KR100849410B1 - Manufacturing method of capacitor embedded pcb - Google Patents

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박화선
김홍원
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Abstract

A method for manufacturing a capacitor embedded PCB(Printed Circuit Board) is provided to improve precision of a capacitor by forming an inner electrode and an outer electrode of the capacitor by an additive method. A method for manufacturing a capacitor embedded PCB includes the steps of: manufacturing a capacitor substrate with an inner electrode on one surface of a dielectric layer(S21); aligning a semi-cured insulating layer on one surface of a core layer and aligning the capacitor substrate on the semi-cured insulating layer so that the inner electrode faces the semi-cured insulating layer(S22); and collectively stacking the core layer, the semi-cured insulating layer, and the capacitor substrate(S23). An outer electrode is formed on the other surface of the dielectric layer in the step of manufacturing the capacitor substrate.

Description

캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법{Manufacturing method of capacitor embedded PCB}Manufacturing method of capacitor embedded PCB {Manufacturing method of capacitor embedded PCB}

본 발명은 캐패시터를 내장한 인쇄회로기판에 관한 것이다The present invention relates to a printed circuit board incorporating a capacitor.

최근의 휴대용 전자기기를 포함한 전자제품에 있어서 소비자의 다양한 욕구가 증대하고 있다. 특히 다기능화, 소형 경량화, 고속화, 저가화, 이동 편의성의 증가, 무선을 이용한 인터넷과의 실시간 접촉, 소비자의 세련된 디자인의 욕구 등은 개발자, 디자이너, 제조업체들에게 우수한 제품을 만드는데 큰 부담을 갖게 하고 있다. BACKGROUND In recent years, various needs of consumers are increasing in electronic products including portable electronic devices. In particular, multifunctionality, small size, light weight, high speed, low price, increased mobility, real-time contact with the Internet through wireless, and the desire for sophisticated design of consumers put great burdens on making excellent products for developers, designers, and manufacturers. .

이렇게 심화된 경쟁은 하루가 다르게 경쟁사들의 신모델 출시로 이어지고 그것은 다시 관련자들에게 부담을 가중시키고 있다. 이렇듯 제품의 기능이 다양화됨에 따라 능동소자의 증가에 대비, 수동소자(passive component)도 상대적으로 늘어나게 되어 휴대용 단말기의 부피도 커지게 된다. This fierce competition leads to competitors launching new models every day, which in turn adds to the burden on those involved. As the functions of the products are diversified, the passive components are relatively increased in preparation for the increase in the number of active components, thereby increasing the volume of the portable terminal.

일반적으로 전자기기에는 다수의 능동부품 및 수동부품들이 회로기판의 표면에 실장되어 있으며, 수동부품들은 칩저항(discrete chip capacitor)의 형태로 능 동부품들 간의 신호 전달을 원활히 하기 위하여 많은 수가 표면에 실장되어 있다. 내장형 인쇄회로기판은 그 일환으로 전자 시스템의 고밀도 실장을 위하여 많은 관련 기업에서 개발이 진행되어 진다. 기판 안에 내장 되어지는 수동부품의 종류에는 저항, 컨덴서, 코일이 있으며 내장하는 부품의 크기 및 형태를 보면 기존의 수동부품용, 얇은 수동부품, 인쇄나 스퍼터로 작성한 필름형태의 막 소자 , 도금에 의한 플래팅(Plating) 타입 등이 있다. 그러나 별개의 수동부품으로는 전자부품의 경박단소화 추세에 부응하는데 한계가 있었고, 공간 활용 측면에서도 문제와 더불어 비용이 상승하는 단점을 가지고 있다. In general, a large number of active and passive components are mounted on the surface of a circuit board in an electronic device, and a large number of passive components are mounted on a surface in order to facilitate signal transmission between active components in the form of discrete chip capacitors. It is mounted. Embedded printed circuit boards have been developed by many related companies for high-density packaging of electronic systems. Types of passive components embedded in the board include resistors, capacitors, and coils. The size and shape of the embedded components include conventional passive components, thin passive components, film-like film elements made by printing or sputtering, and plating. Plating type and the like. However, the separate passive parts have a limit in meeting the trend of lighter and shorter electronic components, and have a disadvantage in that the cost is increased along with problems in terms of space utilization.

기판에 내장 되어지는 수동부품 중에서 필름 타입(thick film type : 15-25㎛ )의 캐패시터(capacitor)를 기판 안에 내장 하려는 시도가 많이 이루어 지고 있으며, 그 방법과 형태에 대한 특허가 많이 발표되고 있다. 특히 전자 시스템의 특성과 형태를 경박단소로 만들려고 하는 시도가 계속 이루어지고 있다. 필름 타입 캐패시터를 기판 안에 내장하기 위해 롤 코팅(roll coating) , 스퍼터(sputter), 시트 라미네이션(sheet lamination) 등을 이용하는 방법이 있지만 시트 라미네이션은 두께 톨러런스(tolerance)를 줄이고 비용을 줄이는 효과가 크다. Among passive components embedded in a substrate, many attempts have been made to embed a capacitor of a thick film type (15-25 μm) into a substrate, and many patents have been published for the method and form thereof. In particular, attempts have been made to make the characteristics and forms of electronic systems light and small. There are methods using roll coating, sputtering, sheet lamination, and the like to embed a film-type capacitor into a substrate, but sheet lamination is effective in reducing thickness tolerance and cost.

도 1은 종래 기술에 따른 시트 라미네이션 방법에 의한 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도이다.1 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board by the sheet lamination method according to the prior art.

