KR102360353B1 - Display Device - Google Patents

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KR102360353B1
KR102360353B1 KR1020170096110A KR20170096110A KR102360353B1 KR 102360353 B1 KR102360353 B1 KR 102360353B1 KR 1020170096110 A KR1020170096110 A KR 1020170096110A KR 20170096110 A KR20170096110 A KR 20170096110A KR 102360353 B1 KR102360353 B1 KR 102360353B1
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최희동
박청훈
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Abstract

본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부, 비표시부에 위치하며 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부 및 표시부에 전원을 인가하는 전원라인부, 및 기판과 대향하는 보호부재를 포함하며, 그라운드부는 보호부재와 서로 중첩된다.A display device according to an embodiment of the present invention includes a display unit and a non-display unit located on a substrate, a ground unit located in the non-display unit to which a ground voltage is applied, a power line unit applying power to the display unit, and a protection facing the substrate It includes a member, and the ground portion overlaps the protective member.

Description

표시장치{Display Device}Display Device

본 발명은 표시장치에 관한 것으로, 보다 자세하게는 비표시부에서 이물에 의한 손상 또는 증착 마스크에 의한 손상을 방지할 수 있는 표시장치에 관한 것이다.The present invention relates to a display device, and more particularly, to a display device capable of preventing damage by a foreign material or damage by a deposition mask in a non-display part.

정보화 사회가 발전함에 따라 화상을 표시하기 위한 표시장치에 대한 요구가 다양한 형태로 증가하고 있다. 표시장치 분야는 부피가 큰 음극선관(Cathode Ray Tube: CRT)을 대체하는, 얇고 가벼우며 대면적이 가능한 평판 표시장치(Flat Panel Display Device: FPD)로 급속히 변화해 왔다. 평판 표시장치에는 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device: LCD), 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel: PDP), 유기발광표시장치(Organic Light Emitting Display Device: OLED), 그리고 전기영동표시장치(Electrophoretic Display Device: ED) 등이 있다.As the information society develops, the demand for a display device for displaying an image is increasing in various forms. The display device field has rapidly changed to a thin, light, and large-area Flat Panel Display Device (FPD) that replaces a bulky cathode ray tube (CRT). Flat panel displays include Liquid Crystal Display Device (LCD), Plasma Display Panel (PDP), Organic Light Emitting Display Device (OLED), and Electrophoretic Display Device. : ED), etc.

이 중 유기발광표시장치는 스스로 발광하는 자발광 소자로서 응답속도가 빠르고 발광효율, 휘도 및 시야각이 큰 장점이 있다. 특히, 유기발광표시장치는 유연한(flexible) 플렉서블 기판 위에도 형성할 수 있을 뿐 아니라, 플라즈마 디스플레이 패널(Plasma Display Panel)이나 무기 전계발광(EL) 디스플레이에 비해 낮은 전압에서 구동 가능하고 전력 소모가 비교적 적으며, 색감이 뛰어나다는 장점이 있다.Among them, the organic light emitting display device is a self-luminous device that emits light by itself, and has advantages of fast response speed, luminous efficiency, luminance, and viewing angle. In particular, the organic light emitting display device can be formed on a flexible substrate, and can be driven at a lower voltage and consume less power than a plasma display panel or an inorganic electroluminescence (EL) display. And it has the advantage of excellent color.

그러나 유기발광표시장치는 제조 공정 중에 이물 또는 증착 마스크 등에 의해 표시장치가 손상되는 문제가 있다. However, there is a problem in that the organic light emitting display device is damaged by a foreign material or a deposition mask during a manufacturing process.

따라서, 본 발명은 비표시부에서 이물에 의한 손상 또는 증착 마스크에 의한 손상을 방지할 수 있는 표시장치를 제공한다.Accordingly, the present invention provides a display device capable of preventing damage due to a foreign material or damage due to a deposition mask in a non-display unit.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부, 상기 비표시부에 위치하며, 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부 및 상기 표시부에 전원을 인가하는 전원라인부, 및 상기 기판과 대향하는 보호부재;를 포함하며, 상기 그라운드부는 상기 보호부재와 서로 중첩된다.In order to achieve the above object, in a display device according to an embodiment of the present invention, a display unit and a non-display unit located on a substrate, and a ground unit located on the non-display unit, to which a ground voltage is applied, and power are applied to the display unit and a power line unit that is, and a protection member facing the substrate, wherein the ground unit overlaps with the protection member.

상기 그라운드부는 상기 기판 외곽에 인접하고, 상기 전원라인부는 상기 표시부에 인접한다.The ground part is adjacent to the outer edge of the substrate, and the power line part is adjacent to the display part.

상기 전원라인부는 외부로부터 전원이 인가되는 전원라인바 및 상기 전원라인바로부터 전원을 상기 표시부에 인가하는 전원라인을 포함하며, 상기 전원라인바와 상기 전원라인 사이를 연결하는 복수의 전원분기라인들을 포함한다.The power line unit includes a power line bar to which power is applied from the outside, and a power line for applying power from the power line bar to the display unit, and includes a plurality of power branch lines connecting the power line bar and the power line. do.

상기 복수의 전원분기라인들 사이에 위치하는 쉴드층 패턴을 포함한다.and a shield layer pattern positioned between the plurality of power branch lines.

상기 그라운드부와 상기 전원라인부 사이에 상기 표시부에 기준전압을 인가하는 기준전압라인부를 더 포함한다.A reference voltage line unit for applying a reference voltage to the display unit is further included between the ground unit and the power line unit.

상기 그라운드부는 그라운드 라인 및 상기 그라운드 라인과 연결된 그라운드 보조라인을 포함한다.The ground unit includes a ground line and a ground auxiliary line connected to the ground line.

상기 그라운드 보조라인은 복수의 패턴으로 이루어진다.The ground auxiliary line has a plurality of patterns.

상기 그라운드 보조라인 상에 상기 그라운드 보조라인과 중첩되는 보조패턴을 더 포함한다.An auxiliary pattern overlapping the ground auxiliary line is further included on the ground auxiliary line.

상기 그라운드부는 그라운드 라인 및 상기 그라운드 라인으로부터 분기된 그라운드 분기라인을 포함한다.The ground unit includes a ground line and a ground branch line branched from the ground line.

상기 비표시부는 전원이나 데이터 구동신호를 인가하기 위한 칩온필름, 상기 칩온필름으로부터 상기 표시부에 전원이나 데이터 구동신호를 전달하는 LOG 라인들 및 그라운드 신호가 인가되는 LOG 그라운드 라인을 포함한다.The non-display unit includes a chip-on film for applying a power or data driving signal, LOG lines for transferring a power or data driving signal from the chip-on-film to the display unit, and a LOG ground line to which a ground signal is applied.

상기 비표시부는 상기 표시부와 상기 그라운드부 사이에 배치된 GIP 구동부를 더 포함한다.The non-display unit further includes a GIP driver disposed between the display unit and the ground unit.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부, 상기 비표시부에 위치하며, 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부 및 상기 표시부에 전원을 인가하는 전원라인을 포함하는 전원라인부, 및 상기 기판과 대향하는 보호부재를 포함하며, 상기 그라운드부는 상기 보호부재와 서로 중첩되고, 상기 전원라인부는 상기 전원라인바 상에 연결된 컨택패드를 포함하며, 상기 전원라인부는 외부로부터 전원이 인가되는 전원라인바 및 상기 전원라인바로부터 전원을 상기 표시부에 인가하는 전원라인을 포함하며, 상기 전원라인바와 상기 전원라인 사이를 연결하는 복수의 전원분기라인들을 포함하고, 상기 복수의 전원분기라인들 사이에 위치하는 쉴드층 패턴을 포함한다.In addition, a display device according to an embodiment of the present invention includes a display unit and a non-display unit located on a substrate, a ground unit located in the non-display unit, to which a ground voltage is applied, and a power line for applying power to the display unit. a power line unit and a protection member facing the substrate; the ground unit overlapping the protection member; the power line unit including a contact pad connected to the power line bar; a power line bar to which power is applied and a power line for applying power from the power line bar to the display unit, and a plurality of power branch lines connecting the power line bar and the power line, the plurality of power sources and a shield layer pattern positioned between the branch lines.

상기 표시부는 복수의 서브픽셀을 포함하며, 상기 복수의 서브픽셀 중 어느 하나는, 상기 기판 상에 위치하는 쉴드층, 상기 쉴드층 상에 위치하는 버퍼층, 상기 버퍼층 상에 위치하며, 반도체층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터, 상기 박막트랜지스터 상에 위치하는 오버코트층, 상기 오버코트층 상에 위치하며, 제1 전극, 유기막층 및 제2 전극을 포함하는 유기발광 다이오드, 및 상기 제1 전극과 상기 유기막층 사이에 위치하여 화소를 정의하는 뱅크층을 포함한다.The display unit includes a plurality of sub-pixels, and any one of the plurality of sub-pixels includes a shield layer disposed on the substrate, a buffer layer disposed on the shield layer, and a buffer layer disposed on the buffer layer, and includes a semiconductor layer, a gate A thin film transistor including an electrode, a source electrode and a drain electrode, an overcoat layer positioned on the thin film transistor, an organic light emitting diode positioned on the overcoat layer, the organic light emitting diode including a first electrode, an organic film layer, and a second electrode, and the and a bank layer positioned between the first electrode and the organic layer to define a pixel.

상기 뱅크층과 상기 오버코트층의 끝단은 상기 컨택패드와 상기 전원라인 사이에 위치한다.Ends of the bank layer and the overcoat layer are positioned between the contact pad and the power line.

상기 유기막층과 상기 제2 전극이 상기 컨택패드와 중첩되지 않는다.The organic layer and the second electrode do not overlap the contact pad.

상기 쉴드층 패턴 상에 위치하며 상기 쉴드층 패턴과 중첩되는 보조패턴을 더 포함한다.It further includes an auxiliary pattern positioned on the shield layer pattern and overlapping the shield layer pattern.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시장치는 기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부, 상기 비표시부에 위치하며, 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부, 상기 표시부에 전원을 인가하는 전원라인부, 및 상기 그라운드부와 상기 전원라인부 사이에 위치하는 플로팅부, 및 상기 기판과 대향하는 보호부재를 포함한다.In addition, a display device according to an embodiment of the present invention includes a display unit and a non-display unit located on a substrate, a ground unit located in the non-display unit, to which a ground voltage is applied, a power line unit applying power to the display unit, and and a floating part positioned between the ground part and the power line part, and a protection member facing the substrate.

상기 플로팅부는 플로팅된 플로팅 라인을 포함한다.The floating part includes a floating floating line.

상기 플로팅 라인은 일체로 이루어지거나 복수의 패턴으로 이루어진다.The floating line is integrally formed or formed in a plurality of patterns.

상기 플로팅 라인 상에 위치하며 상기 플로팅 라인과 중첩되는 보조패턴을 더 포함한다.It is positioned on the floating line and further includes an auxiliary pattern overlapping the floating line.

본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 기준전압라인부를 축소하고 그라운드부를 형성함으로써, 기판 외곽에 이물이 발생하여도 보호부재와 그라운드 라인 사이에 전류가 흐르지 않기 때문에, 편광판이 손상되는 것을 방지할 수 있다.The organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention reduces the reference voltage line portion and forms the ground portion, thereby preventing the polarizing plate from being damaged because current does not flow between the protective member and the ground line even if a foreign object is generated on the outside of the substrate. can be prevented

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 기준전압라인부을 생략하고 전원라인바로부터 분기된 전원분기라인을 추가하여 전원을 보강할 수 있다. 더욱이, 전원분기라인들 사이에 쉴드층 패턴들을 형성하여 전원분기라인들이 사용자에게 비치는 것을 방지할 수 있다. In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, power can be reinforced by omitting the reference voltage line and adding a power branch line branched from the power line bar. Furthermore, it is possible to prevent the power branch lines from being reflected to the user by forming shield layer patterns between the power branch lines.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 그라운드 보조라인을 형성하되 그라운드 보조라인을 쉴드층과 동일한 층에 형성함으로써 그라운드 보조라인 위로 제2 버퍼층, 게이트 절연막, 층간 절연막 및 제1 패시베이션막이 형성될 수 있다. 따라서, 공정 중 증착 마스크에 의한 찍힘에 의해 그라운드 보조라인을 보호할 수 있다. 또한, 그라운드 보조라인 상에 보조패턴을 형성함으로써, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 그라운드 보조라인을 보호할 수 있다.In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, a ground auxiliary line is formed between the ground line and the power line unit, and the ground auxiliary line is formed on the same layer as the shield layer, so that the second buffer layer and the gate are formed over the ground auxiliary line. An insulating film, an interlayer insulating film, and a first passivation film may be formed. Therefore, it is possible to protect the ground auxiliary line from being dented by the deposition mask during the process. In addition, by forming the auxiliary pattern on the ground auxiliary line, it is possible to protect the ground auxiliary line from dents that may occur during the process.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 오버코트층과 뱅크층을 기판 외곽으로 연장함으로써, 증착 마스크에 의해 찍히더라도 뱅크층 상부만 손상되기 때문에 제2 전극과 전원라인부 사이에 쇼트가 발생할 수 있는 가능성을 낮출 수 있다.In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, since the overcoat layer and the bank layer are extended to the outside of the substrate, only the upper part of the bank layer is damaged even if it is photographed by the deposition mask. can reduce the likelihood that

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 쉴드층 패턴 상에 보조패턴을 형성함으로써, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 쉴드층 패턴을 더 보호할 수 있다.In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, by forming the auxiliary pattern on the shield layer pattern, it is possible to further protect the shield layer pattern from dents that may occur during the process.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 플로팅 라인이 형성된 플로팅부를 형성함으로써, 제2 전극과 플로팅부 사이에서 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 이점이 있다.In addition, the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention has the advantage of preventing a short circuit due to foreign matter between the second electrode and the floating part by forming a floating part having a floating line between the ground line and the power line part. There is this.

또한, 플로팅 라인을 복수의 패턴으로 형성함으로써, 각 패턴이 가질 수 있는 정전기 대전량을 최소화시켜 정전기에 의한 불량을 방지할 수 있다.In addition, by forming the floating line in a plurality of patterns, it is possible to minimize the amount of static electricity that each pattern may have, thereby preventing defects due to static electricity.

또한, 플로팅 라인을 기판에 인접하도록 쉴드층과 동일층에 형성함으로써, 플로팅 라인 상부에 존재하는 복수의 절연층들로 인해 찍힘으로부터 보호받을 수 있는 이점이 있다.In addition, by forming the floating line on the same layer as the shield layer so as to be adjacent to the substrate, there is an advantage in that it can be protected from dents due to a plurality of insulating layers present on the floating line.

또한, 플로팅 라인 상에 보조패턴을 형성함으로써, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 플로팅 라인을 더 보호할 수 있다.In addition, by forming the auxiliary pattern on the floating line, it is possible to further protect the floating line from dents that may occur during the process.

