JP5019605B2 - Bright spot correction method for liquid crystal display device - Google Patents

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本発明は、液晶表示装置の検査工程で発見された輝点欠陥画素に対し、その輝点修正をレーザを用いて行う輝点修正方法に関する。   The present invention relates to a bright spot correction method in which a bright spot is corrected using a laser for a bright spot defective pixel discovered in an inspection process of a liquid crystal display device.

現在の液晶表示装置としては、隣接画素間でのクロストークがなく、良好な表示画像の実現が可能であることから、アクティブマトリクス型液晶表示装置が主流となっている。このアクティブマトリクス型液晶表示装置は、一般的にはガラス材からなる絶縁基板上に、直交する信号線及び走査線の交点近傍にマトリクス状に配置された複数の薄膜トランジスタ(TFT)と接続される透明画素電極を有し、更にこの電極上に配向膜を形成したアレイ基板を含む。   As current liquid crystal display devices, active matrix liquid crystal display devices have become mainstream because there is no crosstalk between adjacent pixels and a good display image can be realized. This active matrix type liquid crystal display device is generally a transparent substrate connected to a plurality of thin film transistors (TFTs) arranged in a matrix in the vicinity of intersections of orthogonal signal lines and scanning lines on an insulating substrate made of a glass material. It includes an array substrate having a pixel electrode and an alignment film formed on the electrode.

また、このアレイ基板と対向配置される同じくガラス材からなる絶縁基板には、透明対向電極と配向膜が順次積層された対向基板を備えている。更にカラー表示用の場合には、アレイ基板もしくは対向基板のいずれかに三原色RGBカラーフィルタが設けられている。このアレイ基板と対向基板間には液晶部材からなる液晶層が封入されて液晶パネルが構成されている。このアレイ基板及び対向基板の外表面側に偏光板を貼付して液晶表示装置が構成されている。   In addition, an insulating substrate made of the same glass material disposed opposite to the array substrate is provided with a counter substrate in which a transparent counter electrode and an alignment film are sequentially laminated. Further, in the case of color display, three primary color RGB color filters are provided on either the array substrate or the counter substrate. A liquid crystal panel made up of a liquid crystal member is sealed between the array substrate and the counter substrate to constitute a liquid crystal panel. A liquid crystal display device is configured by attaching a polarizing plate to the outer surface side of the array substrate and the counter substrate.

ところで、液晶パネルの輝点検査で輝点不良が確認された場合には、YAGレーザ装置を用いて輝点を滅点化したり異物を破壊する方法や、対応するカラーフィルタの該当個所にレーザ光を照射して当該部分を黒色化させて、画素電極の駆動電圧の有無に関わりなく光を遮断する方法を採用することがなされている(例えば、特許文献1参照)。   By the way, when a luminescent spot defect is confirmed by the luminescent spot inspection of the liquid crystal panel, a method of turning the luminescent spot into a dark spot or destroying a foreign substance using a YAG laser device, or a laser beam at a corresponding portion of the corresponding color filter. Is used to blacken the portion and block the light regardless of the presence or absence of the drive voltage of the pixel electrode (see, for example, Patent Document 1).

この場合に、画素電極と対向電極間を電気的に導通させるような異物の介在による欠陥画素の修正方法では、液晶パネルの外部から異物に対して直接レーザ照射を行い、当該異物を破壊させることにより両電極間の導通状態を解除させることで欠陥画素の修正を行っている。
特開2003−29226公報
In this case, in the method of correcting a defective pixel by the presence of a foreign substance that electrically connects the pixel electrode and the counter electrode, the foreign substance is directly irradiated with laser from the outside of the liquid crystal panel to destroy the foreign substance. Thus, the defective pixel is corrected by releasing the conductive state between the two electrodes.
JP 2003-29226 A

しかしながら、異物そのものに直接焦点(フォーカス)を絞り込んでレーザを照射して破壊させると、この破壊による異物の飛散や残存物あるいは破壊に伴う熱的影響によって周辺配線パターンや膜層へのダメージが大きく、膜層の孔明きによる光漏れや配向膜ダメージによる液晶配向不良などの問題が発生する場合がある。特に異物が金属系の場合には、レーザ照射を行っても破壊が困難な場合が多く、そのための救済方法が望まれていた。   However, if the focus is focused directly on the foreign material itself and it is destroyed by irradiating a laser, the damage to the peripheral wiring pattern and film layer is greatly caused by the scattering of the foreign material due to this destruction, the residual material, or the thermal effect of the destruction. In some cases, problems such as light leakage due to perforation of the film layer and liquid crystal alignment failure due to alignment film damage may occur. In particular, when the foreign material is a metal-based material, destruction is often difficult even when laser irradiation is performed, and a relief method for that purpose has been desired.

