KR100893877B1 - Method of polishing end portion of needle for probe card - Google Patents

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Abstract

외부 환경의 먼지나 이물질이 적게 묻는 니들을 공정할 수 있는 프로브 카드용 니들 연마 방법이 개시된다. 외부 환경 먼지나 이물질이 적게 묻는 니들을 연마하기 위해서 베이스 플레이트 상에 탄성 시트를 제공하여 탄성 시트 상에 연마재를 도포할 수 있다. 제공된 탄성 시트 및 연마재에 의해 니들 단부가 연마될 수 있으며, 연마된 니들 단부는 프로빙 동작을 정확하게 할 수 있다. Disclosed is a needle polishing method for a probe card that can process a needle that is free of dust and foreign matter in an external environment. The abrasive may be applied onto the elastic sheet by providing an elastic sheet on the base plate in order to grind a needle that is less vulnerable to external environmental dust or foreign matter. The needle end can be polished by the provided elastic sheet and abrasive, and the polished needle end can make the probing operation accurate.

프로브 카드, 니들, 탄성 시트, 연마재 Probe card, needle, elastic sheet, abrasive

Description

프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법{METHOD OF POLISHING END PORTION OF NEEDLE FOR PROBE CARD}Polishing method of needle end for probe card {METHOD OF POLISHING END PORTION OF NEEDLE FOR PROBE CARD}

본 발명은 외부 환경의 먼지나 이물질이 적게 묻는 백금 또는 유사 재질 금속으로 니들을 형성하되, 백금 니들 등의 단부를 용이하게 가공할 수 있는 프로브 카드용 니들 연마 방법에 관한 것이다. The present invention relates to a needle polishing method for a probe card that can form a needle made of platinum or a similar material metal which is free of dust and foreign substances in an external environment, and can easily process an end portion of a platinum needle or the like.

본 발명은 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법에 관한 것으로서, 보다 자세하게는 외부의 먼지 및 이물질이 적게 묻는 니들을 제공하기 위해 공정되는 니들을 연마하는 방법 및 니들을 연마하는 장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for polishing a needle end for a probe card, and more particularly, to a method for polishing a needle that is processed to provide a needle that is free of external dust and foreign matter, and an apparatus for polishing a needle.

일반적으로 웨이퍼 상태로 제조가 완료된 반도체 칩은 액정표시소자 구동용 집접회로(LDI)나, 반도체 패키지로 조립되기 이전에 그 전기적 특성을 검사하는 전기적 다이 분류(EDS;Electrical Die Sorting, 이하 'EDS'라 칭함) 검사를 실시한다. 상기 EDS 검사 결과에 의하여 양품의 반도체 칩은 액정표시소자 구동용 집적회로(LDI)나 반도체 패키지로 조립이 진행되고, 불량의 반도체 칩은 조립되지 않고 폐기처분 된다. 이러한 EDS 검사는 컴퓨터에 각종 측정 기기들이 내장된 테스터와 피 검사체인 반도체 칩을 전기적으로 접촉시킬 수 있는 프로브 카드가 탑재된 프로 버 스테이션을 이용하여 수행된다. In general, a semiconductor chip manufactured in a wafer state has an integrated circuit (LDI) for driving a liquid crystal display device or an electrical die sorting (EDS) which inspects electrical characteristics before being assembled into a semiconductor package. Inspection). As a result of the EDS inspection, the good semiconductor chips are assembled into a liquid crystal display element driving integrated circuit (LDI) or a semiconductor package, and the defective semiconductor chips are discarded without being assembled. This EDS test is performed using a prober equipped with a probe card that can electrically contact a tester with various measuring devices built into a computer and a semiconductor chip under test.

프로브 카드는 반도체 소자의 제조 공정 중 웨이퍼에 있는 반도체 칩의 미세 패턴과 전극의 특성을 검사하기 위하여 반도체 칩의 패드와 테스터를 연결시키는 중간 연결수단으로 활용되며, 프로브 카드에 있는 각각의 탑침이 반도체 칩의 패드와 직접 접촉된다. 따라서 해당 반도체 칩의 전기적 기능에 대한 특성을 양품 및 불량 형태로 검사한다. The probe card is used as an intermediate connecting means for connecting the pad and the tester of the semiconductor chip to inspect the micro pattern of the semiconductor chip on the wafer and the characteristics of the electrode during the manufacturing process of the semiconductor device. It is in direct contact with the pad of the chip. Therefore, the characteristics of the electrical function of the semiconductor chip are examined in good and defective form.

