KR100879616B1 - Cleaning apparatus - Google Patents
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Abstract
본 발명은 세정 장치 및 방법에 관한 것으로서, 신발 제조 공정에 있어서 어떠한 오폐수도 발생시키지 않는 환경 친화적이면서도 저렴한 비용으로 신속하게 신발 밑창 표면의 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있으며 장치의 크기를 작게 구성할 수 있는 세정 장치 및 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
이를 위해, 본 발명은 세정 작업물의 오염 물질을 제거하기 위한 세정 장치로서, 펄스파 섬광을 생성시키는 섬광 램프를 장착하여 세정 작업물에 펄스파 섬광을 조사하는 섬광 발생기를 포함하는 구성으로 되어 있다.
섬광 발생기, 고전압 전력 공급기, 냉각기, 광모니터링기, 콘베이어
The present invention relates to a cleaning apparatus and method, which can effectively remove contaminants on the sole surface of a shoe solely at a low cost and at an environmentally friendly cost that does not generate any waste water in a shoe manufacturing process, and can make the device small in size. It is an object of the present invention to provide a cleaning apparatus and method.
To this end, the present invention is a cleaning apparatus for removing contaminants of a cleaning work, comprising a flash generator for mounting a flash lamp to generate pulse wave flash and irradiating the pulsed work to the cleaning work.
Flash Generator, High Voltage Power Supply, Cooler, Photomonitor, Conveyor
Description
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치의 개략도이다.1 is a schematic diagram of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치의 섬광 발생기의 상세 정단면도이다.2 is a detailed front cross-sectional view of the flash generator of the cleaning apparatus according to the embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치의 섬광 발생기의 상세 측단면도이다.3 is a detailed side cross-sectional view of a flash generator of a cleaning device according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호 설명><Description of Signs of Major Parts of Drawings>
10 : 섬광 발생기 11 : 섬광 램프10
13 : 지지체 15 : 투명창13 support 15 transparent window
17 : 광반사판 19 : 핀홀17: light reflector 19: pinhole
20 : 고전압 전력 공급기 30 : 냉각기20 high
40 : 광모니터링기 50 : 광차폐부40: optical monitor 50: light shield
60 : 콘베이어 70 : 작업물 감지기60: conveyor 70: workpiece detector
80 : 고압 가스 분사기 90 : 분진 흡입기80: high pressure gas injector 90: dust inhaler
100 : 제어기100: controller
본 발명은 세정 장치 및 방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 신발 제조 공정 중에 신발의 밑창의 접착면에 존재하는 오염 물질을 효과적으로 제거하도록 구성된 세정 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a cleaning apparatus and method, and more particularly, to a cleaning apparatus and method configured to effectively remove contaminants present on the adhesive surface of the sole of a shoe during a shoe manufacturing process.
일반적으로, 신발 제조 공정은 크게 둘로 나눌 수 있는데, 하나는 신발의 상부 표피, 즉 갑피를 만드는 공정이며, 다른 하나는 신발의 바닥, 즉 밑창을 만드는 공정이다.In general, the shoe manufacturing process can be roughly divided into two, one for making the upper skin of the shoe, or upper, and the other for making the sole of the shoe, i.e. the sole.
이렇게 만들어진 갑피와 밑창은 마지막으로 접착 공정을 통해 조립이 되어 최종 신발의 형태가 만들어지게 된다. 이러한 접착 공정 시, 접착면의 청정도는 매우 중요하다. 즉, 접착면 표면에 오염 물질이 많이 존재하는 경우, 접착 강도가 저하되어 결국 탈착이 발생하며, 이는 신발의 가장 중요한 특성인 내구성에 치명적 결함으로 작용한다. 이를 막기 위해, 접착 공정 전, 밑창의 접착면에 존재하는 오염 물질을 제거하는 세정 작업을 반드시 수행해야 한다.The upper and the sole thus made are finally assembled through an adhesive process to form the final shoe. In this bonding process, the cleanliness of the bonding surface is very important. That is, when a large amount of contaminants on the surface of the adhesive surface, the adhesive strength is lowered and desorption occurs eventually, which acts as a fatal defect in the durability, which is the most important characteristic of the shoe. To prevent this, a cleaning operation must be performed prior to the bonding process to remove contaminants present on the adhesive side of the sole.
