KR100831882B1 - Device for correcting a defect - Google Patents

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KR100831882B1
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야마나카아키히로
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엔티엔 가부시키가이샤
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Abstract

빔 웨이스트 방식으로 레이저 웰딩 수정을 행함으로써, 수정 확률을 대폭 향상시키는 결함 수정 방법 및 결함 수정 장치를 제공한다. Provided are a defect correction method and a defect correction apparatus that greatly improve the probability of correction by performing laser welding correction in a beam waist method.

레이저 조사 기구(1)로부터의 레이저 광(16)을 보정 렌즈(19)로 빔 웨이스트 상태로 보정하고, 보정한 레이저 광(16)을 결상 렌즈(18)로 결상하며, 대물 렌즈(15)를 개재시켜 휘점 결함 부분에 조사하여, 전극과 전극끼리를 레이저 웰딩에 의해 수정한다.
The laser light 16 from the laser irradiation mechanism 1 is corrected in the beam-waist state with the correction lens 19, the corrected laser light 16 is imaged with the imaging lens 18, and the objective lens 15 is It interposes and irradiates a bright spot defect part, and correct | amends an electrode and electrodes by laser welding.

빔 웨이스트 방식, 레이저 광, 레이저 조사 기구Beam waste method, laser light, laser irradiation apparatus

Description

결함 수정 장치{Device for correcting a defect}Device for correcting a defect

도 1은 본 발명의 일 실시예인 결함 수정 장치의 외관 사시도. 1 is an external perspective view of a defect correction apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예인 빔 웨이스트 방식에 의한 광학계 개념도.2A and 2B are conceptual views illustrating an optical system using a beam waist method according to an embodiment of the present invention.

도 3a 및 도 3b는 종래의 휘점 결함을 수정하는 방법을 설명하기 위한 도면.3A and 3B are views for explaining a method for correcting a conventional bright spot defect.

도 4a 및 도 4b는 종래의 슬릿을 사용한 광학계의 개념도.4A and 4B are conceptual views of an optical system using a conventional slit.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

1: 레이저 조사 기구 2: X-Y 테이블1: laser irradiation apparatus 2: X-Y table

3: Z축 테이블 4: 차크대3: Z-axis table 4: Chalk stand

5: 호스트 컴퓨터 6: 화상 처리 기구5: host computer 6: image processing apparatus

7: 제어용 컴퓨터 8: 투과 조명 광원7: computer for control 8: transmitting light source

9: 모니터 15: 대물 렌즈9: monitor 15: objective lens

16: 레이저 광 17: 슬릿16: laser light 17: slit

18: 결상 렌즈 19: 보정 렌즈
18: imaging lens 19: correction lens

본 발명은 결함 수정 방법 및 결함 수정 장치에 관한 것이며, 특히, 액티브 매트릭스 구동 방식(TFT 방식) 액정 디스플레이의 제조 공정 중에 발생하는 결함에 관해서, 제조 공정 중의 셀 공정에서 결함을 수정하는 결함 수정 방법 및 결함 수정 장치에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD The present invention relates to a defect correction method and a defect correction apparatus, and in particular, a defect correction method for correcting a defect in a cell process during a manufacturing process, with respect to a defect occurring during a manufacturing process of an active matrix driving method (TFT method) liquid crystal display, and It relates to a defect correction device.

최근, 액정 디스플레이(LCD)는 노트형 퍼스널 컴퓨터의 메인 표시 디바이스로서 그 지위를 확립하고, 나아가서는 디스크 탑형 퍼스널 컴퓨터의 표시 디바이스로서도 그 지위를 확립하고 있다. 이러한 상황에 있어서, 한층 더 수요 확대를 위해서는 LCD의 저가격화가 필요하며, 코스트 삭감을 위해 LCD 메이커에 있어서는, 제품 비율 향상을 목표로 하여, 보다 완성품에 가까운 셀 상태에서의 결함 수정을 행하도록 되어 오고 있다. In recent years, a liquid crystal display (LCD) has established its status as a main display device of a notebook personal computer, and furthermore, has established its status as a display device of a disk top personal computer. In such a situation, in order to further increase demand, LCDs need to be lowered, and in order to reduce costs, LCD makers have been trying to correct defects in a cell state closer to the finished product with the aim of improving the product ratio. have.