도 1의 (a)단계와 같이 코어층(11)의 양면에 내부 전극(12a, 12b)을 형성한다. (b)단계에서는 코팅 잉크(13a, 13b)로서 평탄화 공정을 거친다. 이후, (c)단계에서 유전층(142a, 142b)과 동박층(141a, 141b)이 적층된 한 쌍의 동박적층판(14a, 14b)를 유전층(142a, 142b) 방향으로 코팅 잉크(13a, 13b)를 향하여 적층한다. (d)단계에서는 동박층(141a, 141b)을 제거하여 외부 전극(15a, 15b)을 형성한다. As shown in FIG. 1A, internal electrodes 12a and 12b are formed on both surfaces of the core layer 11. In step (b), the coating inks 13a and 13b undergo a planarization process. Subsequently, in step (c), the pair of copper-clad laminates 14a and 14b in which the dielectric layers 142a and 142b and the copper foil layers 141a and 141b are stacked are coated in the dielectric layers 142a and 142b in the coating ink 13a and 13b. Lay towards. In step (d), the copper foil layers 141a and 141b are removed to form the external electrodes 15a and 15b.

이와 같은 도 1의 종래의 캐패시터 내장형 인쇄회로기판은 코팅 잉크(13a, 13b)의 표면이 굴곡이 있을 경우, 유전층(142a, 142b)의 일부분이 그 굴곡을 채우게 되어, 유전층(142a, 142b)의 두께가 일정하지 않을 가능성이 있으며, 이는 곧 캐패시터의 신뢰성에 영향을 미쳤다.In the conventional capacitor-embedded printed circuit board of FIG. 1, when the surfaces of the coating inks 13a and 13b are curved, portions of the dielectric layers 142a and 142b fill the curved portions of the dielectric layers 142a and 142b. The thickness may not be constant, which soon affected the reliability of the capacitor.

이 외에 내장형 캐패시터(Embedded capacitor)를 구현하는데 있어서는 여러 가지 공법이 있다. 그 중 전원 안정화를 위한 디커플링 캐패시터(decoupling capacitor)의 경우는 캐패시턴스 톨러런스(capacitance tolerance)에 대하여 민감한 값을 요구하지 않다. 그러나, RF 매칭(matching)용 캐패시터(capacitor)의 경우는 온도에 대한 안전성 및 캐패시턴스 자체의 용량값도 매우 높은 톨러런스(tolerance)를 가져야 한다. 최근 두께 컨트롤(control)이 비교적 양호한 RCC 타입 캐패시터 라미네이트(laminate)를 이용하여 내장형 캐패시터를 구현하는 공법에 대하여 관심이 높아지고 있으나, RCC 타입 내장 캐패시터 원자재의 적층성이 매우 나빠, 본질적으로 RCC 타입 내장 캐패시터 원자재가 적층되는 면을 평탄하게 만들어 줘야 하는 추가적인 공정이 필요하다. 이러한 RCC 타입 내장 캐패시터 자재의 구조적 문제는 적층면을 평탄하게 해주는 추가적인 공정에도 불구하고 적층면의 Cu 패턴 두께 혹은 레진 두께에 대하여 내장 캐패시터 원자재의 유전층의 두께 편차가 크게 발생하며, 심지어는 적층면에서의 디라미네이션(delamination)같은 신뢰성 불량으로 연결되고 있다. 또한 캐패시터의 전극 형성에 적용되는 텐팅(tenting) 공 법은 에칭(etching)에 의한 내장 캐패시터 전극 편차가 크게 발생하여 전체적인 내장 캐패시터의 캐패시턴스 편차를 줄이는 데 한계가 있다.In addition, there are a number of techniques for implementing an embedded capacitor. Among them, the decoupling capacitor for stabilizing the power supply does not require a sensitive value for capacitance tolerance. However, in the case of a capacitor for RF matching, the capacitance of the capacitance and the capacitance itself must have a very high tolerance. Recently, there has been increasing interest in a method of implementing embedded capacitors using RCC type capacitor laminates having a relatively good thickness control. An additional process is needed to make the surface on which the raw materials are stacked flat. Structural problems of RCC type embedded capacitor materials, despite the additional process of flattening the laminated surface, a large variation in the thickness of the dielectric layer of the embedded capacitor raw material occurs with respect to the Cu pattern thickness or the resin thickness of the laminated surface, even in the laminated surface. This leads to poor reliability such as delamination. In addition, the tenting method applied to the electrode formation of the capacitor has a limit in reducing the capacitance variation of the entire embedded capacitor due to a large variation in the embedded capacitor electrode due to etching.

본 발명은 유전층의 두께를 일정하게 유지하면서, 캐패시터를 내장할 수 있는 인쇄회로기판의 제조방법을 제공하고자 한다.An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a printed circuit board in which a capacitor can be embedded while maintaining a constant thickness of the dielectric layer.

본 발명의 일 측면에 따르면, 유전층의 일면에 내부전극이 형성된 캐패시터 기판을 제조하는 단계, 코어층의 일면에 반경화 절연층을 정렬하고, 상기 반경화 절연층에 상기 내부전극이 상기 반경화 절연층 방향으로 향하도록 상기 캐패시터 기판을 정렬하는 단계, 상기 코어층, 상기 반경화 절연층 및 상기 캐패시터 기판을 일괄적층하는 단계를 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법이 제공된다.According to an aspect of the present invention, manufacturing a capacitor substrate having an internal electrode formed on one surface of a dielectric layer, arranging a semi-cured insulating layer on one surface of a core layer, the internal electrode is semi-cured insulation on the semi-cured insulating layer A method of manufacturing a capacitor-embedded printed circuit board is provided, comprising: arranging the capacitor substrate to face in a layer direction, and collectively laminating the core layer, the semi-cured insulating layer, and the capacitor substrate.

