KR100886709B1 - Semiconductor package and method of manufacturing thereof - Google Patents

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Abstract

반도체 패키지 및 이의 제조 방법이 개시되어 있다. 반도체 패키지는 제1 면 상에 형성된 본딩 패드를 갖는 반도체 칩 몸체, 상기 제1 면에 배치된 제1 리세스 내에 형성되며, 상기 본딩 패드와 전기적으로 연결된 제1 전극 및 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면에 배치된 제2 리세스에 형성되며 상기 제1 전극과 연결된 제2 전극을 갖는 반도체 칩을 포함한다. 반도체 칩의 양쪽면에 고융점 금속을 포함하는 제1 전극 및 제1 전극과 연결되며 저융점 금속을 포함하는 제2 전극을 각각 형성하여, 제1 및 제2 전극들 및 반도체 칩의 손상을 억제, 제1 및 제2 전극들을 형성하는데 소요되는 시간 단축 및 적어도 2 개의 반도체 칩들이 적층된 상태에서 반도체 칩들간 결합력을 크게 향상시키는 효과를 갖는다.A semiconductor package and a method of manufacturing the same are disclosed. The semiconductor package includes a semiconductor chip body having a bonding pad formed on a first surface, a first electrode formed in a first recess disposed on the first surface, and facing the first surface and electrically connected to the bonding pad. And a semiconductor chip formed in a second recess disposed on a second surface and having a second electrode connected to the first electrode. On both sides of the semiconductor chip, a first electrode including a high melting point metal and a second electrode connected to the first electrode and forming a low melting point metal are formed, respectively, thereby preventing damage to the first and second electrodes and the semiconductor chip. As a result, the time required for forming the first and second electrodes may be shortened, and the bonding force between the semiconductor chips may be greatly improved in a state in which at least two semiconductor chips are stacked.

Description

반도체 패키지 및 이의 제조 방법{SEMICONDUCTOR PACKAGE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF}Semiconductor package and manufacturing method therefor {SEMICONDUCTOR PACKAGE AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF}

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지의 평면도이다.1 is a plan view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package in accordance with another embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 4 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package in accordance with another embodiment of the present invention.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.5 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention.

도 7 내지 도 12들은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 단면도들이다.7 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

본 발명은 반도체 패키지 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor package and a method of manufacturing the same.

최근 들어, 방대한 데이터를 저장 및 저장된 데이터를 단 시간 내 처리하는 반도체 소자를 포함하는 반도체 패키지가 개발되고 있다. 반도체 소자를 포함하는 반도체 패키지는 퍼스널 컴퓨터, 텔레비전 수신기, 가전 제품, 정보통신 기기 등에 폭넓게 적용되고 있다.In recent years, semiconductor packages including semiconductor devices for storing massive data and processing stored data in a short time have been developed. BACKGROUND Semiconductor packages containing semiconductor devices have been widely applied to personal computers, television receivers, home appliances, information and communication devices, and the like.

일반적으로, 반도체 패키지는 웨이퍼 상에 트랜지스터, 저항, 커패시터 등과 같은 소자를 집적하여 반도체 칩을 형성하는 반도체 칩 제조 공정 및 반도체 칩을 웨이퍼로부터 개별화하여 외부 회로 기판 등과 전기적으로 접속 및 취성이 약한 반도체 칩을 외부로부터 인가된 충격 및/또는 진동으로부터 보호하는 패키지 공정에 의하여 제조된다.In general, a semiconductor package is a semiconductor chip manufacturing process for forming a semiconductor chip by integrating devices such as transistors, resistors, capacitors, and the like on a wafer, and a semiconductor chip having a weak electrical connection and brittleness with an external circuit board by individualizing the semiconductor chip from the wafer. It is manufactured by a package process that protects it from externally applied shocks and / or vibrations.

최근 들어, 데이터 저장 용량 및 데이터 처리 속도를 향상시키기 위해서 복수개의 반도체 칩들을 적층 한 적층 반도체 패키지가 개발되고 있다.Recently, in order to improve data storage capacity and data processing speed, a multilayer semiconductor package in which a plurality of semiconductor chips are stacked is developed.

적층 반도체 패키지를 형성하기 위해서 하부 반도체 칩 및 하부 반도체 칩의 상부에 배치된 상부 반도체 칩은 전기적으로 연결되어야 한다.In order to form the stacked semiconductor package, the lower semiconductor chip and the upper semiconductor chip disposed on the lower semiconductor chip must be electrically connected.

적층 된 복수개의 반도체 칩들을 전기적으로 연결하기 위하여, 각 반도체 칩은 반도체 칩을 관통하는 전극을 갖고, 각 반도체 칩을 관통하는 전극을 이용하여 복수개의 반도체 칩들은 전기적으로 연결된다.In order to electrically connect the plurality of stacked semiconductor chips, each semiconductor chip has an electrode penetrating the semiconductor chip, and the plurality of semiconductor chips are electrically connected by using an electrode penetrating the semiconductor chip.

그러나, 반도체 칩들을 관통하는 전극을 형성할 때 반도체 칩을 관통하는 관통홀의 깊이가 깊기 때문에 관통홀을 균일하게 형성하기 어렵고, 관통홀을 형성하는 도중 반도체 칩의 손상이 빈번하게 발생 되며, 관통홀의 내에 금속을 배치하여 전극을 형성할 때 역시 다양한 불량이 발생 된다.However, when forming the electrodes penetrating through the semiconductor chips, the through holes penetrating the semiconductor chips are deep, making it difficult to uniformly form the through holes, and the damage of the semiconductor chips frequently occurs during the formation of the through holes. Various defects also occur when metals are formed in the electrodes to form electrodes.

또한, 반도체 칩들을 관통하는 전극은 주로 도금 방법에 의하여 형성되는데 관통홀 내에 도금 방법으로 깊은 깊이를 갖는 관통홀 내에 전극을 형성하기 위해서는 매우 긴 도금 시간이 요구된다.In addition, electrodes penetrating through the semiconductor chips are mainly formed by a plating method, and a very long plating time is required to form an electrode in a through hole having a deep depth in the through hole by a plating method.

또한, 반도체 칩들을 관통하는 전극들은 주로 구리와 같은 고융점을 갖는 금속이 사용되기 때문에 적층 된 각 반도체 칩들의 전극들을 전기적으로 연결하기 어렵다.In addition, since electrodes having high melting points such as copper are mainly used for the electrodes penetrating through the semiconductor chips, it is difficult to electrically connect the electrodes of each of the stacked semiconductor chips.

본 발명은 반도체 칩을 관통하는 전극의 구조를 변경하여 전극을 형성하는 도중 발생 되는 불량을 감소시킨 반도체 패키지를 제공한다.The present invention provides a semiconductor package in which defects generated during the formation of the electrode are reduced by changing the structure of the electrode penetrating the semiconductor chip.

본 발명은 상기 반도체 패키지의 제조 방법을 제공한다.The present invention provides a method of manufacturing the semiconductor package.

