KR100814263B1 - Supporting apparatus for shadow frame - Google Patents

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Abstract

본 발명은 기판 주변부 지지대을 지지하는 장치로서, 종래에는 기판 주변부 지지대를 지지하기 위한 브라켓이 챔버바디상에 직접 고정되는 경우 상기 챔버바디내측에 설치되는 월 커버를 관통함은 물론 상기 챔버바디에 상기 브라켓과 고정구를 고정하기 위한 구조를 형성해야 해서 제작의 어려움이 있는 문제점이 있었으나, 이를 해결하기 위해 월 커버상에 상기 기판 주변부 지지대을 지지하는 브라켓을 고정할 수 있도록 하는 본 발명의 구성에 의해 화학기상증착장치의 제작을 용이하게 하는 효과가 있는 기판 주변부 지지대의 지지장치에 관한 것이다.The present invention is a device for supporting a substrate peripheral support, conventionally, when a bracket for supporting a substrate peripheral support is directly fixed on the chamber body, as well as penetrates through the wall cover installed inside the chamber body, the bracket on the chamber body And there was a problem in the manufacturing difficulties to form a structure for fixing the fixture, in order to solve the chemical vapor deposition by the configuration of the present invention to fix the bracket for supporting the substrate peripheral support on the wall cover A support device for a substrate peripheral support having an effect of facilitating fabrication of the device.

LCD, 기판 주변부 지지대, 월 커버, 글래스 LCD, Board Peripheral Support, Wall Cover, Glass

Description

기판 주변부 지지대 지지 장치{Supporting apparatus for shadow frame}Supporting apparatus for shadow frame support unit

도 1a 및 도 1b는 종래의 기판 주변부 지지대 지지장치에 대한 개념도,1A and 1B are conceptual views of a conventional substrate peripheral supporter support device,

도 2a 및 도 2c는 본 발명에 의한 기판 주변부 지지대 지지장치에 대한 개념도,2a and 2c is a conceptual view of the substrate peripheral support apparatus according to the present invention,

도 3은 본 발명에 의한 기판 주변부 지지대의 지지장치를 부착한 상태의 사용상태도,3 is a use state of the state attached to the support device for the substrate peripheral support according to the present invention,

도 4는 본 발명에 의한 분할형 기판 주변부 지지대에 대한 사시도,4 is a perspective view of a divided substrate peripheral supporter according to the present invention;

도 5a 및 도 5b는 본 발명의 기판 주변부 지지대을 사용한 증착공정에 대한 개념도이다.5A and 5B are conceptual views of a deposition process using the substrate peripheral support of the present invention.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100 : 기판 주변부 지지대 210 : 지지 브라켓100: substrate peripheral support 210: support bracket

220 : 위치 지정 브라켓 300 : 월 커버220: positioning bracket 300: wall cover

본 발명은 기판 주변부 지지대의 지지하기 위한 브라켓에 관한 것으로서, 특히 월 커버에 상기 기판 주변부 지지대을 지지하기 위한 브라켓을 고정시킬 수 있 는 기능을 갖는 기판 주변부 지지대의 지지장치에 관한 것이다.The present invention relates to a bracket for supporting a substrate peripheral support, and more particularly, to a support device for a substrate peripheral support having a function of fixing a bracket for supporting the substrate peripheral support to a wall cover.

일반적으로 LCD를 증착하여 생산하기 위하여 도 1a 내지 도 1b와 같은 구성이 이용되고 있다.In general, in order to deposit and produce an LCD, a configuration as shown in FIGS. 1A to 1B is used.

즉 LCD를 생산하기 위한 글래스(G)가 서셉터(50)상에 배치되어 있는 상태에서 반응가스가 샤워헤드(40)를 통해 분사되어 증착되게 된다.( 도 1a 참조) 이 때 상기 글래스(G)상에 배치되어 상기 글래스(G)를 누르게 되는 기판 주변부 지지대(90a)는 브라켓(90b)에 의해 지지된다. That is, the reaction gas is sprayed through the shower head 40 while the glass G for producing LCD is disposed on the susceptor 50 (see FIG. 1A). The substrate periphery support 90a, which is arranged on the substrate and presses the glass G, is supported by the bracket 90b.