本発明は、上記の課題に対処してなされたものであり、例え金属系の異物による画素の欠陥が生じたとしても確実に欠陥画素を修正することが可能な液晶表示装置の輝点修正方法を提供するにある。   The present invention has been made in response to the above-described problems, and is a method for correcting a bright spot of a liquid crystal display device capable of reliably correcting a defective pixel even if a pixel defect occurs due to a metallic foreign matter. To provide.

本発明は、一方の絶縁基板に画素電極と配向膜を積層配置し、他方の絶縁基板に対向電極と配向膜とを積層配置するとともに、これら両基板を配向膜が液晶層を介して対峙するように互いに対向させて形成した液晶パネルにおける画素電極及び対向基板間が導電性の異物によって導通される欠陥画素をレーザを用いて修正する液晶表示装置の輝点修正方法において、液晶パネルに波長が500nm以上1100nm以下に設定されたレーザを照射するとともに、このレーザを異物の加工点と焦点との間隔を5μm以上20μm以下に設定し異物よりも手前に焦点を有するデフォーカス状態にして異物の周縁とレーザの照射側に位置する絶縁基板上の配向膜とに跨って微小面積ずつ相互にその一部が重なるように連続的にショットすることにより、異物を残存しつつ当該ショット部分の配向膜及び電極部分を切断することを特徴とする。 In the present invention, a pixel electrode and an alignment film are stacked on one insulating substrate, a counter electrode and an alignment film are stacked on the other insulating substrate, and both substrates are opposed to each other through a liquid crystal layer. In the liquid crystal display brightening correction method for correcting defective pixels in which a pixel electrode and a counter substrate in a liquid crystal panel formed to face each other are electrically connected by a conductive foreign substance using a laser, the wavelength of the liquid crystal panel is Irradiate a laser set to 500 nm or more and 1100 nm or less, and set the distance between the processing point of the foreign matter and the focal point to 5 μm or more and 20 μm or less to make the laser defocused in front of the foreign matter. by the continuously shot as another part by very small area overlap across an alignment film on an insulating substrate located in the irradiation side of the laser The alignment film and the electrode portion of the shot portion are cut while the foreign matter remains .

また、レーザショットに先立って異物にレーザを照射して異物周囲に気泡を発生させた後にレーザショットを行うことを特徴とする。   In addition, the laser shot is performed after the laser beam is irradiated to the foreign object to generate bubbles around the foreign object prior to the laser shot.

本発明によれば、異物全体に亘ってレーザを照射することなく異物の周縁部分に跨ってデフォーカス状態のレーザを照射することで、異物周辺部への影響を極力抑制することにより表示品位を保持しつつ欠陥画素を修正することを可能とする。   According to the present invention, the display quality can be improved by irradiating the defocused laser across the peripheral portion of the foreign matter without irradiating the entire foreign matter with the laser, thereby suppressing the influence on the peripheral portion of the foreign matter as much as possible. It is possible to correct a defective pixel while holding it.

以下、本発明の第一の実施の形態について図1乃至図4を用いて詳細に説明する。   Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

図1及び図2は、本発明の液晶表示装置の輝点修正方法の概略を説明するための模式図であり、図3及び図4は異物の存在状態を示している。   1 and 2 are schematic diagrams for explaining the outline of the bright spot correcting method of the liquid crystal display device of the present invention, and FIGS. 3 and 4 show the presence of foreign matter.

まず被修正対象物である液晶表示装置について説明すると、ガラス材から構成される透明絶縁基板11の一面上には、信号線12及び走査線13が略直交するように相互に絶縁配置されており、この交点近傍には走査線13にゲート電極が、ドレイン電極に信号線12が接続された薄膜トランジスタ(TFT)14がマトリクス状に配列されている。このTFT14を含む絶縁基板11上にはアクリル材から構成される赤、青、緑に着色された着色層からなるカラーフィルタ15が形成され、このカラーフィルタ15上には酸化インジウムスズ(ITO)等から構成される透明な画素電極16が設けられている。この画素電極16はカラーフィルタ15の着色層に形成したスルーホールを介してTFT14のソース電極と接続され、この画素電極16等の上面には、更にポリイミド等から構成される配向膜17が設けられてアレイ基板18が構成される。   First, a liquid crystal display device, which is an object to be corrected, will be described. On one surface of a transparent insulating substrate 11 made of a glass material, signal lines 12 and scanning lines 13 are insulated from each other so as to be substantially orthogonal to each other. Near the intersection, thin film transistors (TFTs) 14 having a gate electrode connected to the scanning line 13 and a signal line 12 connected to the drain electrode are arranged in a matrix. On the insulating substrate 11 including the TFT 14, a color filter 15 made of a colored layer made of an acrylic material and colored in red, blue, and green is formed. On the color filter 15, indium tin oxide (ITO) or the like is formed. A transparent pixel electrode 16 is provided. The pixel electrode 16 is connected to the source electrode of the TFT 14 through a through hole formed in the colored layer of the color filter 15, and an alignment film 17 made of polyimide or the like is further provided on the upper surface of the pixel electrode 16 or the like. Thus, the array substrate 18 is configured.

