KR100813840B1 - Organic light emitting display apparatus - Google Patents

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KR100813840B1 KR1020060077823A KR20060077823A KR100813840B1 KR 100813840 B1 KR100813840 B1 KR 100813840B1 KR 1020060077823 A KR1020060077823 A KR 1020060077823A KR 20060077823 A KR20060077823 A KR 20060077823A KR 100813840 B1 KR100813840 B1 KR 100813840B1
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Abstract

배선의 저항을 낮출 수 있도록, 본 발명은 기판, 상기 기판 상에 형성된 전원 공급 라인, 상기 기판 상에 형성되고, 전원 공급 라인상에 형성된 절연막, 상기 절연막 상에 형성되고 복수개의 화소를 포함하는 화소 영역, 상기 각 화소에 배치되는 복수개의 제1 전극, 상기 각 화소에 배치되는 복수개의 유기 발광층, 상기 각 화소 영역 상에 형성되며, 상기 전원 공급 라인에 전기적으로 연결된 제2 전극 및 상기 절연막에 형성된 것으로 상기 전원 공급 라인과 상기 제2 전극을 전기적으로 연결시키는 비아홀을 포함하고, 상기 비아홀은 상기 전원 공급 라인을 따라 연장된 유기 발광 표시 장치를 제공한다.

Figure R1020060077823

In order to reduce the resistance of the wiring, the present invention provides a substrate, a power supply line formed on the substrate, an insulating film formed on the substrate and formed on the power supply line, and a pixel formed on the insulating film and including a plurality of pixels. A region, a plurality of first electrodes disposed in each pixel, a plurality of organic emission layers disposed in each pixel, a second electrode formed on each pixel region, and electrically connected to the power supply line, and formed in the insulating layer And a via hole electrically connecting the power supply line and the second electrode, wherein the via hole extends along the power supply line.

Figure R1020060077823

Description

유기 발광 표시 장치{Organic light emitting display apparatus}Organic light emitting display apparatus

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이다.1 is a schematic plan view of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 유기 발광 표시장치의 일 단위 화소의 화소 회로를 개략적으로 도시한 회로도이다.2 is a circuit diagram schematically illustrating a pixel circuit of one unit pixel of an organic light emitting diode display of the present invention.

도 3은 도 2에 대한 보다 구체적인 예를 도시한 회로도이다.3 is a circuit diagram illustrating a more specific example of FIG. 2.

도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 절취한 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along the line IV-IV of FIG. 1.

도 5은 도 1의 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 절취한 단면도이다.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 1.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

110: 기판 120: 버퍼층110: substrate 120: buffer layer

130: 반도체층 140: 게이트 절연막130: semiconductor layer 140: gate insulating film

150: 게이트 전극 131,151,171: 제1,2,3 금속층150: gate electrodes 131, 151 and 171: first, second and third metal layers

160: 층간 절연막 170: 소스 전극160: interlayer insulating film 170: source electrode

175: 드레인 전극 180: 패시베이션막 175: drain electrode 180: passivation film

181: 콘택홀 182: 비아홀181: contact hole 182: via hole

200: 화소 영역 210: 제1 전극200: pixel region 210: first electrode

220: 화소 정의막 230: 유기 발광층220: pixel defining layer 230: organic light emitting layer

240: 개구부 300: 구동 전원 공급 라인 240: opening 300: drive power supply line

310: 구동 라인 320: 구동 전원 공급 단자 310: driving line 320: driving power supply terminal

400: 제2 전극 410: 전원 공급 라인 400: second electrode 410: power supply line

420: 전원 공급 단자 500: 수직 구동 회로부420: power supply terminal 500: vertical drive circuit portion

520: 수직 구동 단자 600: 수평 구동 회로부520: vertical drive terminal 600: horizontal drive circuit portion

620: 수평 구동 단자 700: 단자부 620: horizontal drive terminal 700: terminal portion

800: 밀봉부 900: 밀봉 기판800: sealing unit 900: sealing substrate

본 발명은 유기 발광 표시 장치에 관한 것으로 더 상세하게는 배선의 저항을 낮출 수 있는 유기 발광 표시 장치에 관한 것이다. The present invention relates to an organic light emitting display device, and more particularly, to an organic light emitting display device capable of lowering resistance of a wiring.

평판 디스플레이 장치 중에서도 유기 또는 무기 발광 표시장치는 자발광형 디스플레이 장치로서 시야각이 넓고 콘트라스트가 우수할 뿐 만 아니라 응답속도가 빠르다는 장점을 가지고 있어서 차세대 디스플레이 장치로 주목 받고 있다. 또한 발광층의 형성 물질이 유기물로 구성되는 유기 발광 표시 장치는 무기 발광 표시 장치에 비해 휘도, 구동 전압 및 응답속도 특성이 우수하고 다색화가 가능하다는 점을 가지고 있다.Among the flat panel display devices, organic or inorganic light emitting display devices are attracting attention as next-generation display devices because they have self-emissive display devices that have a wide viewing angle, excellent contrast, and fast response speed. In addition, an organic light emitting display device in which a light emitting layer is formed of an organic material has excellent luminance, driving voltage, and response speed, and may be multicolored, compared to an inorganic light emitting display device.

