KR100813023B1 - 액정표시패널 및 액정표시패널의 제조 방법 - Google Patents

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Abstract

액정표시패널 및 액정표시패널의 제조 방법이 개시되어 있다. 액정에서 광투과도가 결정된 광이 필터링 되는 RGB 색화소를 안료보다 광학적 특성이 우수한 염료가 사용된다. 이를 위해서 컬러필터기판의 배향막은 염료의 색 쉬프트가 발생하지 않는 저온 공정에 의하여 큐어링 되며, 액정이 누설되지 못하도록 하는 역할을 하는 액정 누설 방지 월 또한 광 경화성 물질로 형성 되도록 하여 역시 염료의 색 쉬프트가 발생하지 않도록 한다. 이로써 액정표시패널에 의해서 수행되는 디스플레이 특성을 월등히 향상시킬 수 있는 장점을 갖는다.
액정표시패널, 염료

Description

액정표시패널 및 액정표시패널의 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY PANEL AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}
도 1은 종래 액정표시패널을 이루는 컬러필터기판 형성 영역 및 TFT 기판 형성 영역이 형성된 대형 모기판을 도시한 개념도이다.
도 2는 도 1이 조립된 종래 조립기판을 도시한 개념도이다.
도 3은 종래 조립기판으로부터 LCD 단위셀을 개별화하여 제작된 LCD 패널에 구동모듈이 조립된 액정표시패널 어셈블리의 사시도이다.
도 4a는 본 발명의 일실시예에 의한 컬러필터기판 형성영역이 형성된 대형 유리 모기판의 개념도이다.
도 4b는 도 4a의 컬러필터기판 형성영역의 종단면도이다.
도 5a는 본 발명의 일실시예에 의한 TFT 기판 형성영역이 형성된 대형 유리 모기판의 개념도이다.
도 5b는 도 5a의 TFT 기판 형성영역의 종단면도이다.
도 6a는 본 발명의 일실시예에 의한 TFT 기판 형성영역의 유효디스플레이 영역이 포함되도록 액정 누설 방지 월이 형성됨과 동시에 액정이 드롭 된 것을 도시한 개념도이다.
도 6b는 도 6a의 종단면도이다.
도 7은 본 발명의 일실시예에 의한 조립기판의 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일실시예에 의하여 액정표시패널을 제작하는 방법이 도시된 순서도이다.
본 발명은 액정표시패널 및 액정표시패널의 제조 방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 디스플레이 되는 광의 색순도 및 광의 투과도를 크게 향상시켜 디스플레이 성능을 배가시킨 액정표시패널 및 액정표시패널의 제조 방법에 관한 것이다.
최근 들어, 방대한 데이터를 단 시간 내에 처리하는 정보처리장치의 기술 개발이 급속히 진행되고 있다. 이에 힘입어 정보 통신 산업, 전자 산업, 전기 산업은 물론 우주 항공 산업에 이르기까지 대부분 산업의 기술 개발 또한 급속히 진행되고 있다.
이와 같이 중요한 역할을 수행하는 정보처리장치는 정보처리장치에서 처리된 결과 데이터를 사용자가 인식할 수 있도록 하는 정보표시장치를 필요로 한다.
이와 같은 정보표시장치는 다양한 형태로 구현된다. 예를 들면, 정보표시장치로는 종이와 같은 매체에 결과 데이터를 출력하는 프린터, 소리 및 음성으로 결과 데이터를 출력하는 사운드 장치, 육안으로 결과 데이터를 인식할 수 있도록 하는 디스플레이 장치 등이 대표적이다.
이들 중 디스플레이 장치는 첫 번째로 결과 데이터를 매우 정확하게 표시할 수 있도록 한다. 두 번째로는 사용자가 단 시간 내에 다량의 정보를 정확하게 획득할 수 있도록 한다. 이와 같은 두 가지 이유로 디스플레이 장치는 매우 다양한 방식으로 개발이 진행되고 있다.
이와 같은 디스플레이 장치로는 아날로그 방식 디스플레이 장치와 디지털 방식 디스플레이 장치로 분류할 수 있다.
이들 중 아날로그 방식 디스플레이 장치는 CRT 방식 디스플레이 장치(Cathode Ray Tube type display device)가 대표적이고, 디지털 방식 디스플레이 장치로는 액정표시장치(Liquid Crystal Display device)가 대표적이다.
