KR100877223B1 - Mems 스위치, 방법 및 무선 통신 시스템 - Google Patents

Mems 스위치, 방법 및 무선 통신 시스템 Download PDF

Info

Publication number
KR100877223B1
KR100877223B1 KR1020077002280A KR20077002280A KR100877223B1 KR 100877223 B1 KR100877223 B1 KR 100877223B1 KR 1020077002280 A KR1020077002280 A KR 1020077002280A KR 20077002280 A KR20077002280 A KR 20077002280A KR 100877223 B1 KR100877223 B1 KR 100877223B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
actuation
electrode
switch
mems switch
actuation electrode
Prior art date
Application number
KR1020077002280A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20070027754A (ko
Inventor
청-콴 알렌 쵸우
Original Assignee
인텔 코포레이션
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 인텔 코포레이션 filed Critical 인텔 코포레이션
Publication of KR20070027754A publication Critical patent/KR20070027754A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100877223B1 publication Critical patent/KR100877223B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H59/00Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01HELECTRIC SWITCHES; RELAYS; SELECTORS; EMERGENCY PROTECTIVE DEVICES
    • H01H59/00Electrostatic relays; Electro-adhesion relays
    • H01H59/0009Electrostatic relays; Electro-adhesion relays making use of micromechanics
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/16Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes
    • H01G5/18Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture using variation of distance between electrodes due to change in inclination, e.g. by flexing, by spiral wrapping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01GCAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES OR LIGHT-SENSITIVE DEVICES, OF THE ELECTROLYTIC TYPE
    • H01G5/00Capacitors in which the capacitance is varied by mechanical means, e.g. by turning a shaft; Processes of their manufacture
    • H01G5/40Structural combinations of variable capacitors with other electric elements not covered by this subclass, the structure mainly consisting of a capacitor, e.g. RC combinations
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01PWAVEGUIDES; RESONATORS, LINES, OR OTHER DEVICES OF THE WAVEGUIDE TYPE
    • H01P1/00Auxiliary devices
    • H01P1/10Auxiliary devices for switching or interrupting

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Micromachines (AREA)
  • Electronic Switches (AREA)
  • Waveguide Switches, Polarizers, And Phase Shifters (AREA)

Abstract

본 명세서에는 본 발명의 일 실시예에 따른 마이크로전자기계적(MEMS) 스위치가 개시되었다. MEMS 스위치는 기판, 기판 상에 장착된 하부 전극, 하부 전극 상에 장착된 상부 전극, 기판 상에 장착된 액츄에이션 전극 및 액츄에이션 전극에 연결된 저항을 포함한다. 저항은 스위치가 개방될 때마다 액츄에이션 전극에서의 자가-액츄에이션을 방지한다.