여기서, 셀 상태란 LCD를 구성하는 2장의 유리 기판이 조합된 상태인 것을 호칭하며, 유리 기판 사이에는 이미 액정이 봉입되어 있으며, 구동 회로를 접속하여 신호를 주면 디스플레이로서 동작 가능한 상태로 되어 있는 것을 말한다. 이러한 셀 상태에 있어서는, 이미 많은 제조 공정을 거쳐 오고 있으며, 이 시점에서의 결함 발생에 의한 제품 폐기는 최종 출하 제품의 코스트 업으로 이어진다. Here, the cell state refers to a state in which two glass substrates constituting the LCD are combined, and the liquid crystal is already enclosed between the glass substrates, and when the driving circuit is connected to give a signal, the cell state is operable as a display. Say. In such a cell state, many manufacturing processes have already been passed, and product disposal due to defects at this point leads to a cost up of the final shipped product.

셀 상태에서의 주된 결함에는, 본래 접속되어 있는 전극이 결여되어 있는 전극 오픈 결함이나 전극끼리가 단락하는 쇼트 결함에 의한 것과, TFT 동작 불량에 의한 것이 있다. 제품으로서 출하하는 데, 셀 상태에 있어서의 결함으로 특히 문제가 되는 것이 LCD로서 동작하고 있는 상태에 있어서, 항상 광이 투과하는 화소가 되는 결함, 이것은 통상 「휘점 결함」이라 불리고 있다. 휘점 결함은 상기 광이 투과하기 때문에, 결함이 사람의 눈에 띄기 쉬워 LCD 표시 품질을 크게 저하시키기 때문에, 제품으로서 출하할 수 없다. The main defects in the cell state include an electrode open defect in which an electrode originally connected is lacking, a short defect in which electrodes are short-circuited, and a TFT operation defect. In shipment as a product, a defect in the cell state is a defect that always becomes a pixel through which light is transmitted in a state in which it is operating as an LCD, which is usually called a "bright spot defect". The bright spot defects cannot be shipped as a product because the light is transmitted, and the defects are easy to be noticed by humans and greatly degrade the LCD display quality.

여기서, 특히 표준 화이트 모드의 LCD에 있어서의 휘점 결함 수정에 대해서 설명한다. 여기서 말하는 표준 화이트 모드 LCD란 전원이 오프인 상태에 있어서 화소가 광을 투과시키며, 전원이 온 상태에 있어서 화소가 광을 차광하는 모드의 LCD로, 최근의 투과형 LCD는 대개가 이 모드를 채용하고 있다. 이에 대해, 표준 블랙 모드 LCD도 있지만, 표준 블랙 모드에 있어서는, 흑색 표시 품질이 표준 화이트 모드 LCD에 비해 떨어지기 때문에, 현재는 거의 채용되고 있지 않다. Here, the bright point defect correction in the LCD of the standard white mode will be described. The standard white mode LCD referred to herein refers to an LCD in which a pixel transmits light when the power is turned off, and a pixel shields light when the power is turned on. Most recent transmission LCDs generally adopt this mode. have. On the other hand, although there is a standard black mode LCD, since the black display quality is inferior to the standard white mode LCD in the standard black mode, it is hardly employed at present.

표준 화이트 모드 LCD에 있어서의 휘점 결함은 전극 오픈이나 쇼트 결함이나 TFT 동작 불량 등에 의해, 화소 전극에 구동 전압이 인가되지 않게 됨으로써 발생한다. 이러한 휘점 결함을 수정하는 방법으로서, 이미 일본국 공개 특허 공보 제(평) 8-110527호에 의해 제안되고 있다. 종래부터 제안되고 있는 수정 방법은 휘점 결함이 된 화소의 TFT의 소스 전극(또는 드레인 전극)과 게이트 전극을 레이저 웰딩(laser welding)이라 불리는 방법에 의해 단락함으로써, 휘점 결함을 흑점 결함으로 하는 방법이다. The bright spot defect in the standard white mode LCD is caused by the fact that the driving voltage is not applied to the pixel electrode due to electrode open, short defect, TFT operation failure, or the like. As a method of correcting such a bright spot defect, it is already proposed by Unexamined-Japanese-Patent No. 8-110527. A conventionally proposed correction method is a method in which a source defect (or drain electrode) and a gate electrode of a TFT of a pixel having a spot defect are short-circuited by a method called laser welding, thereby making the spot defect a black spot defect. .

