KR100828522B1 - 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 - Google Patents

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Abstract

패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비가 개시되어 있다. 패턴 마스크를 검사하는 패턴 마스크 검사기 및 패턴 마스크가 수납된 패턴 마스크 캐리어의 사이에 패턴 마스크 클리닝 장치를 위치하여 패턴 마스크에 부착된 미세 파티클 등을 제거한 후 패턴 마스크를 패턴 마스크 검사기로 이송한다. 이로써, 패턴 마스크 검사기에서 미세 파티클에 의하여 패턴 마스크가 리젝트 되는 것을 최소화하여 노광 공정에 소요되는 시간을 크게 단축시킬 수 있는 효과를 갖는다.
Figure R1020020039128
패턴 마스크, 노광 설비, 파티클

Description

패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비{APPARATUS FOR CLEANING PATTERN MASK AND EXPOSURE EQUIPMENT HAVING THE SAME}
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 패턴 마스크 클리닝 장치의 개념도이다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 의한 패턴 마스크 클리닝 장치가 설치된 노광 설비의 개념도이다.
도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 의한 노광 설비의 평면 배치를 도시한 평면도이다.
도 4는 노광 설비에 적용된 패턴 마스크 클리닝 장치의 개념도이다.
본 발명은 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비에 관한 것으로, 특히, 기판에 형성된 감광막을 패터닝하는데 필요한 패턴 마스크에 부착된 파티클을 패턴 마스크의 파티클 검사 공정 이전에 미리 제거하는 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비에 관한 것이다.
일반적으로, 액정표시장치(Liquid Crystal Display device, LCD)는 정보를 포함하고 있지 않는 광을 정보가 포함된 이미지광으로 변경하여 사용자가 이를 인 식할 수 있도록 하는 표시장치이다.
액정(Liquid Crystal)은 정보가 포함되지 않은 광을 정보가 포함된 이미지광으로 변경하는 중요한 역할을 수행한다.
액정은 수 ㎛에 불과한 두께로 영상을 디스플레이 할 수 있음으로 동일한 스크린 사이즈를 갖는 CRT 방식 표시장치(Cathode Ray Tube type display device)에 비하여 두께, 부피 및 무게가 매우 작은 장점을 갖는다.
이와 같은 장점을 갖는 액정으로 고해상도로 영상을 디스플레이 하기 위해서는 액정을 매우 작은 면적 단위로 제어할 수 있는 기술을 필요로 한다.
최근 개발된 박막 트랜지스터는 매우 작은 면적 단위로 액정을 정밀하게 제어하는데 특히 적합하다.
박막 트랜지스터는 매우 복잡한 박막 공정을 거쳐 제작된다.
박막 공정에는 박막을 형성하는 증착 공정, 박막 중 원하는 패턴을 형성하기 위하여 박막에 형성된 감광물질을 패터닝하는 노광 공정, 패터닝된 감광물질을 마스크로 하여 박막을 식각 하여 제거하는 식각 공정, 박막에 원하는 이온들을 주입하는 이온주입 공정, 회로 배선을 형성하기 위한 메탈 공정 등이 포함된다.
특히, 이들 중 노광 공정은 다른 박막 공정에 비하여 매우 중요한 공정 중 하나이다. 노광 공정은 노광설비에 의하여 수행된다.
노광 설비는 크게 보아 노광 챔버, 기판 적재 카세트, 패턴 마스크 검사기, 패턴 마스크 적재 카세트로 크게 구분된다.
기판 적재 카세트에는 노광 공정이 진행되기 위하여 감광막이 도포된 기판이 대기한다. 패턴 마스크 적재 카세트는 복수 매의 패턴 마스크가 적재되어 있다.
노광 챔버에는 기판 적재 카세트로부터 기판이 로딩 되어 지정된 위치에 고정되고, 패턴 마스크 적재 카세트로부터 패턴 마스크가 로딩 되어 기판의 지정된 위치에 얼라인 된다.