また、このアレイ基板18と対向する対向基板19は、同様にガラス材から構成された透明絶縁基板20を有している。この透明絶縁基板20のアレイ基板18と対向する一平面上には、ITO等から構成される透明対向電極21、この対向電極21の上面に設けたポリイミド等から構成される配向膜22等を備えている。   Further, the counter substrate 19 facing the array substrate 18 has a transparent insulating substrate 20 which is similarly made of a glass material. A transparent counter electrode 21 made of ITO or the like and an alignment film 22 made of polyimide or the like provided on the upper surface of the counter electrode 21 are provided on one plane of the transparent insulating substrate 20 facing the array substrate 18. ing.

このアレイ基板18と対向基板19間とは、所定の間隙を持って配向膜17,22が対峙するように対向配置され、シール材23を介して貼り合わされている。この間隙には液晶部材からなる液晶層24が封止され、この液晶層24の厚さは、このアレイ基板18と対向基板19間に介在されるスペーサ25によって規定されて液晶パネル26が構成される。この液晶パネル26の外表面側には、夫々偏光板27,28が貼付されて液晶表示装置29が構成されている。   The array substrate 18 and the counter substrate 19 are arranged to face each other with a predetermined gap so that the alignment films 17 and 22 face each other, and are bonded together via a seal material 23. A liquid crystal layer 24 made of a liquid crystal member is sealed in the gap, and the thickness of the liquid crystal layer 24 is defined by a spacer 25 interposed between the array substrate 18 and the counter substrate 19 to form a liquid crystal panel 26. The Polarizers 27 and 28 are attached to the outer surface side of the liquid crystal panel 26 to form a liquid crystal display device 29.

このように構成された液晶パネル26もしくは液晶表示装置29は、画質検査工程で検査され、もし輝点欠陥が発見された場合には輝点欠陥修正を行う。   The liquid crystal panel 26 or the liquid crystal display device 29 thus configured is inspected in the image quality inspection process, and if a bright spot defect is found, the bright spot defect is corrected.

この修正装置は、図1に示すように、中央部に中空の透過孔31を有するXYテーブル32の下方に、透過孔31を通して均一な強度の白色光を供給する照明装置33が配置されている。このXYテーブル32上には液晶表示装置29が載置され、このXYテーブル32には加工位置決め用の移動装置34が備えられている。この移動装置34はXYテーブル32に載置された液晶表示装置29の位置を制御するためのもので、XYテーブル32をXY方向に移動することができる。また液晶表示装置29は、検査・修正のために液晶駆動回路35と接続されている。   As shown in FIG. 1, in this correction device, an illuminating device 33 that supplies white light of uniform intensity through the transmission hole 31 is disposed below an XY table 32 having a hollow transmission hole 31 in the center. . A liquid crystal display device 29 is placed on the XY table 32. The XY table 32 is provided with a moving device 34 for processing positioning. The moving device 34 is for controlling the position of the liquid crystal display device 29 placed on the XY table 32, and can move the XY table 32 in the XY directions. The liquid crystal display device 29 is connected to a liquid crystal driving circuit 35 for inspection and correction.

このXYテーブル32の液晶表示装置29の上方には、結像光学系あるいは集光光学系等のレーザ光学系41が配置されている。ここではレーザ光学系41として結像光学系を用いた場合を例に説明をする。このレーザ光学系41の集光レンズ42の光軸上に、ビームスプリッタ43と所定の開口44を有するスリット45を介してYGAレーザ光を発生するレーザ発振器46が設けられている。このレーザ発振器46は、例えば波長が500nm以上でパルス幅が1×10−6sec以下の5乃至10mW程度の定格出力のレーザを生成するように設定されている。このレーザ光はスリット45によって所定の大きさのビームに成形され、集光レンズ42によって所定の焦点距離で結像(フォーカス)するように構成されている。このスリット45の開口44の大きさは、レーザ光での加工点における大きさが5μm□以下となるように、その大きさが設定されている。また、ビームスプリッタ43の反射方向には、このビームスプリッタ43に対向して結像レンズ47を介してCCDカメラ48が配置され、このカメラ48にはモニタ49が接続されている。 A laser optical system 41 such as an image forming optical system or a condensing optical system is disposed above the liquid crystal display device 29 of the XY table 32. Here, a case where an imaging optical system is used as the laser optical system 41 will be described as an example. On the optical axis of the condenser lens 42 of the laser optical system 41, a laser oscillator 46 that generates YGA laser light through a slit 45 having a beam splitter 43 and a predetermined opening 44 is provided. The laser oscillator 46 is set to generate a laser having a rated output of about 5 to 10 mW having a wavelength of 500 nm or more and a pulse width of 1 × 10 −6 sec or less. This laser beam is shaped into a beam of a predetermined size by the slit 45 and is formed (focused) at a predetermined focal length by the condenser lens 42. The size of the opening 44 of the slit 45 is set so that the size at the processing point with the laser light is 5 μm □ or less. A CCD camera 48 is disposed in the reflection direction of the beam splitter 43 so as to face the beam splitter 43 via an imaging lens 47, and a monitor 49 is connected to the camera 48.