이들 중 CRT 방식 디스플레이 장치는 고해상도 구현 및 제작 과정이 비교적 간단하며, 대화면 디스플레이가 가능한 장점 및 디스플레이 면적이 증가될수록 부피 및 무게가 증가되는 단점을 함께 갖는다.
이와 같은 이유로 최근에는 CRT 방식 디스플레이 장치와 대등한 디스플레이 특성을 갖으면서도 부피 및 무게는 크게 감소된 액정표시장치의 기술 개발 및 보급이 꾸준히 진행되고 있다.
첨부된 도 1 내지 도 3에는 최근 들어 기술 개발 및 보급이 꾸준히 진행되고 있는 종래 기술에 의한 액정표시패널을 제조하는 과정이 도시되어 있다.
첨부된 도 1 내지 도 3을 참조하면, 서로 다른 제작 공정을 통하여 서로 다른 2 장의 대형 유리 모기판(10,20)에는 도 1의 도면부호 15로 도시된 컬러필터기판 형성 영역 및 도면부호 25로 도시된 TFT 기판 형성 영역이 적어도 1 개 이상이 형성된다.
이때, TFT 기판 형성 영역(25)에는 박막 트랜지스터(24)들이 매트릭스 형태로 형성되고, 박막 트랜지스터(24)로부터 전원이 인가되는 화소 전극(23)이 형성된다. 이에 더하여 TFT 기판 형성 영역(25)에는 전면적에 걸쳐 배향막(align film)이 형성된 후, 180℃ ∼ 200℃의 온도로 고온 큐어링이 수행된 후, 배향막의 상면에는 러빙 공정에 의하여 배향홈(align groove)이 형성된다.
한편, 컬러필터기판 형성 영역(15)에는 다시 화소 전극(23)과 대향하도록 안료가 포함된 RGB 색화소(미도시)가 형성되고, RGB 색화소와 인접한 RGB 색화소의 사이에는 블랙 매트릭스(미도시)가 형성되고, 이들의 상면에는 공통 전극(미도시)이 형성된다.
이와 같은 구성을 갖는 컬러필터기판 형성 영역(15) 및 TFT 기판 형성 영역(25)중 도 1에 도시된 바와 같이 각 TFT 기판 형성 영역(25)에는 열 경화성 수지로 일부가 개구된 씰라인(27)이 형성되고 그 위에 스페이서들이 산포된다.
이후, TFT 기판 형성 영역(25)이 형성된 대형 유리 모기판(20)과 컬러필터기판 형성 영역(15)이 형성된 대형 유리 모기판(10)은 도 2에 도시된 바와 같이 정확하게 얼라인 된 상태에서 겹쳐진다.
이와 같은 상태의 조립된 기판을 이하 “조립 기판(30)”이라 정의하기로 한다.
이후, 조립 기판(30)에는 핫 프레스(hot press) 공정이 수행된다. 이때, 핫 프레스 공정에 의하여 씰라인(27)에는 열과 압력이 가해진다. 이로 인하여 씰라인(27)은 지정된 셀 갭(cell gap)이 유지됨과 동시에 경화가 촉진된다. 이때, 씰라인의 경화를 촉진시키는 핫 프레스 공정 수행 온도는 약 180℃ ∼ 200℃의 온도를 갖는다.
이후, 핫 프레스 공정이 수행된 후, 진공 주입 방식에 의하여 씰라인(27)에 의하여 구획된 조립 기판(30)의 내부 공간에는 액정(LC)이 주입된다.
이와 같은 공정을 통하여 조립 기판(30)의 내부에 액정이 주입된 상태에서 씰라인(27)의 개구로부터 액정이 역 누설되지 않도록 씰라인(27)의 개구에는 자외선 경화제(미도시) 등이 도포된다. 이후, 자외선 경화제에 자외선이 주사되어 자외선 경화제가 경화된다.
이어서, 도 2에 도시된 바와 같이 조립기판(30)에는 도시된 절단선(37)을 따라서 절단이 수행되어 조립기판(30)에 형성된 “LCD 단위셀(35)”은 도 3에 도시된 바대로 개별화된다. 이하, 개별화된 LCD 단위셀(35)을 도 3에 도시된 바대로 “액정표시 패널(43)”이라 칭하기로 한다. 이때, 대형 유리 모기판(10,20)으로부터 절단된 컬러 필터 기판 형성 영역(15)은 “컬러 필터 기판(42)”이 되고, 대형 유리 모기판(20)으로부터 절단된 TFT 기판 형성 영역(25)은 “TFT 기판(41)”이 된다.