기존의 프로브 카드는 텅스텐이 주를 이루고, 레늄(Re)을 포함한 니들을 사용한다. 이러한 니들을 사용하여 피 검사체를 프로빙 동작할 때, 니들 탐침에 이물질이 묻어 나오는 현상이 발생하며, 이는 해당 반도체 칩의 전기적 기능을 검사하는데 오류가 발생할 수 있다. 이러한, 문제점을 해결하기 위해 백금을 포함한 니들을 사용하지만, 백금 니들의 경우 피 검사체의 면적 및 크기에 알맞은 니들 단부를 에칭하는데 어려움이 따른다. 즉, 일반적으로 사용되는 텅스텐을 주로 한 니들 단부는 에칭에 의해서 가공될 수 있지만, 백금은 물질의 특성상 에칭을 하게 되면 변색되면서 단부 가공에 어려움을 제공할 수 있다. 또한, 반도체 칩은 매우 작은 크기로 제조될 수 있으며, 제조된 반도체 칩의 불량 여부를 판단하기 위해서 니들의 크기도 작아져야 하지만 종래의 텅스텐을 주로 한 니들의 경우 작아지는 반도체 칩의 크기 및 면적에 대응하지 못하는 문제점이 있다.Conventional probe cards are mainly made of tungsten and use needles containing rhenium (Re). When probing an object under test using these needles, foreign matters may appear on the needle probe, which may cause an error in checking the electrical function of the semiconductor chip. In order to solve this problem, a needle containing platinum is used, but in the case of the platinum needle, it is difficult to etch the needle end suitable for the area and size of the inspected object. That is, the needle end mainly made of tungsten, which is generally used, may be processed by etching, but platinum may provide difficulty in end processing while discoloring when etching due to the nature of the material. In addition, the semiconductor chip may be manufactured in a very small size, and the size of the needle should also be small to determine whether the manufactured semiconductor chip is defective. There is a problem that can not respond.

본 발명은 외부 환경의 먼지나 이물질이 적게 묻는 백금 또는 유사 재질 금속으로 니들을 형성하되, 백금 니들 등의 단부를 용이하게 가공할 수 있는 프로브 카드용 니들 연마 방법을 제공한다.The present invention provides a needle polishing method for a probe card that can form a needle made of platinum or a similar material metal which is free of dust and foreign matters in an external environment, and can easily process an end portion of a platinum needle or the like.

본 발명은 피 검사체에 접촉하는 니들의 단부를 가늘고 완만한 니들을 가공할 수 있는 프로브 카드용 니들 연마 방법을 제공한다. The present invention provides a needle polishing method for a probe card which can process a thin and gentle needle at an end portion of a needle in contact with a test object.

본 발명은 외부 환경의 먼지나 이물질에 의해 수리나 교체가 필요할 경우 수리나 교체에 필요한 시간 및 장비를 절감할 수 있으며, 생산성이 향상될 수 있다.The present invention can reduce the time and equipment required for repair or replacement when the repair or replacement is required due to dust or foreign matter in the external environment, and productivity can be improved.

상술한 본 발명의 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 바람직한 실시예에 따르면, 베이스 플레이트 상에 탄성 시트를 부착하는 단계, 탄성 시트 상에 연마재를 도포하는 단계, 니들 단부가 탄성 시트의 상면과 접촉하도록 니들을 탄성 시트 상부에 위치시키는 단계, 베이스 플레이트와 니들이 수평한 상태로 접촉을 유지하면서 상대적으로 반복 이동시키는 단계 및 탄성 시트 및 연마재를 이용하여 니들 단부를 연마하는 단계를 구비한다. 여기서 니들을 백금과 같이 연마 공정이 어려운 재질 또는 그와 유사한 특성의 금속으로 제공될 수 있다.According to a preferred embodiment of the present invention for achieving the above object of the present invention, the step of attaching an elastic sheet on the base plate, applying an abrasive on the elastic sheet, so that the needle end is in contact with the upper surface of the elastic sheet Positioning the needle on top of the elastic sheet, moving the base plate and the needle relatively in a horizontal state while maintaining contact, and polishing the end of the needle using the elastic sheet and the abrasive. The needle may be provided with a material having a difficult polishing process such as platinum or a metal having similar characteristics.

베이스 플레이트 상에 탄성 시트를 부착하는 단계에서 탄성 시트는 베이스 플레이트와 접착될 수 있도록 접착층을 포함할 수 있으며, 접착층 상에는 탄성을 가지는 연질 시트를 포함할 수 있다. 이때, 연질 시트는 발포폴리우레탄 등과 같은 재질로 제공될 수 있으며, 니들 단부가 연마될 때, 탄성적으로 니들 단부를 연마할 수 있는 탄성 재질의 다양한 연질 시트가 제공될 수 있다.In the attaching the elastic sheet on the base plate, the elastic sheet may include an adhesive layer to be adhered to the base plate, and may include a soft sheet having elasticity on the adhesive layer. In this case, the soft sheet may be provided with a material such as foamed polyurethane, and when the needle end is polished, various soft sheets of elastic material may be provided to elastically polish the needle end.

여기서, 접착층 및 연질 시트 사이에는 지지층을 포함할 수 있으며, 지지층은 연질 성질인 접착층 및 연질 시트가 베이스 플레이트에 부착되어 지지 및 고정될 수 있는 역할을 할 수 있다. 제공되는 지지층은 예를 들어 PET 필름 등으로 제공될 수 있으며, 접착층 및 연질 시트를 지지 및 고정할 수 있는 다양한 재질이 제공될 수 있다. Here, a support layer may be included between the adhesive layer and the soft sheet, and the support layer may serve to support and fix the soft adhesive layer and the soft sheet attached to the base plate. The support layer provided may be provided, for example, as a PET film, and various materials may be provided to support and fix the adhesive layer and the soft sheet.

