KR100810028B1 - 플라즈마 챔버용 챔버 실드 - Google Patents

플라즈마 챔버용 챔버 실드 Download PDF

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Abstract

본 발명은 플라즈마 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판(502); 상기 플라즈마 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판(504); 및 상기 플라즈마 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판(506)을 포함하고, 상기 천정 실드판(502)의 후단 모서리는 상기 후면 실드판(506)의 상단 모서리(526)와 만나고, 상기 바닥 실드판(504)의 후단 모서리는 상기 후면 실드판(506)의 하단 모서리(528)와 만나도록 하여 상기 천정 실드판(502)과 바닥 실드판(504), 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 실질적으로 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 따라서 플라즈마 챔버의 운용중에 상기 플라즈마 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키는, 플라즈마 챔버의 실드에 관한 것이다.
프라즈마 챔버, 소스 챔버, 실드 시스템, 실드판, 증착

Description

플라즈마 챔버용 챔버 실드{CHAMBER SHIELDS FOR A PLASMA CHAMBER}
본 발명은 플라즈마를 생성하는 챔버를 위한 진보된 실딩 시스템에 관한 것이다.
전형적인 반도체 제조공정에 있어서 플라즈마는 다양한 목적을 위해서 자주 사용된다. 예를들면, 반도체 웨이퍼 상에 형성된 층을 에칭시키거나, 반도체 웨이퍼 상에 재료를 증착시키기 위해서도 사용된다. 이방성 플라즈마 에칭과 같은 공정 기술은 널리 알려져 있고, 플라즈마 화학 증착(PECVD)과 같은 공정도 널리 알려져 있다. 그러한 설비에 있어서, 상기 플라즈마는 전형적으로 챔버 내에서 생성되고, 상기 챔버 벽의 구멍을 통과하여 웨이퍼에 적용된다. 플라즈마가 사용되는 또다른 전형적인 반도체 제조 공정은 이온 주입(ion implantation) 공정이다. 특히 플라즈마는 이온 주입기의 소스 챔버 내에서 형성된다.
도1은 플라즈마가 생성되는 챔버(100)의 내부를 도시한 사시도이다. 상기 도1에서 묘사된 장비는 Vrian에 의해서 공급된 이온 주입기의 소스 챔버이다. 상기 챔버가 도시되는 목적에 맞게 잘 보일 수 있도록 덮개 판은 제거된 상태이다. 상기 챔버 내에서 플라즈마가 형성될 때마다 상기 챔버의 안쪽 표면에 증착물이 형성된다. 이러한 증착물은 점차 축적되고, 예방 보수를 위해 설비의 사용을 중단할 필요가 생기게 된다.
도1에 도시된 상기 챔버(100)는 천정면(102), 바닥면(104), 이온 빔이 통과하여 상기 챔버(100)를 빠져나가는 빔 구멍(106)을 포함하는 안쪽 표면을 갖는다. 도1에 묘사된 바와 같이 상기 천정면(102)은 일반적으로 편평하고, 천정 마그네트를 고정하는데, 이는 부분적으로 천정 마그네트 덮개(108)에 의해 덮여있다. 마찬가지로, 상기 바닥면(104)도 바닥 마그네트 덮개(110)에 의해 부분적으로 덮여진 바닥 마그네트를 고정한다. 나아가 상기 챔버(100)는, 예를들면 챔버 내의 진공 상태를 만들고 유지하기 위해서 사용되는 터보 펌프와 같은, 진공 펌프와 유체를 교환한다. 상기 터보 펌프는 상기 플라즈마로부터 플랜지(112)에 의해 부분적으로 차폐된다.
도1에 묘사된 구조에 있어서, 장비 제조자는 상기 챔버의 후면에 가깝게 도시된 두개의 실드(114, 116)를 포함시켰다. 상기 장비가 작동될 때, 상기 증착물은 이러한 실드 상에 형성되고, 상기 실드들은 청소를 위해 제거될 수 있다.
