. The composition of the solvent was methyl ethyl ketone (MEK) / isopropanol (IPA) / methyl isobutyl ketone (MIBK) / normal butanol (n-BuOH) = 40/20/30/10.

제조예 9와 동일하게 입경을 측정한 결과, 수평균 입경(단축 평균 입경)은 20 nm였다. As a result of measuring the particle size in the same manner as in Production Example 9, the number average particle diameter (shortened average particle diameter) was 20 nm.

(2) 액상 경화성 수지 조성물(조성 6)의 제조 (2) Preparation of Liquid Curable Resin Composition (Composition 6)

제조예 8에서 얻어진 수산기 함유 불소 함유 중합체 대신에 카이나 ADS(엘프ㆍ아토켐ㆍ재팬(주) 제조. 육불화 프로필렌, 사불화에틸렌 및 이불화에틸렌의 공중합체. 수산기 및 중합성 불포화기를 갖지 않음)를 사용한 것 이외에는, 액상 경화성 수지 조성물(조성 1)의 제조와 동일하게 하여 액상 경화성 수지 조성물(조성 6)을 얻었다. Instead of the hydroxyl group-containing fluorine-containing polymer obtained in Production Example 8, manufactured by Kynar ADS (Elves, Atochem, Japan Co., Ltd. Copolymer of propylene hexafluoride, ethylene tetrafluoride and difluoroethylene, having no hydroxyl group and polymerizable unsaturated group) ) Was used in the same manner as in the preparation of the liquid curable resin composition (composition 1) to obtain a liquid curable resin composition (composition 6).

실시예 2, 비교예 2Example 2, Comparative Example 2

[경화막의 제조][Production of Cured Film]

실리카 입자 졸(메틸에틸케톤 실리카 졸, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조 MEK-ST, 수평균 입경 0.022 ㎛, 실리카 농도 30 %) 98.6 g, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤 2.1 g, IRGACURE 907(2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미칼즈 제조) 1.2 g, 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트(DPHA) 33.2 g, 시클로헥사논 7 g을 혼합 교반하여 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물을 얻었다. 이 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물을 와이어 바 코터(#12)를 이용하여 트리아세틸셀룰로오스 필름(LOFO 제조, 막 두께 80 ㎛)에 도장한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 계속해서, 공기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 하드 코팅층을 형성하였다. 하드 코팅층의 막 두께를 촉침식 막 두께계로써 측정한 결과 5 ㎛였다. Silica particle sol (methyl ethyl ketone silica sol, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd. MEK-ST, number average particle diameter 0.022 µm, silica concentration 30%) 98.6 g, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone 2.1 g, IRGACURE 907 ( 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1.2 g, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) 33.2 g And 7 g of cyclohexanone were mixed and stirred to obtain a composition for a silica particle-containing hard coating layer. This silica particle-containing hard coating layer was coated on a triacetyl cellulose film (LOFO, film thickness of 80 μm) using a wire bar coater (# 12), and then dried at 80 ° C. in an oven for 1 minute. Subsequently, a hard coat layer was formed by irradiating ultraviolet rays under light irradiation conditions of 0.6 J / cm 2 using a high pressure mercury lamp under air. It was 5 micrometers when the film thickness of the hard coat layer was measured with the stylus type film thickness meter.

얻어진 하드 코팅층 위에 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 조성 1 내지 6을 도장한 후, 오븐 중 120 ℃에서 10 분간 가열함으로써 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막 층을 형성하였다. After coating the composition 1-6 obtained in Example 1 and the comparative example 1 using the wire bar coater (# 3) on the obtained hard coat layer, the cured film layer whose film thickness is 0.2 micrometer by heating for 10 minutes at 120 degreeC in oven. Formed.

평가예 1Evaluation example 1

[경화막의 평가] [Evaluation of Curing Film]

실시예 2 및 비교예 2에서 얻어진 경화막의 단면을 현미경으로 관찰하여, 2층으로 분리되어 있는지 여부를 평가하였다. 평가 기준은 다음과 같다. 각각의 상태의 전형예를 도 11에 나타낸다. The cross section of the cured film obtained in Example 2 and the comparative example 2 was observed under the microscope, and it evaluated whether it isolate | separated into two layers. Evaluation criteria are as follows. 11 shows a typical example of each state.

<평가 기준> <Evaluation Criteria>

2층 분리2-layer separation

분리되지 않음(일부 응집)Not separated (some coagulation)

균일 구조 Uniform structure

헤이즈(%)는 얻어진 적층체에 있어서의 탁도(헤이즈값)를 헤이즈계를 이용 하여 측정하고, 이하의 기준에 기초하여 평가하였다. Haze (%) measured haze (haze value) in the obtained laminated body using the haze meter, and evaluated it based on the following references | standards.