상기 캐패시터 기판을 제조하는 단계에는, 상기 유전층의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The manufacturing of the capacitor substrate may further include forming an external electrode on the other surface of the dielectric layer.

상기 일괄적층하는 단계 이후에, 상기 유전층의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.After the batch lamination, the method may further include forming an external electrode on the other surface of the dielectric layer.

본 발명의 다른 측면은, 유전층의 일면에 내부전극이 형성된 한 쌍의 캐패시터 기판을 제조하는 단계, 코어층의 양면에 각각 반경화 절연층을 정렬하고, 상기 각각의 반경화 절연층에 상기 내부전극이 상기 반경화 절연층 방향으로 향하도록 상기 캐패시터 기판을 정렬하는 단계, 및 상기 코어층, 상기 반경화 절연층 및 상기 캐패시터 기판을 일괄적층하는 단계를 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법이 제공된다.According to another aspect of the present invention, a method of manufacturing a pair of capacitor substrates having internal electrodes formed on one surface of a dielectric layer, arranging a semi-cured insulating layer on both surfaces of a core layer, and the internal electrodes on the respective semi-cured insulating layers Arranging the capacitor substrate to face toward the semi-cured insulating layer, and the method of manufacturing a capacitor-embedded printed circuit board comprising the step of laminating the core layer, the semi-cured insulating layer and the capacitor substrate. do.

상기 한 쌍의 캐패시터 기판을 제조하는 단계는, 상기 한 쌍의 캐패시터 기판의 각각의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.The manufacturing of the pair of capacitor substrates may further include forming an external electrode on each other surface of the pair of capacitor substrates.

또한, 상기 일괄적층하는 단계 이후에, 상기 유전층의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함할 수 있다.In addition, after the batch lamination, the method may further include forming an external electrode on the other surface of the dielectric layer.

이상의 과제 해결 수단과 같이, 본 발명은 기존의 코어층에 내부전극을 형성하는 것이 아니라, 내/외부전극을 코어층에 적층하기 전에 "유전체에 형성"함으로써 코어층에 내부전극을 형성함에 있어서 생기는 여러 가지 문제점들을 제거했으며, 경화 상태의 절연층을 사용할 경우에는 코어층 적층 중에 생기는 유전체 두께 편차를 최소로 할 수 있는 장점이 있다. As with the above-mentioned means for solving the above problems, the present invention does not form the internal electrode in the existing core layer, but rather in forming the internal electrode in the core layer by "forming in the dielectric" before laminating the internal / external electrodes in the core layer. Various problems have been eliminated, and the use of a cured insulating layer has the advantage of minimizing the dielectric thickness variation that occurs during core layer deposition.

유전층의 손실없이 캐패시터를 내장한 인쇄회로기판을 제조함으로써, 소정의 캐패시터의 용량을 신뢰성 있게 구현할 수 있다. 또한, 캐패시터의 내부전극과 외부전극을 에디티브 방식으로 형성함으로써 캐패시터의 정밀도를 상승시켰다. 또한, 종래와 같은 코팅잉크를 도포하는 공정을 생략하여 공정비용을 줄였다. By manufacturing a printed circuit board in which a capacitor is embedded without loss of a dielectric layer, it is possible to reliably implement a predetermined capacitor capacity. In addition, the accuracy of the capacitor was increased by forming the internal electrode and the external electrode of the capacitor in an additive manner. In addition, the process cost is reduced by omitting the conventional coating ink coating process.

본 발명에서는 이러한 RCC 타입의 내장 캐패시터 원자재의 본질적 문제를 해결하여 추가적인 적층면에 대한 평판 코팅(flat-coating) 공정을 제거하며 또한 내장 캐패시터 원자재의 유전층(dielectric) 두께 편차를 개선하며, 적층면에서의 디라미네이션(delamination)을 해결하였다. 내장 캐패시터 전극 형성 또한 기존의 에칭(etching)에 의한 방법이 아니라 에디티브(additive) 공법을 도입하여 전극 편차를 줄여 전체적인 내장 캐패시터(EC)의 용량(capacitance) 편차를 줄일 수 있었다. The present invention solves the inherent problems of these RCC type embedded capacitor raw materials, eliminating the flat-coating process for additional laminated surfaces, and also improving the dielectric thickness variation of the embedded capacitor raw materials, The delamination of was solved. Formation of the embedded capacitor electrode was also possible by introducing an additive method, rather than the conventional etching method, to reduce the electrode deviation, thereby reducing the overall capacitance variation of the embedded capacitor (EC).

이하에서는, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 실시예에 대하여 보다 상세하게 설명하도록 하며, 첨부 도면을 참조하여 설명함에 있어 도면 부호에 상관없이 동일하거나 대응하는 구성 요소는 동일한 참조번호를 부여하고 이에 대한 중복되는 설명은 생략하기로 한다.Hereinafter, an embodiment of a capacitor-embedded printed circuit board according to the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. In describing the present invention with reference to the accompanying drawings, the same or corresponding components may be used. The same reference numerals will be given, and redundant description thereof will be omitted.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법의 순서도이며, 도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도이다. 도 3을 참조하면, 제1 캐패시터 기판(31), 제1 유전층(311), 제1 동박(312), 제1 드라이 필름(313), 제1 외부패턴(314a), 제1 내부패턴(314b), 제1 외부전극(315a), 제1 내부전극(315b), 제2 캐패시터 기판(32), 제2 유전층(321), 제2 동박(322), 제2 드라이 필름(323), 제2 외부패턴(324a), 제2 내 부패턴(324b), 제2 외부전극(325a), 제2 내부전극(325b), 코어층(33), 반경화 절연층(34), 캐패시터(35), 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(30)이 도시되어 있다.2 is a flowchart of a method of manufacturing a capacitor-embedded printed circuit board according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 3 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 3, a first capacitor substrate 31, a first dielectric layer 311, a first copper foil 312, a first dry film 313, a first external pattern 314a, and a first internal pattern 314b ), A first external electrode 315a, a first internal electrode 315b, a second capacitor substrate 32, a second dielectric layer 321, a second copper foil 322, a second dry film 323, a second The outer pattern 324a, the second inner pattern 324b, the second outer electrode 325a, the second inner electrode 325b, the core layer 33, the semi-hardened insulating layer 34, the capacitor 35, Capacitor embedded printed circuit board 30 is shown.