또한, 밑창을 제조함에 있어서, 최근 에어백과 같은 다양한 형태의 이형 부품 혹은 이종 물질(예를 들어, 고무, 파일론(phylon), 폴리우레탄(polyurethane) 등)을 접착 공정을 통해 조립하여 만드는 데, 이때에도 충분한 접착 강도를 얻기 위해 부품 표면에 대한 세정 공정을 접착 공정 전에 수행해야 한다.In addition, in the manufacture of the sole, various forms of heterogeneous parts or dissimilar materials (for example, rubber, pylon, polyurethane, etc.) such as airbags are made by assembling through an adhesive process, wherein In order to achieve sufficient adhesive strength, the cleaning process on the part surface must be carried out before the bonding process.
이와 같이, 신발 제조 공정에 있어서의 핵심 공정인 접착 공정에서, 접착면에 존재하는 오염 물질을 효과적으로 제거하는 세정 작업은, 충분한 접착 강도를 얻기 위한 매우 중요한 공정이다.In this way, in the bonding process, which is a key step in the shoe manufacturing process, the cleaning operation for effectively removing contaminants present on the bonding surface is a very important process for obtaining sufficient adhesive strength.
종래에는, 신발 제조 공정에 있어 밑창을 세정하는 방법으로서 화학적 습식 세정 방법을 사용하였다. 이 화학적 습식 세정 방법은, 보통 강산 또는 강염기성 용액을 물과 함께 섞어 스프레이 형태로 고압 분사함으로써 세척을 수행한다. 또한, 강력한 유기 용제(예를 들어, MEK(메틸에틸케톤, methylethylketone) 용제)를 사용하여 작업자가 직접 문질러 세정을 수행하는 경우도 있다. 이와 같은 종래의 세정 방식은, 유독한 화학액을 사용함으로써 다량의 오폐수를 발생시키고, 지속적인 소모성 화학액 사용 및 발생된 오폐수 처리에 따른 고액의 비용이 소요되고, 작업자가 유해한 작업 환경에 노출되고, 화학 세정 후 린스와 건조 과정을 거쳐야 하므로 세정 시간이 길고, 세정 장치가 매우 크다는 등의 많은 문제점을 가지고 있다.Conventionally, the chemical wet cleaning method was used as a method of washing a sole in a shoe manufacturing process. This chemical wet scrubbing method is usually performed by mixing a strong acid or a strong base solution with water and spraying with high pressure in the form of a spray. In addition, a strong organic solvent (eg, methyl ethyl ketone (methylethylketone) solvent) may be used to rub the worker directly. This conventional cleaning method generates a large amount of waste water by using toxic chemicals, costs a large amount of money due to continuous use of consumable chemicals and treatment of generated waste water, and exposes workers to harmful working environments. Since the chemical cleaning requires a rinsing and drying process, the cleaning time is long and the cleaning apparatus is very large.
따라서, 본 발명은, 이러한 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 신발 제조 공정에 있어서 어떠한 오폐수도 발생시키지 않는 환경 친화적이면서도 저렴한 비용으로 신속하게 신발 밑창 표면의 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있으며 장치의 크기를 작게 구성할 수 있는 세정 장치 및 방법을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.Accordingly, the present invention is to solve the problems of the prior art, it is possible to effectively remove the contaminants on the sole surface of the shoe sole quickly and environmentally friendly at a low cost without generating any waste water in the shoe manufacturing process It is an object of the present invention to provide a cleaning apparatus and method capable of making the size small.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 세정 장치는, 세정 작업물의 오염 물질을 제거하기 위한 세정 장치로서, 펄스파 섬광을 생성시키는 섬광 램프를 장착하여 세정 작업물에 펄스파 섬광을 조사하는 섬광 발생기를 포함하는 것을 특징으 로 한다.In order to achieve the above object, the cleaning device of the present invention is a cleaning device for removing contaminants of a cleaning work, and is equipped with a flash lamp for generating pulse wave flashing and flashes irradiating the pulsed work with the flashing light. It characterized in that it comprises a generator.