제공된 탄성 시트 상에는 연마재를 도포할 수 있으며, 연마재는 규소, 마그네슘, 니트륨 및 유황 등이 조합된 고체 상태의 가루가 증류수 및 이소프로필알콜과 일정 비율 혼합되어 액체 상태로 제공될 수 있다. 제공되는 연마재는 일정 점성을 포함할 수 있으며, 포함된 점성에 의해 니들 단부에 접착될 수 있다. 또한 연마재는 니들 단부에만 접착되는 것이 아니라, 니들 단부 상부에도 접착되어 니들 단부를 반구 형상으로 연마할 수 있게 한다. An abrasive may be applied onto the provided elastic sheet, and the abrasive may be provided in a liquid state by mixing a solid powder of silicon, magnesium, nitrile, sulfur, and the like mixed with distilled water and isopropyl alcohol in a predetermined ratio. The abrasive provided may comprise a certain viscosity and may be adhered to the needle ends by the included viscosity. In addition, the abrasive is not only adhered to the needle end, but also adheres to the needle end top to allow the needle end to be polished in a hemispherical shape.

탄성 시트 상에 도포되는 연마재는 니들 단부를 균일하게 연마할 수 있는 높이 내에서 도포될 수 있으며, 일반적으로 도포되는 연마재는 탄성 시트 상에 5㎛ 이내로 도포할 수 있다.The abrasive applied on the elastic sheet may be applied within a height capable of uniformly polishing the needle end, and generally the abrasive applied may be applied within 5 μm on the elastic sheet.

연마재가 도포된 탄성 시트 상에 니들 단부가 접촉하도록 니들을 탄성 시트 상부에 위치시킬 수 있다. 이때, 니들의 단부에 의해 연질 시트는 상면이 5㎛ 이상 10㎛ 이내로 함몰될 수 있도록 위치시킬 수 있다. 여기서 니들 단부는 탄성 시트에 고정되거나 연질 시트를 뚫지 않을 정도로 연질 시트와 접촉할 수 있다.The needle may be positioned on top of the elastic sheet such that the end of the needle contacts the elastic sheet to which the abrasive is applied. At this time, the soft sheet may be positioned by the end of the needle so that the upper surface can be recessed within 5 10㎛. The needle end may be in contact with the soft sheet to such an extent that it is not fixed to the elastic sheet or penetrates the soft sheet.

탄성 시트와 접촉된 니들 단부를 연마하기 위해서 베이스 플레이트를 회전할 수 있다. 베이스 플레이트는 원 또는 타원 등의 자취로 회전하면서 탄성 시트 상에 제공된 연마재에 의해 니들 단부를 연마할 수 있게 한다. The base plate can be rotated to polish the needle ends in contact with the elastic sheet. The base plate makes it possible to polish the needle end with an abrasive provided on the elastic sheet while rotating in a trace such as a circle or an ellipse.

베이스 플레이트가 연마될 때, 베이스 플레이트와 니들은 수평한 상태로 접촉할 수 있으며, 베이스 플레이트와 니들의 수평한 상태로 접촉할 때, 니들이 균일하게 연마될 수 있다. 베이스 플레이트가 회전할 때, 베이스 플레이트는 니들 단부가 변형되지 않는 범위 내에서 회전할 수 있으며, 이때 베이스 플레이트가 회전하는 속도는 회전 속도 3 RPM 내지 5 RPM 이하로 유지하면서 회전할 수 있다. When the base plate is polished, the base plate and the needle may contact in a horizontal state, and when the base plate and the needle contact in the horizontal state, the needle may be uniformly polished. When the base plate rotates, the base plate may rotate within a range where the needle end is not deformed, and the speed at which the base plate rotates may rotate while maintaining the rotational speed of 3 RPM to 5 RPM or less.

종래의 프로브 카드에 제공된 니들은 일반적으로 텅스텐으로 제공된 니들을 사용한다. 텅스텐으로 제공된 니들은 프로빙 동작 후에 외부의 먼지 및 이물질이 묻어나올 수 있으며, 그 결과 피 검사체에 대한 프로빙 동작의 정확성이 저하될 수 있다. 하지만 본 발명에 따른 백금으로 제공되는 니들의 경우 외부 먼지 및 이물질이 묻어나오는 현상이 절감될 수 있기 때문에 피 검사체에 대한 프로빙 동작에 대한 정확성이 향상될 수 있다.Needles provided in conventional probe cards generally use needles provided with tungsten. Needles provided with tungsten may be stained with external dust and foreign matter after the probing operation, and as a result, the accuracy of the probing operation on the test object may be degraded. However, in the case of the needle provided with platinum according to the present invention, since the phenomenon of external dust and foreign matters can be reduced, the accuracy of the probing operation for the inspected object can be improved.