S21은 유전층의 일면에 내부전극이 형성된 한 쌍의 캐패시터 기판을 제조하는 단계이다. S21 is a step of manufacturing a pair of capacitor substrate having an internal electrode formed on one surface of the dielectric layer.

본 실시예의 한 쌍의 캐패시터 기판은 제1 캐패시터 기판(31)과 제2 캐패시터 기판(32)이다. 제1 및 제2 캐패시터 기판(31, 32)는 완전히 거울상으로서 동일한 모양일 수도 있으나, 전극이나 패턴이 형성되는 위치가 상이하더라도 무방하다.The pair of capacitor substrates of this embodiment are the first capacitor substrate 31 and the second capacitor substrate 32. The first and second capacitor substrates 31 and 32 may be completely mirror-like and have the same shape, but may have different positions at which electrodes or patterns are formed.

제1 및 제2 캐패시터 기판(31, 32) 및 이들의 제조 공정은 도 3의 (a) ~(c)공정과 같이 진행될 수 있다. 제2 캐패시터 기판(32)도 제1 캐패시터 기판(31)과 동일한 방법으로 제조될 수 있다. 따라서, 제1 캐패시터 기판(31)을 중심으로 설명한다.The first and second capacitor substrates 31 and 32 and manufacturing processes thereof may be performed as in FIGS. 3A to 3C. The second capacitor substrate 32 may also be manufactured in the same manner as the first capacitor substrate 31. Therefore, it demonstrates centering on the 1st capacitor board | substrate 31. FIG.

제1 캐패시터 기판(31)은 (a)와 같이 제1 유전층(311)의 양면에 제1 동박(312)이 적층된 동박적층판에 제1 드라이 필름(313)을 적층하고, 회로패턴이 형성될 부분을 고려하여, 제1 드라이 필름(313)의 일부를 제거한다. 제1 유전층(311)은 후에 캐패시터의 유전막이 될 부분으로 유전률이 적합한 세라믹 등과 같은 재질을 포함하여 구성될 수 있다. 이렇게 제1 유전층(311)의 양면에 제1 동박(312)이 적층된 동박적층판에 제1 드라이 필름(313)을 적층하여 회로패턴과 캐패시터의 전극이 형성될 부분을 고려하여 노광 및 현상공정을 거치면 (a)와 같은 단면도의 부재가 된다. 제 1 동박(312)의 두께는 수 um 정도로 얇게 형성 한다. 동박을 에칭 하여 얇게 형성할 수도 있다.In the first capacitor substrate 31, a first dry film 313 is stacked on a copper foil laminated plate having the first copper foil 312 laminated on both surfaces of the first dielectric layer 311 as shown in (a), and a circuit pattern is formed. In consideration of the portion, a portion of the first dry film 313 is removed. The first dielectric layer 311 may be formed of a material such as a ceramic having a suitable dielectric constant as a portion to be a dielectric film of the capacitor later. In this way, the first dry film 313 is laminated on the copper-clad laminate in which the first copper foils 312 are laminated on both surfaces of the first dielectric layer 311, and the exposure and development processes are performed in consideration of the circuit pattern and the portion where the electrodes of the capacitor are to be formed. If the mounting surface (a) is a member of the cross-sectional view. The thickness of the first copper foil 312 is formed thin as a few um. Copper foil can also be etched and formed thinly.

제1 유전층(311)은 경화된 상태일 수도 있고, 반경화된 상태일 수도 있다. 경화된 상태일 경우에는 제1 유전층(311)의 두께를 이후 공정을 진행하더라도 변화되지 않고 유지할 수 있어, 신뢰성 있는 캐패시터를 제조할 수 있는 장점이 있다. 반면, 반경화된 상태의 제1 유전층(311)은 휨성이 좋아 공정 중에 발생하는 갈라짐을 방지하는 장점이 있다. The first dielectric layer 311 may be in a cured state or may be in a semi-cured state. In the cured state, the thickness of the first dielectric layer 311 may be maintained unchanged even after the process is performed, thereby producing a reliable capacitor. On the other hand, the first dielectric layer 311 in a semi-cured state has the advantage of good bending property to prevent cracking occurring during the process.

(b)공정과 같이 에디티브(additive) 방식으로 도금을 하면, 제1 내부패턴(314b), 제1 외부패턴(314a), 제1 내부전극(315b), 제1 외부전극(315a)이 도금된다. 도금은 전해 도금의 방식이 일반적으로 사용되며, 도금되는 금속으로는 구리(Cu)가 일반적으로 사용한다.When the plating is performed in an additive manner as in step (b), the first internal pattern 314b, the first external pattern 314a, the first internal electrode 315b, and the first external electrode 315a are plated. do. Electroplating is generally used for plating, and copper (Cu) is generally used as a metal to be plated.

이후, (c)와 같이 제1 드라이 필름(313)을 제거하고, 소프트 에칭을 진행하면, 제1 동박(312)이 일부 제거되어, 제1 캐패시터 기판(31)이 완성된다.Thereafter, when the first dry film 313 is removed and soft etching is performed as shown in (c), a portion of the first copper foil 312 is removed to complete the first capacitor substrate 31.