○: 헤이즈값이 1 % 이하이다.○: The haze value is 1% or less.

△: 헤이즈값이 5 % 이하이다.(Triangle | delta): A haze value is 5% or less.

×: 헤이즈값이 5 %를 초과한다. X: Haze value exceeds 5%.

결과를 하기 표 1에 나타낸다. The results are shown in Table 1 below.

Figure 112006066817222-pct00007
Figure 112006066817222-pct00007

표 1 중의 약호는 이하의 것을 나타낸다. The symbol in Table 1 shows the following.

(A) 불소 함유 중합체: 상기 제조예 1에서 제조한 불소 함유 중합체이다. (A) Fluorine-containing polymer: It is a fluorine-containing polymer manufactured by the said manufacture example 1.

카이나 ADS: 엘프ㆍ아토켐ㆍ재팬(주) 제조; 육불화 프로필렌, 사불화 에틸렌 및 이불화 에틸렌의 공중합체. 수산기 및 중합성 불포화기를 갖지 않음. Kynar ADS: Elf Atochem Japan Co., Ltd .; Copolymers of propylene hexafluoride, ethylene tetrafluoride and ethylene difluoride. It does not have a hydroxyl group and a polymerizable unsaturated group.

(B) 금속 산화물 입자 (B) metal oxide particles

알루미나, 지르코니아 피복 TiO2 입자 분산액: 테이카 가부시끼가이샤 제조. 전체 고형분 농도 28 %, 입자 농도 24 %, 수평균 입경 20 nm Alumina, zirconia-coated TiO 2 particle dispersion: produced by Teika Co., Ltd. 28% total solids concentration, 24% particle concentration, 20 nm average particle diameter

실리카 피복 TiO2 입자 분산액: 제조예 2에서 제조한 것임. Silica Coated TiO 2 Particle Dispersion: Prepared in Preparation Example 2.

(E) 사이멜 303: 메톡시화 메틸멜라민, 미쯔이 사이텍 가부시끼가이샤 제조 (E) Cymel 303: Methylated methylmelamine, manufactured by Mitsui Cytec Co., Ltd.

(F) 캐탈리스트 4050: 미쯔이 사이텍(주) 제조. 방향족 술폰산 화합물 (F) Catalyst 4050: Mitsui Scitech Co., Ltd. makes. Aromatic sulfonic acid compounds

표 1의 결과로부터 (E) 경화성 화합물 및 (F) 열산 발생제는 배합되어 있지 않더라도 2층 분리가 생기는 것을 알 수 있었다(조성 2 및 5). From the results of Table 1, it was found that even if the (E) curable compound and the (F) thermal acid generator were not blended, two-layer separation occurred (compositions 2 and 5).

(A) 수산기 함유 불소 함유 중합체가 존재하지 않으면, 2층 분리가 생기지 않는 것을 알 수 있었다(조성 4 및 6). (A) When no hydroxyl-containing fluorine-containing polymer was present, it was found that two-layer separation did not occur (compositions 4 and 6).

실시예 3, 비교예 3Example 3, Comparative Example 3

[액상 경화성 수지 조성물 및 경화막의 제조] [Production of Liquid Curable Resin Composition and Cured Film]

실시예 1에 있어서의 조성 3의 고형분 배합 비율의 액상 경화성 수지 조성물에 있어서, 사용되는 용제를 표 2에 나타내는 대로 변경하여 조성 7 내지 10의 액상 경화성 수지 조성물을 얻었다. In the liquid curable resin composition of the solid content mix ratio of the composition 3 in Example 1, the solvent used was changed as shown in Table 2, and the liquid curable resin composition of compositions 7-10 was obtained.

조성 3 및 7 내지 10의 액상 경화성 수지 조성물을 이용하고, 실시예 2와 동일하게 하여, 또한 동일한 조건에서 경화막을 제조하였다. Using the liquid curable resin composition of the composition 3 and 7-10, it carried out similarly to Example 2, and manufactured the cured film on the same conditions.

(A) 수산기 함유 불소 함유 중합체의 용해성은 (A) 수산기 함유 불소 함유 중합체를 50 질량%가 되도록 각 용제에 첨가하고, 실온에서 일정 시간 교반하였을 때에 육안으로 균일한 용액인지 어떤지에 의해 결정하며, 하기 기준에 기초하여 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. (A) The solubility of the hydroxyl-containing fluorine-containing polymer is added to each solvent so that the (A) hydroxyl-containing fluorine-containing polymer is 50 mass%, and is determined by whether or not it is a uniform solution visually when stirred at room temperature for a certain time. Evaluation was made based on the following criteria. The results are shown in Table 2.

