KR100856014B1 - 패턴 형성 방법, 배향막 형성 방법, 액적 토출 장치,배향막 형성 장치, 전기 광학 장치 및 액정 표시 장치 - Google Patents

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Abstract

패턴 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법이 개시된다. 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구로부터 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 1 액적이 토출된다. 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 2 액적이 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구로부터 제 2 토출 방향을 따라 상기 기판 위에서의 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출된다.
액정 표시 장치, 광원, 액정 패널, 편광판

Description

패턴 형성 방법, 배향막 형성 방법, 액적 토출 장치, 배향막 형성 장치, 전기 광학 장치 및 액정 표시 장치{METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR FORMING ALIGNMENT FILM, DROPLET EJECTION APPARATUS, APPARATUS FOR FORMING ALIGNMENT FILM, ELECTRO-OPTIC DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY}
도 1은 액정 표시 장치를 나타내는 사시도.
도 2는 도 1의 2-2 선에 따른 단면도.
도 3은 도 2의 액적 토출 장치를 나타내는 사시도.
도 4는 도 2의 액적 토출 장치의 액적 토출 헤드를 나타내는 사시도.
도 5는 도 4의 액적 토출 헤드를 나타내는 평면도.
도 6은 도 4의 액적 토출 헤드를 나타내는 측면도.
도 7은 도 2의 액적 토출 장치의 액적 토출 동작을 설명하는 도면.
도 8은 도 2의 액적 토출 장치의 전기적 구성을 나타내는 블록도.
도 9는 종래의 액적 토출 장치를 나타내는 개략 측면도.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
10 : 액정 표시 장치 11 : 광원
12 : 백 라이트 13 : 액정 패널
14 : 소자 기판 14a : 소자 형성면
15 : 대향 기판 15a : 전극 형성면
16 : 밀봉재 17 : 액정
18 : 광학 기판 19 : 주사선 구동 회로
21 : 데이터선 구동 회로 22 : 화소
23 : 화소 전극 25 : 편광판
Lx : 복수의 주사선 Ly : 복수의 데이터선
본 발명은 패턴 형성 방법, 배향막 형성 방법, 액적 토출 장치, 배향막 형성장치, 전기 광학 장치 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.
표시 장치나 반도체 장치의 제조 공정은 기판 위에 퇴적한 막을 원하는 형상으로 패터닝해서 막 패턴을 형성하는 패턴 형성 공정을 다수 포함하고 있다.
최근, 이 종류의 패턴 형성 공정에 있어서는, 생산성을 향상시키기 위해, 기판 위에 토출한 액적을 고화시킴으로써 막 패턴을 형성하는 잉크젯법이 이용되고 있다. 잉크젯법은 액적의 형상에 대응한 막 패턴을 기판 위에 형성하기 위해, 패터닝하기 위한 마스크의 형성이 필요 없다. 이 결과, 패턴 형성 공정의 공정수가 삭감된다.
그러나, 잉크젯법을 이용함으로써 막 패턴을 형성할 경우에 있어서는, 기판 위에 착탄한 액적이 그 기판의 표면 위에서 습윤 확장되지 않을 경우, 그 복수의 액적에 의해 형성되는 요철(凹凸) 형상이 막 패턴의 패턴 형상에 반영되기 때문에, 막 패턴의 평탄성이나 막 두께 균일성이 손상될 우려가 있다.
그래서, 이러한 잉크젯법에서는 기판 위에 착탄한 액적의 습윤 확장성을 향상시키는 방법이 제안되어 있다. 일본국 공개 특허 제2005-131498호 공보에서는, 액적의 토출 방향을 기판의 법선에 대하여 경사지게 함으로써, 토출하는 액적에 대하여 기판의 표면을 따르는 방향의 속도 성분을 부여하는 방법이 개시되어 있다. 이것에 의하면, 기판의 법선 방향과 액적의 토출 방향이 이루는 각도(경사각)만큼, 착탄하는 액적을 기판의 표면을 따라 습윤 확장시킬 수 있다.
상기 잉크젯법에 있어서는, 서로 다른 막 두께의 막 패턴을 형성할 경우, 액적에 대한 단위 면적당 토출량을 변경한다. 이 경우, 도 9에 나타낸 바와 같이, 각 액적(Fc)의 용량을 일정하게 유지시킨 상태에서, 액적(Fc)을 토출하는 간격, 즉 토출 피치(W)를 증감시킨다. 예를 들어, 박막의 막 패턴(FP)을 형성할 경우에는, 1 액적당 액적의 용량을 일정하게 유지시킨 상태에서, 액적 토출 노즐과 기판(Sb) 사이의 상대 속도를 증가시키거나, 토출 동작의 동작 주기를 길게 함으로써, 액적(Fc)의 토출 피치(W)를 증가시킨다. 이것에 의해, 액적 토출 동작의 안정화가 도모되고, 토출량의 재현성, 즉 막 패턴의 막 두께의 재현성이 확보된다.
그러나, 액적(Fc)의 토출 방향(A)이 기판(Sb)의 법선 방향(Z방향)에 대하여 경사진 경우에는, 착탄하는 각 액적(Fc)의 형상이 그 법선 방향과 직교하는 방향(X방향)을 따라 연장되는 장경(長徑)과, 노즐(N)의 배열 방향(Y방향)을 따르는 단경 (短徑)을 갖는 거의 타원 형상이 된다. 그 결과, 이하의 문제가 생긴다.
타원 형상을 이루는 각 액적(Fc)은 그 두께가 작기 때문에 유동성이 낮아진다. 그 결과, 액적(Fc)의 단경 방향(Y방향)에 있어서 인접하는 액적(Fc)끼리의 접합 부분의 두께가 작아져, 인접하는 노즐(N)간에 상대(相對)하는 기판(Sb) 위의 영역에서는, 액적(Fc)이 없는 부분(오목부(B))이 형성된다. 그 결과, 막 패턴(FP)에 있어서, 오목부(B)에 대응하는 영역의 막 두께가 극단적으로 얇아지기 때문에 그 막 두께 균일성이 현저하게 손상된다.
본 발명의 목적은 액적으로 이루어지는 패턴의 막 두께 균일성을 향상시킬 수 있는 패턴 형성 방법, 액적 토출 장치 및 전기 광학 장치를 제공하는 것에 있다.
또한, 본 발명의 목적은 배향막 형성 재료의 액적으로부터 형성된 배향막의 막 두께 균일성을 향상시킬 수 있는 배향막 형성 방법, 배향막 형성 장치 및 액정 표시 장치를 제공하는 것에 있다 .
상기의 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 1 형태에서는, 패턴 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법이 제공된다. 상기 패턴 형성 방법은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구로부터, 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출하는 단계와, 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을, 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구로부터 제 2 토출 방향을 따라 상기 기판 위에서의 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출하는 단계를 구비한다.
또한, 본 발명의 다른 형태에서는, 배향막 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 배향막을 형성하는 배향막 형성 방법이 제공된다. 상기 배향막 형성 방법은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구로부터, 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출하는 단계와, 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을, 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구로부터 제 2 토출 방향을 따라 상기 기판 위에서의 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출하는 단계를 구비한다.
본 발명의 또 다른 형태에서는, 패턴 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 패턴을 형성하는 액적 토출 장치가 제공된다. 상기 액적 토출 장치는 제 1 토출구 형성면과 제 2 토출구 형성면을 구비한다. 제 1 토출구 형성면은 상기 기판에 서로 대향한다. 제 1 토출구 형성면은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구를 갖는다. 제 1 토출구는 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출한다. 제 2 토출구 형성면은 상기 기판에 서로 대향한다. 제 2 토출구 형성면은 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구를 갖는다. 제 2 토출구는 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을, 제 2 토출 방향을 따라 상기 기판 위에 착탄한 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출한다.
또한, 본 발명의 다른 형태에서는 전기 광학 장치가 제공된다. 상기 전기 광학 장치는 상기 액적 토출 장치에 의해 형성된 패턴을 갖는 기판을 구비한다.
또한, 본 발명의 다른 형태에서는, 배향막 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 배향막을 형성하는 배향막 형성 장치가 제공된다. 상기 배향막 형성 장치는 제 1 토출구 형성면과 제 2 토출구 형성면을 구비한다. 제 1 토출구 형성면은 상기 기판에 서로 대향한다. 제 1 토출구 형성면은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구를 갖는다. 복수의 제 1 토출구는 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출한다. 제 2 토출구 형성면은 상기 기판에 서로 대향한다. 제 2 토출구 형성면은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구를 갖는다. 복수의 제 2 토출구는 상기 기판 위에 착탄한 상기 제 1 액적 사이의 영역에 제 2 토출 방향을 따라 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을 토출한다.
또한, 본 발명의 다른 형태에서는 액정 표시 장치가 제공된다. 상기 액정 표시 장치는 상기 배향막 형성 장치에 의해 형성된 배향막을 갖는 기판을 구비한다.
이하, 본 발명을 구체화한 1 실시예를 도 1∼도 8에 따라 설명한다. 먼저, 본 발명의 패턴 형성 방법에 의해 형성되는 배향막(27)을 갖는 전기 광학 장치로서의 액정 표시 장치(10)에 대해서 설명한다. 도 1은 액정 표시 장치(10)의 사시도이며, 도 2는 도 1의 2-2 선 단면도이다.