도 3a 및 도 3b는 그러한 휘점 결함을 수정하는 방법을 설명하기 위한 도면이다. 도 3a에 있어서, TFT 패턴이 형성된 유리 기판(11) 너머 절연층(14)을 개재시킨 TFT의 소스 전극(또는 드레인 전극)(12)과 게이트 전극(13)의 중복부에 대물 렌즈(15)를 개재시켜 레이저 광(16)을 조사하고, 레이저 광(16)에 의한 열 에너지에 의해 전극(12과 13)을 용접하여 전기적으로 단락시킨다. 그것에 의해, 도 3b에 도시하는 바와 같이, 전극(12과 13)이 접속된다. 3A and 3B are diagrams for explaining a method of correcting such bright spot defects. In FIG. 3A, the objective lens 15 is provided at an overlapping portion between the source electrode (or drain electrode) 12 and the gate electrode 13 of the TFT via the insulating layer 14 over the glass substrate 11 on which the TFT pattern is formed. Is irradiated with the laser light 16, and the electrodes 12 and 13 are welded and electrically shorted by the thermal energy by the laser light 16. Thereby, as shown in FIG. 3B, the electrodes 12 and 13 are connected.

종래는, 이 레이저 웰딩에, 도 4에 도시하는 바와 같이 Q스위치 부착 YAG 레이저 광원 등을 사용하여, 슬릿(17)과 결상 렌즈(18)에 의해 레이저 광(16)을 임의의 조사 형상으로 조여, 대물 렌즈(15)를 개재시켜 결함부에 조사함으로써 수정을 행했었다. Conventionally, the laser welding 16 is tightened to an arbitrary irradiation shape by the slit 17 and the imaging lens 18 using a YAG laser light source with a Q switch or the like for this laser welding. The correction was performed by irradiating the defective portion with the objective lens 15 interposed therebetween.

종래부터 사용되고 있는 Q스위치 부착 레이저 광원의 레이저 광(16)을 슬릿(17)으로 조인 광학계에 의한 레이저 웰딩 수정에서는, 도 4b에 도시하는 바와 같이, 슬릿(17) 형상으로 조인 레이저 광(16)의 조사 범위 내에 강도 분포 차이가 있기 때문에, 수정은 가능하지만 수정 성공율이 낮다는 문제점이 있었다 In the laser welding correction by the optical system which has conventionally used the laser light 16 of the laser light source with a Q-switch with the slit 17, as shown in FIG. 4B, the laser light 16 tightened in the shape of the slit 17 is shown. Since there is a difference in intensity distribution within the range of investigation, there is a problem that the correction is possible but the correction success rate is low.

그러므로, 본 발명의 주된 목적은 빔 웨이스트 방식(beam waist system)으로 레이저 웰딩 수정을 행함으로써, 수정 확률을 대폭 향상시키는 것이 가능한 결함 수정 방법 및 결함 수정 장치를 제공하는 것이다.Therefore, the main object of the present invention is to provide a defect correction method and a defect correction apparatus capable of significantly improving the correction probability by performing laser welding correction in a beam waist system.

본 발명은 전원 오프 시에 화소가 광을 투과시키고, 전원 온 시에 화소가 광을 차광하는 모드를 갖는 액정 디스플레이에 있어서, 항상 화소가 광을 투과시키는 휘점 결함을 수정하는 결함 수정 방법으로, 휘점 결함을 수정하기 위해, 레이저 광의 빔 웨이스트를 사용하는 것을 특징으로 한다. The present invention is a defect correction method for correcting a defect in a bright point in which a pixel always transmits light in a liquid crystal display having a mode in which a pixel transmits light at power-off and the pixel shields light at power-on. In order to correct a defect, the beam waist of laser light is used.

다른 발명은, 전원 오프 시에 화소가 광을 투과시키고, 전원 온 시에 화소가 광을 차광하는 모드를 갖는 액정 디스플레이에 있어서, 항상 화소가 광을 투과시키는 휘점 결함을 수정하는 결함 수정 장치로, 수정 대상이 되는 피수정 대상 기판을 수평 방향으로 이동시키기 위한 테이블과, 피수정 대상 기판 상의 화소의 휘점 결함을 검사하기 위한 검사 수단과, 검사 수단으로 검사된 휘점 결함을 수정하기 위한 레이저 광을 조사하는 레이저 광원과, 레이저 광의 광축 상에 삽입되며, 레이저 광을 빔 웨이스트 상태로 하는 보정 광학계를 구비한 것을 특징으로 한다. Another invention is a liquid crystal display having a mode in which a pixel transmits light when the power is turned off and the light shields the light when the power is turned on. Irradiates a table for moving the substrate to be modified in the horizontal direction, inspection means for inspecting a bright spot defect of a pixel on the substrate to be modified, and laser light for correcting a bright spot defect inspected by the inspection means And a correction optical system inserted on the optical axis of the laser light, the laser light being in a beam-waist state.