<평가 기준> <Evaluation Criteria>

○: 2 시간 교반 후에 균일한 용액이다.(Circle): It is a uniform solution after stirring for 2 hours.

△: 8 시간 교반 후에 균일한 용액이다.(Triangle | delta): It is a uniform solution after stirring for 8 hours.

×: 8 시간 교반 후에 균일한 용액이 아니다.X: It is not a uniform solution after stirring for 8 hours.

(B) TiO2 입자의 분산 안정성은 (B) 금속 산화물 입자 분산액에 유리판을 침지하여 (B) 금속 산화물 입자를 유리벽에 부착시키고, 그 (B) 금속 산화물 입자가 부착된 유리판을 각 용제에 침지한 경우에, (B) 금속 산화물 입자가 상기 용제 중에 육안으로 균일하게 분산되는지 어떤지에 의해 결정하며, 하기 기준에 기초하여 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. (B) The dispersion stability of the TiO 2 particles is immersed in the glass plate in the (B) metal oxide particle dispersion (B) to adhere the metal oxide particles to the glass wall, and (B) the glass plate with the metal oxide particles attached to each solvent In the case of immersion, it was determined by (B) whether the metal oxide particles were uniformly dispersed in the solvent with the naked eye, and evaluated based on the following criteria. The results are shown in Table 2.

<평가 기준> <Evaluation Criteria>

○: 균일하게 분산된다.○: uniformly dispersed.

×: 균일하게 분산되지 않는다. X: It is not uniformly distributed.

표 2 중, 용제는 좌측으로부터 우측으로 용제의 상대 증발 속도가 작아지는 순서대로 나열되어 있다. In Table 2, solvents are listed in order of decreasing the relative evaporation rate of a solvent from the left side to the right side.

용제의 약호는 각각 이하의 것을 나타낸다. The symbol of a solvent represents the following, respectively.

MEK: 메틸에틸케톤 MEK: methyl ethyl ketone

MeOH: 메탄올MeOH: Methanol

IPA: 이소프로판올 IPA: Isopropanol

MIBK: 메틸이소부틸케톤 MIBK: methyl isobutyl ketone

n-BuOH: n-부탄올 n-BuOH: n-butanol

MAK: 메틸아밀케톤MAK: methyl amyl ketone

평가예 2Evaluation example 2

[경화막의 평가] [Evaluation of Curing Film]

실시예 3 및 비교예 3에서 얻어진 경화막을 평가예 1과 동일하게 하여 층 분리성 및 헤이즈를 평가하였다. 결과를 표 2에 나타낸다. The cured films obtained in Example 3 and Comparative Example 3 were prepared in the same manner as in Evaluation Example 1 to evaluate layer separation properties and haze. The results are shown in Table 2.

Figure 112006066817222-pct00008
Figure 112006066817222-pct00008

표 2의 결과로부터, 2층 분리를 발생시키기 위해서는 2종 이상의 용제를 배합하는 것이 바람직하고, 1종 이상은 (C) (A) 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높고, 다른 1종 이상은 (D) (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높은 것을 선택할 필요가 있으며, 또한 용제(C)의 상대 증발 속도가 용제(D)의 상대 증발 속도보다 큰 것이 필요한 것을 알 수 있다. From the result of Table 2, in order to generate two-layer separation, it is preferable to mix | blend 2 or more types of solvents, 1 or more types are (C) (A) high solubility with respect to a fluoropolymer, and the other 1 or more types are (D (B) It is necessary to select a thing with high dispersion stability with respect to a metal oxide particle, and it turns out that it is necessary that the relative evaporation rate of a solvent (C) is larger than the relative evaporation rate of a solvent (D).

실시예 4, 비교예 4Example 4, Comparative Example 4

[적층체의 제조][Production of Laminate]

(1) 하드 코팅층의 제조 (1) Preparation of Hard Coating Layer

제조예 3에서 제조한 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물(고형분 농도 50 %)를 와이어 바 코터(#12)를 이용하여 트리아세틸셀룰로오스 필름(LOFO 제조, 막 두께 80 ㎛)에 도장한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 계속해서, 공기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 경화막 층을 형성하였다. 경화막 층의 막 두께를 촉침식 막 두께계로써 측정한 결과 5 ㎛였다. Silica particle-containing hard coating layer composition (solid content concentration 50%) prepared in Production Example 3 was coated on a triacetylcellulose film (LOFO manufactured, film thickness of 80 μm) using a wire bar coater (# 12), and then in an oven. It dried at 80 degreeC for 1 minute. Subsequently, the cured film layer was formed by irradiating ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm <2> using the high pressure mercury lamp under air. It was 5 micrometers when the film thickness of the cured film layer was measured with the stylus type film thickness meter.