도 3에 도시된 바와 같이 액정표시 패널(43)에는 구동 모듈(44,45,46,47)들이 조립되어 “액정표시패널 어셈블리(40)”가 제작된다.
이와 같은 과정을 거쳐 액정표시 패널을 제작하는 과정에서 실제 사용자는 컬러 필터 기판(42)의 RGB 색화소를 통과한 광을 인식하게 된다. 즉, 이는 광이 RGB 색화소의 특성에 따라서 디스플레이 특성이 크게 좌우됨을 의미한다.
그러나, 앞서 설명한 바에 의하면 종래 액정표시패널에 사용되는 RGB 색화소 는 안료가 사용된다. 이와 같은 안료는 안료 입자가 박막 내부에 무질서하게 분포되는 경향을 갖음으로써 부분적으로 광의 투과율이 달라 디스플레이 특성이 저하되는 문제점을 갖는다.
최근에는 안료에 비하여 광투과율 및 색순도가 월등히 뛰어난 염료의 개발이 꾸준히 진행되고 있다. 그럼에도 불구하고 이처럼 디스플레이 특성을 저하시키는 안료를 사용할 수밖에 없는 이유는 앞서 설명하였듯이 배향막 큐어링 공정, 핫 프레스 공정과 같이 180℃ 이상의 온도가 요구되는 고온 공정들 때문이다.
일례로 안료 대신 염료를 사용할 경우, 광투과율 및 색순도를 향상시킬 수 있지만, 이 염료는 180℃ 이상의 고온에서는 색좌표가 쉬프트 되어 원하는 색을 디스플레이 되지 않는 또 다른 문제를 발생시킨다.
따라서, 본 발명은 이와 같은 종래 문제점을 감안한 것으로써, 본 발명의 제 1 목적은 RGB 색화소를 염료로 제작하여, 광투과율 및 색순도 향상에 따라 디스플레이 특성이 향상된 액정표시장치를 제공함에 있다.
본 발명의 제 2 목적은 RGB 색화소를 염료로 제작하여, 광투과율 및 색순도 향상에 따라 디스플레이 특성이 향상된 액정표시장치의 제조 방법을 제공함에 있다.
이와 같은 본 발명의 제 1 목적을 구현하기 위한 액정표시장치는 투명 기판 상에 염료를 이용하여 형성한 색화소, 색화소의 상면에 형성된 적어도 1 개 이상의 제 1 전극, 제 1 전극 상에 형성되는 제 1 배향막을 포함하는 컬러 필터 기판, 투명 기판 상에 제 1 전극과 대향하는 제 2 전극, 제 2 전극에 전원을 공급하는 박막 트랜지스터, 박막 트랜지스터를 구동시키는 시그널이 인가되는 신호 전송선, 제 1 배향막과 대향하는 제 2 배향막을 포함하는 TFT 기판, TFT 기판의 유효 디스플레이 영역을 따라서 형성된 액정 누설 방지 월 및 TFT 기판과 컬러 필터 기판의 사이 중 상기 액정 누설 방지 월의 내부에 위치한 액정을 포함한다.
또한, 본 발명의 제 2 목적을 구현하기 위한 액정표시장치의 제조 방법은 (ⅰ) 투명 기판 상에 염료를 이용하여 형성한 색화소, 색화소의 상면에 형성된 적어도 1 개 이상의 제 1 전극, 제 1 전극 상에 형성되는 제 1 배향막을 포함하는 컬러 필터 기판, 투명 기판 상에 제 1 전극과 대향하는 제 2 전극, 제 2 전극에 전원을 공급하는 박막 트랜지스터, 제 1 배향막과 대향하는 제 2 배향막을 포함하는 TFT 기판을 제작하는 단계,(ⅱ) TFT 기판의 유효 디스플레이 영역을 따라서 액정 누설 방지 월을 형성하는 단계, (ⅲ) 액정 누설 방지 월의 내부에 액정을 드롭(drop)하여 위치시키는 단계 및 (ⅳ) TFT 기판의 상면에 컬러 필터 기판을 포갠 후, 액정 누설 방지 월을 경화시키는 단계를 포함한다.