한편 유기 발광 표시 장치는 구동 방식에 따라 수동 구동 방식의 패시브 매트릭스(passive matrix:PM)형과 능동 구동 방식의 액티브 매트릭스(active matrix:AM)형으로 구분된다. PM형은 양극과 음극이 컬럼(column)과 로우(row)로 배열되어 음극에는 로우 구동 회로로부터 스캐닝 신호가 공급되고 이때, 복수의 로우중 하나의 로우만이 선택된다. 또한 컬럼 구동회로에는 각 화소로 데이터 신호가 입력된다. 한편, AM형은 박막 트랜지스터(thin film transistor:TFT)를 이용해 각 화소 당 입력되는 신호를 제어하는 것으로 방대한 양의 신호를 처리하기에 적합하여 동영상을 구현하기 위한 디스플레이 장치로 각광 받고 있다.The organic light emitting diode display is classified into a passive matrix (PM) type of a passive driving method and an active matrix (AM) type of an active driving method according to a driving method. In the PM type, the anode and the cathode are arranged in columns and rows so that the cathode is supplied with a scanning signal from a row driving circuit, and only one row of the plurality of rows is selected. In addition, a data signal is input to each pixel in the column driving circuit. On the other hand, the AM type controls a signal input for each pixel by using a thin film transistor (TFT), which is suitable for processing a large amount of signals, and has been in the spotlight as a display device for implementing a video.

이러한 유기 발광 표시 장치에는 전극에 전원을 공급하기 위한 전원 공급라인이 형성된다. 그리고 전극과 전원 공급 라인은 비아홀을 통해 전기적으로 연결된다.In the organic light emitting diode display, a power supply line for supplying power to the electrode is formed. The electrode and the power supply line are electrically connected through the via hole.

한편, 최근 디스플레이 장치의 해상도 증대 및 대형화 추세에 따라 소비 전력 절감과 휘도 향상 등의 화면 품질 문제가 중요하게 대두되고 있다. 그리고 이러한 화면 품질 문제에서 각 배선들의 저항은 중요한 요소로 작용한다. 그러나 종래의 비아홀을 형성할 때 전극과 전원 공급 라인이 연결되는 부분이 작아지거나 부분 식각되는 경우도 있어 전극과 전원 공급 라인이 콘택하지 않거나 또는 콘택하더라도 저항이 증가하여 유기 발광물질이 발광하지 않거나 휘도가 저하되는 문제가 있었다.On the other hand, screen quality problems such as power consumption reduction and luminance improvement are becoming more important as the resolution and size of display devices increase. And in this screen quality problem, the resistance of each wire is an important factor. However, when the via hole is formed in the related art, the portion where the electrode and the power supply line are connected may become small or partially etched. Therefore, the organic light emitting material does not emit light or the luminance increases due to the increase in resistance even when the electrode and the power supply line are not in contact or contact. There was a problem of deterioration.

본 발명은 비아홀의 구조를 개선하여 전원 공급 라인부와 전극간 상하배선의 저항을 낮출 수 있는 유기 발광 표시 장치를 제공한다.The present invention provides an organic light emitting display device which can improve the structure of a via hole to lower resistance of vertical wiring between a power supply line part and an electrode.

본 발명은 기판, 상기 기판 상에 형성된 전원 공급 라인, 상기 기판 상에 형성되고, 전원 공급 라인상에 형성된 절연막, 상기 절연막 상에 형성되고 복수개의 화소를 포함하는 화소 영역, 상기 각 화소에 배치되는 복수개의 제1 전극, 상기 각 화소에 배치되는 복수개의 유기 발광층, 상기 각 화소 영역 상에 형성되며, 상기 전원 공급 라인에 전기적으로 연결된 제2 전극 및 상기 절연막에 형성된 것으로 상기 전원 공급 라인과 상기 제2 전극을 전기적으로 연결시키는 비아홀을 포함하고, 상기 비아홀은 상기 전원 공급 라인을 따라 연장된 유기 발광 표시 장치를 개시한다. The present invention relates to a substrate, a power supply line formed on the substrate, an insulating film formed on the substrate, an insulating film formed on the power supply line, a pixel region formed on the insulating film, the pixel region including a plurality of pixels, A plurality of first electrodes, a plurality of organic light emitting layers disposed on the respective pixels, a second electrode formed on each of the pixel areas and electrically connected to the power supply line, and formed on the insulating layer; A via hole electrically connecting two electrodes is disclosed, and the via hole extends along the power supply line.

본 발명에 있어서 상기 제2 전극과 전원 공급 라인은 상기 절연층을 사이에 두고 중첩되는 구조이고, 상기 전원 공급 라인의 영역 중 상기 제2 전극과 중첩되는 부분의 대부분의 영역이 비아홀에 의해 노출될 수 있다.In the present invention, the second electrode and the power supply line overlap each other with the insulating layer interposed therebetween, and most of the region of the power supply line overlapping the second electrode may be exposed by the via hole. Can be.

본 발명에 있어서 상기 절연막은 아크릴을 포함하는 재질로 이루어질 수 있다.In the present invention, the insulating film may be made of a material containing acrylic.

본 발명에 있어서 상기 화소 영역은 복수 개의 박막 트랜지스터층을 포함하고, 상기 전원 공급 라인은 상기 박막 트랜지스터의 소스 전극 혹은 드레인 전극과 동일한 물질로 형성될 수 있다.In the present invention, the pixel region may include a plurality of thin film transistor layers, and the power supply line may be formed of the same material as the source electrode or the drain electrode of the thin film transistor.