본 발명에 의한 반도체 패키지는 제1 면 상에 형성된 본딩 패드를 갖는 반도체 칩 몸체, 상기 제1 면에 배치된 제1 리세스 내에 형성되며, 상기 본딩 패드와 전기적으로 연결된 제1 전극 및 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면에 배치된 제2 리세스에 형성되며 상기 제1 전극과 연결된 제2 전극을 갖는 반도체 칩을 포함한다.The semiconductor package according to the present invention includes a semiconductor chip body having a bonding pad formed on a first surface, a first electrode formed in a first recess disposed on the first surface, and electrically connected to the bonding pad. And a semiconductor chip formed in a second recess disposed on a second surface facing the surface and having a second electrode connected to the first electrode.

반도체 패키지의 상기 제1 전극은 상기 제1 리세스 내에 배치된 제1 전극부 및 상기 제1 면 상에 배치된 제2 전극부를 포함한다.The first electrode of the semiconductor package includes a first electrode portion disposed in the first recess and a second electrode portion disposed on the first surface.

반도체 패키지의 상기 제2 전극은 상기 제2 리세스 내에서 원뿔대 형상을 갖는다.The second electrode of the semiconductor package has a truncated conical shape in the second recess.

반도체 패키지의 상기 제1 전극은 금속 씨드 패턴을 포함한다.The first electrode of the semiconductor package includes a metal seed pattern.

반도체 패키지의 상기 제1 전극은 제1 금속을 포함하고 상기 제2 전극은 제2 금속을 포함한다.The first electrode of the semiconductor package includes a first metal and the second electrode includes a second metal.

반도체 패키지는 상기 반도체 칩이 실장 되는 접속 패드를 갖는 기판을 포함하며, 상기 반도체 칩의 상기 제2 전극은 상기 접속 패드에 접속된다.The semiconductor package includes a substrate having a connection pad on which the semiconductor chip is mounted, and the second electrode of the semiconductor chip is connected to the connection pad.

반도체 패키지는 상기 반도체 칩이 실장 되는 접속 패드를 갖는 기판을 포함하며, 상기 반도체 칩의 상기 제1 전극은 상기 접속 패드에 접속된다.The semiconductor package includes a substrate having a connection pad on which the semiconductor chip is mounted, and the first electrode of the semiconductor chip is connected to the connection pad.

반도체 패키지는 적어도 2 개의 상기 반도체 칩들이 실장 되는 기판을 포함하며, 상기 기판과 접촉되는 하부 반도체 칩의 제2 전극은 상기 기판의 접속 패드와 접속되고, 상기 하부 반도체 칩의 제1 전극은 상기 하부 반도체 칩의 상부에 배치된 상부 반도체 칩의 제2 전극과 전기적으로 접속된다.The semiconductor package includes a substrate on which at least two semiconductor chips are mounted, a second electrode of a lower semiconductor chip contacting the substrate is connected to a connection pad of the substrate, and a first electrode of the lower semiconductor chip is connected to the lower It is electrically connected with the 2nd electrode of the upper semiconductor chip arrange | positioned above the semiconductor chip.

반도체 패키지는 적어도 2 개의 상기 반도체 칩들이 실장 되는 기판을 포함하며, 상기 기판과 접촉되는 하부 반도체 칩의 제1 전극은 상기 기판의 접속 패드와 접속되고, 상기 하부 반도체 칩의 제2 전극은 상기 하부 반도체 칩의 상부에 배치된 상부 반도체 칩의 제1 전극과 전기적으로 접속된다.The semiconductor package includes a substrate on which at least two semiconductor chips are mounted, a first electrode of a lower semiconductor chip contacting the substrate is connected to a connection pad of the substrate, and a second electrode of the lower semiconductor chip is connected to the lower It is electrically connected with the 1st electrode of the upper semiconductor chip arrange | positioned above the semiconductor chip.

본 발명에 따른 반도체 패키지의 제조 방법은 반도체 칩의 제1 면에 형성된 제1 리세스에 제1 전극을 형성하는 단계 및 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면에 형성된 제2 리세스에 상기 제1 전극과 전기적으로 연결되는 제2 전극을 형성하는 단계를 포함한다.A method of manufacturing a semiconductor package according to the present invention includes forming a first electrode in a first recess formed on a first surface of a semiconductor chip, and forming the first electrode in a second recess formed on a second surface opposite to the first surface. Forming a second electrode electrically connected with the first electrode.

반도체 패키지의 제조 방법 중 상기 제1 전극을 형성하는 단계는 상기 제1 면 및 제1 리세스를 덮는 금속 씨드층을 형성하는 단계 및 상기 제1 면 상에 상기 제1 리세스를 노출하는 개구를 갖는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함한 다.In the method of manufacturing a semiconductor package, the forming of the first electrode may include forming a metal seed layer covering the first surface and the first recess and openings exposing the first recess on the first surface. Forming a photoresist pattern having;

반도체 패키지의 제조 방법에서 상기 제1 전극은 도금에 의하여 형성된 구리층을 포함하고 상기 제2 전극은 솔더를 포함한다.In the method of manufacturing a semiconductor package, the first electrode includes a copper layer formed by plating, and the second electrode includes solder.

반도체 패키지의 제조 방법 중 상기 제1 전극 및 제2 전극을 형성하는 단계 사이에, 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면을 연마하여 상기 반도체 칩의 두께를 감소시키는 단계를 포함한다.Between the step of forming the first electrode and the second electrode of the method for manufacturing a semiconductor package, the step of grinding the second surface facing the first surface to reduce the thickness of the semiconductor chip.

반도체 패키지의 제조 방법 중 상기 제2 전극을 형성하는 단계는 상기 제1 전극을 노출하는 제2 리세스를 형성하는 단계, 상기 제2 리세스 내부에 솔더를 채우는 단계 및 상기 솔더를 용융시키는 단계를 포함한다.The forming of the second electrode in the method of manufacturing a semiconductor package may include forming a second recess exposing the first electrode, filling a solder into the second recess, and melting the solder. Include.

반도체 패키지의 제조 방법 중 상기 제2 리세스를 형성하는 단계에서, 상기 제2 리세스에 의하여 형성된 상기 반도체 칩의 내측면은 상기 제2 면에 대하여 경사지게 형성된다.In the forming of the second recess in the method of manufacturing a semiconductor package, an inner surface of the semiconductor chip formed by the second recess is formed to be inclined with respect to the second surface.

반도체 패키지의 제조 방법에서 상기 제2 전극은 상기 제2 면으로부터 돌출된다.In the method of manufacturing a semiconductor package, the second electrode protrudes from the second surface.

반도체 패키지의 제조 방법은 상기 반도체 칩을 상기 기판에 실장 하는 단계를 포함하며, 상기 기판에는 적어도 2 개의 상기 반도체 칩이 적층 되고 상기 각 반도체 칩들의 상기 제1 및 제2 전극들은 전기적으로 연결된다.A method of manufacturing a semiconductor package includes mounting the semiconductor chip on the substrate, wherein at least two semiconductor chips are stacked on the substrate and the first and second electrodes of the semiconductor chips are electrically connected to each other.