또한, 본 발명의 세정 방법은, 세정 작업물에 펄스파 섬광을 조사하여 세정 작업물의 오염 물질을 제거하는 것을 특징으로 한다.Moreover, the washing | cleaning method of this invention is characterized by irradiating a pulse wave flash to a cleaning workpiece, and removing the contaminant of a cleaning workpiece.
이하, 첨부된 도면을 참조로 하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하기로 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치의 개략도이다. 도시된 바와 같이, 본 실시예에 따른 세정 장치는 세정 작업물의 오염 물질을 제거하기 위한 세정 장치로서 섬광 발생기, 고전압 전력 공급기, 냉각기, 광모니터링기, 광차폐부, 콘베이어, 작업물 감지기, 고압 가스 분사기, 분진 흡입기, 제어기를 포함한다.1 is a schematic diagram of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. As shown, the cleaning apparatus according to this embodiment is a scintillation generator, a high voltage power supply, a cooler, a light monitor, a light shield, a conveyor, a workpiece detector, a high pressure gas injector as a cleaning apparatus for removing contaminants of a cleaning work. , Dust inhaler, controller.
섬광 발생기(10)는 펄스파 섬광을 생성시키는 섬광 램프(11)를 장착하고 있으며, 이 섬광 램프(11)에서 강력한 펄스파 섬광을 발생하여 세정 작업물(W)에 펄스파 섬광을 조사하여 세정 작업물(W)의 표면의 세정을 수행한다.The
이 섬광 발생기(10)에는 고전압 전력 공급기(20)가 연결되어서 섬광 발생기(10)에 고전압 전력을 공급한다.The
고전압 전력 공급기(20)는 섬광 램프(11)에서 강력한 빛을 발생시키도록 고전압 전력을 발생시켜 섬광 램프(11)에 공급하는 장치이다. 이 고전압 전력 공급기(20)는 보통 심머보드(simmer board)를 내장하고 있어서, 순간적인 고전압을 발생시키도록 제작되어 있다. 섬광의 강도는 인가 전압의 크기에 비례하여 증가하며, 이에 따라 세정 성능도 비례하여 좋아진다. 따라서, 본 발명에 사용되는 고전압 전력 공급기(20)로서는, 램프 하나당 500V 이상의 전압을 공급할 수 있도록 제 작된 것을 사용하는 것이 바람직하며, 1000V 이상의 전압을 공급할 수 있도록 제작된 것을 사용하는 것이 더욱 바람직하다.The high
고전압 전력 공급기(20)에서 고전압 전력을 공급받아 섬광 램프(11)가 켜지면, 이때 강력한 섬광이 순간적으로 발생하며, 발생한 섬광이 작업물(W)의 표면에 조사됨으로써 세정이 수행된다. 섬광 램프(11)는 보통 500V 이상의 순간적인 고전압이 인가됨으로 빛을 발생하는데, 보통 제논(Ze) 램프가 바람직하다. 이때 발생하는 빛은 자외선 영역의 파장대를 많이 포함하고 있어 자외선에 의한 유기 오염 물질의 광화학적 분해 현상을 촉발시킴으로써 효과적인 세정을 수행케 한다.When the
일반적으로, 자외선 램프는 형광등과 같이 연속파(continuous wave)의 형태로 지속적으로 낮은 전력 밀도의 빛을 발생시켜 세정을 위해 많은 시간이 필요하나, 본 발명에서와 같이 섬광 램프에서 발생되는 빛은 펄스파(pulse wave)의 형태로 순간적으로 매우 큰 전력 밀도의 빛을 방출시켜 보다 빠르고 효과적인 오염 물질의 세정을 가능케 한다.Generally, ultraviolet lamps require a lot of time for cleaning by continuously generating low power density light in the form of a continuous wave like a fluorescent lamp, but the light generated by the flash lamp as in the present invention is a pulse wave. In the form of pulse waves, it instantly emits very high power densities, enabling faster and more effective cleaning of contaminants.