도 1에 있어서, 액정 표시 장치(10)는 그 하측에 LED 등의 광원(11)을 갖는 사각 판상(板狀)을 한 에지 라이트형(edge light type)의 백 라이트(back light)(12)를 구비하고 있다.
백 라이트(12)의 상방에는 그 백 라이트(12)와 거의 같은 사이즈를 갖는 사각 판상의 액정 패널(13)이 구비되어 있다. 광원(11)으로부터 출사되는 광이 액정 패널(13)을 향해 조사된다.
액정 패널(13)은 소자 기판(14)과 그 소자 기판(14)에 서로 대향하는 대향 기판(15)을 갖는다. 소자 기판(14)과 대향 기판(15)은 도 2에 나타낸 바와 같이, 광 경화성 수지로 이루어지는 사각 프레임 형상의 밀봉재(16)를 통해서 접합되어 있다. 소자 기판(14)과 대향 기판(15) 사이의 간격에는 액정(17)이 봉입되어 있다.
소자 기판(14)의 하면(下面), 즉 백 라이트(12)에 대향하는 면에는 편광판(偏光板)이나 위상차판(位相差板) 등의 광학 기판(18)이 접합되어 있다. 광학 기판(18)은 백 라이트(12)로부터의 광을 직선편광으로 하여 액정(17)에 대하여 출사한다. 소자 기판(14)의 상면, 즉 대향 기판(15)에 대향하는 면(소자 형성면(14a)) 위에는, 일 방향, 즉 X방향을 따라 연장되는 복수의 주사선(Lx)이 배열되어 있다. 각 주사선(Lx)은 소자 기판(14) 위에 배열 설치되는 주사선 구동 회로(19)에 대하여 전기적으로 접속되고, 주사선 구동 회로(19)로부터의 주사 신호가 각 주사선(Lx)에 소정의 타이밍으로 입력된다. 또한, 소자 형성면(14a) 위에는 Y방향을 따라 연장되는 복수의 데이터선(Ly)이 배열되어 있다. 각 데이터선(Ly)은 소자 기 판(14) 위에 배열 설치되는 데이터선 구동 회로(21)에 대하여 전기적으로 접속되어 있다. 표시 데이터에 기초하는 데이터 신호가 데이터선 구동 회로(21)로부터 각 데이터선(Ly)에 소정의 타이밍으로 입력된다.
소자 형성면(14a) 위이며, 주사선(Lx)과 데이터선(Ly)이 교차하는 각 위치에는 하나의 화소(22)가 형성되어 있다. 즉, 소자 형성면(14a) 위에는 복수의 화소(22)가 매트릭스 형상으로 배열되어 있다. 각 화소(22)에는 TFT 등과 같은 제어 소자(도시 생략)나, 투명 도전막 등으로 이루어지는 광 투과성의 화소 전극(23)이 구비되어 있다.
도 2에 있어서, 모든 화소(22) 위에는 러빙 처리 등에 의해 배향 처리가 실시된 배향막(24)이 적층되어 있다. 배향막(24)은 배향성 폴리이미드 등과 같은 배향성 고분자로 이루어지고, 화소 전극(23)의 근방에서 액정(17)의 배향을 소정의 배향으로 설정한다. 배향막(24)은 잉크젯법에 의해 형성되어 있다. 즉, 배향막(24)은 배향성 고분자를 소정의 용매에 용해해서 이루어지는 패턴 형성 재료, 즉 배향막 형성 재료(F)(도 6 참조)를 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)(도 6 참조)으로서 모든 화소(22) 위에 토출하고, 착탄한 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)을 건조시킴으로써 형성되어 있다.
상기 대향 기판(15) 위에는, 광학 기판(18)을 통과한 광과 직교하는 직선편광의 광을 외방(外方), 즉 도 2에서의 상방을 향해 출사시키기 위한 편광판(25)이 배열 설치되어 있다. 대향 기판(15)의 하면, 즉 소자 기판(14)에 대향하는 면(전극 형성면(15a))의 전면(全面)에는, 화소 전극(23)과 서로 대향하도록 형성된 광 투과성의 도전막으로 이루어지는 대향 전극(26)이 적층되어 있다. 대향 전극(26)은 상기 데이터선 구동 회로(21)에 대하여 전기적으로 접속되고, 그 데이터선 구동 회로(21)로부터 소정의 공통 전위가 부여된다. 대향 전극(26)의 하면 전체에는 러빙 처리 등에 의해 배향 처리가 실시된 배향막(27)이 적층되어 있다. 배향막(27)은 상기 배향막(24)과 같이 잉크젯법에 의해 형성된다. 배향막(27)은 상기 대향 전극(26)의 근방에서 액정(17)의 배향을 소정의 배향으로 설정한다.
그리고, 선 순차 주사에 의해 주사선(Lx)을 1개씩 소정의 타이밍으로 선택하고, 각 화소(22)의 제어 소자를 각각 선택 기간 동안만 온(on) 상태로 한다. 그러면, 각 제어 소자에 대응하는 화소 전극(23)에 대하여, 대응하는 데이터선(Ly) 을 통해서 표시 데이터에 기초하는 데이터 신호가 입력된다. 각 화소 전극(23)에 데이터 신호가 입력되면, 각 화소 전극(23)과 대향 전극(26) 사이의 전위차가 상기 데이터 신호에 따라 변동하고, 그 결과 화소 전극(23)과 대향 전극(26) 사이에 배치된 액정(17)의 배향 상태가 변한다. 즉, 광학 기판(18)으로부터의 광의 편향(偏向) 상태가 상기 데이터 신호에 따라서 화소(22)마다 변한다. 그리고, 편광판(25)에 대한 광의 통과가 화소(22)마다 허용 및 차단됨으로써, 표시 데이터에 기초하는 화상이 액정 패널(13)의 상측에 표시된다.
다음으로, 상기 배향막(27)(배향막(24))을 형성하기 위한 액적 토출 장치(30)를 도 3∼도 8에 따라 설명한다.
도 3에 있어서, 액적 토출 장치(30)는 본 실시예에서는 배향막 형성 장치로서, 액적 토출 장치(30)는 직방체 형상으로 형성된 베이스(31)를 구비하고 있다. 그 베이스(31)의 상면에는 동일 베이스(31)의 길이 방향, 즉 X방향을 따라 연장되는 한 쌍의 안내 홈(32)이 형성되어 있다. 베이스(31)의 상방에는 그 베이스(31)에 설치된 X축 모터(MX)(도 8의 좌측 하단 참조)의 출력축에 구동 연결되는 기판 스테이지(33)가 구비되어 있다. 기판 스테이지(33)는 상기 안내 홈(32)을 따라, 즉 X방향을 따라 소정의 속도(반송 속도(V))로 이동한다.
기판 스테이지(33)의 상면은 대향 기판(15)을 탑재 배치할 수 있도록 하는 탑재 배치면(34)으로서 기능하고, 대향 기판(15)을 기판 스테이지(33)에 대하여 위치 결정하여 고정한다. 대향 기판(15)은 대향 전극(26)을 상측으로 한 상태에서 탑재 배치면(34)에 탑재 배치된다. 또한, 본 실시예에서는 탑재 배치면(34) 위에 대향 기판(15)을 탑재 배치하지만, 이에 한정하지 않고, 상기 화소 전극(23)을 상측으로 한 상태에서 소자 기판(14)을 탑재 배치면(34)에 탑재 배치해도 된다.
베이스(31)를 Y방향에서 걸치도록, 문형(門型)의 형상을 이루는 가이드 부재(35)가 배열 설치되어 있다. 그 가이드 부재(35)에는 Y방향을 따라 연장되는 상하 한 쌍의 가이드 레일(36)이 형성되어 있다.
또한, 가이드 부재(35)에는 그 가이드 부재(35)에 설치된 Y축 모터(MY)(도 8 참조)의 출력축에 구동 연결되는 캐리지(37)가 구비되고, 그 캐리지(37)가 가이드 레일(36)을 따라 Y방향 및 Y방향과 역방향으로 이동한다. 캐리지(37)에는 상기 배향막 형성 재료(F)(도 6 참조)를 수용하는 잉크 탱크(38)가 배열 설치되어 있다. 잉크 탱크(38)에 수용되는 배향막 형성 재료(F)는 캐리지(37)의 하측에 탑재되는 제 1 헤드 유닛(Ha) 및 제 2 헤드 유닛(Hb)에 각각 도출(導出) 가능하다.
도 4는 제 1 헤드 유닛(Ha) 및 제 2 헤드 유닛(Hb)을 하방, 즉 대향 기판(15)의 측으로부터 본 개략 사시도이다. 도 5는 제 1 헤드 유닛(Ha) 및 제 2 헤드 유닛(Hb)을 Y방향으로부터 본 개략 측면도이다.
도 4에 있어서, 캐리지(37)의 하측, 즉 도 4에서의 상측에는, X방향을 따라 제 1 헤드 유닛(Ha)과 제 2 헤드 유닛(Hb)이 배열 설치되어 있다. 제 1 헤드 유닛(Ha) 및 제 2 헤드 유닛(Hb)은 각각 Y방향을 따라 연장되는 직방체 형상의 지지 스테이지(39a) 및 병진 스테이지(39b)를 구비하고 있다.