도2는 도1에 도시된 상기 챔버의 측벽(201)을 도시한 사시도이다. 도2는 닿기도 어렵고 효과적으로 청소하기도 힘든 다수의 코너와 곡면(202)을 함께 가지는 상기 챔버(100)의 측벽을 도시한다. 주기적인 또는 예방적인 보수 사이에 이러한 벽에 증착된 물질을 청소하느라 기술자들이 수 시간을 소비하는 것은 보기드문 일이 아니다.
도3은 도1에 도시된 상기 챔버의 바닥 벽(302)(도1의 104)을 도시한다. 도3은 상기 챔버의 바닥면(원형 영역)의 마그네트들(304) 중 하나를 상기 마그네트(304)를 부분적으로만 둘러싸는 실드(306)(도1의 110)와 함께 도시한다. 상기 실드 또한 상기 챔버 내에서 형성된 플라즈마로부터 증착물을 받고, 따라서 청소되어야 한다. 상기 도면(도3)에서 보여지는 바와 같이 본래의 제조자에 의해 공급된 소스 마그네트 덮개(306)는 상기 소스 마그네트 영역을 충분히 보호하지 못해서, 보통의 작동 과정 동안에 상당량의 증착물을 받는다. 도3은 또한 상기 플라즈마로부터 상기 터보 펌프 또는 그 주변에 증착되는 것을 방지하기 위해 사용되는 플랜지(308)(도1의 112)를 도시한다.
도4는 상기 소스 터보 펌프(미도시) 주변 영역(400)을 도시한다. 상기 소스 터보 펌프는 상기 플랜지(308)에 의해서 상기 플라즈마로 인한 증착으로부터 부분적으로 보호된다. 상기 챔버가 청소될 때 상기 소스 터보 펌프를 둘러싸는 상기 영역이 상기 챔버를 청소하기 위해 사용되는 유체를 모으고, 수동으로는 제거가 본질적으로 불가능한 장소에 그것을 가둔다. 결과적으로, 상기 갇힌 유체는 상기 챔버를 진공상태까지 펌핑하며 모든 축적된 유체가 기화될 때까지 기다림으로써 제거된다. 상기 챔버의 청소 및 가스 방출 시간이 더해지면 예방 보수에 걸리는 시간이 크게 늘어나게 된다. 물론, 상기 모든 시간 동안에 설비는 정지되고, 제품은 생산될 수 없으며, 효율적인 운용에 못 미치게 된다.
따라서 상기 플라즈마 챔버의 진공 펌프 주변을 비롯한 내부 표면이 상기 플라즈마로 인한 증착물로부터 적절하게 보호되도록 하는 진보된 실드 시스템이 요구 된다.
본 발명은, 상기 플라즈마 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판; 상기 플라즈마 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판; 및 상기 플라즈마 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판을 포함하고, 상기 천정 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 상단 모서리와 만나고, 상기 바닥 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 하단 모서리와 만나도록 하여 상기 천정 실드판과 바닥 실드판, 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 실질적으로 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 그럼으로써 플라즈마 챔버의 운용중에 상기 플라즈마 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키는, 플라즈마 챔버에 사용되는 실드 시스템에 직접적으로 관계된 것이다.
추가적으로, 상기 천정의 어떤 면, 또는 바닥, 또는 상기 천정과 바닥 실드판 모두는 실질적으로 편평한 판상부를 포함하고 상기 플라즈마 챔버의 안쪽 표면으로부터 돌출된 부재에 맞춰지도록 형성되고, 그럼으로써 상기 실드판의 상기 실질적으로 편평한 판상부가 상기 플라즈마 챔버의 안쪽 표면에 인접하게 꼭 맞춰지도록 할 수 있는 구조 부재를 더 포함한다.
뿐만아니라, 상기 후면 실드판은 상기 챔버로부터의 이온 배출을 위해 전술한 플라즈마 챔버의 구멍과 정렬된 구멍을 포함한다. 어떤 실시예에 있어서는, 상기 천정 실드판, 상기 바닥 실드판 및 후면 실드판이 그래파이트로 만들어질 수 있 다.