이하 첨부된 도면들에 도시된 본 발명에 관한 실시예를 참조하여 본 발명의 구성 및 작용을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the embodiments of the present invention shown in the accompanying drawings will be described in detail the configuration and operation of the present invention.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치의 개략적인 평면도이고 도 2는 본 발명의 유기 발광 표시장치의 일 단위 화소의 화소 회로를 개략적 으로 도시한 회로도이며 도 3은 도 2에 대한 보다 구체적인 예를 도시한 회로도이다.1 is a schematic plan view of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention. FIG. 2 is a circuit diagram schematically illustrating a pixel circuit of one unit pixel of the organic light emitting diode display of the present invention. FIG. A circuit diagram showing a more specific example.

도 4는 도 1의 Ⅳ-Ⅳ선을 따라 절취한 단면도이고 도 5은 도 1의 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 절취한 단면도이다.4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV of FIG. 1, and FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line V-V of FIG. 1.

도 1에서 알 수 있듯이 유기 발광 표시 장치는 기판(110)상에 화소 영역(200)이 형성되며 화소 영역(200)을 통해 화상이 구현된다. 화소 영역(200)은 밀봉 기판(900)에 의해 외부로부터 밀봉 된다. 기판(110)과 밀봉 기판(900)은 밀봉부(800)에서 서로 접합 된다. 그러나 밀봉부(800), 밀봉 기판(900)없이 봉지층을 형성할 수도 있다.As shown in FIG. 1, in the organic light emitting diode display, a pixel region 200 is formed on a substrate 110, and an image is realized through the pixel region 200. The pixel region 200 is sealed from the outside by the sealing substrate 900. The substrate 110 and the sealing substrate 900 are bonded to each other at the sealing portion 800. However, the encapsulation layer may be formed without the encapsulation part 800 and the encapsulation substrate 900.

화소 영역(200)이 형성된 기판(110)의 일 측 단부에는 소정의 단자들이 배설된 단자부(700)가 놓인다. 단자부(700)는 밀봉부(800)의 외측으로 노출되어 있다.At one end of the substrate 110 on which the pixel region 200 is formed, a terminal part 700 having predetermined terminals is disposed. The terminal portion 700 is exposed to the outside of the sealing portion 800.

화소 영역(200)의 주위에는 화소 영역(200)의 구동 라인(Vdd라인)(310)에 구동 전원을 공급하기 위한 구동 전원 공급 라인(300), 전극에 전원을 공급하는 전원 공급 라인(410) 및 화소 영역(200)에 인가되는 신호를 제어하는 각종 회로부들이 배설되어 있다.A driving power supply line 300 for supplying driving power to the driving line (Vdd line) 310 of the pixel area 200 and a power supply line 410 for supplying power to the electrode around the pixel area 200. And various circuit parts for controlling a signal applied to the pixel region 200.

구동 전원 공급 라인(300)은 단자부(700)의 구동 전원 공급 단자(320)로부터 화소 영역(200) 전체를 두르도록 배설되고, 화소 영역(200)을 가로지르는 구동 라인(310)과 연결되어 하부에도 배치된다.The driving power supply line 300 is disposed so as to surround the entire pixel region 200 from the driving power supply terminal 320 of the terminal unit 700, and is connected to the driving line 310 crossing the pixel region 200. Is also placed.

화소 영역(200)의 일 측 변에는 화소 영역(200)의 유기 발광 소자의 일 전극과 전기적으로 연결되는 전원 공급 라인(410)을 배설한다. 유기 발광 소자의 일 전 극은 전원 공급 라인(410)을 덮도록 연장하여 형성할 수 있고 전극과 전원 공급 라인(410)의 사이에는 절연막이 개재되며 이들은 비아홀(182)에 의해 연결된다.On one side of the pixel region 200, a power supply line 410 electrically connected to one electrode of the organic light emitting diode of the pixel region 200 is disposed. One electrode of the organic light emitting diode may extend to cover the power supply line 410, and an insulating layer is interposed between the electrode and the power supply line 410, and they are connected by the via hole 182.

구동 전원 공급 라인(300)과 화소 영역(200)의 사이에는 수직 구동 회로부(500)및 수평 구동 회로부(600)가 각각 설치된다. 수직 구동 회로부(500)는 화소 영역(200)의 게이트 라인에 스캔 신호를 인가하는 스캔 구동 회로부가 될 수 있고 단자부(700)의 수직 구동 단자(520)와 연결된다. 수평 구동 회로부(600)는 화소 영역(200)의 데이터 라인에 데이터 신호를 인가하는 데이터 구동 회로부가 될 수 있고 단자부(700)의 수평 구동 단자(620)와 전기적으로 연결된다. 수직 및 수평 구동 회로부(500,600)는 기판(110) 상에 패터닝 방법으로 형성하거나 외장IC 또는 COG 등의 칩이 장착되도록 형성할 수 있다.The vertical driving circuit 500 and the horizontal driving circuit 600 are respectively disposed between the driving power supply line 300 and the pixel region 200. The vertical driving circuit unit 500 may be a scan driving circuit unit applying a scan signal to the gate line of the pixel area 200 and is connected to the vertical driving terminal 520 of the terminal unit 700. The horizontal driving circuit unit 600 may be a data driving circuit unit for applying a data signal to a data line of the pixel region 200 and is electrically connected to the horizontal driving terminal 620 of the terminal unit 700. The vertical and horizontal driving circuit units 500 and 600 may be formed on the substrate 110 by a patterning method, or may be formed such that a chip such as an external IC or COG is mounted thereon.

화소 영역(200)은 복수개의 화소를 포함하며 각 화소는 도 2에서 볼 수 있듯이 화소 회로를 가질 수 있다. 도 2를 참조하면 각 화소는 화소 회로를 가질 수 있다.The pixel region 200 may include a plurality of pixels, and each pixel may have a pixel circuit as shown in FIG. 2. Referring to FIG. 2, each pixel may have a pixel circuit.

