KR100848612B1 - Stak-up reading memory with stak-up read joint metal pcb, stak-up read joint metal pcb for stak-up reading memory and method of manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 다층메모리의 측면도.1 is a side view of a multilayer memory according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1 일실시예에 따른 메모리피씨비에 대한 평면도.FIG. 2 is a plan view of a memory PC according to FIG. 1.
도 3a 내지 도 11d은 본 발명의 일실시예에 따른 메모리피씨비의 제조과정에 대한 개략적인 예시도.Figures 3a to 11d is a schematic illustration of the manufacturing process of the memory PC in accordance with an embodiment of the present invention.
도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 메모리피씨비의 제조방법에 대한 블럭도.12 is a block diagram of a manufacturing method of a memory PC according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
1 : 다층메모리 2 : 메모리1: Multi-layer memory 2: Memory
3 : 핀3: pin
10 : 메모리피씨비 12 : 핀접속단자10: memory PC ratio 12: pin connection terminal
13 : 절연막13: insulating film
본 발명은 메모리에 관한 것으로, 보다 상세하게는 적층된 다수의 메모리 사이에 결합되는 메모리피씨비의 핀접속단자에 의하여 상하측의 메모리 핀이 서로 전기적으로 연결되도록 구비되어 공간을 적게 차지하면서도 대용량의 메모리를 형성할 수 있는 다층메모리용 메모리피씨비에 관한 것이다.The present invention relates to a memory, and more particularly, memory pins of upper and lower sides are electrically connected to each other by pin connection terminals of memory PCs coupled between a plurality of stacked memories. A memory PC ratio for a multilayer memory capable of forming
일반적으로 메모리는 컴퓨터 장치에 장착되어 컴퓨터장치의 메인프로세서가 연산작업 중에 임시로 데이터를 저장하고 읽을 수 있도록 구비되는 것이다. 이에 읽기 전용 메모리와 읽기 및 쓰기가 가능한 메모리로 구분되어 진다. 특히 이러한 메모리의 용량이 컴퓨터 장치의 처리 능력과도 연관된다. In general, the memory is mounted on a computer device so that the main processor of the computer device can temporarily store and read data during a calculation operation. It is divided into read-only memory and memory capable of reading and writing. In particular, the capacity of this memory is also associated with the processing power of the computer device.
근래의 컴퓨터 장치는 내부 구성들이 점차 뛰어난 성능을 구현할 수 있도록구비되어, 컴퓨터 장치에 설치될 수 있는 공간은 상대적으로 점점 줄어들고 있다. 이에 반해 고성능의 처리를 위하여서 메모리의 용량은 더욱 늘어나야 하나, 메모리 설치 공간은 점점 좁아지기 때문에 컴퓨터 전체 성능이 향상되지 못하는 문제점이 있다.Modern computer devices are increasingly equipped with internal components to enable superior performance, so that the space that can be installed in the computer device is relatively decreasing. On the other hand, the capacity of the memory must be further increased for high performance processing, but the memory installation space becomes narrower, and thus the overall performance of the computer cannot be improved.
이를 위해 고성능의 미세한 집적회로로 하여 메모리의 구성을 작게 하고자 하나 이러한 것은 막대한 개발비 및 연구비가 소요되며 이에 반해 향상된 월등한 능력의 메모리를 개발하기는 용이하지 않은 문제점이 있다.To this end, a high-performance micro integrated circuit is intended to reduce the memory configuration. However, this requires a huge development cost and a research cost, and on the other hand, there is a problem in that it is not easy to develop a memory having an excellent capability.
상기와 같은 문제점을 극복하기 위한 본 발명은 메모리가 다층으로 적층되는 다층메모리를 제공하여 공간은 적게 차지하나 대용량의 메모리를 제공하도록 하는 목적이 있다.The present invention for overcoming the above problems is to provide a multi-layered memory in which the memory is stacked in multiple layers to occupy less space but to provide a large capacity memory.