이러한 섬광 램프에서 생성된 펄스파 섬광은 강력하고 순간적인 전력 밀도 특성을 갖는 강력한 레이저빔을 발진시키는 데에 효과적이므로, 섬광 램프가 레이저 발진기 제작에 사용되기도 한다.Since the pulse wave flash generated by such a flash lamp is effective for oscillating a powerful laser beam having a strong and instantaneous power density characteristic, the flash lamp is also used for fabricating a laser oscillator.
한편, 섬광 램프에 의한 빛의 방출시, 순간적으로 강력한 전력 밀도를 만들어내는 섬광 램프의 특성상 매우 많은 양의 열이 함께 발생한다. 발생된 열이 축적될 경우 섬광 램프의 성능을 저하시키고 결국 수명을 저하시키는 요인으로 작용하는 바, 섬광 램프의 효과적인 냉각은 매우 중요하다. 본 발명에서는, 섬광 램프 의 열을 효과적으로 냉각시켜주기 위해 섬광 램프 주위로 냉각수를 흐르게 함으로써 램프의 온도 상승에 의한 수명 및 성능 저하를 막고 있다.On the other hand, when the light is emitted by the flash lamp, a very large amount of heat is generated together due to the characteristics of the flash lamp which instantaneously generate a strong power density. Accumulation of generated heat deteriorates the performance of the flash lamp and ultimately reduces the lifespan. Therefore, effective cooling of the flash lamp is very important. In the present invention, the cooling water flows around the flash lamp in order to effectively cool the heat of the flash lamp, thereby preventing the deterioration of the service life and performance due to the temperature increase of the lamp.
도 2 및 도 3에는 본 발명의 실시예에 따른 세정 장치의 섬광 발생기에 대하여 보다 상세하게 도시되어 있다.2 and 3 are shown in more detail with respect to the flash generator of the cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
섬광 램프(11)는 지지체(13)에 지지되어 있다. 지지체(13)는 세정 작업물(W)에 대면하는 부분이 개방된 중공체로서, 그 내부에 섬광 램프(11)를 이격되게 수용할 수 있도록 섬광 램프(11)의 형상에 상응한 형상으로 섬광 램프(11)의 크기보다 크게 형성되어 있다. 본 실시예에서, 지지체(13)는, 하측이 개방되어 있으며, 섬광 램프(11)가 봉 형상인 것에 따라 길이 방향으로 길게 형성되어 있으며, 좌우 양단에 섬광 램프(11)를 삽입하여 지지하는 지지 구멍(13a)이 형성된 것으로 예시되어 있다. 지지 구멍(13a)은 섬광 램프(11)의 전극부(11a)가 그 내부에 삽입되어 지지되었을 때 섬광 램프(11)의 발광부(11b)가 지지체(13)의 내벽에 닿지 않도록 위치설정되어 있다.The
섬광 램프(11) 주위로 냉각수를 흐르게 하기 위해서는, 섬광 램프(11)의 발광부(11b)를 밀봉적으로 둘러싸면서 펄스파 섬광을 세정 작업물(W)에 조사하도록 구성해야 한다. 본 실시예에서는, 섬광 램프(11)의 전극부(11a)와 발광부(11b)의 경계 부분과 지지체(13)의 지지 구멍(13a) 사이를 밀봉재(14)로 밀봉하고, 지지체(13)의 세정 작업물(W)에 대면하는 부분, 즉, 개방된 하측 부분에 투명창(15)을 설치하고 있다. 투명창(15)과 지지체(13) 사이는 밀봉재(18)로 밀봉된다.In order to allow the cooling water to flow around the
밀봉재로서는 오링(O-ring), 테프론 테이프 또는 에폭시 및 실리콘 수지를 사용하는 것이 바람직하다.As the sealing material, it is preferable to use O-ring, Teflon tape or epoxy and silicone resin.