도 2에서 볼 수 있듯이 각 화소는 데이터 라인, 스캔 라인이 유기 발광 소자(OLED: organic light emitting diode)의 일 구동 전원이 되는 구동 라인(Vdd라인)(310)을 포함한다. As shown in FIG. 2, each pixel includes a driving line (Vdd line) 310 in which a data line and a scan line serve as a driving power source of an organic light emitting diode (OLED).

각 화소의 화소 회로는 데이터 라인, 스캔 라인 및 구동 라인(310)에 전기적으로 연결되어 있고, 유기 발광 소자의 발광을 제어하게 된다.The pixel circuit of each pixel is electrically connected to the data line, the scan line, and the driving line 310 to control light emission of the organic light emitting diode.

도 3은 도 2에 대한 구체적 예를 도시한 것인데 여기에서 볼 수 있듯이 본 발명의 일 실시예에 관한 유기 발광표시장치의 각 화소는 구체적으로 스위칭 TFT(M2)와, 구동 TFT(M1)의 적어도 2개의 박막 트랜지스터와, 커패시터 유닛(Cst) 및 유기 발광 소자(OLED)를 포함할 수 있다FIG. 3 illustrates a specific example of FIG. 2. As can be seen here, each pixel of the organic light emitting diode display according to the exemplary embodiment of the present invention specifically includes at least one of a switching TFT M2 and a driving TFT M1. It may include two thin film transistors, a capacitor unit Cst, and an organic light emitting diode OLED.

스위칭 TFT(M2)는 스캔 라인(Scan)에 인가되는 스캔 신호에 의해 ON/OFF되어 데이터 라인(Data)에 인가되는 데이터 신호를 스토리지 커패시터(Cst) 및 구동 TFT(M1)에 전달한다. 스위칭 소자로는 반드시 도 3과 같이 스위칭 TFT(M2)만에 한정되는 것은 아니며, 복수개의 박막 트랜지스터와 커패시터를 구비한 스위칭 회로가 구비될 수도 있고, 구동 TFT(M1)의 Vth값을 보상해주는 회로나, 구동 라인(Vdd라인)(310)의 전압강하를 보상해주는 회로를 더 포함할 수도 있다.The switching TFT M2 is turned on / off by a scan signal applied to the scan line Scan to transfer the data signal applied to the data line Data to the storage capacitor Cst and the driving TFT M1. The switching element is not necessarily limited to the switching TFT M2 as shown in FIG. 3, and may include a switching circuit including a plurality of thin film transistors and capacitors, and a circuit that compensates for the Vth value of the driving TFT M1. The circuit may further include a circuit for compensating for the voltage drop of the driving line (Vdd line) 310.

구동 TFT(M1)는 스위칭 TFT(M2)를 통해 전달되는 데이터 신호에 따라, 유기 발광 소자(OLED)로 유입되는 전류량을 결정한다. The driving TFT M1 determines the amount of current flowing into the organic light emitting element OLED according to the data signal transmitted through the switching TFT M2.

커패시터 유닛(Cst)은 스위칭 TFT(M2)를 통해 전달되는 데이터 신호를 한 프레임 동안 저장한다.The capacitor unit Cst stores the data signal transmitted through the switching TFT M2 for one frame.

도 3에 도시된 회로도에서 구동 TFT(M1) 및 스위칭 TFT(M2)는 PMOS TFT로 도시되어 있으나, 본 발명이 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 상기 구동 TFT(M1) 및 스위칭 TFT(M2) 중 적어도 하나를 NMOS TFT로 형성할 수도 있음은 물론이다. 그리고, 박막 트랜지스터 및 커패시터의 개수는 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 이보다 더 많은 수의 박막 트랜지스터 및 커패시터를 포함할 수 있다.In the circuit diagram shown in FIG. 3, the driving TFT M1 and the switching TFT M2 are illustrated as PMOS TFTs, but the present invention is not necessarily limited thereto, and at least one of the driving TFT M1 and the switching TFT M2 may be used. It goes without saying that one may be formed of an NMOS TFT. The number of thin film transistors and capacitors is not necessarily limited thereto, and may include a greater number of thin film transistors and capacitors.

본 발명의 일 실시예에 관한 유기 발광 표시 장치는 도 4와 같은 단면을 가질 수 있다.  The organic light emitting diode display according to the exemplary embodiment may have a cross section as illustrated in FIG. 4.

도 4를 참조하면 기판(110)상에 TFT, 밀봉부(800), 구동 전원 공급 라 인(300) 및 유기 발광 소자 등이 형성된다.Referring to FIG. 4, a TFT, a sealing part 800, a driving power supply line 300, an organic light emitting element, and the like are formed on the substrate 110.

기판(110)은 아크릴, 폴리이미드, 폴리카보네이트, 폴리에스테르, 미라르(mylar) 기타 플라스틱 재료가 사용될 수 있는 데, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, SUS, 텅스텐 등과 같은 금속 호일도 사용 가능하고, 글라스 재도 사용 가능하다.The substrate 110 may be acrylic, polyimide, polycarbonate, polyester, mylar or other plastic materials, but is not limited thereto, and a metal foil such as SUS and tungsten may be used, and the glass may be used. Ash is also available.

기판(110)의 상면에는 불순물 이온이 확산되는 것을 방지하고, 수분이나 외기의 침투를 방지하며, 표면을 평탄화하기 위한 버퍼층(120)이 형성될 수 있다. 버퍼층(120)은 절연층으로 형성한다. A buffer layer 120 may be formed on the upper surface of the substrate 110 to prevent diffusion of impurity ions, to prevent penetration of moisture or external air, and to planarize a surface thereof. The buffer layer 120 is formed of an insulating layer.