지지 스테이지(39a)의 하면, 즉 도 4에서의 상면에는 단면(斷面) 원호 형상의 오목 곡면인 제 1 가이드면(P1a)이 지지 스테이지(39a)의 Y방향의 거의 전폭에 걸쳐 형성되어 있다. 제 1 가이드면(P1a)의 곡률 중심(Ca)(도 5 참조)은 지지 스테이지(39a)의 바로 아래이며, 또한 기판 스테이지(33)에 탑재 배치된 상태의 대향 전극(26)의 상면을 따르는 위치에 있다.
병진 스테이지(39b)의 하면, 즉 도 4에서의 상면에는 단면 원호 형상의 오목 곡면인 제 2 가이드면(P1b)이 형성되어 있다. 병진 스테이지(39b)는 제 2 가이드면(P1b)이 X방향 및 Y방향을 따라 병진하는 것을 허용하는(XY) 스테이지이다. 병진 스테이지(39b)는 캐리지(37)에 내장되는 병진 모터(MT)(도 8 참조)의 출력축에 구동 연결되고, 그 병진 모터(MT)의 구동력을 받아 제 2 가이드면(P1b)을 X방향 및 Y방향을 따라 병진시킨다. 제 2 가이드면(P1b)은 제 1 가이드면(P1a)과 동일하게 그 곡률 중심(Cb)(도 5 참조)이 병진 스테이지(39b)의 바로 아래이며, 또한 기판 스테이지(33)에 탑재 배치된 상태의 대향 전극(26)의 상면을 따르는 위치에 있다.
도 4에 있어서, 지지 스테이지(39a)의 제 1 가이드면(P1a) 위에는 제 1 경동(傾動) 기구를 구성하는 제 1 경동 스테이지(40a)가 Y방향을 따라 연장되도록 배열 설치되어 있다. 병진 스테이지(39b)의 제 2 가이드면(P1b)에는 제 2 경동 기구를 구성하는 제 2 경동 스테이지(40b)가 Y방향을 따라 연장되도록 배열 설치되어 있다.
제 1 경동 스테이지(40a)는 캐리지(37)와 대향하는 쪽의 면, 즉 도 4에서의 하면에, 제 1 가이드면(P1a)에 대응하는 볼록 곡면(凸曲面)을 이루는 제 1 슬라이딩면(P2a)을 갖고, 그 제 1 슬라이딩면(P2a)과 반대쪽의 면, 즉 도 4에서의 상면에, 대향 기판(15)을 따라 평행하게 연장되는 제 1 부착면(P3a)을 갖고 있다.
마찬가지로, 제 2 경동 스테이지(40b)는 캐리지(37)와 대향하는 쪽의 면, 즉 도 4에서의 하면에, 제 2 가이드면(P1b)에 대응하는 볼록 곡면을 이루는 제 2 슬라이딩면(P2b)을 갖고, 그 제 2 슬라이딩면(P2b)과 반대쪽의 면, 즉 도 4에서의 상면에, 대향 기판(15)을 따라 평행하게 연장되는 제 2 부착면(P3b)을 갖고 있다.
제 1 경동 스테이지(40a) 및 제 2 경동 스테이지(40b)는 각각 캐리지(37)에 내장되는 제 1 경동 모터(MDa) 및 제 2 경동 모터(MDb)(도 8 참조)의 출력축에 구동 연결되어 있다. 제 1 경동 스테이지(40a)는 제 1 경동 모터(MDa)의 구동력을 받아 제 1 슬라이딩면(P2a)을 제 1 가이드면(P1a)을 따라 슬라이딩(회동)시킨다. 제 2 경동 스테이지(40b)는 제 2 경동 모터(MDb)의 구동력을 받아 제 2 슬라이딩면(P2b)을 제 2 가이드면(P1b)을 따라 슬라이딩(회동)시킨다.
즉, 제 1 경동 스테이지(40a)는 제 1 슬라이딩면(P2a)과 제 1 가이드면(P1a) 이 동일면 내에 존재하도록 대향 전극(26) 위에 위치하는 곡률 중심(Ca)을 통과하는 경동축(제 1 경동축)을 회동 중심으로 하여, 대응하는 제 1 부착면(P3a)을 대향 기판(15)에 대하여 경동시킨다.
또한, 제 2 경동 스테이지(40b)는 제 2 슬라이딩면(P2b)과 제 2 가이드면(P1b)이 동일면 내에 존재하도록 대향 전극(26) 위에 위치하는 곡률 중심(Cb)을 통과하는 경동축(제 2 경동축)을 회동 중심으로 하여, 대응하는 제 2 부착면(P3b)을 대향 기판(15)에 대하여 경동시킨다.
제 1 부착면(P3a)을 경동시키기 위한 신호가 제 1 경동 모터(MDa)에 공급되면, 제 1 경동 모터(MDa)가 소정의 회전수만큼 정회전 또는 역회전한다. 이 결과, 제 1 경동 스테이지(40a)의 제 1 부착면(P3a)이 곡률 중심(Ca)을 중심으로 하여 경동한다. 또한, 제 2 부착면(P3b)을 경동시키기 위한 신호가 제 2 경동 모터(MDb)에 공급되면 제 2 경동 모터(MDb)가 소정의 회전수만큼 정회전 구동 또는 역회전 구동한다. 이 결과, 제 2 경동 스테이지(40b)의 제 2 부착면(P3b)이 곡률 중심(Cb)을 중심으로 하여 경동한다.
또한, 본 실시예에서는 도 5에서의 실선으로 나타낸 바와 같이, 제 1 경동 스테이지(40a)의 배치 위치에서, 제 1 부착면(P3a)의 법선 방향(이하, 제 1 토출 방향(Aa)이라고 함)과 대향 기판(15)의 법선 방향(Z방향)이 평행한 배치 위치를 초기 위치라고 정의한다. 또한, 도 5에서의 2점쇄선으로 나타낸 바와 같이, 제 1 경동 스테이지(40a)의 배치 위치에서, 제 1 토출 방향(Aa)이 Z방향에 대하여 오른쪽 방향으로 소정의 각도(제 1 경사각(θa))만큼 경사진 상태의 배치 위치를 경사 위 치라고 정의한다.
또한, 도 5에서의 실선으로 나타낸 바와 같이, 제 2 경동 스테이지(40b)의 배치 위치에서, 제 2 부착면(P3b)의 법선 방향(이하, 제 2 토출 방향(Ab)이라고 함)과 대향 기판(15)의 법선 방향(Z방향)이 평행한 배치 위치를 초기 위치라고 정의한다. 또한, 도 5에서의 2점쇄선으로 나타낸 바와 같이, 제 2 경동 스테이지(40b)의 배치 위치에서, 제 2 토출 방향(Ab)이 Z방향에 대하여 오른쪽 방향으로 소정의 각도(제 2 경사각(θb))만큼 경사진 상태의 배치 위치를 경사 위치라고 정의한다.
도 4에 있어서, 제 1 부착면(P3a)에는 Y방향을 따라 연장되는 직방체 형상을 이루는 제 1 액적 토출 헤드(이하 간단히, 제 1 토출 헤드라고 함)(41a)가 구비되어 있고, 제 2 부착면(P3b)에는 Y방향을 따라 연장되는 직방체형 모양을 이루는 제 2 액적 토출 헤드(이하 간단히, 제 2 토출 헤드라고 함)(41b)가 구비되어 있다. 제 1 토출 헤드(41a)의 하측(도 4에서 상측)에는 제 1 노즐 플레이트(42a)가 구비되어 있고, 제 2 토출 헤드(41b)의 하측(도 4에서 상측)에는 제 2 노즐 플레이트(42b)가 구비되어 있다. 제 1 노즐 플레이트(42a)의 대향 기판(15) 측(도 4에서의 상측)에는 제 1 부착면(P3a)에 대하여 평행한 제 1 노즐 형성면(P4a)(제 1 토출구 형성면)이 형성되어 있다. 제 1 노즐 형성면(P4a)에는 제 1 토출구로서의 복수의 제 1 노즐(Na)이 화살표 Y방향을 따라 동일한 간격의 피치(노즐 피치(NW))로 배열되도록 형성되어 있다.
마찬가지로, 제 2 노즐 플레이트(42b)의 대향 기판(15) 측(도 4에서의 상측) 에는 제 2 부착면(P3b)에 대하여 평행한 제 2 노즐 형성면(P4b)(제 2 토출구 형성면)이 형성되어 있다. 제 2 노즐 형성면(P4b)에는 제 2 토출구로서의 복수의 제 2 노즐(Nb)이 화살표 Y방향을 따라 동일한 간격의 피치(노즐 피치(NW))로 배열되도록 형성되어 있다.
또한, 도 4에서는 각 제 2 노즐(Nb)이 X방향으로부터 보아, Y방향을 따라 제 1 노즐(Na)의 노즐 피치(NW)의 반 정도만큼 변위하도록 병진 스테이지(39b)가 병진되어 있다.