Description

MEMS 스위치, 방법 및 무선 통신 시스템{MECHANISM TO PREVENT SELF-ACTUATION IN A MICROELECTROMECHANICAL SWITCH}
본 발명은 전반적으로 마이크로-전자기계적 시스템(MEMS)에 관한 것으로, 보다 구체적으로 본 발명은 MEMS 스위치에 관한 것이다.
마이크로-전자기계적 시스템(MEMS) 디바이스는 광범위한 응용의 변화를 가지고 상업 제품에서 일반적이다. MEMS 디바이스 중 하나의 유형은 MEMS 무선 주파수(RF) 스위치이다. 전형적인 MEMS RF 스위치는 RF 스위치 어레이 내에 배열된 하나 이상의 MEMS 스위치를 포함한다. MEMS RF 스위치의 낮은 전력 특성 및 무선 주파수 범위에서의 동작 능력 때문에 MEMS RF 스위치는 무선 디바이스에 있어서 이상적이다. MEMS RF 스위치는 휴대폰, 무선 컴퓨터 네트워크, 통신 시스템 및 레이더 시스템에서 바람직한 응용을 나타낸다. 무선 디바이스에서, MEMS RF 스위치는 안테나 스위치, 모드 스위치 및 송/수신 스위치로서 사용될 수 있다.
그러나, MEMS RF 스위치에는 종종 문제가 발생한다. MEMS 스위치는 일반적으로 스위치 내부의 액츄에이션(actuation) 전극이 고전압 RF 신호로 인해 "OFF" 상 태에서 작동(자가-액츄에이션)할 수도 있는 문제점을 갖는다. 따라서, 고전압 RF 신호는 스위치 빔을 약화시켜 실패를 야기하기에 충분한 정전기력을 생산한다.
MEMS 스위치는 또한 캐패시턴스 커플링(coupling)으로 인해 액츄에이션 전극/캐패시터를 통한 접지로의 추가적인 삽입 손실(IL; insertion loss)을 겪을 수 있으며, 그에 따라 디바이스의 RF 성능이 (예를 들어, 0.3dB에서 >1dB로) 강하게 저하될 수 있다.
도 1은 무선 통신 시스템의 일 실시예를 도시한 도면,
도 2는 RF MEMS 스위치의 일 실시예를 도시한 도면,
도 3은 전압 강하의 일 실시예를 저항값의 함수로서 도시한 그래프,
도 4는 RF MEMS 스위치의 다른 실시예를 도시한 도면,
도 5는 액츄에이션 전극을 통한 삽입 손실의 일 실시예를 저항값의 함수로서 도시한 그래프,
도 6은 저항으로 인한 RC 시간 지연의 일 실시예를 도시한 그래프,
도 7은 집적된 액츄에이션 저항을 갖는 MEMS 스위치의 일 실시예의 평면도.
본 발명은 하기에 주어진 본 발명의 다양한 실시예의 상세한 설명 및 첨부된 도면으로부터 보다 완전하게 이해될 것이다. 그러나, 도면은 본 발명을 특정 실시예로 제한하기 위한 것은 아니며, 설명과 이해를 돕기 위한 것이다.
MEMS 스위치 내의 자가-액츄에이션을 방지하기 위한 메커니즘을 기술한다. 본 명세서에서 참조되는 "일 실시예" 또는 "실시예"는 이 실시예와 관련해 기술된 특정한 특성, 구조체 또는 특징이 본 발명의 적어도 하나의 실시예에 포함된다는 것을 의미한다. 본 명세서에서 다수 사용된 "일 실시예에서"라는 구절은 모두 동일한 실시예를 의미하는 것은 아니다.
후술된 설명에서, 다수의 세부 사항이 설정되었다. 그러나, 당업자는 본 발명이 이러한 특정 세부 사항 없이도 실시될 수 있다는 점을 이해할 것이다. 다른 예에서, 잘 알려진 구조체 및 디바이스가 블록 다이어그램 형태로 도시되었으며, 본 발명을 불명확하게 하지 않도록 자세하게 도시되지는 않았다.
도 1은 무선 통신 시스템(100)의 일 실시예의 블록 다이어그램이다. 시스템(100)은 신호를 전송 및 수신하는 안테나(110)를 포함한다. 시스템(100)은 전압 소스 제어기(120), 수신기(130), 전송기(140) 및 안테나(110)에 전기적으로 연결되는 MEMS 스위치(150)도 또한 포함한다.