상기 기판 주변부 지지대(90a)가 사용되는 이유는 증착공정의 고온 환경에서 상기 글래스(G)가 열변형에 의해 변형될 수 있어 상기 글래스(G)를 눌러 열변형을 방지하기 위한 것이다. The reason why the substrate peripheral support 90a is used is to prevent the heat deformation by pressing the glass G in the high temperature environment of the deposition process by the heat deformation.

또한 상기 기판 주변부 지지대(90a)가 없는 경우에는 상기 서셉터(50)의 측면으로 반응가스의 유동에 난류가 생성되어 전반적으로 반응가스의 유동에 악영향을 미쳐 증착 두께의 균일도가 저하된다. 이와 같은 난류발생을 방지하기 위해 상기 서셉터(50)주위로 유동을 차단하는 기판 주변부 지지대(90a)가 사용된다.In addition, in the absence of the substrate peripheral support 90a, turbulence is generated in the flow of the reaction gas to the side of the susceptor 50, which adversely affects the flow of the reaction gas, thereby lowering the uniformity of the deposition thickness. In order to prevent such turbulence, a substrate peripheral support 90a for blocking flow around the susceptor 50 is used.

종래에는 도 1b에서 도시된 바와 같이 상기 기판 주변부 지지대(90a)를 지지하는 브라켓(90b)이 브라켓 고정구(90c)에 의해 챔버 바디(10)에 직접 고정되는 구조로 되어 있다.In the related art, as illustrated in FIG. 1B, the bracket 90b supporting the substrate peripheral support 90a is directly fixed to the chamber body 10 by the bracket fixture 90c.

그러나 상술한 바와 같이 브라켓(90b)이 챔버바디(10)상에 직접 고정되는 경우 상기 챔버바디(10)내측에 설치되는 월 커버(wall cover)(80)를 관통함은 물론 상기 챔버바디(10)에 상기 브라켓(90b)과 고정구(90c)를 고정하기 위한 구조를 형 성해야 해서 제작의 어려움이 있는 문제점이 있었다.However, as described above, when the bracket 90b is directly fixed on the chamber body 10, the chamber body 10 may of course pass through a wall cover 80 installed inside the chamber body 10. ), There is a problem in that it is difficult to manufacture a structure for fixing the bracket (90b) and the fixture (90c).

본 발명은 상술한 문제점을 해결하기 위한 것으로서 월 커버상에 상기 기판 주변부 지지대을 지지하는 브라켓을 고정할 수 있도록 하여 제작의 편의성을 증진할 수 있는 화학기상증착장치를 제공하는데에 그 목적이 있다.An object of the present invention is to provide a chemical vapor deposition apparatus capable of fixing the bracket for supporting the substrate periphery support on the wall cover to improve the convenience of manufacturing to solve the above problems.

상술한 목적은 챔버 바디내부에 장착되는 월 커버에 고정되는 한편 기판 주변부 지지대을 지지하는 지지 브라켓에 의해 달성될 수 있다.The above object can be achieved by a support bracket fixed to a wall cover mounted inside the chamber body while supporting the substrate peripheral support.

이때 상기 지지 브라켓은 다수개 배치될 수 있으며 상기 기판 주변부 지지대의 상하,좌우측면의 중앙부에는 상기 기판 주변부 지지대의 위치를 셋팅할 수 있는 위치 지정 브라켓을 배치하는 것도 바람직하다.In this case, a plurality of support brackets may be disposed, and positioning brackets for setting the position of the substrate peripheral supporters may be disposed at the centers of the upper and lower sides of the substrate peripheral support.

이하 실시예와 첨부된 도면에 의해 상기 기술적 사상을 상세히 설명하기로한다.Hereinafter, the technical spirit will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

본 발명은 상술한 바와 같이 글래스를 지지하기 위한 기판 주변부 지지대을 월 커버상에 고정시킬 수 있는 기술적 사상으로서 화학기상증착공정에의해 LCD를 제작하는 경우를 예로 들어 설명하기로 한다.The present invention will be described by taking an example of manufacturing an LCD by a chemical vapor deposition process as a technical idea that can be fixed to the wall cover the substrate peripheral support for supporting the glass as described above.