또한 적층되는 메모리에 대하여 각 메모리의 접속용 핀 사이에 신호 전송이 양호한 메모리피씨비를 제공하여 데이터의 전송이 용이하도록 하는 목적이 있다.In addition, it is an object to facilitate data transfer by providing a memory PC ratio with good signal transfer between the connection pins of each memory for stacked memories.
나아가 메모리피씨비의 절연막을 TGFR 수지로 충진하여 절연성, 구조적 안정성 또는 내열성 등이 우수하도록 하여 다층메모리의 이용이 안정적인 상태를 유지하도록 하는 목적이 있다.Furthermore, the purpose of the present invention is to maintain the stable use of the multilayer memory by filling the insulating film of the memory PC with TGFR resin so as to have excellent insulation, structural stability or heat resistance.
상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따른 다층메모리용 메모리피씨비는 적층되는 다수의 메모리(2) 사이에 결합되는 메모리피씨비(10)를 구비하되, 상기 메모리피씨비(10)는 내측에 관통홀(11)이 형성된 동박으로 형성되고, 상기 메모리(2)의 다수 핀(3)이 접촉되는 다수의 핀접속단자(12)와, 각각의 상기 핀접속단자(12) 사이를 절연하는 절연막(13)이 형성되며, 상기 메모리피씨비(10)에 대해 상측 메모리(2a)의 핀(3a)과 하측 메모리(2b)의 핀(3b)이 상기 핀접속단자(12)에 의하여 전기적으로 연결되는 것을 특징으로 한다.Memory PC ratio for a multilayer memory according to the present invention for achieving the above object is provided with a memory PC ratio (10) coupled between a plurality of stacked memory (2), the memory PC ratio (10) is a through hole inside An
이에 상기 절연막(13)은 수지재로 구비되어지되, TGFR(Track Gap Filled Resin)로 충진되어 형성될 수 있다.Accordingly, the
그리고 본 발명에 따른 메모리피씨비를 포함한 다층메모리는 다수의 메모리(2)를 적층하여 다층메모리(1)를 구비하되, 상기 각 메모리(2) 사이에 메모리피씨비(10)를 포함하여 구비되고, 상기 메모리피씨비(10)는 내측에 관통홀(11)이 형성된 동박으로 형성되고, 상기 각 메모리(2)의 다수 핀(3)이 접촉되는 다수의 핀접속단자(12)와, 각각의 상기 핀접속단자(12) 사이를 절연하는 절연막(13)이 형성되며, 다수의 상기 메모리(2)는 상기 메모리피씨비(10)의 핀접속단자(12)에 의하여 각각의 단자 핀(3)이 서로 전기적으로 연결되도록 구비되는 것을 특징으로 한다.In addition, the multilayer memory including the memory PC according to the present invention is provided with a multilayer memory (1) by stacking a plurality of memories (2), including a memory PC (10) between each of the memory (2), The memory PC 10 is formed of a copper foil having a through
또한 상기 핀접속단자(12) 및 상기 절연막(13)의 외주연 및 내주연을 둘러지도록 외주연부재 및 내주연부재 중 어느 하나 이상을 더 구비할 수 있으며, 상기 관통홀(11)은 상기 메모리피씨비(10)의 내측으로 하나 또는 복수 개 중 필요한 만큼의 갯수로 형성될 수 있다.In addition, at least one of an outer circumferential member and an inner circumferential member may be further provided to surround the outer circumference and the inner circumference of the
나아가 본 발명에 따른 다층메모리용 메모리피씨비의 제조방법은,Furthermore, the manufacturing method of the memory PC for the multilayer memory according to the present invention,