반도체 패키지의 제조 방법 중 상기 기판은 접속 패드를 갖고, 적층 된 상기 반도체 칩들 중 상기 기판과 접촉되는 반도체 칩의 상기 제1 전극은 상기 접속 패드에 전기적으로 접속된다.In the method of manufacturing a semiconductor package, the substrate has a connection pad, and the first electrode of the semiconductor chip in contact with the substrate among the stacked semiconductor chips is electrically connected to the connection pad.

반도체 패키지의 제조 방법 중 상기 기판은 접속 패드를 갖고, 적층 된 상기 반도체 칩들 중 상기 기판과 접촉되는 반도체 칩의 상기 제2 전극은 상기 접속 패드에 전기적으로 접속된다.In the method of manufacturing a semiconductor package, the substrate has a connection pad, and the second electrode of the semiconductor chip in contact with the substrate among the stacked semiconductor chips is electrically connected to the connection pad.

이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 실시예들에 따른 반도체 패키지 및 이의 제조 방법에 대하여 상세하게 설명하지만, 본 발명이 하기의 실시예들에 제한되는 것은 아니며, 해당 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양한 다른 형태로 구현할 수 있을 것이다.Hereinafter, a semiconductor package and a method of manufacturing the same according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments, and the general knowledge in the art. Those skilled in the art can implement the present invention in various other forms without departing from the technical spirit of the present invention.

도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지의 평면도이다. 도 2는 도 1의 I-I' 선을 따라 절단한 단면도이다.1 is a plan view of a semiconductor package according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line II ′ of FIG. 1.

도 1 및 도 2를 참조하면, 반도체 패키지(100)는 반도체 칩 몸체(10), 제1 전극(20) 및 제2 전극(30)을 갖는 반도체 칩(40)을 포함한다.1 and 2, the semiconductor package 100 includes a semiconductor chip 40 having a semiconductor chip body 10, a first electrode 20, and a second electrode 30.

반도체 칩 몸체(10)는, 예를 들어, 직육면체 형상을 갖는다. 직육면체 형상을 갖는 반도체 칩 몸체(10)는 제1 면(1), 제1 면(1)과 대향하는 제2 면(2) 및 측면(3)들을 갖는다.The semiconductor chip body 10 has a rectangular parallelepiped shape, for example. The semiconductor chip body 10 having a rectangular parallelepiped shape has a first face 1, a second face 2 and side faces 3 facing the first face 1.

반도체 칩 몸체(10)는 데이터 저장부(미도시), 데이터 처리부(미도시) 및 본딩 패드(6)를 포함한다.The semiconductor chip body 10 includes a data storage unit (not shown), a data processing unit (not shown), and a bonding pad 6.

데이터 저장부는 데이터를 저장하는 역할을 하며, 데이터 처리부는 데이터를 처리하는 역할을 한다. 본딩 패드(6)는 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1)에 형성된다. 본딩 패드(6)는 데이터 저장부 및/또는 데이터 처리부와 전기적으로 연결된다.The data storage unit serves to store data, and the data processing unit serves to process data. The bonding pads 6 are formed on the first surface 1 of the semiconductor chip body 10. The bonding pads 6 are electrically connected to the data storage unit and / or the data processing unit.

반도체 칩 몸체(10)는 제1 리세스(4) 및 제2 리세스(5)를 갖는다. 제1 리세스(4)는 제1 면(1)으로부터 반도체 칩 몸체(10)의 내부로 연장되고, 제2 리세스(5)는 반도체 칩 몸체(10)의 제2 면(2)으로부터 반도체 칩 몸체(10)의 내부로 연장된다. 제1 및 제2 리세스(4,5)는, 예를 들어, 홀이고, 제1 리세스(4) 및 제2 리세스(5)는 상호 연통 된다.The semiconductor chip body 10 has a first recess 4 and a second recess 5. The first recess 4 extends from the first face 1 into the interior of the semiconductor chip body 10, and the second recess 5 extends from the second face 2 of the semiconductor chip body 10. It extends into the chip body 10. The first and second recesses 4, 5 are, for example, holes and the first recesses 4 and the second recesses 5 communicate with each other.

본 실시예에서, 제1 리세스(4)의 깊이는 반도체 칩 몸체(10)의 두께의 약 10% 내지 약 80%일 수 있다. 제2 리세스(5)의 깊이는 반도체 칩 몸체(10)의 두께의 약 90% 내지 약 20%일 수 있다.In the present embodiment, the depth of the first recess 4 may be about 10% to about 80% of the thickness of the semiconductor chip body 10. The depth of the second recess 5 may be about 90% to about 20% of the thickness of the semiconductor chip body 10.

제1 리세스(4)는, 예를 들어, 원통 형상을 갖는 반면 제2 리세스(5)는, 예를 들어, 원뿔대 형상을 갖는다. 제1 리세스(4) 및 제2 리세스(5)의 형상은 원통 형상 및 원뿔대 형상 이외에 다양한 형상을 가질 수 있다.The first recess 4 has, for example, a cylindrical shape while the second recess 5 has, for example, a truncated cone shape. The shape of the first recesses 4 and the second recesses 5 may have various shapes in addition to the cylindrical shape and the truncated cone shape.

제1 전극(20)은 제1 금속을 포함한다. 제1 전극(20)으로 사용될 수 있는 금속의 예로서는 도금이 가능한 고융점 금속인 구리 등을 들 수 있다.The first electrode 20 includes a first metal. Examples of the metal that can be used as the first electrode 20 include copper, which is a high melting point metal that can be plated.

제1 전극(20)은, 구조적인 측면에서, 제1 전극부(22) 및 제2 전극부(24)로 구분된다. 제1 전극부(22)는 제1 리세스(4) 내부에 배치되며, 제2 전극부(24)는 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1) 상에 배치된다.The first electrode 20 is divided into a first electrode portion 22 and a second electrode portion 24 in structural aspect. The first electrode portion 22 is disposed inside the first recess 4, and the second electrode portion 24 is disposed on the first surface 1 of the semiconductor chip body 10.

제1 전극부(22)는, 예를 들어, 제1 리세스(4)의 형상에 대응하는 형상을 갖는다. 예를 들어, 제1 리세스(4)가 원통 형상을 가질 경우, 제1 전극부(22)는 원기둥 형상을 갖는다.The first electrode portion 22 has a shape corresponding to the shape of the first recess 4, for example. For example, when the first recess 4 has a cylindrical shape, the first electrode portion 22 has a cylindrical shape.