첨부된 도 2a 및 도 2b를 참조하면, 기판 주변부 지지대가 브라켓에 의해 지지되고 있으며, 상기 브라켓은 월 커버에 고정되어 있음을 알 수 있다.2A and 2B, it can be seen that the substrate peripheral support is supported by the bracket, and the bracket is fixed to the wall cover.

한편 본 발명의 브라켓은 2가지 종류가 사용되는데, 첫째는 상기 기판 주변부 지지대(100)를 지지하는 지지 브라켓(210)이고, 둘째는 상기 기판 주변부 지지 대(100)의 위치를 셋팅하는 위치 지정 브라켓(220)이다.Meanwhile, two types of brackets of the present invention are used, firstly, a support bracket 210 for supporting the substrate peripheral support 100, and secondly, a positioning bracket for setting the position of the substrate peripheral support 100. (220).

우선 상기 지지 브라켓(210)에 대해 도 2a를 참조하여 설명하기로 한다.First, the support bracket 210 will be described with reference to FIG. 2A.

상기 지지 브라켓(210)의 경우 일측은 월 커버(300)에 고정되는 한편 타측은 상기 기판 주변부 지지대(100)를 지지하는 역할을 담당하게 된다. 또한 위치 지정 브라켓(220)은 도 2b에 도시된 바와 같이 일측은 월 커버(300)에 삽입되어 고정되나, 타측에는 상기 기판 주변부 지지대(100)가 삽입될 수 있는 공간이 형성되어 상기 기판 주변부 지지대(100)가 삽입됨에 의해 상기 기판 주변부 지지대(100)가 셋팅된 위치에 정확하게 장착될 수 있도록 한다.In the case of the support bracket 210, one side is fixed to the wall cover 300 while the other side plays a role of supporting the substrate peripheral support 100. In addition, the positioning bracket 220 is fixed to one side is inserted into the wall cover 300, as shown in Figure 2b, the other side is formed with a space in which the substrate peripheral support 100 can be inserted is the substrate peripheral support The insertion of the 100 allows the substrate peripheral support 100 to be accurately mounted at the set position.

상기 지지 브라켓(210)과 위치 지정 브라켓(220)의 구성에 대해서 도 3을 참조하여 설명하기로 한다.The configuration of the support bracket 210 and the positioning bracket 220 will be described with reference to FIG. 3.

상기 도 3에 도시된 바와 같이 상기 지지 브라켓(210)은 판체형상의 지지 브라켓 본체(211)상에 돌출되어 형성되는 돌출부(212)가 형성되고, 상기 지지 브라켓 본체(211)의 하면에는 끼움홈(213)이 형성된다. As shown in FIG. 3, the support bracket 210 is provided with a protrusion 212 protruding from the plate-shaped support bracket body 211, and a fitting groove is formed on the bottom surface of the support bracket body 211. 213 is formed.

이와 같은 구성의 지지 브라켓(210)이 상기 월 커버(300)에 삽입되는데, 상기 월 커버(300)에 형성되는 하부 돌출부(340)가 상기 지지 브라켓(210)의 끼움홈(213)에 삽입되는 한편, 상기 월 커버(300)의 상부 돌출부(330) 배면에 형성되는 수용홈(331)에 상기 지지 브라켓(210)의 돌출부(212)가 삽입되어 고정된다.The support bracket 210 having the above configuration is inserted into the wall cover 300, and the lower protrusion 340 formed on the wall cover 300 is inserted into the fitting groove 213 of the support bracket 210. Meanwhile, the protrusion 212 of the support bracket 210 is inserted into and fixed to the receiving groove 331 formed on the rear surface of the upper protrusion 330 of the wall cover 300.