このように構成された液晶表示装置の修正装置を用いて、液晶表示装置の欠陥画素を修正する方法について説明する。   A method of correcting a defective pixel of the liquid crystal display device using the correction device for the liquid crystal display device configured as described above will be described.

まず液晶表示装置29をXYテーブル32上に載置し、液晶駆動回路35及び照明装置33等の電源を投入することによって、照明装置33からの白色光は、XYテーブル32の透過孔31を介して液晶表示装置29の一面上に投射される。これと同時にレーザ光学系41内に設けられた落射照明源(図示せず)から落射光を集光レンズ42で集光させて、液晶表示装置29の他面上に照射させる。   First, the liquid crystal display device 29 is placed on the XY table 32, and the liquid crystal driving circuit 35 and the illumination device 33 are turned on, so that white light from the illumination device 33 passes through the transmission holes 31 of the XY table 32. And projected onto one surface of the liquid crystal display device 29. At the same time, incident light is condensed by the condenser lens 42 from an incident illumination source (not shown) provided in the laser optical system 41 and is irradiated on the other surface of the liquid crystal display device 29.

この落射光の液晶表示装置29からの反射光は、集光レンズ42及びビームスプリッタ43、結像レンズ47を介してカメラ48の撮像面に結像される。このカメラ48の撮像出力はモニタ49に供給され、このモニタ49の画面中に再生画像を映し出すことができる。従って、移動装置34によってXYテーブル32をXYの二次元方向に平行移動させることで液晶表示装置29が移動するので、モニタ49の再生画像もこれに応じて変化させることができ、液晶表示装置29の表示面に相当する全画面を走査することができる。   The reflected light of the incident light from the liquid crystal display device 29 is imaged on the imaging surface of the camera 48 via the condenser lens 42, the beam splitter 43, and the imaging lens 47. The imaging output of the camera 48 is supplied to a monitor 49, and a reproduced image can be displayed on the screen of the monitor 49. Accordingly, since the liquid crystal display device 29 is moved by moving the XY table 32 in the two-dimensional direction of XY by the moving device 34, the reproduced image on the monitor 49 can be changed accordingly, and the liquid crystal display device 29 can be changed accordingly. The entire screen corresponding to the display surface can be scanned.

そして輝点欠陥画素の発生が確認された場合には、映し出されたモニタ画像をモニタリングし、移動装置34によりXYテーブル32を移動制御して、レーザ光学系41のレーザ照射位置を輝点欠陥画素に位置合わせする。   When the occurrence of a bright spot defective pixel is confirmed, the projected monitor image is monitored, the movement device 34 is controlled to move the XY table 32, and the laser irradiation position of the laser optical system 41 is set to the bright spot defective pixel. Align to.

この欠陥画素としては、例えば図3に示すように、画素電極16と対向電極21間に夫々の配向膜17,22を突き破る導電性の異物51が介在して、両電極16,21間がこの異物51によって短絡させられて同電位となった導通欠陥を想定する。   As the defective pixel, for example, as shown in FIG. 3, a conductive foreign material 51 that breaks through the alignment films 17 and 22 is interposed between the pixel electrode 16 and the counter electrode 21. Assume a conduction defect that is short-circuited by the foreign object 51 and has the same potential.

この欠陥画素にレーザ光学系41を位置合わせした後、レーザ発振器46からレーザを出力する。このレーザはスリット45に入射して大きさを整えられた上で、集光レンズ42で集光される。このとき、図2に示すように、液晶表示装置29の手前にレーザの焦点Fを持たせるように集光(フォーカス)される。従って、液晶表示装置29の液晶層24内の異物51には、異物51に到達されるレーザが異物51到達以前に一度焦点Fが合わされた後の非焦点範囲、即ちデフォーカス状態で照射されることになる。   After aligning the laser optical system 41 with the defective pixel, a laser is output from the laser oscillator 46. This laser is incident on the slit 45 and is adjusted in size, and then condensed by the condenser lens 42. At this time, as shown in FIG. 2, the light is focused (focused) so as to give the laser focus F in front of the liquid crystal display device 29. Therefore, the foreign matter 51 in the liquid crystal layer 24 of the liquid crystal display device 29 is irradiated with a laser that reaches the foreign matter 51 in a non-focus range after the focus F is once focused before reaching the foreign matter 51, that is, in a defocused state. It will be.