모재인 박판 형태의 동판(10')에 지지용인 지지공(101)을 천공하여 준비하여 모재를 준비하는 모재준비단계(S01);A base material preparing step (S01) of preparing a base material by preparing a
상기 모재인 동판(10')의 양면에 에칭용 레지스트(etching resist)(102)를 코팅하고 적층되기 위한 메모리(2)의 형태 및 메모리 핀(3)의 위치에 따른 메모리피씨비(10)의 형태 및 절연막(13)이 형성되는 위치에 패턴을 형성하는 레지스트패턴 형성단계(S02);The shape of the memory PC 10 according to the position of the
에칭용 레지스트 패턴이 형성된 상기 동판(10')을 부식시켜 패턴 부분(131) 을 천공하는 에칭단계(S03);An etching step (S03) of etching the copper plate (10 ') on which an etching resist pattern is formed to pierce the pattern portion (131);
패턴 부분(131)이 천공된 동판에서 에칭용 레지스트(102)를 제거하는 레지스트 박리단계(S04);A resist stripping step (S04) of removing the etching resist 102 from the copper plate on which the
상기 동판(10')의 천공된 패턴 부분(131)에 절연용 수지(132)(resin)로 충진하여 절연막(13)을 형성하는 패턴부 충진단계(S05);A pattern portion filling step (S05) of filling the
상기 동판(10')의 패턴 내에 수지(132)가 충진된 상태에서 동판(10')의 양면으로 돌출된 수지(132')를 제거하는 동판연마단계(S06);A copper plate polishing step (S06) of removing the resin 132 'protruding from both sides of the copper plate 10' in a state in which the
상기 동판(10')의 절연막(13) 위치의 양면에 절연층(133)을 도포하여 솔더마스크(Solder Mask) 층을 형성하여 절연막(13)을 형성하고, 상기 동판(10')의 솔더마스크 이외의 동박인 접속부분(121) 상면으로 전도성 금속도금층(122)을 형성하여 전도성 금속단자인 핀접속단자(12)를 형성하며, 절연막(13) 및 핀접속단자(12)를 포함하도록 동판(10')을 제단하여 메모리피씨비(10)을 제조하는 솔더링마스킹단계(S07)를 포함하여 구비되는 것을 특징으로 한다.The
이하 첨부되는 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail.
도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 다층메모리의 측면도이고, 도 2는 도 1 일실시예에 따른 메모리피씨비에 대한 평면도이며, 도 3a 내지 도 11d은 본 발명의 일실시예에 따른 메모리피씨비의 제조과정에 대한 개략적인 예시도이고, 도 12는 본 발명의 일실시예에 따른 메모리피씨비의 제조방법에 대한 블럭도를 각각 도시한 것이다.1 is a side view of a multilayer memory according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a memory PC ratio according to FIG. 1, and FIGS. 3A to 11D are memory PC ratios according to an embodiment of the present invention. Figure 12 is a schematic illustration of the manufacturing process of, Figure 12 shows a block diagram for a method of manufacturing a memory PC according to an embodiment of the present invention, respectively.
이중 도 3b는 도 3a의 "A-A'" 부분에 대한 단면도이고, 도 4b는 도 4a의 "B" 부분에 대한 확대도이고, 도 4c 및 도 4d는 도 4b의 "B1-B1'" 부분 및 "B2-B2'" 부분에 대한 단면도이다.3B is a cross-sectional view of the portion “A-A '” of FIG. 3A, FIG. 4B is an enlarged view of the portion “B” of FIG. 4A, and FIGS. 4C and 4D are the “B1-B1 ′” of FIG. 4B. Sectional drawing about a part and "B2-B2 '" part.