도 1은 유기발광표시장치의 개략적인 블록도.
도 2는 서브 픽셀의 회로 구성을 나타낸 제1 예시도.
도 3은 서브 픽셀의 회로 구성을 나타낸 제2 예시도.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치를 나타낸 평면도.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치의 서브픽셀 부분을 나타낸 단면도.
도 6은 유기발광표시장치의 비표시부 일부를 도시한 평면도.
도 7은 도 6의 절취선 A-B에 따라 절취한 단면도.
도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 일부를 나타낸 평면도.
도 9는 도 8의 절취선 C-D에 따라 절취한 단면도.
도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 일부를 나타낸 평면도.
도 11은 도 10의 절취선 E-F에 따라 절취한 단면도.
도 12는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부 일부를 나타낸 평면도.
도 13은 도 12의 절취선 G-H에 따라 절취한 단면도.
도 14는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 다른 예를 나타낸 평면도.
도 15는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도.
도 16은 도 15의 절취선 I-J에 따라 절취한 단면도.
도 17 및 도 18은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 각각 다른 예들을 나타낸 평면도.
도 19는 도 17의 절취선 K-L에 따라 절취한 단면도.
도 20은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 패드부를 나타낸 평면도.
도 21은 도 20의 절취선 M-N에 따라 절취한 단면도.
도 22는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 GIP 구동부를 나타낸 평면도.
도 23은 도 22의 절취선 O-P에 따라 절취한 단면도.
도 24는 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부를 나타낸 평면도.
도 25는 도 24의 절취선 Q-R에 따라 절취한 단면도.
도 26은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 다른 예를 나타낸 평면도.
도 27은 도 26의 절취선 S-T에 따라 절취한 단면도.
도 28은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도.
도 29는 도 28의 절취선 U-V에 따라 절취한 단면도.
도 30은 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부를 나타낸 평면도.
도 31은 도 30의 절취선 W-X에 따라 절취한 단면도.
도 32는 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 다른 예를 나타낸 평면도.
도 33은 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도.
도 34는 도 33의 절취선 Y-Z에 따라 절취한 단면도.
도 35는 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도.
도 36은 도 35의 절취선 A'-B'에 따라 절취한 단면도.
도 37은 유기발광표시장치의 뱅크층이 손상된 이미지들.
1 is a schematic block diagram of an organic light emitting diode display;
2 is a first exemplary diagram illustrating a circuit configuration of a sub-pixel;
3 is a second exemplary diagram illustrating a circuit configuration of a sub-pixel;
4 is a plan view illustrating an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention.
5 is a cross-sectional view illustrating a sub-pixel portion of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment.
6 is a plan view illustrating a portion of a non-display portion of an organic light emitting diode display;
7 is a cross-sectional view taken along line AB of FIG. 6 .
8 is a plan view illustrating a part of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a first exemplary embodiment of the present invention.
Fig. 9 is a cross-sectional view taken along the line CD of Fig. 8;
10 is a plan view illustrating a part of a non-display portion of an organic light emitting diode display according to a first exemplary embodiment of the present invention;
11 is a cross-sectional view taken along the cut line EF of FIG. 10 .
12 is a plan view illustrating a portion of a non-display portion of an organic light emitting diode display according to a first exemplary embodiment of the present invention.
13 is a cross-sectional view taken along line GH of FIG. 12 .
14 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of the organic light emitting diode display according to the first exemplary embodiment of the present invention.
15 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of the organic light emitting diode display according to the first exemplary embodiment of the present invention.
16 is a cross-sectional view taken along line IJ of FIG. 15 .
17 and 18 are plan views illustrating different examples of a non-display unit of the organic light emitting diode display according to the first embodiment of the present invention.
19 is a cross-sectional view taken along the cut line KL of FIG.
20 is a plan view illustrating a pad part of the organic light emitting diode display according to the first embodiment of the present invention;
21 is a cross-sectional view taken along line MN of FIG. 20;
22 is a plan view illustrating a GIP driver of the organic light emitting display device according to the first embodiment of the present invention;
23 is a cross-sectional view taken along line OP of FIG. 22 .
24 is a plan view illustrating a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a second exemplary embodiment of the present invention.
25 is a cross-sectional view taken along the cut-out line QR of FIG.
26 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a second exemplary embodiment of the present invention;
Fig. 27 is a cross-sectional view taken along the cut line ST of Fig. 26;
28 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a second exemplary embodiment of the present invention;
29 is a cross-sectional view taken along the cut line UV of FIG.
30 is a plan view illustrating a non-display unit of an organic light emitting display device according to a third exemplary embodiment of the present invention;
Fig. 31 is a cross-sectional view taken along the line WX of Fig. 30;
32 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a third exemplary embodiment of the present invention.
33 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a third exemplary embodiment of the present invention;
Fig. 34 is a cross-sectional view taken along the line YZ of Fig. 33;
35 is a plan view illustrating another example of a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a third exemplary embodiment of the present invention;
Fig. 36 is a cross-sectional view taken along line A'-B' of Fig. 35;
37 is an image showing a damaged bank layer of an organic light emitting diode display.

이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시 예들을 설명한다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조 번호들은 실질적으로 동일한 구성 요소들을 의미한다. 이하의 설명에서, 본 발명과 관련된 공지 기술 혹은 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우, 그 상세한 설명을 생략한다. 또한, 이하의 설명에서 사용되는 구성요소 명칭은 명세서 작성의 용이함을 고려하여 선택된 것일 수 있는 것으로서, 실제 제품의 부품 명칭과는 상이할 수 있다.Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Like reference numerals refer to substantially identical elements throughout. In the following description, if it is determined that a detailed description of a known technology or configuration related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, the detailed description thereof will be omitted. In addition, the component names used in the following description may be selected in consideration of ease of writing the specification, and may be different from the component names of the actual product.

본 발명에 따른 표시장치는 유리 기판 또는 플렉서블 기판 상에 표시소자가 형성된 표시장치이다. 표시장치의 예로, 유기발광표시장치, 액정표시장치, 전기영동표시장치 등이 사용 가능하나, 본 발명에서는 유기발광표시장치를 예로 설명한다. 유기발광표시장치는 애노드인 제1 전극과 캐소드인 제2 전극 사이에 유기물로 이루어진 유기막층을 포함한다. 따라서, 제1 전극으로부터 공급받는 정공과 제2 전극으로부터 공급받는 전자가 유기막층 내에서 결합하여 정공-전자쌍인 여기자(exciton)를 형성하고, 여기자가 바닥상태로 돌아오면서 발생하는 에너지에 의해 발광하는 자발광 표시장치이다. A display device according to the present invention is a display device in which a display element is formed on a glass substrate or a flexible substrate. As an example of the display device, an organic light emitting display device, a liquid crystal display device, an electrophoretic display device, etc. can be used, but in the present invention, an organic light emitting display device will be described as an example. The organic light emitting display device includes an organic layer made of an organic material between a first electrode that is an anode and a second electrode that is a cathode. Therefore, the holes supplied from the first electrode and the electrons supplied from the second electrode combine in the organic layer to form an exciton, a hole-electron pair, and emit light by the energy generated when the exciton returns to the ground state. It is a self-luminous display device.

이하, 첨부한 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예들을 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 유기발광표시장치의 개략적인 블록도이고, 도 2는 서브 픽셀의 회로 구성을 나타낸 제1 예시도이고, 도 3은 서브 픽셀의 회로 구성을 나타낸 제2 예시도이다. 1 is a schematic block diagram of an organic light emitting diode display, FIG. 2 is a first exemplary diagram illustrating a circuit configuration of a sub-pixel, and FIG. 3 is a second exemplary diagram illustrating a circuit configuration of a sub-pixel.

도 1을 참조하면, 유기발광표시장치는 영상 처리부(10), 타이밍 제어부(20), 데이터 구동부(30), 게이트 구동부(40) 및 표시패널(50)을 포함한다. Referring to FIG. 1 , the organic light emitting diode display includes an image processor 10 , a timing controller 20 , a data driver 30 , a gate driver 40 , and a display panel 50 .

영상 처리부(10)는 외부로부터 공급된 데이터신호(DATA)와 더불어 데이터 인에이블 신호(DE) 등을 출력한다. 영상 처리부(10)는 데이터 인에이블 신호(DE) 외에도 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭신호 중 하나 이상을 출력할 수 있으나 이 신호들은 설명의 편의상 생략 도시한다. 영상 처리부(10)는 시스템 회로기판에 IC(Integrated Circuit) 형태로 형성된다.The image processing unit 10 outputs a data enable signal DE along with the data signal DATA supplied from the outside. The image processing unit 10 may output one or more of a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, and a clock signal in addition to the data enable signal DE, but these signals are omitted for convenience of description. The image processing unit 10 is formed in the form of an IC (Integrated Circuit) on the system circuit board.

타이밍 제어부(20)는 영상 처리부(10)로부터 데이터 인에이블 신호(DE) 또는 수직 동기신호, 수평 동기신호 및 클럭신호 등을 포함하는 구동신호와 더불어 데이터신호(DATA)를 공급받는다.The timing controller 20 receives the data signal DATA from the image processing unit 10 as well as a driving signal including a data enable signal DE or a vertical synchronization signal, a horizontal synchronization signal, and a clock signal.

타이밍 제어부(20)는 구동신호에 기초하여 게이트 구동부(40)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 게이트 타이밍 제어신호(GDC)와 데이터 구동부(30)의 동작 타이밍을 제어하기 위한 데이터 타이밍 제어신호(DDC)를 출력한다. 타이밍 제어부(20)는 제어 회로기판에 IC 형태로 형성된다.The timing controller 20 includes a gate timing control signal GDC for controlling an operation timing of the gate driver 40 and a data timing control signal DDC for controlling an operation timing of the data driver 30 based on the driving signal. to output The timing controller 20 is formed in the form of an IC on the control circuit board.

데이터 구동부(30)는 타이밍 제어부(20)로부터 공급된 데이터 타이밍 제어신호(DDC)에 응답하여 타이밍 제어부(20)로부터 공급되는 데이터신호(DATA)를 샘플링하고 래치하여 감마 기준전압으로 변환하여 출력한다. 데이터 구동부(30)는 데이터라인들(DL1 ~ DLn)을 통해 데이터신호(DATA)를 출력한다. 데이터 구동부(30)는 기판 상에 IC 형태로 부착된다.The data driver 30 samples and latches the data signal DATA supplied from the timing controller 20 in response to the data timing control signal DDC supplied from the timing controller 20 , converts it into a gamma reference voltage, and outputs it . The data driver 30 outputs the data signal DATA through the data lines DL1 to DLn. The data driver 30 is attached to the substrate in the form of an IC.

게이트 구동부(40)는 타이밍 제어부(20)로부터 공급된 게이트 타이밍 제어신호(GDC)에 응답하여 게이트전압의 레벨을 시프트시키면서 게이트신호를 출력한다. 게이트 구동부(40)는 게이트라인들(GL1 ~ GLm)을 통해 게이트신호를 출력한다. 게이트 구동부(40)는 게이트 회로기판에 IC 형태로 형성되거나 표시패널(50)에 게이트인패널(Gate In Panel, GIP) 방식으로 형성된다.The gate driver 40 outputs a gate signal while shifting the level of the gate voltage in response to the gate timing control signal GDC supplied from the timing controller 20 . The gate driver 40 outputs a gate signal through the gate lines GL1 to GLm. The gate driver 40 is formed in the form of an IC on the gate circuit board or in the form of a gate in panel (GIP) on the display panel 50 .

표시패널(50)은 데이터 구동부(30) 및 게이트 구동부(40)로부터 공급된 데이터신호(DATA) 및 게이트신호에 대응하여 영상을 표시한다. 표시패널(50)은 영상을 표시하는 서브 픽셀들(SP)을 포함한다.The display panel 50 displays an image in response to the data signal DATA and the gate signal supplied from the data driver 30 and the gate driver 40 . The display panel 50 includes sub-pixels SP displaying an image.

도 2를 참조하면, 하나의 서브 픽셀은 스위칭 트랜지스터(SW), 구동 트랜지스터(DR), 보상회로(CC) 및 유기발광 다이오드(OLED)를 포함한다. 유기발광 다이오드(OLED)는 구동 트랜지스터(DR)에 의해 형성된 구동 전류에 따라 빛을 발광하도록 동작한다.Referring to FIG. 2 , one sub-pixel includes a switching transistor SW, a driving transistor DR, a compensation circuit CC, and an organic light emitting diode (OLED). The organic light emitting diode OLED operates to emit light according to a driving current formed by the driving transistor DR.

스위칭 트랜지스터(SW)는 게이트 라인(GL1)을 통해 공급된 게이트 신호에 응답하여 제1 데이터 라인(DL1)을 통해 공급되는 데이터 신호가 커패시터(Cst)에 데이터 전압으로 저장되도록 스위칭 동작한다. 구동 트랜지스터(DR)는 커패시터(Cst)에 저장된 데이터 전압에 따라 전원라인(VDD)과 그라운드부(GND) 사이로 구동 전류가 흐르도록 동작한다. 보상회로(CC)는 구동 트랜지스터(DR)의 문턱전압 등을 보상하기 위한 회로이다. 또한, 스위칭 트랜지스터(SW)나 구동 트랜지스터(DR)에 연결된 커패시터는 보상회로(CC) 내부로 위치할 수 있다. 보상회로(CC)는 하나 이상의 박막 트랜지스터와 커패시터로 구성된다. 보상회로(CC)의 구성은 보상 방법에 따라 매우 다양한 바, 이에 대한 구체적인 예시 및 설명은 생략한다. The switching transistor SW performs a switching operation such that the data signal supplied through the first data line DL1 is stored as a data voltage in the capacitor Cst in response to the gate signal supplied through the gate line GL1 . The driving transistor DR operates so that a driving current flows between the power line VDD and the ground part GND according to the data voltage stored in the capacitor Cst. The compensation circuit CC is a circuit for compensating the threshold voltage of the driving transistor DR. Also, a capacitor connected to the switching transistor SW or the driving transistor DR may be located inside the compensation circuit CC. The compensation circuit CC is composed of one or more thin film transistors and a capacitor. The configuration of the compensation circuit CC varies greatly depending on the compensation method, and detailed examples and descriptions thereof will be omitted.

또한, 도 3에 도시된 바와 같이, 보상회로(CC)가 포함된 경우 서브 픽셀에는 보상 박막 트랜지스터를 구동함과 더불어 특정 신호나 전원을 공급하기 위한 신호라인과 전원라인 등이 더 포함된다. 게이트 라인(GL1)은 스위칭 트랜지스터(SW)에 게이트 신호를 공급하는 제1-1 게이트 라인(GL1a)과, 서브 픽셀에 포함된 보상 박막 트랜지스터를 구동하기 위한 제1-2 게이트 라인(GL1b)을 포함할 수 있다. 그리고 추가된 전원라인은 서브 픽셀의 특정 노드를 특정 전압으로 초기화하기 위한 초기화 전원라인(INIT)으로 정의될 수 있다. 그러나 이는 하나의 예시일 뿐 이에 한정되지 않는다.In addition, as shown in FIG. 3 , when the compensation circuit CC is included, the sub-pixel further includes a signal line and a power supply line for driving the compensation thin film transistor and supplying a specific signal or power. The gate line GL1 connects the first-first gate line GL1a for supplying a gate signal to the switching transistor SW and the first-second gate line GL1b for driving the compensation thin film transistor included in the sub-pixel. may include In addition, the added power line may be defined as an initialization power line INIT for initializing a specific node of the sub-pixel to a specific voltage. However, this is only an example and is not limited thereto.