도 5에 있어서, 제 1 노즐(Na) 및 제 2 노즐(Nb)은 각각 제 1 노즐 형성면(P4a) 및 제 2 노즐 형성면(P4b)의 법선 방향, 즉 상기 제 1 토출 방향(Aa) 및 제 2 토출 방향(Ab)을 따라 연장되도록 형성되어 있다.
제 1 노즐(Na)은 제 1 경동 스테이지(40a)가 초기 위치에 위치할 때에, 곡률 중심(Ca)에 대하여 Z방향(제 1 토출 방향(Aa)과 반대 방향) 쪽에 위치하도록 배열 설치되어 있다. 제 2 노즐(Nb)은 제 2 경동 스테이지(40b)가 초기 위치에 위치할 때에, 곡률 중심(Cb)에 대하여 Z방향(제 2 토출 방향(Ab)과 반대 방향) 쪽에 위치하도록 배열 설치되어 있다.
본 실시예에서는 곡률 중심(Ca) 위이며, 또한 각 제 1 노즐(Na)로부터 제 1 토출 방향(Aa)으로 진행된 위치를 제 1 착탄 위치(Pa)라고 정의한다. 또한, 곡률 중심(Cb) 위이며, 또한 각 제 2 노즐(Nb)로부터 제 2 토출 방향(Ab)으로 진행된 위치를 제 2 착탄 위치(Pb)라고 정의한다.
제 1 경동 모터(MDa)(제 2 경동 모터(MDb))가 정회전하면, 제 1 경동 스테이 지(40a)(제 2 경동 스테이지(40b))가 초기 위치로부터 경사 위치로 이동한다. 그러면, 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))은 도 6에 나타낸 바와 같이, 각각 제 1 착탄 위치(Pa)(제 2 착탄 위치(Pb))를 회동 중심으로 하여 오른쪽 방향으로 회동한다. 그 결과, 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))이 연장되는 방향, 즉 제 1 토출 방향(Aa)(제 2 토출 방향(Ab))은 대향 기판(15)의 법선(Z방향)에 대하여 제 1 경사각(θa)(제 2 경사각(θb))만큼 경사진다. 각 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))이 연장되는 방향이 경사짐으로써, 각 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))과 그것에 대응하는 제 1 착탄 위치(Pa)(제 2 착탄 2 착(Pb)) 사이의 거리를 소정의 비행 거리(L)로 유지할 수 있다. 즉, 액적 토출 장치(30)는 제 1 토출 방향(Aa)(제 2 토출 방향(Ab))을 변경해도, 제 1 노즐(Na)로부터 토출되는 제 1 액적(Fa)(제 2 액적(Fb))의 착탄 정밀도를 유지할 수 있도록 구성되어 있다.
도 6에 있어서, 제 1 액적 토출 헤드(41a)(제 2 액적 토출 헤드(41b))는 각 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))에 연통(連通)하면서 상기 잉크 탱크(38)에 연통하는 캐비티(43)를 갖고, 그 캐비티(43)를 통해서 잉크 탱크(38)로부터의 배향막 형성 재료(F)가 대응하는 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))에 공급된다. 제 1 액적 토출 헤드(41a)(제 2 액적 토출 헤드(41b))는 각 캐비티(43)와 대응하는 진동판(44)을 갖고, 그 진동판(44)은 제 1 토출 방향(Aa)(제 2 토출 방향(Ab)) 및 그 반대의 방향으로 진동 가능하다. 진동판(44)의 진동에 의해 대응하는 캐비티(43) 내의 용적이 확대 및 축소된다. 진동판(44)의 상측에는 각 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))에 대응하는 제 1 압전 소자(PZa)(제 2 압전 소자(PZb))가 배열 설치되어 있다. 각 제 1 압전 소자(PZa)(제 2 압전 소자(PZb))는 압전 소자 구동 신호(COM)(도 8 참조)를 받아 수축 및 신장함으로써 대응하는 진동판(44)을 진동시킨다.
제 1 경동 모터(MDa)(제 2 경동 모터(MDb))를 구동 제어하고, 제 1 경동 스테이지(40a)(제 2 경동 스테이지(40b))를 소정의 경사 위치로 이동시켜, 소정의 제 1 압전 소자(PZa)(제 2 압전 소자(PZb))에 대하여 압전 소자 구동 신호(COM)를 공급한다. 그러면, 상기 소정의 제 1 압전 소자(PZa)(제 2 압전 소자(PZb))에 대응하는 캐비티(43)의 용적이 확대 및 축소되고, 대응하는 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb)) 내의 배향막 형성 재료(F)의 계면(界面), 즉 메니스커스가 진동한다. 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Na)) 내의 메니스커스가 진동하면, 도 6에 나타낸 바와 같이, 압전 소자 구동 신호(C0M)에 대응하는 소정 중량의 배향막 형성 재료(F)가 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))로부터 제 1 액적(Fa)(제 2 액적(Fb))으로서 토출된다. 토출되는 제 1 액적(Fa)(제 2 액적(Fb))은 제 1 노즐(Na)(제 2 노즐(Nb))의 방향, 즉 제 1 토출 방향(Aa)(제 2 토출 방향(Ab))을 따라 소정의 토출 속도(Vf)로 비행하고, 대향 전극(26) 위의 제 1 착탄 위치(Pa)(제 2 착탄 위치(Pb))에 착탄한다.
이때, 토출 속도(Vf)로 비행하는 제 1 액적(Fa)(제 2 액적(Fb))에는, X방향과 반대 방향의 속도 성분으로서, 제 1 접선 속도(Vfa)(제 2 접선 속도(Vfb))가 부여된다. 게다가, 기판 스테이지(33)가 X방향으로 소정의 반송 속도(V)로 이동하고 있으므로, 그 기판 스테이지(33) 위의 대향 전극(26)을 향해 비행하는 제 1 액적(Fa)(제 2 액적(Fb))에는, X방향과 반대 방향으로의 속도 성분으로서, 또한 반송 속도(V)에 대응하는 속도 성분이 부여되는 것과 같은 결과가 된다. 그 때문에 제 1 액적(Fa)(제 2 액적(Fb))은 제 1 접선 속도(Vfa)(제 2 접선 속도(Vfb))와 반송 속도(V)에 대응하는 속도 성분을 가산한 속도에 따라 제 1 착탄 위치(Pa)(제 2 착탄 위치(Pb))로부터 X방향과 반대의 방향을 따라, 습윤 확장된다.
즉, 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)은 각각 대응하는 제 1 토출 방향(Aa) (경사각(θa)) 및 제 2 토출 방향(Ab)(경사각(θb))을 따라 착탄 형상을 나타낸다.
여기서, 도 7에 나타낸 바와 같이, 대향 전극(26) 위의 상기 배향막(27)이 형성되어야 할 영역에는, 상기 제 1 액적(Fa)을 착탄시키기 위한 격자점(제 1 목표위치(Ta))과, 상기 제 2 액적(Fb)을 착탄시키기 위한 격자점(제 2 목표 위치(Tb))이 설정된다.
상술하면, 대향 전극(26) 위에서, Y방향을 따른 간격이 상기 노즐 피치(NW)가 되도록, 또한, X방향을 따른 간격이 소정의 간격(토출 피치(W))이 되도록 제 1 목표 위치(Ta)가 설정된다. 또한, 그 제 1 목표 위치(Ta)로부터 Y방향을 따라 상기 노즐 피치(NW)의 반 정도의 거리만큼 이간(離間)하는 위치에 각각 제 2 목표 위치(Tb)가 설정된다.
또한, 상기 토출 피치(W)는 배향막(27)의 목표 막 두께와 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)의 용량으로부터 산출되는 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)의 수량(목표 토출 수량)에 기초하여 배향막(27)이 형성되어야 할 영역에 대하여, 그 목표 토출 수량분의 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)이 토출되도록 설정된다.
계속해서, 대향 기판(15)이 X방향으로 반송될 때에, 각 제 1 착탄 위치(Pa)가 각각 상기 제 1 목표 위치(Ta)의 경로 위를 따르도록 Y축 모터(MY)를 구동 제어 하여 캐리지(37)의 위치를 조정한다. 또한, 대향 기판(15)이 X방향으로 반송될 때에, 각 제 2 착탄 위치(Pb)가 각각 상기 제 2 목표 위치(Tb)의 경로 위를 따르도록 병진 모터(MT)를 구동 제어하여 병진 스테이지(39b)의 위치를 조정한다.
또한, 제 1 경동 스테이지(40a) 및 제 2 경동 스테이지(40b)가 각각 소정의 경사 위치 및 초기 위치에 위치하도록 제 1 경동 모터(MDa) 및 제 2 경동 모터(MDb)를 구동 제어한다.
이때, 착탄한 제 1 액적(Fa)의 X방향을 따른 착탄 직경이 상기 토출 피치(W)보다도 커지도록, 또한, 착탄한 제 1 액적(Fa)의 Y방향을 따른 착탄 직경이 상기 노즐 피치(NW)보다도 커지도록, 미리 시험 등에 기초하여 제 1 경동 스테이지(40a)의 경사 위치(경사각(θa))가 설정된다.
다음으로, X축 모터(MX)를 구동 제어하여 기판 스테이지(33)(대향 전극(26))를 X방향으로 반송한다. 이때, 제 1 목표 위치(Ta)가 각각 제 1 착탄 위치(Pa)에 위치할 때마다, 각 제 1 압전 소자(PZa)에 대하여 압전 소자 구동 신호(C0M)를 공급한다.