그리고 도 5b는 도 5a의 "C" 부분에 대한 확대도이고, 도 5c 및 도 5d는 도 5b의 "C1-C1'" 부분 및 "C2-C2'" 부분에 대한 단면도이다. 도 6b는 도 6a의 "D" 부분에 대한 확대도이고, 도 6c 및 도 6d는 도 6b의 "D1-D1'" 부분 및 "D2-D2'" 부분에 대한 단면도이다. 도 7b는 도 7a의 "E" 부분에 대한 확대도이고, 도 7c 및 도 7d는 도 7b의 "E1-E1'" 부분 및 "E2-E2'" 부분에 대한 단면도이다. 도 8b는 도 8a의 "F" 부분에 대한 확대도이고, 도 8c 및 도 8d는 도 8b의 "F1-F1'" 부분 및 "F2-F2'" 부분에 대한 단면도이다. 도 9b는 도 9a의 "G" 부분에 대한 확대도이고, 도 9c 및 도 9d는 도 9b의 "G1-G1'" 부분 및 "G2-G2'" 부분에 대한 단면도이다. 도 10b는 도 10a의 "H" 부분에 대한 확대도이고, 도 10c 및 도 10d는 도 10b의 "H1-H1'" 부분 및 "H2-H2'" 부분에 대한 단면도이다. 그리고 도 11b는 도 11a의 "I" 부분에 대한 확대도이다.5B is an enlarged view of portion “C” of FIG. 5A, and FIGS. 5C and 5D are cross-sectional views of portions “C1-C1 ′” and “C2-C2 ′” of FIG. 5B. 6B is an enlarged view of portion “D” of FIG. 6A, and FIGS. 6C and 6D are cross-sectional views of portions “D1-D1 ′” and “D2-D2 ′” of FIG. 6B. FIG. 7B is an enlarged view of portion “E” of FIG. 7A, and FIGS. 7C and 7D are cross-sectional views of portions “E1-E1 ′” and “E2-E2 ′” of FIG. 7B. 8B is an enlarged view of portion “F” of FIG. 8A, and FIGS. 8C and 8D are cross-sectional views of portions “F1-F1 ′” and “F2-F2 ′” of FIG. 8B. FIG. 9B is an enlarged view of portion “G” of FIG. 9A, and FIGS. 9C and 9D are cross-sectional views of portions “G1-G1 ′” and “G2-G2 ′” of FIG. 9B. FIG. 10B is an enlarged view of portion “H” of FIG. 10A, and FIGS. 10C and 10D are cross-sectional views of portions “H1-H1 ′” and “H2-H2 ′” of FIG. 10B. And FIG. 11B is an enlarged view of portion “I” of FIG. 11A.
즉 본 발명 다층메모리(1)용 메모리피씨비(10)는 도 1 내지 도 12에서와 같이, 적층되는 다수의 메모리(2) 사이에 결합되는 메모리피씨비(10)를 구비한 것이다.That is, the
이에 상기 메모리피씨비(10)는 내측에 관통홀(11)이 형성된 동박으로 형성되고, 상기 메모리(2)의 다수 핀(3)이 접촉되는 다수의 핀접속단자(12)와, 각각의 상 기 핀접속단자(12) 사이를 절연하는 절연막(13)이 형성되도록 구비하였다. 그리고 하나의 실시예로 보이고 있는 첨부된 도면에서는 관통홀(11)을 두 개인 것을 예시하였으나, 정사각형 형상의 메모리의 경우에는 단일의 관통홀이 형성될 수 있으며, 필요에 따라 다수개의 관통홀(11)이 구비된 형태로 제조하는 것도 가능하다. Accordingly, the
그리하여 상기 메모리피씨비(10)에 대해 상측 메모리(2a)의 핀(3a)과 하측 메모리(2b)의 핀(3b)이 상기 핀접속단자(12)에 의하여 전기적으로 연결되는 것이다.Thus, the