제2 전극부(24)의 일부는 제1 전극부(22)와 전기적으로 연결되고, 제2 전극부(24)의 일부는 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1) 상에 배치된 본딩 패드(6)와 전기적으로 연결된다. 제2 전극부(24)는, 평면상에서 보았을 때, 라인 형상을 가질 수 있다.A portion of the second electrode portion 24 is electrically connected to the first electrode portion 22, and a portion of the second electrode portion 24 is disposed on the first surface 1 of the semiconductor chip body 10. It is electrically connected to the bonding pad 6. The second electrode portion 24 may have a line shape when viewed on a plane.

제1 전극(20)으로 사용되는 제1 금속이 구리일 경우, 제1 및 제2 전극부(22,24)들 및 반도체 칩 몸체(10) 사이에는 금속 씨드 패턴(26)이 개재될 수 있다. 금속 씨드 패턴(26)으로 사용될 수 있는 물질의 예로서는, 티타늄, 니켈 및 바나듐 등을 들 수 있다.When the first metal used as the first electrode 20 is copper, a metal seed pattern 26 may be interposed between the first and second electrode portions 22 and 24 and the semiconductor chip body 10. . Examples of materials that can be used as the metal seed pattern 26 include titanium, nickel, vanadium, and the like.

제2 전극(20)은 제2 리세스(5) 내부에 배치되며, 제2 전극(20)은 제2 금속을 포함한다. 본 실시예에서, 제2 전극(20)으로 사용될 수 있는 물질의 예로서는 솔더 등과 같은 저융점 금속을 들 수 있다.The second electrode 20 is disposed inside the second recess 5, and the second electrode 20 includes a second metal. In this embodiment, examples of the material that can be used as the second electrode 20 include a low melting point metal such as solder or the like.

본 실시예에서, 제2 리세스(5)가 원뿔대 형상을 갖기 때문에 제2 전극(20)으로 사용되는 솔더는 보다 쉽게 제2 리세스(5)의 내부로 제공될 수 있다. 한편, 제2 전극(20)의 단부는 제2 면(2)으로부터 소정 높이 돌출될 수 있다.In this embodiment, since the second recess 5 has a truncated conical shape, the solder used as the second electrode 20 can be more easily provided into the second recess 5. Meanwhile, an end portion of the second electrode 20 may protrude a predetermined height from the second surface 2.

도 3은 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지는 기판을 제외하면 앞서 도 1 및 도 2를 참조하여 설명한 반도체 패키지와 실질적으로 동일하다. 따라서, 동일한 부분에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호 및 명칭을 부여하기로 한다.3 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package in accordance with another embodiment of the present invention. The semiconductor package according to another embodiment of the present invention is substantially the same as the semiconductor package described above with reference to FIGS. 1 and 2 except for a substrate. Therefore, duplicate descriptions of the same parts will be omitted, and the same reference numerals and names will be given to the same parts.

도 3을 참조하면, 반도체 패키지(100)는 반도체 칩(40) 및 기판(50)을 포함한다.Referring to FIG. 3, the semiconductor package 100 includes a semiconductor chip 40 and a substrate 50.

반도체 칩(40)은 기판(50)에 실장 된다. 반도체 칩(40)이 실장되는 기판(50) 은 기판 몸체(51), 접속 패드(52), 볼 랜드(54) 및 솔더볼(56)을 포함한다.The semiconductor chip 40 is mounted on the substrate 50. The substrate 50 on which the semiconductor chip 40 is mounted includes a substrate body 51, a connection pad 52, a ball land 54, and a solder ball 56.

기판 몸체(51)는 반도체 칩(40)이 실장 되기에 적합한 면적 및 형상을 갖는다. 예를 들어, 기판 몸체(51)는 직육면체 플레이트 형상을 갖는다. 본 실시예에서, 기판 몸체(51)는 인쇄회로기판일 수 있다.The substrate body 51 has an area and a shape suitable for mounting the semiconductor chip 40. For example, the substrate body 51 has a cuboid plate shape. In this embodiment, the substrate body 51 may be a printed circuit board.

접속 패드(52)는 반도체 칩(40)과 마주하는 기판 몸체(51)의 일측면 상에 배치된다. 접속 패드(52)는 제1 전극(20) 또는 제2 전극(30)과 대응하는 위치에 배치된다.The connection pads 52 are disposed on one side of the substrate body 51 facing the semiconductor chip 40. The connection pad 52 is disposed at a position corresponding to the first electrode 20 or the second electrode 30.

볼 랜드(54)는 기판 몸체(51)의 일측면과 대향하는 타측면 상에 배치된다. 각 볼 랜드(54)는 기판 몸체(51)를 이용하여 접속 패드(52)와 전기적으로 연결된다.The ball land 54 is disposed on the other side facing one side of the substrate body 51. Each ball land 54 is electrically connected to the connection pad 52 using the substrate body 51.

솔더볼(56)은 각 볼 랜드(54)와 전기적으로 접속된다.The solder balls 56 are electrically connected to the respective ball lands 54.

본 실시예에서, 기판(50)의 접속 패드(52)에는, 예를 들어, 반도체 칩(40)의 제2 전극(30)이 전기적으로 연결된다.In the present embodiment, for example, the second electrode 30 of the semiconductor chip 40 is electrically connected to the connection pad 52 of the substrate 50.

본 실시예에서, 제2 전극(30)은, 예를 들어, 원뿔대 형상을 갖기 때문에 제2 전극(30) 및 접속 패드(52)들의 정렬 불량에 따른 접속 불량을 억제할 수 있다. 또한, 제2 전극(30)은 저융점 금속인 솔더를 포함하기 때문에 낮은 온도에서 제2 전극(30) 및 접속 패드(52)를 전기적으로 연결할 수 있다.In the present embodiment, since the second electrode 30 has, for example, a truncated cone shape, connection failure due to misalignment of the second electrode 30 and the connection pads 52 can be suppressed. In addition, since the second electrode 30 includes solder, which is a low melting point metal, the second electrode 30 and the connection pad 52 may be electrically connected at a low temperature.

도 4는 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 본 발명의 다른 실시예에 의한 반도체 패키지는 기판 및 반도체 칩의 전기적 연결 을 제외하면 앞서 도 3을 참조하여 설명한 반도체 패키지와 실질적으로 동일하다. 따라서, 동일한 부분에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호 및 명칭을 부여하기로 한다.4 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package in accordance with another embodiment of the present invention. The semiconductor package according to another embodiment of the present invention is substantially the same as the semiconductor package described with reference to FIG. Therefore, duplicate descriptions of the same parts will be omitted, and the same reference numerals and names will be given to the same parts.

도 4를 참조하면, 반도체 패키지(100)는 반도체 칩(40) 및 기판(50)을 포함한다.Referring to FIG. 4, the semiconductor package 100 includes a semiconductor chip 40 and a substrate 50.

반도체 칩(40)은 기판(50)에 실장 된다. 반도체 칩(40)이 실장 되는 기판(50) 은 기판 몸체(51), 접속 패드(52), 볼 랜드(54) 및 솔더볼(56)을 포함한다.The semiconductor chip 40 is mounted on the substrate 50. The substrate 50 on which the semiconductor chip 40 is mounted includes a substrate body 51, a connection pad 52, a ball land 54, and a solder ball 56.