한편, 도 2 및 도 3에서는 하나의 서브 픽셀에 보상회로(CC)가 포함된 것을 일례로 하였다. 하지만, 보상의 주체가 데이터 구동부(30) 등과 같이 서브 픽셀의 외부에 위치하는 경우 보상회로(CC)는 생략될 수도 있다. 즉, 하나의 서브 픽셀은 기본적으로 스위칭 트랜지스터(SW), 구동 트랜지스터(DR), 커패시터 및 유기발광 다이오드(OLED)를 포함하는 2T(Transistor)1C(Capacitor) 구조로 구성되지만, 보상회로(CC)가 추가된 경우 3T1C, 4T2C, 5T2C, 6T2C, 7T2C 등으로 다양하게 구성될 수도 있다. 또한, 도 2 및 도 3에서는 보상회로(CC)가 스위칭 트랜지스터(SW)와 구동 트랜지스터(DR) 사이에 위치하는 것으로 도시하였지만, 구동 트랜지스터(DR)와 유기발광다이오드(OLED) 사이에도 더 위치할 수도 있다. 보상회로(CC)의 위치와 구조는 도 2와 도 3에 한정되지 않는다.Meanwhile, in FIGS. 2 and 3 , the compensation circuit CC is included in one sub-pixel as an example. However, when the subject of compensation is located outside the sub-pixel, such as the data driver 30 , the compensation circuit CC may be omitted. That is, one sub-pixel is basically composed of a 2T (Transistor) 1C (Capacitor) structure including a switching transistor (SW), a driving transistor (DR), a capacitor and an organic light emitting diode (OLED), but a compensation circuit (CC) When is added, it may be variously configured as 3T1C, 4T2C, 5T2C, 6T2C, 7T2C, and the like. In addition, although the compensation circuit CC is shown to be positioned between the switching transistor SW and the driving transistor DR in FIGS. 2 and 3 , it may be further positioned between the driving transistor DR and the organic light emitting diode (OLED). may be The position and structure of the compensation circuit CC are not limited to FIGS. 2 and 3 .

도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치를 나타낸 평면도이다. 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치의 서브픽셀 부분을 나타낸 단면도이다. 4 is a plan view illustrating an organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention. 5 is a cross-sectional view illustrating a sub-pixel portion of an organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment.

도 4를 참조하면, 유기발광표시장치는 기판(SUB) 상에 표시부(A/A) 및 비표시부(N/A)를 포함한다. 비표시부(N/A)는 기판(SUB)의 좌우측에 각각 배치된 GIP 구동부(GIP), 및 기판(SUB)의 하측에 배치된 패드부(PD)를 포함한다. 표시부(A/A)는 복수의 서브픽셀(SP)이 배치되어, R, G, B 또는 R, G, B, W를 발광하여 풀컬러를 구현한다. GIP 구동부(GIP)는 표시부(A/A)에 게이트 구동신호를 인가한다. 패드부(PD)는 표시부(A/A)의 일측 예를 들어 하측에 배치되고, 패드부(DP)에 칩온필름(COF)들이 부착된다. 표시부(A/A)로부터 연결된 복수의 신호선들(미도시)에 칩온필름(COF)을 통해 인가되는 데이터 신호 및 전원이 인가된다. Referring to FIG. 4 , the organic light emitting display device includes a display unit A/A and a non-display unit N/A on a substrate SUB. The non-display unit N/A includes a GIP driver GIP disposed on left and right sides of the substrate SUB, respectively, and a pad unit PD disposed under the substrate SUB. In the display unit A/A, a plurality of sub-pixels SP are disposed to emit light of R, G, B or R, G, B, and W to realize full color. The GIP driver GIP applies a gate driving signal to the display unit A/A. The pad part PD is disposed on one side, for example, a lower side of the display part A/A, and chip-on-films COFs are attached to the pad part DP. A data signal and power applied through the chip-on-film COF are applied to a plurality of signal lines (not shown) connected from the display unit A/A.

이하, 본 발명의 도 5을 참조하여, 유기발광표시장치의 서브픽셀(SP) 영역의 단면 구조를 살펴본다. Hereinafter, a cross-sectional structure of a sub-pixel (SP) region of an organic light emitting diode display will be described with reference to FIG. 5 of the present invention.

도 5를 참조하면, 본 발명의 일 일시예에 따른 유기발광표시장치는 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1)이 위치한다. 기판(SUB)은 플렉서블 기판 또는 유리 기판일 수 있으며 플렉서블 기판은 유연한 폴리이미드(Polyimide) 등의 수지 기판일 수 있다. 제1 버퍼층(BUF1)은 기판(SUB)에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 후속 공정에서 형성되는 박막트랜지스터를 보호하는 역할을 한다. 버퍼층(BUF)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다. Referring to FIG. 5 , in the organic light emitting diode display according to an exemplary embodiment of the present invention, a first buffer layer BUF1 is positioned on a substrate SUB. The substrate SUB may be a flexible substrate or a glass substrate, and the flexible substrate may be a resin substrate such as flexible polyimide. The first buffer layer BUF1 serves to protect a thin film transistor formed in a subsequent process from impurities such as alkali ions leaking from the substrate SUB. The buffer layer BUF may be a silicon oxide (SiOx), a silicon nitride (SiNx), or a multilayer thereof.

제1 버퍼층(BUF1) 상에 쉴드층(LS)이 위치한다. 쉴드층(LS)은 외부의 광이 입사되는 것을 차단하여 박막트랜지스터에서 광전류가 발생하는 것을 방지하는 역할을 한다. 쉴드층(LS) 상에 제2 버퍼층(BUF2)이 위치한다. 제2 버퍼층(BUF2)은 쉴드층(LS)에서 유출되는 알칼리 이온 등과 같은 불순물로부터 후속 공정에서 형성되는 박막트랜지스터를 보호하는 역할을 한다. 제2 버퍼층(BUF2)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다.A shield layer LS is positioned on the first buffer layer BUF1. The shield layer LS blocks external light from being incident and serves to prevent photocurrent from being generated in the thin film transistor. A second buffer layer BUF2 is positioned on the shield layer LS. The second buffer layer BUF2 serves to protect the thin film transistor formed in a subsequent process from impurities such as alkali ions leaking from the shield layer LS. The second buffer layer BUF2 may be formed of silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or a multilayer thereof.

제2 버퍼층(BUF2) 상에 반도체층(ACT)이 위치한다. 반도체층(ACT)은 실리콘 반도체나 산화물 반도체로 이루어질 수 있다. 실리콘 반도체는 비정질 실리콘 또는 결정화된 다결정 실리콘을 포함할 수 있다. 여기서, 다결정 실리콘은 이동도가 높아(100㎠/Vs 이상), 에너지 소비 전력이 낮고 신뢰성이 우수하여, 구동 소자용 게이트 드라이버 및/또는 멀티플렉서(MUX)에 적용하거나 화소 내 구동 TFT에 적용할 수 있다. 한편, 산화물 반도체는 오프-전류가 낮으므로, 온(On) 시간이 짧고 오프(Off) 시간을 길게 유지하는 스위칭 TFT에 적합하다. 또한, 오프 전류가 작으므로 화소의 전압 유지 기간이 길어서 저속 구동 및/또는 저 소비 전력을 요구하는 표시장치에 적합하다. 또한, 반도체층(ACT)은 p형 또는 n형의 불순물을 포함하는 드레인 영역 및 소스 영역을 포함하고 이들 사이에 채널을 포함한다. The semiconductor layer ACT is positioned on the second buffer layer BUF2 . The semiconductor layer ACT may be formed of a silicon semiconductor or an oxide semiconductor. The silicon semiconductor may include amorphous silicon or crystallized polycrystalline silicon. Here, polycrystalline silicon has high mobility (100cm2/Vs or more), low energy consumption, and excellent reliability. have. On the other hand, since the oxide semiconductor has a low off-current, it is suitable for a switching TFT that has a short on-time and a long off-time. In addition, since the off current is small, the voltage holding period of the pixel is long, which is suitable for a display device requiring low-speed driving and/or low power consumption. In addition, the semiconductor layer ACT includes a drain region and a source region including p-type or n-type impurities, and includes a channel therebetween.

반도체층(ACT) 상에 게이트 절연막(GI)이 위치한다. 게이트 절연막(GI)은 실리콘 산화물(SiOx), 실리콘 질화물(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다. 게이트 절연막(GI) 상에 상기 반도체층(ACT)의 일정 영역, 즉 불순물이 주입되었을 경우의 채널과 대응되는 위치에 게이트 전극(GA)이 위치한다. 게이트 전극(GA)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 형성된다. 또한, 게이트 전극(GA)은 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어진 다중층일 수 있다. 예를 들면, 게이트 전극(GA)은 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴 또는 몰리브덴/알루미늄의 2중층일 수 있다. A gate insulating layer GI is positioned on the semiconductor layer ACT. The gate insulating layer GI may be formed of silicon oxide (SiOx), silicon nitride (SiNx), or a multilayer thereof. The gate electrode GA is positioned on the gate insulating layer GI in a predetermined region of the semiconductor layer ACT, that is, in a position corresponding to the channel in which the impurity is implanted. The gate electrode GA is selected from the group consisting of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It is formed of any one or an alloy thereof. In addition, the gate electrode GA is a group consisting of molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu). It may be a multi-layer made of any one selected from or alloys thereof. For example, the gate electrode GA may be a double layer of molybdenum/aluminum-neodymium or molybdenum/aluminum.

게이트 전극(GA) 상에 게이트 전극(GA)을 절연시키는 층간 절연막(ILD)이 위치한다. 층간 절연막(ILD)은 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다. 층간 절연막(ILD) 및 게이트 절연막(GI)의 일부 영역에 반도체층(ACT)의 일부를 노출시키는 콘택홀들(CH)이 위치한다. An interlayer insulating layer ILD that insulates the gate electrode GA is disposed on the gate electrode GA. The interlayer insulating layer ILD may be a silicon oxide layer (SiOx), a silicon nitride layer (SiNx), or a multilayer thereof. Contact holes CH exposing a portion of the semiconductor layer ACT are positioned in partial regions of the interlayer insulating layer ILD and the gate insulating layer GI.

층간 절연막(ILD) 상에 드레인 전극(DE)과 소스 전극(SE)이 위치한다. 드레인 전극(DE)은 반도체층(ACT)의 드레인 영역을 노출하는 콘택홀(CH)을 통해 반도체층(ACT)에 연결되고, 소스 전극(SE)은 반도체층(ACT)의 소스 영역을 노출하는 콘택홀(CH)을 통해 반도체층(ACT)에 연결된다. 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)은 단일층 또는 다중층으로 이루어질 수 있으며, 상기 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 단일층일 경우에는 몰리브덴(Mo), 알루미늄(Al), 크롬(Cr), 금(Au), 티타늄(Ti), 니켈(Ni), 네오디뮴(Nd) 및 구리(Cu)로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 소스 전극(SE) 및 드레인 전극(DE)이 다중층일 경우에는 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴의 2중층, 티타늄/알루미늄/티타늄, 몰리브덴/알루미늄/몰리브덴 또는 몰리브덴/알루미늄-네오디뮴/몰리브덴의 3중층으로 이루어질 수 있다. 따라서, 반도체층(ACT), 게이트 전극(GA), 드레인 전극(DE) 및 소스 전극(SE)을 포함하는 박막트랜지스터(TFT)가 구성된다.A drain electrode DE and a source electrode SE are positioned on the interlayer insulating layer ILD. The drain electrode DE is connected to the semiconductor layer ACT through a contact hole CH exposing the drain region of the semiconductor layer ACT, and the source electrode SE exposes the source region of the semiconductor layer ACT. It is connected to the semiconductor layer ACT through the contact hole CH. The source electrode SE and the drain electrode DE may be formed of a single layer or a multilayer, and when the source electrode SE and the drain electrode DE are a single layer, molybdenum (Mo), aluminum (Al), chromium It may be made of any one selected from the group consisting of (Cr), gold (Au), titanium (Ti), nickel (Ni), neodymium (Nd), and copper (Cu), or an alloy thereof. In addition, when the source electrode SE and the drain electrode DE are multi-layered, a double layer of molybdenum/aluminum-neodymium, a triple layer of titanium/aluminum/titanium, molybdenum/aluminum/molybdenum or molybdenum/aluminum-neodymium/molybdenum can be made with Accordingly, the thin film transistor TFT including the semiconductor layer ACT, the gate electrode GA, the drain electrode DE, and the source electrode SE is configured.

박막트랜지스터(TFT)를 포함하는 기판(SUB) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다. 제1 패시베이션막(PAS1)은 하부의 소자를 보호하는 절연막으로, 실리콘 산화막(SiOx), 실리콘 질화막(SiNx) 또는 이들의 다중층일 수 있다. 제1 패시베이션막(PAS1) 상에 컬러필터(CF)가 위치한다. 컬러필터(CF)는 유기발광 다이오드(OLED)에서 발광하는 백색의 광을 적색, 녹색 또는 청색으로 변환하는 역할을 한다. 컬러필터(CF) 상에 오버코트층(OC)이 위치한다. 오버코트층(OC)은 하부 구조의 단차를 완화시키기 위한 평탄화막일 수 있으며, 폴리이미드(polyimide), 벤조사이클로부틴계 수지(benzocyclobutene series resin), 아크릴레이트(acrylate) 등의 유기물로 이루어진다. 오버코트층(OC)은 상기 유기물을 액상 형태로 코팅한 다음 경화시키는 SOG(spin on glass)와 같은 방법으로 형성될 수 있다. A first passivation layer PAS1 is positioned on the substrate SUB including the thin film transistor TFT. The first passivation layer PAS1 is an insulating layer that protects an underlying device, and may be a silicon oxide layer (SiOx), a silicon nitride layer (SiNx), or a multilayer thereof. The color filter CF is positioned on the first passivation layer PAS1 . The color filter CF serves to convert white light emitted from the organic light emitting diode OLED into red, green, or blue. An overcoat layer OC is positioned on the color filter CF. The overcoat layer OC may be a planarization layer for alleviating a step difference in a lower structure, and is made of an organic material such as polyimide, benzocyclobutene series resin, or acrylate. The overcoat layer OC may be formed by a method such as spin on glass (SOG) in which the organic material is coated in a liquid form and then cured.

오버코트층(OC)의 일부 영역에는 드레인 전극(DE)을 노출시키는 비어홀(VIA)이 위치한다. 오버코트층(OC) 상에 유기발광 다이오드(OLED)가 위치한다. 보다 자세하게는, 오버코트층(OC) 상에 제1 전극(ANO)이 위치한다. 제1 전극(ANO)은 화소 전극으로 작용하며, 비어홀(VIA)을 통해 박막트랜지스터(TFT)의 드레인 전극(DE)에 연결된다. 제1 전극(ANO)은 애노드로 ITO(Indium Tin Oxide), IZO(Indium Zinc Oxide) 또는 ZnO(Zinc Oxide) 등의 투명도전물질로 이루어질 수 있다. 제1 전극(ANO)이 반사 전극인 경우, 제1 전극(ANO)은 반사층을 더 포함한다. 반사층은 알루미늄(Al), 구리(Cu), 은(Ag), 니켈(Ni) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있으며, 바람직하게는 APC(은/팔라듐/구리 합금)으로 이루어질 수 있다. A via hole VIA exposing the drain electrode DE is positioned in a partial region of the overcoat layer OC. An organic light emitting diode (OLED) is positioned on the overcoat layer (OC). In more detail, the first electrode ANO is positioned on the overcoat layer OC. The first electrode ANO serves as a pixel electrode and is connected to the drain electrode DE of the thin film transistor TFT through the via hole VIA. The first electrode ANO is an anode and may be made of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide (ZnO). When the first electrode ANO is a reflective electrode, the first electrode ANO further includes a reflective layer. The reflective layer may be made of aluminum (Al), copper (Cu), silver (Ag), nickel (Ni), or an alloy thereof, preferably APC (silver/palladium/copper alloy).

