KR100881492B1 - 박막패턴층을 갖춘 기판 구조 및 그 제조방법 - Google Patents

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Abstract

본 발명에 따른 기판 구조는, 기판과, 기판 상에 형성된 다수의 뱅크 및, 다수의 박막패턴층을 포함한다. 이들 뱅크와 기판은 협동적으로 다수의 수용 공간을 정의하고, 다수의 수용공간은 행열에 따라 기판 상에 배열된다. 박막패턴층은 수용 공간에 위치하고, 같은 행에 있는 같은 재료로 형성된 박막패턴층의 두께 분포는 불규칙적이다. 본 발명은 또한 박막패턴층을 제조하는 방법을 제공한다.

Description

박막패턴층을 갖춘 기판 구조 및 그 제조방법 {PATTERNED THINFILM LAYER AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME}
본 발명은 박막패턴층을 갖춘 기판 구조 및 그 제조방법에 관한 것이다.
근래, 기판 상에 박막패턴층(patterned thinfilm layer)을 제조하기 위한 방법으로서는 포토리소그래피법과 잉크젯법을 들 수 있다.
포토리소그래피법은, 기판 상에 포토레지스트층을 형성하고, 소정의 패턴을 갖는 포토마스크를 이용해서 포토레지스트층을 노광하며, 노광된 포토레지스트층을 현상하여 박막패턴층을 형성한다. 그러나, 이러한 포토리소그래피법은 복잡한 공정을 필요로 하고, 포토레지스트 재료의 사용율이 낮아 제조비용이 높아진다.
잉크젯법은, 다수의 노즐을 갖고 있는 잉크젯 장치를 사용하여 기판의 소정 위치에 잉크를 주입한다. 박막패턴층은 잉크를 고화시킨 후에 형성된다. 기판의 한 구역의 면적이 노즐에 의해 덮혀지는 구역의 면적보다 크기 때문에, 잉크젯 장치의 노즐을 이동하면서 잉크를 주입하여야 하며, 복잡한 공정을 필요한다.
통상의 잉크젯법에서는, 같은 행(行)에 있는 같은 재료로 형성되는 박박패턴층은 하나의 노즐로 잉크를 주입하지만, 서로 다른 행에 있는 같은 재료로 형성되는 박막패턴층은 서로 다른 노즐로 잉크를 주입한다. 이 때문에 같은 행에 있는 박막패턴층의 두께는 균일하지만, 서로 다른 행에 있는 박막패턴층의 두께는 균일하지 않다. 따라서, 빛이 박막패턴층을 투과할 때, 서로 다른 행에 있는 박막패턴층의 두께가 균일하지 않다는 것을 쉽게 알아낼수 있으며, 또한 박막패턴층에 선형 얼룩 결함(linear Mura defects)을 형성하게 된다.
따라서, 선형 얼룩 결함이 적거나 선형 얼룩 결함이 없는 박막패턴층을 제조하기 위한 방법이 필요로 된다.
본 발명은 상기한 점을 감안하여 이루어진 것으로, 선형 얼룩 결함이 적거나 선형 얼룩 결함이 없는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조 및 그 제조방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조는, 기판과, 기판 상에 형성된 다수의 뱅크 및, 다수의 박막패턴층을 포함한다. 이들 뱅크와 기판은 협동적으로 다수의 수용 공간을 정의하고, 다수의 수용공간은 행열(行列)에 따라 기판 상에 배열된다. 박막패턴층은 수용 공간에 위치하고, 같은 행에 있는 같은 재료로 형성된 박막패턴층의 두께 분포는 불규칙적이다.
본 발명에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법은, 다수의 뱅크를 갖는 기판을 제공하되, 이들 뱅크와 기판이 다수의 수용공간을 협동적으로 규정하고, 다수의 수용공간이 행열에 따라 기판 상에 배열되도록 하는 단계와, 잉크젯 장치를 사용하여 각 수용공간 내에 잉크를 주입하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 잉크가 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 단계 및, 각 수용공간 내의 잉크를 고화시켜 기판 상에 박막패턴층을 형성하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 박막패턴층이 불규칙적인 두께 분포를 갖도록 하는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 다른 제조방법은, 다수의 뱅크를 갖는 기판을 제공하되, 이들 뱅크와 기판이 다수의 수용공간을 협동적으로 규정하도록 하는 단계와, 적어도 하나의 잉크젯장치의 다수의 노즐을 사용하여 각 수용공간 내에 잉크를 주입하되, 다수의 노즐과 기판이 행열에 따라 상대적으로 운동함으로써, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 잉크가 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 단계 및, 각 수용공간 내의 잉크를 고화시켜 기판 상에 박막패턴층을 형성하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 박막패턴층이 불규칙적인 두께 분포를 갖도록 하는 단계를 포함한다.
