KR100647606B1 - A method of preparing an electroluminescence display device - Google Patents

A method of preparing an electroluminescence display device Download PDF

Info

Publication number
KR100647606B1
KR100647606B1 KR1020040049725A KR20040049725A KR100647606B1 KR 100647606 B1 KR100647606 B1 KR 100647606B1 KR 1020040049725 A KR1020040049725 A KR 1020040049725A KR 20040049725 A KR20040049725 A KR 20040049725A KR 100647606 B1 KR100647606 B1 KR 100647606B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
layer
electrode
power supply
supply line
forming
Prior art date
Application number
KR1020040049725A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20060000761A (en
Inventor
강태욱
곽원규
Original Assignee
삼성에스디아이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성에스디아이 주식회사 filed Critical 삼성에스디아이 주식회사
Priority to KR1020040049725A priority Critical patent/KR100647606B1/en
Publication of KR20060000761A publication Critical patent/KR20060000761A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR100647606B1 publication Critical patent/KR100647606B1/en

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/122—Pixel-defining structures or layers, e.g. banks
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/123—Connection of the pixel electrodes to the thin film transistors [TFT]
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10—OLED displays
    • H10K59/12—Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • H10K59/1315—Interconnections, e.g. wiring lines or terminals comprising structures specially adapted for lowering the resistance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

본 발명은 기판 일면의 디스플레이 영역에 제 1 전극층을 형성하는 단계; 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부의 영역을 정의하는 화소 정의층을 형성하는 단계; 상기 디스플레이 영역에 전극 전원을 공급하는 전극 전원 공급 라인을 상기 제 1 전극층과 동일한 층에 형성하는 단계; 상기 화소 정의층을 따라 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부를 형성하는 단계; 및 상기 전극 전원 공급 라인의 적어도 일부와 접촉되며, 상기 전계 발광부를 덮도록 구비된 제 2 전극층을 형성하는 단계를 포함하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법에 관한 것이다. 상기 제조 방법에 따르면, 신뢰성이 향상된 전계 발광 디스플레이 장치를 얻을 수 있다.The present invention comprises the steps of forming a first electrode layer in the display area on one surface of the substrate; Forming a pixel defining layer defining an area of an electroluminescent portion including at least an emitting layer; Forming an electrode power supply line for supplying electrode power to the display area on the same layer as the first electrode layer; Forming an electroluminescent part including at least an emission layer along the pixel definition layer; And forming a second electrode layer in contact with at least a portion of the electrode power supply line and covering the electroluminescent unit. According to the manufacturing method, an electroluminescent display device having improved reliability can be obtained.

Description

전계 발광 디스플레이 장치의 제조 방법{A method of preparing an electroluminescence display device}A method of preparing an electroluminescence display device

도 1은 본 발명의 제조 방법의 일 실시예에 따라 제조된 유기 전계 발광 디플레이 장치의 개략적인 단면도를 도시한 것이고,1 is a schematic cross-sectional view of an organic electroluminescent display device manufactured according to an embodiment of the manufacturing method of the present invention,

도 2는 본 발명의 제조 방법의 다른 일 실시예에 따라 제조된 유기 전계 발광 디스플레이 장치의 개략적인 단면도를 도시한 것이다.2 is a schematic cross-sectional view of an organic electroluminescent display device manufactured according to another embodiment of the manufacturing method of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 간단한 설명><Brief description of symbols for the main parts of the drawings>

110...기판 120...버퍼층110 substrate 120 buffer layer

130...반도체 활성층 140...게이트 절연층130 ... semiconductor active layer 140 ... gate insulation layer

150...게이트 전극 160...중간층150 ... gate electrode 160 ... intermediate layer

170...소스 및 드레인 전극 180...보호층170 source and drain electrodes 180 protective layer

300...구동 전원 공급 라인 400...제 2 전극층300 ... drive power supply line 400 ... second electrode layer

410...전극 전원 공급 라인 500...구동 회로부410 ... electrode power supply line 500 ... drive circuit

본 발명은 평판 디스플레이 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게 는 기판 사이즈 대비 디스플레이 영역의 비율을 증대시키고, 전극 전압 공급 시 발생 가능한 전압 강하를 줄여 디스플레이 영역의 휘도 불균일을 감소시킬 수 있는 유기 전계 발광 디스플레이 장치의 제조 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method for manufacturing a flat panel display device, and more particularly, an organic electric field which can reduce the luminance unevenness of the display area by increasing the ratio of the display area to the substrate size and reducing the voltage drop that may occur when the electrode voltage is supplied. A method of manufacturing a light emitting display device.

평판 디스플레이 소자 중, 유기 전계 발광 디스플레이 소자는 백라이트와 같은 별도의 발광 장치가 필요없는 자발광형 소자로서, 저전력 및 고효율 작동이 가능하고, 청색 발광이 가능하다는 점에서 근래에 각광을 받고 있는 평면 디스플레이 소자이다. Among the flat panel display devices, the organic electroluminescent display device is a self-luminous device that does not require a separate light emitting device such as a backlight, and is a flat panel display that has recently been in the spotlight in view of low power and high efficiency operation and blue light emission. Element.

유기 전계 발광 디스플레이 소자는 유기물 박막에 음극과 양극을 통하여 주입된 전자와 정공(hole)이 재결합하여 여기자(exiton)를 형성하고, 형성된 여기자로부터의 에너지에 의해 특정한 파장의 빛이 발생하는 현상을 이용하며, 저전압으로 구동이 가능하고, 경량의 박형이고, 시야각이 넓을 뿐만 아니라, 응답 속도 또한 빠르다는 장점을 갖는다. The organic electroluminescent display device utilizes a phenomenon in which electrons and holes injected through a cathode and an anode are recombined to form an exciton in an organic thin film, and light of a specific wavelength is generated by energy from the formed exciton. In addition, it can be driven at low voltage, has a light weight, has a wide viewing angle, and has a fast response speed.