본 발명에 의하면, 안료에 비하여 광학적 특성이 매우 우수한 염료로 RGB 색화소를 형성할 수 있도록 함으로써 액정표시패널로부터 수행되는 디스플레이 특성을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
이하, 본 발명의 일실시예에 의한 액정표시장치 및 액정표시장치의 제조 방법을 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다.
먼저, 도 4a를 참조하면, 투명한 대형 유리 모기판(200)에는 컬러필터기판 형성 영역(210)이 적어도 1 개 이상 형성된다.
보다 구체적으로, 컬러필터기판 형성 영역(210)에는 도 4b에 도시된 바와 같이 매트릭스 형태로 RGB 색화소(224)들이 형성된다. 이때, 매트릭스 형태로 배열된 복수개의 RGB 색화소(224)들은 각각 레드 파장을 갖는 광, 그린 파장을 갖는 광, 블루 파장을 갖는 광 중 어느 하나를 발생시킨다.
이와 같은 RGB 색화소(224)들로부터 고유의 색이 발현되도록 하기 위해서 RGB 색화소는 박막을 구성하는 물질에 내열성은 안료보다 떨어지지만 광학적 특성측면에서 훨씬 우수한 “염료”가 혼합되어 제작된다.
이와 같이 염료가 포함된 RGB 색화소(224)의 상면에는 컬러필터기판 형성 영역(210)의 전면적에 걸쳐 도 4b에 도시된 바와 같이 투명하면서 도전성이 뛰어난 공통 전극(222)이 형성된다.
한편, 공통 전극(222)이 형성된 상태에서 공통 전극(222)의 상면에는 배향 물질로 구성된 제 1 배향막(226)이 평탄하게 형성되고, 제 1 배향막(226)의 상면에는 러빙 공정에 의하여 배향홈(226a)이 형성된다.
이때, 제 1 배향막(226)은 도포된 후, 180℃ 이하에서 큐어링이 수행되어 일정 강도를 발생시키는 폴리이미드 계열 수지가 사용된다. 이처럼 저온 큐어링이 가능한 폴리이미드 계열 수지로 제 1 배향막(226)을 사용함은 앞서 설명한 염료의 색 쉬프트가 발생하지 않도록 하기 위함이다.
한편, 도 5a에 도시된 바와 같이 대형 유리 모기판(300)에는 다시 적어도 1 개 이상의 TFT 기판 형성 영역(310)이 형성된다.
구체적으로, TFT 기판 형성 영역(310)에는 도 5a에 도시된 바와 같이 매트릭스 형태로 복수개의 박막 트랜지스터(330), 신호선(333a,335a), 화소 전극(339)이 형성된다.
보다 구체적으로, 도 5b를 참조하면, 박막 트랜지스터(330)는 다층 박막 구조로 이루어진다. 구체적으로, 박막 트랜지스터(330)는 채널층(331), 제 1 절연막(332), 게이트 전극(333), 제 2 절연막(334), 소오스 전극(335), 드레인 전극(336)으로 구성된다.
이때, 채널층(331)은 도체 또는 부도체의 특성을 모두 갖는다. 게이트 전극(333)은 채널층(331)의 상면에 형성된 절연막(332)의 상면에 형성된다. 한편, 소오스 전극(335)은 게이트 전극(333)을 기준으로 어느 채널층(331)의 일측에 연결되고, 게이트 전극(333)을 기준으로 채널층(331)의 타측에는 드레인 전극(336)이 연결된다.
도 5a에 도시된 바와 같이, 이와 같은 박막 트랜지스터(330)의 게이트 전극(333)과 데이터 라인(335a)에는 구동 신호선(333a, 335b)이 연결된다.
구체적으로, 도 1에 도시된 바와 같이 게이트 전극(333)에는 구동 신호선의 하나인 게이트 라인(333a)이 연결되며, 소오스 전극(335)에는 또 다른 구동 신호선인 데이터 라인(335a)이 연결된다.
한편, 드레인 전극(336)에는 도 5a, 도 5b에 도시된 바와 같이 인듐 틴 옥사이드 재질로 화소 전극(339)이 형성된다.
이후, 이와 같은 구성을 갖는 TFT 기판 형성 영역(320)에는 도 5b에 도시된 바와 같이 전체 면적에 걸쳐 제 2 배향막(align film;350)이 형성된다. 이때, 배향막(301)의 상면에는 러빙 공정에 의하여 배향홈(align groove;355)이 형성된다.