본 실시예에서, 기판(50)의 접속 패드(52)에는, 예를 들어, 반도체 칩(40)의 제1 전극(20)이 전기적으로 연결된다. 이때, 접속 패드(52) 및 제1 전극(20)은 저융점 금속인 솔더에 의하여 상호 전기적으로 연결될 수 있다.In the present embodiment, for example, the first electrode 20 of the semiconductor chip 40 is electrically connected to the connection pad 52 of the substrate 50. In this case, the connection pad 52 and the first electrode 20 may be electrically connected to each other by solder, which is a low melting point metal.

도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지는 적층 된 반도체 칩들을 제외하면 앞서 도 3을 참조하여 설명한 반도체 패키지와 실질적으로 동일하다. 따라서, 동일한 부분에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호 및 명칭을 부여하기로 한다.5 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention. The semiconductor package according to another embodiment of the present invention is substantially the same as the semiconductor package described with reference to FIG. 3 except for the stacked semiconductor chips. Therefore, duplicate descriptions of the same parts will be omitted, and the same reference numerals and names will be given to the same parts.

도 5를 참조하면, 반도체 패키지(100)는 적층 반도체 칩(45)들 및 기판(50)을 포함한다.Referring to FIG. 5, the semiconductor package 100 includes stacked semiconductor chips 45 and a substrate 50.

적층 반도체 칩(45)들은 하부 반도체 칩(41) 및 상부 반도체 칩(42)을 포함한다.The stacked semiconductor chips 45 include a lower semiconductor chip 41 and an upper semiconductor chip 42.

하부 반도체 칩(41)은 하부 반도체 칩 몸체(10a), 제1 전극(20a) 및 제2 전 극(30a)을 포함한다.The lower semiconductor chip 41 includes a lower semiconductor chip body 10a, a first electrode 20a, and a second electrode 30a.

제1 전극(20a)은 하부 반도체 칩 몸체(10a)의 제1 면(1a)으로부터 하부 반도체 칩 몸체(10a)의 내부로 연장된다. 제2 전극(30a)은 하부 반도체 칩 몸체(10a)의 제2 면(2a)으로부터 하부 반도체 칩 몸체(10a)의 내부로 연장된다. 제1 전극(20a) 및 제2 전극(30a)은 하부 반도체 칩 몸체(10a)의 내부에서 전기적으로 연결된다.The first electrode 20a extends from the first surface 1a of the lower semiconductor chip body 10a into the lower semiconductor chip body 10a. The second electrode 30a extends from the second surface 2a of the lower semiconductor chip body 10a into the lower semiconductor chip body 10a. The first electrode 20a and the second electrode 30a are electrically connected inside the lower semiconductor chip body 10a.

제1 전극(20a)은 제1 금속을 포함하고, 제2 전극(30a)은 제2 금속을 포함한다. 제1 금속은, 예를 들어, 구리일 수 있고, 제2 금속은, 예를 들어, 솔더일 수 있다.The first electrode 20a includes a first metal, and the second electrode 30a includes a second metal. The first metal may be copper, for example, and the second metal may be solder, for example.

상부 반도체 칩(42)은 하부 반도체 칩(41)의 상부에 배치된다.The upper semiconductor chip 42 is disposed above the lower semiconductor chip 41.

상부 반도체 칩 몸체(10b), 제1 전극(20b) 및 제2 전극(30b)을 포함한다.The upper semiconductor chip body 10b, the first electrode 20b, and the second electrode 30b are included.

제1 전극(20b)은 상부 반도체 칩 몸체(10b)의 제1 면(1b)으로부터 상부 반도체 칩 몸체(10b)의 내부로 연장된다. 제2 전극(30b)은 상부 반도체 칩 몸체(10b)의 제2 면(2b)으로부터 상부 반도체 칩 몸체(10b)의 내부로 연장된다. 제1 전극(20b) 및 제2 전극(30b)은 상부 반도체 칩 몸체(10b)의 내부에서 전기적으로 연결된다.The first electrode 20b extends from the first surface 1b of the upper semiconductor chip body 10b into the upper semiconductor chip body 10b. The second electrode 30b extends into the upper semiconductor chip body 10b from the second surface 2b of the upper semiconductor chip body 10b. The first electrode 20b and the second electrode 30b are electrically connected inside the upper semiconductor chip body 10b.

제1 전극(20b)은 제1 금속을 포함하고, 제2 전극(30b)은 제2 금속을 포함한다. 제1 금속은, 예를 들어, 구리일 수 있고, 제2 금속은, 예를 들어, 솔더일 수 있다.The first electrode 20b includes a first metal, and the second electrode 30b includes a second metal. The first metal may be copper, for example, and the second metal may be solder, for example.

본 실시예에서, 하부 반도체 칩(41)의 제2 전극(30a)은 기판(50)의 접속 패드(52)와 전기적으로 연결되고, 상부 반도체 칩(42)의 제2 전극(30b)은 하부 반도체 칩(41)의 제1 전극(20a)과 전기적으로 연결된다.In the present embodiment, the second electrode 30a of the lower semiconductor chip 41 is electrically connected to the connection pad 52 of the substrate 50, and the second electrode 30b of the upper semiconductor chip 42 is lower It is electrically connected to the first electrode 20a of the semiconductor chip 41.

본 실시예에서는 비록 2 개의 반도체 칩(41,42)들로 이루어진 적층 반도체 칩(45)이 기판(50) 상에 실장 되는 것을 도시 및 설명하였지만, 이와 다르게 적층 반도체 칩(45)들은 적어도 3 개의 반도체 칩들을 포함할 수 있다.In the present embodiment, although the stacked semiconductor chip 45 composed of the two semiconductor chips 41 and 42 is illustrated and described on the substrate 50, the stacked semiconductor chips 45 are different from each other. It may include semiconductor chips.

도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지를 도시한 단면도이다. 본 발명의 또 다른 실시예에 의한 반도체 패키지는 적층 된 반도체 칩들을 제외하면 앞서 도 5를 참조하여 설명한 반도체 패키지와 실질적으로 동일하다. 따라서, 동일한 부분에 대한 중복된 설명은 생략하기로 하며, 동일한 부분에 대해서는 동일한 참조부호 및 명칭을 부여하기로 한다.6 is a cross-sectional view illustrating a semiconductor package according to still another embodiment of the present invention. The semiconductor package according to another embodiment of the present invention is substantially the same as the semiconductor package described with reference to FIG. 5 except for the stacked semiconductor chips. Therefore, duplicate descriptions of the same parts will be omitted, and the same reference numerals and names will be given to the same parts.

도 6을 참조하면, 반도체 패키지(100)는 적층 반도체 칩(45)들 및 기판(50)을 포함한다.Referring to FIG. 6, the semiconductor package 100 includes stacked semiconductor chips 45 and a substrate 50.

