KR100803562B1 - Apparatus for processing a substrate - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래의 반도체 제조 장치를 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing a conventional semiconductor manufacturing apparatus.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 평면도이다. 도 3은 도 2의 기판 처리 장치의 트랜스퍼 모듈을 나타내는 평면도이다. 2 is a plan view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a plan view illustrating a transfer module of the substrate processing apparatus of FIG. 2.
도 4는 도 2의 기판 처리 장치의 트랜스퍼 모듈을 나타내는 단면도이다.4 is a cross-sectional view illustrating a transfer module of the substrate processing apparatus of FIG. 2.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
10 : 반도체 제조 장치 15 : 로드 포트10: semiconductor manufacturing apparatus 15: load port
20 : 기판 전달 모듈 30 : 로드락 챔버20: substrate transfer module 30: load lock chamber
40 : 공정 챔버 50 : 트랜스퍼 모듈40: process chamber 50: transfer module
51 : 버퍼 공간 55 : 이송 로봇51: buffer space 55: transfer robot
100 : 기판 처리 장치 110 : 기판100
150 : 기판 이송 모듈 160 : 로드 포트150: substrate transfer module 160: load port
170 : 웨이퍼 용기 180 : 전달 로봇170: wafer container 180: transfer robot
200 : 로드락 챔버 210 : 로딩 챔버200: load lock chamber 210: loading chamber
220 : 언로딩 챔버 310 : 제1 트랜스퍼 모듈 220: unloading chamber 310: first transfer module
315 : 제1 이송 로봇 321 : 기판 지지대 315: first transfer robot 321: substrate support
322 : 수평이동 구동부 323 : 수직이동 구동부322: horizontal moving drive unit 323: vertical moving drive unit
320 : 제2 트랜스퍼 모듈 325 : 제2 이송 로봇320: second transfer module 325: second transfer robot
410 : 제1 공정 챔버 411 : 제1 게이트 밸브410: first process chamber 411: first gate valve
420 : 제2 공정 챔버 421 : 제2 게이트 밸브420: second process chamber 421: second gate valve
500 : 슬롯 밸브 510, 610 : 온도 조절부500:
520 : 예열부 521 : 히팅 블록520: preheating unit 521: heating block
525, 535 : 리프트 핀 530 : 냉각부525, 535: lift pin 530: cooling unit
531 : 냉각 블록531: Cooling Block
본 발명은 기판 처리 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 공정 챔버 내로/부터 반입/반출되는 기판의 온도를 조절하는 온도 조절부를 갖는 트랜스퍼 모듈을 포함하는 기판 처리 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate processing apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus including a transfer module having a temperature control unit for controlling the temperature of the substrate to be brought in and out of the process chamber.
일반적으로 반도체 장치는 반도체 웨이퍼으로 사용되는 실리콘웨이퍼 상에 전기 소자들을 포함하는 전기적인 회로를 형성하는 팹(Fab) 공정과, 상기 팹 공정에서 형성된 반도체 장치들의 전기적인 특성을 검사하기 위한 EDS(electrical die sorting) 공정과, 상기 반도체 장치들을 각각 에폭시 수지로 봉지하고 개별화시키기 위한 패키지 조립 공정을 통해 제조된다.In general, a semiconductor device includes a Fab process for forming an electrical circuit including electrical elements on a silicon wafer used as a semiconductor wafer, and an EDS (electrical) for inspecting electrical characteristics of the semiconductor devices formed in the fab process. die sorting) and a package assembly process for encapsulating and individualizing the semiconductor devices with an epoxy resin.
상기 팹 공정은 웨이퍼 상에 막을 형성하기 위한 증착 공정과, 상기 막을 평탄화하기 위한 화학적 기계적 연마 공정과, 상기 막 상에 포토레지스트 패턴을 형 성하기 위한 포토리소그래피 공정과, 상기 포토레지스트 패턴을 이용하여 상기 막을 전기적인 특성을 갖는 패턴으로 형성하기 위한 식각 공정과, 웨이퍼의 소정 영역에 특정 이온을 주입하기 위한 이온 주입 공정과, 웨이퍼 상의 불순물을 제거하기 위한 세정 공정과, 상기 막 또는 패턴이 형성된 웨이퍼의 표면을 검사하기 위한 검사 공정 등을 포함한다.The fab process includes a deposition process for forming a film on a wafer, a chemical mechanical polishing process for planarizing the film, a photolithography process for forming a photoresist pattern on the film, and the photoresist pattern. An etching process for forming the film into a pattern having electrical characteristics, an ion implantation process for implanting specific ions into a predetermined region of the wafer, a cleaning process for removing impurities on the wafer, and a wafer on which the film or pattern is formed Inspection process for inspecting the surface of the substrate, and the like.
