KR100816361B1 - 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명에서는 연료 프로세서용 가스 분배 판으로서, 상기 가스 분배 판은, 복수 개의 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 전 가스의 흐름 경로인 제1 가스 흐름 채널과, 복수 개의 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 후 가스의 흐름 경로인 제2 가스 흐름 채널을 구비하고, 상기 제1 가스 흐름 채널 및 상기 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판에서 서로 독립적으로 형성되며, 상기 제1 및 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판의 일 측면 또는 양 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법을 제공한다. 본 발명에 의하면 메탄올 개질 마이크로 반응기와 같은 연료 프로세서에 사용되는 반응기에서의 가스 분배 시, 가스 유량의 많고 적음에 관계없이 가스의 분배를 균일하게 조절하여 촉매에 전체적으로 가스가 접촉할 수 있도록 함으로써 국부적 발열을 제어하고 반응열의 분포를 균일하게 할 수 있다.

연료프로세서, 메탄올개질반응, 가스분배기, 미세채널, 구멍, 다공성촉매

Description

연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법{Gas distributing plate, gas distributing device containing the same and gas distributing method for fuel processor}

도 1은 종래의 평판형 가스 분배 판이 반응기 내에 장착된 것을 보여주는 개략도이다.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 분배 판을 나타내는 개략도이다.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스 분배 판을 나타내는 개략도이다.

도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 가스 분배기를 나타내는 개략도이다.

도 5는 도 4의 가스 분배기에서의 가스 흐름을 예시적으로 나타내는 개략도이다.

*주요 도면 부호의 설명*

1 : 반응기 2 : 종래의 평판형 가스 분배 판

3 : 촉매 4 : 유입

5 : 유출 6 : 구멍

10 : 제1 실시예의 가스 분배 판 20 : 제2 실시예의 가스 분배 판

25 : 라인 30 : 제1 가스 흐름 채널

40 : 제2 가스 흐름 채널 31, 41 : 관통 구멍

50 : 촉매 60 : 일정 거리 유지 부재

70 : 촉매 지지 부재 G : 반응 전 가스

G' : 반응 후 가스 M : 메인 채널

B : 브랜치 채널

본 발명은 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법에 관한 것으로, 상세하게는, 특히 메탄올 개질 마이크로 반응기와 같은 연료 프로세서에 있어서, 반응기 입구 쪽에서 국부적으로 급격한 발열 반응이 일어나지 않도록 반응기에 가스를 균일하게 분배함에 의하여 반응기 내의 반응을 효율적으로 제어할 수 있는 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법에 관한 것이다.

본 발명에 있어서 가스 분배 장치라는 용어는 가스 분배를 위하여 사용되는 일체의 부재뿐만 아니라 촉매가 장착된 것을 포함하는 의미로서 사용된다.

연료 전지에 공급될 연료의 처리를 위한 연료 프로세서 중 예컨대 메탄올 개질 마이크로 반응기는 메탄올 개질 촉매 반응을 통해 수소를 발생하는 장치이며, 여기에 연료 전지가 부착되어 휴대용 연료 전지 장치로서 이용된다.

상기 반응기 내에서는 촉매 반응이 수행되기 위하여 일정한 온도가 요구되는 데, 이때 촉매에 가스를 고르게 분배시킬 수 있는 가스 분배기를 사용할 필요가 있다.

그런데, 종래에 연료 프로세서가 아닌 다른 분야에서 사용되어 왔던 가스 분배기는 부피가 크고 복잡하기 때문에 크기가 중요시되는 연료 프로세서용 마이크로 반응기에서 사용되기에는 적합하지 않았다.

한편, 종래에 연료 프로세서용 마이크로 반응기에서 평판형 가스 분배 판이 사용된바 있지만, 이 분배 판에서는 열 공급이 국부적으로 발생할 수밖에 없기 때문에 메탄올을 개질 하는데 필요한 충분한 열을 공급하기가 어려웠다.

도 1은 종래의 평판형 가스 분배 판이 반응기 내에 장착된 것을 보여주는 개략도이다.

도 1에 도시된 바와 같이, 반응기(1) 내에는 종래의 평판형 가스 분배 판(2)이 구비되어 있는데, 상기 가스 분배 판(2)에는 가스 통과를 위한 작은 구멍(6)이 다수 형성되어 있다. 반응기(1)로 유입(4)된 가스는 상기 가스 분배 판(2)에 형성된 구멍(6)을 통하여 촉매(3) 측으로 흘러들어가고, 상기 촉매(3) 상을 진행하면서 반응이 수행된 후 반응기(1) 외부로 유출(5)된다.