이러한 유기 전계 발광 디스플레이 소자의 유기 전계 발광부는 기판 상에 적층식으로 형성되는 양극으로서의 제 1 전극, 유기 발광부, 및 음극으로서의 제 2 전극으로 구성된다. 유기 발광부는 유기 발광층(EML, emitting layer)을 구비하는데, 이 유기 발광층에서 정공과 전자가 재결합하여 여기자를 형성하고 빛이 발생한다. 발광 효율을 보다 높이기 위해서는 정공과 전자를 유기 발광층으로 보다 원활하게 수송하여야 하고, 이를 위해 음극과 유기 발광층 사이에는 전자 수송층(ETL, electron transport layer)이 배치될 수 있고 양극과 유기 발광층 사이에는 정공 수송층(HTL, hole transport layer)이 배치될 수 있으며, 또한 양극과 정공 수송층 사이에 정공 주입층(HIL, hole injection layer)이 배치될 수도 있고, 음극과 전자 수송층 사이에 전자 주입층(EIL, electron injction layer)이 배치될 수도 있다. The organic electroluminescent portion of such an organic electroluminescent display element is composed of a first electrode as an anode formed on a substrate, an organic light emitting portion, and a second electrode as a cathode. The organic light emitting unit includes an organic light emitting layer (EML), in which holes and electrons recombine to form excitons and light is generated. In order to improve the light emission efficiency, holes and electrons should be more smoothly transported to the organic light emitting layer. For this purpose, an electron transport layer (ETL) may be disposed between the cathode and the organic light emitting layer, and a hole transport layer may be disposed between the anode and the organic light emitting layer. A hole transport layer (HTL) may be disposed, and a hole injection layer (HIL) may be disposed between the anode and the hole transport layer, and an electron injection layer (EIL, electron injction) between the cathode and the electron transport layer. layer) may be arranged.

한편, 유기 전계 발광 디스플레이 소자는 구동 방식에 따라, 수동 구동방식의 패시브 매트릭스(Passive Matrix: PM)형과, 능동 구동방식의 액티브 매트릭스(Active Matrix: AM)형으로 구분된다. 상기 패시브 매트릭스형은 단순히 양극과 음극이 각각 컬럼(column)과 로우(row)로 배열되어 음극에는 로우 구동회로로부터 스캐닝 신호가 공급되고, 이 때, 복수의 로우 중 하나의 로우만이 선택된다. 또한, 컬럼 구동회로에는 각 화소로 데이터 신호가 입력된다. 한편, 상기 액티브 매트릭스형은 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor, TFT)를 이용해 각 화소 당 입력되는 신호를 제어하는 것으로 방대한 양의 신호를 처리하기에 적합하여 동영상을 구현하기 위한 디스플레이 장치로서 많이 사용되고 있다.On the other hand, organic electroluminescent display devices are classified into passive matrix (PM) type and passive matrix active matrix (AM) type according to the driving method. In the passive matrix type, the anode and the cathode are simply arranged in columns and rows, respectively, so that the cathode is supplied with a scanning signal from a row driving circuit. At this time, only one row of the plurality of rows is selected. In addition, a data signal is input to each pixel in the column driving circuit. On the other hand, the active matrix type is a thin film transistor (TFT) to control the input signal for each pixel is suitable for processing a large amount of signals are used as a display device for implementing a video.

그런데, 유기/무기 전계 발광 디스플레이 장치, 특히 액티브 매트릭스형 유기/무기 전계 발광 장치에 있어서, 각종 구동 회로부 및 배선들의 레이 아웃 상의 문제로 기판 사이즈에 대한 화소들로 구성되는 디스플레이 영역 사이즈 비율이 상대적으로 작아진다는 문제점이 있다.However, in an organic / inorganic electroluminescent display device, particularly an active matrix organic / inorganic electroluminescent device, a display area size ratio composed of pixels to a substrate size is relatively large due to a problem in the layout of various driving circuit parts and wirings. There is a problem of being smaller.

대한민국공개특허공보 제2001-83213호에는 상기와 같은 문제점이 극명하게 개시되어 있다. 여기서, 음극으로서의 보호 전극은 밀봉부의 가장 자리에 배치된 접속 배선을 통하여 외부 FPC와 접속되는 구조를 취하고 있는데, 보호 전극은 밀봉부의 가장 자리에서 상당한 자리를 차지하고 있다는 것을 알 수 있다. Korean Unexamined Patent Publication No. 2001-83213 discloses such a problem clearly. Here, the protective electrode as the negative electrode has a structure in which the external electrode is connected to the external FPC through the connection wiring disposed at the edge of the sealing part. It can be seen that the protective electrode occupies a considerable position at the edge of the sealing part.

이러한 배치 상의 문제점으로 인하여, 유기 전계 발광 디스플레이 장치의 디 스플레이 영역과 단자 영역을 연결하는 배선부의 너비를 제한적으로 얇게 하는 경우, 배선부의 저항 증대로 인한 휘도 감소가 초래될 수 있는 바, 이를 개선할 필요성이 요구된다.Due to this arrangement problem, when the width of the wiring portion connecting the display area and the terminal area of the organic electroluminescent display device is limitedly thin, a decrease in luminance due to an increase in resistance of the wiring part may be caused. Need is required.

본 발명은 전술한 바와 같은 문제점을 해결하고자, 기판 사이즈 대비 디스플레이 영역의 비율을 증대시킴과 동시에 전압 강하로 인한 휘도 감소 내지 불균일을 해소시킨 구조의 전계 발광 디스플레이 장치를 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electroluminescent display device having a structure in which the ratio of the display area to the substrate size to the substrate size is increased and the luminance decrease or unevenness due to the voltage drop is eliminated at the same time. It is done.