위에서 설명한 상기 세 개의 실드 부분에 부가하여, 본 발명에 의한 실드 시스템의 한 실시예는 실질적으로 상기 플라즈마 챔버 진공 펌프를 둘러싸는 플랜지와 유사한 플랜지 실드를 더 포함한다. 상기 플랜지 실드는 상기 플랜지를 확장하고 그에 따라 상기 플라즈마 챔버 내에서 상기 진공 펌프 주변의 증착물을 줄이기 위해 상기 진공 펌프를 둘러싸는 플랜지와 결합되도록 형성된다.
이에 더하여, 본 발명에 의한 상기 실드 시스템의 어느 한 실시예는 천정 확장 실드판을 포함한다. 상기 천정 확장 실드판은 상기 천정 실드판의 모서리와 실질적으로 동일한 사이즈의 모서리를 갖고, 상기 천정 확장 실드판은 이 모서리를 따라 그루브를 가지며, 상기 천정 실드판은 그에 대응하는 모서리를 따라 돌출편을 가짐으로써 상기 천정 확장 실드판의 그루브가 상기 천정 실드판의 돌출편을 수용하도록 형성된다. 뿐만아니라, 상기 돌출편과 그루브의 배치에 더하여, 상기 천정 확장 실드판은 천정 확장 지지부재에 의해 지지되고, 상기 지지부재는 상기 그루브를 가지는 모서리 외의 다른 모서리를 따라 상기 천정 확장 실드를 지지하도록 형성된다.
본 발명의 본질과 장점에 대한 보다 나은 이해를 위해서, 첨부된 도면과 함께 그에 따르는 설명이 언급될 것이다.
도1은 그 내부에서 플라즈마가 형성되는 챔버의 내부를 도시한 사시도이다.
도2는 도1에 도시된 상기 챔버의 측벽을 도시한 사시도이다.
도3은 도1에 도시된 상기 챔버의 바닥 벽을 도시한 사시도이다.
도4는 도1의 챔버를 위한 소스 터보 펌프의 주변 영역을 도시한 사시도이다.
도5는 본 발명의 한 실시예에 따른 실딩 요소들을 도시한 사시도이다.
도6은 본 발명의 한 실시예에 따른 흘랜지 실드 요소를 보다 상세하게 도시한 사시도이다.
도7은 본 발명의 한 실시예에 따른 천정 확장 실드 지지부재를 보다 상세하게 도시한 평면도이다.
도7a는 도7의 A-A 단면을 도시한 단면도이다.
본 발명의 실시예들은 도1에 묘사된 바와 같은 챔버를 위한 실딩 시스템에 초점을 둔 것으로, 상기 실딩은 종래의 실딩보다 더 쉽게 맞추어지고, 상기 챔버에 대하여 더 나은 보호를 제공한다. 상기 실딩은 도5에 도시된다. 그것은 상대적으로 설치가 용이하고, 일단 챔버 내에 설치되면 안정적이다. 상기 플라즈마 챔버가 운용될 때, 약간의 물질들은 종전과 마찬가지로 측벽에 증착된다. 그러나 여기서는, 내부의 실딩이 상대적으로 제거되기 쉽기 때문에, 상기 내부의 실딩을 제거하고 깨끗한 실딩으로 교체하는 것은 챔버의 중단시간을 줄여주는 직접적인 원인이 된다.