버퍼층(120) 상에 TFT의 반도체층(130)이 형성되고, 이를 덮도록 게이트 절연막(140)이 형성된다. 반도체층(130)은 아모퍼스 실리콘 또는 폴리 실리콘과 같은 무기재 반도체나, 유기 반도체가 사용될 수 있다. 반도체층(130)은 소스 영역, 드레인 영역 및 이들 사이에 형성되는 채널 영역을 포함한다.The semiconductor layer 130 of the TFT is formed on the buffer layer 120, and the gate insulating layer 140 is formed to cover it. The semiconductor layer 130 may be an inorganic semiconductor such as amorphous silicon or polysilicon, or an organic semiconductor. The semiconductor layer 130 includes a source region, a drain region, and a channel region formed therebetween.

게이트 절연막(140) 상에는 게이트 전극(150)이 형성되고, 이를 덮도록 층간 절연막(160)이 형성된다. 그리고, 층간 절연막(160) 상에는 소스 전극(170) 및 드레인 전극(175)이 형성되며, 이를 덮도록 패시베이션막(180) 및 화소 정의막(220)이 순차로 형성된다.The gate electrode 150 is formed on the gate insulating layer 140, and the interlayer insulating layer 160 is formed to cover the gate insulating layer 140. The source electrode 170 and the drain electrode 175 are formed on the interlayer insulating layer 160, and the passivation layer 180 and the pixel defining layer 220 are sequentially formed to cover the interlayer insulating layer 160.

게이트 절연막(140), 층간 절연막(160), 패시베이션막(180) 및 화소 정의막(220)은 절연체로 형성될 수 있는 데, 단층 또는 복수 층의 구조로 형성되어 있고, 유기물, 무기물, 또는 유/무기 복합물로 형성될 수 있다.The gate insulating layer 140, the interlayer insulating layer 160, the passivation layer 180, and the pixel defining layer 220 may be formed of an insulator. The gate insulating layer 140, the interlayer insulating layer 160, and the pixel defining layer 220 may be formed of a single layer or a plurality of layers. / Inorganic composites.

상술한 바와 같은 TFT(40)의 적층 구조는 반드시 이에 한정되는 것은 아니 며, 다양한 구조의 TFT가 모두 적용 가능하다.The stacked structure of the TFT 40 as described above is not necessarily limited thereto, and all TFTs of various structures are applicable.

패시베이션막(180)의 상부에는 유기 발광 소자(OLED)의 한 전극인 제1 전극(210)이 형성되고, 그 상부로 절연막인 화소정의막(220)이 형성된다. 화소 정의막(220)은 아크릴을 포함한 재질로 형성될 수 있다. 화소정의막(220)에 소정의 개구부(240)를 형성해 제1 전극(210)을 노출시킨 후, 유기 발광 소자(OLED)의 유기 발광층(230)을 형성한다.The first electrode 210, which is one electrode of the OLED, is formed on the passivation layer 180, and the pixel definition layer 220, which is an insulating layer, is formed on the passivation layer 180. The pixel defining layer 220 may be formed of a material including acrylic. A predetermined opening 240 is formed in the pixel definition layer 220 to expose the first electrode 210, and then an organic emission layer 230 of the OLED is formed.

유기 발광 소자(OLED)는 전류의 흐름에 따라 적, 녹, 청색의 빛을 발광하여 소정의 화상 정보를 표시하는 것으로, TFT의 드레인 전극(175)에 콘택홀(181)을 통해 전기적으로 연결된 제1 전극(210)과, 전체 화소를 덮도록 형성된 제2 전극(400) 및 제1 전극(210)과 제2 전극(400)의 사이에 배치되어 발광하는 유기 발광층(230)으로 구성된다.The organic light emitting diode OLED displays predetermined image information by emitting red, green, and blue light according to the flow of current, and is electrically connected to the drain electrode 175 of the TFT through the contact hole 181. The first electrode 210 and the second electrode 400 formed to cover the entire pixel, and the organic light emitting layer 230 disposed between the first electrode 210 and the second electrode 400 to emit light.

제1 전극(210)과 제2 전극(400)은 유기 발광층(230)에 의해 서로 절연되어 있으며, 유기 발광층(230)에 서로 다른 극성의 전압을 가해 유기 발광층(230)에서 발광이 이뤄지도록 한다.The first electrode 210 and the second electrode 400 are insulated from each other by the organic light emitting layer 230, and the organic light emitting layer 230 emits light by applying voltages of different polarities to the organic light emitting layer 230. .

유기 발광층(230)은 저분자 또는 고분자 유기막이 사용될 수 있다. 저분자 유기막을 사용할 경우, 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 발광층(EML: Emission Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있으며, 사용 가능한 유기 재료도 구리 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘 (N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양하게 적용 가능하다. 이들 저분자 유기막은 진공증착의 방법으로 형성된다. 이 때, 홀 주입층, 홀 수송층, 전자 수송층, 및 전자 주입층 등은 공통층으로서, 적, 녹, 청색의 화소에 공통으로 적용될 수 있다. 따라서, 도 4와는 달리, 이들 공통층들은 제2 전극(400)과 같이, 전체 화소들을 덮도록 형성될 수 있다.The organic light emitting layer 230 may be a low molecular or high molecular organic film. When using a low molecular organic film, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), an emission layer (EML), an electron transport layer (ETL), an electron injection layer (EIL) : Electron Injection Layer) can be formed by stacking single or complex structure, and usable organic materials are copper phthalocyanine (CuPc), N, N-di (naphthalen-1-yl) -N, N '-Diphenyl-benzidine (N, N'-Di (naphthalene-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine: NPB), tris-8-hydroxyquinoline aluminum ( Alq3) can be used in various ways. These low molecular weight organic films are formed by the vacuum deposition method. In this case, the hole injection layer, the hole transport layer, the electron transport layer, the electron injection layer, etc. may be commonly applied to red, green, and blue pixels as a common layer. Therefore, unlike FIG. 4, these common layers may be formed to cover all pixels, like the second electrode 400.