이렇게 밀봉 처리된 지지체(13)와 투명창(15)은 섬광 램프(11)의 주위에 밀봉된 챔버를 형성한다. 밀봉 챔버의 내부에는 냉각수가 공급되어 순환되는데, 지지체(13)의 양단부에는 각각 유입구(13b)와 유출구(13c)가 형성되어 있으며, 이 유입구(13b)와 유출구(13c)에는 냉각기(30)가 연결되어 있다.The sealed
이 투명창(15)은 섬광 램프(11)에서 발생하는 빛을 효과적으로 작업물(W)에 조사시켜 주어야 하므로 모든 파장에서 투과도가 좋은 석영을 재료로서 사용하는 것이 바람직하다. 이 투명창(17)은 섬광 발생기(10)의 내부를 오염 분진으로부터 보호하는 역할도 한다.Since the
냉각기(30)는 효과적인 냉각을 위해 수냉 순환 펌프식 냉각기인 것이 바람직하다. 또한, 냉각에 사용되는 물로서 일반물을 사용할 경우 전류의 누설 및 섬광 램프의 오염과 같은 문제를 발생시킬 수 있어, 이를 근본적으로 해결하기 위해 증류수 혹은 초순수(Deionized water)를 사용하는 것이 바람직하다. 냉각수의 온도는 20~30도 사이이면 적당하다. The cooler 30 is preferably a water cooled circulation pump cooler for effective cooling. In addition, when using general water as the water used for cooling may cause problems such as leakage of current and contamination of the flash lamp, it is preferable to use distilled water or ultra pure water (Deionized water) to solve this problem. The temperature of cooling water is suitable if it is between 20-30 degrees.
지지체(13)의 재료로서는 녹이 발생하지 않은 스테인레스 계열의 재료인 것이 바람직하다.As a material of the
섬광 발생기(10)에서 상기 섬광 램프(11)의 안쪽에는 광반사판(17)이 설치되어 있다. 이 광반사판(17)은 섬광 램프(11)에서 생성되는 펄스파 섬광을 세정 작업물(W)로 집중시켜 향하게 한다. 광반사판(17)의 형태는 반타원형으로 제작되며, 그 타원 곡률은 설치 조건에 맞게 빛을 작업물 방향으로 효과적으로 전달하기 위한 값으로 설정할 수 있다. 본 실시예에서는, 섬광 발생기(10)의 지지체(13)의 중간 내벽을 반타원형으로 형성하고, 반타원형의 광반사판(17)을 지지체(113)의 내벽에 에 부착한 것으로 예시하고 있다.In the
광반사판의 재료로서는 모든 파장대에서 반사도가 좋은 금, 은 또는 세라믹이 바람직하다. 다른 한편, 이 광반사판은 반사물질을 섬광 발생기 내부에 코팅함으로써 제작할 수도 있다. As a material of a light reflection board, gold, silver, or a ceramic which has good reflectivity in all wavelength bands is preferable. On the other hand, this light reflector can also be manufactured by coating a reflective material inside the scintillation generator.
또한, 도면에 예시하지는 않았지만, 섬광 발생기에는 장치의 높이를 가변할 수 있는 수동 혹은 자동 승강기를 장착함으로써 세정 작업물의 높이 변화에 따른 세정 성능의 변화를 최소화시킬 수 있다.In addition, although not illustrated in the drawings, the flash generator may be equipped with a manual or automatic elevator capable of varying the height of the device, thereby minimizing the change in the cleaning performance according to the height change of the cleaning work.