본 발명에 의하면, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 박막패턴층은 같은 재료로 형성되지만 그 두께 분포는 불규칙적이므로, 각 행에 있는 각 수용공간 내의 박막패턴층의 불균일성을 형성할 수 있고, 따라서 빛이 박막패턴층을 투과할 때 생기는 선형 얼룩 결함이 적어지거나 없어지도록 한다.
이하, 예시도면을 참조하면서 본 발명의 실시예를 상세히 설명한다.
도 1 및 도 2에는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조(100)가 도시되어 있다. 기판 구조(100)는, 기판(102)과, 기판(102) 상에 형성된 다수의 뱅크(104) 및, 다수의 박막패턴층(106)을 포함한다.
기판(102)의 재료는 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼, 금속 및 플라스틱으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 다수의 뱅크(104)와 기판(102)에 의해 다수의 수용공간(107)이 공동적으로 규정된다. 이들 수용공간은 행열(行列)에 따라 기판 상에 배열된다.
박막패턴층(106)은, 다수의 제1박막패턴층(106R)과 다수의 제2박막패턴층 (106G) 및 다수의 제3박막패턴층(106B)을 포함한다. 이들 제1박막패턴층(106R)과 제2박막패턴층(106G) 및 제3박막패턴층(106B)은 다수의 수용공간 내에 형성되어 있다. 같은 행에 있는 박막패턴층(106)은 같은 재료로 형성되지만, 두께 분포는 불규칙적이고, 서로 인접한 3행의 박막패턴층(106)은 규칙이 있게 반복되는 순서로 배열되는 제1박막패턴층(106R)과 제2박막패턴층(106G) 및 제3박막패턴층(106B)을 포함한다. 예컨대, 같은 행에 있는 서로 인접한 제1박막패턴층(106R)의 두께는 다를 수 있다. 박막패턴층(106R)이 불규칙적인 두께 분포를 갖고 있으므로, 각 행에 있는 박막패턴층(106R)의 두께는 균일하지 않게 된다. 따라서, 빛이 박막패턴층을 투과할 때 생기는 선형 얼룩 결함이 적어지거나 없어지게 된다. 제2박막패턴층(106G) 및 제3박막패턴층(106B)의 상태도 제1박막패턴층(106R)의 상태와 비슷하다.
도 3에는 본 발명의 제2실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조(100')가 도시되어 있다. 본 실시예에 따른 기판 구조(100')는 제1실시예에 따른 기판 구조(100)와 유사하지만 기판 구조(100')의 기판(102')과 다수의 뱅크(104')는 일체성형된다.
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방 법을 나타내는 공정도이다. 이 기판 구조의 제조방법은, 이하의 단계, 즉
(10a) 다수의 뱅크를 갖는 기판을 제공하되, 이들 뱅크와 기판이 다수의 수용공간을 협동적으로 규정하고, 다수의 수용공간이 행열에 따라 기판 상에 배열되도록 하는 단계와,
(20a) 잉크젯 장치를 사용하여 각 수용공간 내에 잉크를 주입하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 잉크층이 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 단계 및,
(30a) 각 수용공간 내의 잉크를 고화시켜 기판 상에 박막패턴층을 형성하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 박막패턴층이 불규칙적인 두께 분포를 갖도록 하는 단계를 포함한다.
단계 (10a)에서는 기판이 제공된다. 기판의 재료는 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼, 금속 및 플라스틱으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 본 실시예에 따른 기판은 유리기판이다.
도 5a 내지 도 5c는 포토리소그래피법으로 다수의 뱅크(104)를 갖는 기판(102)의 제조방법을 나타내는 공정도이다. 이 기판(102)의 제조방법은, 이하의 단계, 즉
도 5a를 참조하면, 슬릿(Slit) 코팅, 스핀(Spin) 코팅 또는 건식 필름 라미네이트(Dry Film Lamination) 등과 같은 처리에 의해 기판(102) 상에 네가티브형 포토레지스트층(103)을 형성한다.