즉, 상기 월 커버(300)는 두께를 가지는 중공의 육면체이되, 상하부가 개방된 형상을 가지는 판체로서 상기 챔버 바디(C)와 밀착되게 고정되는 본체(310)와 상기 본체(310)의 일측에 관통되어 형성되는 관통부(320)와 상기 관통부(320)의 상 부에 두께방향으로 돌출되는 상부 돌출부(330)와 상기 상부 돌출부(330)의 배면측에 형성되는 수용홈(331)과, 상기 관통부(320)의 하부에 형성되는 평탄부(341)와 상기 평탄부(241)상에 돌출되어 형성되는 하부 돌출부(340)로 되어,That is, the wall cover 300 is a hollow hexahedron having a thickness, the upper and lower portions of the plate body having an open shape to the main body 310 and tightly fixed to the chamber body (C) and one side of the main body 310 A through part 320 formed through the upper part and an upper protrusion part 330 protruding in the thickness direction on the upper part of the through part 320 and a receiving groove 331 formed on the rear side of the upper protrusion part 330; A flat portion 341 formed under the through portion 320 and a lower protrusion portion 340 protruding from the flat portion 241,

상기 지지 브라켓(210)의 돌출부(212)가 상기 월 커버(300)의 수용홈(331)에 삽입되고, 상기 월 커버(300)의 하부 돌출부(340)가 상기 지지 브라켓(210)의 삽입홈(213)에 삽입되어 상기 브라켓(210)이 상기 월 커버(300)에 고정된다.The protrusion 212 of the support bracket 210 is inserted into the receiving groove 331 of the wall cover 300, and the lower protrusion 340 of the wall cover 300 is the insertion groove of the support bracket 210. The bracket 210 is fixed to the wall cover 300 by being inserted into the 213.

한편 위치 지정 브라켓(220)은 상기 지지 브라켓(210)과 유사한 형상이나 판체 형상의 본체(221)상에 상기 기판 주변부 지지대(100)가 삽입되게 하는 삽입홈(221a)이 형성된 점이 상이하다.On the other hand, the positioning bracket 220 is different from the point in which the insertion groove 221a is formed on the main body 221 of the shape or plate-like body similar to the support bracket 210 to insert the substrate peripheral support 100.

이상 상술한 바와 같은 지지 브라켓(210)과 위치 지정 브라켓(220)에 의해 기판 주변부 지지대(100)가 지지되는데, 이하 도 4를 참고하여 상기 브라켓의 배치에 대해 설명하기로 한다.The substrate peripheral support 100 is supported by the support bracket 210 and the positioning bracket 220 as described above. Hereinafter, the arrangement of the bracket will be described with reference to FIG. 4.

본 발명이 지지 브라켓(210)은 상기 기판 주변부 지지대(100)의 안정적인 지지를 위하여 상기 기판 주변부 지지대(100)의 상하, 좌우측면에 다수개가 배치된다. 이때 상기 위치 지정 브라켓(220)은 상기 기판 주변부 지지대(100)의 상하,좌우측면의 중심부분에 배치되어, 상기 위치 지정 브라켓(220)에 상기 기판 주변부 지지대(100)가 끼움되어 셋팅된 위치에 장착된다.The support bracket 210 of the present invention is disposed on the upper and lower sides, left and right sides of the substrate peripheral support 100 for the stable support of the substrate peripheral support 100. At this time, the positioning bracket 220 is disposed in the center portion of the upper, lower, left and right sides of the substrate peripheral support 100, the substrate peripheral support 100 is fitted to the positioning bracket 220 in the set position Is mounted.

한편 상기 위치 지정 브라켓(220)을 상기 기판 주변부 지지대(100)의 상하,좌우측면의 중심부분에 배치하는 이유는 증착공정의 고온환경에서 상기 기판 주변부 지지대(100) 또한 열변형에 의해 변형이 발생하게 되는데 이러한 열변형에 의한 위치오차를 최대한 줄이기 위해 상술한 바와 같이 중앙부분에 배치하게 되는 것이다.On the other hand, the positioning bracket 220 is disposed in the central portion of the upper, lower, left and right sides of the substrate peripheral support 100 is the deformation caused by the thermal deformation of the substrate peripheral support 100 also in the high temperature environment of the deposition process In order to reduce the positional error caused by such thermal deformation as much as possible to be arranged in the center portion as described above.