상기 본 발명의 과제를 이루기 위하여, 본 발명은In order to achieve the above object of the present invention, the present invention

기판 일면의 디스플레이 영역에 제 1 전극층을 형성하는 단계;Forming a first electrode layer on a display area of one surface of the substrate;

적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부의 영역을 정의하는 화소 정의층을 형성하는 단계;Forming a pixel defining layer defining an area of an electroluminescent portion including at least an emitting layer;

상기 디스플레이 영역에 전극 전원을 공급하는 전극 전원 공급 라인을 상기 제 1 전극층과 동일한 층에 형성하는 단계;Forming an electrode power supply line for supplying electrode power to the display area on the same layer as the first electrode layer;

상기 화소 정의층을 따라 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부를 형성하는 단계; 및Forming an electroluminescent part including at least an emission layer along the pixel definition layer; And

상기 전극 전원 공급 라인의 적어도 일부와 접촉되며, 상기 전계 발광부를 덮도록 구비된 제 2 전극층을 형성하는 단계Forming a second electrode layer in contact with at least a portion of the electrode power supply line and covering the electroluminescent unit

를 포함하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법를 제공한다.It provides a method of manufacturing an electroluminescent display comprising a.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 기판은 복수 개의 전기 요소를 포함하고, 전기 요소들 중 적어도 1 개가 상기 전극 전원 공급 라인 하부에 위치할 수 있다. 상기 전기 요소는 상기 디스플레이 영역에 전기 신호를 인가하는 구동 회로부 또는 상기 디스플레이 영역에 구동 전원을 인가하는 구동 전원 공급 라인을 포함한다.According to another feature of the invention, the substrate comprises a plurality of electrical elements, at least one of the electrical elements may be located below the electrode power supply line. The electrical element includes a driving circuit unit for applying an electrical signal to the display area or a driving power supply line for applying driving power to the display area.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 전극 전원 공급 라인을 형성하는 물질은 Al, Ag 및 Mg 중 적어도 하나일 수 있다.According to another feature of the invention, the material forming the electrode power supply line may be at least one of Al, Ag and Mg.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 전극 전원 공급 라인은 스퍼터링법, 전자빔 증착법 또는 진공증착법을 이용하여 형성될 수 있다.According to another feature of the invention, the electrode power supply line may be formed using a sputtering method, an electron beam deposition method or a vacuum deposition method.

본 발명의 또 다른 특징에 의하면, 상기 제 2 전극층은 상기 전극 전원 공급 라인과 서로 면접촉하도록 형성될 수 잇다.According to another feature of the invention, the second electrode layer may be formed in surface contact with the electrode power supply line.

상기 전계 발광 디스플레이 장치의 제조 방법에 따르면, 기판 사이즈 대비 디스플레이 영역의 비율을 증대시킴과 동시에 전압 강하로 인한 휘도 감소 내지 불균일을 해소시킨 구조의 전계 발광 디스플레이 장치를 용이하게 제조할 수 있다.According to the manufacturing method of the electroluminescent display device, it is possible to easily manufacture the electroluminescent display device having a structure of increasing the ratio of the display area to the substrate size and at the same time eliminating luminance decrease or unevenness due to voltage drop.

이하, 본 발명의 제조 방법의 일실시예에 따라 제조된 유기 전계 발광 디스플레이 장치의 단면도를 간략하게 도시한 도 1 및 도 2를 참조하여 본 발명을 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to FIGS. 1 and 2, which briefly illustrate cross-sectional views of organic electroluminescent display devices manufactured according to an embodiment of the manufacturing method of the present invention.

본 발명의 유기 전계 발광 디스플레이 장치를 제조하는 방법의 일 구현예에 따르면, 먼저 기판 일면의 디스플레이 영역에 제 1 전극층을 형성한다. 상기 기판과 제 1 전극층 사이에는 도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이 디스플레이 영역에 형 성된 박막 트랜지스터 및 디스플레이 영역의 외측에 형성된 복수 개의 전기 요소 등이 구비되어 있다. 제 1 전극층 형성에 관하여 상세히 설명하기 전, 먼저, 기판과 제 1 전극층 사이에 개재된 박막 트랜지스터 및 전기 요소에 관하여 살펴보기로 한다.According to one embodiment of the method of manufacturing an organic electroluminescent display device of the present invention, first, a first electrode layer is formed in the display area of one surface of a substrate. 1 and 2, a thin film transistor formed in the display area and a plurality of electrical elements formed outside the display area are provided between the substrate and the first electrode layer. Before describing the first electrode layer formation in detail, first, a thin film transistor and an electrical element interposed between the substrate and the first electrode layer will be described.

도 1 중 디스플레이 영역(200)을 살펴보면, 기판, 예를 들어 글라스 재의 기판(110) 상에는 SiO2 등으로 버퍼층(120)이 형성되어 있다. 버퍼층(120)의 일면 상에는 반도체 활성층(130)이 형성되는데, 반도체 활성층(130)은 비정질 실리콘층 또는 다결정질 실리콘층으로 형성될 수 있으며, 유기 반도체로도 이루어질 수 있는 등, 다양한 변형예가 가능하다.Referring to the display area 200 of FIG. 1, a buffer layer 120 is formed of SiO 2 on a substrate, for example, a glass material substrate 110. The semiconductor active layer 130 is formed on one surface of the buffer layer 120. The semiconductor active layer 130 may be formed of an amorphous silicon layer or a polycrystalline silicon layer, and may be made of an organic semiconductor. .