(2) 중굴절률층의 제조 (2) Preparation of the medium refractive index layer

제조예 4에서 제조한 지르코니아 입자 함유 조성물(고형분 농도 4 %)를 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 (1)에서 제조한 하드 코팅층 상에 도장한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 계속해서, 질소 분위기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 경화막 층을 형성하였다. 경화막 층의 막 두께를 반사 분광계로써 산출한 결과 65 nm였다. The zirconia particle-containing composition (solid content concentration 4%) prepared in Production Example 4 was coated on the hard coating layer prepared in (1) using a wire bar coater (# 3), and then dried at 80 ° C. in an oven for 1 minute. . Then, the cured film layer was formed by irradiating an ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm <2> using the high pressure mercury lamp in nitrogen atmosphere. It was 65 nm as a result of calculating the film thickness of the cured film layer with the reflection spectrometer.

(3) 고굴절률층과 저굴절률층의 제조 (3) Preparation of high refractive index layer and low refractive index layer

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 조성 1 내지 6의 액상 경화성 수지 조성물을 각각 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 (2)에서 제조한 중굴절률층 상에 도장한 후, 오븐 중 120 ℃에서 10 분간 가열함으로써 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막 층을 형성하였다. After coating the liquid curable resin compositions of the compositions 1 to 6 obtained in Example 1 and Comparative Example 1 onto the medium refractive index layer prepared in (2) using a wire bar coater (# 3), respectively, at 120 ° C. in an oven. By heating for 10 minutes, the cured film layer whose film thickness is 0.2 micrometer was formed.

실시예 5, 비교예 5Example 5, Comparative Example 5

[적층체의 제조][Production of Laminate]

(1) 하드 코팅층의 제조 (1) Preparation of Hard Coating Layer

실시예 4(1)과 동일하게 하여 제조하였다. It manufactured like Example 4 (1).

(2) 대전 방지층의 제조 (2) Preparation of antistatic layer

제조예 5에서 제조한 ITO 입자 함유 조성물(고형분 농도 4 %)를 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 (1)에서 제조한 하드 코팅층 상에 도장한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 계속해서, 질소 분위기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 경화막 층을 형성하였다. 경화막 층의 막 두께를 반사 분광계로써 산출한 결과 65 nm였다. The ITO particle-containing composition (solid content concentration 4%) prepared in Production Example 5 was coated on the hard coat layer prepared in (1) using a wire bar coater (# 3), and then dried at 80 ° C. in an oven for 1 minute. . Then, the cured film layer was formed by irradiating an ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm <2> using the high pressure mercury lamp in nitrogen atmosphere. It was 65 nm as a result of calculating the film thickness of the cured film layer with the reflection spectrometer.

(3) 중굴절률층의 제조 (3) Preparation of the medium refractive index layer

실시예 4(2)와 동일하게 하여 제조하였다. It manufactured like Example 4 (2).

(4) 고굴절률층과 저굴절률층의 제조 (4) Preparation of high refractive index layer and low refractive index layer

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 조성 1 내지 6의 액상 경화성 수지 조성물을 각각 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 (3)에서 제조한 중굴절률층 상에 도장한 후, 오븐 중 120 ℃에서 10 분간 가열함으로써 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막 층을 형성하였다. The liquid curable resin compositions of the compositions 1 to 6 obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were respectively coated on the medium refractive index layer prepared in (3) using a wire bar coater (# 3), and then at 120 ° C. in an oven. By heating for 10 minutes, the cured film layer whose film thickness is 0.2 micrometer was formed.