제1 전극(ANO)을 포함하는 기판(SUB) 상에 화소를 구획하는 뱅크층(BNK)이 위치한다. 뱅크층(BNK)은 폴리이미드(polyimide), 벤조사이클로부틴계 수지(benzocyclobutene series resin), 아크릴레이트(acrylate) 등의 유기물로 이루어진다. 뱅크층(BNK)은 제1 전극(ANO)을 노출시키는 화소정의부(OP)가 위치한다. 플렉서블 기판(PI) 전면에는 제1 전극(ANO)에 컨택하는 유기막층(EML)이 위치한다. 유기막층(EML)은 전자와 정공이 결합하여 발광하는 층으로, 유기막층(EML)과 제1 전극(ANO) 사이에 정공주입층 또는 정공수송층을 포함할 수 있으며, 유기막층(EML) 상에 전자수송층 또는 전자주입층을 포함할 수 있다. A bank layer BNK partitioning pixels is positioned on the substrate SUB including the first electrode ANO. The bank layer BNK is made of an organic material such as polyimide, benzocyclobutene series resin, or acrylate. In the bank layer BNK, the pixel defining part OP exposing the first electrode ANO is positioned. An organic layer EML contacting the first electrode ANO is positioned on the front surface of the flexible substrate PI. The organic layer EML is a layer that emits light by combining electrons and holes, and may include a hole injection layer or a hole transport layer between the organic layer EML and the first electrode ANO, and on the organic layer EML It may include an electron transport layer or an electron injection layer.

유기막층(EML) 상에 제2 전극(CAT)이 위치한다. 제2 전극(CAT)은 표시부(A/A) 전면에 위치하고, 캐소드 전극으로 일함수가 낮은 마그네슘(Mg), 칼슘(Ca), 알루미늄(Al), 은(Ag) 또는 이들의 합금으로 이루어질 수 있다. 제2 전극(CAT)이 투과 전극인 경우 광이 투과될 수 있을 정도로 얇은 두께로 이루어지고, 반사 전극인 경우 광이 반사될 수 있을 정도로 두꺼운 두께로 이루어진다. 제2 전극(CAT) 상에 제2 패시베이션막(PAS2)이 위치한다.The second electrode CAT is positioned on the organic layer EML. The second electrode CAT is located on the front surface of the display unit A/A, and as a cathode electrode, it may be made of magnesium (Mg), calcium (Ca), aluminum (Al), silver (Ag), or an alloy thereof having a low work function. have. When the second electrode CAT is a transmissive electrode, it has a thickness that is thin enough to transmit light, and when it is a reflective electrode, it has a thickness that is thick enough to reflect light. A second passivation layer PAS2 is positioned on the second electrode CAT.

박막트랜지스터(TFT)와 유기발광 다이오드(OLED)가 형성된 기판(SUB)의 상부 면에는 접착층(ADL)을 통해 보호부재(FSM)가 부착된다. 보호부재(FSM)는 금속 박막일 수 있다. A protection member FSM is attached to the upper surface of the substrate SUB on which the thin film transistor TFT and the organic light emitting diode OLED are formed through the adhesive layer ADL. The protective member FSM may be a metal thin film.

이상과 같이 구성된 유기발광표시장치는 비표시부에는 금속으로 이루어진 보호부재와 기판에 형성된 기준전압라인이 서로 대향하여 배치된다. 이를 구체적으로 설명하기 위해 하기 도면들을 참조하기로 한다.In the organic light emitting diode display configured as described above, a protective member made of metal and a reference voltage line formed on a substrate are disposed to face each other in the non-display portion. In order to describe this in detail, reference will be made to the following drawings.

도 6은 유기발광표시장치의 비표시부 일부를 도시한 평면도이고, 도 7은 도 6의 절취선 A-B에 따라 절취한 단면도이다.6 is a plan view illustrating a portion of a non-display portion of an organic light emitting diode display device, and FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line A-B of FIG. 6 .

도 6을 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP) 및 기준전압라인부(EVSP)가 위치한다. 전원라인부(EVDP)는 표시부(A/A)로부터 연장된 전원라인(EVDL)이 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 기준전압라인부(EVSP)는 제2 전극(CAT)이 연장되어 제1 및 제2 컨택패드(CCP1, CCP2)를 통해 기준전압라인(EVSS)에 연결된다.Referring to FIG. 6 , in the non-display unit of the organic light emitting diode display, a display unit A/A, a power line unit EVDP, and a reference voltage line unit EVSP are positioned on a substrate SUB. In the power line unit EVDP, a power line EVDL extending from the display unit A/A is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP. The reference voltage line part EVSP is connected to the reference voltage line EVSS through the first and second contact pads CCP1 and CCP2 by extending the second electrode CAT.

보다 자세하게 도 7을 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 기준전압라인(EVSS), 전원라인바(EVDD)이 위치한다. 기준전압라인(EVSS)은 기준전압라인부(EVSP)에 위치하고 전원라인바(EVDD)는 전원라인부(EVDP)에 위치한다. 기준전압라인(EVSS)과 전원라인바(EVDD) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 제1 컨택패드(CCP1)와 전원라인(EVDL)이 위치한다. 제1 컨택패드(CCP1)는 기준전압라인부(EVSP)의 기준전압라인(EVSS)에 연결되고, 전원라인(EVDL)은 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 제1 컨택패드(CCP1) 및 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치하고, 제1 패시베이션막(PAS1) 상에 제2 컨택패드(CCP2)가 위치한다. 제2 컨택패드(CCP2)는 기준전압라인부(EVSP)의 제1 컨택패드(CCP1)에 연결된다. Referring to FIG. 7 in more detail, the first buffer layer BUF1, the second buffer layer BUF2, and the gate insulating layer GI are positioned on the substrate SUB, and the reference voltage line EVSS is formed on the gate insulating layer GI, The power line bar EVDD is located. The reference voltage line EVSS is positioned in the reference voltage line part EVSP, and the power line bar EVDD is positioned in the power line part EVDP. The interlayer insulating layer ILD is positioned on the reference voltage line EVSS and the power line bar EVDD, and the first contact pad CCP1 and the power supply line EVDL are positioned on the interlayer insulating layer ILD. The first contact pad CCP1 is connected to the reference voltage line EVSS of the reference voltage line unit EVSP, and the power line EVDL is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP. The first passivation layer PAS1 is positioned on the first contact pad CCP1 and the power line EVDL, and the second contact pad CCP2 is positioned on the first passivation layer PAS1. The second contact pad CCP2 is connected to the first contact pad CCP1 of the reference voltage line unit EVSP.

전원라인부(EVDP)와 표시부(A/A)에는 오버코트층(OC), 뱅크층(BNK), 유기막층(OLE), 제2 전극(CAT) 및 제2 패시베이션막(PAS2)이 위치한다. 기준전압라인부(EVSP)에는 표시부(A/A)의 제2 전극(CAT)이 연장되어 제2 컨택패드(CCP2)에 연결되어, 제2 전극(CAT)이 기준전압라인(EVSS)에 전기적으로 연결된다. 표시부(A/A)의 제2 패시베이션막(PAS2) 또한 기준전압라인부(EVSP)로 연장되어 제2 전극(CAT)을 덮는다. 제2 패시베이션막(PAS2)이 형성된 기판(SUB)은 접착제(FSA)를 통해 보호부재(FSM)와 합착되어 유기발광표시장치를 구성한다. An overcoat layer OC, a bank layer BNK, an organic layer OLE, a second electrode CAT, and a second passivation layer PAS2 are positioned in the power line unit EVDP and the display unit A/A. In the reference voltage line part EVSP, the second electrode CAT of the display part A/A extends and is connected to the second contact pad CCP2, so that the second electrode CAT is electrically connected to the reference voltage line EVSS. is connected to The second passivation layer PAS2 of the display unit A/A also extends to the reference voltage line unit EVSP to cover the second electrode CAT. The substrate SUB on which the second passivation layer PAS2 is formed is bonded to the protection member FSM through an adhesive FSA to constitute an organic light emitting display device.

전술한 유기발광표시장치는 공정 중에 도전성의 이물이 보호부재(FSM)와 기판(SUB) 사이에 발생할 수 있다. 이 경우, 기준전압라인(EVSS)에는 0V를 가지고 있어 이물에 의해 금속의 보호부재(FSM)와 쇼트(short)되어도 동일 전위로 인해 전류흐름이 발생하지 않는다. 그러나 픽셀 보상을 위한 구동시 기준전압라인(EVSS)에 일정 전위가 인가되면, 보호부재(FSM)와의 전위 차가 형성되어 전류 흐름이 발생한다. 이에 따라, 기준전압라인(EVSS)과 보호부재(FSM) 사이에 전류가 흐르는 동안 열이 발생하여 보호부재 표면에 부착된 편광판이 손상되는 문제점이 있다.In the above-described organic light emitting display device, a conductive foreign material may be generated between the protective member FSM and the substrate SUB during the process. In this case, the reference voltage line EVSS has 0V, so even if the reference voltage line EVSS is short-circuited with the metal protection member FSM by a foreign material, no current flow occurs due to the same potential. However, when a predetermined potential is applied to the reference voltage line EVSS during driving for pixel compensation, a potential difference with the protection member FSM is formed, thereby generating a current flow. Accordingly, there is a problem in that heat is generated while current flows between the reference voltage line EVSS and the protection member FSM, and the polarizing plate attached to the surface of the protection member is damaged.

따라서, 본원 발명은 전술한 이물의 의한 편광판의 손상을 방지하고자 다음과 같은 실시예들에 따른 유기발광표시장치를 개시한다. 하기에서는 전술한 도 6 및 7과 동일한 구성요소에 대해 동일한 도면부호를 붙여 설명을 간략히 한다.Accordingly, the present invention discloses an organic light emitting display device according to the following embodiments in order to prevent damage to the polarizing plate due to the aforementioned foreign matter. Hereinafter, the same reference numerals are attached to the same components as those of FIGS. 6 and 7 to simplify the description.

<제1 실시예><First embodiment>

도 8은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 일부를 나타낸 평면도이고, 도 9는 도 8의 절취선 C-D에 따라 절취한 단면도이다.8 is a plan view illustrating a portion of a non-display portion of the organic light emitting diode display according to the first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along line C-D of FIG. 8 .

도 8을 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP), 기준전압라인부(EVSP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 그라운드부(GND)는 기준전압라인부(EVSP)와 기판(SUB) 최외곽 사이에 배치되어 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. Referring to FIG. 8 , in the non-display unit of the organic light emitting diode display, a display unit A/A, a power line unit EVDP, a reference voltage line unit EVSP, and a ground unit GND are positioned on a substrate SUB. do. The ground part GND is disposed between the reference voltage line part EVSP and the outermost part of the substrate SUB, and the ground line GNL is positioned.

보다 자세하게 도 9를 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 기준전압라인(EVSS), 전원라인바(EVDD) 및 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 기준전압라인(EVSS)은 기준전압라인부(EVSP)에 위치하고 전원라인바(EVDD)는 전원라인부(EVDP)에 위치한다. 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치하여, 기준전압라인부(EVSP)와 기판(SUB) 최외곽 사이에 배치된다.In more detail, referring to FIG. 9 , a first buffer layer BUF1 , a second buffer layer BUF2 , and a gate insulating layer GI are positioned on a substrate SUB, and a reference voltage line EVSS is formed on the gate insulating layer GI, A power line bar EVDD and a ground line GNL are positioned. The reference voltage line EVSS is positioned in the reference voltage line part EVSP, and the power line bar EVDD is positioned in the power line part EVDP. The ground line GNL is positioned at the ground part GND and is disposed between the reference voltage line part EVSP and the outermost part of the substrate SUB.

기준전압라인(EVSS), 전원라인바(EVDD) 및 그라운드 라인(GNL) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 제1 컨택패드(CCP1)와 전원라인(EVDL)이 위치한다. 제1 컨택패드(CCP1)는 기준전압라인부(EVSP)의 기준전압라인(EVSS)에 연결되고, 전원라인(EVDL)은 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 제1 컨택패드(CCP1) 및 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치하고, 제1 패시베이션막(PAS1) 상에 제2 컨택패드(CCP2)가 위치한다. 제2 컨택패드(CCP2)는 기준전압라인부(EVSP)의 제1 컨택패드(CCP1)에 연결된다. The interlayer insulating layer ILD is positioned on the reference voltage line EVSS, the power line bar EVDD, and the ground line GNL, and the first contact pad CCP1 and the power line EVDL are positioned on the interlayer insulating layer ILD. do. The first contact pad CCP1 is connected to the reference voltage line EVSS of the reference voltage line unit EVSP, and the power line EVDL is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP. The first passivation layer PAS1 is positioned on the first contact pad CCP1 and the power line EVDL, and the second contact pad CCP2 is positioned on the first passivation layer PAS1. The second contact pad CCP2 is connected to the first contact pad CCP1 of the reference voltage line unit EVSP.

전원라인부(EVDP)와 표시부(A/A)에는 오버코트층(OC), 뱅크층(BNK), 유기막층(OLE), 제2 전극(CAT) 및 제2 패시베이션막(PAS2)이 위치한다. 기준전압라인부(EVSP)에는 표시부(A/A)의 제2 전극(CAT)이 연장되어 제2 컨택패드(CCP2)에 연결되어, 제2 전극(CAT)이 기준전압라인(EVSS)에 전기적으로 연결된다. 표시부(A/A)의 제2 패시베이션막(PAS2) 또한 기준전압라인부(EVSP)로 연장되어 제2 전극(CAT)을 덮는다. 제2 패시베이션막(PAS2)이 형성된 기판(SUB)은 접착제(FSA)를 통해 보호부재(FSM)와 합착되어 유기발광표시장치를 구성한다. An overcoat layer OC, a bank layer BNK, an organic layer OLE, a second electrode CAT, and a second passivation layer PAS2 are positioned in the power line unit EVDP and the display unit A/A. In the reference voltage line part EVSP, the second electrode CAT of the display part A/A extends and is connected to the second contact pad CCP2, so that the second electrode CAT is electrically connected to the reference voltage line EVSS. is connected to The second passivation layer PAS2 of the display unit A/A also extends to the reference voltage line unit EVSP to cover the second electrode CAT. The substrate SUB on which the second passivation layer PAS2 is formed is bonded to the protection member FSM through an adhesive FSA to constitute an organic light emitting display device.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 기준전압라인부를 축소하고 그라운드부를 형성함으로써, 기판 외곽에 이물이 발생하여도 이물이 그라운드 라인에 컨택하게 된다. 그라운드 라인(GNL)은 도시하지 않았지만 패드부로부터 그라운드 전압 즉 0V 전압이 인가된다. 따라서, 보호부재와 그라운드 라인 사이에 전류가 흐르지 않기 때문에, 편광판이 손상되는 것을 방지할 수 있다.In the organic light emitting display device configured as described above, the reference voltage line portion is reduced and the ground portion is formed, so that even if a foreign material is generated outside the substrate, the foreign material contacts the ground line. Although not illustrated, the ground line GNL is applied with a ground voltage, that is, a 0V voltage from the pad part. Accordingly, since no current flows between the protective member and the ground line, it is possible to prevent the polarizing plate from being damaged.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치는 다른 구조도 적용할 수 있다.On the other hand, the organic light emitting display device according to the first embodiment of the present invention can also be applied to other structures.

도 10은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 일부를 나타낸 평면도이고, 도 11은 도 10의 절취선 E-F에 따라 절취한 단면도이다.10 is a plan view illustrating a portion of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a first exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 11 is a cross-sectional view taken along line E-F of FIG. 10 .