このデフォーカスの設定は、移動装置34によって一度レーザ光学系41をXYテーブル32に対して直交する上下方向に移動させてレーザの焦点Fを異物51に合わせた後に、レーザ光学系41を再度移動装置34によって異物51から遠ざかる方向となる+Y方向に移動させて両者を相対的に離すことにより達成することが可能である。このデフォーカスの設定時にはレーザ発振器46の出力を定格出力よりも低くなるように切換えるとよい。   This defocusing is set by moving the laser optical system 41 once again by moving the laser optical system 41 in the vertical direction perpendicular to the XY table 32 by the moving device 34 to align the laser focus F with the foreign object 51. This can be achieved by moving the device 34 in the + Y direction, which is the direction away from the foreign object 51, and relatively separating the two. When this defocusing is set, the output of the laser oscillator 46 may be switched so as to be lower than the rated output.

このデフォーカスでの異物51の加工点と焦点Fとの間隔aは、5乃至20μmの距離に設定することが好適である。この間隔aが5μm以下の場合にはレーザエネルギーが強すぎて異物51自体を破壊しかねず、また20μm以上の場合にはエネルギーが弱すぎてしまい、後述の修正が行えなくなる虞がある。   The distance a between the processing point of the foreign object 51 and the focal point F in this defocusing is preferably set to a distance of 5 to 20 μm. When the distance a is 5 μm or less, the laser energy is too strong and the foreign matter 51 itself may be destroyed. When the distance a is 20 μm or more, the energy is too weak, and there is a possibility that the correction described later cannot be performed.

またこのショットは、レーザ光のショット位置が輝点欠陥画素に対応する異物51の全体に一度にショットするのではなく、その異物51の輪郭に沿ってショットする。即ち、図4に示すように、異物51の全体もしくは中心に焦点を当てて異物51を破壊するのではなく、異物51の周縁部分に沿ってスリット45にて規定されているデフォーカスされた大きさの、図中破線にて四角形状(矩形)に示す微小面積ずつ相互にその一部が重なるように連続的にショットすることが可能なように移動装置34によりXYテーブル32とレーザ光学系41の相対的位置を制御する。この移動はXYテーブル32側を移動させて、もしくはレーザ光学系41をXY方向に移動装置34によって移動可能に構成しておけばレーザ光学系41を移動させることでも対応可能で、また両者を相対的に同時に移動させることも可能であり、モニタ画像上の白色光位置をモニタリングすることにより、レーザ光の走査ができる。   In addition, this shot is shot along the contour of the foreign matter 51, not the entire shot of the foreign matter 51 corresponding to the bright spot defect pixel. That is, as shown in FIG. 4, the defocused size defined by the slit 45 along the periphery of the foreign object 51 is not destroyed by focusing on the whole or the center of the foreign object 51. In addition, the XY table 32 and the laser optical system 41 are moved by the moving device 34 so that it is possible to continuously perform shots so that a part of each of the small areas shown in a rectangular shape (rectangular shape) indicated by a broken line in FIG. Control the relative position of. This movement can be dealt with by moving the laser optical system 41 by moving the XY table 32 side, or by moving the laser optical system 41 in the XY direction by the moving device 34. It is also possible to move the laser beam simultaneously, and the laser beam can be scanned by monitoring the position of the white light on the monitor image.

このようなレーザのショットによって、異物51周縁部分に対応する対向電極21及び配向膜22はデフォーカスされたレーザによって剥されることにより、例え異物51そのものが液晶層24中の画素電極16と対向電極21間に残存していても、少なくともレーザが照射される側の対向基板19側に位置する対向電極21は、レーザのスリット45による連続した重畳ショットによって他の回路系からは切り離されるので、当該画素部分は滅点化されることになる。この処理の際に異物51全体は直接レーザによって破壊されることがないので、異物51の破壊飛散あるいは破壊時の熱的影響による薄膜パターンや層間膜などに危害を及ぼすことが防止される。   By such a laser shot, the counter electrode 21 and the alignment film 22 corresponding to the peripheral portion of the foreign material 51 are peeled off by the defocused laser, so that the foreign material 51 itself faces the pixel electrode 16 in the liquid crystal layer 24. Even if it remains between the electrodes 21, at least the counter electrode 21 located on the side of the counter substrate 19 on the side irradiated with the laser is separated from other circuit systems by continuous superimposed shots by the laser slit 45. The pixel portion is darkened. In this process, since the entire foreign matter 51 is not directly destroyed by the laser, it is possible to prevent the foreign matter 51 from being damaged or scattered, or from being damaged by a thermal effect at the time of destruction.