S12단계는 코어층의 양면에 한 쌍의 반경화 절연층을 정렬하고, 각각의 반경화 절연층에 내부전극이 반경화 절연층 방향으로 향하도록 캐패시터 기판을 정렬하는 단계이다.Step S12 is a step of aligning a pair of semi-cured insulating layer on both sides of the core layer, and aligning the capacitor substrate so that the inner electrode toward each semi-cured insulating layer in the direction of the semi-cured insulating layer.

본 단계는 도3의 (d)를 참조로 설명된다. 코어층(33)의 양면에 반경화 절연층(34)이 대칭적으로 배치되고, 한 쌍의 캐패시터 기판(31, 32)이 외곽에 배치된다.This step is described with reference to Fig. 3D. The semi-hardened insulating layer 34 is symmetrically arranged on both sides of the core layer 33, and a pair of capacitor substrates 31 and 32 are disposed outside.

특히, 제1 및 제2 케패시터 기판(31,32)는 제1 및 제2 내부전극(315b, 325b)이 반경화 절연층(34)으로 향하도록 정렬된다.In particular, the first and second capacitor substrates 31 and 32 are aligned such that the first and second internal electrodes 315b and 325b face the semi-cured insulating layer 34.

코어층(33)은 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(30)에 강성을 부여하는 층으로, 프리프레그(prepreg)가 일반적으로 사용된다. 프리프레그는 유리섬유와 레진의 결합된 구조이다. The core layer 33 is a layer which gives rigidity to the capacitor-embedded printed circuit board 30, and prepreg is generally used. Prepreg is a combined structure of glass fiber and resin.

반경화 절연층(34)은 레진이 주성분으로, 적층공정시 코어층(33)과 제1 및 제2 캐패시터 기판(31, 32)의 결합되도록 한다. The semi-hardened insulating layer 34 is a resin as a main component, so that the core layer 33 and the first and second capacitor substrates 31 and 32 are bonded during the lamination process.

S13은 코어층, 반경화 절연층 및 캐패시터 기판을 일괄적층하는 단계이다. 일괄적층은 기계적인 프레스를 이용하여 상하에 균등한 힘을 주어 적층공정을 진행하는 것을 말한다. 이때, 적층을 원활하기 위해서 열을 가하는 것이 일반적이다.S13 is a step of laminating the core layer, the semi-hardened insulating layer, and the capacitor substrate. Batch lamination refers to the process of laminating by giving a uniform force up and down using a mechanical press. At this time, it is common to apply heat in order to facilitate lamination.

S13단계를 진행하면 도 3의 (e)와 같은 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(30)이 제조될 수 있다. 이때, 제1 및 제2 외부전극(315a, 325a)은 이미 S11단계에서 형성되어 있기 때문에, S13단계 이후에 추가적으로 형성할 필요는 없다. Proceeding to step S13, a capacitor-embedded printed circuit board 30 as shown in FIG. 3 (e) may be manufactured. At this time, since the first and second external electrodes 315a and 325a are already formed in step S11, it is not necessary to form additionally after step S13.

이상의 본 실시예에서의 공정으로 캐패시터(35)가 형성된 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(30)이 만들어진다. 이때, 각각의 캐패시터(35)의 제1 및 제2 유전층(311, 321)은 제조공정 중 변형이 이루어지지 않아 신뢰성이 보장된다.The capacitor embedded printed circuit board 30 on which the capacitor 35 is formed is made by the above-described process in this embodiment. In this case, the first and second dielectric layers 311 and 321 of each capacitor 35 are not deformed during the manufacturing process, thereby ensuring reliability.

한편, S13단계 이후 공정은 일반적인 인쇄회로기판의 제조공정을 따른다. On the other hand, the process after step S13 follows the manufacturing process of a general printed circuit board.

도 4는 제2 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도이 다. 도 4를 참조하면, 제1 캐패시터 기판(41), 제1 유전층(411), 제1 동박(412), 제1 드라이 필름(413a, 413b), 제1 외부패턴(414a), 제1 내부패턴(414b), 제1 외부전극(415a), 제1 내부전극(415b), 제2 캐패시터 기판(42), 제2 유전층(421), 제2 동박(422), 제2 드라이 필름(423a, 423b), 제2 외부패턴(424a), 제2 내부패턴(424b), 제2 외부전극(425a), 제2 내부전극(425b), 코어층(43), 반경화 절연층(44), 캐패시터(45), 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(40)이 도시되어 있다. 코어층(43), 제1 유전층(411), 반경화 절연층(44)은 도 3의 실시예에서 설명한 것과 동일 또는 유사한 재질로 만들어질 수 있다.4 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to the second embodiment. Referring to FIG. 4, a first capacitor substrate 41, a first dielectric layer 411, a first copper foil 412, a first dry film 413a and 413b, a first external pattern 414a, and a first internal pattern 414b, the first external electrode 415a, the first internal electrode 415b, the second capacitor substrate 42, the second dielectric layer 421, the second copper foil 422, and the second dry films 423a and 423b. ), The second external pattern 424a, the second internal pattern 424b, the second external electrode 425a, the second internal electrode 425b, the core layer 43, the semi-hardened insulating layer 44, and the capacitor ( 45, a capacitor-embedded printed circuit board 40 is shown. The core layer 43, the first dielectric layer 411, and the semi-cured insulating layer 44 may be made of the same or similar material as described in the embodiment of FIG. 3.