실시예 6, 7, 비교예 6, 7Examples 6, 7, Comparative Examples 6 and 7

[적층체의 제조][Production of Laminate]

(1) 대전 방지층의 제조 (1) Preparation of antistatic layer

제조예 5에서 제조한 ITO 입자 대신, 제조예 6 또는 7에서 제조한 ATO 입자 함유 조성물(고형분 농도 5 %) 또는 Al 도핑 ZnO 입자 함유 조성물(고형분 농도 4 %)을 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 트리아세틸셀룰로오스 필름(LOFO 제조, 막 두께 80 ㎛)에 도장한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 계속해서, 질소 분위기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 경화막 층을 형성하였다. 경화막 층의 막 두께를 촉침식 막 두께계로써 측정한 결과 65 nm였다. Instead of the ITO particles prepared in Production Example 5, the ATO particle-containing composition (solid content 5%) or Al-doped ZnO particle-containing composition (solid content 4%) prepared in Production Example 6 or 7 was replaced with a wire bar coater (# 3). After coating on the triacetyl cellulose film (LOFO, film thickness 80㎛), and dried for 1 minute at 80 ℃ in an oven. Then, the cured film layer was formed by irradiating an ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm <2> using the high pressure mercury lamp in nitrogen atmosphere. It was 65 nm as a result of measuring the film thickness of the cured film layer with a tactile film thickness meter.

(2) 하드 코팅층의 제조 (2) Preparation of Hard Coating Layer

제조예 3에서 제조한 실리카 입자 함유 하드 코팅층용 조성물(고형분 농도 50 %)를 와이어 바 코터(#12)를 이용하여 도장한 후, 오븐 중 80 ℃에서 1 분간 건조시켰다. 계속해서, 공기하에 고압 수은 램프를 이용하여 0.6 J/cm2의 광 조사 조건에서 자외선을 조사함으로써 경화막 층을 형성하였다. The composition for the silica particle-containing hard coating layer (solid content concentration 50%) prepared in Production Example 3 was coated using a wire bar coater (# 12), and then dried at 80 ° C. in an oven for 1 minute. Subsequently, the cured film layer was formed by irradiating ultraviolet-ray on the light irradiation conditions of 0.6 J / cm <2> using the high pressure mercury lamp under air.

(3) 중굴절률층의 제조 (3) Preparation of the medium refractive index layer

실시예 4(2)와 동일하게 하여 제조하였다. It manufactured like Example 4 (2).

(4) 고굴절률층과 저굴절률층의 제조 (4) Preparation of high refractive index layer and low refractive index layer

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 조성 1 내지 6의 액상 경화성 수지 조성물을 각각 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 (3)에서 제조한 중굴절률층 상에 도장한 후, 오븐 중 120 ℃에서 10 분간 가열함으로써 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막 층을 형성하였다. The liquid curable resin compositions of the compositions 1 to 6 obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were respectively coated on the medium refractive index layer prepared in (3) using a wire bar coater (# 3), and then at 120 ° C. in an oven. By heating for 10 minutes, the cured film layer whose film thickness is 0.2 micrometer was formed.

실시예 8, 비교예 8Example 8, Comparative Example 8

[적층체의 제조][Production of Laminate]

(1) 하드 코팅층의 제조 (1) Preparation of Hard Coating Layer

실시예 4(1)과 동일하게 하여 제조하였다. It manufactured like Example 4 (1).

(2) 고굴절률층과 저굴절률층의 제조 (2) Preparation of high refractive index layer and low refractive index layer

실시예 1 및 비교예 1에서 얻어진 조성 1 내지 6의 액상 경화성 수지 조성물을 각각 와이어 바 코터(#3)를 이용하여 (1)에서 제조한 하드 코팅층 상에 도장한 후, 오븐 중 120 ℃에서 10 분간 가열함으로써 막 두께가 0.2 ㎛인 경화막 층을 형성하였다. The liquid curable resin compositions of the compositions 1 to 6 obtained in Example 1 and Comparative Example 1 were respectively coated on the hard coating layer prepared in (1) by using a wire bar coater (# 3), followed by 10 at 120 ° C. in an oven. By heating for a minute, the cured film layer whose film thickness was 0.2 micrometer was formed.

평가예 3Evaluation Example 3

[적층체의 평가] [Evaluation of Laminate]

실시예 4 내지 8 및 비교예 4 내지 8에서 얻어진 적층체의 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰한 결과, 조성 1, 2, 3, 5를 이용한 적층체에 있어서는 저굴절률층과 고굴절률층이 2층으로 층 분리되어 있는 것이 확인되었다. 이 때, 저굴절률층은 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이고, 고굴절률층은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층이었다. 조성 4를 이용한 적층체에서는 고굴절률층과 저굴절률층은 균일 구조가 되어 층 분리되지 않았다. 조성 6을 이용한 적층체에서는 고굴절률층과 저굴절률층은 일부 응집하며 층 분리되지 않았다. As a result of observing the cross section of the laminate obtained in Examples 4 to 8 and Comparative Examples 4 to 8 with a transmission electron microscope, in the laminate using the compositions 1, 2, 3, and 5, the low refractive index layer and the high refractive index layer were two layers. It was confirmed that the layers were separated. At this time, the low refractive index layer was a layer substantially free of metal oxide particles, and the high refractive index layer was a layer having high density of metal oxide particles. In the laminate using the composition 4, the high refractive index layer and the low refractive index layer had a uniform structure and were not separated from each other. In the laminate using the composition 6, the high refractive index layer and the low refractive index layer were partially aggregated and did not separate into layers.