그리고, 섬광 발생기(10)에서 섬광 램프(11)의 안쪽에는 핀홀(19)이 형성되어 있다. 이 핀홀(19)에는 광모니터링기(40)가 연결되어 있다. 핀홀(19)은 광반사판(15)과 지지체(13)를 관통하여 형성되어 있다.In the
광모니터링기(40)는 섬광 램프(11)에서 발생하는 빛의 강도를 실시간으로 측정하는 일을 수행한다. 섬광 램프(11)는 램프의 특성상 특정 수명을 가지고 있으며 시간이 지남에 따라 서서히 빛의 강도가 저하된다. 세정 성능이 빛의 강도에 비례하기 때문에 빛의 강도를 실시간으로 측정하는 것은 안정적인 세정 작업을 위해 매우 중요한 일이다. 이와 같은 빛의 강도 측정을 위해 광센서를 섬광 발생기 근처에 장착하여 실시간으로 빛의 강도를 측정하고, 시간에 따른 변화량을 제어기에서 수시로 체크한다. 만일, 측정값이 세정이 원활이 이루어지는 기준값 보다 떨어질 경우 제어기는 자동으로 고전압 전력 공급기에서 공급하는 전압의 크기를 높 이거나, 작업자에게 신호를 보내 이상을 자동으로 알리는 역할을 수행한다. 광센서로는 포토다이오드를 사용할 수 있으며, 정확한 검출을 위해 광센서 앞에 특정 파장의 빛만을 선택할 수 있는 광필터를 설치할 수도 있다.The
도시된 보는 바와 같이, 섬광 램프(11)에서 발생하는 빛의 강도를 측정하기 위한 광모니터링기(40)를 섬광 발생기(10)에 부착하고, 섬광 발생기(10)에 핀홀(19)을 뚫어 핀홀(19)을 통해 나오는 빛을 광모니터링기(40)에서 센싱하는 방법을 사용하면, 섬광 램프(11)에서 나오는 빛을 직접 받아 측정하는 것이므로, 외부 환경에 의한 빛의 세기 변화를 최소화할 수 있어서, 정밀하고 신뢰성 있는 광모니터링을 할 수 있는 장점이 있다.As shown, an
또한, 섬광 발생기(10)의 상부에는 섬광 램프(11)에서 발생되는 펄스파 섬광이 작업자에게 노출되는 것을 방지하기 위한 광차폐부(50)가 설치되어 있다.In addition, an upper portion of the
광차폐부(50)는 세정 공정 중 섬광 발생기(10)에서 발생하는 강력한 섬광의 외부 방출을 최대한 줄이기 위한 장치이다. 섬광 램프(11)에서 발생하는 섬광의 강도는 매우 강해 보통 작업자가 직접 볼 경우 눈의 피로가 누적되는 경우가 발생한다. 따라서, 이러한 섬광을 차폐시켜주는 장치의 설치는 쾌적한 작업 환경 확보를 위해 매우 중요하다. 이러한 광차폐부(50)는, 불투명 금속 재료를 사용하여 케이스 형태로 제작하여 섬광 발생기(10)의 상부에 장착하며, 케이스의 내부 표면에 빛을 효과적으로 흡수하는 광흡수재를 부착하여 제작될 수도 있다.The
또한, 섬광 발생기(10)의 하부에는 세정 작업물(W)을 연속적으로 이송시키기 위한 콘베이어(60)가 설치될 수도 있다.In addition, a
콘베이어(60)는 섬광 램프(11)에 의한 세정 작업을 위해 작업물(W)을 연속적으로 이송시키는 역할을 수행한다. 콘베이어(60)는 벨트 콘베이어 타입을 사용하는 것이 바람직하며, 벨트의 형상은 메시(mesh)형태를 사용하여 혹시나 있을 수 있는 작업물의 미끄럼을 방지할 수도 있다. 벨트의 진행 속도는 가변할 수 있도록 제작하여 세정 작업물에 따라 세정 속도를 다르게 할 수 있게 하는 것이 바람직하다.