한편, 패턴 마스크 검사기는 패턴 마스크 적재 카세트로부터 언로딩 된 패턴 마스크가 노광 챔버로 공급되기 이전에 패턴 마스크의 표면에 오염물질, 예를 들면, 미세 파티클 등이 묻어 있는가를 검사한다.
이는 패턴 마스크의 표면에 이물질이 묻어 있을 경우, 이물질이 패턴의 일부처럼 기판에 전사되거나, 이물질 자체가 기판에 부착되어 노광 될 부분이 노광 되지 않도록 하는 패턴 형성 불량을 발생하기 때문이다.
그러나, 패턴 마스크 검사기는 이처럼 매우 중요한 역할을 담당하는 반면, 전체 노광 공정 시간을 증가 또는 지연시키는 부작용을 발생시킨다.
문제점은 패턴 마스크에 간단하게 제거 가능한 파티클 등이 안착될 경우에도 패턴 마스크 검사기가 이를 디텍팅하여 패턴 마스크가 노광 챔버로 이송되지 못하게 하기 때문이다.
일단 패턴 마스크가 오염된 것으로 디텍팅되면, 패턴 마스크는 패턴 마스크 검사기로부터 언로딩 된다. 이어서 패턴 마스크에 부착된 오염물이 제거된 후, 패턴 마스크는 다시 패턴 마스크 검사기로 로딩 되어 오염 검사가 진행된 후, 패턴 마스크에 어떠한 오염물도 없을 경우에야 비로소 노광 챔버로 공급된다.
이와 같이 패턴 마스크 검사기가 빈번하게 작동함에 따라 노광에 소요되는 전체 시간이 크게 증가되고, 이에 따라 연속적으로 진행되는 후속 공정에도 영향을 미쳐 전체적인 생산성을 크게 저하시키게 된다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 제 1 목적은 패턴 마스크로부터 간단하게 제거 가능한 파티클과 같은 오염물질은 패턴 마스크 검사기로 패턴 마스크가 로딩 되기 이전에 제거함으로써 오염된 패턴 마스크의 처리에 따른 노광 공정 시간이 크게 증가하지 않도록 하는 패턴 마스크 클리닝 장치를 제공한다.
본 발명의 제 2 목적은 패턴 마스크로부터 간단하게 제거 가능한 파티클과 같은 오염물질은 패턴 마스크 검사기로 패턴 마스크가 로딩 되기 이전에 제거함으로써 오염된 패턴 마스크의 처리에 따른 노광 공정 시간이 크게 증가하지 않도록 하는 패턴 마스크 클리닝 장치를 이용하여 노광 공정에 소요되는 시간을 대폭 감소시킴은 물론 오염물질에 의한 공정 불량을 최소화한 노광 설비를 제공한다.
이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 클리닝 가스가 저장된 클리닝 가스 저장 탱크, 클리닝 가스 저장 탱크에 저장된 클리닝 가스가 이송되는 클리닝 가스 이송 배관, 클리닝 가스 이송 배관을 선택적으로 개폐시키는 개폐 밸브, 클리닝 가스를 패턴 마스크에 분사하기 위한 클리닝 가스 분사 유닛 및 패턴 마스크를 감지하여 클리닝 가스의 분사 시기를 결정하기 위한 패턴 마스크 감지 수단을 포함하는 패턴 마스크 클리닝 장치를 제공한다.
또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위하여 본 발명은 기판에 형성된 감광 박막을 노광하기 위한 노광 챔버, 노광챔버로 감광 박막이 형성된 기판을 로딩 하는 기판 로더, 노광 챔버에 로딩 된 기판과 얼라인 되어 감광 박막에 패턴을 형성하는 적어도 1 개의 패턴 마스크가 수납된 패턴 마스크 적재 카세트, 노광 챔버와 패턴 마스크 적재 카세트의 사이에 설치되어 패턴 마스크가 노광 챔버에 로딩 되기 이전에 패턴 마스크의 오염을 검사하는 패턴 마스크 검사기 및 패턴 마스크가 패턴 마스크 검사기에 로딩 되기 이전에 패턴 마스크에 부착된 오염물질을 제거하는 패턴 마스크 클리닝 수단을 포함하는 노광 설비를 제공한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하고자 한다.