또한, 본 발명은 피 검사체에 접촉하는 접촉면이 가늘고 완만한 니들을 공정하여 정확한 프로빙 동작을 할 수 있는 프로브 카드용 니들 연마 방법을 제공한 다. 즉, 비메모리용 제품의 프로브 카드의 경우 피 검사체의 크기가 매우 작기 때문에 일반적인 니들을 사용하여 프로빙 동작을 수행하기 어려움이 있다. 하지만 본 발명의 프로브 카드에 사용되는 니들은 가늘고 크기가 작은 피 검사체를 프로빙 동작하기에 용이한 니들이 제공될 수 있다.In addition, the present invention provides a method for polishing a needle for a probe card which can perform a precise probing operation by processing a needle having a thin and gentle contact surface in contact with the test object. That is, the probe card of the non-memory product has a very small size of the object under test, so it is difficult to perform a probing operation using a general needle. However, the needle used in the probe card of the present invention may be provided with a needle which is easy to probing a thin and small test subject.

본 발명은 외부 환경의 먼지나 이물질에 의해 수리나 교체가 필요할 경우 수리나 교체에 필요한 시간 및 장비를 절감할 수 있다. 본 발명에 따른 니들은 프로빙 동작 후 묻어나오는 이물질 및 외부 먼지가 절감될 수 있으므로, 외부 먼지 및 이물질을 제거하기 위한 시간 및 인력을 절감할 수 있다. 또한, 외부 먼지 및 이물질에 의해 수리나 교체가 필요한 니들이 절감될 수 있으므로, 생산성이 향상될 수 있다.  The present invention can reduce the time and equipment required for repair or replacement when repair or replacement is required due to dust or foreign matter in the external environment. Needle according to the present invention can reduce the foreign matter and external dust coming out after the probing operation, it is possible to reduce the time and manpower for removing the external dust and foreign matter. In addition, since the needle that needs to be repaired or replaced by external dust and foreign matter can be reduced, productivity can be improved.

이하, 도 3내지 도 7을 참조하여 프로브 카드용 니들 단부를 연마 장치에 대해 설명하기로 한다. 아울러, 전술한 구성과 동일 및 동일 상당 부분에 대해서는 동일 또는 동일 상당한 참조 부호를 부여하고, 그에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, a polishing apparatus will be described with respect to a probe card needle end with reference to FIGS. 3 to 7. In addition, the same or equivalent reference numerals are given to the same or equivalent components as those described above, and detailed description thereof will be omitted.

도 3및 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 프로브 카드용 니들 연마 장치를 도시한 단면도이며, 도 5는 도 4의 A 영역을 확대한 것이며, 도 6은 프로브 카드용 니들 연마 장치를 사용한 니들의 상태를 도시한 단면도이고, 도 7은 도6의 B 영역을 확대한 것이다. 3 and 4 are cross-sectional views showing a needle polishing device for a probe card according to an embodiment of the present invention, Figure 5 is an enlarged area A of Figure 4, Figure 6 needle using a needle polishing device for the probe card Is a cross-sectional view showing a state in which FIG. 7 is an enlarged view of region B of FIG.

도 3을 참조하면, 프로브 카드용 니들 연마 장치는 베이스 플레이트(300) 가 제공될 수 있으며, 베이스 플레이트(300) 상에는 탄성 시트(230)가 제공될 수 있다. Referring to FIG. 3, the needle polishing apparatus for the probe card may be provided with a base plate 300, and an elastic sheet 230 may be provided on the base plate 300.

탄성 시트(230)는 베이스 플레이트(300) 상에서 분리되지 않도록 탄성 시트(230)의 일 면에는 접착층(236)을 포함할 수 있다. 접착층(236) 상에는 연질 시트(232)가 제공될 수 있으며, 연질 시트(232)는 후술 할 베이스 플레이트(300)가 회전하면서 니들 단부(275)를 연마할 때, 니들 단부(275)가 부러지거나 변형되는 것을 방지하기 위해 탄성 가능한 재질로 형성되는 것이 바람직할 것이다. The elastic sheet 230 may include an adhesive layer 236 on one surface of the elastic sheet 230 so as not to be separated on the base plate 300. The soft sheet 232 may be provided on the adhesive layer 236, and the soft sheet 232 may be broken when the base end 300, which will be described later, is polished while the needle end 275 is polished. It would be desirable to be formed of a resilient material to prevent deformation.