그러면, 도 7에 나타낸 바와 같이, 각 제 1 노즐(Na)로부터 토출된 제 1 액적(Fa)이 각각 대응하는 제 1 목표 위치(Ta)에 순차적으로 착탄하고, 착탄한 각 제 1 액적(Fa)은 제 1 토출 방향(Aa)(경사각(θa))에 대응하는 방향으로 확장되어, X방향으로 연장되는 타원 형상을 나타낸다. 타원 형상으로 확장되는 각 제 1 액적(Fa)은 그 두께가 작기 때문에 유동성이 낮아진다. 그 때문에 착탄한 각 제 1 액적(Fa)은 단경 방향(화살표 Y방향) 측의 부위에서 두께가 작아져, Y방향을 따라 인접하는 제 1 액적(Fa) 사이의 영역, 즉 상기 제 2 목표 위치(Tb)의 영역에는 제 1 액적(Fa)이 배치되지 않는 거의 다이아몬드형 형상을 이루는 영역인 오목부(B)가 형성된다.
제 2 목표 위치(Tb)가 각각 제 2 착탄 위치(Pb)에 위치할 때마다, 각 제 2 압전 소자(PZb)에 대하여 압전 소자 구동 신호(C0M)가 공급된다.
그 결과, 도 7에 나타낸 바와 같이, 각 제 2 노즐(Nb)로부터 토출된 제 2 액적(Fb)이 각각 대응하는 제 2 목표 위치(Tb)에 순차적으로 착탄하고, 착탄한 각 제 2 액적(Fb)은 상기 오목부(B)를 덮도록 제 2 목표 위치(Tb)를 중심으로 하는 반구(半球) 형상을 나타낸다. 반구 형상을 나타내는 제 2 액적(Fb)은 그 높은 유동성에 의해, 오목부(B) 및 그 오목부(B) 근방의 제 1 액적(Pa)의 영역을 평탄화시킨다. 대향 전극(26)에 착탄하는 각 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)은 오목부(B)에 대응한 제 2 액적(Fb)의 충전에 의해 균일한 막 두께를 갖는 액상막(LF)이 된다.
다음으로, 상기한 바와 같이 구성한 액적 토출 장치(30)의 전기적 구성을 도 8에 따라 설명한다.
도 8에 있어서, 제 1 경동 정보 생성부 및 제 2 경동 정보 생성부를 구성하는 제어 장치(51)에는 제어부를 구성하는 CPU, RAM, ROM 등이 구비되어 있다. 제어 장치(51)는 RAM이나 ROM 등에 저장된 각종 데이터 및 각종 프로그램에 따라 기판 스테이지(33) 및 캐리지(37)를 이동시키는 동시에, 제 1 헤드 유닛(Ha) 및 제 2 헤드 유닛(Hb)을 구동 제어한다.
제어 장치(51)에는, 파형 데이터(VD), 토출 피치 데이터(WD), 경사각 데이 터(RD), 제 1 묘화 데이터(BMa), 제 2 묘화 데이터(BMb), 제 1 경동 데이터(DaD), 제 2 경동 데이터(DbD) 및 병진 데이터(TD)가 저장되어 있다.
파형 데이터(VD)는 제 1 압전 소자(PZa) 및 제 2 압전 소자(PZb)에 각각 공급되는 압전 소자 구동 신호(C0M)의 전압 파형을 규정한 데이터이다. 파형 데이터(VD)는 미리 시험 등에 기초하여 설정되어, 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)의 중량을 각각 소정의 값으로 안정시키기 위한 데이터이다.
토출 피치 데이터(WD)는 배향막(27)의 목표 막 두께에 따라 토출 피치(W)를 결정하기 위한 데이터이다. 토출 피치 데이터(WD)는 토출 피치(W)로 토출되는 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)의 수량이 목표 막 두께에 기초하여 산출되는 상기 목표 토출 수량이 되도록 설정되어 있다.
경사각 데이터(RD)는 토출 피치(W)에 기초하여 제 1 경사각(θa) 및 제 2 경사각(θb)을 결정하기 위해서 이용된다. 이 경사각 데이터(RD)는 미리 시험 등에 기초하여 설정되어, 제 1 경사각(θa)에서 착탄하는 제 1 액적(Fa)의 장경이 토출 피치(W)보다도 크고, 또한 그 단경이 노즐 피치(NW)보다도 커지도록 설정되어 있다. 또한, 경사각 데이터(RD)는 오목부(B)에 대하여 동일 오목부(B)를 덮도록 착탄 형상을 나타내는 제 2 액적(Fb)을 토출시키기 위한 제 2 경사각(θb)에 관한 데이터이다.
제 1 묘화 데이터(BMa) 및 제 2 묘화 데이터(BMb)는 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)를 포함하는 대향 전극(26) 위의 격자점에, 각각 각 피치의 값(0 또는 1)을 대응시킨 데이터로서, 각 비트의 값에 따라 각각 제 1 압전 소 자(PZa) 및 제 2 압전 소자(PZb)의 온(on) 또는 오프(off)를 규정한 것이다. 환언하면, 제 1 묘화 데이터(BMa)는 제 1 착탄 위치(Pa)가 대응하는 제 1 목표 위치(Ta)에 위치할 때마다 제 1 액적(Fa)을 토출시키도록 규정되어 있다. 제 2 묘화 데이터(BMb)는 제 2 착탄 위치(Pb)가 대응하는 제 2 목표 위치(Tb)에 위치할 때마다 제 2 액적(Fb)을 토출시키도록 규정되어 있다.
제 1 경동 데이터(DaD)는 제 1 경사각(θa)을 제 1 경동 모터(MDa)의 회전수에 대응시킨 데이터로서, 제 1 경사각(θa)에 기초하여 제 1 경동 모터(MDa)를 구동하기 위해서 이용된다. 마찬가지로, 제 2 경동 데이터(DbD)는 제 2 경사각(θb)을 제 2 경동 모터(MDb)의 회전수에 대응시킨 데이터로서, 제 2 경사각(θb)에 기초하여 제 2 경동 모터(MDb)를 구동하기 위해서 이용된다.
병진 데이터(TD)는 제 2 토출 헤드(41b)(제 2 노즐(Nb))의 병진량을 병진 모터(MT)의 회전수에 대응시킨 데이터로서, 제 2 토출 헤드(41b)를 병진시키기 위해서 이용된다. 또한, 본 실시예의 병진 데이터(TD)는 Y방향으로부터 본 제 2 노즐(Nb)의 위치가 각각 제 1 노즐(Na)의 Y방향으로 노즐 피치(NW)의 반 정도만큼 변위하도록 설정되어 있다.
제어 장치(51)에는, 입력 장치(52), X축 모터 구동 회로(53), Y축 모터 구동 회로(54), 제 1 경동 기구 구동 회로(55), 제 1 헤드 구동 회로(56), 병진 기구 구동 회로(57), 제 2 경동 기구 구동 회로(58) 및 제 2 헤드 구동 회로(59)가 접속되어 있다.
입력 장치(52)는 기동 스위치, 정지 스위치 등의 조작 스위치를 갖고 있어, 각종 조작 신호를 제어 장치(51)에 출력하는 동시에, 배향막(27)의 목표 막 두께에 관한 정보를 미리 정해진 형식의 막 두께 정보(It)로서 제어 장치(51)에 출력한다. 제어 장치(51)는 막 두께 정보(It)를 입력 장치(52)로부터 입력하면, 토출 피치 데이터(WD)에 기초하여 목표 막 두께에 대응하는 토출 피치(W), 즉 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)의 위치 좌표를 연산한다. 또한, 제어 장치(51)는 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)의 위치 좌표를 연산하면, 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)의 위치 좌표에 기초하여 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)을 토출시키기 위한 제 1 묘화 데이터(BMa), 제 2 묘화 데이터(BMb), 제 1 경동 데이터(DaD) 및 제 2 경동 데이터(DbD)를 생성해서 저장한다.
X축 모터 구동 회로(53)는 제어 장치(51)로부터의 X축 모터 구동 회로(53)에 대응하는 구동 제어 신호에 응답하여, X축 모터(MX)를 정회전 또는 역회전시킨다. X축 모터 구동 회로(53)에는 X축 모터(MX)에 구비되는 회전 검출기(MEX)로부터의 검출 신호가 입력된다. X축 모터 구동 회로(53)는 회전 검출기(MEX)로부터의 검출 신호에 기초하여 기판 스테이지(33)(대향 기판(15))의 이동 방향 및 이동량을 연산하는 동시에, 기판 스테이지(33)의 현재 위치에 관한 정보를 기판 위치 정보(SPI)로서 생성한다. 제어 장치(51)는 X축 모터 구동 회로(53)로부터의 기판 위치 정보(SPI)를 받아 각종 신호를 출력한다.