도 1은 본 발명의 일실시예에 의한 패턴 마스크 클리닝 장치의 개념도이다.
도 1을 참조하면, 패턴 마스크 클리닝 장치(100)는 전체적으로 보아 제어 유닛(110), 클리닝 가스 저장 탱크(120), 클리닝 가스 분사 유닛(130), 클리닝 가스 공급 배관(140), 솔레노이드 밸브(150) 및 패턴 마스크 감지 센서(160)로 구성된다.
클리닝 가스 저장 탱크(120)는 고압으로 클리닝 가스를 공급하는 역할을 수행한다. 이때, 클리닝 가스는 공기 등과 화학 반응을 일으키지 않는 불활성 가스를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 바람직한 일실시예로 클리닝 가스로 질소 가스가 사용된다.
클리닝 가스 공급 배관(140)은 일측 단부가 클리닝 가스 저장 탱크(120)에 연결되고 타측 단부는 상세하게 후술될 클리닝 가스 분사 유닛(130)에 연결된다.
솔레노이드 밸브(150)는 클리닝 가스 공급 배관(140)상에 설치되어, 클리닝 가스 저장 탱크(120)에서 공급된 클리닝 가스를 선택적으로 공급 및 차단한다. 솔레노이드 밸브(150)는 제어 유닛(110)의 제어 신호에 의하여 작동한다.
클리닝 가스 분사 유닛(130)은 클리닝 가스 공급 배관(140)의 타측 단부에 연결되며, 클리닝 가스 저장 탱크(120)로부터 공급된 클리닝 가스를 빠른 유속으로 분사한다.
이를 구현하기 위해서, 클리닝 가스 분사 유닛(130)은 에어 나이프 형상으로 제작하여도 무방하고, 클리닝 가스 공급 배관(140)에서 분기된 분기관에 각각 형성된 노즐 형태로 제작하여도 무방하다.
패턴 마스크 감지 센서(160)는 클리닝 가스의 분사 시기를 결정하기 위해서 패턴 마스크(170)의 이송 경로 상에 형성된다.
패턴 마스크 감지 센서(160)는 매우 다양한 센서가 사용될 수 있지만, 발광부(162) 및 수광부(164)를 갖는 광 센서 또는 근접 센서 또는 초음파 센서 등을 사용하는 것이 바람직하다.
이때, 발광부(162) 및 수광부(164)는 이들 사이로 패턴 마스크(170)가 통과되도록 하는 것이 바람직하다.
이와 같은 구성을 갖는 패턴 마스크 클리닝 장치의 작용을 첨부된 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다.
먼저, 대기 상태에서 패턴 마스크 감지 센서(160)가 패턴 마스크(170)를 감 지할 경우, 패턴 마스크 감지 신호를 발생시킨다. 패턴 마스크 감지 신호는 제어 유닛(110)으로 패턴 마스크 감지 신호를 전송한다.
제어 유닛(110)은 패턴 마스크 감지 센서(160)로부터 전송된 패턴 마스크 감지 신호에 따라서 클리닝 가스 저장 탱크(120) 및 솔레노이드 밸브(150)를 작동시켜 클리닝 가스 저장 탱크(120)로부터 클리닝 가스 공급 배관(140)으로 클리닝 가스가 공급되도록 한다.
이에 따라 클리닝 가스는 클리닝 가스 공급 배관(140)을 따라 이송되고, 클리닝 가스 분사 유닛(130)을 통하여 패턴 마스크(170)에 강하게 분사된다.
이때, 패턴 마스크(170)는 계속 이송되고, 클리닝 가스에 의하여 패턴 마스크(170)에 묻어 있던 파티클은 제거된다.
이어서, 패턴 마스크(170)의 단부가 패턴 마스크 감지 센서(160)로부터 벗어나면, 패턴 마스크 감지 센서(160)는 제어 유닛(110)으로 전송하던 패턴 마스크 감지 신호의 전송을 중단하고, 제어 유닛(110)은 솔레노이드 밸브(150)를 폐쇄시켜 클리닝 가스 저장 탱크(120)로부터 클리닝 가스의 공급을 차단한다.