이와 같은 가스 분배 판을 사용하는 경우 가스 유량에 상관없이 가스가 분배 판을 지나가게 되므로 가스가 반응기의 앞쪽부터 구멍을 통해 촉매로 전달되어 반응기의 뒤쪽으로 진행하는 과정에서 가스 전달이 힘들어진다는 문제점이 있다.

나아가, 설령 구멍을 통해 가스가 통과하더라도 반응기의 앞쪽 부분에서 반응한 후의 가스, 즉, 반응 전 가스와 다른 성분을 가지는 반응 후의 가스가 뒤쪽으 로 이동하여 반응 전 가스와 희석됨으로써 반응기의 뒤쪽 촉매에서는 반응이 원활하게 수행되지 않게 되고 결국 반응기 앞과 뒤에서 온도차가 야기된다는 문제점이 있다.

더욱이, 가스 유량이 많은 경우에는 반응기의 출구 측에 압력이 많이 걸리게 되는데 이 경우 반응기 입구 측에서 유입되는 가스와 충돌하여 더 큰 압력이 걸리게 되는 문제점이 있고, 가스 유량이 적은 경우에는 가스 이동이 늦어져서 가스 분배가 어려워지는 문제점이 있다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은, 메탄올 개질 마이크로 반응기와 같은 연료 프로세서에 사용되는 가스 분배 판 내지 가스 분배 장치에 있어서, 가스 유량의 많고 적음에 관계없이 가스의 분배를 균일하게 조절하여 촉매에 전체적으로 가스가 접촉할 수 있도록 함으로써 반응열의 분포를 균일하게 할 수 있는 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법을 제공하는 것이다.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는, 연료 프로세서용 가스 분배 판으로서, 상기 가스 분배 판은, 복수 개의 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 전 가스의 흐름 경로인 제1 가스 흐름 채널과, 복수 개의 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 후 가스의 흐름 경로인 제2 가스 흐름 채널을 구비하고, 상기 제1 가 스 흐름 채널 및 상기 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판에서 서로 독립적으로 형성되며, 상기 제1 및 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판의 일 측면 또는 양 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 판을 제공한다.

본 발명에 있어서, 상기 제1 가스 흐름 채널 및 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판에서 일정 거리 이격하여 상호 대향 하도록 형성되는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서, 상기 제1 가스 흐름 채널 및 제2 가스 흐름 채널은 각각 상기 가스 분배 판의 길이 방향으로 형성된 하나의 메인 채널과 횡 방향으로 형성된 복수 개의 브랜치 채널로 이루어지는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서, 상기 제1 가스 흐름 채널의 브랜치 채널과 상기 제2 가스 흐름 채널의 브랜치 채널은 상기 가스 분배 판에서 그 길이 방향을 따라 상호 교대로 형성되는 것이 바람직하다.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는, 상기 가스 분배 판의 일측 또는 양측에 촉매가 장착된 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치를 제공한다.

본 발명에 있어서, 상기 가스 분배 장치는, 상기 가스 분배 판 두 장이 대향하여 접합된 가스 분배 판 접합체의 일측 또는 양측에 촉매가 장착되는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서, 상기 한 장의 가스 분배 판의 제1 가스 흐름 채널과 제2 가스 흐름 채널의 형성 위치 및 상기 나머지 한 장의 가스 분배 판의 제1 가스 흐름 채널과 제2 가스 흐름 채널의 형성 위치는 서로 좌우가 반대인 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서, 상기 가스 분배 판 두 장의 어느 하나 또는 둘에는 가스 분배 판 두 장의 접합을 용이하게 하도록 소정 두께로 함몰된 라인이 형성되는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서, 상기 가스 분배 장치는, 상기 촉매를 지지하는 지지 부재를 구비하는 것이 바람직하고, 상기 촉매 장착 시 상기 지지 부재와 상기 가스 분배 판 사이의 거리를 일정하게 유지하게 하는 일정 거리 유지 부재를 구비하는 것이 바람직하다.

본 발명에 있어서, 상기 촉매는 다공성 니켈-크롬(Ni-Cr) 판에 세리아(CeO)와 백금(Pt)이 함침된 것이 바람직하다.

상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명에서는, 연료 프로세서용 반응기에서의 가스 분배 방법으로서, 반응 전 가스의 흐름 채널과 반응 후 가스의 흐름 채널이 서로 독립적으로 형성되도록 하는 것을 특징으로 하는 가스 분배 방법이 제공된다.