도5는 본래의 묘사에 따른 상기 챔버 내에 도입되었다면 설치되었을 위치에 대부분의 실딩 요소들(500)을 도시한다. 바꿔 말하면, 상기 천정판(502), 바닥판(504) 및 후면판(506)은 모두 보여진 바와 같이 정렬될 것이다. 상기 챔버와 상기 실딩 사이의 상호 연결 방식은 한정되지 않으며, 어떤 잘 알려진 기술이라도 이용될 수 있다. 바람직한 실시예에 있어서 그것은 나사못, 핀, 볼트 등의 재래식 체결구들에 의해 고정된다. 상기 도5에서 보여진 바와 같이, 상기 실딩(500)은 플랜지 실드(510) 및 천정 확장 지지부재(512)와 함께 바닥판(504), 후면판(506), 천정판(502) 및 천정 확장판(508)을 포함한다. 이러한 요소들은 본질적으로 노출된 모든 안쪽 표면을 커버하기 위해 함께 결합된다. 따라서 제조자가 공급한 실드에 설치된 것과 같이 단지 내부적으로 노출된 표면의 일부분만 커버하는 것이 아니라, 본 발명의 실시예에 따른 상기 실딩 시스템은 본질적으로 노출된 상기 플라즈마 챔버의 모든 안쪽 표면을 커버하기 위해 서로 맞춰진다.
상기 도면(도5)에서 보여지는 바와 같이, 천정판(502)과 바닥판(504)은 상기 천정과 바닥 표면으로부터의 돌출부(이를테면, 소스 챔버 내의 소스 마그네트)에 맞는 구조를 가진다는 점에서 실질적으로 서로 유사하다. 예를들면, 상기 천정판(502) 상에 보여지는 바와 같이 상기 천정판(502)의 꼭데기로부터 위로 확장된 돌출부(514)는 상기 천정 소스 마그네트(도3의 304)에 꼭 맞으며 이를 커버한다. 상기 천정판(502)으로부터 돌출된 상기 구조의 뒤편은 상기 바닥판(504) 상에 보여지는 돌출부(516)와 같이 보여질 수 있다. 상기 천정판(502)과 바닥판(504)으로부터 돌출된 상기 구조들(514,516)은 어떤 모양도 가질 수 있고, 상기 천정판 및 바닥판으로 덮인 상기 챔버의 천정 및 바닥 표면으로부터 확장된 융기부에 대응되고 꼭 맞춰질 수 있는 형상을 갖는 것이 바람직하다. 도5에 도시된 상기 실드 실시 예에 있어서, 상기 구조(514,516)는 일반적으로 그것이 커버해야할 마그네트의 모양에 대응되도록 타원형의 모양을 띤다. 그래서, 운용중에 상기 천정판(502)과 바닥판(504)은 천정과 바닥 마그네트와 같이 상기 챔버의 안쪽 표면으로부터 돌출된 구조에 꼭 맞춰진다. 상기 천정판(502)과 바닥판(504)은 모두 상기 천정판(502)과 바닥판(504) 내의 구멍(520)을 통하여 끼워지는 재래식 체결구를 이용하여 상기 챔버의 천정 및 바닥 표면에 결합된다.
후면판(506)은 역시 상기 챔버의 뒤편에 맞도록 형성된다. 상기 도5에 보여진 바와 같이, 상기 후면판(506)은 플라즈마 또는 이온 빔이 통과시켜 상기 챔버를 빠져 나갈 수 있게하는 구멍(522)을 구비한다. 뿐만아니라, 상기 후면판(506)은 상기 후면판(506) 내의 구멍(524)을 통해 끼워지는 재래식 체결구를 이용하여 상기 챔버의 뒷면에 결합된다. 상기 후면판(506)은 일단 상기 실드 시스템이 설치되고 나면 아래에 놓인 챔버 표면들이 각각 충분히 커버되도록 보장하기 위하여 상기 천정판(502)과 바닥판(504)에 대하여 돌출된 상단부(526)와 하단부(528)를 포함한다.