본 발명에서는 바람직한 일실시예로 패턴 마스크 클리닝 장치(100)가 패턴 마스크(170)의 일측면에만 클리닝 가스를 분사하는 것을 설명하고 있지만, 패턴 마스크 클리닝 장치(100)를 하나 더 사용하여 패턴 마스크(170)의 양쪽면에 클리닝 가스를 분사하는 것 또한 바람직하다.
도 2는 본 발명의 바람직한 일실시예에 의한 패턴 마스크 클리닝 장치가 설치된 노광 설비의 개념도이다. 도 3은 본 발명의 바람직한 일실시예에 의한 노광 설비의 평면 배치를 도시한 평면도이다.
첨부된 도 2를 참조하면, 노광 설비(600)는 전체적으로 보아 베이스 몸체(700), 노광 챔버(200), 패턴 마스크 클리닝 장치(100), 패턴 마스크 검사기(400) 및 패턴 마스크 적재 카세트(500) 및 기판 적재 카세트(300)로 구성된다.
도 3을 참조하면, 노광 챔버(200)는 베이스 몸체(700)상에 설치된다. 노광 챔버(200)는 패턴 마스크에 형성된 노광 패턴을 감광막이 도포된 기판에 투영하여 감광막에 패턴 마스크의 노광 패턴이 전사되도록 한다.
이를 구현하기 위해서 노광 챔버(200)에는 패턴 마스크 및 감광막이 도포된 기판이 로딩 또는 언로딩 되어야 한다.
베이스 몸체(700) 중 노광 챔버(200)의 일측에는 기판 적재 카세트(300)가 배치된다.
기판 적재 카세트(300)에는 선행 공정, 예를 들면, 감광막 도포 공정이 종료되어 감광막이 도포된 기판이 복수 매 적층 되어 대기한다.
한편, 베이스 몸체(700)중 노광 챔버(200)의 타측에는 패턴 마스크 검사기(400) 및 패턴 마스크 적재 카세트(500)가 순차적으로 설치된다.
노광 챔버(200)에는 패턴 마스크 검사기(400)가 근접 설치되고, 패턴 마스크 적재 카세트(500)는 패턴 마스크 검사기(400)에 근접 설치된다.
패턴 마스크 적재 카세트(500)에는 다양한 종류의 패턴 마스크가 적층 되어 있다. 다양한 종류의 패턴 마스크 중 어느 하나는 기판에 수행될 공정의 종류에 따 라서 선택된다.
패턴 마스크 검사기(400)는 패턴 마스크가 오염 물질에 의하여 오염되었는가를 판단한다.
패턴 마스크가 오염 물질에 의하여 오염되지 않을 경우, 패턴 마스크는 패턴 마스크 검사기(400)로부터 노광 챔버(200)로 이송되어 노광 챔버(200)의 지정된 위치에 고정된다.
패턴 마스크가 오염 물질에 의하여 오염되었을 경우, 패턴 마스크는 노광 챔버(200)로 이송되지 못하고 패턴 마스크 적재 카세트(5000)로 언로딩 된 후, 오염물질이 제거된 후 다시 패턴 마스크 검사기(400)로 다시 로딩 된다.
이 패턴 마스크 검사기(400)는 오염된 패턴 마스크가 노광 챔버(200)로 공급되어 발생되는 설비 오염 등을 적극적으로 방지하는 역할을 하지만, 전체 노광 공정에 소요되는 시간을 증가시키는 요인으로 작용한다.
본 발명에서는 패턴 마스크가 패턴 마스크 검사기(400)로 이송되기 전에 패턴 마스크로부터 제거 가능한 파티클과 같은 오염물질을 제거함으로써 패턴 마스크 검사기(400)로부터 오염물질에 오염되어 리젝트(reject) 된 패턴 마스크의 빈도를 크게 감소시킨다.