이하, 본 발명에 따른 연료 프로세서용 가스 분배 판, 상기 가스 분배 판을 포함하는 가스 분배 장치 및 가스 분배 방법을 상술한다.

본 발명에서는 연료 프로세서용 반응기에서의 가스 분배 시 유입된 가스가 흐르고 이를 촉매로 분배하는 가스 흐름 채널과 독립적으로 촉매와 반응 후의 가스 가 흘러 배출될 수 있도록 하는 가스 흐름 채널을 형성하여, 가스 유량의 많고 적음에 관계없이 가스의 분배를 균일하게 조절하고 촉매에 전체적으로 가스가 접촉할 수 있도록 하여 반응열의 분포를 균일하게 할 수 있다.

도 2는 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 분배 판을 나타내는 개략도로서, 도 2a는 가스 분배 판의 앞면을 도 2b는 가스 분배 판의 뒷면을 나타내는 것이다.

도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시예에 따른 가스 분배 판(10)은 상용의 재질로 이루어지되, 그 일측면(또는 양측면)에는 두 개의 가스 흐름 채널(30, 40)이 서로 독립적, 즉, 각 채널을 흐르는 가스가 서로 섞이지 않도록 형성되어 있다. 상기 가스 흐름 채널(30, 40)은 가스 분배 판(10)의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지도록 가스 분배 판(10) 상에 형성되는 것으로서, 에칭에 의하여 형성될 수도 있고 또는 제작 과정을 단순화하기 위하여 미세 채널을 압착(pressing)하여 형성할 수도 있다. 상기 압착하는 경우에 상기 압착된 채널의 깊이는 압착된 미세 채널을 포함한 전체 가스 분배 판의 두께보다 작다.

한편, 상기 가스 흐름 채널(30, 40)은 바람직하게는 일정 거리 이격하여 상호 대향 하는 구조로 형성된다.

예컨대, 상기 가스 흐름 채널(30, 40)은 가스 분배 판(10)의 길이 방향을 따라서 형성된 메인 채널(M)과 상기 가스 분배 판(10)의 횡방향을 따라서 형성된 브랜치 채널(B)을 각각 구비하는 것으로서, 이때 제1 가스 흐름 채널(30)과 제2 가스 흐름 채널(40)은 서로 반대 방향을 향하면서 일정 거리 이격하고 대향 하여 형성되며, 상기 제1 가스 흐름 채널(30)과 제2 가스 흐름 채널(40)의 각 브랜치 채널(B) 은 가스 분배 판(10)의 길이 방향을 따라서 서로 교대로 형성된다. 도 2는 상기 메인 채널(M)이나 브랜치 채널(B)이 서로 직교하도록 도시하고 있지만 필요에 따라 상기 메인 채널(M)이나 브랜치 채널(B)은 가스 분배 판의 길이 방향 및 횡방향에서 각각 일정한 각도로 경사지도록 형성될 수도 있다.

상기 가스 흐름 채널(30, 40)에는 각각 가스가 유통할 수 있는 관통 구멍(31, 41)이 형성되어 있다.

상기 관통 구멍(31, 41)은 메인 채널(M)과 브랜치 채널(B)에서 일정한 간격으로 형성되는 것으로서, 도 2에는 브랜치 채널(B)에 3개의 관통 구멍(31, 41)이 형성되고 메인 채널(M)에 8개의 관통 구멍(31, 41)이 형성되는 것이 예시되어 있지만 필요에 따라 각 채널에서 그 수를 변경할 수 있고 이에 따라 후술하는 바와 같이 차압을 조절할 수 있다. 상기 관통 구멍(31, 41)은 예컨대 에칭에 의하여 형성할 수 있다.

도 3은 본 발명의 제2 실시예에 따른 가스 분배 판을 나타내는 개략도로서, 도 3a는 가스 분배 판의 앞면을 도 3b는 가스 분배 판의 뒷면을 나타내는 것이다.

도 3에 도시된 가스 분배 판(20)은 도 2에 도시된 제1 실시예에 따른 가스 분배 판(10)과 대비하여, 제1 가스 흐름 채널(30)과 제2 가스 흐름 채널(40)의 형성 위치가 좌우 반대로 되어 있다.

나아가, 제2 실시예에 따른 가스 분배 판(20)의 경우 두 장의 가스 분배 판을 접합 시 접합이 용이하도록 하기 위하여 그 뒷면에 소정 두께로 함몰된 라인(25)이 형성되어 있다. 이와 같은 라인(25) 역시 에칭에 의하여 형성될 수 있다.