도 4의 (a)에서 (c)는 내부전극(415b, 425b)이 각각 형성된 한 쌍의 캐패시터 기판(41,42)을 제조하는 공정이다. 제1 캐패시터 기판(41)과 제2 캐패시터 기판(42)은 제조공정이 동일하다. 따라서, 본 실시예에서는 제1 캐패시터 기판(41)의 제조공정을 대표적으로 설명한다.4A and 4C illustrate a process of manufacturing a pair of capacitor substrates 41 and 42 having internal electrodes 415b and 425b formed therein, respectively. The first capacitor substrate 41 and the second capacitor substrate 42 have the same manufacturing process. Therefore, in this embodiment, the manufacturing process of the first capacitor substrate 41 will be representatively described.

제1 캐패시터 기판(41)의 제조공정은 우선 (a)와 같이 제1 유전층(411)의 양면에 제1 동박(412)이 적층된 동박적층판을 준비하고, 제1 동박(412)에는 제1 드라이 필름(413a, 413b)을 적층한다. 제1 드라이 필름(413a, 413b)은 감광성 재질이다. 제1 내부전극(415b)이 형성될 부분을 고려하여 제1 드라이 필름(413b)의 일부를 노광 및 현상 공정으로 제거한다. 이후 에디티브(additive) 방식으로 도금하면, 도 4의 (c)와 같이 제1 내부전극(415b)과 제1 내부패턴(414b)이 형성된다. In the manufacturing process of the first capacitor substrate 41, first, a copper foil laminate in which the first copper foil 412 is laminated on both surfaces of the first dielectric layer 411 is prepared as in (a), and the first copper foil 412 is provided with a first The dry films 413a and 413b are laminated. The first dry films 413a and 413b are photosensitive materials. A portion of the first dry film 413b is removed by an exposure and development process in consideration of a portion where the first internal electrode 415b is to be formed. After the plating in an additive manner, the first internal electrode 415b and the first internal pattern 414b are formed as shown in FIG. 4C.

이후, 제1 드라이 필름(413a, 413b)을 제거하면, 도 4의 (c)와 같은 제1 캐패시터 기판(41)이 완성된다. Thereafter, when the first dry films 413a and 413b are removed, the first capacitor substrate 41 as shown in FIG. 4C is completed.

도 4의 (d)는 코어층(43), 반경화 절연층(44), 제1 및 제2 캐패시터 기판(41, 42)을 정렬하는 단계이다. 도 4의 (d)와 같이 코어층(43)을 중심에 두고, 반경화 절연층(44), 제1 및 제2 캐패시터 기판(41, 42)을 대칭적으로 정렬한다. 이때, 제1 및 제2 캐패시터 기판(41, 42)의 제1 및 제2 내부전극(415b, 425b)은 반경화 절연층(44)을 향하도록 한다. 4D illustrates a step of aligning the core layer 43, the semi-cured insulating layer 44, and the first and second capacitor substrates 41 and 42. As shown in FIG. 4D, the semi-hardened insulating layer 44 and the first and second capacitor substrates 41 and 42 are symmetrically aligned with the core layer 43 at the center. In this case, the first and second internal electrodes 415b and 425b of the first and second capacitor substrates 41 and 42 face the semi-cured insulating layer 44.

도 4의 (e)는 코어층(43), 반경화 절연층(44), 제1 및 제2 캐패시터 기판(41, 42)을 일괄적층하는 단계이다. 기계적인 프레스와 열을 가하면, 반경화 절연층(44)에 의해서 코어층(43)과 제1 및 제2 캐패시터 기판(41, 42)은 적층된다. 이때, 반경화 절연층(44)은 연성의 재질이므로, 적층시 쉽게 변형된다. 따라서, 제1 및 제2 캐패시터 기판(41, 42)에 각각 내재된 제1 및 제2 유전층(411, 421)은 변형되지 않고 적층공정이 진행된다. 추후에 도 4의 (f)와 같이 제1 및 제2 외부전극(415a, 425a)이 형성하여, 캐패시터(45)가 만들어지면 신뢰성 있는 캐패시터(45)가 될 수 있다. 4E illustrates a step of collectively stacking the core layer 43, the semi-cured insulating layer 44, and the first and second capacitor substrates 41 and 42. When mechanical presses and heat are applied, the core layer 43 and the first and second capacitor substrates 41 and 42 are laminated by the semi-cured insulating layer 44. At this time, since the semi-hardened insulating layer 44 is a soft material, it is easily deformed during lamination. Accordingly, the first and second dielectric layers 411 and 421 embedded in the first and second capacitor substrates 41 and 42, respectively, are not deformed and the lamination process is performed. Afterwards, as shown in FIG. 4F, when the first and second external electrodes 415a and 425a are formed and the capacitor 45 is formed, the capacitor 45 may be a reliable capacitor 45.

도 4의 (f)는 제1 및 제2 외부전극(415a, 425a)을 형성하는 공정이다. 도 3의 (e)에서 제거되지 않은 제1 및 제2 동박(412, 422)에 에디티브 방식으로 제1 및 제2 외부전극(415a, 425a)을 형성한다. 본 공정이 완성되면, 캐패시터(45)가 만들어진다.4F illustrates a process of forming the first and second external electrodes 415a and 425a. First and second external electrodes 415a and 425a are formed in the first and second copper foils 412 and 422 not removed in FIG. When the present process is completed, the capacitor 45 is made.