조성 1, 2, 3, 5를 이용한 반사 방지용 적층체의 반사 방지성을 분광 반사율 측정 장치(대형 시료실 적분구 부속 장치 150-09090을 조립한 자기 분광 광도계 U-3410, 히타치 세이사꾸쇼(주) 제조)에 의해 파장 550 nm의 반사율을 측정하여 평가하였다. 구체적으로는, 알루미늄 증착막에 있어서의 반사율을 기준(100 %)으로 하여 반사 방지용 적층체(반사 방지막)의 반사율을 측정하였다. 그 결과, 모든 적층체가 파장 55O nm에서의 반사율이 1 % 이하였다. Spectroscopic reflectance measuring device (magnetic spectrophotometer U-3410 incorporating large sample chamber integrating sphere accessory 150-09090, Hitachi Seisakusho (Note) (Reflection) and the reflectance of wavelength 550 nm were measured and evaluated. Specifically, the reflectance of the antireflection laminate (antireflection film) was measured based on the reflectance in the aluminum vapor deposition film (100%). As a result, the reflectance in wavelength 55Onm of all the laminated bodies was 1% or less.

본 발명의 액상 경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 얻어지는 경화막은 하나의 도막으로부터 저굴절률층 및 고굴절률층 등의 연속되는 다층 구조를 갖는 경화막을 형성할 수 있기 때문에, 다층 구조를 갖는 경화막의 제조 공정을 간략화할 수 있다. 즉, 본 발명의 액상 경화성 수지 조성물을 이용하면, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 적층체의 제조 공정을 간략화할 수 있다. 따라서, 본 발명의 액상 경화성 수지 조성물은 특히 반사 방지막, 렌즈, 선택 투과막 필터 등의 광학 재료의 형성에 유리하게 사용할 수 있다. 또한, 얻어지는 경화막 또는 적층체는 불소 함량이 높은 층을 포함할 수 있는 것을 이용하여 내후성이 요구되는 기재에 대한 도료, 내후 필름, 코팅, 기타로서 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 상기 경화막 또는 적층체는 기재에 대한 밀착성이 우수하고, 내찰상성이 높으며, 양호한 반사 방지 효과를 부여하기 때문에, 반사 방지막으로서 매우 유용하고, 각종 표시 장치에 적용함으로써 그의 시인성을 향상시킬 수 있다. Since the cured film obtained by hardening | curing the liquid curable resin composition of this invention can form the cured film which has a continuous multilayer structure, such as a low refractive index layer and a high refractive index layer, from one coating film, the manufacturing process of the cured film which has a multilayered structure is simplified. can do. That is, using the liquid curable resin composition of this invention, the manufacturing process of the laminated body which has a multilayered structure of two or more layers can be simplified. Therefore, especially the liquid curable resin composition of this invention can be used advantageously for formation of optical materials, such as an antireflection film, a lens, and a selective permeable film filter. Moreover, the obtained cured film or laminated body can be used suitably as a coating material, a weathering film, a coating, etc. with respect to the base material where weather resistance is calculated | required using what may contain a layer with a high fluorine content. Moreover, since the said cured film or laminated body is excellent in adhesiveness with respect to a base material, high scratch resistance, and gives a favorable anti-reflective effect, it is very useful as an anti-reflective film, and can apply it to various display apparatuses, and its visibility can be improved. have.

Claims (20)

