KR100828522B1 - 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 - Google Patents
패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100828522B1 KR100828522B1 KR1020020039128A KR20020039128A KR100828522B1 KR 100828522 B1 KR100828522 B1 KR 100828522B1 KR 1020020039128 A KR1020020039128 A KR 1020020039128A KR 20020039128 A KR20020039128 A KR 20020039128A KR 100828522 B1 KR100828522 B1 KR 100828522B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- pattern mask
- cleaning gas
- cleaning
- pattern
- exposure
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
- H02J—CIRCUIT ARRANGEMENTS OR SYSTEMS FOR SUPPLYING OR DISTRIBUTING ELECTRIC POWER; SYSTEMS FOR STORING ELECTRIC ENERGY
- H02J9/00—Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting
- H02J9/04—Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source
- H02J9/06—Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source with automatic change-over, e.g. UPS systems
- H02J9/062—Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source with automatic change-over, e.g. UPS systems for AC powered loads
- H02J9/065—Circuit arrangements for emergency or stand-by power supply, e.g. for emergency lighting in which the distribution system is disconnected from the normal source and connected to a standby source with automatic change-over, e.g. UPS systems for AC powered loads for lighting purposes
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B41/00—Circuit arrangements or apparatus for igniting or operating discharge lamps
- H05B41/14—Circuit arrangements
- H05B41/26—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc
- H05B41/28—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters
- H05B41/295—Circuit arrangements in which the lamp is fed by power derived from dc by means of a converter, e.g. by high-voltage dc using static converters with semiconductor devices and specially adapted for lamps with preheating electrodes, e.g. for fluorescent lamps
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02B—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO BUILDINGS, e.g. HOUSING, HOUSE APPLIANCES OR RELATED END-USER APPLICATIONS
- Y02B20/00—Energy efficient lighting technologies, e.g. halogen lamps or gas discharge lamps
Landscapes
- Business, Economics & Management (AREA)
- Emergency Management (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
Claims (6)
- 클리닝 가스가 저장된 클리닝 가스 저장 탱크;상기 클리닝 가스 저장 탱크에 저장된 상기 클리닝 가스가 이송되는 클리닝 가스 이송 배관;상기 클리닝 가스 이송 배관을 선택적으로 개폐시키는 개폐 밸브;상기 클리닝 가스를 패턴 마스크에 분사하기 위한 클리닝 가스 분사 유닛; 및상기 패턴 마스크를 감지하여 상기 클리닝 가스의 분사 시기를 결정하기 위한 패턴 마스크 감지 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴 마스크 클리닝 장치.
- 제 1 항에 있어서, 패턴 마스크 감지 수단은 상기 패턴 마스크를 감지하는 광 센서, 근접 센서, 초음파 센서 중 어느 하나인 것을 특징으로 하는 패턴 마스크 클리닝 장치.
- 기판에 형성된 감광 박막을 노광하기 위한 노광 챔버;상기 노광챔버에 로딩 될 기판이 적재된 기판 적재 카세트;상기 노광 챔버에 로딩 된 상기 기판과 얼라인 되어 상기 감광 박막에 패턴을 형성하기 위하여 적어도 1 개의 패턴 마스크가 수납된 패턴 마스크 적재 카세 트;상기 노광 챔버와 상기 패턴 마스크 적재 카세트의 사이에 설치되어 상기 패턴 마스크가 상기 노광 챔버에 로딩 되기 이전에 상기 패턴 마스크의 오염을 검사하는 패턴 마스크 검사기; 및상기 패턴 마스크가 상기 패턴 마스크 검사기에 로딩 되기 이전에 상기 패턴 마스크에 부착된 오염물질을 제거하는 패턴 마스크 클리닝 수단을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 설비.
- 제 3 항에 있어서, 상기 패턴 마스크 클리닝 수단은클리닝 가스가 저장된 클리닝 가스 저장 탱크;상기 클리닝 가스 저장 탱크로부터 상기 클리닝 가스가 이송되는 클리닝 가스 배관;상기 클리닝 가스 배관을 선택적으로 개폐시키는 개폐 밸브;상기 개폐 밸브를 개폐시키기 위하여 상기 패턴 마스크를 감지하는 감지 센서; 및상기 클리닝 가스 배관에서 공급된 상기 클리닝 가스를 상기 패턴 마스크로 분사하기 위한 클리닝 가스 분사 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 노광 설비.