도 4는 본 발명의 하나의 실시예에 따른 가스 분배기를 나타내는 개략도이다. 도 4에 도시된 바와 같이, 도 1에 도시된 제1 실시예에 따른 가스 분배 판(10)과 도 2에 도시된 제2 실시예에 따른 가스 분배 판(20)이 대향 하여 예컨대 레이저 용접에 의하여 접합 된다.

도 2 및 도 3을 다시 참조하면, 제1 실시예에 따른 가스 분배 판(10)과 제2 실시예에 따른 가스 분배 판(20)은 그 제1 가스 흐름 채널(30) 및 제2 가스 흐름 채널(40)의 형성 위치의 좌우가 반대이므로 상기 두 장의 가스 분배 판(10, 20)을 대향 하여 접합하는 경우에 제1 가스 흐름 채널(30)은 제1 가스 흐름 채널(30)끼리 제2 가스 흐름 채널(40)은 제2 가스 흐름 채널(40)끼리 대향 하여 접합 될 수 있다.

상기 가스 분배 판(10, 20)의 양측(또는 일 측)으로는 촉매(50)가 접합 되어 장착된다. 상기 가스 분배 판(10, 20)과 촉매(50)의 접합 방법으로는 예컨대, 디퓨젼 본딩(diffusion bonding), 브레이징(brazing), 레이저용접, 전기도급, 티그(TIG)용접, 프레싱, 엠보싱프레싱 등이 이용될 수 있다.

상기 촉매(50)로서는 다공성 촉매를 사용하는 것이 바람직하며, 특히 다공성 니켈-크롬(Ni-Cr) 판에 세리아(CeO)와 백금(Pt)이 함침된 것이 바람직하다.

이와 같이 촉매(50)를 장착하는 경우에 촉매 지지 부재(70)를 이용할 수도 있으며, 필요에 따라서는 일정 거리 유지 부재(60)를 이용할 수도 있다.

즉, 상기 촉매(50) 장착을 위하여 촉매(50)를 촉매 지지 부재(70)에 놓고 이를 상기 대향 하여 접합된 가스 분배 판(10, 20) 접합체의 양측(또는 일측)으로부 터 장착한다. 상기 촉매 지지 부재(70)에는 상기 촉매(50)가 들어갈 수 있도록 내측 공간 일부가 함몰되는 것이 바람직하다.

한편, 제조된 촉매(50)의 두께는 균일하지 않을 수 있는데, 이러한 경우 촉매(50) 장착 시에 어려움이 있으므로, 촉매(50)의 두께에 좌우되지 않고 상기 촉매 지지 부재(70)와 상기 가스 분배 판(10, 20)의 사이의 거리를 일정하게 유지할 수 있도록 일정 거리 유지 부재(60)를 추가로 사용할 수도 있다. 상기 일정 두께 유지 부재(60)는 바람직하게는 상기 촉매(50)가 그 내부로 들어가도록 뚫려 있고 테두리에서 일정한 높이를 가진다.

도 5는 도 4의 가스 분배기에서의 가스 흐름을 예시적으로 나타내는 개략도이다.

도 5에 도시된 바와 같이, 두 장의 가스 분배 판(10, 20)을 이용하는 경우에 튜브(80)를 통하여 유입되는 반응 전 가스(G)는 두 장의 가스 분배 판(10, 20)의 제1 가스 흐름 채널(30)을 따라 진행하면서 관통 구멍(31)을 통하여 일정한 비율로 고르게 분배되어 촉매(50) 측으로 흐르게 되고, 이에 따라 촉매(50)와 반응이 수행되고, 반응이 완료된 반응 후의 가스(G')는 두 장의 가스 분배 판(10, 20)의 제2 가스 흐름 채널(40) 쪽으로 넘어와 관통 구멍(41)을 통하여 제2 가스 흐름 채널(40)로 유입되어 제2 가스 흐름 채널(40)을 따라서 흘러 가스 분배 판(10, 20)의 외부로 배출된다. 여기서, 제1 가스 흐름 채널(30)의 관통 구멍(31)을 지난 가스는 가스의 분출압 때문에 다시 지나온 관통 구멍(31)으로 역류하지 않는다.

본 발명에 따른 가스 분배 판은 그 구조에 기인하여 촉매로 유입되는 가스의 양이 일정하게 조절될 수 있으므로 종래와 달리 고른 열 분포를 나타낼 수 있다.

나아가, 반응 후의 가스들이 출구를 향해 나가면서 반응 전의 가스들과 섞이는 문제가 원천적으로 배제되어 결국 촉매 반응의 효율을 한층 높일 수 있다.