따라서 도 1의 측면도에서와 같이 다층메모리(1)는 다수의 메모리(2)가 적층되어 구비되는 것으로, 각각의 메모리(2) 사이에 메모리피씨비(10)가 구비되는 구조를 이루고 있다. 즉 다층메모리(1)를 구성하되 다수의 메모리(2)의 접속용 핀(3)을 서로 전기적으로 연결되도록 메모리피씨비(10)를 구성하는 것으로 하여 다양한 실시가 실현될 수 있다. 이에 본 발명에서는 동판(10')을 이용하여 얇은 금속판재의 형태로 메모리피씨비(10)를 제조하는 것을 예시하였으며, 이에 메모리피씨비(10)가 핀접속단자(12)와 절연막(13)으로 하여 구성됨을 예시하였다.Accordingly, as shown in the side view of FIG. 1, the multilayer memory 1 is provided by stacking a plurality of
이러한 본 발명에 따른 다층메모리(1)의 메모리(2)는 일반적으로 알려진 공지의 메모리를 이용할 수 있다.The
특히 다층으로 메모리(2)를 구성하되, 각 메모리(2)의 단자 핀(3)들은 서로 전기적으로 연결된 상태로 적층 결합되는 것이기 때문에, 데이터의 저장 및 읽기는 다층메모리 보드 또는 컴퓨터장치의 메모리입출력 데이터 처리부의 제어에 따라 제어되는 것이다. 이러한 구성은 일반적으로 메모리에 데이터를 저장 및 읽기의 방법 을 이용하는 것이면 족하다.In particular, since the
이에 그 일예를 살펴보면, 컴퓨터장치에서 데이터를 특정 메모리에 저장하거나 저장된 데이터를 읽고자 할 경우에는, 각 층으로 분할된 각층의 메모리는 해당되는 번지수로 할당되어져 있으며, 이에 할당된 번지에 해당하는 제어신호가 수신되면 해당메모리는 데이터를 저장하거나 읽는 작업을 수행하게 된다. 이를 위하여 다층메모리의 보드 또는 컴퓨터장치에는 다층메모리의 각층의 메모리 별로 할당된 번지수를 구분할 수 있도록 구성될 수 있으며, 또한 각 메모리에도 해당 메모리의 할당된 번지수와 제어부로부터 전송된 메모리 번지수를 비교할 수 있는 판독부가 구비될 수 있는 것이다.As an example, when a computer device wants to store data in a specific memory or read stored data, the memory of each layer divided into layers is assigned a corresponding address number, When the control signal is received, the corresponding memory stores or reads data. To this end, the board or computer device of the multilayer memory may be configured to distinguish the assigned address for each layer of the memory of the multilayer memory. Also, the assigned address of the memory and the memory address transmitted from the controller may be assigned to each memory. Comparable readings may be provided.
이러한 구성을 본 발명의 실시에 따른 일 실시예를 제시하는 것이며, 그 외에 일반적으로 알려진 데이터의 입출력 방법을 이용하여 본 발명이 실현될 수 있는 것이다.This configuration is to provide an embodiment according to the embodiment of the present invention, in addition to the present invention can be realized by using the input and output method of generally known data.
또한 본 발명에서는 다수의 메모리(2)로 되는 다층메모리(1) 및 메모리피씨비(10)의 형태를 직사각형 형상으로 도시하여 설명하고 있으나, 이에 한정되는 것은 아니며, 설치되는 장치 및 주변 구성 등에 따라 그 형태는 일반적으로 알려진 다양한 형태로 변형되어 실현될 수 있음은 너무나도 당연한 것이다.In the present invention, the shapes of the multilayer memory 1 and the
이에 본 발명에 따른 메모리피씨비(10)에 있어서, 각 핀접속단자(12)들을 서로 절연되도록 하는 절연막(13)은 전기전도율이 낮은 수지재로 구성될 수 있다. 특히 민감하게 작동되어지는 데이터의 전송에 있어서 다른 접속단자와의 전기적 절연은 신호 전송의 안정성을 위하여 중요한 것으로, 전기전도율이 거의 "0"에 가까운 재질로 구비되어야 할 것이다. 물론 이러한 절연막(13)의 재질은 일반적으로 알려진 부도체로 구비될 수 있다.In the