상기 천정판(502), 바닥판(504) 및 후면판(506) 외에 상기 실드 시스템은 상기 천정 확장 지지부재(512)에 의해 지지되는 천정 확장부(508)를 더 구비한다. 부가적으로, 상기 실드 시스템은 플랜지 실드(510)를 포함한다. 도6은 상기 플랜지 실드(600)(도5의 510)를 보다 상세하게 도시한 사시도이다. 본발명의 실시예에 따른 상기 플랜지 실드(600)는 진공 펌프를 둘러싸는 플랜지로서 설계된다. 플랜지 실드(600) 내의 그루브(602)는 실딩을 향상시키고, 상기 진공 펌프 주변 영역의 플라즈마로 인한 증착물 감소를 촉진시키기 위하여 상기 플랜지(도1의 112)에 맞춰진 다. 이 영역에 대한 증가되고 향상된 실딩 기능이 상기 영역에 대한 습식 청소(wet cleaning)의 필요성을 최소화하거나 없앨 것이다. 결과적으로, 습식 청소를 위한 어떤 액체도 사용되지 않고 따라서 청소하는 동안 어떤 액체도 남지 않기 때문에, 주기적인 보수에 이은 가스방출(outgassing)에 요구되는 시간 역시 획기적으로 향상된다.
도7은 본 발명의 한 실시예에 따른 천정 확장 실드 지지부재(700)를 보다 상세하게 도시한 평면도이다. 도7a는 상기 도7의 A-A단면을 도시한다. 상기 도7a에 도시된 바와 같이, 천정 확장 실드 지지부재(700) 내의 그루브(702)에는 상기 제조자가 공급한 실드(114)가 끼워진다. 볼트(704)는 상기 지지부재(700)와 결합되고 또 그로부터 연장되어 상기 지지부재(700)의 상단에 놓여지는 상기 천정 확장 실드판(508)이 상기 챔버 내에서 안정적인 방식으로 지지되는 것을 보장한다.
상기 천정 확장 지지부(512) 외에, 상기 천정 확장판(508)은 상기 천정 확장 실드가 상기 챔버 내에서 안정적인 방식으로 설치되는 것을 보장하기 위하여 상기 천정 실드(502) 일단의 그루브(532)와 대응되는 일단에 돌출편(580)을 구비한다.
전술한 실드는 그래파이트로 만들어지는 것이 바람직하나, 스테인레스강, 알루미늄 또는 다른 소재로 만들어질 수도 있다.
전술한 실드 시스템과 이를 지지하는 부품들은 (소스 챔버 내의 마그네트 주변 영역과 같이) 많은 증착이 일어나는 표면들을 포함하는 상기 챔버의 안쪽 표면을 충분히 실드하기 위하여 상기 챔버 내에서 안정적인 방식으로 서로 맞추어지도록 형성된다. 본 발명의 실시예에 따른 실드 시스템은 그것이 장착된 챔버의 유용 한 운용 시간을 증가시키고, 그로인해 그러한 챔버를 이용하여 가공되는 집적회로의 생산성을 더욱 향상시킨다. 특히, 여분의 실드를 활용할 수 있다는 것은 필요 발생시에 상기 실드가 빠르게 교체되고 청소될 수 있도록 실드의 신속한 교체를 가능하게 한다. 이런 교환성과 쉬운 청소는 예를들면 소스 챔버와 같은 챔버의 청소 시간을 수 시간까지 감소시키고, 따라서 전체적인 제조 공정이 훨씬 더 효율적으로 되도록 한다. 뿐만아니라, 본 발명의 실시예에 따른 상기 실드 시스템의 사용과 그로인해 얻어지는 챔버의 습식 청소의 배제는 가스방출을 위한 시간 또한 감축시킨다. 이러한 가스방출을 위한 시간의 감축은 진공 회복에 걸리는 시간은 수 시간에 이를 정도로 더욱더 감축시키며, 따라서 전체적인 제조 공정이 훨씬 더 효율적으로 되도록 한다. 아울러 상기 증가된 커버 실드의 조합과 습식 청소의 배제라는 그 결과는 예방 보수에 요구되는 시간도 수 시간(예를들면, 여섯 시간 이상)까지 감축시키고, 이는 상기 실딩 시스템이 설치된 시스템 전체의 활용성을 획기적으로 증진시킨다.