또한, 콘베이어(60)에 의해 이송되는 세정 작업물(W)의 이송 경로에서 섬광 발생기(10)에서의 세정 작업물(W)의 세정 전의 경로 상에는 세정을 위해 도입되는 작업물을 감지하기 위한 작업물 감지기(70)가 설치되어 있다.In addition, a job for detecting a workpiece introduced for cleaning on the path before cleaning of the cleaning workpiece W in the
작업물 감지기(70)는 세정을 위해 작업물(W)이 인입되는 것을 자동으로 인식하기 위한 장치이다. 작업물 감지기(70)를 통해 작업물(W)이 섬광 발생기로 이동하는 것을 감지하면, 이후 섬광 램프(11) 및 냉각기(30)의 작동을 자동으로 시작함으로써 세정을 수행한다. 이러한 작업물 감지기(70)는 섬광 램프(11)의 작동 시간을 최소화시킬 수 있으며, 이를 통해 섬광 램프(11)의 수명을 극대화시킬 수 있는 장점이 있다. 작업물 감지기(70)로서는 레이저 센서 혹은 근접 광센서를 사용할 수 있다.The
또한, 콘베이어(60)에 의해 이송되는 세정 작업물(W)의 이송 경로에서 작업물 감지기(70)와 섬광 발생기(10) 사이에는 섬광 발생기(10)에 의한 세정 전 작업물에 존재하는 부유성 오염 입자들을 제거하기 위한 고압 가스 분사기(80)가 설치되어 있다.In addition, in the transfer path of the cleaning workpiece (W) conveyed by the
고압 가스 분사기(80)는 콘베이어를 통해 작업물(W)이 도입될 때 세정 표면 에 존재하는 부유성 무기 오염 입자들을 제거할 목적으로 사용된다. 섬광 램프(11)에 의해 효과적으로 제거할 수 있는 오염 물질은 보통 기름때와 같은 유기 오염 물질이며, 무기 오염 물질은 제거하기 어렵다. 따라서, 작업물(W)이 섬광 램프(11)에 접근하기 전에 가스 공급부(81)에서 공급되는 고압의 가스를 가스 분사 노즐(83)을 통해 작업물(W)의 표면에 분사함으로써 부유성 무기 오염 물질을 효과적으로 제거할 수 있다.The high
이때, 가스의 종류로서는 일반 압축 공기를 사용해도 무방하며, 질소와 같은 불활성 가스를 사용할 수도 있다. 고압 가스 분사에 의한 작업물(W)의 선세정(precleaning)에 있어 가스 분사 노즐(83)의 각도가 중요한데, 보통 30~70°인 것이 바람직하다. At this time, general compressed air may be used as the kind of gas, and an inert gas such as nitrogen may be used. The angle of the
또한, 콘베이어(60)에 의해 이송되는 세정 작업물(W)의 이송 경로에서 섬광 발생기(10)에서의 세정 작업물(W)의 세정 후의 경로 상에는 섬광 발생기(10)에 의한 세정 중 작업물(W)에서 발생하는 오염 분진을 흡입하기 위한 분진 흡입기(90)가 설치되어 있다.Further, the workpiece during cleaning by the
분진 흡입기(90)는 섬광 램프(11)에 의한 세정 공정 중 발생하는 오염물질의 미세 분진 입자들을 영구 제거하기 위한 목적으로 설치된다. 섬광 램프(11)에 의한 세정이 발생하는 영역 가까이에 흡입 노즐(93)을 장착하고, 분진 흡입부(91)에서 주변 공기를 강력하게 흡입하면 미세 분진입자들은 흡입 노즐(93)을 통해 분진흡입부(91) 쪽으로 빨려 오게 된다. 보통 분진 흡입부(91)로서는 팬블로우(fan blower) 혹은 진공펌프를 사용하며, 분진 흡입부(91)의 주변에 필터(95)를 설치하 여 분진 입자들을 따로 포집하여 공기만을 외부로 방출할 수도 있다.The
마지막으로, 제어기(100)는 전술한 광모니터링기(40) 및 작업물 감지기(70)에 연결되어 고전압 전력 공급기(20), 냉각기(30) 및 콘베이어(60)를 자동 제어하여 효과적인 세정 공정을 수행할 수 있게 한다. 제어부(100)는 보통 산업용 컴퓨터 혹은 PLC(Programmable Logic Controller)를 사용할 수 있다. Finally, the
본 실시예에서, 전술한 세정 작업물(W)은 신발의 접착부인 밑창인 것이 바람직하다.In this embodiment, the above-mentioned cleaning workpiece W is preferably an outsole which is an adhesive portion of the shoe.
이상과 같은 세정 장치를 이용하여 세정 작업물을 세정하는 방법을 설명하면 다음과 같다. 본 발명의 세정 작업물을 세정하는 방법은, 세정 작업물에 펄스파 섬광을 조사하여 세정 작업물의 오염 물질을 제거하는 것이다. The method of washing a cleaning workpiece using the above cleaning apparatus is as follows. A method for cleaning a cleaning workpiece of the present invention is to remove contaminants of the cleaning workpiece by irradiating a pulsed wave flash on the cleaning workpiece.