도 5b를 참조하면, 네가티브형 포토레지스트층(103)과 노광장치(도시되지 않 았음) 사이에 설치된 포토마스크(200)로 네가티브형 포토레지스트층(103)을 노광한다. 노광장치는 자외선 광(ultraviolet light) 노광장치일 수 있다. 포토마스크(200)는 박막패턴층과 대응되는 소정의 패턴을 갖고 있다.
도 5c를 참조하면, 현상방법에 의해 노광되지 않은 곳의 네가티브형 포토레지스트층(103)를 제거하고, 기판(102)의 위쪽 표면에 다수의 뱅크(104)를 형성한다.
그리고, 포토레지스트층은 포지티브형 포토레지스트층으로 해도 좋은 바, 대응되는 포토마스크를 다르게 디자인하여 노광된 곳의 포토레지스트층을 제거하는데 다른 점이 있을 뿐이다.
도 6을 참조하면, 다수의 뱅크(104)와 기판(102)은 사출성형(injection molding)방법으로 일체성형될 수 있다. 예컨대, 소정의 패턴을 갖고 있는 금형을 성형기에 넣고, 기판의 용융된 재료를 금형에 주입하며, 주입된 재료를 금형 내에서 냉각시킨 후 이형시켜 다수의 뱅크를 갖는 기판을 얻게 된다.
도 5d 및 도 5e를 참조하면, 단계(20a)에서, 잉크젯 장치(300)를 사용하여 필요로 되는 재료로 형성된 잉크(108)를 수용공간(107) 내에 주입함으로써 잉크층(110)을 형성한다. 각 수용공간(107) 내의 잉크층(110)은 불규칙적인 체적 분포를 갖고 있다. 잉크층(110)의 불규칙적인 체적 분포는, 잉크젯 장치(300)의 잉크젯 헤드(302)에 배치되어 있는 노즐(304)에 임의로 변화되는 전압을 인가함으로써 실현할 수 있다. 임의로 변화되는 전압이란, 전압의 크기 또는 전압의 파형(波形)이 임의로 변화되는 것을 말한다. 노즐(304)에 인가되는 전압의 크기가 임의로 변화됨 으로써, 각 수용공간(107) 내의 잉크층(110)의 체적도 불규칙적으로 변하게 된다. 전압 크기의 변화범위는 표준 전압의 80%~120%이며, 표준 전압의 90%~110%이라면 더욱 좋다. 표준 전압의 크기는 통상의 박막패턴층 제조방법에서 사용하는 전압의 크기를 말하며, 일반적으로 불변량이다. 잉크젯 장치(300)는 서멀 버블 잉크젯 장치(thermal bubble ink jet Printing Device) 또는 압전 잉크젯 장치(piezoelectric ink jet Printing Device)로 될 수 있다.
잉크(108)를 주입할 때 노즐(304)과 기판(102)이 상대적으로 운동함으로써 다수의 수용공간(107)에 잉크(108)를 주입한다.
도 5d 및 도 5e를 다시 참조하면, 잉크(108)는 제1박막재료와 제2박막재료 및 제3박막재료 중 하나를 선택할 수 있고, 서로 인접한 3행의 수용공간(107) 내의 잉크(108)는 규칙이 있게 반복되는 순서로 배열되는 제1박막재료 잉크와 제2박막재료 잉크 및 제3박막재료 잉크를 포함한다.
이외에 불규칙적인 두께 분포를 갖고 있는 박막패턴층을 제조하는 다른 하나의 방법은 각 행의 수용공간(107)에 주입하는 잉크 방울의 수량을 다르게 하는 것이다.
각 수용공간(107)에 주입하는 잉크 방울의 수량이 불규칙적으로 변함으로써, 각 수용공간(107)의 잉크층(110)의 체적도 그에 따라 불규칙적으로 변하게 된다. 불규칙적으로 변하는 잉크 방울의 수량 범위는 표준 잉크 방울 수량의 80%~120%이고, 90%~110%이라면 더욱 좋다. 표준 잉크 방울 수량은 통상의 박막패턴층 제조방법에서 하나의 수용공간에 주입하는 잉크 방울 수량이고, 일반적으로 불변량이다. 각 수용공간(107)에 주입하는 잉크 방울의 수량이 불규칙적으로 변함으로써, 각 수용공간(107) 내의 잉크층(110)은 불규칙적인 체적 분포를 갖게 된다.