전압 소스 제어기(120)는 MEMS 스위치(150)에 전기적으로 접속된다. 일 실시예에서, 전압 소스 제어기(120)는 스위치(150)를 선택적으로 작동시키도록 전압을 MEMS 스위치(150) 내의 (도시되지 않은) 액츄에이션 전극에 선택적으로 공급하는 논리를 포함한다. 수신기(130)는 시스템(100)에서 안테나(110)를 통해 수신되는 신호를 프로세싱한다. 전송기(140)는 시스템(100)으로부터 전송될 신호를 생성한다.
동작 동안, 시스템(100)은 무선 신호를 수신 및 전송한다. 이것은 MEMS 스위치(150)를 선택적으로 활성화시키는 전압 소스 제어기(120)에 의해 달성되며, 스위치(150)는 수신된 신호가 안테나(110)로부터 프로세싱을 하는 수신기(130)로 전송될 수 있도록 수신기(130)와 연결되고, 또한 스위치(150)는 전송기(140)에 의해 생성된 전송 신호가 송신용 안테나(110)로 전달될 수 있도록 전송기(140)에도 연결된다.
도 2는 스위치(150)가 "OFF" 상태에 있을 때의 RF MEMS 스위치(150)의 일 실시예를 도시한 도면이다. 스위치(150)는 기판/유전체(205), 기판(205) 위에 층을 이룬 하부 전극(210) 및 하부 전극(210) 상에 장착된 상부 전극(215, 220)을 포함한다. 전극(215, 220)은 스위치(150)로부터 수신 또는 전송되는 고전압 RF 신호("Vs")를 전달한다. 특히, 전극(220)은 콘택트 영역(225)이 폐쇄될 때마다 신호를 전송하는 50Ω의 전송 라인이다.
액츄에이션 전극(230) 또한 포함된다. 액츄에이션 전극(230)은 기판(205) 상에 장착되며, 전기적으로 충전됨에 따라 (또는 작동됨에 따라) 신호가 전극(215)으로부터 전극(220)으로 전달되도록 한다. 스위치(150)가 "OFF" 상태에 있을 때, 고전압 RF 신호는 자신의 전압 Vs을 액츄에이션 전극(230)(예를 들어, 액츄에이션 캐패시터)에 연결된 캐패시터(Ca) 및 콘택트 영역(225)(예를 들어, 콘택트 캐패시터) 내의 캐패시터(Cb)로 직접 인가할 수 있다.
RF 신호는 고주파수에 있지만, 이 신호의 RMS 값은 상부 전극(215)을 아래로 이동시키기에 충분한 DC를 제공하여 액츄에이션 전극(230)에서 자가-액츄에이션을 발생시킬 수 있다. 접촉 영역(225)이 최소화되어 Cb를 감소시킴으로써 고전압일지라도 콘택트 영역에서 충분한 힘이 생산되지 않도록 할 수 있다.
일 실시예에 따르면, 액츄에이션이 "OFF"일 때 저항(Ra)은 액츄에이션 전극(230)과 접지 사이에 연결된다. 저항은 액츄에이션 전극(230)에서의 자가-액츄에이션에 대한 가능성을 제거한다. 일 실시예에서, 저항은 충분히 높은 저항값(예를 들어, 20㏀)을 가짐으로써, 저항에서의 임피던스가 RF 신호에 상응하는 캐패시터 Ca의 임피던스보다 훨씬 크도록 한다. 결과적으로, 캐패시터 Ca 사이에서는 최소의 RF 전압 강하가 발생한다. 주요 전압 강하는 Ra의 높은 임피던스 때문에 Ra로 이동될 것이다. 따라서, 액츄에이션 전극(230)의 양단에 고전압이 거의 인가되지 않거나 또는 전혀 인가되지 않기 때문에, 스위치(150)의 자가-액츄에이션은 발생하지 않거나, 또는 최소한으로 발생할 것이다.
도 3은 2㎓의 RF 신호, 최대 Vs=33.6V에 대해, 캐패시터(Ca, Cb)에서의 전압 강하의 일 실시예를 저항 Ra 값의 함수로서 도시한 그래프이다. 액츄에이션 캐패시터 Ca에 있어서, 캐패시턴스는 피코-패럿(pico-Farads)(㎊=1e-12F)의 범위에 있다. 만약 로드 저항의 오직 50Ω만이 사용된다면 캐패시터 Ca에서 높은 전압 강하(~20V)가 나타날 수 있다. 로드 저항이 20㏀~60㏀일 때 캐패시터 Ca 상의 전압은 크게 감소된다(<<1V).