이를 구현하기 위해서 패턴 마스크 검사기(400)와 패턴 마스크 적재 카세트(500)의 사이에는 패턴 마스크 클리닝 장치(100)가 설치된다.
도 4는 노광 설비에 적용된 패턴 마스크 클리닝 장치의 개념도이다.
도 4를 참조하면, 패턴 마스크 클리닝 장치(100)는 패턴 마스크 검사기(400) 에 설치된다.
패턴 마스크 클리닝 장치(100)는 전체적으로 보아 제어 유닛(110), 클리닝 가스 저장 탱크(120), 클리닝 가스 분사 유닛(130), 클리닝 가스 공급 배관(140), 솔레노이드 밸브(150) 및 패턴 마스크 감지 센서(160)로 구성된다.
클리닝 가스 저장 탱크(120)는 고압으로 클리닝 가스를 공급하는 역할을 수행한다. 이때, 클리닝 가스는 공기 등과 화학 반응을 일으키지 않는 불활성 가스를 사용하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는 바람직한 일실시예로 클리닝 가스로 질소 가스가 사용된다.
클리닝 가스 공급 배관(140)은 일측 단부가 클리닝 가스 저장 탱크(120)에 연결되고 타측 단부는 상세하게 후술될 클리닝 가스 분사 유닛(130)에 연결된다.
솔레노이드 밸브(150)는 클리닝 가스 공급 배관(140)상에 설치되어 클리닝 가스 저장 탱크(120)에서 공급된 클리닝 가스를 선택적으로 공급 및 차단한다. 솔레노이드 밸브(150)는 제어 유닛(110)의 제어 신호에 의하여 작동한다.
클리닝 가스 분사 유닛(130)은 클리닝 가스 공급 배관(140)의 타측 단부에 연결되며 클리닝 가스 저장 탱크(120)로부터 공급된 클리닝 가스를 빠른 유속으로 분사한다.
이를 구현하기 위해서, 클리닝 가스 분사 유닛(130)은 에어 나이프 형상으로 제작하여도 무방하고, 클리닝 가스 공급 배관(140)에서 분기된 분기관에 각각 형성된 노즐 형태로 제작하여도 무방하다.
패턴 마스크 감지 센서(160)는 클리닝 가스의 분사 시기를 결정하기 위해서 패턴 마스크의 이송 경로 상에 형성된다.
패턴 마스크 감지 센서(160)는 매우 다양한 센서가 사용될 수 있지만, 수광부(164) 및 발광부(162)를 갖는 광 센서 또는 근접 센서 또는 초음파 센서 등을 사용하는 것이 바람직하다.
이하, 첨부된 도 3 또는 도 4를 참조하여 노광 설비의 공정 진행을 설명하면 다음과 같다.
먼저, 노광 챔버(200)에는 패턴 마스크 또는 감광막이 도포된 기판이 로딩 된다. 본 발명에서는 바람직하게 노광 챔버(200)에 기판이 로딩 된 후 패턴 마스크가 로딩 되는 것을 설명하기로 한다.
먼저, 노광 챔버(200)에는 기판 적재 카세트(300)에 적재된 기판 중 어느 하나가 언로딩 되어 노광 챔버(200)의 내부로 로딩 된다. 노광 챔버(200)의 내부로 로딩 된 기판은 지정된 위치에 고정된다.
노광 챔버(200)에 기판이 고정된 상태에서 패턴 마스크 적재 카세트(500)로부터는 노광 챔버(200)에 대기중인 기판에 대응하는 패턴 마스크가 언로딩 된다.
패턴 마스크 적재 카세트(500)로부터 언로딩 된 패턴 마스크는 패턴 마스크 클리닝 장치(100)에서 공급된 클리닝 가스에 의하여 클리닝된 상태에서 패턴 마스크 검사기(400)로 로딩 된다.
패턴 마스크 검사기(400)는 로딩 된 패턴 마스크의 오염 여부를 판단하여, 패턴 마스크가 오염물질에 의하여 오염되었을 경우, 패턴 마스크 검사기(400)로부터 패턴 마스크 적재 카세트(500)로 언로딩 하여 패턴 마스크가 클리닝 되도록 하 고, 패턴 마스크가 오염 물질에 의하여 오염되지 않을 경우 노광 챔버(200) 측으로 언로딩 한다.