도 5f를 참조하면, 단계(30a)에서는 수용공간(107) 내의 잉크가 고화되어 박막패턴층(106)이 얻어진다. 이 단계에서는, 모든 수용공간(107) 내의 잉크를 진공펌핑장치(vacuumpumping device), 가열장치 및 자외광 노광장치(exposure device) 중의 적어도 하나의 장치를 이용해서 고화시킬 수 있다. 같은 행에 있는 박막패턴층(106)은 같은 재료로 형성되지만 그 두께 분포는 불규칙적이며, 서로 인접한 3행의 박막패턴층(106)은 규칙이 있게 반복되는 순서로 배열되는 제1박막패턴층(106R)과 제2박막패턴층(106G) 및 제3박막패턴층(106B)을 포함한다. 같은 행에 있는 각 수용공간(107) 내의 잉크층(110)은 같은 재료로 형성되지만 불규칙적인 체적 분포를 갖고 있으므로, 잉크층(110)이 고화된 다음에 형성되는 박막패턴층(106)의 두께 분포도 불규칙적이다. 따라서, 각 행에 있는 박막패턴층(106)의 불균일성을 형성할 수 있어, 빛이 박막패턴층(106)을 투과할 때 생기는 선형 얼룩 결함이 적어지거나 없어질 수가 있다. 형성된 박막패턴층(106)은 도 2에 도시되어 있다.
잉크를 고화시킨 다음 제거 장치, 예컨대 스트립 장치(stripper)로 포토리소그래피법에 의해 형성된 뱅크(104)를 제거해서 박막패턴층을 형성한다.
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법을 나타낸 공정도이다. 이 박막패턴층의 제조방법은, 이하의 단계, 즉
(100a) 다수의 뱅크를 갖는 기판을 제공하되, 이들 뱅크와 기판이 다수의 수용공간을 협동적으로 규정하도록 하는 단계와,
(200a) 적어도 하나의 잉크젯 장치의 다수의 노즐을 사용하여 각 수용공간 내에 잉크를 주입하되, 다수의 노즐과 기판이 상대적으로 운동함으로써, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 잉크층이 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 단계 및,
(300a) 각 수용공간 내의 잉크를 고화시켜 기판 상에 박막패턴층을 형성하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 박막패턴층이 불규칙적인 두께 분포를 갖도록 하는 단계를 포함한다.
본 실시예와 상술한 실시예의 다른 점이라면, 본 실시예에 따른 잉크젯 장치의 노즐과 기판이 행열에 따라 상대적으로 운동함으로써, 기판 상에 있는 수용공간은 행열에 따라 배열되지 않아도 된다. 본 실시예에 따른 더욱 구체적인 단계는 상술한 실시예와 비슷하다.
본 발명의 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법은, 예컨대 컬러 필터 및 유기 발광표시장치(OLED) 등과 같은 장치를 제조하는데 이용할 수 있다.
한편, 본 발명은 상기한 실시예에 한정되는 것은 아니고, 본 발명의 요지를 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형하여 실시할 수 있음은 물론이다.
도 1은 본 발명의 제1실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조를 나타낸 단면도,
도 2는 본 발명의 제1실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조를 나타낸 다른 단면도,
도 3은 본 발명의 제2실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조를 나타낸 단면도,
도 4는 본 발명의 제3실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법을 나타낸 공정도,
도 5a 내지 도 5f는 본 발명의 제3실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조를 제조하기 위한 방법의 연속적인 단계를 설명하는 도면,
도 6은 본 발명의 제3실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조를 나타낸 단면도,
도 7은 본 발명의 제4실시예에 따른 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법을 나타낸 공정도이다.

Claims (19)

  1. 기판과, 기판 상에 형성된 다수의 뱅크 및, 다수의 박막패턴층을 포함하고, 상기 뱅크와 기판이 협동적으로 다수의 수용 공간을 정의하며, 다수의 수용공간이 행열에 따라 기판 상에 배열되고, 박막패턴층이 수용 공간에 위치하며, 같은 행에 있는 같은 재료로 형성된 박막패턴층의 두께 분포가 불규칙적인 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조.
  2. 제1항에 있어서, 기판의 재료가 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼, 금속 및 플라스틱으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조.
  3. 제1항에 있어서, 박막패턴층은 규칙이 있게 반복되는 순서로 배열되는 제1박막패턴층과 제2박막패턴층 및 제3박막패턴층을 포함하고, 상기 제1박막패턴층과 제2박막패턴층 및 제3박막패턴층이 상기 순서로 서로 인접한 3행의 수용공간에 형성되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조.