(A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체(A) Fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the molecule (B) 수평균 입경이 100 nm 이하이고, 또한 굴절률이 1.50 이상인 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물 입자(이하, 「(B) 금속 산화물 입자」라 함)(B) One or two or more metal oxide particles having a number average particle diameter of 100 nm or less and a refractive index of 1.50 or more (hereinafter, referred to as "(B) metal oxide particles"). (C) (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 높은 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(C) 속휘발성 용제」라 함)(C) One or two or more solvents having high solubility to the fluorine-containing polymer having a hydroxyl group in the (A) molecule (hereinafter referred to as "(C) fast volatile solvent") (D) (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 높고, 또한 (C) 속휘발성 용제와 상용성인 1종 또는 2종 이상의 용제(이하, 「(D) 지연 휘발성 용제」라 함)(D) One or two or more solvents having high dispersion stability to the metal oxide particles (B) and compatible with the (C) fast-volatile solvent (hereinafter referred to as "(D) delayed volatile solvent"). (E) 히드록시알킬아미노기 및 알콕시알킬아미노기 중 어느 하나 또는 둘다를 합계로 2개 이상 함유하는 화합물, 및(E) a compound containing at least two of any one or both of a hydroxyalkylamino group and an alkoxyalkylamino group, and (F) 열산 발생제(F) thermal acid generator 를 함유하고, (A), (B), (E) 및 (F)의 함유량은 고형분 100 질량%에 대하여 각각 5 내지 70 질량%, 10 내지 90 질량%, 3 내지 70 질량%, 및 0.01 내지 10 질량%이고, (C)성분과 (D)성분의 합계량이 용제이외의 성분 총량 100 질량부에 대하여 300 내지 5000 질량부이고, The content of (A), (B), (E) and (F) is 5 to 70% by mass, 10 to 90% by mass, 3 to 70% by mass, and 0.01 to 100% by mass of solids, respectively. 10 mass%, the total amount of the component (C) and the component (D) is 300 to 5000 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the total component other than the solvent, 또한 (C) 속휘발성 용제의 상대 증발 속도가 (D) 지연 휘발성 용제의 상대 증발 속도보다 큰 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물. (C) The relative evaporation rate of the rapid volatile solvent is greater than the relative evaporation rate of the (D) delayed volatile solvent. 제1항에 있어서, (C) 속휘발성 용제가 (B) 금속 산화물 입자에 대한 분산 안정성이 낮은 1종 또는 2종 이상의 용제이고, (D) 지연 휘발성 용제가 (A) 분자 내에 수산기를 갖는 불소 함유 중합체에 대한 용해성이 낮은 1종 또는 2종 이상의 용제인 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물. The volatile solvent according to claim 1, wherein (C) the fast-volatile solvent is (B) one or two or more solvents having low dispersion stability to the metal oxide particles, and (D) the delayed-volatile solvent is (A) a fluorine having a hydroxyl group in the molecule. It is 1 type (s) or 2 or more types of solvents with low solubility to a containing polymer, The liquid curable resin composition characterized by the above-mentioned. 제1항에 있어서, (B) 금속 산화물 입자가 산화티탄, 산화지르코늄, 안티몬 함유 산화주석, 주석 함유 산화인듐, 산화알루미늄, 산화세륨, 산화아연, 알루미늄 함유 산화아연, 산화주석, 안티몬 함유 산화아연 및 인듐 함유 산화아연, 인 함유 산화주석으로부터 선택되는 1종 또는 2종 이상의 금속 산화물을 주성분으로 하는 입자인 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물. The metal oxide particles according to claim 1, wherein the metal oxide particles are titanium oxide, zirconium oxide, antimony-containing tin oxide, tin-containing indium oxide, aluminum oxide, cerium oxide, zinc oxide, aluminum-containing zinc oxide, tin oxide, and antimony-containing zinc oxide. And particles having, as a main component, one or two or more metal oxides selected from indium-containing zinc oxide and phosphorus-containing tin oxide. 제3항에 있어서, (B) 금속 산화물 입자가 산화티탄을 주성분으로 하는 입자인 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물. The liquid curable resin composition according to claim 3, wherein the metal oxide particles (B) are particles containing titanium oxide as a main component. 제1항에 있어서, (B) 금속 산화물 입자가 다층 구조를 갖는 금속 산화물 입자인 것을 특징으로 하는 액상 경화성 수지 조성물. The liquid curable resin composition according to claim 1, wherein the metal oxide particles (B) are metal oxide particles having a multilayer structure. 제1항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물을 경화시켜 얻어지고, 2층 이상의 다층 구조를 갖는 것을 특징으로 하는 경화막. It is obtained by hardening | curing the liquid curable resin composition of Claim 1, and has a multilayered structure of two or more layers, The cured film characterized by the above-mentioned. 제6항에 있어서, 다층 구조를 구성하는 각 층이 (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 또는 (B) 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이며, 한층 이상이 (B) 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층인 것을 특징으로 하는 경화막. The layer constituting the multilayer structure according to claim 6, wherein each layer constituting the multilayer structure is a layer in which (B) metal oxide particles are present at a high density, or a layer substantially free of (B) metal oxide particles, and at least one layer is a (B) metal oxide. The cured film characterized by being a layer in which particle | grains exist in high density. 