이러한 결과는 적절한 액츄에이션 저항 Ra가 고전압 RF 신호로부터의 자가-액츄에이션을 효과적으로 제거할 수 있다는 것을 증명한다. 높은 RF 전압은 콘택트 영역 캐패시터 Cb에서도 예상된다. 그러나, 전술된 바와 같이, 이 예시에서의 자가-액츄에이션은 오버랩되는 영역을 감소시켜 힘을 낮춤으로써 극복될 수 있다.
도 4는 스위치(150)가 "ON" 상태일 때의 RF MEMS 스위치(150)의 일 실시예를 도시한 도면이다. RF 신호와 DC 접지 사이의 높은 임피던스는 신호 연결/손실을 최소화한다. 저항 없이, RF 신호는 콘택트를 통과해 완전히 전송될 것이다. 그러나, RF 신호는 고주파수에서의 낮은 임피던스 때문에 액츄에이션 전극 Ca'를 통해 쉽게 접지로 전송될 수도 있다. 이러한 캐패시터 연결은 부분적인 RF 신호 손실을 발생시키고 RF 삽입 손실(예를 들어, 콘택트를 통한 보다 적은 신호의 전송)을 더 추가함으로써 디바이스 RF 성능을 열화시킨다. 액츄에이션 전극을 통한 이러한 삽입 손실의 양은 폐쇄된 스위치(또는 병렬 접속된 스위치)의 총 캐패시턴스에 의존한다. 손실은 다수의 스위치가 병렬로 사용될 때 수 dB까지 발생할 수 있으며, 높은 Ca'를 나타낸다(총 Ca'>1pF).
도 5는 액츄에이션 전극(230)을 통한 삽입 손실의 일 실시예를 저항값 Ra의 함수로서 도시한 그래프이다. 도 5에 도시된 바와 같이, 액츄에이션 저항이 낮을 때(예를 들어, <100Ω) 삽입 손실은 매우 높다. Ca'가 높을수록 보다 많은 삽입 손실이 예상된다. 이러한 삽입 손실은 저항이 20㏀ 이상의 범위에 있을 때 크게 감소된다(<0.02dB). 따라서, 액츄에이션 전극(230)에 충분히 높은 저항이 추가되면, 삽입 손실이 최소화된다.
도 6은 저항 Ra에 대한 RC 시간 지연의 일 실시예를 도시한 그래프이다. 일반적으로, MEMS 스위치의 기계적 응답(예를 들어, 스위칭 속도)은 10㎲의 범위 내에 있다. 따라서, 저항으로부터의 액츄에이션 신호 시간 지연은 물리적 스위칭 속도(예를 들어, 0.5㎲)보다 훨씬 작을 것이다. 6㎊의 총 액츄에이션 캐패시턴스 Ca' 를 가질 때, 액츄에이션 저항은 빠른 액츄에이션에 대해 70㏀ 이하가 될 것이다. 그러나, 자가-액츄에이션 및 동작 삽입 손실을 최소화하도록, 액츄에이션 저항의 저항값은 20㏀ 이상이 될 것이다. 따라서, 최적의 액츄에이션 저항은 20㏀-70㏀의 범위 내에 있다.
도 7은 집적된 액츄에이션 저항를 갖는 MEMS 스위치(150)의 일 실시예의 평면도이다. 일 실시예에 따르면, 액츄에이션 저항(750)은 폴리실리콘 구동 전극을 사용함으로써 전극(230)과 집적된다. 이러한 실시예에서, 구동 전극은 높은 도펀트를 갖는 폴리실리콘으로 구성되어 액츄에이션 전하 분포에 있어서 우수한 전도성을 획득한다.
또한, 도 7에 도시된 바와 같이 동일한 폴리실리콘 층의 임의의 영역은 낮은 주입 도스(implant dose)로 도핑되어 충분한 저항을 획득할 수 있다. 다른 실시예에서, 다른 집적 방법이 구현될 수 있다. 예를 들어, 고전도성의 폴리실리콘 전극이 임의의 금속으로 대체될 수 있으며, 폴리 저항은 임의의 다른 저항으로 대체될 수도 있다.
전술된 설명을 접한 당업자는 본 발명의 다양한 대안 및 변경이 가능하다는 것을 명백히 알 것이며, 도시 및 기술된 임의의 특정 실시예는 단지 설명을 위한 것으로 본 발명을 제한하기 위한 것이 아님을 이해할 것이다. 따라서, 참고를 위한 다양한 실시예의 세부 사항은 특허청구범위의 범주를 제한하는 것은 아니며, 본 발명은 오직 특허청구범위에 의해서만 제한된다.