이때, 제 2 배향막(350) 형성공정은 180℃ 이상의 고온 환경 또는 180℃ 이하의 저온 환경에서 큐어링이 수행되어도 무방하다.
한편, 도 6a에 도시된 바와 같이 이와 같은 구성을 갖는 TFT 기판 형성 영역(310)의 유효 디스플레이 영역으로부터 소정거리 옵셋(offset)된 곳에는 에지를 밴드 형상으로 완전히 감싸도록 소정 폭을 갖는 액정 누설 방지 월(320)이 형성된다. 이와 같은 액정 누설 방지 월(320)은 광 경화성 접착물질에 의하여 이루어진다. 구체적으로 액정 누설 방지 월(320)을 구성하는 광 경화성 접착물질은 바람직한 일실시예로 자외선 경화제다.
한편, 도 6a 또는 도 6b에 도시된 바와 같이, 액정 누설 방지 월(320)이 경화되기 이전에 액정 누설 방지 월(320)의 내부 영역에는 액정(370)이 소정량 드롭 된다.
이와 같이 TFT 기판 형성 영역(310)에 액정 누설 방지 월(320)이 형성 및 액정(370)이 드롭 된 상태에서 도 7에 도시된 바와 같이 TFT 기판 형성 영역(310)에는 앞서 설명한 컬러필터기판 형성 영역(210)이 겹쳐진다. 이하, 이처럼 TFT 기판 형성 영역(310) 및 컬러필터기판 형성 영역(210)이 겹쳐진 기판을 “조립기판(390)”이라 칭하기로 한다. 또한, 조립 기판(390)중 상호 겹쳐진 TFT 기판 형성 영역(310) 및 컬러필터기판 형성 영역(210)을 “LCD 단위셀”이라 정의하기로 한 다.
이처럼 LCD 단위셀이 제작되는 과정에서 액정(370)은 균일한 분포를 갖도록 스프레드된다. 이때, 액정(370)이 단지 스프레드된 상태로는 정밀한 디스플레이를 수행할 수 없는 바, 액정(370)의 셀 갭(cell gap)이 확보되어야 한다.
이와 같이 액정(370)의 셀 갭을 확보하기 위해서 조립기판(390)은 프레스 공정에 의하여 적정 압력이 가해진다. 보다 구체적으로, 조립기판(390)의 액정의 셀 갭이 프레스 공정에 의하여 정밀하게 이루어진 상태에서 조립기판(390)에는 자외선이 공급되어 액정 누설 방지 월(320)은 경화된다.
이후, 액정 주입까지 종료된 LCD 단위셀은 절단되어 “액정표시패널”이 제작된다.
이와 같은 액정표시패널의 열 경화성 액정 누설 방지 월(320) 및 자외선을 사용 및 컬러필터기판 형성 영역(210)에서의 제 1 배향막(226)을 180℃ 이하의 저온 공정에서 큐어링 함으로써 컬러필터기판 형성 영역(210)에 형성된 RGB 색화소에 포함된 “염료”의 색 쉬프트를 방지할 수 있다. 즉, 이는 RGB 색화소에 안료보다 뛰어난 광학 특성을 갖는 염료를 사용할 수 있음을 의미한다.
이하, 첨부된 도 8을 참조하여, 본 발명의 일실시예에 의한 액정표시패널의 제조 방법을 설명하기로 한다.
먼저, 서로 다른 공정 경로를 통하여 대형 유리 모기판(200,300)에는 각각 컬러필터기판 형성 영역(210) 및 TFT 기판 형성영역(310)이 형성된다.(단계 1)
이때, 컬러필터기판 형성 영역(210)을 제작하는 과정 중 마지막 공정에 해당 하는 제 1 배향막(226)의 큐어링은 180℃ 이하에서 수행되도록 한다.
이어서, TFT 기판 형성영역(310)의 에지보다 다소 크도록 액정 누설 방지 월(320)이 형성된다. 이때, 액정 누설 방지 월(320)은 광 경화성 물질로 제작된다.(단계 2)
이후, 액정 누설 방지 월(320)의 내측 영역에는 소정량의 액정이 드롭 된다.(단계 3)
이와 같이 액정 누설 방지 월(320)의 내부에 액정이 드롭 된 상태에서, 컬러필터기판 형성영역(210)과 TFT 기판 형성영역(310)이 겹쳐지면서 “조립기판” 및 조립 기판에 복수개의 “LCD 단위셀”이 제작된다.