  4. 제1항에 있어서, 기판과 다수의 뱅크가 일체성형되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조.
  5. 다수의 뱅크를 갖는 기판을 제공하되, 상기 뱅크와 기판이 다수의 수용공간을 협동적으로 규정하고, 다수의 수용공간이 행열에 따라 기판 상에 배열되도록 하는 단계와,
    잉크젯 장치를 사용하여 각 수용공간 내에 잉크를 주입하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 잉크층이 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 단계 및,
    각 수용공간 내의 잉크를 고화시켜 기판 상에 박막패턴층을 형성하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 박막패턴층이 불규칙적인 두께 분포를 갖도록 하는 단계를 갖추어 이루어진 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  6. 제5항에 있어서, 뱅크를 형성하는 단계가,
    기판 상에 포토레지스트층을 형성하는 단계와,
    패턴을 갖는 포토마스크를 이용해서 상기 포토레지스트층을 노광하는 단계 및,
    노광된 포토레지스트층을 현상하여 기판 상에 뱅크를 형성하는 단계를 갖추어 이루어진 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  7. 제5항에 있어서, 뱅크를 형성하는 단계가,
    성형기 및 패턴을 갖는 금형을 제공하는 단계와,
    기판의 용융된 재료를 금형에 주입하는 단계 및,
    금형을 이형시켜 다수의 뱅크를 갖는 기판을 형성하는 단계를 갖추어 이루어진 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  8. 제5항에 있어서, 기판의 재료가 유리, 석영, 실리콘 웨이퍼, 금속 및 플라스틱으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  9. 제5항에 있어서, 잉크젯 장치가, 잉크젯 헤드와, 잉크젯 헤드에 배치되어 있는 적어도 하나의 노즐을 구비하여 구성된 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  10. 다수의 뱅크를 갖는 기판을 제공하되, 상기 뱅크와 기판이 다수의 수용공간을 협동적으로 규정하도록 하는 단계와,
    적어도 하나의 잉크젯 장치의 다수의 노즐을 사용하여 각 수용공간 내에 잉크를 주입하되, 다수의 노즐과 기판이 상대적으로 운동함으로써, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 잉크층이 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 단계 및,
    각 수용공간 내의 잉크를 고화시켜 기판 상에 박막패턴층을 형성하되, 같은 행에 있는 각 수용공간 내의 같은 재료로 형성된 박막패턴층이 불규칙적인 두께 분포를 갖도록 하는 단계를 갖추어 이루어진 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  11. 제5항 또는 제10항에 있어서, 박막패턴층이, 규칙이 있게 반복되는 순서로 배열되는 제1박막패턴층과 제2박막패턴층 및 제3박막패턴층을 포함하고, 상기 제1박막패턴층과 제2박막패턴층 및 제3박막패턴층이 상기 순서로 서로 인접한 3행의 수용공간에 형성되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  12. 제5항 또는 제10항에 있어서, 잉크젯 장치가 서멀 버블 잉크젯 장치와 압전 잉크젯 장치로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  13. 제5항 또는 제10항에 있어서, 잉크가 진공펌핑장치와 가열장치 및 노광장치 중의 적어도 하나의 장치에 의해 고화되는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  14. 제13항에 있어서, 상기 노광장치가 자외선 광원 노광장치인 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  15. 제12항에 있어서, 노즐에 임의로 변화되는 전압을 인가함으로써 노즐에 의해 주입되는 잉크로 형성된 잉크층이 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  16. 제15항에 있어서, 임의로 변화되는 전압이, 전압의 크기 또는 전압의 파형이 임의로 변화되도록 된 것임을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  17. 제16항에 있어서, 상기 전압의 크기가 표준전압 또는 표준전압의 80%~120%인 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  18. 제12항에 있어서, 각 수용공간에 주입하는 잉크 방울의 수량을 불규칙적으로 변하게 함으로써 형성된 잉크층이 불규칙적인 체적 분포를 갖도록 하는 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
  19. 제18항에 있어서, 불규칙적으로 변하는 잉크 방울의 수량 범위가, 표준 잉크 방울 수량 또는 표준 잉크 방울 수량의 80%~120%인 것을 특징으로 하는 박막패턴층을 갖춘 기판 구조의 제조방법.
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