도 10을 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 도 10에서는 기준전압라인부(EVSP)가 존재하지 않는 실시예를 개시하기 때문에, 전원라인부(EVDP)와 그라운드부(GND)만 개시한다. 여기서, 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)는 전원라인(EVDL)에 연결되는 복수의 전원분기라인(EVDBL)들을 포함한다. 복수의 전원분기라인(EVDBL)은 전원을 보강하기 위한 구조로 작용한다. 이때, 전원분기라인(EVDBL)들 사이의 공간에는 쉴드층 패턴(LSP)들을 삽입하여 전원분기라인(EVDBL)들이 사용자에게 비치는 것을 방지한다. Referring to FIG. 10 , in the non-display part of the organic light emitting diode display, a display part A/A, a power line part EVDP, and a ground part GND are positioned on a substrate SUB. Since the embodiment in which the reference voltage line part EVSP does not exist is disclosed in FIG. 10, only the power line part EVDP and the ground part GND are disclosed. Here, the power line bar EVDD of the power line unit EVDP includes a plurality of power branch lines EVDBL connected to the power line EVDL. The plurality of power branch lines EVDBL acts as a structure for reinforcing power. At this time, shield layer patterns LSP are inserted in the space between the power branch lines EVDBL to prevent the power branch lines EVDBL from being reflected to the user.

보다 자세하게 도 11을 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 전원라인바(EVDD), 전원분기라인(EVDBL) 및 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 전원라인바(EVDD) 및 전원분기라인(EVDBL)은 전원라인부(EVDP)에 위치한다. 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치하여, 전원라인부(EVDP)와 기판(SUB) 최외곽 사이에 배치된다.11, the first buffer layer BUF1, the second buffer layer BUF2, and the gate insulating layer GI are positioned on the substrate SUB, and the power line bar EVDD is formed on the gate insulating layer GI; A power branch line EVDBL and a ground line GNL are positioned. The power line bar EVDD and the power branch line EVDBL are positioned in the power line unit EVDP. The ground line GNL is positioned at the ground part GND and is disposed between the power line part EVDP and the outermost part of the substrate SUB.

전원라인바(EVDD), 전원분기라인(EVDBL) 및 그라운드 라인(GNL) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 제1 컨택패드(CCP1)와 전원라인(EVDL)이 위치한다. 제1 컨택패드(CCP1)는 전원라인바(EVDD)에 연결되어 저항을 낮추는 역할을 한다. 전원라인(EVDL)은 전원분기라인(EVDBL)을 통해 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 제1 컨택패드(CCP1) 및 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다.The interlayer insulating layer ILD is positioned on the power line bar EVDD, the power branch line EVDBL, and the ground line GNL, and the first contact pad CCP1 and the power line EVDL are positioned on the interlayer insulating layer ILD. do. The first contact pad CCP1 is connected to the power line bar EVDD and serves to lower the resistance. The power line EVDL is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP through the power branch line EVDBL. A first passivation layer PAS1 is positioned on the first contact pad CCP1 and the power line EVDL.

전원라인부(EVDP)와 표시부(A/A)에는 오버코트층(OC), 뱅크층(BNK), 유기막층(OLE), 제2 전극(CAT) 및 제2 패시베이션막(PAS2)이 위치한다. 표시부(A/A)의 제2 전극(CAT)은 기준전압라인부 없이 직접 패드부에 연결된다. 제2 패시베이션막(PAS2)이 형성된 기판(SUB)은 접착제(FSA)를 통해 보호부재(FSM)와 합착되어 유기발광표시장치를 구성한다. An overcoat layer OC, a bank layer BNK, an organic layer OLE, a second electrode CAT, and a second passivation layer PAS2 are positioned in the power line unit EVDP and the display unit A/A. The second electrode CAT of the display unit A/A is directly connected to the pad unit without the reference voltage line unit. The substrate SUB on which the second passivation layer PAS2 is formed is bonded to the protection member FSM through an adhesive FSA to constitute an organic light emitting display device.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 기준전압라인부을 생략하고 전원라인바로부터 분기된 전원분기라인을 추가하여 전원을 보강할 수 있다. 더욱이, 전원분기라인들 사이에 쉴드층 패턴들을 형성하여 전원분기라인들이 사용자에게 비치는 것을 방지할 수 있다. 또한, 기판 외곽부에 그라운드부를 형성함으로써, 기판 외곽에 이물이 발생하여도 보호부재와 그라운드 라인 사이에 전류가 흐르지 않기 때문에, 편광판이 손상되는 것을 방지할 수 있다.In the organic light emitting display device configured as described above, power may be reinforced by omitting the reference voltage line portion and adding a power branch line branched from the power line bar. Furthermore, it is possible to prevent the power branch lines from being reflected to the user by forming shield layer patterns between the power branch lines. In addition, by forming the ground portion in the outer portion of the substrate, even if a foreign material is generated in the outer portion of the substrate, current does not flow between the protective member and the ground line, thereby preventing the polarizing plate from being damaged.

전술한 유기발광표시장치들은 보호부재와 그라운드부 또는 보호부재와 기준전압라인부 사이에서 이물에 의한 문제를 해결하기 위한 것을 개시하였다. 반면, 제2 전극도 0V 또는 일정 전압이 인가되기 때문에 제2 전극과 그라운드부 사이에서도 이물에 의한 손상이 발생할 수 있다. 따라서, 하기에서는 제2 전극과 그라운드부 사이에서 발생할 수 있는 손상을 방지하기 위한 유기발광표시장치를 개시한다.The above-described organic light emitting display devices have been disclosed to solve a problem caused by foreign matter between the protective member and the ground portion or between the protective member and the reference voltage line portion. On the other hand, since 0V or a constant voltage is also applied to the second electrode, damage by foreign substances may occur even between the second electrode and the ground portion. Accordingly, an organic light emitting display device for preventing damage that may occur between the second electrode and the ground portion will be described below.

도 12는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부 일부를 나타낸 평면도이고, 도 13은 도 12의 절취선 G-H에 따라 절취한 단면도이며, 도 14는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 다른 예를 나타낸 평면도이다. 또한, 도 15는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도이고, 도 16은 도 15의 절취선 I-J에 따라 절취한 단면도이다. 12 is a plan view illustrating a portion of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a first embodiment of the present invention, FIG. 13 is a cross-sectional view taken along the cut line GH of FIG. 12 , and FIG. 14 is a first embodiment of the present invention It is a plan view showing another example of the non-display part of the organic light emitting diode display according to FIG. Also, FIG. 15 is a plan view illustrating another example of a non-display part of the organic light emitting diode display according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 16 is a cross-sectional view taken along the cut line I-J of FIG. 15 .

도 12를 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 그라운드부(GND)는 그라운드 라인(GNL) 및 그라운드 라인(GNL)에 연결된 그라운드 보조라인(GNLS)을 포함한다. 그라운드 보조라인(GNLS)은 전원라인부(EVDP)와 그라운드 라인(GNL) 사이에 배치되고, 연결패턴(CNP)을 통해 그라운드 라인(GNL)에 연결된다. 그라운드 보조라인(GNLS)은 전원라인부(EVDP)와 그라운드 라인(GNL) 사이의 공간을 메워 사용자에게 명암차이로 발생하는 외관 불량을 방지할 수 있다. Referring to FIG. 12 , in the non-display unit of the organic light emitting diode display, a display unit A/A, a power line unit EVDP, and a ground unit GND are positioned on a substrate SUB. The ground part GND includes a ground line GNL and a ground auxiliary line GNLS connected to the ground line GNL. The ground auxiliary line GNLS is disposed between the power line unit EVDP and the ground line GNL, and is connected to the ground line GNL through the connection pattern CNP. The ground auxiliary line GNLS fills the space between the power line part EVDP and the ground line GNL, thereby preventing an appearance defect caused by a difference in light and shade to the user.

보다 자세하게 도 13을 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1)이 위치하고, 제1 버퍼층(BUF1) 상에 그라운드 보조라인(GNLS)이 위치한다. 그라운드 보조라인(GNLS)은 쉴드층(미도시)과 동일한 재료로 동일한 층 상에 배치된다. 그라운드 보조라인(GNLS)은 그라운드부(GND)에 위치한다. 그라운드 보조라인(GNLS) 상에 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 전원라인바(EVDD) 및 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 전원라인바(EVDD)는 전원라인부(EVDP)에 위치한다. 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치하여, 전원라인부(EVDP)와 기판(SUB) 최외곽 사이에 배치된다.13 , the first buffer layer BUF1 is positioned on the substrate SUB, and the ground auxiliary line GNLS is positioned on the first buffer layer BUF1. The ground auxiliary line GNLS is made of the same material as the shield layer (not shown) and is disposed on the same layer. The ground auxiliary line GNLS is located in the ground part GND. The second buffer layer BUF2 and the gate insulating layer GI are positioned on the ground auxiliary line GNLS, and the power line bar EVDD and the ground line GNL are positioned on the gate insulating layer GI. The power line bar EVDD is located on the power line unit EVDP. The ground line GNL is positioned at the ground part GND and is disposed between the power line part EVDP and the outermost part of the substrate SUB.

전원라인바(EVDD) 및 그라운드 라인(GNL) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 연결패턴(CNP)과 전원라인(EVDL)이 위치한다. 연결패턴(CNP)은 그라운드 라인(GNL)과 그라운드 보조라인(GNLS)을 연결하는 역할을 한다. 전원라인(EVDL)은 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 연결패턴(CNP) 및 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다. 제1 패시베이션막(PAS1) 상부의 구성은 전술한 실시예와 동일하므로 설명을 생략한다.The interlayer insulating layer ILD is positioned on the power line bar EVDD and the ground line GNL, and the connection pattern CNP and the power line EVDL are positioned on the interlayer insulating layer ILD. The connection pattern CNP serves to connect the ground line GNL and the ground auxiliary line GNLS. The power line EVDL is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP. A first passivation layer PAS1 is positioned on the connection pattern CNP and the power line EVDL. Since the configuration of the upper portion of the first passivation layer PAS1 is the same as that of the above-described embodiment, a description thereof will be omitted.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 그라운드 보조라인을 형성함으로써, 사용자에게 명암으로 표시되는 외관 불량을 방지할 수 있다. 또한, 그라운드 보조라인을 쉴드층과 동일한 층에 형성함으로써 그라운드 보조라인 위로 제2 버퍼층, 게이트 절연막, 층간 절연막 및 제1 패시베이션막이 형성될 수 있다. 따라서, 공정 중 증착 마스크에 의한 찍힘에 의해 그라운드 보조라인을 보호할 수 있다. 이로써, 그라운드 보조라인과 제2 전극 사이에서 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 이점이 있다.The organic light emitting display device configured as described above forms a ground auxiliary line between the ground line and the power line unit, thereby preventing an appearance defect that is displayed in contrast to the user. In addition, by forming the auxiliary ground line on the same layer as the shield layer, the second buffer layer, the gate insulating layer, the interlayer insulating layer, and the first passivation layer may be formed over the ground auxiliary line. Therefore, it is possible to protect the ground auxiliary line from being dented by the deposition mask during the process. Accordingly, there is an advantage in that it is possible to prevent a short circuit due to a foreign material between the ground auxiliary line and the second electrode.

전술한 도 12의 그라운드 보조라인(GNLS)은 일체로 이루어진 것을 개시하였다. 그러나 도 14를 참조하면, 그라운드 보조라인(GNLS)은 서로 이격된 복수의 패턴 형상으로 이루어질 수도 있다. 그라운드 보조라인(GNLS)이 복수의 패턴으로 이루어지면, 공정 중 증착 마스크에 의해 찍히더라도 복수의 패턴들의 이격된 공간이 존재하므로 찍힘이 복수의 패턴들에 발생할 확률을 낮출 수 있다. 다만, 사용자에게 패턴들이 비치지 않도록 복수의 패턴들의 이격 간격을 적절히 조절할 수 있다.It is disclosed that the above-described ground auxiliary line GNLS of FIG. 12 is integrally formed. However, referring to FIG. 14 , the ground auxiliary line GNLS may have a plurality of pattern shapes spaced apart from each other. When the ground auxiliary line GNLS is formed of a plurality of patterns, spaced spaces between the plurality of patterns exist even if they are printed by a deposition mask during a process, and thus the probability that the plurality of patterns will be imprinted may be reduced. However, the spacing between the plurality of patterns may be appropriately adjusted so that the patterns are not reflected to the user.

또한, 도 15 및 도 16을 참조하면, 그라운드 보조라인(GNLS) 상에 보조패턴(FSL)을 더 구비할 수도 있다. 보조패턴(FSL)은 그라운드 보조라인(GNLS)의 복수의 패턴들에 각각 1대 1로 대응하여 위치되도록, 복수의 패턴들로 이루어진다. 보조패턴(FSL)은 그라운드 보조라인(GNLS)보다 작은 크기로 이루어지되 그라운드 보조라인(GNLS)에 완전히 중첩되도록 위치한다. 보조패턴(FSL)은 소스/드레인 전극 물질로 형성되며, 인접한 연결패턴(CNP)과 동일한 재료로 동일한 층 상에 위치한다. 보조패턴(FSL)은 그라운드 보조라인(GNLS)의 보호층으로 작용하여, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 그라운드 보조라인(GNLS)을 보호할 수 있다. Also, referring to FIGS. 15 and 16 , an auxiliary pattern FSL may be further provided on the ground auxiliary line GNLS. The auxiliary pattern FSL is formed of a plurality of patterns so as to correspond to each of the plurality of patterns of the ground auxiliary line GNLS in a one-to-one correspondence. The auxiliary pattern FSL has a size smaller than that of the ground auxiliary line GNLS and is positioned to completely overlap the ground auxiliary line GNLS. The auxiliary pattern FSL is formed of a source/drain electrode material, and is formed of the same material as the adjacent connection pattern CNP and is positioned on the same layer. The auxiliary pattern FSL may act as a protective layer of the ground auxiliary line GNLS to protect the ground auxiliary line GNLS from dents that may occur during a process.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치는 그라운드 라인을 쉴드층과 동일한 층으로 형성할 수도 있다. Meanwhile, in the organic light emitting display device according to the first embodiment of the present invention, the ground line may be formed in the same layer as the shield layer.

도 17 및 도 18은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 각각 다른 예들을 나타낸 평면도이고, 도 19는 도 17의 절취선 K-L에 따라 절취한 단면도이다.17 and 18 are plan views illustrating different examples of the non-display unit of the organic light emitting diode display according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 19 is a cross-sectional view taken along line K-L of FIG. 17 .

도 17을 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 그라운드부(GND)는 그라운드 라인(GNL)만을 포함한다. 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND) 전체에 배치되어, 기판(SUB) 외곽과 전원라인부(EVDP) 사이의 공간을 메워 사용자에게 명암차이로 발생하는 외관 불량을 방지할 수 있다. Referring to FIG. 17 , in the non-display part of the organic light emitting diode display, a display part A/A, a power line part EVDP, and a ground part GND are positioned on a substrate SUB. The ground part GND includes only the ground line GNL. The ground line GNL is disposed on the entire ground portion GND, and fills a space between the outside of the substrate SUB and the power line portion EVDP to prevent an appearance defect caused by a difference in light and shade to a user.

또한, 도 18을 참조하면, 그라운드 라인(GNL)은 그라운드 라인(GNL)으로부터 분기된 그라운드 분기라인(GNBL)을 포함할 수 있다. 그라운드 분기라인(GNBL)은 서로 이격되도록 배치되어 그라운드 분기라인(GNBL)이 찍히는 확률을 줄일 수 있다. Also, referring to FIG. 18 , the ground line GNL may include a ground branch line GNBL branched from the ground line GNL. The ground branch lines GNBL are disposed to be spaced apart from each other to reduce the probability that the ground branch lines GNBL are taken.