각각의 공정에서 웨이퍼는 해당 공정의 진행에 최적의 조건을 제공하는 공정 챔버에 장착되어 처리된다. 최근 반도체 장치의 미세화와 고집적화에 따라 공정의 고정밀화, 복잡화, 기판의 대구경화 등이 요구되고 있으며, 복합 공정의 증가에 수반되는 생산성의 향상이라는 관점에서 반도체 장치는 복수 개의 공정 챔버들 내에서 제조된다. 특히, 반도체 장치의 제조 공정을 일괄 처리할 수 있는 클러스터 타입의 반도체 제조 장치가 널리 사용된다.In each process, the wafer is mounted and processed in a process chamber that provides optimum conditions for the progress of the process. In recent years, as semiconductor devices have been miniaturized and highly integrated, high precision, complexity, and large diameter of substrates have been required, and semiconductor devices are manufactured in a plurality of process chambers in view of the improvement in productivity associated with the increase in complex processes. do. In particular, a cluster type semiconductor manufacturing apparatus capable of collectively processing a semiconductor device manufacturing process is widely used.
도 1은 종래의 반도체 제조 장치를 나타내는 평면도이다.1 is a plan view showing a conventional semiconductor manufacturing apparatus.
도 1을 참조하면, 종래의 반도체 제조 장치(10)는 기판이 적재된 용기가 놓여지는 로드 포트(15), 로드 포트(15)에 인접 배치되어 용기에 기판을 반출입하는 기판 전달 모듈(20), 기판 전달 모듈(20)로부터 기판을 전달받는 로드락 챔버(30), 기판을 처리하는 다수의 공정 챔버(40)들 및 로드락 챔버(30)와 공정 챔버(40)의 사이에 배치되어 공정 챔버(40)들 간 또는 공정 챔버(40)들과 로드락 챔버(30) 간에 기판을 이송하는 트랜스퍼 모듈(50)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a conventional
상기 트랜스퍼 모듈(50)은 기판을 이송하기 위한 이송 로봇(55)을 포함하고, 상기 트랜스퍼 모듈은 다각형 형상을 갖으며 각각의 측면은 공정 챔버(40)들과 연 결된다. 상기 이송 로봇(55) 사이에는 일종의 버퍼(buffer) 공간(51)이 형성될 수 있으며, 상기 이송 로봇(55)은 상기 로드락 챔버(30)로부터 상기 공정 챔버(40)로 또는 역으로 기판을 이송한다. The
종래의 반도체 제조 장치에 있어서, 로드락 챔버(30)로부터 트랜스퍼 모듈(50) 내로 이송된 기판은 공정 챔버(40)내로 반입된 후, 공정 챔버(40) 내에서 100℃ 이상으로 가열되어 소정의 공정이 진행된다. 이 때, 기판을 상온에서 고온으로 가열하기 위해 소정의 시간이 소요되고, 고온의 공정 챔버(40)로부터 트랜스퍼 모듈(50) 내로 반출된 기판은 다른 공정 챔버나 로드락 챔버(30)로 이송되기 전에 고온에서 상온으로 냉각하기 위해 소정의 시간이 소요된다. In the conventional semiconductor manufacturing apparatus, the substrate transferred from the
이에 따라, 공정 챔버(40)로/부터 반입/반출되는 기판을 가열 또는 냉각시키는 별도의 공간 및 시간이 추가로 소요되어 전체적인 생산량을 감소시키는 문제점이 있다. Accordingly, a separate space and time for heating or cooling the substrate to be brought in and out of the
본 발명의 목적은 공정 챔버 내로/부터 반입/반출되는 기판의 온도를 조절하는 온도 조절부를 갖는 트랜스퍼 모듈을 포함하는 기판 처리 장치를 제공하는 데 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus comprising a transfer module having a temperature controller for controlling the temperature of a substrate to be brought in / out of a process chamber.
상기 본 발명의 목적을 달성하기 위해 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 기판을 처리하는 공정 챔버, 상기 공정 챔버와 연통되어 상기 공정 챔버로 상기 기판을 이송시키는 트랜스퍼 모듈, 및 상기 트랜스퍼 모듈 내에 배치되어, 상기 공정 챔버 내로/부터 반입/반출되는 상기 기판의 온도를 조절하는 온도 조절부를 포함한다. In order to achieve the object of the present invention, a substrate processing apparatus according to the present invention is disposed in a process chamber for processing a substrate, a transfer module in communication with the process chamber to transfer the substrate to the process chamber, and the transfer module, And a temperature controller for controlling the temperature of the substrate to be brought in / out of the process chamber.