Y축 모터 구동 회로(54)는 제어 장치(51)로부터의 Y축 모터 구동 회로(54)에 대응하는 구동 제어 신호에 응답하여 Y축 모터(MY)를 정회전 또는 역회전시킨다. Y축 모터 구동 회로(54)에는 Y축 모터(MY)에 구비된 회전 검출기(MEY)로부터의 검 출 신호가 입력된다. Y축 모터 구동 회로(54)는 회전 검출기(MEY)로부터의 검출 신호에 기초하여 캐리지(37)(제 1 헤드 유닛(Ha) 및 제 2 헤드 유닛(Hb))의 이동 방향 및 이동량을 연산하는 동시에, 캐리지(37)의 현재 위치에 관한 정보를 캐리지 위치 정보(CPI)로서 생성한다. 제어 장치(51)는 Y축 모터 구동 회로(54)로부터의 캐리지 위치 정보(CPI)를 받아 각종 구동 신호를 출력한다.
상술하면, 대향 기판(15)이 캐리지(37)의 바로 아래에 침입하기 전에, 제어 장치(51)는 기판 위치 정보(SPI) 및 캐리지 위치 정보(CPI)에 기초하여 대향 기판(15)의 1주사분(왕동(往動) 또는 복동(復動))에 대응하는 제 1 묘화 데이터(BMa)를 작성하는 동시에, 그 제 1 묘화 데이터(BMa)에 기초하여 소정의 클록 신호에 동기(同期)시킨 제 1 토출 제어 신호(SIa)를 생성한다. 또한, 제어 장치(51)는 대향 기판(15)의 1주사분(왕동 또는 복동)에 대응하는 제 2 묘화 데이터(BMb)에 기초하여 소정의 클록 신호에 동기시킨 제 2 토출 제어 신호(SIb)를 생성한다.
그리고, 제어 장치(51)는 캐리지(37)가 이동해서 대향 기판(15)을 주사할 때마다, 제 1 토출 제어 신호(SIa) 및 제 2 토출 제어 신호(SIb)를 각각 제 1 헤드 구동 회로(56) 및 제 2 헤드 구동 회로(59)에 순차적으로 시리얼 전송한다.
또한, 제어 장치(51)는 제 1 착탄 위치(Pa)가 제 1 목표 위치(Ta)에 위치할 때마다, 기판 위치 정보(SPI)에 기초하여 대응하는 제 1 압전 소자(PZa)를 구동시키기 위한 제 1 토출 타이밍 신호(LPa)를 생성한다. 또한, 제어 장치(51)는 제 2 착탄 위치(Pb)가 제 2 목표 위치(Tb)에 위치할 때마다, 기판 위치 정보(SPI)에 기초하여 대응하는 제 2 압전 소자(PZb)를 구동시키기 위한 제 2 토출 타이밍 신 호(LPb)를 생성한다. 제어 장치(51)는 생성한 제 1 토출 타이밍 신호(LPa)를 제 1 헤드 구동 회로(56)에, 또한, 제 2 토출 타이밍 신호(LPb)를 제 2 헤드 구동 회로(59)에 차례로 출력한다.
제 1 경동 기구 구동 회로(55)는 제어 장치(51)로부터의 제 1 경동 데이터(DaD)에 응답하여 제 1 경동 모터(MDa)를 정회전 또는 역회전시킨다.
제 1 헤드 구동 회로(56)에는 제 1 압전 소자(PZa)가 접속되는 동시에, 제어 장치(51)로부터의 파형 데이터(VD), 제 1 토출 제어 신호(SIa) 및 제 1 토출 타이밍 신호(LPa)가 공급된다. 제 1 헤드 구동 회로(56)는 제어 장치(51)로부터의 제 1 토출 제어 신호(SIa)를 받아 그 제 1 토출 제어 신호(SIa)를 각 제 1 압전 소자(PZa)에 대응하도록 순차적으로 시리얼/패럴렐 변환한다. 그리고, 제 1 헤드 구동 회로(56)는 제어 장치(51)로부터의 제 1 토출 타이밍 신호(LPa)를 받을 때마다, 시리얼/패럴렐 변환된 제 1 토출 제어 신호(SIa)에 기초하여 파형 데이터(VD)에 기초하는 압전 소자 구동 신호(COM)를 선택된 제 1 압전 소자(PZa)에 공급한다. 즉, 제 1 헤드 구동 회로(56)는 각 제 1 착탄 위치(Pa)가 제 1 목표 위치(Ta)에 위치할 때마다, 대응하는 제 1 압전 소자(Pza)에 압전 소자 구동 신호(C0M)를 공급한다.
병진 기구 구동 회로(57)는 제어 장치(51)로부터의 병진 데이터(TD)에 응답하여 병진 모터(MT)를 정회전 또는 역회전시킨다. 제 2 경동 기구 구동 회로(58)는 제어 장치(51)로부터의 제 2 경동 데이터(DbD)에 응답하여 제 2 경동 모터(MDb)를 정회전 또는 역회전시킨다.
제 2 헤드 구동 회로(59)에는 제 2 압전 소자(PZb)가 접속되고, 제어 장 치(51)로부터의 파형 데이터(VD), 제 2 토출 제어 신호(SIb) 및 제 2 토출 타이밍 신호(LPb)가 공급된다. 제 2 헤드 구동 회로(59)는 제어 장치(51)로부터의 제 2 토출 제어 신호(SIb)를 받아 그 제 2 토출 제어 신호(SIb)를 각 제 2 압전 소자(PZb)에 대응하도록 순차적으로 시리얼/패럴렐 변환한다. 그리고, 제 2 헤드 구동 회로(59)는 제어 장치(51)로부터의 제 2 토출 타이밍 신호(LPb)를 받을 때마다, 시리얼/패럴렐 변환한 제 2 토출 제어 신호(SIb)에 기초하여 파형 데이터(VD)에 기초하는 압전 소자 구동 신호(COM)를 선택된 제 2 압전 소자(PZb)에 공급한다. 즉, 제 2 헤드 구동 회로(59)는 각 제 2 착탄 위치(Pb)가 제 2 목표 위치(Tb)에 위치할 때마다, 대응하는 제 2 압전 소자(PZb)에 압전 소자 구동 신호(COM)를 공급한다.
다음으로, 상기한 액적 토출 장치(30)를 사용해서 대향 기판(15)에 배향막(27)을 형성하는 방법에 대해서 설명한다.
먼저, 도 3에 나타낸 바와 같이, 기판 스테이지(33) 위에 대향 기판(15)을 탑재 배치한다. 이때, 기판 스테이지(33)는 캐리지(37)에 대하여 X방향과 반대 방향 측에 배치되고, 캐리지(37)는 가이드 부재(35)의 Y방향과 반대 방향에 위치하는 단부에 배치되어 있다.
이 상태로부터 입력 장치(52)를 조작해서 막 두께 정보(It)를 제어 장치(51)에 입력한다. 그러면, 제어 장치(51)는 토출 피치 데이터(WD)를 참조하여, 막 두께 정보(It)(목표 막 두께)에 대응하는 토출 피치(W), 즉 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)의 위치 좌표를 연산한다. 또한, 제어 장치(51)는 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)의 위치 좌표에 기초하여 제 1 묘화 데이터(BMa), 제 2 묘화 데이터(BMb), 제 1 경동 데이터(DaD) 및 제 2 경동 데이터(DbD)를 생성해서 저장한다.
제어 장치(51)는 제 1 경동 데이터(DaD)를 생성하면, 제 1 경동 기구 구동 회로(55)를 통하여 제 1 경동 스테이지(40a)를 제 1 경동 데이터(DaD)에 기초한 경사 위치에 세팅한다. 제어 장치(51)는 제 2 경동 데이터(DbD)를 생성하면, 제 2 경동 기구 구동 회로(58)를 통하여 제 2 경동 스테이지(40b)를 제 2 경동 데이터(DbD)에 기초한 초기 위치에 세팅한다. 제 1 경동 스테이지(40a) 및 제 2 경동 스테이지(40b)가 세팅되면, 제어 장치(51)는 병진 기구 구동 회로(57)를 통하여 Y방향으로부터 본 제 2 노즐(Nb)의 위치가 각각 제 1 노즐(Na)의 Y방향으로 노즐 피치(NW)의 반 정도만큼 변위하도록 병진 스테이지(39b)를 세팅한다.
제 1 경동 스테이지(40a), 제 2 경동 스테이지(40b) 및 병진 스테이지(39b)가 세팅되면, 제어 장치(51)는 Y축 모터(MY)를 구동 제어하고, 대향 기판(15)이 X방향으로 반송될 때에, 각 제 1 착탄 위치(Pa) 및 각 제 2 착탄 위치(Pb)가 각각 대응하는 제 1 목표 위치(Ta) 및 제 2 목표 위치(Tb)의 경로 위를 따른 위치에 배치되도록 캐리지(37)를 세팅한다. 캐리지(37)가 세팅되면, 제어 장치(51)는 X축 모터(MX)를 구동 제어하고, 기판 스테이지(33)(대향 기판(15))의 X방향으로의 주사를 개시시킨다.