접착층(236)과 연질 시트(232) 사이에는 지지층(234)이 제공될 수 있다. 지지층(234)은 연질 시트(232)은 유연한 성질인 예를 들어 발포폴리우레탄과 같은 재질의 수지가 제공될 수 있으며, 접착층(236) 또한 베이스 플레이트(300) 상에 접착 가능한 유연한 성질로 구성되어 탄성 시트(230)가 베이스 플레이트(300) 상에 지지 및 고정될 수 있는 역할을 할 수 있다. 따라서, 지지층(234)은 PET 필름 등과 같은 일정 형상 강도를 지닌 것이 바람직하며, 요구되는 사양에 따라 다양하게 변경될 수 있다. A support layer 234 may be provided between the adhesive layer 236 and the soft sheet 232. The support layer 234 may be provided with a resin of a material such as foamed polyurethane, for example, the flexible sheet 232 is flexible, the adhesive layer 236 is also composed of a flexible property that can be adhered to the base plate 300 The elastic sheet 230 may serve to be supported and fixed on the base plate 300. Therefore, the support layer 234 preferably has a certain shape strength, such as PET film, it can be variously changed according to the required specifications.

탄성 시트(230) 상에는 니들 단부(275)를 연마할 수 있는 연마재(250)가 도포될 수 있다. 연마재(250)는 규소, 마그네슘, 나트륨 및 유황 등이 혼합된 분말가루에 증류수 및 이소프로필알콜 등을 일정 비율 혼합한 액체 상태의 연마재를 사용할 수 있다.An abrasive 250 may be applied on the elastic sheet 230 to polish the needle end 275. The abrasive 250 may be a liquid abrasive in which a predetermined ratio of distilled water, isopropyl alcohol, and the like is mixed with powdered powder mixed with silicon, magnesium, sodium, and sulfur.

여기서 니들(270)은 백금 재질로 형성된 니들(270)이 사용될 수 있다. 일반적으로 프로브 카드용 니들은 텅스텐이 주 원료가 되는 니들이 사용된다. 텅스텐 이 주 원료가 되는 니들을 사용하여 프로빙 동작을 수행하는 경우, 니들 단부에 이물질 등이 묻어 나오는 현상이 발생할 수 있으며, 니들 단부에 이물질이 묻어나오는 니들을 사용하여 프로빙 동작을 수행할 경우, 정확한 프로빙 동작이 수행되지 않는다는 문제점이 있다. 이러한 문제점을 해결하기 위해 백금을 포함하는 니들을 사용할 수 있지만, 백금 니들의 경우 프로빙 동작을 위해 피 검사체의 크기 및 면적에 알맞게 니들 단부를 연마하는데 어려움이 따를 수 있다. 즉, 종래의 니들의 경우 니들 단부를 연마하기 위해 에칭액에 니들를 담궈 니들 단부를 녹이는 작업을 수행될 수 있다. 이러한 에칭액에 백금 니들을 담그게 되면, 니들 단부(275)가 마치 타버린 듯 녹아 내릴 수 있다. 따라서 본 발명의 실시예에서는 백금을 포함하는 니들 단부(275)를 연마할 수 있는 연마재(250)를 예를 들어 설명하기로 한다. Here, the needle 270 may be a needle 270 formed of a platinum material. In general, needles for probe cards are used in which tungsten is the main raw material. When the probing operation is performed using a needle whose tungsten is the main raw material, foreign matters may come out on the end of the needle, and when the probing operation is performed by using the needles with the foreign material on the needle end, There is a problem that the probing operation is not performed. To solve this problem, a needle containing platinum may be used. However, in the case of platinum needle, it may be difficult to polish the end of the needle to fit the size and area of the object to be probed. That is, in the case of the conventional needle, the operation of melting the needle end by immersing the needle in the etchant to polish the needle end. When the platinum needle is immersed in the etching solution, the needle end 275 may melt as if burned out. Therefore, in the embodiment of the present invention will be described with an example of the abrasive 250 that can polish the needle end (275) containing platinum.

베이스 플레이트(300) 상에 탄성 시트(230)가 제공되면, 탄성 시트 상에 연마재를 도포하는 단계(S220)를 지날 수 있다. 연마재(250)는 규소, 마그네슘, 나트륨 및 유황 등이 혼합된 분말 가루와 제공된 연마재(250)는 증류수 및 이소프로필알콜 등과 일정 비율 혼합되어 탄성 시트(230) 상에 제공될 수 있다. 제공된 연마재(250)는 일정 점성을 가질 수 있으며, 연마재(250)의 점성은 니들 단부(275)를 연마할 때, 니들 단부(275)를 반구의 형상으로 연마하기 위해서 니들 단부(275) 상부까지 연마재가 접착될 수 있도록 일정 점성을 포함할 수 있게 한다. When the elastic sheet 230 is provided on the base plate 300, the step (S220) of applying the abrasive on the elastic sheet may pass. The abrasive 250 may be a powder powder mixed with silicon, magnesium, sodium, sulfur, and the like, and the provided abrasive 250 may be mixed with distilled water, isopropyl alcohol, and the like in a ratio to be provided on the elastic sheet 230. The provided abrasive 250 may have a certain viscosity, and the viscosity of the abrasive 250 may, when polishing the needle end 275, to the top of the needle end 275 to polish the needle end 275 into a hemispherical shape. It is possible to include a certain viscosity so that the abrasive can be bonded.