고분자 유기막의 경우에는 대개 홀 수송층(HTL) 및 발광층(EML)으로 형성된 구조를 가질 수 있으며, 이 때, 홀 수송층으로 PEDOT를 사용하고, 발광층으로 PPV(Poly-Phenylenevinylene)계 및 폴리플루오렌(Polyfluorene)계 등 고분자 유기물질을 사용하며, 이를 스크린 인쇄나 잉크젯 인쇄방법 등으로 형성할 수 있다.In the case of the polymer organic film, the structure may be generally formed of a hole transport layer (HTL) and a light emitting layer (EML). In this case, PEDOT is used as the hole transport layer, and a poly-phenylenevinylene (PPV) system and polyfluorene (Polyfluorene) are used as the light emitting layer. A polymer organic material such as) may be used, and it may be formed by screen printing or inkjet printing.

유기막은 반드시 이에 한정되는 것은 아니고, 다양한 실시예들이 적용될 수 있음은 물론이다.The organic layer is not necessarily limited thereto, and various embodiments may be applied.

제1 전극(210)은 애노우드 전극의 기능을 하고, 제2 전극(400)은 캐소오드 전극의 기능을 하는 데, 물론, 이들 제1 전극(210)과 제2 전극(400)의 극성은 반대로 되어도 무방하다.The first electrode 210 functions as an anode electrode, and the second electrode 400 functions as a cathode electrode. Of course, the polarities of the first electrode 210 and the second electrode 400 are It may be reversed.

기판(110)방향으로 화상이 구현되는 배면 발광형(bottom emission type)일 경우, 제1 전극(210)은 투명 전극으로 형성될 수 있고, 제2 전극(400)은 반사 전극으로 형성될 수 있다. 이 때, 이러한 투명 전극은 일함수가 높고 투명한 ITO, IZO, In2O3, 및 ZnO 등을 사용하여 형성할 수 있고, 제2 전극(400)인 반사 전극은 일함수가 낮은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca 및 이들의 화합물 등 의 금속재로 형성할 수 있다.In the case of a bottom emission type in which an image is embodied in the direction of the substrate 110, the first electrode 210 may be formed as a transparent electrode, and the second electrode 400 may be formed as a reflective electrode. . In this case, the transparent electrode may be formed using ITO, IZO, In2O3, ZnO, or the like having a high work function, and the second electrode 400 may include Ag, Mg, Al, or Pt having a low work function. , Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, and compounds thereof.

전면 발광형(top emission type)일 경우, 제1 전극(210)은 반사 전극으로 형성될 수 있고, 제2 전극(400)이 투명 전극으로 형성될 수 있다. 이 때, 제1 전극(210)이 되는 반사 전극은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca 및 이들의 화합물 등으로 반사막을 형성한 후, 그 위에 일함수가 높은 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등을 형성하여 이루어질 수 있다. 그리고, 제2 전극(400)이 되는 투명 전극은, 일함수가 작은 금속 즉, Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca 및 이들의 화합물을 증착한 후, 그 위에 ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등의 투명 도전물질로 보조 전극층이나 버스 전극 라인을 형성할 수 있다.In the case of the top emission type, the first electrode 210 may be formed as a reflective electrode, and the second electrode 400 may be formed as a transparent electrode. In this case, the reflective electrode to be the first electrode 210 is formed of Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, or a compound thereof, and the like. It can be formed by forming a high work function ITO, IZO, ZnO, In2O3 or the like on the above. The transparent electrode serving as the second electrode 400 is formed by depositing a metal having a small work function, that is, Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, or a compound thereof. After that, an auxiliary electrode layer or a bus electrode line may be formed thereon with a transparent conductive material such as ITO, IZO, ZnO, or In 2 O 3.

양면 발광형의 경우, 제1 전극(210)과 제2 전극(400) 모두를 투명 전극으로 형성할 수 있다. 제1 전극(210) 및 제2 전극(400)은 반드시 전술한 물질로 형성되는 것에 한정되지 않으며, 전도성 유기물이나, Ag, Mg, Cu 등 도전입자들이 포함된 전도성 페이스트 등으로 형성할 수도 있다. 이러한 전도성 페이스트를 사용할 경우, 잉크젯 프린팅 방법을 사용하여 프린팅할 수 있으며, 프린팅 후에는 소성하여 전극으로 형성할 수 있다.In the case of the double-sided light emission type, both the first electrode 210 and the second electrode 400 may be formed as transparent electrodes. The first electrode 210 and the second electrode 400 are not necessarily limited to those formed of the above-described materials, and may be formed of a conductive organic material, a conductive paste containing conductive particles such as Ag, Mg, Cu, or the like. In the case of using such a conductive paste, it may be printed using an inkjet printing method, and after printing, may be baked to form an electrode.