Claims (18)

  1. 마이크로전자기계적(MEMS-microelectromechanical) 스위치에 있어서,
    기판과,
    상기 기판 상에 장착된 하부 전극과,
    상기 하부 전극 상에 장착된 상부 전극과,
    상기 기판 상에 장착된 액츄에이션 전극(actuation electrode)과,
    상기 액츄에이션 전극에 연결되어, 상기 액츄에이션 전극에서의 자가-액츄에이션(self-actuation)을 방지하고, 상기 스위치가 폐쇄될 때마다 상기 액츄에이션 전극을 통한 삽입 손실을 방지하는 저항을 포함하는
    MEMS 스위치.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 액츄에이션 전극에 연결된 캐패시터를 더 포함하되,
    상기 저항의 임피던스는 상기 캐패시터의 임피던스보다 큰
    MEMS 스위치.
  3. 제 2 항에 있어서,
    상기 저항의 임피던스는 20㏀ 내지 70㏀ 사이의 범위를 갖는
    MEMS 스위치.
  4. 삭제
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 저항은 폴리실리콘 구동 전극을 통해 상기 액츄에이션 전극과 집적되는
    MEMS 스위치.
  6. 제 5 항에 있어서,
    상기 구동 전극은 보다 높은 도펀트의 폴리실리콘으로 구성되어 액츄에이션 전하 분포에 있어서 충분한 전도성을 획득하는
    MEMS 스위치.
  7. 무선 통신 시스템에 있어서,
    고전압 RF 신호를 수신하는 수신기와,
    상기 고전압 RF 신호를 전송하는 송신기와,
    상기 수신기 및 상기 송신기에 연결된 MEMS 스위치를 포함하되,
    상기 MEMS 스위치는
    액츄에이션 전극과,
    상기 스위치가 개방될 때마다 상기 액츄에이션 전극에서 상기 고전압 RF 신호로 인한 자가-액츄에이션을 방지하고 상기 스위치가 폐쇄될 때마다 상기 액츄에이션 전극을 통한 삽입 손실을 방지하는, 상기 액츄에이션 전극에 연결된 저항을 구비하는
    무선 통신 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 MEMS 스위치는 상기 액츄에이션 전극에 연결된 캐패시터를 더 포함하되,
    상기 저항의 임피던스는 상기 캐패시터의 임피던스보다 큰
    무선 통신 시스템.
  9. 삭제
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 MEMS 스위치에 연결된 전압 소스 제어기를 더 포함하는
    무선 통신 시스템.
  11. MEMS 스위치의 기판 상에 액츄에이션 전극을 장착하는 단계와,
    상기 액츄에이션 전극을 폴리실리콘 구동 전극과 집적시킴으로써, 상기 액츄에이션 전극에 연결되어 상기 액츄에이션 전극에서의 자가-액츄에이션을 방지하고 스위치가 폐쇄될 때마다 상기 액츄에이션 전극을 통한 삽입 손실을 방지하는 저항을 형성하는 단계를 포함하는
    방법.
  12. 제 11 항에 있어서,
    상기 기판 상에 하부 전극을 장착하는 단계와,
    상기 하부 전극 상에 상부 전극을 장착하는 단계를 더 포함하는
    방법.
  13. 무선 통신 시스템에 있어서,
    고전압 RF 신호를 수신하는 수신기와,
    고전압 RF 신호를 송신하는 전송기와,
    상기 수신기 및 상기 전송기에 연결된 MEMS 스위치를 포함하되,
    상기 MEMS 스위치는,
    액츄에이션 전극과,
    상기 스위치가 개방될 때마다 상기 액츄에이션 전극에서의 상기 고전압 RF 신호로 인한 자가-액츄에이션을 방지하고 상기 스위치가 폐쇄될 때마다 상기 액츄에이션 전극을 통한 삽입 손실을 방지하는, 상기 액츄에이션 전극에 연결된 저항과,
    상기 MEMS 스위치에 연결된 안테나를 구비하는
    무선 통신 시스템.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 MEMS 스위치는 상기 액츄에이션 전극에 연결된 캐패시터를 더 포함하는
    무선 통신 시스템.
  15. 제 14 항에 있어서,
    상기 저항의 임피던스는 상기 캐패시터의 임피던스보다 더 큰
    무선 통신 시스템.
  16. 제 14 항에 있어서,
    상기 저항의 임피던스는 20㏀ 내지 70㏀ 사이의 범위를 갖는
    무선 통신 시스템.
  17. 삭제
  18. 제 13 항에 있어서,
    상기 MEMS 스위치에 연결된 전압 소스 제어기를 더 포함하는
    무선 통신 시스템.
KR1020077002280A 2004-06-29 2005-06-23 Mems 스위치, 방법 및 무선 통신 시스템 KR100877223B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/879,539 2004-06-29
US10/879,539 US7042308B2 (en) 2004-06-29 2004-06-29 Mechanism to prevent self-actuation in a microelectromechanical switch