이때, 제어 장치(51)는 파형 데이터(VD)를 소정의 클록 신호에 동기시켜서, 제 1 헤드 구동 회로(56) 및 제 2 헤드 구동 회로(59)에 출력한다. 또한, 제어 장치(51)는 대향 기판(15)의 일 주사분에 대응하는 제 1 묘화 데이터(BMa) 및 제 2 묘화 데이터(BMb)를 각각 소정의 클록 신호에 동기시킴으로써, 제 1 토출 제어 신호(SIa) 및 제 2 토출 제어 신호(SIb)를 생성한다. 또한, 제어 장치(51)는 제 1 토출 제어 신호(SIa)를 제 1 헤드 구동 회로(56)에, 또한, 제 2 토출 제어 신호(SIb)를 제 2 헤드 구동 회로(59)에 각각 시리얼 전송한다.
제어 장치(51)는 기판 위치 정보(SPI) 및 캐리지 위치 정보(CPI)에 기초하여, 제 1 착탄 위치(Pa)가 대응하는 제 1 목표 위치(Ta)에 위치할 때마다, 제 1 헤드 구동 회로(56)에 대하여 제 1 토출 타이밍 신호(LPa)를 출력한다. 또한, 제어 장치(51)는 제 2 착탄 위치(Pb)가 대응하는 제 2 목표 위치(Tb)에 위치할 때마다, 제 2 헤드 구동 회로(59)에 대하여 제 2 토출 타이밍 신호(Lpb)를 출력한다.
제 1 토출 타이밍 신호(LPa)를 출력하면, 제어 장치(51)는 제 1 헤드 구동 회로(56)를 통하여 제 1 토출 제어 신호(SIa)에 기초하는 액적 토출 동작을 실행한다. 즉, 제어 장치(51)는 제 1 착탄 위치(Pa)가 대응하는 제 1 목표 위치(Ta)에 위치할 때마다, 대응하는 제 1 압전 소자(PZa)에 압전 소자 구동 신호(C0M)를 공급하고, 대응하는 제 1 노즐(Na)로부터 제 1 액적(Fa)을 토출시킨다. 토출된 각 제 1 액적(Fa)은 각각 대응하는 제 1 목표 위치(Ta)에 순차적으로 착탄하여 제 1 토출 방향(Aa)(경사각(θa))에 대응하는 방향으로 확장되고, 이때, 제 2 목표 위치(Tb)의 영역에 오목부(B)가 형성된다.
제 2 토출 타이밍 신호(LPb)를 출력하면, 제어 장치(51)는 제 2 헤드 구동 회로(59)를 통하여 제 2 토출 제어 신호(SIb)에 기초하는 액적 토출 동작을 실행한다. 즉, 제어 장치(51)는 제 2 착탄 위치(Pb)가 대응하는 제 2 목표 위치(Tb)(오 목부(B)의 영역)에 위치할 때마다, 대응하는 제 2 압전 소자(Pzb)에 압전 소자 구동 신호(COM)를 공급하고, 대응하는 제 2 노즐(Nb)로부터 제 2 액적(Fb)을 토출시킨다. 토출된 각 제 2 액적(Fb)은 각각 대응하는 제 2 목표 위치(Tb), 즉 오목부(B)의 영역에 순차적으로 착탄하고, 동일 오목부(B)를 덮는 반구 모양을 나타내며 오목부(B)를 충전한다. 이것에 의해, 균일한 막 두께로 이루어지는 액상막(LF)을 형성할 수 있고, 그 액상막(LF)을 건조시킴으로써 균일한 막 두께로 이루어지는 배향막(27)을 형성할 수 있다.
대향 기판(15)에 배향막(27)이 형성되면, 그 배향막(27)에 대하여 공지의 러빙 처리가 이루어진다. 한편, 동일한 방법으로 소자 기판(14)에 있어서도 배향막(24)이 액적 토출 장치(30)에서 형성되고, 그 배향막(24)에 대하여 동일하게 러빙 처리된다. 그 후에 소자 기판(14)에 밀봉재(16)가 형성되고, 밀봉재(16)에 둘러싸여진 영역 내에 액정(17)을 배치하고, 소자 기판(14)과 대향 기판(15)을 접합함으로써 액정 표시 패널(13)이 형성된다.
본 실시예는, 이하의 이점을 갖는다.
(1) 대향 기판(15) 위에 설치된 제 1 목표 위치(Ta)에 대하여, 각각 대향 기판(15)의 법선에 대하여 제 1 경사각(θa)만큼 경사진 제 1 토출 방향(Aa)을 따라 제 1 액적(Fa)이 토출된다. 또한, 인접하는 제 1 목표 위치(Ta) 사이에 설치된 제 2 목표 위치(Tb)에 대하여, 각각 제 2 토출 방향(Ab)을 따라 제 2 액적(Fb)이 토출된다. 따라서, 제 1 토출 방향(Aa)을 따라 습윤 확장되는 제 1 액적(Fa)에 의해 형성된 오목부(B)가 제 2 액적(Fb)에 의해 충전된다. 그 결과, 오목부(B) 및 오목 부(B) 근방의 영역을 평탄화시킬 수 있고, 배향막(27)의 막 두께 균일성을 향상시킬 수 있다.
(2) 제 1 토출 방향(Aa)과 다른 방향의 제 2 토출 방향(Ab)을 따라 제 2 액적(Fb)을 토출함으로써 오목부(B)의 영역이 반구 모양의 제 2 액적(Fb)에 의해 충전된다. 따라서, 오목부(B)의 근방에서 습윤 확장되는 제 2 액적(Fb)에 의해 오목부(B) 및 오목부(B) 근방의 영역을 보다 평탄화시킬 수 있다. 그 결과, 배향막(27)의 막 두께 균일성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(3) 경사각 데이터(RD)에 기초하여 제 1 경사각(θa)(제 1 토출 방향(Aa))에 대응한 제 2 경사각(θb)(제 2 토출 방향(Ab))이 설정된다. 그리고, 제 2 목표 위치(Tb)의 영역에 제 2 액적(Fb)이 착탄된다. 따라서, 오목부(B)의 형상이나 사이즈에 관계없이 오목부(B) 및 오목부(B) 근방의 영역이 확실히 평탄화된다. 그 결과, 배향막(27)의 막 두께 균일성을 확실히 향상시킬 수 있다.
(4) 병진 스테이지(39b)를 설치함으로써, 대향 기판(15)이 주사될 때에 제 2 착탄 위치(Pb)가 제 2 목표 위치(Tb)의 경로 위를 따르도록, 제 2 노즐 형성면(P4b)을 제 1 노즐 형성면(P4a)에 대하여 병진시킨다. 따라서, 각 제 2 노즐(Nb)로부터의 제 2 액적(Fb)이 제 1 액적(Fa) 사이의 영역(제 2 목표 위치(Tb))에 착탄한다. 그 결과, 각 오목부(B) 및 각 오목부(B) 근방의 영역을 균일하게 평탄화시킬 수 있다.
(5) 대향 기판(15)의 법선 방향으로부터 보아, 제 1 토출 방향(Aa)의 반대 방향(X방향)으로 대향 기판(15)이 이동한다. 따라서, 대향 기판(15)의 반송 속 도(V)만큼, 각 제 1 액적(Fa)이 X방향을 따라 한층더 습윤 확장된다. 그 결과, 각 제 1 액적(Fa)을 보다 평탄화시킬 수 있고, 배향막(27)의 막 두께 균일성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(6) 제 1 경동축 위에 있는 제 1 곡률 중심(Ca)을 중심으로 하여 제 1 노즐 형성면(P4a)을 경동시킴으로써, 각 제 1 노즐(Na)에 대응하는 제 1 토출 방향(Aa)이 설정된다. 마찬가지로, 제 2 경동축 위에 있는 제 2 곡률 중심(Cb)을 중심으로 제 2 노즐 형성면(P4b)을 경동함으로써, 각 제 2 노즐(Nb)에 대응하는 제 2 토출 방향(Ab)이 설정된다. 따라서, 각 제 1 착탄 위치(Pa)에 대한 제 1 토출 방향(Aa) 및 각 제 2 착탄 위치(PbFb)에 대한 제 2 토출 방향(Ab)이 각각 설정된다. 그 결과, 제 1 토출 방향(Aa) 및 제 2 토출 방향(Ab)의 편차가 저감되기 때문에, 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)마다의 착탄 형상의 편차를 저감할 수 있다. 그 때문에 배향막(27)의 막 두께 균일성을 더욱 향상시킬 수 있다.
(7) 제 1 경동 데이터(DaD) 및 제 2 경동 데이터(DbD)에 기초하여 제 1 경동 스테이지(40a) 및 제 2 경동 스테이지(40b)가 구동 제어된다. 따라서, 제 1 경동 데이터(DaD) 및 제 2 경동 데이터(DbD)에 기초하여 제 1 토출 방향(Aa) 및 제 2 토출 방향(Ab)을 설정할 수 있다. 그 결과, 제 1 토출 방향(Aa) 및 제 2 토출 방향(Ab)의 편차가 저감되기 때문에, 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)간의 착탄 형상의 편차를 저감할 수 있다.
또한, 상기 실시예는 아래와 같이 변경해도 된다.
상기 실시예에서는 제 2 경동 스테이지(40b)를 초기 위치에 배치하고, 반 원 구 형상의 제 2 액적(Fb)을 착탄시키도록 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제 2 경동 스테이지(40b)를 경사 위치에 배치함으로써, X방향을 따라 연장되는 타원 형상의 제 2 액적(Fb)을 착탄시키도록 해도 된다. 즉, 오목부(B)의 영역에 제 2 액적(Fb)을 착탄시켜서, 오목부(B)의 영역을 제 2 액적(Fb)으로 충전할 수 있도록 하면 된다.