도 17과 도 18의 단면도가 동일하므로, 도 19를 참조하여 설명하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1)이 위치하고, 제1 버퍼층(BUF1) 상에 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 그라운드 라인(GNL)은 쉴드층(미도시)과 동일한 재료로 동일한 층 상에 배치된다. 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치한다. 그라운드 라인(GNL) 상에 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 전원라인바(EVDD)가 위치한다. 전원라인바(EVDD)는 전원라인부(EVDP)에 위치한다. 전원라인바(EVDD) 상부의 구성은 다른 특징부가 없으므로 설명을 생략한다. Since the cross-sectional views of FIGS. 17 and 18 are the same, referring to FIG. 19 , the first buffer layer BUF1 is positioned on the substrate SUB, and the ground line GNL is positioned on the first buffer layer BUF1. . The ground line GNL is formed of the same material as the shield layer (not shown) and is disposed on the same layer. The ground line GNL is located in the ground part GND. The second buffer layer BUF2 and the gate insulating layer GI are positioned on the ground line GNL, and the power line bar EVDD is positioned on the gate insulating layer GI. The power line bar EVDD is located on the power line unit EVDP. The configuration of the upper portion of the power line bar EVDD is omitted because there are no other features.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 그라운드 라인을 쉴드층과 동일한 층에 형성함으로써 그라운드 라인 위로 제2 버퍼층, 게이트 절연막, 층간 절연막 및 제1 패시베이션막이 형성될 수 있다. 따라서, 공정 중 증착 마스크에 의한 찍힘에 의해 그라운드 라인을 보호할 수 있다. 이로써, 그라운드 라인과 제2 전극 사이에서 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 이점이 있다.In the organic light emitting display device configured as described above, the second buffer layer, the gate insulating layer, the interlayer insulating layer, and the first passivation layer may be formed on the ground line by forming the ground line on the same layer as the shield layer. Accordingly, it is possible to protect the ground line from being dented by the deposition mask during the process. Accordingly, there is an advantage in that it is possible to prevent a short circuit due to a foreign material between the ground line and the second electrode.

한편, 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치는 비표시부의 패드부와 GIP 구동부에서도 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 구조를 개시한다.On the other hand, the organic light emitting display device according to the first embodiment of the present invention discloses a structure capable of preventing a short circuit due to foreign matter in the pad part and the GIP driving part of the non-display part.

도 20은 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 패드부를 나타낸 평면도이고 도 21은 도 20의 절취선 M-N에 따라 절취한 단면도이며, 도 22는 본 발명의 제1 실시예에 따른 유기발광표시장치의 GIP 구동부를 나타낸 평면도이고 도 23은 도 22의 절취선 O-P에 따라 절취한 단면도이다.20 is a plan view illustrating a pad part of an organic light emitting diode display according to a first embodiment of the present invention, FIG. 21 is a cross-sectional view taken along the cut line MN of FIG. 20, and FIG. 22 is an organic light emitting diode display according to the first embodiment of the present invention. It is a plan view showing the GIP driver of the light emitting display device, and FIG. 23 is a cross-sectional view taken along the cut line OP of FIG. 22 .

도 20을 참조하면, 유기발광표시장치의 패드부는 표시부(A/A), LOG부(LOG) 및 칩온필름(COF)을 포함한다. LOG부(LOG)는 표시부(A/A)에 전원이나 데이터 구동신호를 인가하기 위한 LOG 라인(LOGB)들과 그라운드 신호가 인가되는 LOG 그라운드 라인(LOGG)이 위치한다. 칩온필름(COF)은 LOG 라인(LOGB) 및 LOG 그라운드 라인(LOGG)과 연결되도록 부착된다. Referring to FIG. 20 , the pad part of the organic light emitting display device includes a display part A/A, a LOG part LOG, and a chip-on film COF. In the LOG unit LOG, LOG lines LOGB for applying a power or data driving signal to the display unit A/A and a LOG ground line LOGG to which a ground signal is applied are located. The chip on film COF is attached to be connected to the LOG line LOGB and the LOG ground line LOGG.

보다 자세하게 도 21을 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 LOG 그라운드 라인(LOGG) 및 LOG 라인(LOGB)이 위치한다. LOG 그라운드 라인(LOGG) 및 LOG 라인(LOGB)은 게이트 전극과 동일한 재료로 동일한 층에 위치한다. LOG 그라운드 라인(LOGG) 및 LOG 라인(LOGB)은 서로 이격되어 배치되고, LOG 그라운드 라인(LOGG)를 LOG부(LOG)에 구비함으로써, 이물에 의해 보호부재(FSM)와 LOG부(LOG) 사이에 쇼트가 발생하는 것을 방지할 수 있다. In more detail, referring to FIG. 21 , the first buffer layer BUF1 , the second buffer layer BUF2 , and the gate insulating layer GI are positioned on the substrate SUB, and the LOG ground line LOGG and the gate insulating layer GI are disposed on the gate insulating layer GI. The LOG line (LOGB) is located. The LOG ground line LOGG and the LOG line LOGB are positioned on the same layer with the same material as the gate electrode. The LOG ground line LOGG and the LOG line LOGB are spaced apart from each other, and by providing the LOG ground line LOGG in the LOG part LOG, the protective member FSM and the LOG part LOG are separated by foreign substances. It can prevent a short circuit from occurring.

LOG 그라운드 라인(LOGG) 및 LOG 라인(LOGB) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치한다. 표시부(A/A)의 층간 절연막(ILD) 상에는 소스신호라인(SDL)이 위치한다. 소스신호라인(SDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다. 제1 패시베이션막(PAS1) 상부의 구성은 전술한 실시예와 동일하므로 설명을 생략한다.An interlayer insulating layer ILD is positioned on the LOG ground line LOGG and the LOG line LOGB. A source signal line SDL is positioned on the interlayer insulating layer ILD of the display unit A/A. A first passivation layer PAS1 is positioned on the source signal line SDL. Since the configuration of the upper portion of the first passivation layer PAS1 is the same as that of the above-described embodiment, a description thereof will be omitted.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 칩온필름이 부착되는 패드부에 LOG 그라운드 라인을 구비함으로써, 패드부에 이물이 발생하여도 보호부재와 LOG 그라운드 라인 사이에 전류가 흐르지 않기 때문에, 편광판이 손상되는 것을 방지할 수 있다.The organic light emitting display device configured as described above has a LOG ground line in the pad portion to which the chip-on film is attached, so that even if a foreign material is generated in the pad portion, current does not flow between the protective member and the LOG ground line, thereby preventing the polarizer from being damaged. can be prevented

한편, 도 22 및 도 23을 참조하면, 유기발광표시장치의 일측에는 표시부(A/A), GIP 구동부(GIP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 그라운드부(GND)는 GIP 구동부(GIP)와 기판(SUB)의 외곽 사이에 위치한다. 제2 버퍼층(BUF2) 상에 그라운드부(GND)의 그라운드 라인(GNL)이 위치하고, GIP 구동부(GIP)의 GIP 회로(GIPC)가 위치한다. 그라운드 라인(GNL)과 GIP 회로(GIPC) 상에는 전술한 절연막들이 배치된다.Meanwhile, referring to FIGS. 22 and 23 , a display unit A/A, a GIP driving unit GIP, and a ground unit GND are positioned on one side of the organic light emitting diode display. The ground part GND is positioned between the GIP driver GIP and the outer edge of the substrate SUB. The ground line GNL of the ground part GND is positioned on the second buffer layer BUF2 , and the GIP circuit GIPC of the GIP driver GIP is positioned. The above-described insulating layers are disposed on the ground line GNL and the GIP circuit GIPC.

본 실시예에서는 GIP 구동부(GIP)와 기판(SUB)의 외곽 사이에 그라운드부(GND)를 구비함으로써, 기판(SUB) 외곽에 이물이 발생하여도 보호부재와 그라운드부(GND) 사이에 전류가 흐르지 않기 때문에, 편광판이 손상되는 것을 방지할 수 있다.In this embodiment, since the ground part GND is provided between the GIP driving part GIP and the outer periphery of the substrate SUB, even if a foreign material is generated on the periphery of the substrate SUB, a current is generated between the protective member and the ground part GND. Since it does not flow, it can prevent the polarizing plate from being damaged.

한편, 본 발명은 베젤을 줄이기 위해 기준전압라인부가 생략되고 전원라인부의 배선을 보강한 구조에서 공정 중 증착 마스크에 의한 찍힘 문제를 방지할 수 있다. 하기에서는 전술한 제1 실시예와 동일한 구성에 대해 동일한 도면부호를 붙여 그 설명을 생략하기로 한다.On the other hand, in the present invention, in a structure in which the reference voltage line part is omitted to reduce the bezel and the wiring of the power line part is reinforced, it is possible to prevent the problem of engraving by the deposition mask during the process. Hereinafter, the same reference numerals are given to the same components as those of the above-described first embodiment, and descriptions thereof will be omitted.

<제2 실시예><Second embodiment>

도 24는 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부를 나타낸 평면도이고, 도 25는 도 24의 절취선 Q-R에 따라 절취한 단면도이다. 또한, 도 26은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 다른 예를 나타낸 평면도이고, 도 27은 도 26의 절취선 S-T에 따라 절취한 단면도이다. 또한, 도 28은 본 발명의 제2 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도이고, 도 29는 도 28의 절취선 U-V에 따라 절취한 단면도이다.24 is a plan view illustrating a non-display unit of an organic light emitting diode display according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 25 is a cross-sectional view taken along line Q-R of FIG. 24 . 26 is a plan view illustrating another example of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 27 is a cross-sectional view taken along the line S-T of FIG. 26 . 28 is a plan view showing another example of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a second exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 29 is a cross-sectional view taken along line U-V of FIG. 28 .

도 24를 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 도 24에서는 기준전압라인부가 존재하지 않는 실시예를 개시하기 때문에, 전원라인부(EVDP)와 그라운드부(GND)만 개시한다. 여기서, 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)는 전원라인(EVDL)에 연결되는 복수의 전원분기라인(EVDBL)들을 포함한다. 복수의 전원분기라인(EVDBL)은 전원을 보강하기 위한 구조로 작용한다. 이때, 전원분기라인(EVDBL)들 사이의 공간에는 쉴드층 패턴(LSP)들을 삽입하여 전원분기라인(EVDBL)들이 사용자에게 비치는 것을 방지한다. Referring to FIG. 24 , in the non-display unit of the organic light emitting diode display, a display unit A/A, a power line unit EVDP, and a ground unit GND are positioned on a substrate SUB. Since the embodiment in which the reference voltage line part does not exist is disclosed in FIG. 24, only the power line part EVDP and the ground part GND are shown. Here, the power line bar EVDD of the power line unit EVDP includes a plurality of power branch lines EVDBL connected to the power line EVDL. The plurality of power branch lines EVDBL acts as a structure for reinforcing power. At this time, shield layer patterns LSP are inserted in the space between the power branch lines EVDBL to prevent the power branch lines EVDBL from being reflected to the user.

전원라인부(EVDP)에는 제1 컨택패드(CCP1)가 배치되어 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)의 저항을 낮춘다. 그리고 표시부(A/A)로부터 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)이 연장되어 전원라인(EVDL)과 제1 컨택패드(CCP1) 사이까지 연장되어 배치된다. 또한, 제2 전극(CAT)과 유기막층(OLE)은 뱅크층(BNK)의 끝단으로부터 표시부(A/A)에 가깝게 이격시켜 배치한다. 따라서, 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)이 기판(SUB) 외곽으로 연장되면, 증착 마스크에 의해 찍히더라도 뱅크층(BNK) 상부만 손상되기 때문에 제2 전극(CAT)과 전원라인부(EVDP) 사이에 쇼트가 발생할 수 있는 가능성을 낮출 수 있다.The first contact pad CCP1 is disposed on the power line unit EVDP to lower the resistance of the power line bar EVDD of the power line unit EVDP. In addition, the overcoat layer OC and the bank layer BNK extend from the display unit A/A to extend between the power line EVDL and the first contact pad CCP1. In addition, the second electrode CAT and the organic layer OLE are disposed to be spaced apart from the end of the bank layer BNK close to the display unit A/A. Therefore, when the overcoat layer OC and the bank layer BNK extend to the outside of the substrate SUB, only the upper portion of the bank layer BNK is damaged even if it is engraved by the deposition mask, so the second electrode CAT and the power line part ( EVDP) can reduce the possibility of a short circuit.

보다 자세하게 도 25를 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치하고, 게이트 절연막(GI) 상에 전원라인바(EVDD), 전원분기라인(EVDBL) 및 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 전원라인바(EVDD) 및 전원분기라인(EVDBL)은 전원라인부(EVDP)에 위치한다. 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치하여, 전원라인부(EVDP)와 기판(SUB) 최외곽 사이에 배치된다.25, the first buffer layer BUF1, the second buffer layer BUF2, and the gate insulating layer GI are positioned on the substrate SUB, and the power line bar EVDD is formed on the gate insulating layer GI; A power branch line EVDBL and a ground line GNL are positioned. The power line bar EVDD and the power branch line EVDBL are positioned in the power line unit EVDP. The ground line GNL is positioned at the ground part GND and is disposed between the power line part EVDP and the outermost part of the substrate SUB.

전원라인바(EVDD), 전원분기라인(EVDBL) 및 그라운드 라인(GNL) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 제1 컨택패드(CCP1)와 전원라인(EVDL)이 위치한다. 제1 컨택패드(CCP1)는 전원라인바(EVDD)에 연결되어 저항을 낮추는 역할을 한다. 전원라인(EVDL)은 전원분기라인(EVDBL)을 통해 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 제1 컨택패드(CCP1) 및 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다.The interlayer insulating layer ILD is positioned on the power line bar EVDD, the power branch line EVDBL, and the ground line GNL, and the first contact pad CCP1 and the power line EVDL are positioned on the interlayer insulating layer ILD. do. The first contact pad CCP1 is connected to the power line bar EVDD and serves to lower the resistance. The power line EVDL is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP through the power branch line EVDBL. A first passivation layer PAS1 is positioned on the first contact pad CCP1 and the power line EVDL.

제1 패시베이션막(PAS1) 상에 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)이 위치한다. 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)은 표시부(A/A)로부터 기판(SUB) 외곽으로 연장되어 전원라인(EVDL)과 제1 컨택패드(CCP1) 사이까지 연장되어 배치된다. 뱅크층(BNK) 상에 제2 전극(CAT)과 유기막층(OLE)이 위치한다. 제2 전극(CAT)과 유기막층(OLE)은 뱅크층(BNK)의 끝단으로부터 표시부(A/A)에 가깝게 이격시켜 배치한다. 따라서, 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)이 기판(SUB) 외곽으로 연장되면, 증착 마스크에 의해 찍히더라도 뱅크층(BNK) 상부만 손상되기 때문에 제2 전극(CAT)과 전원라인부(EVDP) 사이에 쇼트가 발생할 수 있는 가능성을 낮출 수 있다.An overcoat layer OC and a bank layer BNK are positioned on the first passivation layer PAS1 . The overcoat layer OC and the bank layer BNK extend from the display unit A/A to the outside of the substrate SUB and are disposed to extend between the power line EVDL and the first contact pad CCP1 . A second electrode CAT and an organic layer OLE are positioned on the bank layer BNK. The second electrode CAT and the organic layer OLE are disposed to be spaced apart from the end of the bank layer BNK close to the display unit A/A. Therefore, when the overcoat layer OC and the bank layer BNK extend to the outside of the substrate SUB, only the upper portion of the bank layer BNK is damaged even if it is engraved by the deposition mask, so the second electrode CAT and the power line part ( EVDP) can reduce the possibility of a short circuit.