노광 챔버(200) 측으로 언로딩 된 패턴 마스크는 노광 챔버(200)로 로딩 된 후 기판과 얼라인 되도록 고정된다.
노광 챔버(200)의 내부에 감광막이 도포된 기판 및 패턴 마스크가 모두 정상적으로 얼라인 되면 노광 챔버(200)에서는 패턴 마스크를 통하여 기판에 광이 도달하도록 노광이 진행되어 패턴 마스크에 형성된 패턴이 기판에 형성된 감광막에 투영되도록 한다. 이로써, 기판에 형성된 감광막에는 패턴 마스크에 형성된 패턴이 그대로 전사된다.
노광 챔버(200)에서 노광 공정이 종료된 기판은 노광 챔버(200)로부터 언로딩 되어 후속 공정인 현상 공정으로 이송된다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 노광 공정에 필요한 패턴 마스크에 부착된 오염 물질 중 간단하게 제거 가능한 경미한 오염물질 등에 의하여 패턴 마스크가 노광 챔버로 이송되지 못하고 리젝트 되는 것을 방지함으로써 노광 공정 시간을 크게 단축시켜 설비 효율을 크게 향상시키는 효과를 갖는다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (6)

  1. 클리닝 가스가 저장된 클리닝 가스 저장 탱크;
    상기 클리닝 가스 저장 탱크에 저장된 상기 클리닝 가스가 이송되는 클리닝 가스 이송 배관;
    상기 클리닝 가스 이송 배관을 선택적으로 개폐시키는 개폐 밸브;
    상기 클리닝 가스를 패턴 마스크에 분사하기 위한 클리닝 가스 분사 유닛; 및
    상기 패턴 마스크를 감지하여 상기 클리닝 가스의 분사 시기를 결정하기 위한 패턴 마스크 감지 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 마스크 클리닝 장치.
  2. 제 1 항에 있어서, 패턴 마스크 감지 수단은 상기 패턴 마스크를 감지하는 광 센서, 근접 센서, 초음파 센서 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴 마스크 클리닝 장치.
  3. 기판에 형성된 감광 박막을 노광하기 위한 노광 챔버;
    상기 노광챔버에 로딩 될 기판이 적재된 기판 적재 카세트;
    상기 노광 챔버에 로딩 된 상기 기판과 얼라인 되어 상기 감광 박막에 패턴을 형성하기 위하여 적어도 1 개의 패턴 마스크가 수납된 패턴 마스크 적재 카세 트;
    상기 노광 챔버와 상기 패턴 마스크 적재 카세트의 사이에 설치되어 상기 패턴 마스크가 상기 노광 챔버에 로딩 되기 이전에 상기 패턴 마스크의 오염을 검사하는 패턴 마스크 검사기; 및
    상기 패턴 마스크가 상기 패턴 마스크 검사기에 로딩 되기 이전에 상기 패턴 마스크에 부착된 오염물질을 제거하는 패턴 마스크 클리닝 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 설비.
  4. 제 3 항에 있어서, 상기 패턴 마스크 클리닝 수단은
    클리닝 가스가 저장된 클리닝 가스 저장 탱크;
    상기 클리닝 가스 저장 탱크로부터 상기 클리닝 가스가 이송되는 클리닝 가스 배관;
    상기 클리닝 가스 배관을 선택적으로 개폐시키는 개폐 밸브;
    상기 개폐 밸브를 개폐시키기 위하여 상기 패턴 마스크를 감지하는 감지 센서; 및
    상기 클리닝 가스 배관에서 공급된 상기 클리닝 가스를 상기 패턴 마스크로 분사하기 위한 클리닝 가스 분사 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 설비.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 클리닝 가스 분사 유닛은 분사 노즐 또는 에어 나이프인 것을 특징으로 하는 노광 설비.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 클리닝 가스는 질소 가스인 것을 특징으로 하는 노광 설비.
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