적층 반도체 칩(45)들은 하부 반도체 칩(41) 및 상부 반도체 칩(42)을 포함한다.The stacked semiconductor chips 45 include a lower semiconductor chip 41 and an upper semiconductor chip 42.

하부 반도체 칩(41)은 하부 반도체 칩 몸체(10a), 제1 전극(20a) 및 제2 전극(30a)을 포함한다.The lower semiconductor chip 41 includes a lower semiconductor chip body 10a, a first electrode 20a, and a second electrode 30a.

상부 반도체 칩(42)은 하부 반도체 칩(41)의 상부에 배치되며 상부 반도체 칩 몸체(10b), 제1 전극(20b) 및 제2 전극(30b)을 포함한다.The upper semiconductor chip 42 is disposed above the lower semiconductor chip 41 and includes an upper semiconductor chip body 10b, a first electrode 20b, and a second electrode 30b.

본 실시예에서, 하부 반도체 칩(41)의 제1 전극(20a)은 기판(50)의 접속 패드(52)와 전기적으로 연결되고, 상부 반도체 칩(42)의 제1 전극(20b)은 하부 반도체 칩(41)의 제2 전극(30a)과 전기적으로 연결된다.In the present embodiment, the first electrode 20a of the lower semiconductor chip 41 is electrically connected to the connection pad 52 of the substrate 50, and the first electrode 20b of the upper semiconductor chip 42 is lower It is electrically connected to the second electrode 30a of the semiconductor chip 41.

본 실시예에서는 비록 2 개의 반도체 칩(41,42)들로 이루어진 적층 반도체 칩(45)이 기판(50) 상에 실장 되는 것을 도시 및 설명하였지만, 이와 다르게 적층 반도체 칩(45)들은 적어도 3 개의 반도체 칩들을 포함할 수 있다.In the present embodiment, although the stacked semiconductor chip 45 composed of the two semiconductor chips 41 and 42 is illustrated and described on the substrate 50, the stacked semiconductor chips 45 are different from each other. It may include semiconductor chips.

도 7 내지 도 12들은 본 발명의 일실시예에 의한 반도체 패키지의 제조 방법을 도시한 단면도들이다.7 to 12 are cross-sectional views illustrating a method of manufacturing a semiconductor package according to an embodiment of the present invention.

도 7을 참조하면, 본딩 패드를 갖는 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1) 상에는 제1 리세스(4)가 형성된다. 본 실시예에서, 제1 리세스(4)는 드릴링 공정, 레이저 드릴링 공정 및 포토리소그라피 공정에 의하여 형성될 수 있다. 제1 리세스(4)는 반도체 칩 몸체(10)의 두께(D)의 약 10% 내지 약 80%로 형성된다.Referring to FIG. 7, a first recess 4 is formed on the first surface 1 of the semiconductor chip body 10 having the bonding pads. In the present embodiment, the first recess 4 may be formed by a drilling process, a laser drilling process and a photolithography process. The first recesses 4 are formed at about 10% to about 80% of the thickness D of the semiconductor chip body 10.

도 8을 참조하면, 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1) 상에 제1 리세스(4)가 형성된 후, 제1 면(1) 상에는 금속 씨드층(26a)이 형성된다. 본 실시예에서, 금속 씨드층(26a)은 화학 기상 증착 공정 또는 스퍼터링 공정에 의하여 형성된다. 금속 씨드층(26a)으로 사용될 수 있는 물질의 예로서는 티타늄, 니켈 및 바나듐 등을 들 수 있다.Referring to FIG. 8, after the first recess 4 is formed on the first surface 1 of the semiconductor chip body 10, the metal seed layer 26a is formed on the first surface 1. In this embodiment, the metal seed layer 26a is formed by a chemical vapor deposition process or a sputtering process. Examples of materials that can be used as the metal seed layer 26a include titanium, nickel, vanadium, and the like.

도 9를 참조하면, 제1 면(1) 상에 금속 씨드층(26a)이 형성된 후, 금속 씨드층(26a) 상에는 개구(28)를 갖는 포토레지스트 패턴(29)이 형성된다.Referring to FIG. 9, after the metal seed layer 26a is formed on the first surface 1, a photoresist pattern 29 having an opening 28 is formed on the metal seed layer 26a.

포토레지스트 패턴(29)을 형성하기 위해서, 제1 면(1) 상에는 금속 씨드층(26a)을 덮는 포토레지스트 필름(미도시)이 형성된다. 포토레지스트 필름은 스핀 코팅 공정 등에 의하여 형성될 수 있다. 포토레지스트 필름이 형성된 후, 포토레지스트 필름은 노광 공정 및 현상 공정을 포함하는 포토 공정에 의하여 패터닝 되어 금속 씨드층(26a) 상에는 포토레지스트 패턴(29)이 형성된다.In order to form the photoresist pattern 29, a photoresist film (not shown) covering the metal seed layer 26a is formed on the first surface 1. The photoresist film may be formed by a spin coating process or the like. After the photoresist film is formed, the photoresist film is patterned by a photo process including an exposure process and a development process to form a photoresist pattern 29 on the metal seed layer 26a.

포토레지스트 패턴(29)의 개구(28)는 도 1에 도시된 제1 전극(20)의 형상과 동일하게 형성된다.The opening 28 of the photoresist pattern 29 is formed in the same shape as the first electrode 20 shown in FIG. 1.

도 10을 참조하면, 개구(28)를 갖는 포토레지스트 패턴(29)이 형성된 후, 개구(28)에 의하여 노출된 금속 씨드층(26a)을 이용하여 도금 공정이 수행된다. 도금 공정에 의하여 금속 씨드층(26a) 상에는 제1 금속, 예를 들면, 구리가 도금되어 제1 전극(20)이 형성된다. 제1 전극(20)은 제1 리세스(4)의 내부에 배치된 제1 전극부(22) 및 상기 제1 전극부(22)와 일체로 형성되며 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1) 상에 형성된 본딩 패드와 전기적으로 연결된 제2 전극부(22)를 갖는다.Referring to FIG. 10, after the photoresist pattern 29 having the opening 28 is formed, a plating process is performed using the metal seed layer 26a exposed by the opening 28. By the plating process, a first metal, for example, copper is plated on the metal seed layer 26a to form the first electrode 20. The first electrode 20 is formed integrally with the first electrode portion 22 and the first electrode portion 22 disposed inside the first recess 4, and the first surface of the semiconductor chip body 10. It has the 2nd electrode part 22 electrically connected with the bonding pad formed on (1).

제1 전극(20)이 형성된 후, 포토레지스트 패턴(29)은 애싱 공정 및/또는 스트립 공정에 의하여 금속 씨드층(26a)으로부터 제거된다.After the first electrode 20 is formed, the photoresist pattern 29 is removed from the metal seed layer 26a by an ashing process and / or a strip process.