상기 실시예에서는 대향 기판(15)의 법선 방향으로부터 보아, 제 1 토출 방향(Aa)의 반대 방향으로 기판 스테이지(33)를 이동시키도록 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 대향 기판(15)의 법선으로부터 보아, 제 1 토출 방향(Aa)으로 기판 스테이지(33)를 이동시키는 구성이라도 된다. 기판 스테이지(33)가 아니라, 캐리지(37)를 이동시켜도 된다.
상기 실시예에서는 제 1 경동 기구 및 제 2 경동 기구를 각각 제 1 경동 스테이지(40a) 및 제 2 경동 스테이지(40b)로 구체화했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 기판 스테이지(33)를 제 1 경동 기구 또는 제 2 경동 기구로서 구체화하고, 기판 스테이지(33)에 탑재 배치한 대향 기판(15)을 제 1 노즐 형성면(P4a) 또는 제 2 노즐 형성면(P4b)에 대하여 경동시키는 구성이라도 된다.
상기 실시예에서는 제 1 압전 소자(PZa) 및 제 2 압전 소자(PZb)에 각각 공통되는 파형 데이터(VD)로 이루어지는 압전 소자 구동 신호(COM)를 공급하고, 소정 용량의 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)을 토출시키도록 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 제 1 압전 소자(PZa) 및 제 2 압전 소자(PZb)에, 다른 파형 데이터(VD)로 이루어지는 압전 소자 구동 신호(COM)를 공급하고, 다른 중량의 제 1 액적(Fa) 및 제 2 액적(Fb)을 토출시키는 구성으로 해도 된다. 이때, 오목부(B)의 사이즈에 대응한 중량의 제 2 액적(Fb)을 토출시키는 것이 바람직하다.
상기 실시예에서는 노즐(N)을 일렬만 구비하는 구성으로 했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 노즐(N)을 복수열 구비하는 구성으로 해도 된다.
상기 실시예에서는 패턴을 액정 표시 장치(10)의 배향막(27)으로 구체화했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 액정 표시 장치(10) 또는 그 이외의 표시 장치의 각종 박막, 금속 배선, 컬러 필터를 형성하도록 해도 된다. 액정 표시 장치(10) 이외의 표시 장치로서는, 예를 들어, 전계 효과형 장치(FED나 SED 등)를 구비한 표시 장치가 있다. 전계 효과형 장치는 전자 방출 소자로부터 방출된 전자를 형광 물질에 조사(照射)하여 동일 형광 물질을 발광시킨다. 즉, 상기 패턴은 착탄한 액적에 의해 형성되는 패턴이면 된다.
상기 실시예에서는 기판을 액정 표시 장치(10)의 대향 기판(15)으로 구체화했다. 그러나, 이에 한정하지 않고, 기판을 실리콘 기판이나 플렉시블 기판, 또는 금속 기판 등으로 구체화해도 된다.
상기 실시예에서는 전기 광학 장치를 액정 표시 장치(10)로 구체화했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 전기 광학 장치를 일렉트로루미네선스 장치로 구체화해도 된다.
본 발명에 의하면, 액적으로부터 이루어지는 패턴의 막 두께 균일성을 향상시킬 수 있는 패턴 형성 방법, 액적 토출 장치 및 전기 광학 장치를 제공하고, 또 한, 배향막 형성 재료의 액적으로부터 형성된 배향막의 막 두께 균일성을 향상시킬 수 있는 배향막 형성 방법, 배향막 형성 장치 및 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.

Claims (17)

  1. 패턴 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 패턴을 형성하는 패턴 형성 방법에 있어서,
    상기 기판의 한 면과 평행한 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구로부터 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출하는 단계와,
    상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구로부터 제 2 토출 방향을 따라, 상기 기판 위에서의 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 토출 방향은 상기 제 1 토출 방향과 교차하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 2 액적이 상기 제 1 액적 사이의 상기 영역에 착탄하도록, 상기 제 1 토출 방향에 기초하여 상기 제 2 토출 방향을 설정하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 액적이 상기 제 1 액적 사이의 상기 영역에 착탄하도록, 상기 복수의 제 1 토출구가 형성된 제 1 토출구 형성면에 대하여, 상기 복수의 제 2 토출구가 형성된 제 2 토출구 형성면을 상기 일 방향을 따라 이동시키는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 기판의 법선 방향으로부터 보아, 상기 제 1 토출 방향과는 반대 방향이고 상기 기판의 한 면에 평행한 방향으로, 상기 기판을 상기 복수의 제 1 토출구에 대하여 이동시키는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  6. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 제 1 토출구가 형성된 제 1 토출구 형성면을 상기 일 방향을 따라 연장되는 제 1 경동(傾動)축을 중심으로 경동시킴으로써, 상기 제 1 토출 방향을 설정하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  7. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제 2 토출 방향은 상기 기판의 법선에 대하여 경사지고, 상기 방법은 상기 기판의 법선 방향으로부터 보아, 상기 제 2 토출 방향과는 반대 방향이고 상기 기판의 한 면에 평행한 방향으로, 상기 기판을 상기 복수의 제 2 토출구에 대하여 이동시키는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  8. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 복수의 제 2 토출구가 형성된 제 2 토출구 형성면을, 상기 일 방향을 따라 연장되는 제 2 경동축을 중심으로 경동시킴으로써 상기 제 2 토출 방향을 설정하는 단계를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법.
  9. 배향막 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 배향막을 형성하는 배향막 형성 방법에 있어서,
    상기 기판의 한 면과 평행한 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구로부터, 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출하는 단계와,
    상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을, 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구로부터 제 2 토출 방향을 따라, 상기 기판 위에서의 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 방법.
  10. 패턴 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 패턴을 형성하는 액적 토출 장치에 있어서,
    상기 기판에 서로 대향하는 제 1 토출구 형성면과, 상기 기판에 서로 대향하는 제 2 토출구 형성면을 구비하고,
    상기 제 1 토출구 형성면은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구를 갖고, 그 제 1 토출구는 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출하고,
    상기 제 2 토출구 형성면은 상기 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구를 갖고, 그 제 2 토출구는 상기 패턴 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을, 제 2 토출 방향을 따라 상기 기판 위에 착탄한 상기 제 1 액적 사이의 영역을 향해 토출하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
  11. 제 10 항에 있어서,
    상기 제 2 토출 방향은 상기 제 1 토출 방향과 교차하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
  12. 제 10 항에 있어서,
    상기 일 방향을 따라 연장되는 제 1 경동축을 중심으로 하여 상기 제 1 토출구 형성면을 경동시키는 제 1 경동 기구와,
    상기 제 1 토출 방향이 상기 기판의 법선에 대하여 경사지도록 상기 제 1 토출구 형성면을 경동시키기 위한 제 1 경동 정보를 생성하는 제 1 경동 정보 생성부와,
    상기 제 1 경동 정보에 기초하여 상기 제 1 경동 기구를 구동 제어하는 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
  13. 제 10 항에 있어서,
    상기 일 방향을 따라 연장되는 제 2 경동축을 중심으로 하여 상기 제 2 토출구 형성면을 경동시키는 제 2 경동 기구와,
    상기 제 2 토출 방향이 상기 제 1 토출 방향과 교차하도록 상기 제 2 토출구 형성면을 경동시키기 위한 제 2 경동 정보를 생성하는 제 2 경동 정보 생성부와,
    상기 제 2 경동 정보에 기초하여 상기 제 2 경동 기구를 구동 제어하는 제어부를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
  14. 제 13 항에 있어서,
    상기 제 2 경동 정보 생성부는 상기 제 2 액적이 상기 제 1 액적 사이의 상기 영역에 착탄하도록, 상기 제 1 토출 방향에 기초하여 상기 제 2 경동 정보를 생성하는 것을 특징으로 하는 액적 토출 장치.
  15. 제 10 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 기재된 액적 토출 장치에 의해 형성된 패턴을 갖는 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 전기 광학 장치.
  16. 배향막 형성 재료를 포함하는 액적을 기판을 향해 토출하여 그 기판 위에 배향막을 형성하는 배향막 형성 장치에 있어서,
    상기 기판에 서로 대향하는 제 1 토출구 형성면과, 상기 기판에 서로 대향하는 제 2 토출구 형성면을 구비하고,
    상기 제 1 토출구 형성면은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 1 토출구를 갖고, 그 복수의 제 1 토출구는 상기 기판의 법선에 대하여 경사지는 제 1 토출 방향을 따라 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 1 액적을 토출하고,
    상기 제 2 토출구 형성면은 상기 기판의 한 면 위에 일 방향을 따라 배열된 복수의 제 2 토출구를 갖고, 그 복수의 제 2 토출구는 상기 기판 위에 착탄한 상기 제 1 액적 사이의 영역에 제 2 토출 방향을 따라 상기 배향막 형성 재료를 포함하는 제 2 액적을 토출하는 것을 특징으로 하는 배향막 형성 장치.
  17. 제 16 항에 기재된 배향막 형성 장치에 의해 형성된 배향막을 갖는 기판을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 장치.
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