このようにして、アレイ基板18と対向基板19との両電極16,21間を短絡する異物51の存在による輝点欠陥画素の異物51周縁部分の対向電極21を破損させて、異物51が存在する両電極16,21の少なくともいずれかを他回路と分離させることにより液晶表示装置の輝点欠陥修正を行うことができる。   In this way, the counter electrode 21 at the periphery of the foreign object 51 of the bright spot defective pixel due to the presence of the foreign object 51 that short-circuits the electrodes 16 and 21 between the array substrate 18 and the counter substrate 19 is damaged, and the foreign object 51 exists. The bright spot defect of the liquid crystal display device can be corrected by separating at least one of the two electrodes 16 and 21 from other circuits.

なお、上記説明では液晶パネル26の両側に夫々偏光板27,28が接着されている場合を例にとって説明しているが、偏光板27,28が接着されていない液晶パネル26の段階で修正をかけることも勿論可能である。この液晶パネル26にて修正する場合も、本発明では液晶表示装置の輝点修正方法との表現に含まれるものとする。   In the above description, the case where the polarizing plates 27 and 28 are bonded to both sides of the liquid crystal panel 26 is described as an example, but the correction is made at the stage of the liquid crystal panel 26 where the polarizing plates 27 and 28 are not bonded. Of course, it is also possible to apply. The case where the correction is performed by the liquid crystal panel 26 is also included in the expression of the bright spot correction method of the liquid crystal display device in the present invention.

また、レーザ光学系41として結像光学系によるスリット加工を利用した場合について説明しているが、この他にもスリットを使用せずにビーム径がスポット形状のレーザとなる集光光学系を使用したレーザ光学系41での加工も可能である。この加工の場合にはスリットを使用していないので加工点でのビーム形状は矩形状とは異なり丸形状等のスポット形状になるが、この形状変更の他は結像光学系の場合と全く同様に加工動作を行うことができる。   In addition, a case where slit processing by an imaging optical system is used as the laser optical system 41 is described. In addition to this, a condensing optical system in which a beam diameter becomes a spot-shaped laser without using a slit is used. Processing with the laser optical system 41 is also possible. In this processing, since no slit is used, the beam shape at the processing point is a spot shape such as a round shape unlike a rectangular shape, but is exactly the same as in the case of the imaging optical system except for this shape change. The machining operation can be performed.

このようにして、異物51の周縁部分に沿ってレーザを連続的に重畳するようにショットを行っているが、このショットの異物51周縁部分からの加工範囲(距離)との関連につき試作・検討を行った。   In this way, the shot is performed so that the laser is continuously superimposed along the peripheral portion of the foreign material 51. Prototyping / examination of the relationship between the shot and the processing range (distance) from the peripheral portion of the foreign material 51 is performed. Went.

この測定用のサンプルとしては、13.3インチのWXGA型液晶パネルを用い、このパネルの配向を意図的に乱してリペア装置にて直径φ=10μmの微小黒点を故意に作成し、この黒点の周囲をレーザ加工してサンプルとしたもので、照明装置(バックライト)の輝度は3500cd/mとし、基板表面から30cmの距離にて目視及びND5%フィルタで光漏れの判定行った。その測定結果を表1に示す。

Figure 0005019605
As a sample for this measurement, a 13.3 inch WXGA type liquid crystal panel was used. By intentionally disturbing the orientation of this panel, a small black spot having a diameter φ = 10 μm was intentionally created by a repair device. The brightness of the illumination device (backlight) was set to 3500 cd / m 2, and light leakage was determined visually and with a ND5% filter at a distance of 30 cm from the substrate surface. The measurement results are shown in Table 1.
Figure 0005019605

この表1の結果から、異物周縁からその周辺部分までの加工範囲は、光漏れが視認されない2.0μ以下に設定するのが好適であることが判明した。但し、この加工範囲はバックライトの輝度の違いや検査員の能力などによって相違が発生することも考えられるので、加工の範囲は個々の製品規格に従って決定するのが良い。   From the results of Table 1, it has been found that the processing range from the periphery of the foreign material to the peripheral portion thereof is preferably set to 2.0 μm or less where light leakage is not visually recognized. However, since the processing range may vary depending on the brightness of the backlight or the ability of the inspector, the processing range is preferably determined according to individual product standards.

次に第2の実施の形態について、図5及び図6を用いて説明をする。なお、第1の実施の形態において説明したものについては同じ符号を付して、その詳細な説明は省略する。   Next, a second embodiment will be described with reference to FIGS. In addition, the same code | symbol is attached | subjected about what was demonstrated in 1st Embodiment, and the detailed description is abbreviate | omitted.