이어서, 컬러필터기판 형성영역(210)과 TFT 기판 형성영역(310)의 사이에 위치한 액정(370)의 셀 갭이 정확하게 세팅되도록 프레스 공정이 진행된다.(단계 4)
이후, 셀 갭이 정확하게 세팅 된 상태에서 셀 갭의 변동이 발생하지 않도록 함은 물론 컬러필터기판 형성 영역(210)과 TFT 기판 형성 영역(310)의 유동이 발생하지 않도록 하기 위해서 액정 누설 방지 월(320)에는 자외선이 주사된다.(단계 5)
이어서, “조립 기판”의 LCD 단위셀은 대형 유리 모기판(200, 300)으로부터 절단에 따라 개별화되어 “액정표시패널”이 제작된다.
이상에서 상세하게 설명한 바에 의하면, 안료에 비하여 광학적 특성이 매우 우수한 염료로 RGB 색화소를 형성할 수 있도록 함으로써 액정표시패널로부터 수행되는 디스플레이 특성을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.
앞서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (10)

  1. 투명 기판 상에 염료를 이용하여 형성된 색화소, 상기 색화소의 상면에 형성된 적어도 1 개 이상의 제 1 전극, 상기 제 1 전극 상에 형성되고 100℃ 내지 180℃에서 경화된 제 1 배향막을 포함하는 컬러 필터 기판;
    투명 기판 상에 상기 제 1 전극과 대향하는 제 2 전극, 상기 제 2 전극에 전원을 공급하는 박막 트랜지스터, 상기 박막 트랜지스터를 구동시키는 시그널이 인가되는 신호 전송선, 상기 제 1 배향막과 대향하는 제 2 배향막을 포함하는 TFT 기판;
    상기 TFT 기판의 유효 디스플레이 영역을 따라서 형성된 액정 누설 방지 월(wall); 및
    상기 TFT 기판과 상기 컬러 필터 기판의 사이 중 상기 액정 누설 방지 월의 내부에 위치한 액정을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  2. 제 1 항에 있어서, 상기 색화소는 박막 형성 물질에 상기 염료의 입자가 용융되어 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 1 배향막은 폴리이미드 계열 수지인 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 액정 누설 방지 월은 광에 의하여 경화되는 광 경화성 접착제인 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 광은 자외선이고, 상기 광 경화성 접착제는 자외선 경화 물질로 구성된 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  6. 제 4 항에 있어서, 상기 액정 누설 방지 월은 끊어진 곳이 없는 밴드(band) 형상인 것을 특징으로 하는 액정표시패널.
  7. (ⅰ) 투명 기판 상에 염료를 이용하여 형성한 색화소, 상기 색화소의 상면에 형성된 적어도 1 개 이상의 제 1 전극, 상기 제 1 전극 상에 형성되고 100℃ 내지 180℃에서 경화되는 제 1 배향막을 포함하는 컬러 필터 기판, 투명 기판 상에 상기 제 1 전극과 대향하는 제 2 전극, 상기 제 2 전극에 전원을 공급하는 박막 트랜지스터, 상기 제 1 배향막과 대향하는 제 2 배향막을 포함하는 TFT 기판을 제작하는 단계;
    (ⅱ) 상기 TFT 기판의 유효 디스플레이 영역을 따라서 액정 누설 방지 월을 형성하는 단계;
    (ⅲ) 상기 액정 누설 방지 월의 내부에 액정을 드롭(drop)하여 위치시키는 단계; 및
    (ⅳ) 상기 TFT 기판의 상면에 상기 컬러 필터 기판을 포갠 후, 상기 액정 누설 방지 월을 경화시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조 방법.
  8. 제 7 항에 있어서, 상기 액정 누설 방지 월을 경화시키는 단계에는 상기 TFT 기판과 상기 컬러 필터 기판의 갭이 조절되는 단계가 더 포함되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조 방법.
  9. 제 7 항에 있어서, 상기 제 1 배향막을 형성하는 단계는 폴리이미드 수지를 상기 투명 기판 상에 도포하는 단계, 도포된 상기 폴리이미드를 100℃ 내지 180℃ 로 큐어링을 수행하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조 방법.
  10. 제 7 항에 있어서, 상기 액정 누설 방지 월은 자외선에 의하여 경화되는 것을 특징으로 하는 액정표시패널의 제조 방법.
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