반도체 활성층(130)의 일면 상부로 채널 영역에 대응되는 위치에는 게이트 전극(150)이 형성되어 있는데, 게이트 전극(150)에 인가되는 신호 여부에 따라 채널 영역의 통전 여부가 결정되며, 이를 통해 소스 및 드레인 영역이 소통된다. 반도체 활성층(130)과 게이트 전극(150)과의 절연성을 확보하기 위하여, 예를 들어, 플라즈마 강화 화학 기상 증착(PECVD)을 통해 SiO2로 구성되는 게이트 절연층(140)이 반도체 활성층(130)과 게이트 전극(150) 사이에 개재된다. The gate electrode 150 is formed at a position corresponding to the channel region on one surface of the semiconductor active layer 130. And the drain region are in communication. In order to ensure insulation between the semiconductor active layer 130 and the gate electrode 150, for example, the gate insulating layer 140 formed of SiO 2 through plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) is used as the semiconductor active layer 130. And the gate electrode 150 are interposed.

게이트 전극(150)의 상부에는 중간층(interlayer, 160)이 형성되어 있으며, 중간층은 SiO2, SiNx 등의 물질로 단층 형성되거나 또는 이중층의 형태로 구성될 수도 있다. 중간층(160)의 상부에는 소스/드레인 전극(170)이 형성된다. 소스/드레인 전극(170)은 중간층(160)과 게이트 절연층(140)에 형성되는 콘택홀을 통하여 반 도체 활성층의 소스 영역 및 드레인 영역과 각각 전기적으로 소통된다.An intermediate layer 160 is formed on the gate electrode 150, and the intermediate layer may be formed of a single layer or a double layer of a material such as SiO 2 or SiNx. The source / drain electrode 170 is formed on the intermediate layer 160. The source / drain electrodes 170 are in electrical communication with the source and drain regions of the semiconductor active layer, respectively, through contact holes formed in the intermediate layer 160 and the gate insulating layer 140.

한편, 디스플레이 영역(200) 외측으로는 전기 요소가 구비되어 있다. 상기 전기 요소는 상기 디스플레이 영역의 도전층들과 동일한 재료로 형성되는 하나 이상의 도전층을 가질 수 있다. 상기 전기 요소는 상기 디스플레이 영역(200)에 전기 신호를 인가하는 구동 회로부(500) (도 1 및 도 2 참조) 또는 상기 디스플레이 영역에 구동 전원을 인가하는 구동 전원 공급 라인(300)(도 2 참조)을 포함할 수 있다. On the other hand, an electric element is provided outside the display area 200. The electrical element may have one or more conductive layers formed of the same material as the conductive layers of the display area. The electric element may include a driving circuit unit 500 (see FIGS. 1 and 2) for applying an electrical signal to the display area 200 or a driving power supply line 300 (see FIG. 2) for applying driving power to the display area. ) May be included.

상기 구동 회로부(500)는 구동 회로부(500)의 배치 레이-아웃에 따라 디스플레이 영역(200)에 스캔 신호를 인가하는 스캔 구동 회로부가 될 수 있는 수직 구동 회로부일 수도 있고, 디스플레이 영역(200)에 데이터 신호를 인가하는 데이터 구동 회로부가 될 수 있는 수평 구동 회로부가 될 수 있는 등, 다양한 변형예를 고려할 수 있다. 이들은 경우에 따라 외장 IC 또는 COG로 구현될 수 있으나, 본 발명에 의한 데드 스페이스 감소에 따른 원가 절감 및 장치의 간소성 등을 고려하여, 디스플레이 영역(200)과 일체로 형성되는 것이 바람직하다.The driving circuit unit 500 may be a vertical driving circuit unit that may be a scan driving circuit unit for applying a scan signal to the display area 200 according to the layout of the driving circuit unit 500. Various modifications can be considered, such as being a horizontal driving circuit part which can be a data driving circuit part for applying a data signal. These may be implemented as an external IC or COG in some cases, but is preferably formed integrally with the display area 200 in consideration of cost reduction and device simplicity of the dead space according to the present invention.

상기 구동 전원 공급 라인(300)은 디스플레이 영역(200) 전체에 걸쳐 균일한 구동 전원을 공급함으로써 휘도 불균일을 개선할 수 있다는 측면에서, 디스플레이 영역(200)을 둘러싸도록 형성될 수 있다. 상기 구동 전원 공급 라인(300)은 구동 라인(미도시)과 연결되는데, 구동 라인은 디스플레이 영역(200)을 가로질러 배치되며, 소스 전극(170)과 전기적으로 소통된다.The driving power supply line 300 may be formed to surround the display area 200 in terms of improving luminance unevenness by supplying uniform driving power over the entire display area 200. The driving power supply line 300 is connected to a driving line (not shown), and the driving line is disposed across the display area 200 and is in electrical communication with the source electrode 170.

전술한 바와 같은 박막 트랜지스터 및 전기 요소 상부에는 보호층(패시베이 션 층 및/또는 평탄화층, 180)이 형성되어 있다. 상기 보호층(180)은 하부의 박막 트랜지스터 및 전기 요소를 보호하고 평탄화시킨다. 상기 보호층(180)은 다양한 형태로 구성될 수 있는데, 무기물 또는 유기물로 형성될 수도 있고, 단층으로 형성되거나 또는 하부에 SiNx층을 구비하고 상부에는 예를 들면, BCB(benzocyclobutene) 또는 아크릴(acryl) 등과 같은 유기물 층을 구비하는 이중층으로 구성될 수 있다.A protective layer (passivation layer and / or planarization layer 180) is formed on the thin film transistor and the electrical element as described above. The protective layer 180 protects and planarizes the thin film transistor and the electric element underneath. The protective layer 180 may be formed in various forms. The protective layer 180 may be formed of an inorganic material or an organic material. The protective layer 180 may be formed of a single layer or may have a SiNx layer at a lower portion thereof, for example, benzocyclobutene (BCB) or acryl at the upper portion thereof. It may be composed of a double layer having an organic layer such as).