유기 발광 소자(OLED)를 형성한 후에는, 그 상부를 밀봉하여 외기로부터 차단한다. 밀봉 하기 위해서 밀봉 기판(900)을 사용한다. 밀봉 기판(900)은 전술한 기판(110)과 같은 재질로 형성할 수 있다. 밀봉 시에는 실런트와 같은 접착제로 밀봉 기판(900)을 접착한다. 그래서 기판(110)과 접착되는 영역인 밀봉부(800)가 형성된다.After the organic light emitting element OLED is formed, the upper portion thereof is sealed to block from the outside air. In order to seal, a sealing substrate 900 is used. The encapsulation substrate 900 may be formed of the same material as the substrate 110 described above. At the time of sealing, the sealing substrate 900 is adhered with an adhesive such as a sealant. Thus, the sealing part 800, which is an area to be bonded to the substrate 110, is formed.

게이트 전극(150), 소스 전극(170) 및 드레인 전극(175)은 Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca 및 이들의 화합물과 같은 금속물질을 포함하거나, ITO, IZO, ZnO, 또는 In2O3 등의 투명 도전물질을 포함할 수 있다. 또한, 전도성 유기물이나, Ag, Mg, Cu 등 도전입자들이 포함된 전도성 페이스트를 사용할 수도 있다.The gate electrode 150, the source electrode 170, and the drain electrode 175 may be formed of a metal material such as Ag, Mg, Al, Pt, Pd, Au, Ni, Nd, Ir, Cr, Li, Ca, and a compound thereof. Or a transparent conductive material such as ITO, IZO, ZnO, or In 2 O 3. In addition, a conductive paste containing conductive organic materials or conductive particles such as Ag, Mg, and Cu may be used.

화소 영역(200)의 외측에는 구동 전원 공급 라인(300)이 형성된다. 구동 전원 공급 라인(300)은 단자부(700)의 구동 전원 공급 단자(320)와 전기적으로 연결되고 구동 전원 공급 라인(300)은 화소 영역(200) 전체에 걸쳐 균일한 구동 전원을 공급하여 휘도를 균일하게 하기 위해 화소 영역(200)을 전체적으로 둘러싸도록 형성하는 것이 좋다. 구동 전원 공급 라인(300)은 구동 라인(310)과 연결된다.The driving power supply line 300 is formed outside the pixel area 200. The driving power supply line 300 is electrically connected to the driving power supply terminal 320 of the terminal unit 700, and the driving power supply line 300 supplies uniform driving power over the entire pixel area 200 to improve luminance. In order to make it uniform, the pixel region 200 may be formed to surround the whole. The driving power supply line 300 is connected to the driving line 310.

구동 라인(310)은 화소 영역(200)을 가로질러 배치되고 소스 전극(170)과 전기적으로 연결된다.The driving line 310 is disposed across the pixel area 200 and electrically connected to the source electrode 170.

전원 공급 라인(410)은 화소 영역(200)의 일 측에 형성되는데 TFT의 소스 전극(170) 및 드레인 전극(175)과 동일한 층에 동일한 물질로 동시에 형성할 수 있다. 전원 공급 라인(410)상에는 절연막이 형성되는데 패시베이션막(180)과 화소 정의막(220)이 절연막으로 형성될 수 있다. 그리고 전원 공급 라인(410)과 제2 전극(400)의 전기적 연결을 위해 패시베이션막(180) 및 화소 정의막(220)을 개구하여 비아홀(182)을 형성한다.The power supply line 410 is formed at one side of the pixel region 200, and may be simultaneously formed of the same material on the same layer as the source electrode 170 and the drain electrode 175 of the TFT. An insulating layer is formed on the power supply line 410, and the passivation layer 180 and the pixel defining layer 220 may be formed as an insulating layer. The passivation layer 180 and the pixel defining layer 220 are opened to form the via hole 182 to electrically connect the power supply line 410 and the second electrode 400.

도 4에서 알 수 있듯이 비아홀(182)은 전원 공급 라인(410)의 폭을 대부분 노출시키도록 전원 공급 라인(410)을 따라 길게 연장된 1개의 구조로 형성한다. 본 발명에 의하면 전원 공급 라인(410)의 노출 영역은 기존 보다 확대되고 중간에 끊어짐 없이 개방되고 넓은 영역이다.As can be seen in FIG. 4, the via hole 182 is formed in one structure that extends along the power supply line 410 to expose most of the width of the power supply line 410. According to the present invention, the exposed area of the power supply line 410 is larger than the existing one, and is open and wide without interruption in the middle.

도 5는 도 1의 Ⅴ-Ⅴ선을 따라 절취한 단면도로서 비아홀(182)의 세로 단면도로서 비아홀(182)의 형상을 이해하기 쉽게 도시되어 있다. 즉 전원 공급 라인(410)과 제2 전극(400)이 수직으로 중첩되는 구조인데 이때 제2 전극(400)과 중첩 되는 전원 공급 라인(410)이 최대한 노출되도록 패시베이션막(180) 및 화소 정의막(220)을 개구하여 비아홀(182)을 형성한다. FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 1, and is a vertical cross-sectional view of the via hole 182. In other words, the power supply line 410 and the second electrode 400 vertically overlap each other. At this time, the passivation layer 180 and the pixel defining layer are exposed to maximize the exposure of the power supply line 410 overlapping the second electrode 400. An opening 220 is formed to form a via hole 182.