도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이, 니들 단부(275)는 탄성 시트(230) 상면에 접촉될 수 있으며, 여기서 탄성 시트(230)는 예를 들어 스폰지와 같이 니들 단부(275)가 탄성 시트(230) 상부에서 일정 압력을 가하면 탄성 시트(230)의 연질 시트(232) 상면은 일정 깊이(d1) 함몰될 수 있다. 이때, 니들 단부(275)에 의해 연질 시트(232)가 함몰되는 깊이(d1)는 요구되는 조건에 따라 변경될 수 있지만 일반적으로 5㎛ 이상 10㎛이내로 함몰할 수 있으며, 니들 단부(275)가 연질 시트(232)를 통과하거나 연질 시트(232)에 고정되지 않도록 함몰하는 것이 바람직할 것이다.As shown in FIGS. 4 and 5, the needle end 275 may be in contact with the upper surface of the elastic sheet 230, where the elastic sheet 230 has a needle end 275 such as a sponge, for example, the elastic sheet. When a predetermined pressure is applied from the upper portion 230, the upper surface of the soft sheet 232 of the elastic sheet 230 may be recessed to a predetermined depth d1. In this case, the depth d1 of the soft sheet 232 recessed by the needle end 275 may be changed according to a required condition, but may generally be recessed within 5 μm or more and 10 μm, and the needle end 275 may be recessed. It may be desirable to recess so as not to pass through or secure to the soft sheet 232.

니들 단부(275)가 탄성 시트(230)를 일정 압력을 가하여 탄성 시트(230)에 접촉하게 되면 일정 점성을 가진 연마재(250)가 니들 단부(275)에 접착될 수 있다. 이때, 연마재(250)는 니들(270)의 수직 방향으로 일정 높이(d2)까지 접착될 수 있으며, 연마재(250)가 접착되는 높이(d2)는 제공되는 연마재(250)의 점성의 정도, 탄성 시트(230)와 접촉되는 깊이(d1) 등에 따라 변경될 수 있다. When the needle end 275 contacts the elastic sheet 230 by applying a predetermined pressure to the elastic sheet 230, an abrasive 250 having a predetermined viscosity may be attached to the needle end 275. At this time, the abrasive 250 may be bonded to a predetermined height (d2) in the vertical direction of the needle 270, the height (d2) to which the abrasive 250 is bonded is the degree of viscosity, elasticity of the provided abrasive 250 It may be changed according to the depth d1 and the like contacted with the sheet 230.

니들 단부(275)가 탄성 시트(230) 상면에 접촉되면, 베이스 플레이트(300)는 니들(270)은 수평한 상태로 접촉을 유지하면서 회전할 수 있다. 베이스 플레이트(300)가 회전할 때, 니들 단부(275)가 구부러지거나 변형되지 않으며, 니들 단부(275)가 균일하게 연마되기 위해서는 니들(270)과 베이스 플레이트(300)가 수평을 유지할 수 있다. When the needle end 275 contacts the upper surface of the elastic sheet 230, the base plate 300 may rotate while the needle 270 maintains contact in a horizontal state. When the base plate 300 rotates, the needle end 275 may not be bent or deformed, and the needle 270 and the base plate 300 may be horizontal in order to uniformly polish the needle end 275.

베이스 플레이트(300)가 회전할 때, 베이스 플레이트(300)는 타원, 원, 직선 등의 자취를 그리며 회전할 수 있으며, 베이스 플레이트(300)가 회전하는 회전 속도는 3 RPM 이상 5 RPM 이내로 요구되는 조건 및 사양에 따라 변경하여 회전할 수 있다.When the base plate 300 rotates, the base plate 300 can be rotated by drawing traces of ellipses, circles, straight lines, etc., and the rotational speed at which the base plate 300 rotates is required to be 3 RPM or more and 5 RPM or less. Rotation can be changed according to conditions and specifications.

한편, 도 6 및 도 7을 참조하면, 베이스 플레이트(300)가 회전하여 연마재(250)에 의해 니들 단부(275)가 연마되면, 니들 단부(275)를 확인할 수 있다. 니 들 단부(275)를 확인할 때, 니들 단부(275)가 반원 형상으로 연마된 것인지를 점검할 수 있으며, 제공되는 니들(270)이 균일하게 연마된 것 등을 점검할 수 있다. 만약 점검되는 니들(270) 일부의 니들 단부(275)가 일반적인 단면만 연마되어 반원 형상으로 연마된 것이 아니거나, 제공되는 니들(270)이 균일하게 연마된 것이 아니라면, 니들 단부(275)를 재 연마 할 수 있다. Meanwhile, referring to FIGS. 6 and 7, when the needle end 275 is polished by the abrasive 250 by rotating the base plate 300, the needle end 275 may be confirmed. When checking the needle end 275, it is possible to check whether the needle end 275 is polished in a semi-circular shape, it is possible to check that the provided needle 270 is uniformly polished. If the needle end 275 of the portion of the needle 270 to be inspected is not polished to a semicircular shape by polishing only a general cross section, or the provided needle 270 is not polished uniformly, the needle end 275 may be replaced. Can be polished