따라서, 이들 발명에 의하면, 레이저 광의 빔 웨이스트를 사용함으로써, 수정 확률을 대폭 향상할 수 있다. Therefore, according to these inventions, the correction probability can be significantly improved by using the beam waist of laser light.

또, 검사 수단은 관찰 광학계를 포함하여, 관찰 광학계의 광축과 레이저 광원의 광축을 동일 축 상에 배치한 것을 특징으로 한다. In addition, the inspection means includes the optical axis of the observation optical system and the optical axis of the laser light source including the observation optical system on the same axis.

또, 레이저 광을 스캔함으로써, 전극끼리가 단락하는 결함의 수정 혹은 휘점 결함의 원인이 되는 전극끼리를 용접하는 것을 특징으로 한다. In addition, by scanning the laser light, the electrodes which cause the correction or the defect of the bright point defects between the electrodes are welded.

더욱이, 테이블을 수평 방향으로 이동시킴으로써 레이저 광을 스캔하는 것을 특징으로 한다. Furthermore, the laser beam is scanned by moving the table in the horizontal direction.

(발명의 실시예) (Example of the invention)

도 1은 본 발명의 결함 수정 장치의 전체 구성을 도시하는 사시도이다. 도 1에 있어서, 레이저 조사 기구(1)는 레이저 웰딩을 위한 레이저 광을 조사하는 레이저 광원과, CCD 카메라 등에 의해 결함부를 관찰하기 위한 관찰 광학계를 포함하고 있으며, 레이저 광축과 관찰 광학계의 광축이 동일 축이 되도록 구성되어 있다. X-Y 테이블(2)은 차크대(4)로 보존되어 있는 워크를 X-Y 방향(수평 방향)으로 이동시킨다. Z축 테이블(3)은 레이저 조사 기구(1)를 Z축 방향(상하 방향)으로 이동시킨다. 호스트 컴퓨터(5)는 장치 전체를 제어하는 것으로, 화상 처리 기구(6)는 레이저 조사 기구(1)에 포함되어 있는 CCD 카메라로 촬상된 화상을 처리하여, 휘점 결함을 판별한다. 제어용 컴퓨터(7)는 각 장치를 제어한다. 투과 조명 광원(8)은 X-Y 테이블(2) 아래쪽으로부터 워크를 조사하여, 관찰 및 화상 처리 시에 있어서의 광원이 된다. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is a perspective view which shows the whole structure of the defect correction apparatus of this invention. In Fig. 1, the laser irradiation mechanism 1 includes a laser light source for irradiating laser light for laser welding, and an observation optical system for observing a defect portion by a CCD camera or the like, wherein the optical axis of the laser optical axis and the observation optical system are the same. It is configured to be an axis. The X-Y table 2 moves the workpiece | work stored by the chak stand 4 to an X-Y direction (horizontal direction). The Z axis table 3 moves the laser irradiation mechanism 1 in the Z axis direction (up and down direction). The host computer 5 controls the whole apparatus, and the image processing mechanism 6 processes the image picked up by the CCD camera included in the laser irradiation mechanism 1 to determine bright spot defects. The controlling computer 7 controls each device. The transmissive illumination light source 8 irradiates a workpiece | work from the X-Y table 2 lower side, and becomes a light source at the time of observation and image processing.