이하 도 5a 와 도 5b를 참조하여 본 발명의 기판 주변부 지지대 지지장치를 사용한 경우의 증착공정에 대해 설명하기로 한다. 이하 상기 지지 브라켓(210)과 위치 지정 브라켓(220)을 통칭해서 브라켓(200)으로 칭하기로 한다.5A and 5B, a deposition process in the case of using the substrate peripheral supporter of the present invention will be described. Hereinafter, the support bracket 210 and the positioning bracket 220 will be collectively referred to as the bracket 200.

우선 도 5a에서는 증착전의 단계를 도시하고 있다. 즉 글래스(G)가 서셉터(50)위에 배치되어 있는 상태로서 상기 서셉터(50)는 증착전의 단계로서 챔버 바디(C)의 하측에 위치하고 있고 상기 기판 주변부 지지대(100)은 상기 브라켓(200)에 의해 지지되고 있다. 이 상태에서 증착이 이루어지기 위해 도 5b에 도시된 바와 같이 상기 서셉터(50)가 상승하게 되고 이에 의해 상기 글래스(G)상에 상기 기판 주변부 지지대(100)이 올려져서 동일하게 상승하여 증착공정이 수행되게 된다.First, FIG. 5A shows the steps before deposition. That is, the glass (G) is disposed on the susceptor 50, the susceptor 50 is located below the chamber body (C) as a step before deposition, and the substrate peripheral support 100 is the bracket 200 Supported by). In this state, as shown in FIG. 5B, the susceptor 50 is raised so that the substrate peripheral support 100 is placed on the glass G to be raised in the same manner. This will be done.

이상과 같이 종래에는 기판 주변부 지지대를 지지하기 위한 브라켓이 챔버바디상에 직접 고정되는 경우 상기 챔버바디내측에 설치되는 월 커버를 관통함은 물론 상기 챔버바디에 상기 브라켓과 고정구를 고정하기 위한 구조를 형성해야 해서 제작의 어려움이 있는 문제점이 있었는데,As described above, when the bracket for supporting the substrate peripheral support is directly fixed on the chamber body, the structure for fixing the bracket and the fixture to the chamber body as well as penetrates through the wall cover installed inside the chamber body. There was a problem with the difficulty of making it,

본 발명인 월 커버상에 상기 기판 주변부 지지대을 지지하는 브라켓을 고정할 수 있도록 하는 구성에 의해 화학기상증착장치의 제작을 용이하게 하는 효과가 있다. The present invention has an effect of facilitating the manufacture of a chemical vapor deposition apparatus by the configuration for fixing the bracket for supporting the substrate peripheral support on the wall cover.

Claims (6)