제2 전극(CAT) 상에 제2 패시베이션막(PAS2)이 위치하고 제2 패시베이션막(PAS2)이 형성된 기판(SUB)은 접착제(FSA)를 통해 보호부재(FSM)와 합착되어 유기발광표시장치를 구성한다. The second passivation film PAS2 is positioned on the second electrode CAT, and the substrate SUB on which the second passivation film PAS2 is formed is bonded to the protective member FSM through an adhesive FSA to form an organic light emitting display device. make up

또한, 도 26 및 도 27을 참조하면, 쉴드층 패턴(LSP) 상에 보조패턴(FSL)을 더 구비할 수도 있다. 보조패턴(FSL)은 쉴드층 패턴(LSP)의 복수의 패턴들에 각각 1대 1로 대응하여 위치되도록, 복수의 패턴들로 이루어진다. 보조패턴(FSL)은 쉴드층 패턴(LSP)보다 작은 크기로 이루어지되 쉴드층 패턴(LSP)에 완전히 중첩되도록 위치한다. 보조패턴(FSL)은 소스/드레인 전극 물질로 형성되며, 제1 컨택패드(CCP1)와 동일한 재료로 동일한 층 상에 위치한다. 보조패턴(FSL)은 쉴드층 패턴(LSP)의 보호층으로 작용하여, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 쉴드층 패턴(LSP)을 더 보호할 수 있다. Also, referring to FIGS. 26 and 27 , an auxiliary pattern FSL may be further provided on the shield layer pattern LSP. The auxiliary pattern FSL includes a plurality of patterns so as to correspond to each of the plurality of patterns of the shield layer pattern LSP in a one-to-one correspondence. The auxiliary pattern FSL has a smaller size than the shield layer pattern LSP and is positioned to completely overlap the shield layer pattern LSP. The auxiliary pattern FSL is formed of a source/drain electrode material, and is formed of the same material as that of the first contact pad CCP1 and is positioned on the same layer. The auxiliary pattern FSL may act as a protective layer of the shield layer pattern LSP to further protect the shield layer pattern LSP from dents that may occur during a process.

전술한 도 26 및 도 27에 따른 유기발광표시장치는 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)을 기판(SUB) 외곽으로 연장시켜 증착 마스크에 의한 찍힘으로부터 하부의 전원라인부(EVDP)를 보호하고 있다. 그러나 본 도 28 및 도 29에 따른 유기발광표시장치는 오버코트층(OC)과 뱅크층(BNK)을 연장하지 않고, 쉴드층 패턴(LSP) 상에 배치된 보조패턴(FSL)만을 구비함으로써, 증착 마스크에 의한 찍힘으로부터 하부의 전원라인부(EVDP)를 보호할 수도 있다.26 and 27, the organic light emitting diode display device extends the overcoat layer OC and the bank layer BNK to the outside of the substrate SUB to protect the lower power line part EVDP from being stamped by the deposition mask. are doing However, the organic light emitting display device according to FIGS. 28 and 29 does not extend the overcoat layer OC and the bank layer BNK, but only includes the auxiliary pattern FSL disposed on the shield layer pattern LSP. It is also possible to protect the lower power line unit EVDP from being stamped by the mask.

한편, 본 발명은 베젤을 줄이기 위해 기준전압라인부가 생략된 구조에서 공정 중 증착 마스크에 의한 찍힘 문제를 방지할 수 있다. 하기에서는 전술한 제1 및 제2 실시예와 동일한 구성에 대해 동일한 도면부호를 붙여 그 설명을 생략하기로 한다.Meanwhile, according to the present invention, in a structure in which the reference voltage line part is omitted to reduce the bezel, it is possible to prevent the problem of engraving by the deposition mask during the process. Hereinafter, the same reference numerals are given to the same components as those of the above-described first and second embodiments, and descriptions thereof will be omitted.

<제3 실시예><Third embodiment>

도 30은 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부를 나타낸 평면도이고, 도 31은 도 30의 절취선 W-X에 따라 절취한 단면도이며, 도 32는 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 다른 예를 나타낸 평면도이다. 또한, 도 33은 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도이고 도 34는 도 33의 절취선 Y-Z에 따라 절취한 단면도이다. 또한, 도 35는 본 발명의 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치의 비표시부의 또 다른 예를 나타낸 평면도이고 도 36은 도 35의 절취선 A'-B'에 따라 절취한 단면도이다. 30 is a plan view showing a non-display portion of an organic light emitting diode display according to a third embodiment of the present invention, FIG. 31 is a cross-sectional view taken along the line WX of FIG. 30, and FIG. 32 is a third embodiment of the present invention It is a plan view showing another example of the non-display part of the organic light emitting display device according to the present invention. 33 is a plan view illustrating another example of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 34 is a cross-sectional view taken along the line Y-Z of FIG. 33 . Also, FIG. 35 is a plan view illustrating another example of a non-display part of an organic light emitting diode display according to a third exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 36 is a cross-sectional view taken along the cut line A′-B′ of FIG. 35 .

도 30을 참조하면, 유기발광표시장치의 비표시부에는, 기판(SUB) 상에 표시부(A/A), 전원라인부(EVDP), 플로팅부(FP) 및 그라운드부(GND)가 위치한다. 플로팅부(FP)는 전원라인부(EVDP)와 그라운드부(GND) 사이에 배치된 플로팅 라인(FPL)을 포함한다. 플로팅부(FP)는 전원라인부(EVDP)와 그라운드 라인(GNL) 사이의 공간을 메워 사용자에게 명암차이로 발생하는 외관 불량을 방지할 수 있다. 또한, 플로팅부(FP)는 증착 마스크에 의한 찍힘이 발생하여도 플로팅되어 있기 때문에 제2 전극과의 쇼트가 발생하는 것을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 30 , in the non-display part of the organic light emitting diode display, a display part A/A, a power line part EVDP, a floating part FP, and a ground part GND are positioned on a substrate SUB. The floating part FP includes a floating line FPL disposed between the power line part EVDP and the ground part GND. The floating part FP fills a space between the power line part EVDP and the ground line GNL to prevent an appearance defect caused by a difference in light and shade to a user. In addition, since the floating part FP floats even when a dent by the deposition mask occurs, it is possible to prevent a short circuit with the second electrode from occurring.

보다 자세하게 도 31을 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1), 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치한다. 게이트 절연막(GI) 상에 전원라인바(EVDD), 플로팅 라인(FPL) 및 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 전원라인바(EVDD)는 전원라인부(EVDP)에 위치하고 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치한다. 플로팅 라인(FPL)은 전원라인바(EVDD)와 그라운드 라인(GNL) 사이에 위치하되, 이들과 동일한 재료로 동일한 층 상에 위치한다. In more detail, referring to FIG. 31 , a first buffer layer BUF1 , a second buffer layer BUF2 , and a gate insulating layer GI are positioned on a substrate SUB. A power line bar EVDD, a floating line FPL, and a ground line GNL are positioned on the gate insulating layer GI. The power line bar EVDD is positioned on the power line part EVDP, and the ground line GNL is positioned on the ground part GND. The floating line FPL is positioned between the power line bar EVDD and the ground line GNL, but is made of the same material and on the same layer.

전원라인바(EVDD), 플로팅 라인(FPL) 및 그라운드 라인(GNL) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 전원라인(EVDL)이 위치하여 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다. 제1 패시베이션막(PAS1) 상부의 구성은 전술한 실시예들과 차이가 없으므로 설명을 생략한다. The interlayer insulating layer ILD is positioned on the power line bar EVDD, the floating line FPL, and the ground line GNL, and the power line EVDL is positioned on the interlayer insulating layer ILD, so that the power supply of the power line unit EVDP is It is connected to the line bar EVDD. A first passivation layer PAS1 is positioned on the power line EVDL. Since the configuration of the upper portion of the first passivation layer PAS1 is not different from the above-described embodiments, a description thereof will be omitted.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 플로팅 라인이 형성된 플로팅부를 형성함으로써, 사용자에게 명암으로 표시되는 외관 불량을 방지할 수 있다. 또한, 플로팅된 플로팅부로 인해, 제2 전극 사이에서 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 이점이 있다.The organic light emitting display device configured as described above forms a floating portion in which a floating line is formed between the ground line and the power line portion, thereby preventing an appearance defect displayed by light and shade to a user. In addition, due to the floating part, there is an advantage in that it is possible to prevent a short circuit between the second electrodes due to foreign matter.

전술한 플로팅부(FP)의 플로팅 라인(FPL)은 그라운드 라인(GNL) 및 전원라인바(EVDD)와 동일한 재료로 동일한 층에 배치된 것으로 설명하였지만, 플로팅 라인(FPL)은 쉴드층과 동일한 재료로 동일한 층에 배치될 수도 있다.Although it has been described that the above-described floating line FPL of the floating part FP is formed of the same material as that of the ground line GNL and the power line bar EVDD and disposed on the same layer, the floating line FPL is formed of the same material as the shield layer. may be disposed on the same floor.

도 32를 참조하면, 전술한 플로팅부(FP)의 플로팅 라인(FPL)은 일체로 이루어진 하나의 라인으로 이루어질 수 있고, 도 33에 도시된 것처럼, 서로 이격된 복수의 패턴으로 이루어질 수 있다. 플로팅 라인(FPL)이 복수의 패턴으로 이루어지면, 공정 중 증착 마스크에 의해 찍히더라도 복수의 패턴들의 이격된 공간이 존재하므로 찍힘이 복수의 패턴들에 발생할 확률을 낮출 수 있다. 다만, 사용자에게 패턴들이 비치지 않도록 복수의 패턴들의 이격 간격을 적절히 조절할 수 있다. 또한, 플로팅 라인(FPL)이 복수의 패턴으로 이루어지면, 각 패턴이 가질 수 있는 정전기 대전량을 최소화시켜 정전기에 의한 불량을 방지할 수 있다.Referring to FIG. 32 , the floating line FPL of the above-described floating part FP may be formed of one integral line, and as illustrated in FIG. 33 , may be formed of a plurality of patterns spaced apart from each other. When the floating line FPL is formed of a plurality of patterns, spaced spaces between the plurality of patterns exist even if the floating line FPL is printed by a deposition mask during a process, so that the probability that the plurality of patterns are imprinted may be reduced. However, the spacing between the plurality of patterns may be appropriately adjusted so that the patterns are not reflected to the user. In addition, when the floating line FPL is formed of a plurality of patterns, the amount of static electricity that each pattern may have is minimized to prevent defects due to static electricity.

도 32와 도 33의 단면을 나타낸 도 34를 참조하면, 기판(SUB) 상에 제1 버퍼층(BUF1)이 위치하고, 제1 버퍼층(BUF1) 상에 플로팅 라인(FPL)이 위치한다. 플로팅 라인(FPL)은 표시부(A/A)의 쉴드층(미도시)과 동일한 재료로 동일한 층 상에 위치한다. 특히, 플로팅 라인(FPL)이 MoTi 등의 금속으로 이루어지는 경우 플로팅 라인(FPL)의 정전기 대전량을 줄여 정전기로 인한 손상을 방지할 수 있다. Referring to FIGS. 32 and 34 showing cross-sections of FIGS. 32 and 33 , the first buffer layer BUF1 is positioned on the substrate SUB, and the floating line FPL is positioned on the first buffer layer BUF1 . The floating line FPL is formed of the same material as the shield layer (not shown) of the display unit A/A and is positioned on the same layer. In particular, when the floating line FPL is made of a metal such as MoTi, it is possible to reduce the amount of static electricity in the floating line FPL to prevent damage due to static electricity.

플로팅 라인(FPL) 상에 제2 버퍼층(BUF2) 및 게이트 절연막(GI)이 위치한다. 게이트 절연막(GI) 상에 전원라인바(EVDD) 및 그라운드 라인(GNL)이 위치한다. 전원라인바(EVDD)는 전원라인부(EVDP)에 위치하고 그라운드 라인(GNL)은 그라운드부(GND)에 위치한다. 전술한 플로팅 라인(FPL)은 전원라인바(EVDD)와 그라운드 라인(GNL) 사이에 위치하게 된다. A second buffer layer BUF2 and a gate insulating layer GI are positioned on the floating line FPL. A power line bar EVDD and a ground line GNL are positioned on the gate insulating layer GI. The power line bar EVDD is positioned in the power line part EVDP and the ground line GNL is positioned in the ground part GND. The above-described floating line FPL is positioned between the power line bar EVDD and the ground line GNL.

전원라인바(EVDD) 및 그라운드 라인(GNL) 상에 층간 절연막(ILD)이 위치하고 층간 절연막(ILD) 상에 전원라인(EVDL)이 위치하여 전원라인부(EVDP)의 전원라인바(EVDD)에 연결된다. 전원라인(EVDL) 상에 제1 패시베이션막(PAS1)이 위치한다. 제1 패시베이션막(PAS1) 상부의 구성은 전술한 실시예들과 차이가 없으므로 설명을 생략한다. The interlayer insulating layer ILD is positioned on the power line bar EVDD and the ground line GNL, and the power line EVDL is positioned on the interlayer insulating layer ILD, so that it is connected to the power line bar EVDD of the power line unit EVDP. connected A first passivation layer PAS1 is positioned on the power line EVDL. Since the configuration of the upper portion of the first passivation layer PAS1 is not different from the above-described embodiments, a description thereof will be omitted.

이와 같이 구성된 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 플로팅 라인이 형성된 플로팅부를 형성함으로써, 사용자에게 명암으로 표시되는 외관 불량을 방지할 수 있다. 또한, 플로팅된 플로팅부로 인해, 제2 전극 사이에서 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 이점이 있다. 또한, 플로팅 라인을 기판에 인접하도록 쉴드층과 동일층에 형성함으로써, 플로팅 라인 상부에 존재하는 복수의 절연층들로 인해 찍힘으로부터 보호받을 수 있는 이점이 있다.The organic light emitting display device configured as described above forms a floating portion having a floating line formed between the ground line and the power line portion, thereby preventing an appearance defect displayed by light and shade to a user. In addition, due to the floating part, there is an advantage in that it is possible to prevent a short circuit between the second electrodes due to foreign matter. In addition, by forming the floating line on the same layer as the shield layer so as to be adjacent to the substrate, there is an advantage in that it can be protected from dents due to a plurality of insulating layers present on the floating line.

한편, 도 35 및 도 36을 참조하면, 전술한 도 33의 플로팅 라인(FPL) 상에 보조패턴(FSL)을 더 구비할 수도 있다. 보조패턴(FSL)은 플로팅 라인(FPL) 의 복수의 패턴들에 각각 1대 1로 대응하여 위치되도록, 복수의 패턴들로 이루어진다. 보조패턴(FSL)은 플로팅 라인(FPL) 보다 작은 크기로 이루어지되 플로팅 라인(FPL) 에 완전히 중첩되도록 위치한다. 보조패턴(FSL)은 소스/드레인 전극 물질로 형성되며, 전원라인(EVDL)과 동일한 재료로 동일한 층 상에 위치한다. 보조패턴(FSL)은 플로팅 라인(FPL)의 보호층으로 작용하여, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 플로팅 라인(FPL)을 더 보호할 수 있다. Meanwhile, referring to FIGS. 35 and 36 , an auxiliary pattern FSL may be further provided on the above-described floating line FPL of FIG. 33 . The auxiliary pattern FSL includes a plurality of patterns so as to correspond to each of the plurality of patterns of the floating line FPL in a one-to-one correspondence. The auxiliary pattern FSL has a size smaller than that of the floating line FPL and is positioned to completely overlap the floating line FPL. The auxiliary pattern FSL is formed of a source/drain electrode material and is formed of the same material as that of the power line EVDL and is positioned on the same layer. The auxiliary pattern FSL may act as a protective layer of the floating line FPL to further protect the floating line FPL from dents that may occur during a process.