한편, 연마재(250)는 앞서 니들 단부(275)를 연마하는 동안 액체 상태에서 고체 상태로 변화할 수 있다. 따라서 니들 단부(275)를 재 연마하기 위해서는 연마재(250)의 상태를 판단할 수 있다. 이때, 연마재(250)가 고체 상태로 변화하였는지 판단하여 고체 상태로 변화된 연마재(250)에 증류수 및 이소프로필알콜을 재 첨가하여 다시 액상 상태의 연마재(250)가 될 수 있게 한다.Meanwhile, the abrasive 250 may change from a liquid state to a solid state while polishing the needle end 275 earlier. Therefore, in order to regrind the needle end 275, the state of the abrasive 250 may be determined. At this time, it is determined whether the abrasive 250 is changed to a solid state, and the distilled water and isopropyl alcohol are added to the abrasive 250 changed to a solid state to be a liquid abrasive 250 again.

상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만 해당 기술분야의 숙련된 당업자라면 하기의 청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.As described above, although described with reference to the preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art various modifications and variations of the present invention without departing from the spirit and scope of the invention described in the claims below I can understand that you can.

도 1은 본 발명의 실시예에 다른 프로브 카드를 도시한 것이다.1 shows a probe card according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 프로브 카드용 니들 연마 방법을 도시한 흐름도이다. 2 is a flowchart illustrating a needle polishing method for a probe card of the present invention.

도 3및 도 4는 본 발명의 실시예에 따른 프로브 카드용 니들 연마 장치를 도시한 단면도이다.3 and 4 are cross-sectional views showing a needle polishing device for a probe card according to an embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 A 영역을 확대한 것이다.FIG. 5 is an enlarged view of region A of FIG. 4.

도 6은 프로브 카드용 니들 연마 장치를 사용한 니들의 상태를 도시한 단면도이다.Fig. 6 is a sectional view showing the state of the needle using the needle polishing apparatus for the probe card.

도 7은 도6의 B 영역을 확대한 것이다. FIG. 7 is an enlarged view of region B of FIG. 6.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

100: 프로브 카드 200: 니들 블록100: probe card 200: needle block

230: 탄성 시트 250: 연마재230: elastic sheet 250: abrasive

270: 니들 300: 베이스 플레이트 270: needle 300: base plate

Claims (16)