도 3의 실시예에서는 외부전극과 내부전극을 한 번에 형성하였으나, 본 실시예에서는 도 4의 실시예에서는 (a)에서 (c)까지의 공정에서 제1 및 제2 내부전극(415b, 425b)을 형성하고, 도 4의 (f)공정에서 제1 및 제2 외부전극(415a, 425a)을 형성한 것이 특징이다. 이와 같이 한 번에 외부전극과 내부전극을 형성하지 않은 이유는, 제거되지 않은 도 4의 (e)에 도시된 제1 및 제2 동박(412, 422)이 일종의 프레임 역할을 하여, 제1 캐패시터 기판(41)과 제2 케패시터 기판(42)을 각각 지지해준다. In the embodiment of FIG. 3, the external electrode and the internal electrode are formed at one time, but in the present embodiment, the first and second internal electrodes 415b and 425b in the processes of (a) to (c) in the embodiment of FIG. 4. ) And the first and second external electrodes 415a and 425a are formed in the process (f) of FIG. 4. As such, the reason why the external electrode and the internal electrode are not formed at one time is that the first and second copper foils 412 and 422 shown in FIG. The substrate 41 and the second capacitor substrate 42 are respectively supported.

프레임의 역할이 끝나면, (f)공정에서는 제1 및 제2 외부전극(415a, 425a)을 형성하여, 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(40)이 완성된다. When the role of the frame is finished, in the step (f), the first and second external electrodes 415a and 425a are formed to complete the capacitor-embedded printed circuit board 40.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 순서도이며, 도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도이다. 도 6을 참조하면, 캐패시터 기판(51), 유전층(511), 동박(512), 드라이 필름(513), 외부패턴(514a), 내부패턴(514b), 외부전극(515a), 내부전극(515b), 코어층(53), 반경화 절연층(54), 캐패시터(55), 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(40)이 도시되어 있다.5 is a manufacturing flowchart of a capacitor-embedded printed circuit board according to a third embodiment of the present invention, and FIG. 6 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to a third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 6, a capacitor substrate 51, a dielectric layer 511, a copper foil 512, a dry film 513, an outer pattern 514a, an inner pattern 514b, an outer electrode 515a, and an inner electrode 515b. ), A core layer 53, a semi-hardened insulating layer 54, a capacitor 55, and a capacitor-embedded printed circuit board 40 are shown.

S51은 유전층(511)의 일면에 내부전극이 형성된 캐패시터 기판(50)을 제조하는 단계로서, 도 6의 (a)에서 (c)공정은 이에 상응한다.S51 is a step of manufacturing a capacitor substrate 50 having an internal electrode formed on one surface of the dielectric layer 511, and the process (c) of FIG. 6A corresponds thereto.

도 6의 (a)에서 (c)공정을 거쳐 외부전극(515a)과 내부전극(515b)이 형성된 캐패시터 기판(51)이 제조된다.A capacitor substrate 51 having an external electrode 515a and an internal electrode 515b is manufactured through the process of FIGS. 6A through 6C.

우선, 유전층(511)의 양면에 동박(512)이 적층된 동박적층판을 준비하고, 에디티브 방식으로 외부패턴(514a), 내부패턴(514b), 외부전극(515a), 내부전극(515b)을 형성한다. 본 실시예에서는 외부패턴(514a)과 외부전극(515a)을 내부패턴(514b)과 내부전극(515b)을 형성할 때, 동시에 형성하였다. 그러나, 내부패턴(514b)과 내부전극(515b)이 형성된 이후에 외부패턴(514a)과 외부전극(515a)을 형성하더라도 무방하다.First, a copper-clad laminate in which copper foils 512 are laminated on both surfaces of the dielectric layer 511 is prepared, and the outer pattern 514a, the inner pattern 514b, the outer electrode 515a, and the inner electrode 515b are formed in an additive manner. Form. In the present embodiment, the external pattern 514a and the external electrode 515a are simultaneously formed when the internal pattern 514b and the internal electrode 515b are formed. However, the external pattern 514a and the external electrode 515a may be formed after the internal pattern 514b and the internal electrode 515b are formed.

S52는 코어층(53)의 일면에 반경화 절연층(54)을 정렬하고, 반경화 절연층(54)에 내부전극(515b)이 반경화 절연층(54) 방향으로 향하도록 캐패시터 기판(51)을 정렬하는 단계이다. S52 aligns the semi-cured insulating layer 54 on one surface of the core layer 53, and the capacitor substrate 51 so that the internal electrode 515b faces the semi-cured insulating layer 54 in the semi-cured insulating layer 54. ).

도 6의 (d)는 코어층(53), 반경화 절연층(54), 캐패시터 기판(51)을 순차적으로 정렬한 형태를 보여준다. 반경화 절연층(54)은 레진이 주성분이며, 유전층(511)보다 경도가 낮다. 코어층(53)은 프리프레그가 일반적으로 사용된다.6 (d) shows a form in which the core layer 53, the semi-cured insulating layer 54, and the capacitor substrate 51 are sequentially arranged. The semi-hardened insulating layer 54 is mainly composed of resin and has a lower hardness than the dielectric layer 511. The prepreg is generally used for the core layer 53.

S53은 코어층(53), 반경화 절연층(54) 및 캐패시터 기판(51)을 일괄적층하는 단계이다. 일괄적층의 결과 도6의 (e)와 같은 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(50)이 제조되었다. 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(50)에는 캐패시터(55)가 내장되었다.S53 is a step of collectively laminating the core layer 53, the semi-hardened insulating layer 54, and the capacitor substrate 51. As a result of the batch lamination, a capacitor-embedded printed circuit board 50 as shown in Fig. 6E was manufactured. Capacitor embedded printed circuit board 50 has a capacitor 55 built-in.

이와 같은 도 6의 실시예에서 캐패시터(55)를 내장함에 있어서, 유전층(511)의 변형이 일어나지 않았다. 이는 반경화 절연층(54)이 유전층(511)보다 경도 떨어지기 때문에, 일괄적층 공정을 진행하는 중에 자연스럽게 형태가 변형되어 접착층으로서의 역할을 하였기 때문이다.In the case of embedding the capacitor 55 in the embodiment of FIG. 6, no deformation of the dielectric layer 511 occurs. This is because the semi-hardened insulating layer 54 is lower in hardness than the dielectric layer 511, and thus naturally deformed during the batch lamination process to serve as an adhesive layer.