도 37은 유기발광표시장치의 뱅크층이 손상된 이미지들이다. 도 37을 참조하면, 유기발광표시장치의 공정 중 증착 마스크에 의해 뱅크층에 찍힘이 발생하면 뱅크층이 뜯기는 손상이 발생된다. 따라서, 전술한 본원 발명의 제1 내지 제3 실시예에 따른 유기발광표시장치는 비표시부에서 쇼트 또는 물리적인 손상이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 37 is an image showing a damaged bank layer of an organic light emitting diode display. Referring to FIG. 37 , when the bank layer is dented by the deposition mask during the process of the organic light emitting diode display device, the bank layer is damaged. Accordingly, in the organic light emitting display device according to the first to third embodiments of the present invention described above, it is possible to prevent a short circuit or physical damage in the non-display unit.

보다 자세하게, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 기준전압라인부를 축소하고 그라운드부를 형성함으로써, 기판 외곽에 이물이 발생하여도 보호부재와 그라운드 라인 사이에 전류가 흐르지 않기 때문에, 편광판이 손상되는 것을 방지할 수 있다.In more detail, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, since a current does not flow between the protective member and the ground line even when a foreign material is generated on the outside of the substrate by reducing the reference voltage line portion and forming the ground portion, the polarizing plate damage can be prevented.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 기준전압라인부을 생략하고 전원라인바로부터 분기된 전원분기라인을 추가하여 전원을 보강할 수 있다. 더욱이, 전원분기라인들 사이에 쉴드층 패턴들을 형성하여 전원분기라인들이 사용자에게 비치는 것을 방지할 수 있다. In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, power can be reinforced by omitting the reference voltage line and adding a power branch line branched from the power line bar. Furthermore, it is possible to prevent the power branch lines from being reflected to the user by forming shield layer patterns between the power branch lines.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 그라운드 보조라인을 형성하되 그라운드 보조라인을 쉴드층과 동일한 층에 형성함으로써 그라운드 보조라인 위로 제2 버퍼층, 게이트 절연막, 층간 절연막 및 제1 패시베이션막이 형성될 수 있다. 따라서, 공정 중 증착 마스크에 의한 찍힘에 의해 그라운드 보조라인을 보호할 수 있다. 또한, 그라운드 보조라인 상에 보조패턴을 형성함으로써, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 그라운드 보조라인을 보호할 수 있다.In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, a ground auxiliary line is formed between the ground line and the power line unit, and the ground auxiliary line is formed on the same layer as the shield layer, so that the second buffer layer and the gate are formed over the ground auxiliary line. An insulating film, an interlayer insulating film, and a first passivation film may be formed. Accordingly, it is possible to protect the ground auxiliary line from being dented by the deposition mask during the process. In addition, by forming the auxiliary pattern on the ground auxiliary line, it is possible to protect the ground auxiliary line from dents that may occur during the process.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 오버코트층과 뱅크층을 기판 외곽으로 연장함으로써, 증착 마스크에 의해 찍히더라도 뱅크층 상부만 손상되기 때문에 제2 전극과 전원라인부 사이에 쇼트가 발생할 수 있는 가능성을 낮출 수 있다.In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, since the overcoat layer and the bank layer are extended to the outside of the substrate, only the upper part of the bank layer is damaged even if it is photographed by the deposition mask. can reduce the likelihood that

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 쉴드층 패턴 상에 보조패턴을 형성함으로써, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 쉴드층 패턴을 더 보호할 수 있다.In addition, in the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention, by forming the auxiliary pattern on the shield layer pattern, it is possible to further protect the shield layer pattern from dents that may occur during the process.

또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 유기발광표시장치는 그라운드 라인과 전원라인부 사이에 플로팅 라인이 형성된 플로팅부를 형성함으로써, 제2 전극과 플로팅부 사이에서 이물에 의한 쇼트를 방지할 수 있는 이점이 있다.In addition, the organic light emitting display device according to an embodiment of the present invention has the advantage of preventing a short circuit between the second electrode and the floating part due to foreign matter by forming a floating part having a floating line between the ground line and the power line part. There is this.

또한, 플로팅 라인을 복수의 패턴으로 형성함으로써, 각 패턴이 가질 수 있는 정전기 대전량을 최소화시켜 정전기에 의한 불량을 방지할 수 있다.In addition, by forming the floating line in a plurality of patterns, it is possible to minimize the amount of static electricity that each pattern may have, thereby preventing defects due to static electricity.

또한, 플로팅 라인을 기판에 인접하도록 쉴드층과 동일층에 형성함으로써, 플로팅 라인 상부에 존재하는 복수의 절연층들로 인해 찍힘으로부터 보호받을 수 있는 이점이 있다.In addition, by forming the floating line on the same layer as the shield layer so as to be adjacent to the substrate, there is an advantage in that it can be protected from dents due to a plurality of insulating layers present on the floating line.

또한, 플로팅 라인 상에 보조패턴을 형성함으로써, 공정 중 발생할 수 있는 찍힘으로부터 플로팅 라인을 더 보호할 수 있다.In addition, by forming the auxiliary pattern on the floating line, it is possible to further protect the floating line from dents that may occur during the process.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경과 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Those skilled in the art from the above description will be able to see that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Accordingly, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification, but should be defined by the claims.

A/A : 표시부 N/A : 비표시부
SUB : 기판 GND : 그라운드부
EVSP : 기준전압라인부 EVDP : 전원라인부
A/A : Display part N/A : Non-display part
SUB : Substrate GND : Ground part
EVSP : Reference voltage line part EVDP : Power line part

Claims (21)

기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부;
상기 표시부에 위치하며, 제1전극과 유기막층 및 제2 전극으로 구성된 유기발광 다이오드;
상기 비표시부에 위치하며, 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부 및 상기 표시부에 전원을 인가하는 전원라인부; 및
상기 기판과 대향하는 보호부재;를 포함하며,
상기 그라운드부는 상기 보호부재와 서로 중첩되고,
상기 그라운드부는 그라운드 라인을 포함하며, 상기 그라운드 라인은 상기 제2 전극과 전기적으로 분리되는 표시장치.
a display unit and a non-display unit positioned on the substrate;
an organic light emitting diode positioned on the display unit and comprising a first electrode, an organic layer, and a second electrode;
a ground unit to which a ground voltage is applied, and a power line unit to apply power to the display unit, located in the non-display unit; and
Including; a protection member facing the substrate;
The ground portion overlaps with the protection member,
The ground portion includes a ground line, the ground line being electrically separated from the second electrode.
제1 항에 있어서,
상기 그라운드부는 상기 기판 외곽에 인접하고, 상기 전원라인부는 상기 표시부에 인접하는 표시장치.
According to claim 1,
The ground portion is adjacent to an outer periphery of the substrate, and the power line portion is adjacent to the display portion.
제1 항에 있어서,
상기 전원라인부는 외부로부터 전원이 인가되는 전원라인바 및 상기 전원라인바로부터 전원을 상기 표시부에 인가하는 전원라인을 포함하며, 상기 전원라인바와 상기 전원라인 사이를 연결하는 복수의 전원분기라인들을 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
The power line unit includes a power line bar to which power is applied from the outside, and a power line for applying power from the power line bar to the display unit, and includes a plurality of power branch lines connecting the power line bar and the power line. display device.
제3 항에 있어서,
상기 복수의 전원분기라인들 사이에 위치하는 쉴드층 패턴을 포함하는 표시장치.
4. The method of claim 3,
and a shield layer pattern positioned between the plurality of power branch lines.
제1 항에 있어서,
상기 그라운드부와 상기 전원라인부 사이에 상기 표시부에 기준전압을 인가하며 상기 제2 전극에 전기적으로 연결되는 기준전압라인이 구비되는 기준전압라인부를 더 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
and a reference voltage line part having a reference voltage line electrically connected to the second electrode and applying a reference voltage to the display part between the ground part and the power line part.
제1 항에 있어서,
상기 그라운드부는 상기 그라운드 라인과 연결된 그라운드 보조라인을 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
and the ground portion includes a ground auxiliary line connected to the ground line.
제6 항에 있어서,
상기 그라운드 보조라인은 복수의 패턴으로 이루어진 표시장치.
7. The method of claim 6,
The ground auxiliary line is formed of a plurality of patterns.
제7 항에 있어서,
상기 그라운드 보조라인 상에 상기 그라운드 보조라인과 중첩되는 보조패턴을 더 포함하는 표시장치.
8. The method of claim 7,
and an auxiliary pattern overlapping the ground auxiliary line on the ground auxiliary line.
제1 항에 있어서,
상기 그라운드부는 상기 그라운드 라인으로부터 분기된 그라운드 분기라인을 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
and the ground portion includes a ground branch line branched from the ground line.
제1 항에 있어서,
상기 비표시부는 전원이나 데이터 구동신호를 인가하기 위한 칩온필름, 상기 칩온필름으로부터 상기 표시부에 전원이나 데이터 구동신호를 전달하는 LOG 라인들 및 그라운드 신호가 인가되는 LOG 그라운드 라인을 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
The non-display unit includes a chip-on film for applying a power or data driving signal, LOG lines for transferring a power or data driving signal from the chip-on-film to the display unit, and a LOG ground line to which a ground signal is applied.
제1 항에 있어서,
상기 비표시부는 상기 표시부와 상기 그라운드부 사이에 배치된 GIP 구동부를 더 포함하는 표시장치.
According to claim 1,
The non-display unit further includes a GIP driver disposed between the display unit and the ground unit.
기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부;
상기 표시부에 위치하며, 제1전극과 유기막층 및 제2 전극으로 구성된 유기발광 다이오드;
상기 비표시부에 위치하며, 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부 및 상기 표시부에 전원을 인가하는 전원라인을 포함하는 전원라인부; 및
상기 기판과 대향하는 보호부재;를 포함하며,
상기 그라운드부는 상기 보호부재와 서로 중첩되고,
상기 전원라인부는 외부로부터 전원이 인가되는 전원라인바 및 상기 전원라인바로부터 전원을 상기 표시부에 인가하는 전원라인을 포함하며,
상기 전원라인부는 상기 전원라인바 상에 연결된 컨택패드를 포함하며,
상기 전원라인바와 상기 전원라인 사이를 연결하는 복수의 전원분기라인들을 포함하고,
상기 복수의 전원분기라인들 사이에 위치하는 쉴드층 패턴을 포함하고,
상기 그라운드부는 그라운드 라인을 포함하며, 상기 그라운드 라인은 상기 제2 전극과 전기적으로 분리되는 표시장치.
a display unit and a non-display unit positioned on the substrate;
an organic light emitting diode positioned on the display unit and comprising a first electrode, an organic layer, and a second electrode;
a power line unit positioned on the non-display unit and including a ground unit to which a ground voltage is applied and a power line for applying power to the display unit; and
Including; a protection member facing the substrate;
The ground portion overlaps with the protection member,
The power line unit includes a power line bar to which power is applied from the outside and a power line for applying power from the power line bar to the display unit,
The power line unit includes a contact pad connected to the power line bar,
and a plurality of power branch lines connecting the power line bar and the power line,
a shield layer pattern positioned between the plurality of power branch lines;
The ground portion includes a ground line, the ground line being electrically separated from the second electrode.
제12 항에 있어서,
상기 표시부는 복수의 서브픽셀을 포함하며, 상기 복수의 서브픽셀 중 어느 하나는,
상기 기판 상에 위치하는 쉴드층;
상기 쉴드층 상에 위치하는 버퍼층;
상기 버퍼층 상에 위치하며, 반도체층, 게이트 전극, 소스 전극 및 드레인 전극을 포함하는 박막트랜지스터;
상기 박막트랜지스터 상에 위치하는 오버코트층;
상기 오버코트층 상에 위치하는 상기 유기발광 다이오드; 및
상기 제1 전극과 상기 유기막층 사이에 위치하여 화소를 정의하는 뱅크층을 포함하는 표시장치.
13. The method of claim 12,
The display unit includes a plurality of sub-pixels, any one of the plurality of sub-pixels,
a shield layer positioned on the substrate;
a buffer layer positioned on the shield layer;
a thin film transistor positioned on the buffer layer and including a semiconductor layer, a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode;
an overcoat layer positioned on the thin film transistor;
the organic light emitting diode positioned on the overcoat layer; and
and a bank layer positioned between the first electrode and the organic layer to define a pixel.
제13 항에 있어서,
상기 뱅크층과 상기 오버코트층의 끝단은 상기 컨택패드와 상기 전원라인 사이에 위치하는 표시장치.
14. The method of claim 13,
ends of the bank layer and the overcoat layer are positioned between the contact pad and the power line.
제14 항에 있어서,
상기 유기막층과 상기 제2 전극이 상기 컨택패드와 중첩되지 않는 표시장치.
15. The method of claim 14,
A display device in which the organic layer and the second electrode do not overlap the contact pad.
제12 항 또는 제14 항에 있어서,
상기 쉴드층 패턴 상에 위치하며 상기 쉴드층 패턴과 중첩되는 보조패턴을 더 포함하는 표시장치.
15. The method of claim 12 or 14,
and an auxiliary pattern positioned on the shield layer pattern and overlapping the shield layer pattern.
기판 상에 위치하는 표시부 및 비표시부;
상기 표시부에 위치하며, 제1전극과 유기막층 및 제2 전극으로 구성된 유기발광 다이오드;
상기 비표시부에 위치하며, 그라운드 전압이 인가되는 그라운드부, 상기 표시부에 전원을 인가하는 전원라인부, 및 상기 그라운드부와 상기 전원라인부 사이에 위치하는 플로팅부; 및
상기 기판과 대향하는 보호부재;를 포함하고,
상기 그라운드부는 그라운드 라인을 포함하며, 상기 그라운드 라인은 상기 제2 전극과 전기적으로 분리되는 표시장치.
a display unit and a non-display unit positioned on the substrate;
an organic light emitting diode positioned on the display unit and comprising a first electrode, an organic layer, and a second electrode;
a ground part to which a ground voltage is applied, a power line part for applying power to the display part, and a floating part positioned between the ground part and the power line part, located in the non-display part; and
Including; a protection member facing the substrate;
The ground portion includes a ground line, the ground line being electrically separated from the second electrode.
제17 항에 있어서,
상기 플로팅부는 상기 전원라인부의 전원라인바 및 상기 그라운드 라인과 동일한 재료로 동일한 층 상에 위치하는 플로팅된 플로팅 라인을 포함하는 표시장치.
18. The method of claim 17,
and the floating part includes a power line bar of the power line part and a floating floating line formed on the same layer as a power line bar and the ground line.
제18 항에 있어서,
상기 플로팅 라인은 일체로 이루어지거나 복수의 패턴으로 이루어진 표시장치.
19. The method of claim 18,
The floating line is integrally formed or is formed of a plurality of patterns.
제19 항에 있어서,
상기 플로팅 라인 상에 위치하며 상기 플로팅 라인과 중첩되는 보조패턴을 더 포함하는 표시장치.
20. The method of claim 19,
and an auxiliary pattern positioned on the floating line and overlapping the floating line.
제1 항에 있어서,
상기 보호부재는 금속으로 이루어지고 상기 그라운드 라인과 중첩하는 표시장치.
According to claim 1,
The protective member is made of metal and overlaps the ground line.
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