포토레지스트 패턴(29)이 제거된 후, 금속 씨드층(26a)은 제1 전극(20)을 패턴 마스크로 이용하여 패터닝 되어 금속 씨드 패턴(26)이 제1 전극(20) 및 반도체 칩 몸체(10) 사이에 형성된다.After the photoresist pattern 29 is removed, the metal seed layer 26a is patterned using the first electrode 20 as a pattern mask so that the metal seed pattern 26 is formed of the first electrode 20 and the semiconductor chip body ( 10) is formed between.

도 11을 참조하면, 금속 씨드 패턴(26)이 형성된 후, 반도체 칩 몸체(10)의 두께를 감소시키는 공정이 수행된다. 반도체 칩 몸체(10)의 두께는 반도체 칩 몸체(10)의 제1 면(1)과 대향하는 제2 면(2)을 연마하는 화학적 기계적 연마(CMP) 공정 또는 제2 면(2)을 식각하는 에치 백 식각 공정 등에 의하여 감소 될 수 있다.Referring to FIG. 11, after the metal seed pattern 26 is formed, a process of reducing the thickness of the semiconductor chip body 10 is performed. The thickness of the semiconductor chip body 10 may be a chemical mechanical polishing (CMP) process or an etching of the second surface 2 to polish the second surface 2 facing the first surface 1 of the semiconductor chip body 10. It can be reduced by the etching back etching process.

도 12를 참조하면, 반도체 칩 몸체(10)의 두께를 감소시킨 후, 반도체 칩 몸체(10)의 제2 면(2)에는 제2 리세스(5)가 형성된다. 제2 리세스(5)는 제1 전극(20)과 대응하는 위치에 형성된다. 제2 리세스(5)는, 예를 들어, 포토리소그라피 공정 에 의하여 형성될 수 있다. 제2 리세스(5)에 의하여 형성된 반도체 칩 몸체(10)의 내측면은 제2 면(2)에 대하여 경사지게 형성된다. 예를 들어, 제2 리세스(5)에 의하여 형성된 반도체 칩 몸체(10)의 내측면은 원뿔대 형상을 가질 수 있다.Referring to FIG. 12, after reducing the thickness of the semiconductor chip body 10, a second recess 5 is formed in the second surface 2 of the semiconductor chip body 10. The second recess 5 is formed at a position corresponding to the first electrode 20. The second recess 5 may be formed by, for example, a photolithography process. The inner surface of the semiconductor chip body 10 formed by the second recess 5 is formed to be inclined with respect to the second surface 2. For example, the inner surface of the semiconductor chip body 10 formed by the second recess 5 may have a truncated cone shape.

제2 리세스(5)가 형성된 후, 제2 리세스(5) 내에는, 예를 들어, 제2 금속으로 이루어진 제2 전극(30)이 형성된다. 본 실시예에서, 제2 금속은, 예를 들어, 솔더일 수 있다. 제2 전극(30)을 형성하기 위해서, 제2 리세스(5) 내에는 솔더를 포함하는 솔더 페이스트(미도시)가 채워지고, 솔더 페이스트는 리플로우 공정 등에 의하여 용융되어 제2 리세스(5) 내에는 제1 전극(20)과 전기적으로 연결된 제2 전극(30)이 형성된다.After the second recess 5 is formed, a second electrode 30 made of, for example, a second metal is formed in the second recess 5. In this embodiment, the second metal may be, for example, a solder. In order to form the second electrode 30, a solder paste (not shown) including solder is filled in the second recess 5, and the solder paste is melted by a reflow process or the like to form the second recess 5. ), A second electrode 30 electrically connected to the first electrode 20 is formed.

한편, 솔더를 포함하는 제2 전극(30)의 단부는 제2 면(2)으로부터 소정 높이로 돌출될 수 있다.Meanwhile, an end portion of the second electrode 30 including the solder may protrude from the second surface 2 to a predetermined height.

도 3을 다시 참조하면, 제1 전극(20) 및 제2 전극(30)을 갖는 반도체 칩(40)이 제조된 후, 반도체 칩(40)은 접속 패드(52) 및 볼 랜드(54)를 포함하는 기판(50) 상에 실장 된다.Referring back to FIG. 3, after the semiconductor chip 40 having the first electrode 20 and the second electrode 30 is manufactured, the semiconductor chip 40 may be connected to the connection pad 52 and the ball land 54. It is mounted on the substrate 50 including.

예를 들어, 기판(50)의 접속 패드(52) 상에는 반도체 칩(40)의 제2 전극(30)이 전기적으로 연결될 수 있다. 이와 다르게, 제2 전극(30)이 접속 패드(52)에 전기적으로 연결된 반도체 칩(40)의 제1 전극(30)에는 다른 반도체 칩(40)의 제2 전극(30)이 다시 전기적으로 연결되어 스택 패키지를 제조할 수 있다.For example, the second electrode 30 of the semiconductor chip 40 may be electrically connected to the connection pad 52 of the substrate 50. Alternatively, the second electrode 30 of the other semiconductor chip 40 is electrically connected to the first electrode 30 of the semiconductor chip 40 with the second electrode 30 electrically connected to the connection pad 52. To produce a stack package.

한편, 도 4를 다시 참조하면, 기판(50)의 접속 패드(52) 상에는 반도체 칩(40)의 제1 전극(20)이 전기적으로 연결될 수 있다. 이와 다르게, 제1 전극(20) 이 접속 패드(52)에 전기적으로 연결된 반도체 칩(40)의 제2 전극(30)에는 다른 반도체 칩(40)의 제1 전극(20)이 다시 전기적으로 연결되어 스택 패키지를 제조할 수 있다.Meanwhile, referring back to FIG. 4, the first electrode 20 of the semiconductor chip 40 may be electrically connected to the connection pad 52 of the substrate 50. Alternatively, the first electrode 20 of the other semiconductor chip 40 is electrically connected to the second electrode 30 of the semiconductor chip 40 with the first electrode 20 electrically connected to the connection pad 52. To produce a stack package.

이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 반도체 칩의 양쪽면에 고융점 금속을 포함하는 제1 전극 및 제1 전극과 연결되며 저융점 금속을 포함하는 제2 전극을 각각 형성하여, 제1 및 제2 전극들 및 반도체 칩의 손상을 억제, 제1 및 제2 전극들을 형성하는데 소요되는 시간 단축 및 적어도 2 개의 반도체 칩들이 적층된 상태에서 반도체 칩들간 결합력을 크게 향상시키는 효과를 갖는다.As described above in detail, first and second electrodes are formed on both surfaces of the semiconductor chip, respectively, to form a first electrode including a high melting point metal and a second electrode including a low melting point metal, respectively. And a reduction in the time required to form the first and second electrodes, and to greatly improve the bonding force between the semiconductor chips in a state in which at least two semiconductor chips are stacked.

앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 실시예들을 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술 될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to the embodiments of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge in the scope of the present invention described in the claims and It will be appreciated that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the scope of the art.