도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일 실시예에 의한 결함 수정 방법을 설명하기 위한 도면이다. 본 발명에서는, 레이저 웰딩을 위해, 레이저 광(16)을 도 4에 도시한 바와 같이 슬릿(17)으로 조이는 것이 아니라, 레이저 광(16)을 집광시킨 빔 웨이스트 상태에서 사용함으로써, 유사적으로 레이저 강도 격차를 억제하여, 수정 확율을 더욱 향상시키는 것을 가능하게 한다. 즉, 빔 웨이스트 방식에서는, 화상 포커스 위치와 레이저 포커스 위치(빔 웨이스트 위치)를 맞추기 위해, 결상 렌즈(18)의 레이저 광원 측에 보정 렌즈(19)를 삽입하여, 빔 웨이스트에서의 수정을 실현한다. 빔 웨이스트의 경우도, 레이저 광(16) 자체가 도 2b에 도시하는 바와 같이 가우시안 분포를 갖기 때문에, 엄밀히 말하면 강도 격차는 존재하지만, 수정 대상에 대해 빔계가 충분히 작기 때문에, 격차가 문제 없는 레벨이 된다. 따라서, 본 발명에 의한 빔 웨이스트 방식으로 레이저 웰딩 수정을 행함으로써, 수정 확률을 대폭 향상시키는 것이 가능해진다. 2A and 2B are diagrams for describing a defect correction method according to an embodiment of the present invention. In the present invention, for laser welding, instead of tightening the laser light 16 to the slit 17 as shown in FIG. 4, the laser light 16 is used in a beam-waisted state in which the laser light 16 is focused. By suppressing the intensity gap, it is possible to further improve the correction probability. That is, in the beam waist method, in order to match an image focus position and a laser focus position (beam waist position), the correction lens 19 is inserted in the laser light source side of the imaging lens 18, and correction | amendment in a beam waist is implement | achieved. . Even in the case of the beam waist, since the laser light 16 itself has a Gaussian distribution as shown in FIG. do. Therefore, by performing laser welding correction by the beam waist method according to the present invention, it is possible to significantly improve the correction probability.

휘점 결함 수정은 휘점 결함 화소의 TFT 소스 전극(또는 드레인 전극)과 게 이트 전극의 중복부에 레이저 조사 기구(1)에 탑재된 고주파 발진 레이저로부터 레이저 광(16)을 조사하고, 전극끼리를 용접함으로써 전기적으로 단락함으로써, 휘점 결함을 흑점 결함으로 한다. 이 때, X-Y 테이블(2)을 반복하여 수평 방향으로 이동시킴으로써 레이저 광을 스캔하여 전극끼리를 단락시킨다. Bright spot defect correction irradiates the laser light 16 from the high frequency oscillation laser mounted in the laser irradiation mechanism 1 in the overlapping part of the TFT source electrode (or drain electrode) and the gate electrode of a bright spot defect pixel, and welds electrodes together. By electrically shorting by doing so, a bright spot defect is made into a black spot defect. At this time, by repeatedly moving the X-Y table 2 in the horizontal direction, the laser light is scanned to short the electrodes.

셀 상태에 있어서의 휘점 결함에 있어서, 그 휘점 결함의 원인이 전극 쇼트에 의한 것에 대해서는, 상술한 레이저 웰딩 전에 쇼트 개소를 전기적으로 개방할 필요가 있는 것이 있다. 본 발명의 실시예에서 사용한 레이저 광원에 의하면, 레이저 파워를 레이저 웰딩 시보다도 강하게 설정하고, 전극 쇼트 개소에 조사함으로써 쇼트 부분을 컷하는 것이 가능하기 때문에, 전기적으로 개방할 수도 있다. In the bright spot defect in the cell state, it is necessary to electrically open the short spot before the above-mentioned laser welding, as for the cause of the bright spot defect due to the electrode short. According to the laser light source used in the embodiment of the present invention, it is possible to set the laser power stronger than at the time of laser welding and to cut the shot portion by irradiating the electrode short point, so that it can be opened electrically.

또한, 상술한 설명에서는, 셀 상태에 대한 휘점 결함 수정에 대해서 설명했지만, 이에 한하지 않고 어레이 상태에 있어서도 당연하지만 동일한 전극부 쇼트 결함 컷 및 웰딩에 의한 수정이 가능하다. 여기서, 어레이 상태란 유리 기판 상에 TFT 패턴이나 전극 패턴이 형성된 상태로, 이 단계에서는 상술한 셀 상태와는 달리 유리 기판 단체 상태로 되어 있다.In addition, although the bright point defect correction with respect to the cell state was demonstrated in the above-mentioned description, not only this but also in an array state, it is natural, but the correction by the same electrode part short defect cut and welding is possible. Here, an array state is a state in which a TFT pattern and an electrode pattern were formed on the glass substrate, and in this step, unlike an above-mentioned cell state, it is a glass substrate single state.