보호층(180)의 일면 상에는 제 1 전극층(210)이 배설되는데, 제 1 전극층의 일단은 보호층(180)에 형성된 비아홀(211)을 통하여 하부의 드레인 전극(170)과 접촉한다. 제 1 전극층(210)은 배면 발광형인 경우에는, 인듐-틴-옥사이드(ITO) 등의 투명 전극으로 구성될 수 있다. 한편, 전면 발광형인 경우에는 적어도 도전성 반사막을 포함하는 하나 이상의 층을 구비하는 것이 바람직하다. 예를 들어, 제 1 전극층(210)은 Al, Ag, 또는 이들의 합금 등으로 전면 증착되는 도전성 반사막을 형성한 후, 이들 도전성 반사막 상부에 Ni, Ir, Pt, Au, ITO, IZO 등의 금속 및/또는 금속 산화물 등의 다중층을 이룰 수도 있다. 하지만, 제 1 전극층(210)의 구조는 상기한 유형에 한정되지는 않는다. 즉, 경우에 따라서는, 도전성 반사막 형성 전에 Ni, ITO, IZO 등의 금속 및/또는 금속 산화물 등의 층을 더 구비하도록 제 1 전극층(210)을 구성할 수도 있는 등, 다양한 형태의 구성을 취할 수도 있다.The first electrode layer 210 is disposed on one surface of the protective layer 180, and one end of the first electrode layer contacts the lower drain electrode 170 through the via hole 211 formed in the protective layer 180. In the case of the bottom emission type, the first electrode layer 210 may be formed of a transparent electrode such as indium tin oxide (ITO). On the other hand, in the case of a top emission type, it is preferable to provide at least one layer including at least a conductive reflective film. For example, the first electrode layer 210 forms a conductive reflective film that is entirely deposited with Al, Ag, or an alloy thereof, and then a metal such as Ni, Ir, Pt, Au, ITO, IZO, or the like on the conductive reflective film. And / or multiple layers such as metal oxides. However, the structure of the first electrode layer 210 is not limited to the above type. That is, in some cases, the first electrode layer 210 may be configured to further include layers of metals such as Ni, ITO, IZO, and / or metal oxides before forming the conductive reflective film. It may be.

이 후, 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부의 영역을 정의할 수 있는 화소 정의층(220)을 형성한다. 상기 화소 정의층(220)은 아크릴(acryl), 또는 BCB(benzocyclobutene)와 같은 유기물을 이용하여 형성될 수 있는 데, 반드시 이에 한정되는 것은 아니며, 무기물을 이용할 수도 있다. 상기 화소 정의층(220)은 이하 설명될 전극 전원 공급 라인(410)의 형성 영역을 고려하여, 형성된다. 보다 구체적으로, 상기 화소 정의층(220)은 도 1에 도시된 바와 같이 구동 회로부(500) 상부를 덮지 않도록 형성되거나, 도 2에 도시된 바와 같이 구동 전원 공급 라인(300) 상부를 덮지 않도록 형성될 수 있다.Thereafter, the pixel defining layer 220 may be formed to define an area of the electroluminescent part including at least the light emitting layer. The pixel defining layer 220 may be formed using an organic material such as acryl or benzocyclobutene (BCB), but is not limited thereto, and may also use an inorganic material. The pixel defining layer 220 is formed in consideration of the formation region of the electrode power supply line 410 to be described below. More specifically, the pixel defining layer 220 is formed so as not to cover the upper portion of the driving circuit unit 500 as shown in FIG. 1, or so as not to cover the upper portion of the driving power supply line 300 as shown in FIG. 2. Can be.

화소 정의층(220)을 형성한 다음에는 디스플레이 영역(200)에 전극 전원을 공급하는 전극 전원 공급 라인(410)을 상기 제 1 전극층과 동일한 층에 형성한다. 전극 전원 공급 라인(410)은 디스플레이 영역(200)의 외측의 적어도 일부를 따라 배치되며, 상기 기판(110)에 구비된 복수 개의 전기 요소들 중 적어도 1 개의 전기 요소 상부에 형성된다. 상기 전기 요소는 전술한 바와 같이 상기 디스플레이 영역(200)에 전기 신호를 인가하는 구동 회로부(300)(도 2 참조) 및 상기 디스플레이 영역(200)에 구동 전원을 인가하는 구동 전원 공급 라인(500)(도 1 및 도 2 참조)을 포함한다. 본 발명의 제조 방법에 따르면, 전극 전원 공급 라인(410)은 화소 정의층(220)을 형성한 다음에 구비되므로, 화소 정의층(220) 형성시 수반될 수 있는 세정/박리 등의 공정에서 사용되는 초음파 등에 노출되지 않는 바, 전극 전원 공급 라인(410)이 보호층(180)으로부터 박리되는 등의 불량이 발생하지 않는다.After the pixel defining layer 220 is formed, an electrode power supply line 410 for supplying electrode power to the display area 200 is formed on the same layer as the first electrode layer. The electrode power supply line 410 is disposed along at least a portion of the outside of the display area 200 and is formed on at least one of the plurality of electrical elements included in the substrate 110. As described above, the electric element includes a driving circuit unit 300 (see FIG. 2) for applying an electric signal to the display area 200 and a driving power supply line 500 for applying driving power to the display area 200. (See FIGS. 1 and 2). According to the manufacturing method of the present invention, since the electrode power supply line 410 is provided after the pixel defining layer 220 is formed, the electrode power supply line 410 is used in a process such as cleaning / peeling that may be involved in forming the pixel defining layer 220. Since the electrode is not exposed to the ultrasonic wave, the defect of the electrode power supply line 410 is peeled off from the protective layer 180.