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20070027754A KR20070027754A (ko) 2007-03-09
KR100877223B1 true KR100877223B1 (ko) 2009-01-07

Family

ID=35058883

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020077002280A KR100877223B1 (ko) 2004-06-29 2005-06-23 Mems 스위치, 방법 및 무선 통신 시스템

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7042308B2 (ko)
EP (1) EP1779401B1 (ko)
JP (1) JP4523969B2 (ko)
KR (1) KR100877223B1 (ko)
CN (1) CN1961397B (ko)
WO (1) WO2006012253A1 (ko)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20070278075A1 (en) * 2004-07-29 2007-12-06 Akihisa Terano Capacitance Type Mems Device, Manufacturing Method Thereof, And High Frequency Device
US7321275B2 (en) * 2005-06-23 2008-01-22 Intel Corporation Ultra-low voltage capable zipper switch
JP2007103312A (ja) 2005-10-07 2007-04-19 Fujitsu Media Device Kk スイッチ
US7602261B2 (en) * 2005-12-22 2009-10-13 Intel Corporation Micro-electromechanical system (MEMS) switch
US7554421B2 (en) * 2006-05-16 2009-06-30 Intel Corporation Micro-electromechanical system (MEMS) trampoline switch/varactor
US7605675B2 (en) * 2006-06-20 2009-10-20 Intel Corporation Electromechanical switch with partially rigidified electrode
US8384500B2 (en) * 2007-12-13 2013-02-26 Broadcom Corporation Method and system for MEMS switches fabricated in an integrated circuit package
US8067810B2 (en) * 2008-03-28 2011-11-29 Imec Self-actuating RF MEMS device by RF power actuation
US8054147B2 (en) 2009-04-01 2011-11-08 General Electric Company High voltage switch and method of making
US8054589B2 (en) * 2009-12-16 2011-11-08 General Electric Company Switch structure and associated circuit
US9911563B2 (en) * 2013-07-31 2018-03-06 Analog Devices Global MEMS switch device and method of fabrication
CN104409286B (zh) * 2014-11-28 2016-07-06 京东方科技集团股份有限公司 一种微电子开关及有源矩阵有机发光显示装置
US10048348B2 (en) * 2015-08-05 2018-08-14 Teradyne, Inc. MEM relay assembly for calibrating automated test equipment
CA3104639A1 (en) * 2018-06-28 2020-01-02 Menlo Microsystems, Inc. Switch self-actuation mitigation using a tracking signal

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0128897A1 (en) * 1982-12-14 1984-12-27 Donald W. Schmanski Skirt member for crossing guard rail