한편, 본 발명에 따른 가스 분배 판에 의하면 차압 조절의 변수가 기존의 가스 분배 판 보다 월등히 증가됨으로써 차압 조절이 용이해지고 결과적으로 분배의 조절이 용이하게 된다. 즉, 가스 분배 판의 두께, 적층된 가스 분배 판과 판 사이의 간격, 관통 구멍의 크기, 관통 구멍 간의 간격, 관통 구멍의 형태, 미세 채널의 개수, 미세 채널의 깊이, 폭, 길이 및 직선 또는 곡선 등의 모양 등을 변화시킴으로써 차압 조절이 가능하다.

이와 같은 본 발명의 가스 분배판이나 가스 분배 장치 및 방법은 특히 메탄올 개질 마이크로 반응기와 같은 연료 프로세서용 반응기에서의 사용이 적합한 것이지만 그 적용 분야가 반드시 이에 국한되는 것은 아니다. 따라서 연료 프로세서 이외에도 기타 이동형 수소 발생 장치, 열교환기, 보일러, 증발기 등에 이용되어 각각의 성능을 향상시키는 것이 가능하다.

본 발명에 의하면 메탄올 개질 마이크로 반응기와 같은 연료 프로세서에 사용되는 반응기에서의 가스 분배 시, 가스 유량의 많고 적음에 관계없이 가스의 분배를 균일하게 조절하여 촉매에 전체적으로 가스가 접촉할 수 있도록 함으로써 국부적 발열을 제어하고 반응열의 분포를 균일하게 할 수 있다. 이에 따라, 특히 연료전지용 수소를 제조하는 연료 프로세서의 성능을 크게 향상시킬 수 있고, 가스의 손실을 막을 수 있으며, 고른 열 분포를 구현함에 의하여 장치의 수명을 높일 수 있다.

비록 본 발명이 상기 언급된 바람직한 실시예와 관련하여 설명되어졌지만, 발명의 요지와 범위로부터 벗어남이 없이 다양한 수정이나 변형을 하는 것이 가능하다. 따라서 첨부된 특허청구의 범위는 본 발명의 요지에서 벗어나지 않는 이러한 수정이나 변형을 포함할 것이다.

Claims (12)

1. 삭제
2. 삭제
3. 삭제
4. 삭제
5. 연료 프로세서용 가스 분배 판의 일측 또는 양측에 촉매가 장착된 연료 프로세서용 가스 분배 장치이고, 상기 가스 분배 판은,

   복수 개의 제1 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 전 가스의 흐름 경로인 제1 가스 흐름 채널;과,

   복수 개의 제2 관통 구멍을 구비하고 가스 분배 판의 전체 두께보다 작은 깊이를 가지며 반응 후 가스의 흐름 경로인 제2 가스 흐름 채널;을 구비하고,

   상기 제1 가스 흐름 채널 및 상기 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판에서 서로 독립적으로 형성되며,

   상기 제1 및 제2 가스 흐름 채널은 상기 가스 분배 판의 일 측면 또는 양 측면에 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
6. 제 5 항에 있어서,

   상기 가스 분배 판 두 장이 대향하여 접합된 가스 분배 판 접합체의 일측 또는 양측에 촉매가 장착되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
7. 제 6 항에 있어서,

   상기 두 장의 가스 분배 판들 중 한 장의 가스 분배 판의 제1 가스 흐름 채널과 제2 가스 흐름 채널의 형성 위치 및 상기 두 장의 가스 분배 판들 중 나머지 한 장의 가스 분배 판의 제1 가스 흐름 채널과 제2 가스 흐름 채널의 형성 위치는 서로 좌우가 반대인 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
8. 제 6 항에 있어서,

   상기 가스 분배 판 두 장의 어느 하나 또는 둘에는 가스 분배 판 두 장의 접합을 용이하게 하도록 소정 두께로 함몰된 라인이 형성되는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
9. 제 5 항에 있어서,

   상기 가스 분배 장치는 상기 촉매를 지지하는 지지 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
10. 제 9 항에 있어서,

    상기 촉매 장착 시 상기 지지 부재와 상기 가스 분배 판 사이의 거리를 일정 하게 유지하게 하는 일정 거리 유지 부재를 구비하는 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
11. 제 5 항에 있어서,

    상기 촉매는 다공성 니켈-크롬(Ni-Cr) 판에 세리아(CeO)와 백금(Pt)이 함침된 것을 특징으로 하는 연료 프로세서용 가스 분배 장치.
12. 삭제

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