상기 전극 전원 공급 라인(410)은 디스플레이 영역(200)의 외측의 적어도 일부를 따라 배치될 수 있다. 한편, 전극 전원 공급이 이하 설명될 제 2 전극층(400)의 어느 일측에서만 일어나는 경우, 제 2 전극층(400)의 위치에 따라 상이한 전압 강하가 발생하여 휘도 불균일이 초래되는 것을 보완하도록 전극 전원 공급 라인(410)과 제 2 전극층(400)의 접촉은 제 2 전극층(400)의 양측에서 대칭적으로 일어나도록 배치되는 것이 바람직하다.The electrode power supply line 410 may be disposed along at least a portion of the outside of the display area 200. On the other hand, when the electrode power supply occurs only on any one side of the second electrode layer 400 to be described below, the electrode power supply line to compensate for the occurrence of different voltage drop depending on the position of the second electrode layer 400 resulting in luminance unevenness The contact between the 410 and the second electrode layer 400 is preferably arranged to occur symmetrically on both sides of the second electrode layer 400.

상기 전기 요소는 도 1에 따르면 구동 회로부(500)이고, 도 2에 따르면 구동 전원 공급 라인(300)이다. 이로써, 전극 전원 공급 라인이 다른 구성 요소와는 중첩되지 않게 독립적으로 배치되었던 종래 기술과는 달리, 본 발명의 일실시예에 따른 전극 전원 공급 라인(410)은 구동 회로부(500)(도 1 참조) 또는 구동 전원 공급 라인(300)(도 2 참조)과 같은 전기 요소 상부에 배치됨으로써, 종래 기술에서는 전극 전원 공급 라인을 배치하기 위해 할당되었던 영역의 제거가 가능하여 기판 사이즈 대비 디스플레이 영역 면적의 비율을 증대시킬 수 있다.The electrical element is a drive circuit 500 according to FIG. 1 and a drive power supply line 300 according to FIG. 2. Thus, unlike the prior art in which the electrode power supply line is disposed independently so as not to overlap with other components, the electrode power supply line 410 according to the embodiment of the present invention may include the driving circuit unit 500 (see FIG. 1). Or on top of an electrical element, such as drive power supply line 300 (see FIG. 2), it is possible to eliminate the area that has been allocated for placing the electrode power supply line in the prior art, thus providing a ratio of display area area to substrate size. Can be increased.

전극 전원 공급 라인(410)은 제 2 전극층(400)과의 접촉으로 인해 발생할 수 있는 저항을 고려하여, 저저항 도전성 물질을 이용하여 형성한다. 이러한 전극 전원 공급 라인(410)은 금속, 예를 들면, Al, Ag 및 Mg 중 적어도 하나일 수 있다. 전극 전원 공급 라인(410)을 이루는 물질은 경우에 따라서 제 1 전극층(210)의 도전성 반사막과 동일한 재료로 구성될 수도 있다. 이 때, 전극 전원 공급 라인(410)의 두께는 공정 요건 및 전체 두께 사양 등을 고려하여 약 500 내지 3000Å일 수 있다.The electrode power supply line 410 is formed using a low resistance conductive material in consideration of resistance that may occur due to contact with the second electrode layer 400. The electrode power supply line 410 may be at least one of metal, for example, Al, Ag, and Mg. In some cases, the material forming the electrode power supply line 410 may be made of the same material as the conductive reflective film of the first electrode layer 210. In this case, the thickness of the electrode power supply line 410 may be about 500 to 3000 kPa in consideration of process requirements and overall thickness specifications.

전극 전원 공급 라인(410)은 증착공정을 이용하여 상기 디스플레이 영역의 도전층들과 동일한 재료로 형성되는 하나 이상의 도전층을 갖는 전기 요소 상부에 형성될 수 있다. 이용가능한 증착 공정의 구체적인 예에는 스퍼터링법, 전자빔 증착법 또는 진공증착법 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.The electrode power supply line 410 may be formed on the electrical element having one or more conductive layers formed of the same material as the conductive layers of the display area using a deposition process. Specific examples of deposition processes that can be used include, but are not limited to, sputtering, electron beam deposition, or vacuum deposition.

전극 전원 공급 라인(410)을 형성한 다음에는, 화소 정의층(220)을 따라 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부(230)를 형성한다. 전계 발광부(230)는 저분자 또는 고분자 유기막으로 구성될 수 있는데, 저분자 유기막을 사용할 경우 홀 주입층(HIL: Hole Injection Layer), 홀 수송층(HTL: Hole Transport Layer), 유기 발광층(EML: Emission Layer), 전자 수송층(ETL: Electron Transport Layer), 전자 주입층(EIL: Electron Injection Layer) 등이 단일 혹은 복합의 구조로 적층되어 형성될 수 있으며, 사용 가능한 유기 재료도 구리 프탈로시아닌(CuPc: copper phthalocyanine), N,N-디(나프탈렌-1-일)-N,N'-디페닐-벤지딘 (N,N'-Di(naphthalene-1-yl)-N,N'-diphenyl-benzidine: NPB) , 트리스-8-하이드록시퀴놀린 알루미늄(tris-8-hydroxyquinoline aluminum)(Alq3) 등을 비롯해 다양한 재료를 적용할 수 있다. 이들 저분자 유기막은 진공증착의 방법으로 형성된다.After forming the electrode power supply line 410, the electroluminescent part 230 including at least the light emitting layer is formed along the pixel defining layer 220. The electroluminescent unit 230 may be formed of a low molecular weight or high molecular organic film. When the low molecular weight organic film is used, a hole injection layer (HIL), a hole transport layer (HTL), and an organic emission layer (EML) Layer, Electron Transport Layer (ETL), Electron Injection Layer (EIL), etc. can be formed by stacking single or complex structure. Usable organic materials are also copper phthalocyanine (CuPc) ), N, N-di (naphthalen-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine (N, N'-Di (naphthalene-1-yl) -N, N'-diphenyl-benzidine: NPB) A variety of materials can be used, including tris-8-hydroxyquinoline aluminum (Alq3). These low molecular weight organic films are formed by the vacuum deposition method.