Claims (19)

제1 면 상에 형성된 본딩 패드를 갖는 반도체 칩 몸체;A semiconductor chip body having a bonding pad formed on the first surface; 상기 제1 면에 배치된 제1 리세스 내에 형성되며, 상기 본딩 패드와 전기적으로 연결된 제1 전극; 및A first electrode formed in a first recess disposed on the first surface and electrically connected to the bonding pad; And 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면에 배치된 제2 리세스에 형성되며 상기 제1 전극과 연결되며 상기 제2 면으로부터 돌출된 제2 전극을 갖는 반도체 칩을 포함하는 반도체 패키지.And a semiconductor chip formed in a second recess disposed on a second surface opposite to the first surface, the semiconductor chip having a second electrode connected to the first electrode and protruding from the second surface. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 전극은 상기 제1 리세스 내에 배치된 제1 전극부 및 상기 제1 면 상에 배치된 제2 전극부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the first electrode includes a first electrode portion disposed in the first recess and a second electrode portion disposed on the first surface. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제2 전극은 상기 제2 리세스 내에서 원뿔대 형상을 갖는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the second electrode has a truncated conical shape in the second recess. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 전극은 금속 씨드 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.The first electrode is a semiconductor package, characterized in that it comprises a metal seed pattern. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 전극은 제1 금속을 포함하고 상기 제2 전극은 제2 금속을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And the first electrode comprises a first metal and the second electrode comprises a second metal. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반도체 칩이 실장 되는 접속 패드를 갖는 기판을 포함하며, 상기 반도체 칩의 상기 제2 전극은 상기 접속 패드에 접속되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And a substrate having a connection pad on which the semiconductor chip is mounted, wherein the second electrode of the semiconductor chip is connected to the connection pad. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 반도체 칩이 실장 되는 접속 패드를 갖는 기판을 포함하며, 상기 반도체 칩의 상기 제1 전극은 상기 접속 패드에 접속되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And a substrate having a connection pad on which the semiconductor chip is mounted, wherein the first electrode of the semiconductor chip is connected to the connection pad. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 적어도 2 개의 상기 반도체 칩들이 실장 되는 기판을 포함하며, 상기 기판과 접촉되는 하부 반도체 칩의 제2 전극은 상기 기판의 접속 패드와 접속되고, 상기 하부 반도체 칩의 제1 전극은 상기 하부 반도체 칩의 상부에 배치된 상부 반도체 칩의 제2 전극과 전기적으로 접속된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And a substrate on which at least two semiconductor chips are mounted, wherein a second electrode of a lower semiconductor chip contacting the substrate is connected to a connection pad of the substrate, and a first electrode of the lower semiconductor chip is connected to the lower semiconductor chip. A semiconductor package, wherein the semiconductor package is electrically connected to a second electrode of an upper semiconductor chip disposed above. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 적어도 2 개의 상기 반도체 칩들이 실장 되는 기판을 포함하며, 상기 기판과 접촉되는 하부 반도체 칩의 제1 전극은 상기 기판의 접속 패드와 접속되고, 상기 하부 반도체 칩의 제2 전극은 상기 하부 반도체 칩의 상부에 배치된 상부 반도체 칩의 제1 전극과 전기적으로 접속된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지.And a substrate on which at least two semiconductor chips are mounted, wherein a first electrode of a lower semiconductor chip in contact with the substrate is connected to a connection pad of the substrate, and a second electrode of the lower semiconductor chip is formed of the lower semiconductor chip. And a semiconductor package electrically connected to the first electrode of the upper semiconductor chip disposed above. 반도체 칩의 제1 면에 형성된 제1 리세스에 제1 전극을 형성하는 단계; 및Forming a first electrode in a first recess formed in the first surface of the semiconductor chip; And 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면에 형성된 제2 리세스에 상기 제1 전극과 전기적으로 연결되는 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하며,Forming a second electrode electrically connected to the first electrode in a second recess formed in a second surface opposite to the first surface, 상기 제2 전극은 상기 제2 면으로부터 돌출된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And the second electrode protrudes from the second surface. 제10항에 있어서, 상기 제1 전극을 형성하는 단계는The method of claim 10, wherein forming the first electrode 상기 제1 면 및 제1 리세스를 덮는 금속 씨드층을 형성하는 단계; 및Forming a metal seed layer covering the first surface and the first recess; And 상기 제1 면 상에 상기 제1 리세스를 노출하는 개구를 갖는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.Forming a photoresist pattern having an opening exposing the first recess on the first surface. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 제1 전극은 도금에 의하여 형성된 구리층을 포함하고 상기 제2 전극은 솔더를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And the first electrode comprises a copper layer formed by plating and the second electrode comprises solder. 제10항에 있어서, 상기 제1 전극 및 제2 전극을 형성하는 단계 사이에,The method of claim 10, wherein the step of forming the first electrode and the second electrode, 상기 제1 면과 대향 하는 제2 면을 연마하여 상기 반도체 칩의 두께를 감소시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And reducing a thickness of the semiconductor chip by grinding the second surface opposite to the first surface. 제10항에 있어서, 상기 제2 전극을 형성하는 단계는The method of claim 10, wherein forming the second electrode 상기 제1 전극을 노출하는 제2 리세스를 형성하는 단계;Forming a second recess exposing the first electrode; 상기 제2 리세스 내부에 솔더를 채우는 단계; 및Filling solder into the second recess; And 상기 솔더를 용융시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And melting the solder. 제14항에 있어서, 상기 제2 리세스를 형성하는 단계에서,The method of claim 14, wherein in the forming of the second recess, 상기 제2 리세스에 의하여 형성된 상기 반도체 칩의 내측면은 상기 제2 면에 대하여 경사지게 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.The inner surface of the semiconductor chip formed by the second recess is formed inclined with respect to the second surface. 삭제delete 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 반도체 칩을 상기 기판에 실장 하는 단계를 포함하며, 상기 기판에는 적어도 2 개의 상기 반도체 칩이 적층 되고 상기 각 반도체 칩들의 상기 제1 및 제2 전극들은 전기적으로 연결된 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And mounting the semiconductor chip on the substrate, wherein at least two of the semiconductor chips are stacked on the substrate, and the first and second electrodes of the semiconductor chips are electrically connected. Way. 제17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 기판은 접속 패드를 갖고, 적층 된 상기 반도체 칩들 중 상기 기판과 접촉되는 반도체 칩의 상기 제1 전극은 상기 접속 패드에 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And the substrate has a connection pad, wherein the first electrode of the semiconductor chip which is in contact with the substrate among the stacked semiconductor chips is electrically connected to the connection pad. 제17항에 있어서,The method of claim 17, 상기 기판은 접속 패드를 갖고, 적층 된 상기 반도체 칩들 중 상기 기판과 접촉되는 반도체 칩의 상기 제2 전극은 상기 접속 패드에 전기적으로 접속되는 것을 특징으로 하는 반도체 패키지의 제조 방법.And the substrate has a connection pad, and wherein the second electrode of the semiconductor chip in contact with the substrate among the stacked semiconductor chips is electrically connected to the connection pad.
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