이에 본 발명의 출원인이 먼저 발명한 "TGFR을 이용한 PCB의 제조방법"에 이용된 TGFR(Track Gap Filled Resin)를 이용함이 바람직하다. 이는 박막형태로 형성되는 본 발명의 메모리피씨비(10)는 너무 얇기 때문에 상기의 설명에서와 같이 각 접속단자 사이에 구비된 절연막(13)이 안정된 형태를 유지하여야 한다.Therefore, it is preferable to use TGFR (Track Gap Filled Resin) used in the "method of manufacturing a PCB using TGFR" invented by the applicant of the present invention. This is because the
이에 본 발명의 출원인이 먼저 개발한 TGFR 수지는 접착력이 우수하고 전기적으로 안정된 절연성을 가지고 있을 뿐만 아니라 열안정성도 갖춘 것이기 때문에 메모리피씨비(10)의 절연막(13)으로 적절한 것이다.Therefore, the TGFR resin developed by the applicant of the present invention is suitable as the insulating
이러한 TGFR 수지를 이루는 성분의 일례의 구성은, DGEBPA(DiGlycidyl Ether of BisPhenol A; CAS No. 25068-38-6) 18 ~ 23 중량부, Modified with Cyclo-Epoxy 3 ~ 7 중량부, DBDO(Decabromo diphenyl oxide) 27 ~ 33 중량부, Antimony Trioxide 3 ~ 7 중량부, Aluminum Hydrate 30 ~ 35 중량부, dicyandiamide 3 ~ 7 중량부를 포함한 합성물질로 구성될 수 있다.One example of the composition of the TGFR resin is DGEBPA (DiGlycidyl Ether of BisPhenol A; CAS No. 25068-38-6) 18 to 23 parts by weight, Modified with Cyclo-
또 다른 예로는 Modified with Cyclo-Epoxy 10 중량부, Aluminum Hydrate 50 중량부, Mineral Water 30 중량부, 기타 난연제와 경화제 및 색소안료 10 중량부를 포함한 합성물질로 하여 TGFR 수지를 구성할 수 있다.In another example, the TGFR resin may be composed of a synthetic material including 10 parts by weight of Modified with Cyclo-Epoxy, 50 parts by weight of Aluminum Hydrate, 30 parts by weight of Mineral Water, and 10 parts by weight of other flame retardants and curing agents and pigments.
또한 절연막(13)들과 핀접속단자(12)들의 결합상태를 보다 견고하게 할 수 있도록 필요에 따라 이들 다수의 절연막(13) 및 핀접속단자(12)들을 외주연으로부터 감싸는 형태로 하여 절연체의 외주연부재가 구비될 수 있다. 이러한 외주연부재 의 구성은 절연성의 수지재로 구비됨이 바람직하고, 탄성력을 가지도록 하여, 결국 외주연부재에 의하여 절연막(13) 및 핀접속단자(12)들이 흐트러지지 않고 안정적인 형태를 유지하도록 구비될 수 있다.In addition, the insulating
또한 마찬가지로 관통홀(11)의 가장자리를 따라 절연막(13) 및 핀접속단자(12)들이 둘러지도록 내주연부재를 구비할 수 있다. 이러한 내주연부재도 탄성력을 가지는 수지재로 구비됨이 바람직하며, 이로써 다수의 절연막(13) 및 핀접속단자(12)들이 서로 이탈되지 않고 안정된 형태를 유지할 수 있는 것이다.In addition, the inner circumferential member may be provided to surround the insulating
아울러 외주연부재와 내주부연재는 둘 중 어느 하나만 형성시키거나 동시에 형성되도록 제조하는 것도 가능하다.In addition, the outer circumferential member and the inner circumferential member may be manufactured so as to form only one or both.