이번 개시된 실시예는 모든 점에서 예시로 제한적인 것은 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 상기한 설명이 아니라 특허 청구 범위에 의해 도시되며, 특허 청구 범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다. The disclosed embodiments are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the invention is shown by the claims rather than the foregoing description, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the claims.

이상과 같이, 본 발명에 의하면, 전원 오프 시에 화소가 광을 투과시키고, 전원 온 시에 화소가 광을 차광하는 모드를 갖는 액정 디스플레이에 있어서, 항상 화소가 광을 투과시키는 휘점 결함을 수정하기 위해 레이저 광의 빔 웨이스트를 사용하도록 했기 때문에, 액정 셀의 휘점 결함 수정 성공율을 크게 향상시키는 것이 가능해진다. As described above, according to the present invention, in a liquid crystal display having a mode in which a pixel transmits light when the power is turned off and light is blocked by the pixel when the power is turned on, a bright spot defect in which the pixel always transmits light is corrected. In order to use the beam waist of a laser beam, it becomes possible to improve the success rate of the bright point defect correction of a liquid crystal cell significantly.

Claims (5)

삭제delete 삭제delete 전원 오프 시에 화소가 광을 투과시키고, 전원 온 시에 화소가 광을 차광하는 모드를 갖는 액정 디스플레이에서, 항상 화소가 광을 투과시키는 휘점 결함을 수정하는 결함 수정 장치에 있어서, In a liquid crystal display having a mode in which a pixel transmits light at power-off and a pixel shields light at power-on, a defect correction apparatus for correcting bright spot defects in which a pixel transmits light at all times, 수정 대상이 되는 피수정 대상 기판을 수평 방향으로 이동시키기 위한 테이블과, A table for moving the substrate to be modified to be corrected in the horizontal direction; 상기 피수정 대상 기판 상의 화소의 휘점 결함을 관찰하기 위한 관찰 광학계와, An observation optical system for observing bright spot defects of pixels on the target substrate to be modified; 상기 관찰 광학계에서 관찰되고 있는 휘점 결함에 레이저 광을 조사하여, 전극끼리를 용접하거나 전극 쇼트부를 커트하여 상기 휘점 결함을 수정하기 위한 레이저 광원을 구비하고, Laser light is irradiated to the bright spot defect observed by the said observation optical system, the laser light source for welding said electrodes or cutting an electrode short part, and correcting the said bright spot defect, 상기 관찰 광학계는 화상 포커스 위치를 상기 휘점 결함에 맞추기 위한 결상 렌즈 및 대물 렌즈를 포함하고, The observation optical system includes an imaging lens and an objective lens for adjusting an image focus position to the bright spot defect, 상기 레이저 광원 및 상기 관찰 광학계의 광축은 상기 결상 렌즈 및 상기 대물 렌즈의 광축에 일치하도록 구성되고,The optical axis of the laser light source and the observation optical system is configured to coincide with the optical axes of the imaging lens and the objective lens, 또한, 상기 레이저 광원과 상기 결상 렌즈 사이의 상기 레이저 광원측의 광축에 설치되고, 상기 관찰 광학계의 화상 포커스 위치와 상기 레이저광의 포커스 위치를 맞추기 위한 보정 렌즈를 구비하고, And a correction lens provided at an optical axis on the side of the laser light source between the laser light source and the imaging lens, for adjusting the image focus position of the observation optical system and the focus position of the laser light, 상기 레이저 광원은 상기 보정 렌즈, 상기 결상 렌즈 및 상기 대물 렌즈를 통해서 상기 휘점 결함에 상기 레이저 광을 조사하는 것을 특징으로 하는, 결함 수정 장치. And the laser light source irradiates the laser light to the bright spot defect through the correction lens, the imaging lens, and the objective lens. 제 3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 레이저 광을 스캔함으로써, 상기 전극끼리의 용접 또는 상기 전극 쇼트부의 커트를 행하는 것을 특징으로 하는, 결함 수정 장치. The defect correction apparatus characterized by welding the said electrodes or cutting the said electrode short part by scanning the said laser beam. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 테이블을 수평 방향으로 이동시킴으로써 상기 레이저 광을 스캔하는 것을 특징으로 하는, 결함 수정 장치. And the laser light is scanned by moving the table in a horizontal direction.
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