고분자 유기막의 경우에는 대개 홀 수송층(HTL) 및 유기 발광층(EML)으로 구비된 구조를 가질 수 있으며, 이 때, 상기 홀 수송층으로 PEDOT를 사용하고, 발광층으로 PPV(Poly-Phenylenevinylene)계 및 폴리플루오렌(Polyfluorene)계 등 고분자 유기물질을 사용하며, 이를 스크린 인쇄나 잉크젯 인쇄방법 등으로 형성할 수 있다.In the case of the polymer organic film, the structure may include a hole transporting layer (HTL) and an organic light emitting layer (EML). In this case, PEDOT is used as the hole transporting layer, and polyvinylvinylene (PPV) and polyflu as the light emitting layer. Polymeric organic materials such as ore (Polyfluorene) are used and can be formed by screen printing or inkjet printing.

전계 발광부(230)를 형성한 후에는 제 2 전극층(400)을 형성한다. 본 발명의 유기 전계 발광 디스플레이 장치는 화소 정의층(220)을 형성한 다음, 전극 전원 공급 라인(410)을 개별적으로 형성하는 바, 전원 공급 라인(410)과 제 2 전극층(400)을 접촉시키기 위한 개구 영역을 화소 정의층(220)에 별도로 형성할 필 요가 없다. 따라서, 개구 영역 형성을 위한 식각 공정에 따르는 문제점, 예를 들면 에칭액에 의한 개구 영역 주변부의 오염 등과 같은 문제점이 발생하지 않으며, 이는 궁극적으로 전계 발광 디스플레이 장치의 신뢰성을 향상시키게 된다.After the electroluminescent unit 230 is formed, the second electrode layer 400 is formed. In the organic electroluminescent display device of the present invention, after forming the pixel defining layer 220, the electrode power supply line 410 is formed separately, and the power supply line 410 is brought into contact with the second electrode layer 400. It is not necessary to separately form an opening region in the pixel defining layer 220. Therefore, there is no problem caused by the etching process for forming the opening region, for example, contamination of the periphery of the opening region by the etchant, which ultimately improves the reliability of the electroluminescent display device.

상기 제 2 전극층(400)은 전극 전원 공급 라인(410)과 전기적으로 소통할 수 있도록 형성된다. 이 때, 전극 전원 공급 라인(410)과 제 2 전극층(400) 간의 접촉 면적을 크게 함으로써 접촉시 발생하는 저항으로 인한 전압 강하를 방지하기 위하여, 이러한 전기적 소통은 전극 전원 공급 라인(410)과 제 2 전극층(400)의 면접촉을 통하여 이루어지는 것이 바람직하다.The second electrode layer 400 is formed to be in electrical communication with the electrode power supply line 410. At this time, in order to prevent a voltage drop due to resistance generated at the time of contact by increasing the contact area between the electrode power supply line 410 and the second electrode layer 400, the electrical communication is performed with the electrode power supply line 410. It is preferable that the contact between the two electrode layers 400 is made.

이러한 제 2 전극층(400)은 전계 발광부(230)의 일면 상부에 전면 증착되어 형성될 수 있으며, 제 2 전극층(400)은 이러한 전면 증착 형태에 한정되는 것은 아니며, 또한 발광 유형에 따라 Al/Ca, ITO, Mg-Ag 등과 같은 재료로 형성될 수도 있고, 단일층이 아닌 복수의 층으로 형성될 수도 있으며, LiF 등과 같은 알칼리 또는 알칼리 토금속 플루오라이드 층이 더 구비될 수도 있는 등, 다양한 유형으로 구성될 수 있다.The second electrode layer 400 may be formed by being entirely deposited on one surface of the electroluminescent unit 230, and the second electrode layer 400 is not limited to this type of front deposition. It may be formed of a material such as Ca, ITO, Mg-Ag, etc., may be formed of a plurality of layers instead of a single layer, and may be further provided with an alkali or alkaline earth metal fluoride layer such as LiF. Can be configured.

이 후, 기판(110)과 대향되게 배치되어 투습 및 투산소가 방지되는 밀봉 구조를 이루는 봉지 기판(900)을 형성한다.Thereafter, the encapsulation substrate 900 is formed to face the substrate 110 to form a sealing structure in which moisture permeation and oxygen permeation are prevented.

상기한 실시예들은 본 발명을 설명하기 위한 일예들로서, 본 발명이 이에 한정되지는 않는다. 즉, 구동 전원 공급 라인, 전극 전원 공급 라인 및 구동 회로부 등의 레이 아웃은 본 발명에 따른 전극 전원 공급 라인 및/또는 구동 전원 공급 라인에 대한 사상을 포함하는 범위에서 다양하게 변형될 수 있고, 또한 상기한 실시 예들은 유기 전계 발광 디스플레이 장치에 대하여 기술하였으나, 본 발명의 범위 내에서 무기 전계 발광 디스플레이 장치에도 충분히 적용될 수 있는 등, 다양한 변형예를 고려할 수 있다. The above embodiments are examples for describing the present invention, but the present invention is not limited thereto. That is, the layout of the driving power supply line, the electrode power supply line and the driving circuit portion may be variously modified in a range including the idea of the electrode power supply line and / or the driving power supply line according to the present invention. Although the above embodiments have been described with respect to the organic electroluminescent display device, various modifications may be considered, such as being sufficiently applicable to the inorganic electroluminescent display device within the scope of the present invention.

본 발명의 전계 발광 디스플레이 장치의 제조 방법에 따르면, 기판 사이즈 대비 디스플레이 영역의 비율이 증대되고, 전극 전압 공급 시 발생 가능한 전압 강하가 줄어들어 디스플레이 영역의 휘도 불균일이 감소된 전계 발광 디스플레이 장치를 제조할 수 있다. 이로써, 신뢰성이 향상된 전계 발광 디스플레이 장치를 얻을 수 있다.According to the manufacturing method of the electroluminescent display device of the present invention, the ratio of the display area to the substrate size is increased, and the voltage drop that can be generated when the electrode voltage is supplied is reduced, thereby reducing the luminance unevenness of the display area. have. As a result, an electroluminescent display device having improved reliability can be obtained.