당해 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자들에게 이해되는 바와 같이, 본 발명은 그 필수적인 특징으로부터 벗어나지 않은 다른 소정의 형태로 실시될 수 있다. 예를들면, 상기 천정, 바닥 또는 후면 실드는 마그네트와 같이 이들이 끼워맞춰져야 할 상기 챔버의 안쪽 표면으로부터의 돌출물을 수용하고 맞춰질 수 있는 임의의 형태를 갖는 표면 돌출부를 구비한다. 또한, 상기 실드는 그래파이트, 알루미늄, 기타 금속 또는 적절한 제조 공정들의 임의의 조합이 사용된 합성재료와 같은 많은 종류의 적절한 고재들로부터 만들어질 수 있다. 이러한 다른 실시예들은 이하 의 청구항들에서 개진될 본 발명의 범위 내에 포함될 것이다.

Claims (15)

  1. 플라즈마 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판;
    상기 플라즈마 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판;
    상기 플라즈마 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판; 및
    상기 플라즈마 챔버는 이온 주입기를 위한 소스 챔버를 포함하고,
    상기 천정 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 상단 모서리와 만나고, 상기 바닥 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 하단 모서리와 만나도록 하여 상기 천정 실드판과 바닥 실드판, 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 따라서 플라즈마 챔버의 운용중에 상기 플라즈마 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 천정 실드판은 직사각형 형상인,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 천정 실드판은 편평한 판상부를 포함하고,
    상기 플라즈마 챔버의 천정 안쪽 표면으로부터 돌출된 부재에 맞춰지도록 형성되고, 그럼으로써 상기 천정 실드판의 상기 편평한 판상부가 상기 플라즈마 챔버의 천정 안쪽 표면에 인접하게 꼭 맞춰지도록 할 수 있는 구조 부재를 더 포함하는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 바닥 실드판은 편평한 판상부를 포함하고,
    상기 플라즈마 챔버의 바닥 안쪽 표면으로부터 돌출된 부재에 맞춰지도록 형성되고, 그럼으로써 상기 바닥 실드판의 상기 편평한 판상부가 상기 플라즈마 챔버의 바닥 안쪽 표면에 인접하게 꼭 맞춰지도록 할 수 있는 구조 부재를 더 포함하는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 후면 실드판은 상기 챔버로부터의 이온 방출을 위하여 상기 플라즈마 챔버의 구멍에 대하여 정렬된 구멍을 포함하는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 천정 실드판, 상기 바닥 실드판 및 상기 후면 실드판은 상기 챔버의 안쪽 표면에 체결구를 이용하여 부착되기 위한 구조로 형성되는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 천정 실드판, 상기 바닥 실드판 및 상기 후면 실드판은 그래파이트로 제조되는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 플라즈마 챔버의 진공 펌프를 둘러싸는 플랜지와 유사한 형상을 갖는 플랜지 실드를 더 포함하고,
    상기 플랜지 실드는 상기 플랜지를 확장하고 그로써 상기 플라즈마 챔버 내의 진공 펌프 주변에서 증착물을 감소시키기 위하여 상기 플랜지와 결합되도록 형성된,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 천정 실드판의 모서리와 동일한 사이즈의 모서리를 갖고, 이 모서리를 따라 그루브를 가지는 천정 확장 실드판을 더 포함하고,
    상기 천정 실드판은 상기 천정 실드판의 상기 모서리를 따라 돌출편을 더 포함하며,
    상기 천정 확장 실드판의 그루브는 상기 천정 실드판의 상기 돌출편을 수용하도록 형성되는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    천정 확장부 지지부재를 더 포함하고,
    상기 지지부재는 상기 그루브를 가지는 모서리 이외의 다른 모서리를 따라서 상기 천정 확장 실드판을 지지하도록 형성되는,
    플라즈마 챔버의 실드 시스템.
  12. 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판;
    상기 소스 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판; 및
    상기 소스 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판을 포함하고,
    상기 천정 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 상단 모서리와 만나고, 상기 바닥 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 하단 모서리와 만나도록 하여 상기 천정 실드판과 바닥 실드판, 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 따라서 상기 소스 챔버의 운용중에 상기 소스 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키는,
    이온 주입기의 소스 챔버에 사용되는 실딩 시스템.