본 발명에 따른 세정 방법은, 세정 작업물에 펄스파 섬광을 조사하여 세정하기 전에, 고압 가스를 분사하여 세정 전 작업물에 존재하는 부유성 오염 입자들을 제거하는 단계를 더 포함할 수도 있다.The cleaning method according to the present invention may further comprise the step of spraying a high pressure gas to remove suspended contaminant particles present in the workpiece prior to cleaning before irradiating the cleaning workpiece with pulsed wave flash.
또한, 본 발명에 따른 세정 방법은, 세정 작업물에 펄스파 섬광을 조사하여 세정하고 난 후에, 세정 중 작업물에서 발생하는 오염 분진을 흡입하는 단계를 더 포함할 수도 있다.In addition, the cleaning method according to the present invention may further include a step of sucking contaminant dust generated in the workpiece during cleaning after cleaning the irradiated workpiece by irradiating pulsed wave flashes.
그리고, 세정 작업물을 연속적으로 이송시킬 수도 있다.And a cleaning workpiece can also be conveyed continuously.
이상에서는 본 발명이 특정 실시예를 중심으로 하여 설명되었지만, 본 발명의 취지 및 첨부된 특허청구범위 내에서 다양한 변형, 변경 또는 수정이 당해 기술분야에서 있을 수 있으며, 따라서, 전술한 설명 및 도면은 본 발명의 기술사상을 한정하는 것이 아닌 본 발명을 예시하는 것으로 해석되어져야 한다.While the invention has been described above with reference to specific embodiments, various modifications, changes or modifications may be made in the art within the spirit and scope of the appended claims, and thus, the foregoing description and drawings It should be construed as illustrating the present invention rather than limiting the technical spirit of the present invention.
전술한 바와 같이, 본 발명의 세정 장치 및 방법에 의하면, 섬광 램프를 이용하여 세정 작업물을 세정하도록 구성되어 있으므로, 신발의 접착부에 존재하는 오염 물질을 매우 신속하고, 효과적이며 또한 아무런 오폐수의 발생 없이 건식으로 세정할 수 있으며, 또한 장치를 매우 작은 크기의 세정 모듈로 제작이 가능하여서 신발 제조 공정 라인에 용이하게 설치 및 적용할 수 있는 효과가 있다.As described above, according to the cleaning apparatus and method of the present invention, since the cleaning workpiece is configured to be cleaned using a flash lamp, the pollutants present in the adhesion portion of the shoe can be generated very quickly, effectively and without any waste water. Dry cleaning can be carried out without the washing machine, and the device can be manufactured as a cleaning module of a very small size, so that the shoe manufacturing process line can be easily installed and applied.
Claims (18)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060106676A KR100879616B1 (en) | 2006-10-31 | 2006-10-31 | Cleaning apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060106676A KR100879616B1 (en) | 2006-10-31 | 2006-10-31 | Cleaning apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080039029A KR20080039029A (en) | 2008-05-07 |
KR100879616B1 true KR100879616B1 (en) | 2009-01-21 |
Family
ID=39647385
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060106676A KR100879616B1 (en) | 2006-10-31 | 2006-10-31 | Cleaning apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100879616B1 (en) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101633288B1 (en) * | 2014-08-19 | 2016-06-24 | 최종학 | apparatus for removing painting layer |
KR101659985B1 (en) * | 2014-12-19 | 2016-09-26 | (주)빅텍스 | A head apparatus for removing paint coating and an automatic system for removing paint coating comprising thereof |
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KR20050004557A (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-12 | (주)두원기전 | Ultraviolet disinfection system |
-
2006
- 2006-10-31 KR KR1020060106676A patent/KR100879616B1/en active IP Right Grant
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KR20050004557A (en) * | 2003-07-03 | 2005-01-12 | (주)두원기전 | Ultraviolet disinfection system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20080039029A (en) | 2008-05-07 |
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
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