제1항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물을 가열함으로써 또는 방사선을 조 사함으로써 경화시키는 공정을 갖는 것을 특징으로 하는 경화막의 제조 방법. It has the process of hardening by heating the liquid curable resin composition of Claim 1, or irradiating a radiation, The manufacturing method of the cured film characterized by the above-mentioned. 기재 상 또는 기재 상에 형성된 층 상에 제1항에 기재된 액상 경화성 수지 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, A coating film is formed by apply | coating the liquid curable resin composition of Claim 1 on the base material or the layer formed on the base material, 이 하나의 도막으로부터 용매를 증발시킴으로써 2 이상의 층을 형성하는 것을 특징으로 하는, 기재와 그 위에 다층 구조를 갖는 적층체의 제조 방법. Forming two or more layers by evaporating a solvent from this one coating film, The base material and the manufacturing method of the laminated body which has a multilayered structure on it. 제9항에 있어서, 2 이상의 층의 각 층은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층 또는 금속 산화물 입자가 실질적으로 존재하지 않는 층이며, 1층 이상은 금속 산화물 입자가 고밀도로 존재하는 층인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. 10. The method of claim 9, wherein each layer of the two or more layers is a layer in which metal oxide particles are present at a high density, or a layer substantially free of metal oxide particles, and at least one layer is a layer in which metal oxide particles are present at a high density. The manufacturing method of the laminated body made into. 제10항에 있어서, 2 이상의 층이 2층인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. The manufacturing method of the laminated body of Claim 10 whose two or more layers are two layers. 제9항에 있어서, 2 이상의 층을 가열에 의해 더 경화시키는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. The method for producing a laminate according to claim 9, wherein at least two layers are further cured by heating. 제9항에 있어서, 적층체가 광학용 부품인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법.The manufacturing method of the laminated body of Claim 9 whose laminated body is an optical component. 제9항에 있어서, 적층체가 반사 방지막인 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법.The manufacturing method of the laminated body of Claim 9 whose laminated body is an anti-reflective film. 제11항에 있어서, 적층체가, 기재 상에 적어도 고굴절률층 및 저굴절률층이 기재에 가까운 측에서 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막이고, 제11항에 기재된 2층이 고굴절률층 및 저굴절률층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. The antireflection film according to claim 11, wherein the laminate is an antireflection film in which at least a high refractive index layer and a low refractive index layer are laminated in this order on a side close to the base material, and the two layers according to claim 11 are a high refractive index layer and a low refractive index. It consists of layers, The manufacturing method of the laminated body characterized by the above-mentioned. 제15항에 있어서, 저굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.20 내지 1.55이고, The refractive index of the low refractive index layer at 589 nm is 1.20 to 1.55, 고굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.50 내지 2.20이며, 저굴절률층의 굴절률보다 높은 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. The refractive index at 589 nm of a high refractive index layer is 1.50-2.20, and is higher than the refractive index of a low refractive index layer, The manufacturing method of the laminated body characterized by the above-mentioned. 제11항에 있어서, 적층체가, 기재 상에 적어도 중굴절률층, 고굴절률층 및 저굴절률층이 기재에 가까운 측에서 이 순서로 적층되어 있는 반사 방지막이고, 제11항에 기재된 2층이 고굴절률층 및 저굴절률층으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. 12. The laminated body is an antireflection film in which at least a medium refractive index layer, a high refractive index layer, and a low refractive index layer are laminated in this order on a side close to the base material, and the two layers according to claim 11 are high refractive index. The manufacturing method of the laminated body which consists of a layer and a low refractive index layer. 제17항에 있어서, 저굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.20 내지 1.55이고, The refractive index of the low refractive index layer at 589 nm is 1.20 to 1.55, 중굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.50 내지 1.90이며, 저굴절률층의 굴 절률보다 높고, The refractive index at 589 nm of the medium refractive index layer is 1.50 to 1.90, which is higher than the refractive index of the low refractive index layer, 고굴절률층의 589 nm에서의 굴절률이 1.51 내지 2.20이며, 중굴절률층의 굴절률보다 높은 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. The refractive index at 589 nm of a high refractive index layer is 1.51-2.20, and is higher than the refractive index of a medium refractive index layer, The manufacturing method of the laminated body characterized by the above-mentioned. 제15항 또는 제17항에 있어서, 기재 상에 하드 코팅층 및/또는 대전 방지층을 더 형성하는 것을 특징으로 하는 적층체의 제조 방법. The manufacturing method of the laminated body of Claim 15 or 17 which further forms a hard-coat layer and / or an antistatic layer on a base material. 제9항에 기재된 적층체의 제조 방법에 의해 제조된 적층체. The laminated body manufactured by the manufacturing method of the laminated body of Claim 9.
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