  13. 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판;
    상기 소스 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판; 및
    상기 소스 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판을 포함하고,
    상기 천정 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 상단 모서리와 만나고, 상기 바닥 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 하단 모서리와 만나도록 하여 상기 천정 실드판과 바닥 실드판, 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 따라서 상기 소스 챔버의 운용중에 상기 소스 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키고,
    상기 천정 실드판은 편평한 판상부를 포함하고, 상기 소스 챔버의 천정 안쪽 표면으로부터 돌출된 부재에 맞춰지도록 형성되고, 그럼으로써 상기 천정 실드판의 상기 편평한 판상부가 상기 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 인접하게 꼭 맞춰지도록 할 수 있는 구조 부재를 더 포함하는,
    이온 주입기의 소스 챔버에 사용되는 실딩 시스템.
  14. 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판;
    상기 소스 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판; 및
    상기 소스 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판을 포함하고,
    상기 천정 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 상단 모서리와 만나고, 상기 바닥 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 하단 모서리와 만나도록 하여 상기 천정 실드판과 바닥 실드판, 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 따라서 상기 소스 챔버의 운용중에 상기 소스 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키고,
    상기 천정 실드판은 편평한 판상부를 포함하고, 상기 소스 챔버의 천정 안쪽 표면으로부터 돌출된 부재에 맞춰지도록 형성되고, 그럼으로써 상기 천정 실드판의 상기 편평한 판상부가 상기 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 인접하게 꼭 맞춰지도록 할 수 있는 구조 부재를 더 포함하며,
    상기 후면 실드판은 상기 챔버로부터의 이온 방출을 위하여 상기 소스 챔버의 구멍에 대하여 정렬된 구멍을 포함하는,
    이온 주입기의 소스 챔버에 사용되는 실딩 시스템.
  15. 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 천정 실드판;
    상기 소스 챔버의 바닥 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 바닥 실드판; 및
    상기 소스 챔버의 후면 안쪽 표면에 부착되도록 형성된 후면 실드판을 포함하고,
    상기 천정 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 상단 모서리와 만나고, 상기 바닥 실드판의 후단 모서리는 상기 후면 실드판의 하단 모서리와 만나도록 하여 상기 천정 실드판과 바닥 실드판, 그리고 후면 실드판이 상기 챔버의 안쪽 표면을 덮어주도록 서로 꼭 맞으며, 따라서 상기 소스 챔버의 운용중에 상기 소스 챔버의 안쪽 표면에 대한 증착물을 감소시키고,
    상기 천정 실드판은 편평한 판상부를 포함하고, 상기 소스 챔버의 천정 안쪽 표면으로부터 돌출된 부재에 맞춰지도록 형성되고, 그럼으로써 상기 천정 실드판의 상기 편평한 판상부가 상기 소스 챔버의 천정 안쪽 표면에 인접하게 꼭 맞춰지도록 할 수 있는 구조 부재를 더 포함하고,
    상기 후면 실드판은 상기 챔버로부터의 이온 방출을 위하여 상기 소스 챔버의 구멍에 대하여 정렬된 구멍을 포함하며,
    상기 소스 챔버의 진공 펌프를 둘러싸는 플랜지와 유사한 형상을 가지고, 상기 플랜지를 확장하고 그로써 상기 소스 챔버 내의 진공 펌프 주변에서 증착물을 감소시키기 위하여 상기 플랜지와 결합되도록 형성된 플랜지 실드, 및
    상기 천정 실드판의 모서리와 동일한 사이즈의 모서리를 갖고, 이 모서리를 따라 그루브를 가지는 천정 확장 실드판을 포함하고,
    상기 천정 실드판은 상기 천정 실드판의 상기 모서리를 따라 돌출편을 더 포함하며,
    상기 천정 확장 실드판의 그루브는 상기 천정 실드판의 상기 돌출편을 수용하도록 형성되는,
    이온 주입기의 소스 챔버에 사용되는 실딩 시스템.
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