도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도이다. 도 7을 참조하면, 캐패시터 기판(71), 코어층(72), 반경화 절연층(73), 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(70)이 도시되어 있다.7 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention. Referring to FIG. 7, a capacitor substrate 71, a core layer 72, a semi-cured insulating layer 73, and a capacitor embedded printed circuit board 70 are illustrated.

본 실시예에서는 코어층(72)을 중심으로 복수의 반경화 절연층(73)과 캐패시터 기판(71)을 교대로 정렬하여, 일괄적층함으로써, 다단의 캐패시터(75)가 내장된 캐패시터 내장형 인쇄회로기판(70)을 제조하는 공정을 예시한다.In the present embodiment, a plurality of semi-cured insulating layers 73 and capacitor substrates 71 are alternately arranged around the core layer 72 and collectively stacked, whereby a capacitor-embedded printed circuit having a plurality of capacitors 75 is built in. The process of manufacturing the board | substrate 70 is illustrated.

상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 설명하였지만, 해당기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although the preferred embodiments of the present invention have been described above, those skilled in the art may variously modify and modify the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention as set forth in the claims below. It will be appreciated that it can be changed.

도 1은 종래 기술에 따른 시트 라미네이션 방법에 의한 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도.1 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board by a sheet lamination method according to the prior art.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법의 순서도.2 is a flow chart of a manufacturing method of a capacitor-embedded printed circuit board according to a first embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도.3 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to the first embodiment of the present invention.

도 4는 제2 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도.4 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to a second embodiment.

도 5는 본 발명의 제3 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 순서도.5 is a manufacturing flowchart of a capacitor-embedded printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 제3 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도.6 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to a third embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 제4 실시예에 따른 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조 공정도.7 is a manufacturing process diagram of a capacitor-embedded printed circuit board according to a fourth embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

31: 제1 캐패시터 기판 311: 제1 유전층31: first capacitor substrate 311: first dielectric layer

312: 제1 동박 313: 제1 드라이 필름312: 1st copper foil 313: 1st dry film

314a: 제1 외부패턴 314b 제1 내부패턴314a: first external pattern 314b first internal pattern

315a: 제1 외부전극 315b: 제1 내부전극315a: first external electrode 315b: first internal electrode

32: 제2 캐패시터 기판 321: 제2 유전층32: second capacitor substrate 321: second dielectric layer

322: 제2 동박 323: 제2 드라이 필름322: 2nd copper foil 323: 2nd dry film

324a: 제2 외부패턴 324b: 제2 내부패턴324a: second outer pattern 324b: second inner pattern

325a: 제2 외부전극 325b: 제2 내부전극325a: second external electrode 325b: second internal electrode

33: 코어층 34: 반경화 절연층33: core layer 34: semi-hardened insulating layer

35: 캐패시터 30: 캐패시터 내장형 인쇄회로기판35: Capacitor 30: Capacitor-embedded printed circuit board

Claims (6)

유전층의 일면에 내부전극이 형성된 캐패시터 기판을 제조하는 단계;Manufacturing a capacitor substrate having internal electrodes formed on one surface of the dielectric layer; 코어층의 일면에 반경화 절연층을 정렬하고, 상기 반경화 절연층에 상기 내부전극이 상기 반경화 절연층 방향으로 향하도록 상기 캐패시터 기판을 정렬하는 단계;Arranging a semi-cured insulating layer on one surface of the core layer, and aligning the capacitor substrate with the inner electrode toward the semi-cured insulating layer in the semi-cured insulating layer; 상기 코어층, 상기 반경화 절연층 및 상기 캐패시터 기판을 일괄적층하는 단계를 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법.And laminating the core layer, the semi-cured insulating layer, and the capacitor substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 캐패시터 기판을 제조하는 단계에는,In the manufacturing of the capacitor substrate, 상기 유전층의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법.Forming an external electrode on the other surface of the dielectric layer further comprising a capacitor embedded printed circuit board. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 일괄적층하는 단계 이후에,After the batch lamination, 상기 유전층의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법.Forming an external electrode on the other surface of the dielectric layer further comprising a capacitor embedded printed circuit board. 유전층의 일면에 내부전극이 형성된 한 쌍의 캐패시터 기판을 제조하는 단계;Manufacturing a pair of capacitor substrates having internal electrodes formed on one surface of the dielectric layer; 코어층의 양면에 각각 반경화 절연층을 정렬하고, 상기 각각의 반경화 절연층에 상기 내부전극이 상기 반경화 절연층 방향으로 향하도록 상기 캐패시터 기판을 정렬하는 단계; 및Aligning the semi-cured insulating layers on both surfaces of the core layer, and aligning the capacitor substrate with the internal electrodes facing the semi-cured insulating layers in the respective semi-cured insulating layers; And 상기 코어층, 상기 반경화 절연층 및 상기 캐패시터 기판을 일괄적층하는 단계를 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법.And laminating the core layer, the semi-cured insulating layer, and the capacitor substrate. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 한 쌍의 캐패시터 기판을 제조하는 단계는,The manufacturing of the pair of capacitor substrates may include 상기 한 쌍의 캐패시터 기판의 각각의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 캐패시터 내장형 인쇄회로기판의 제조방법.And forming an external electrode on each other surface of the pair of capacitor substrates. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 일괄적층하는 단계 이후에,After the batch lamination, 상기 유전층의 타면에 외부전극을 형성하는 단계를 더 포함하는 캐패시터 내 장형 인쇄회로기판의 제조방법.And forming an external electrode on the other surface of the dielectric layer.
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