그리고 메모리피씨비(10)는 동판으로 구성됨을 예시하였으며, 이에 한정되지 않고 전기 전도율이 양호한 것이라면 일반적으로 알려진 것을 이용할 수 있다.In addition, the
이와 같이 구비되는 본 발명에 따른 메모리피씨비(10)의 제조과정은 도 3a 내지 도 12에서와 같이 동판을 이용한 에칭 방법을 이용하여 제조할 수 있는 것이다.The manufacturing process of the
그 실시예를 살펴보면, 도 3a 및 도 3b에서와 같이, 우선 모재인 박판 형태의 동판(10')에 지지용인 지지공(101)을 천공하여 준비하여 모재를 준비한다(모재준비단계(S01)).Looking at the embodiment, as shown in Figures 3a and 3b, first prepares the base material by drilling the
이렇게 준비된 상기 모재인 동판(10')의 양면에 에칭용 레지스트(etching resist)(102)를 코팅하고도 4a 내지 도 4d에서와 같이 적층되기 위한 메모리(2)의 형태 및 메모리 핀(3)의 위치에 따른 메모리피씨비(10)의 형태 및 절연막(13)이 형 성되는 위치에 패턴을 형성하는 레지스트패턴 형성단계(S02)를 진행한다.Etching resist 102 is coated on both surfaces of the
이때 형성한 패턴의 형상은 도 4b에서 알 수 있듯이 이후 완성된 메모리피씨비(10)의 절연막(13)이 위치하는 것으로, 평면상으로는 장홈을 이루는 형상이다.At this time, the shape of the formed pattern is as shown in Figure 4b after the insulating
그리고 에칭용 레지스트 패턴이 형성된 상기 동판(10')을 부식시켜 도 5a 내지 도 5d에서와 같이 패턴 부분(131)을 천공하는 에칭단계(S03)를 진행한다.Then, the copper plate 10 'on which the etching resist pattern is formed is corroded, and the etching step S03 of drilling the
이후 패턴 부분(131)이 천공된 동판에서 에칭용 레지스트(102)를 제거한다(레지스트 박리단계(S04), 도 6a 내지 도 6d 참조).Thereafter, the etching resist 102 is removed from the copper plate on which the
이와 같이 상기 동판(10')에 패턴부분(131)이 천공된 상태에서, 도 7a 내지 도 7d에서와 같이 천공된 패턴 부분(131)에 절연용 수지(132)(resin)로 충진하여 절연막(13)을 형성하게 된다.(패턴부 충진단계(S05)). 이때 충진되는 절연용 수지로는 TGFR 수지로 구비함이 바람직하다.As described above, in the state in which the
그리고 상기 동판(10')의 패턴 내에 수지(132)가 충진된 상태에서는 동판(10')의 양면으로 충진되어진 수지(132)가 일부 돌출되기 때문에, 도 8a 내지 도 8d에서와 같이 돌출된 수지(132')를 제거하게 된다.(동판연마단계(S06)).In the state where the
그리고 난 후, 상기 동판(10')의 절연막(13) 위치의 양면에 절연층(133)을 도포하여 도 9a 내지 도 9d와 같이 솔더마스크(Solder Mask) 층을 형성하여 절연막(13)을 형성하는 솔더마스킹단계(S07)를 진행한다. 이러한 솔더마스킹단계에 따른 솔더마스크 층은 절연막(13)에만 형성되는 것이다. 그리하여 각 메모리(2)의 접속 핀(3)들이 서로 전기적으로 절연될 수 있도록 구비되는 것이다.Then, an insulating
또한 이러한 솔더마스킹단계는 상기 동판(10')의 솔더마스크 이외의 동박인 접속부분(121) 상면으로, 도 10c 및 도 10d와 같이 전도성 금속도금층(122)을 형성하여 전도성 금속단자인 핀접속단자(12)를 형성하게 된다. 그러면 도 10a 내지 도 10d와 같이, 메모리피씨비(10)의 양면은 고른 면을 형성하게 되는 것이다. 즉 메모리(2)의 접속 핀(3)과 접속된 상태가 되는 핀접속단자(12)와 절연막(13)으로 되는 표면을 이루게 된다.In addition, the solder masking step is a pin connecting terminal which is a conductive metal terminal by forming a conductive
이와 같이 절연막(13) 및 핀접속단자(12)로 구분되어진 동판(10')을 메모리(2)의 형태에 알맞은 크기로 제단하게 된다. 즉 도 11a 내지 도 11d와 같이 절연막(13) 및 핀접속단자(12)를 포함하도록 메모리피씨비(10) 별로 제단하고, 상기 메모리피씨비(10)의 내측을 천공하여 메모리피씨비(10)의 형태가 형성되도록 하는 것이다. 이에 외곽 절취선(103) 대로 먼저 제단한 후, 내측 절취선(104)을 따라 제단하여 메모리피씨비(10)를 제조한다.Thus, the copper plate 10 'divided into the insulating