この実施の形態においては、レーザ光学系41から出力されるレーザとして、波長が1100nm以下でパルス幅が50ns以下のレーザを使用する。このレーザを使用して異物51の周縁部分に沿ってショットをするのに先立って、最初に異物51の中央部分に定格出力以下である0.5mW以下の小さなエネルギーのレーザを照射して、図5に示すように、異物51の周囲の液晶層24中に異物51を取り囲むように気泡61を発生させる。この気泡61が発生した段階でレーザの出力を規定の定格出力まで上昇もしくは切換えて、この気泡61が消滅するまでの期間に上記第1の実施の形態で説明したと同様に、異物51の周縁部分に沿ってレーザショットを行う。このためのレーザは発振周波数1kHz以下のものを使用し、XYテーブル32とレーザ光学系41の相対的な移動速度は1000μm/secに設定すると気泡61の残存中に作業を行うことが可能となるために好適である。   In this embodiment, a laser having a wavelength of 1100 nm or less and a pulse width of 50 ns or less is used as the laser output from the laser optical system 41. Prior to using this laser to make a shot along the peripheral edge of the foreign object 51, the center part of the foreign object 51 is first irradiated with a laser having a small energy of 0.5 mW or less, which is less than the rated output. As shown in FIG. 5, bubbles 61 are generated in the liquid crystal layer 24 around the foreign matter 51 so as to surround the foreign matter 51. When the bubble 61 is generated, the laser output is increased or switched to a specified rated output, and in the period until the bubble 61 disappears, the peripheral edge of the foreign object 51 is the same as described in the first embodiment. Laser shot is performed along the part. For this purpose, a laser having an oscillation frequency of 1 kHz or less is used, and if the relative moving speed of the XY table 32 and the laser optical system 41 is set to 1000 μm / sec, it becomes possible to perform work while the bubbles 61 remain. Therefore, it is suitable.

このような輝点修正方法を採用することによって、レーザ加工を施す前に対象となる異物51の周囲にまず気泡61を発生させ、この気泡61が残存している期間に本来のレーザ加工を施すことによって、加工によって分離されて生じた電極箔や配向膜の残存物62は、液晶層24中に浮遊することなく、図6に示すように、この気泡61が存在する範囲内に留まることになり気泡61外へ飛散されることがない。このため、加工によって発生した加工残存物62は、図6中に矢印で示すように、そのまま液晶層24の下側に、換言すれば、アレイ基板18側の配向膜17の表面上に残存物62を付着・堆積させている。この残存物62が付着された配向膜17の配向変化による黒色化によって光漏れを低減させることが可能となる。従って、レーザ加工によって除去された箇所からの光漏れの影響を、当該電極16、配向膜17上に残存物62を付着させることで配向性を意識的に乱すことによって光漏れをより一層抑制することが可能となる。   By adopting such a bright spot correction method, bubbles 61 are first generated around the target foreign matter 51 before laser processing is performed, and the original laser processing is performed during the period in which the bubbles 61 remain. As a result, the electrode foil or alignment film residue 62 generated by the separation by processing does not float in the liquid crystal layer 24 but remains in the range where the bubbles 61 exist as shown in FIG. The air bubbles 61 are not scattered outside. Therefore, the processing residue 62 generated by the processing is left as it is on the lower side of the liquid crystal layer 24, in other words, on the surface of the alignment film 17 on the array substrate 18 side, as indicated by an arrow in FIG. 62 is adhered and deposited. Light leakage can be reduced by blackening due to the orientation change of the alignment film 17 to which the residue 62 is adhered. Therefore, the influence of the light leakage from the place removed by the laser processing is further suppressed by intentionally disturbing the orientation by attaching the residue 62 on the electrode 16 and the alignment film 17. It becomes possible.

なお、上記説明では、結像光学系を搭載したスリット加工による輝点修正方法について説明しているが、画素サイズや異物の大きさによる加工点での熱影響(ダメージ)を抑えることが可能であれば、集光光学系を搭載したレーザ装置を使用することも可能である。   In the above description, the bright spot correction method by slit processing equipped with an imaging optical system has been described. However, it is possible to suppress the thermal influence (damage) at the processing point due to the pixel size or the size of foreign matter. If so, it is also possible to use a laser device equipped with a condensing optical system.

また、上記説明ではアレイ基板側にカラーフィルタを設けた場合について説明しているが、カラーフィルタを対向基板側に設けた場合にも適用が可能であり、その場合にはカラーフィルタが存在しないアレイ基板側からレーザを照射するように液晶パネルをXYテーブル上に保持すれば同様に適用できることは言うまでもない。 In the above description, the case where the color filter is provided on the array substrate side is described. However, the present invention can also be applied to the case where the color filter is provided on the counter substrate side. Needless to say, the present invention can be similarly applied if the liquid crystal panel is held on the XY table so that the laser is irradiated from the substrate side.