프로브 카드용 니들 단부를 연마하는 방법에 있어서,In the method of grinding the needle end for the probe card, 베이스 플레이트 상에 탄성 시트를 부착하는 단계;Attaching an elastic sheet on the base plate; 상기 탄성 시트 상에 연마재를 도포하는 단계;Applying an abrasive on the elastic sheet; 상기 니들 단부가 액체 상태인 상기 연마재에 잠기도록 상기 탄성 시트의 상면과 접촉시키는 단계; 및 Contacting an upper surface of the elastic sheet such that the needle end is immersed in the abrasive in a liquid state; And 상기 베이스 플레이트와 상기 니들이 수평한 상태로 상기 베이스 플레이가 회전하여 상기 니들 단부를 연마하는 단계; Polishing the end of the needle by rotating the base play while the base plate and the needle are in a horizontal state ; 를 포함하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.Polishing method of the end of the needle for a probe card comprising a. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스 플레이트 상에 탄성 시트를 부착하는 단계에서 상기 탄성 시트는 상기 베이스 플레이트와 접착되는 접착층을 포함하며, 상기 접착층 상에 연질 시트를 포함하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.And attaching the elastic sheet on the base plate, wherein the elastic sheet includes an adhesive layer adhered to the base plate and comprises a soft sheet on the adhesive layer. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 연질 시트는 탄성을 가지는 발포폴리우레탄 수지로 제공되는 것을 특 징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법. The method of polishing the needle end of the probe card, characterized in that the soft sheet is provided with a foamed polyurethane resin having elasticity. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 접착층 및 상기 연질 시트 사이에 상기 접착층 및 상기 발포폴리우레탄을 지지 및 고정하는 지지층을 포함하며,A support layer supporting and fixing the adhesive layer and the foamed polyurethane between the adhesive layer and the soft sheet, 상기 지지층은 PET 필름으로 제공되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법. And said support layer is provided as a PET film. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탄성 시트 상에 연마재를 도포하는 단계에서 상기 연마재는 상기 탄성 시트 상에 5㎛ 이내로 도포하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.In the step of applying an abrasive on the elastic sheet, the abrasive is applied to the elastic sheet within 5㎛, polishing method of the needle end for the probe card. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 니들 단부가 상기 탄성 시트의 상면과 접촉하도록 상기 니들을 상기 탄성 시트 상부에 위치시키는 단계에서 상기 니들 단부에 의해 상기 연질 시트 상면이 5㎛ 이상 10㎛ 이내로 함몰되도록 위치시키는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.For positioning the needle above the elastic sheet so that the needle end contacts the upper surface of the elastic sheet, the needle end is positioned so that the upper surface of the soft sheet is recessed within 5 µm or more and 10 µm . Polishing method of needle end. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스 플레이트와 상기 니들이 수평한 상태로 접촉을 유지하면서 상대적으로 반복 이동시키는 단계에서 상기 베이스 플레이트는 원 또는 타원의 자취 중 어느 한 자취로 회전하며, 상기 베이스 플레이드의 회전과 동시에 상기 연마재가 상기 베이스 플레이트과 실질적으로 동일한 방향으로 회전하면서 상기 니들 단부를 연마하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.The base plate is rotated in one of the traces of a circle or an ellipse in the step of moving the base plate and the needle in a horizontal state while keeping the contact in a horizontal direction, and the abrasive is rotated simultaneously with the rotation of the base plate. And grinding said needle end while rotating in substantially the same direction as the base plate. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 베이스 플레이트와 상기 니들이 수평한 상태로 접촉을 유지하면서 상대적으로 반복 이동시키는 단계에서 상기 니들 단부는 반구 형상으로 연마되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.And the needle end is polished to a hemispherical shape in the step of repeatedly moving the base plate and the needle while maintaining contact in a horizontal state. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 베이스 플레이트와 상기 니들이 수평한 상태로 접촉을 유지하면서 상대적으로 반복 이동시키는 단계에서 상기 베이스 플레이트가 회전하여도 상기 연마재가 상기 니들 단부를 실질적으로 동일하게 연마하도록 상기 니들은 균일하게 일정 간격으로 제공되는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.The needles are uniformly provided at regular intervals so that the abrasive polishes the needle ends substantially equally even when the base plate is rotated in the step of repeatedly moving the base plate and the needle while maintaining contact in a horizontal state. Polishing method of the end of the needle for a probe card, characterized in that. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 베이스 플레이트와 상기 니들이 수평한 상태로 접촉을 유지하면서 상대적으로 반복 이동시키는 단계에서 상기 베이스 플레이트는 상기 니들 단부가 변형되지 않는 범위에서 회전하도록 회전 속도 3 RPM 내지 5 RPM 이하로 유지하면서 회전하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부의 연마 방법.In the step of repeatedly moving the base plate and the needle while maintaining contact in a horizontal state, the base plate is rotated while maintaining at a rotational speed of 3 RPM to 5 RPM or less so that the needle end is rotated in a non-deformable range. A method for polishing a needle end for a probe card. 로브 카드용 니들 단부를 연마하는 장치에 있어서 In the apparatus for grinding the needle end for the lob card 베이스 플레이트 상에 부착되는 탄성시트; An elastic sheet attached to the base plate; And 상기 탄성 시트 상에 도포되어, 상기 니들 단부를 연마하는 연마재;를 구비하며, And an abrasive applied to the elastic sheet to polish the end of the needle . 상기 탄성 시트는 접착층 및 연질시트를 포함하며, 상기 접착층 및 상기 연질 시트 사이에는 지지층이 더 제공된 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부를 연마하는 장치. And the elastic sheet includes an adhesive layer and a soft sheet, and a support layer is further provided between the adhesive layer and the soft sheet . 제14항에 있어서,The method of claim 14, 기 연마재는 백금으로 형성된 상기 니들의 단부를 연마하는 것을 특징으로 하는 프로브 카드용 니들 단부 연마 장치.The abrasive is a needle end polishing device for a probe card, characterized in that for polishing the end of the needle formed of platinum . 제14항에 있어서,The method of claim 14, 기 베이스 플레이트가 상기 니들과 수평한 상태로 회전함에 따라 상기 탄성 시트 및 상기 연마재 상기 니들의 단부를 연마하는 것을 특징으로 하는 프로브 니들 단부를 연마하는 장치.A group device that, as the rotating base plate in a horizontal position and said needle grinding the probe needle end, characterized in that the elastic sheet and the abrasive polishing the end of the needle.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07244074A (en) * 1994-03-03 1995-09-19 Nippon Denshi Zairyo Kk Probe tip cleaning member
JPH11238768A (en) 1998-02-20 1999-08-31 Japan Electronic Materials Corp Probe end cleaning sheet
KR20040013841A (en) * 2002-08-08 2004-02-14 삼성전자주식회사 Needle polish method for probe card
JP2004271389A (en) 2003-03-10 2004-09-30 Japan Electronic Materials Corp Member for cleaning tip of probe, device for cleaning probe, and method of cleaning tip of probe

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07244074A (en) * 1994-03-03 1995-09-19 Nippon Denshi Zairyo Kk Probe tip cleaning member
JPH11238768A (en) 1998-02-20 1999-08-31 Japan Electronic Materials Corp Probe end cleaning sheet
KR20040013841A (en) * 2002-08-08 2004-02-14 삼성전자주식회사 Needle polish method for probe card
JP2004271389A (en) 2003-03-10 2004-09-30 Japan Electronic Materials Corp Member for cleaning tip of probe, device for cleaning probe, and method of cleaning tip of probe

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