- 제 4 항에 있어서, 상기 클리닝 가스 분사 유닛은 분사 노즐 또는 에어 나이프인 것을 특징으로 하는 노광 설비.
- 제 4 항에 있어서, 상기 클리닝 가스는 질소 가스인 것을 특징으로 하는 노광 설비.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020039128A KR100828522B1 (ko) | 2002-07-06 | 2002-07-06 | 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020020039128A KR100828522B1 (ko) | 2002-07-06 | 2002-07-06 | 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20040004905A KR20040004905A (ko) | 2004-01-16 |
KR100828522B1 true KR100828522B1 (ko) | 2008-05-13 |
Family
ID=37315298
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020020039128A KR100828522B1 (ko) | 2002-07-06 | 2002-07-06 | 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100828522B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100647366B1 (ko) * | 2004-06-11 | 2006-11-23 | 주식회사 하이닉스반도체 | 노광시스템 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960035787A (ko) * | 1995-03-10 | 1996-10-28 | 이노우에 아키라 | 성막처리장치 및 성막처리방법 |
KR19980087036A (ko) * | 1997-05-15 | 1998-12-05 | 히가시 데츠로 | 성막 장치의 클리닝 방법 |
KR100189219B1 (ko) * | 1995-03-03 | 1999-06-01 | 니시히라 순지 | 현장 클리닝의 후처리방법 |
-
2002
- 2002-07-06 KR KR1020020039128A patent/KR100828522B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100189219B1 (ko) * | 1995-03-03 | 1999-06-01 | 니시히라 순지 | 현장 클리닝의 후처리방법 |
KR960035787A (ko) * | 1995-03-10 | 1996-10-28 | 이노우에 아키라 | 성막처리장치 및 성막처리방법 |
KR19980087036A (ko) * | 1997-05-15 | 1998-12-05 | 히가시 데츠로 | 성막 장치의 클리닝 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20040004905A (ko) | 2004-01-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7742146B2 (en) | Coating and developing method, coating and developing system and storage medium | |
US6929903B2 (en) | Developing method, substrate treating method, and substrate treating apparatus | |
US5963315A (en) | Method and apparatus for processing a semiconductor wafer on a robotic track having access to in situ wafer backside particle detection | |
KR101184090B1 (ko) | 액침 노광용 도포막 형성 장치, 액침 노광용 도포막 형성 방법 및 기억 매체 | |
US7237581B2 (en) | Apparatus and method of dispensing photosensitive solution in semiconductor device fabrication equipment | |
US7316515B2 (en) | Liquid processing apparatus processing a substrate surface with a processing liquid, liquid processing method, and liquid condition detection apparatus detecting fluctuation of the processing liquid | |
KR20040101289A (ko) | 반도체제조방법 및 그 장치 | |
US20030101929A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
US8059257B2 (en) | Exposure apparatus and device manufacturing method | |
TW200924096A (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
KR101391075B1 (ko) | 포토레지스트를 현상하는 장치 및 그 장치를 동작시키는방법 | |
US20100159372A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
US7591600B2 (en) | Method and system for monitoring photolithography processing based on a batch change in light sensitive material | |
US20030155077A1 (en) | Substrate processing apparatus | |
KR100828522B1 (ko) | 패턴 마스크 클리닝 장치 및 이를 갖는 노광 설비 | |
KR20050030984A (ko) | 포토레지스트 공급장치 | |
JP2009295840A (ja) | 基板処理方法及びマスク製造方法 | |
US6174632B1 (en) | Wafer defect detection method utilizing wafer with development residue attracting area | |
JP2000042472A (ja) | 塗布異常検出手段を有す薄膜塗布装置と露光装置及び薄膜塗布方法 | |
KR100995573B1 (ko) | 감광물질 도포 장치 | |
KR100669865B1 (ko) | 이물질 세척장치를 구비한 반도체 제조 장치 | |
JP2006319350A (ja) | 基板処理方法 | |
KR100701996B1 (ko) | 반도체 디바이스 제조용 노광 설비 | |
KR20090044540A (ko) | 레티클 세정 장치 및 이를 이용한 반도체 소자의 제조 방법 | |
JP2024007657A (ja) | 異物除去装置、リソグラフィ装置及び物品の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20130430 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140430 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150430 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170704 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180502 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190429 Year of fee payment: 12 |