챔버 바디(C)내부에 장착되는 월 커버(300)에 고정되는 한편 기판 주변부 지지대(100)을 지지하는 지지 브라켓(210)과; 기판주변부 지지대의 위치를 셋팅하는 위치브라켓(220)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 주변부 지지대 지지 장치.A support bracket 210 fixed to the wall cover 300 mounted inside the chamber body C and supporting the substrate peripheral support 100; Peripheral support substrate support apparatus comprising a position bracket for setting the position of the support portion around the substrate. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지 브라켓(210)은 판체형상의 본체(211)와 상기 본체(211)의 일측에 돌출되는 돌출부(212)와, 상기 본체(211)의 하면에 형성되는 삽입홈(213)을 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 주변부 지지대 지지 장치.The support bracket 210 includes a plate-shaped body 211, a protrusion 212 protruding on one side of the body 211, and an insertion groove 213 formed on the bottom surface of the body 211. A substrate peripheral support device. 제1항 또는 제2항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 월 커버(300)는 두께를 가지는 중공의 육면체이되, 상하부가 개방된 형상을 가지는 판체로서 상기 챔버 바디(C)와 밀착되게 고정되는 본체(310)와 상기 본체(310)의 일측에 관통되어 형성되는 관통부(320)와 상기 관통부(320)의 상부에 두께방향으로 돌출되는 상부 돌출부(330)와 상기 상부 돌출부(330)의 배면측에 형성되는 수용홈(331)과, 상기 관통부(320)의 하부에 형성되는 평탄부(341)와 상기 평탄부(241)상에 돌출되어 형성되는 하부 돌출부(340)로 되고,The wall cover 300 is a hollow hexahedron having a thickness, the upper and lower portions of the plate body having an open shape is penetrated through the main body 310 and one side of the main body 310 is fixed in close contact with the chamber body (C) The through portion 320 and the upper protrusion 330 protruding in the thickness direction on the upper portion of the through portion 320 and the receiving groove 331 formed on the back side of the upper protrusion 330, and the through portion A flat portion 341 formed at a lower portion of the 320 and a lower protrusion 340 formed to protrude on the flat portion 241, 상기 지지 브라켓(210)의 돌출부(212)가 상기 월 커버(300)의 수용홈(331)에 삽입되고, 상기 월 커버(300)의 하부 돌출부(340)가 상기 지지 브라켓(210)의 삽입홈(213)에 삽입되어 상기 브라켓(210)이 상기 월 커버(300)에 고정되는 것을 특징으로 하는 기판 주변부 지지대 지지 장치The protrusion 212 of the support bracket 210 is inserted into the receiving groove 331 of the wall cover 300, and the lower protrusion 340 of the wall cover 300 is the insertion groove of the support bracket 210. Peripheral support support device, characterized in that the bracket 210 is inserted into the (213) is fixed to the wall cover 300 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 위치 브라켓(220)은 판체형상의 본체(221)와 상기 본체(221)의 일측에 돌출되는 돌출부(222)와, 상기 본체(221)의 하면에 형성되는 삽입홈(223) 및 상기 본체(221)의 상면에 형성되어 상기 기판부 주변 지지대가 삽입되기 위한 삽입홈(221a)이 형성되는 것을 특징으로 하는 기판 주변부 지지대 지지 장치.The position bracket 220 includes a plate-shaped body 221, a protrusion 222 protruding from one side of the body 221, an insertion groove 223 and a body formed on a lower surface of the body 221. 221 is formed on the upper surface of the substrate peripheral support device, characterized in that the insertion groove (221a) for inserting the peripheral support portion is formed. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 지지 브라켓(210)은 상기 기판 주변부 지지대에 다수개 설치되는 한편, 상기 위치 지정 브라켓(220)은 상기 기판 주변부 지지대의 상하 및 좌우면의 중앙에 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 주변부 지지대 지지 장치.A plurality of support brackets 210 are installed on the substrate peripheral support, while the positioning brackets 220 are installed at the centers of the upper and lower sides and the left and right sides of the substrate peripheral support, respectively. . 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 챔버바디(C)내에 배치되는 서포트(60)와 상기 서포트(60)상에 배치되는 서셉터(50)와 상기 서셉터(50)상에 배치되어 증착되는 글래스(G)와 상기 글래스(G)에 반응가스를 공급하는 샤워헤드(40)와 상기 샤워헤드(40)가 고정되는 디퓨져 바디(30)와 상기 디퓨져 바디(40)상에 형성되어 반응가스가 주입되는 도입부(70)와 상기 디퓨져 바디(40)와 상기 챔버 바디(C)사이에 배치되는 챔버 리드(L)를 더 포함하여 화학기상증착공정에 의해 LCD를 제작하는 것을 특징으로 하는 기판 주변부 지지대 지지 장치.The support 60 disposed in the chamber body C, the susceptor 50 disposed on the support 60, the glass G disposed on the susceptor 50, and the glass G deposited thereon. Shower head 40 for supplying the reaction gas and the diffuser body 30 is fixed to the shower head 40 and the introduction portion 70 and the diffuser formed on the diffuser body 40 is injected into the reaction gas And a chamber lid (L) disposed between the body (40) and the chamber body (C) to produce an LCD by a chemical vapor deposition process.
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