본 발명은 첨부된 도면에 도시된 일 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 수 있을 것이다. 따라서 본 발명의 진정한 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 할 것이다.Although the present invention has been described with reference to one embodiment shown in the accompanying drawings, this is merely exemplary, and it will be understood by those skilled in the art that various modifications and equivalent other embodiments are possible. Could be. Therefore, the true scope of protection of the present invention should be defined only by the appended claims.

Claims (6)

기판 일면의 디스플레이 영역에 제 1 전극층을 형성하는 단계;Forming a first electrode layer on a display area of one surface of the substrate; 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부의 영역을 정의하는 화소 정의층을 형성하는 단계;Forming a pixel defining layer defining an area of an electroluminescent portion including at least an emitting layer; 상기 디스플레이 영역에 전극 전원을 공급하는 전극 전원 공급 라인을 상기 제 1 전극층과 동일한 층에 형성하는 단계;Forming an electrode power supply line for supplying electrode power to the display area on the same layer as the first electrode layer; 상기 화소 정의층을 따라 적어도 발광층을 포함하는 전계 발광부를 형성하는 단계; 및Forming an electroluminescent part including at least an emission layer along the pixel definition layer; And 상기 전극 전원 공급 라인의 적어도 일부와 접촉되며, 상기 전계 발광부를 덮도록 구비된 제 2 전극층을 형성하는 단계Forming a second electrode layer in contact with at least a portion of the electrode power supply line and covering the electroluminescent unit 를 포함하고,Including, 상기 기판은 복수 개의 전기 요소를 포함하고, 상기 복수 개의 전기 요소 중 적어도 1 개가 상기 전극 전원 공급 라인 하부에 위치한 것을 특징으로 하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법.And the substrate comprises a plurality of electrical elements, and at least one of the plurality of electrical elements is located below the electrode power supply line. 삭제delete 제1항에 있어서, 상기 전극 전원 공급 라인 하부에 위치한 전기 요소는 상기 디스플레이 영역에 전기 신호를 인가하는 구동 회로부 또는 상기 디스플레이 영역에 구동 전원을 인가하는 구동 전원 공급 라인을 포함하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법.2. The electric field of claim 1, wherein the electric element disposed below the electrode power supply line includes a driving circuit unit for applying an electric signal to the display area or a driving power supply line for applying drive power to the display area. Method of manufacturing a light emitting display device. 제1항에 있어서, 상기 전극 전원 공급 라인을 형성하는 물질이 Al, Ag 및 Mg 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the material forming the electrode power supply line is at least one of Al, Ag, and Mg. 제1항에 있어서, 상기 전극 전원 공급 라인을 스퍼터링법, 전자빔 증착법 또는 진공증착법을 이용하여 형성하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the electrode power supply line is formed by a sputtering method, an electron beam deposition method, or a vacuum deposition method. 제1항에 있어서, 상기 제 2 전극층을 상기 전극 전원 공급 라인과 서로 면접촉하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 전계 발광 표시 장치의 제조 방법.The method of claim 1, wherein the second electrode layer is formed in surface contact with the electrode power supply line.
KR1020040049725A 2004-06-29 2004-06-29 A method of preparing an electroluminescence display device KR100647606B1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040049725A KR100647606B1 (en) 2004-06-29 2004-06-29 A method of preparing an electroluminescence display device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040049725A KR100647606B1 (en) 2004-06-29 2004-06-29 A method of preparing an electroluminescence display device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060000761A KR20060000761A (en) 2006-01-06
KR100647606B1 true KR100647606B1 (en) 2006-11-23

Family

ID=37104012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040049725A KR100647606B1 (en) 2004-06-29 2004-06-29 A method of preparing an electroluminescence display device

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR100647606B1 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100813840B1 (en) * 2006-08-17 2008-03-17 삼성에스디아이 주식회사 Organic light emitting display apparatus
KR102642369B1 (en) * 2016-03-25 2024-03-05 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device and method of manufacturing the organic light emitting display device

Also Published As

Publication number Publication date
KR20060000761A (en) 2006-01-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100581903B1 (en) Electroluminescence display device
KR100573149B1 (en) Electrolumimescence display device and method for manufacturing the same
KR100592273B1 (en) Flat panel display device
US7538488B2 (en) Flat panel display
US7326966B2 (en) Electroluminescence display device and method of manufacturing the same
KR100637193B1 (en) Electro-luminescence display device and method for manufacturing the same
KR100615222B1 (en) Electroluminescence display device and method for manufacturing the same
KR101881083B1 (en) Organic light emitting display device
KR100647599B1 (en) Organic electro-luminescent display device and fabricating the same
JP4169733B2 (en) Electroluminescent display device and manufacturing method thereof
KR20050081541A (en) Flat display device
KR100603336B1 (en) Electro-luminescence display device and method for producing the same
KR100615224B1 (en) An electro-luminescence display device
KR100804539B1 (en) Organic light emitting display apparatus
KR100647606B1 (en) A method of preparing an electroluminescence display device
KR100719599B1 (en) Flat panel display apparatus
KR100563065B1 (en) Electroluminescence display device and method for manufacturing the same
KR100625996B1 (en) Electro-luminescence display device
KR100592272B1 (en) Electroluminescent display device
KR100592268B1 (en) Electroluminescent display device and manufacturing method thereof

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121102

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131031

Year of fee payment: 8

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20141030

Year of fee payment: 9

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20151030

Year of fee payment: 10

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20171101

Year of fee payment: 12

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20181101

Year of fee payment: 13