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4008832C1 (en) 1990-03-20 1991-07-18 Rohde & Schwarz Gmbh & Co Kg, 8000 Muenchen, De Microswitch operated by electrostatic force - has force electrode of resistance material between end contacts
US5479042A (en) * 1993-02-01 1995-12-26 Brooktree Corporation Micromachined relay and method of forming the relay
DE19950373B4 (de) 1998-10-23 2005-06-30 Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg Mikromechanisches Relais mit federndem Kontakt und Verfahren zum Herstellen desselben
GB9907317D0 (en) * 1999-03-31 1999-05-26 Univ St Andrews Antenna system
JP3137112B2 (ja) * 1999-04-27 2001-02-19 日本電気株式会社 マイクロマシンスイッチおよびその製造方法
US6310339B1 (en) * 1999-10-28 2001-10-30 Hrl Laboratories, Llc Optically controlled MEM switches
US6417807B1 (en) * 2001-04-27 2002-07-09 Hrl Laboratories, Llc Optically controlled RF MEMS switch array for reconfigurable broadband reflective antennas
EP1156504A3 (de) 2000-05-16 2003-12-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Mikromechanisches Relais mit verbessertem Schaltverhalten
US6698082B2 (en) * 2001-08-28 2004-03-02 Texas Instruments Incorporated Micro-electromechanical switch fabricated by simultaneous formation of a resistor and bottom electrode
JP2004134370A (ja) * 2002-07-26 2004-04-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd スイッチ
JP4278960B2 (ja) * 2002-08-08 2009-06-17 富士通コンポーネント株式会社 マイクロリレー及びマイクロリレーの製造方法
US6639494B1 (en) * 2002-12-18 2003-10-28 Northrop Grumman Corporation Microelectromechanical RF switch
US6777765B2 (en) * 2002-12-19 2004-08-17 Northrop Grumman Corporation Capacitive type microelectromechanical RF switch

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0128897A1 (en) * 1982-12-14 1984-12-27 Donald W. Schmanski Skirt member for crossing guard rail

Also Published As

Publication number Publication date
WO2006012253A1 (en) 2006-02-02
US20050285697A1 (en) 2005-12-29
EP1779401A1 (en) 2007-05-02
US7042308B2 (en) 2006-05-09
CN1961397B (zh) 2011-03-02
JP4523969B2 (ja) 2010-08-11
CN1961397A (zh) 2007-05-09
JP2007535798A (ja) 2007-12-06
EP1779401B1 (en) 2014-05-14
KR20070027754A (ko) 2007-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100877223B1 (ko) Mems 스위치, 방법 및 무선 통신 시스템
JP4369974B2 (ja) コラプシブルコンタクトスイッチ
US6525396B2 (en) Selection of materials and dimensions for a micro-electromechanical switch for use in the RF regime
US9076808B2 (en) RF MEMS isolation, series and shunt DVC, and small MEMS
JP4555951B2 (ja) MEMS(Micro−Electro−Mechanical−System)素子のアレイの駆動
US8120443B2 (en) Radiofrequency or hyperfrequency circulator
US6949985B2 (en) Electrostatically actuated microwave MEMS switch
EP3618117B1 (en) Apparatus comprising a first and second layer of conductive material and methods of manufacturing and operating such apparatus
CN108352277A (zh) 用于esd保护的自然闭合的mems开关
KR102554425B1 (ko) 앵커에 mims를 사용하는 dvc
CN102959850A (zh) 半导体器件和静电致动器的驱动方法
KR101669033B1 (ko) 스위칭 가능한 커패시터
US11139134B2 (en) High isolation series switch
US7233776B2 (en) Low voltage microelectromechanical RF switch architecture
US11640891B2 (en) Mems switch with multiple pull-down electrodes between terminal electrodes
JP5130291B2 (ja) 電気機械素子およびそれを用いた電気機器
CN115567030A (zh) 基于mems技术的跳频滤波器
US20090214155A1 (en) Integrated optical modulator
KR20230076666A (ko) 밀리미터파 대역의 신호 전달이 가능한 결정성 변동 소자
CN111508780A (zh) 一种单片集成多波段控制mems开关
Kulkarni A Review Paper on Enhancement of Radio Frequency MicroElectro Mechanical Systems
JP2004512718A (ja) コンデンサ装置を備えた装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121119

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131202

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141128

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151201

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20161129

Year of fee payment: 9

LAPS Lapse due to unpaid annual fee