本発明に係る液晶表示装置の第1の実施の形態に係る輝点修正方法を説明するための概略構成図。1 is a schematic configuration diagram for explaining a bright spot correcting method according to a first embodiment of a liquid crystal display device according to the present invention. 同じくデフォーカス状態を説明するための説明図。Explanatory drawing for demonstrating a defocus state similarly. 同じく異物の状態を説明するための液晶パネルの断面図。Sectional drawing of the liquid crystal panel for demonstrating the state of a foreign material similarly. 同じく異物の周縁をレーザショットするための説明図。Explanatory drawing for carrying out the laser shot of the periphery of a foreign material similarly. 本発明に係る液晶表示装置の第2の実施の形態に係る輝点修正方法を説明するための異物周囲の状態を説明するための液晶パネルの断面図。Sectional drawing of the liquid crystal panel for demonstrating the state around the foreign material for demonstrating the bright spot correction method which concerns on 2nd Embodiment of the liquid crystal display device which concerns on this invention. 同じくレーザショット後の異物周囲の状態を説明するための液晶パネルの断面図。Sectional drawing of the liquid crystal panel for demonstrating the state of the foreign material periphery after a laser shot similarly.

符号の説明Explanation of symbols

11,20…絶縁基板
16…画素電極
17,22…配向膜
18…アレイ基板
19…対向基板
21…対向電極
24…液晶層
26…液晶パネル
41…レーザ光学系
42…集光レンズ
45…スリット
46…レーザ発振器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11, 20 ... Insulating substrate 16 ... Pixel electrode 17, 22 ... Alignment film 18 ... Array substrate 19 ... Counter substrate 21 ... Counter electrode 24 ... Liquid crystal layer 26 ... Liquid crystal panel 41 ... Laser optical system 42 ... Condensing lens 45 ... Slit 46 ... Laser oscillator

Claims (3)

一方の絶縁基板に画素電極と配向膜を積層配置し、他方の絶縁基板に対向電極と配向膜とを積層配置するとともに、これら両基板を前記配向膜が液晶層を介して対峙するように互いに対向させて形成した液晶パネルにおける前記画素電極及び対向基板間が導電性の異物によって導通される欠陥画素をレーザを用いて修正する液晶表示装置の輝点修正方法において、
前記液晶パネルに波長が500nm以上1100nm以下に設定されたレーザを照射するとともに、このレーザを前記異物の加工点と焦点との間隔を5μm以上20μm以下に設定し前記異物よりも手前に焦点を有するデフォーカス状態にして前記異物の周縁と前記レーザの照射側に位置する絶縁基板上の配向膜とに跨って微小面積ずつ相互にその一部が重なるように連続的にショットすることにより、前記異物を残存しつつ当該ショット部分の配向膜及び電極部分を切断することを特徴とする液晶表示装置の輝点修正方法。
A pixel electrode and an alignment film are stacked on one insulating substrate, and a counter electrode and an alignment film are stacked on the other insulating substrate, and these substrates are arranged so that the alignment film faces the liquid crystal layer. in the pixel electrode and the bright point correction method for a liquid crystal display device for correcting using laser defective pixels between the opposing substrates is conducted by the conductive foreign matter in the liquid crystal panel which is formed by opposing,
The liquid crystal panel is irradiated with a laser whose wavelength is set to 500 nm or more and 1100 nm or less, and this laser is set to a distance between the processing point of the foreign matter and the focal point to 5 μm or more and 20 μm or less and has a focal point in front of the foreign matter. by continuously shot as mutually partially overlap each small area across the alignment film on the insulating substrate in the defocused state is positioned on the irradiation side of the laser and the periphery of the foreign substance, the foreign substance A method of correcting a bright spot of a liquid crystal display device, wherein the alignment film and the electrode portion of the shot portion are cut while remaining in the film .
前記ショットに先立って、このショット時の出力よりも弱い出力にて前記異物にレーザを照射し前記異物周囲に気泡を発生させ、その後に前記ショットを行うことを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置の輝点修正方法。   2. The liquid crystal according to claim 1, wherein prior to the shot, the foreign matter is irradiated with a laser with an output weaker than an output at the time of the shot to generate bubbles around the foreign matter, and then the shot is performed. A bright spot correction method for a display device. 前記液晶パネルはいずれか一方の基板にカラーフィルタを有し、前記レーザを他方の基板側から照射することを特徴とする請求項1または2記載の液晶表示装置の輝点修正方法。   3. The method for correcting a bright spot of a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal panel has a color filter on one of the substrates and irradiates the laser from the other substrate side.
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