아울러 앞서 설명한 바와 같이, 필요에 따라 외주연부재 혹은 내주연부재 중 어느 하나 혹은 동시에 형성시키는 추가공정을 실시함으로써, 절연막(13)들과 핀접속단자(12)들의 결합상태가 보다 견고하도록 제조하는 것도 바람직하다. In addition, as described above, by performing the additional process of forming either one of the outer peripheral member or the inner peripheral member or at the same time, if necessary, to make the bonding state of the insulating
이후 이와 같이 제조된 메모리피씨비(10)를 적층되는 각각의 메모리(2) 사이에 위치시키되, 메모리피씨비(10)의 핀접속단자(12)가 각 메모리(2)의 접속용 핀(3)의 위치와 일치되게 적층하여 다층메모리(1)를 제조하게 되는 것이다.Thereafter, the
이에 도 1에서는 다층메모리(1)에서 외부로 접속되는 접속단자(5)를 최하측의 메모리피씨비(10a)의 핀접속단자(12a)의 아래에 연결됨을 예시하였으나, 상부로부터 하부로 이어지게 각 메모리피씨비(10)가 모두 접속되도록 구비되는 별도의 접 속단자로 구비될 수도 있다. 이러한 접속단자(5)는 미도시된 다층메모리의 보드 또는 컴퓨터장치의 메모리용 입출력부에 장착되어 이용되는 것이다.1 illustrates that the
따라서 하나의 접속단자에 대하여 다수의 메모리가 적층된 상태로 구성될 수 있어, 컴퓨터 장치에 많은 공간을 차지하지 않고서 대용량의 메모리를 제공할 수 있도록 하는 장점이 있다.Therefore, since a plurality of memories can be configured in a stacked state for one connection terminal, there is an advantage in that a large capacity memory can be provided without occupying a lot of space in a computer device.
이상으로 본 발명의 실시예에 대하여 상세히 설명하였으나, 이는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명을 용이하게 실시할 수 있도록 일실시예를 기재한 것이므로, 상기 실시예의 기재에 의하여 본 발명의 기술적 사상이 제한적으로 해석되어서는 아니된다.The embodiments of the present invention have been described in detail above, but since the embodiments have been described so that those skilled in the art to which the present invention pertains can easily carry out the present invention, The technical spirit of the present invention should not be interpreted limitedly.
상기와 같이 구비되는 본 발명은 메모리가 다층으로 적층되는 다층메모리를 제공하여 공간은 적게 차지하나 대용량의 메모리를 제공할 수 있도록 하는 효과가 있다.The present invention provided as described above has an effect of providing a memory of a large capacity by providing a multi-layer memory in which the memory is stacked in a multi-layer, taking up less space.
특히 적층되는 메모리에 대하여 각 메모리의 접속용 핀 사이에 신호 전송이 양호한 메모리피씨비를 제공하여 데이터의 전송이 용이하도록 하는 효과가 있다.In particular, there is an effect of facilitating the transfer of data by providing a memory PC ratio with a good signal transfer between the connection pins of each memory for stacked memories.
나아가 메모리피씨비의 절연막을 TGFR 수지로 충진하여 절연성, 구조적 안정성 또는 내열성 등이 우수하도록 하여 다층메모리를 안정적으로 이용하도록 하는 효과가 있다.Furthermore, the insulating film of the memory PC is filled with TGFR resin to have excellent insulation, structural stability, heat resistance, and the like, thereby making it possible to stably use the multilayer memory.
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Citations (5)
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2007
- 2007-06-04 KR KR1020070054417A patent/KR100848612B1/en not_active IP Right Cessation
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