종래에 비아홀(182)을 형성할 때 패시베이션막(180) 및 화소 정의막(220)이 덜 개구되어 콘택이 덜되는 문제가 있었으나 본 발명은 비아홀(182)을 1개의 넓고 개방된 구조로 형성하여 전원 공급 라인(410)의 노출 영역을 최대화하여 종전 보다 배선 저항을 줄일 수 있다.Conventionally, when the via hole 182 is formed, the passivation layer 180 and the pixel defining layer 220 are less open, so there is a problem of less contact. However, in the present invention, the via hole 182 is formed in one wide and open structure. By maximizing the exposed area of the power supply line 410, wiring resistance may be reduced.

비아홀(182)을 형성할 때는 TFT형성 시 마스크를 이용한 패터닝으로 형성할 수 있다. 비아홀(182)의 모양은 타원일 수 있고 띠 형태 일 수도 있으나 전원 공급 라인(410)의 노출 영역을 최대화하기 위해서는 전원 공급 라인(410)과 동일한 모양인 직사 각형으로 형성하는 것이 좋다. When the via hole 182 is formed, the via hole 182 may be formed by patterning using a mask. The via hole 182 may have an ellipse or a strip shape, but in order to maximize the exposed area of the power supply line 410, the via hole 182 may have a rectangular shape having the same shape as the power supply line 410.

한편 커패시터는 TFT 형성 시에 형성할 수 있는데 제1 금속층(131), 제2 금속층(151) 및 제3 금속층(171)이 수직으로 중첩되는 구조로 형성된다. The capacitor may be formed at the time of TFT formation, and the first metal layer 131, the second metal layer 151, and the third metal layer 171 overlap each other vertically.

제1 금속층(131)은 반도체층(130)과 동일한 재질로 반도체층(130)을 형성할 때 동시에 형성할 수 있다. 제2 금속층(151)은 게이트 전극(150)과 동일한 재질로 게이트 전극(150)을 형성할 때 동시에 형성할 수 있다. 제3 금속층(171)은 소스 전 극 및 드레인 전극(175)과 동일한 재질로 소스 전극 및 드레인 전극(175)을 형성할 때 동시에 형성할 수 있다.The first metal layer 131 may be formed at the same time when the semiconductor layer 130 is formed of the same material as the semiconductor layer 130. The second metal layer 151 may be simultaneously formed when the gate electrode 150 is formed of the same material as the gate electrode 150. The third metal layer 171 may be formed at the same time when the source electrode and the drain electrode 175 are formed of the same material as the source electrode and the drain electrode 175.

본 발명에 관한 유기 발광 표시 장치는 전원 공급부와 전극간 상하 배선의 저항을 낮출 수 있다. The organic light emitting diode display according to the present invention can lower the resistance of the vertical wiring between the power supply unit and the electrode.

도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 다른 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. Although described with reference to the embodiment shown in the drawings it is merely exemplary, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this.

Claims (4)

기판;Board; 상기 기판 상에 형성된 반도체층;A semiconductor layer formed on the substrate; 상기 반도체층을 덮는 게이트 절연막;A gate insulating film covering the semiconductor layer; 상기 게이트 절연막 상에 형성된 게이트 전극;A gate electrode formed on the gate insulating film; 상기 게이트 전극을 덮는 층간 절연막;An interlayer insulating layer covering the gate electrode; 상기 층간 절연막 상에 형성되고, 상기 반도체층과 전기적으로 연결되는 소스 전극 및 드레인 전극;A source electrode and a drain electrode formed on the interlayer insulating film and electrically connected to the semiconductor layer; 상기 층간 절연막 상에 형성되고, 상기 소스 전극 또는 드레인 전극과 동일한 재료를 이용하여 상기 소스 전극 및 드레인 전극과 동시에 형성된 전극 전원 공급 라인;An electrode power supply line formed on said interlayer insulating film and formed simultaneously with said source electrode and drain electrode using the same material as said source electrode or drain electrode; 상기 전극 전원 공급 라인상에 형성된 절연층;An insulation layer formed on the electrode power supply line; 상기 절연층 상에 형성되고 복수개의 화소를 포함하는 화소 영역;A pixel region formed on the insulating layer and including a plurality of pixels; 상기 각 화소에 배치되는 복수개의 제1 전극;A plurality of first electrodes disposed in the pixels; 상기 각 화소에 배치되는 복수개의 유기 발광층;A plurality of organic light emitting layers on each pixel; 상기 각 화소 영역 상에 형성되며, 상기 전극 전원 공급 라인에 전기적으로 연결된 제2 전극 및 A second electrode formed on each pixel area and electrically connected to the electrode power supply line; 상기 절연층에 형성된 것으로 상기 전극 전원 공급 라인과 상기 제2 전극을 전기적으로 연결시키는 비아홀을 포함하고,A via hole formed in the insulating layer and electrically connecting the electrode power supply line and the second electrode; 상기 비아홀은 상기 전극 전원 공급 라인을 따라 연장된 유기 발광 표시 장치. The via hole extends along the electrode power supply line. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 제2 전극과 전극 전원 공급 라인은 상기 절연층을 사이에 두고 중첩되는 구조이고,The second electrode and the electrode power supply line overlap with the insulating layer interposed therebetween, 상기 전극 전원 공급 라인의 영역 중 상기 제2 전극과 중첩되는 부분의 대부분의 영역이 비아홀에 의해 노출되는 유기 발광 표시 장치. The organic light emitting diode display of which a portion of the region of the electrode power supply line overlapping the second electrode is exposed by a via hole. 제1 항에 있어서,According to claim 1, 상기 절연층은 아크릴을 포함하는 재질로 이루어지는 유기 발광 표시 장치.The insulating layer is an organic light emitting display device made of a material containing acrylic. 삭제delete
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