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 온도 조절부는 상기 공정 챔버로 반입되기 전의 상기 기판을 예열하는 예열부 및 상기 공정 챔버로부터 반출되는 상기 기판을 냉각시키는 냉각부를 포함할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the temperature control unit may include a preheating unit for preheating the substrate before being introduced into the process chamber and a cooling unit for cooling the substrate carried out from the process chamber.
이와 같이 구성된 본 발명에 따른 기판 처리 장치는 트랜스퍼 모듈 내에 배치되어, 공정 챔버 내로/부터 반입/반출되는 기판의 온도를 조절하는 온도 조절부를 포함한다. 상기 온도 조절부는 상기 트랜스퍼 모듈 내로 반입된 기판을 가열 또는 냉각시킨 후, 가열 또는 냉각된 기판은 다른 공정 챔버나 로드락 챔버로 이송된다. 이에 따라, 별도로 기판을 가열하거나 냉각하는 시간을 줄임으로써 전체적인 생산량을 향상시킬 수 있다.The substrate processing apparatus according to the present invention configured as described above is disposed in the transfer module, and includes a temperature controller for controlling the temperature of the substrate to be brought in / out of the process chamber. After the temperature controller heats or cools the substrate loaded into the transfer module, the heated or cooled substrate is transferred to another process chamber or load lock chamber. Accordingly, it is possible to improve the overall yield by reducing the time for separately heating or cooling the substrate.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 장치에 대해 상세히 설명한다. 본 발명은 다양한 변경을 가할 수 있고 여러 가지 형태를 가질 수 있는 바, 특정 실시예들을 도면에 예시하고 본문에 상세하게 설명하고자 한다. 그러나, 이는 본 발명을 특정한 개시 형태에 대해 한정하려는 것이 아니며, 본 발명의 사상 및 기술 범위에 포함되는 모든 변경, 균등물 내지 대체물을 포함하는 것으로 이해되어야 한다. 각 도면을 설명하면서 유사한 참조부호를 유사한 구성요소에 대해 사용하였다. 첨부된 도면에 있어서, 구조물들의 치수는 본 발명의 명확성을 기하기 위하여 실제보다 확대하여 도시한 것이다. Hereinafter, a substrate processing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. As the inventive concept allows for various changes and numerous embodiments, particular embodiments will be illustrated in the drawings and described in detail in the text. However, this is not intended to limit the present invention to the specific disclosed form, it should be understood to include all modifications, equivalents, and substitutes included in the spirit and scope of the present invention. In describing the drawings, similar reference numerals are used for similar elements. In the accompanying drawings, the dimensions of the structures are shown in an enlarged scale than actual for clarity of the invention.
제1, 제2 등의 용어는 다양한 구성요소들을 설명하는데 사용될 수 있지만, 상기 구성요소들은 상기 용어들에 의해 한정되어서는 안 된다. 상기 용어들은 하나의 구성요소를 다른 구성요소로부터 구별하는 목적으로만 사용된다. 예를 들어, 본 발명의 권리 범위를 벗어나지 않으면서 제1 구성요소는 제2 구성요소로 명명될 수 있고, 유사하게 제2 구성요소도 제1 구성요소로 명명될 수 있다. Terms such as first and second may be used to describe various components, but the components should not be limited by the terms. The terms are used only for the purpose of distinguishing one component from another. For example, without departing from the scope of the present invention, the first component may be referred to as the second component, and similarly, the second component may also be referred to as the first component.
본 출원에서 사용한 용어는 단지 특정한 실시예를 설명하기 위해 사용된 것으로, 본 발명을 한정하려는 의도가 아니다. 단수의 표현은 문맥상 명백하게 다르게 뜻하지 않는 한, 복수의 표현을 포함한다. 본 출원에서, "포함하다" 또는 "가지다" 등의 용어는 명세서상에 기재된 특징, 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것이 존재함을 지정하려는 것이지, 하나 또는 그 이상의 다른 특징들이나 숫자, 단계, 동작, 구성요소, 부분품 또는 이들을 조합한 것들의 존재 또는 부가 가능성을 미리 배제하지 않는 것으로 이해되어야 한다.The terminology used herein is for the purpose of describing particular example embodiments only and is not intended to be limiting of the present invention. Singular expressions include plural expressions unless the context clearly indicates otherwise. In this application, the terms "comprise" or "have" are intended to indicate that there is a feature, number, step, action, component, part, or combination thereof described in the specification, and one or more other features. It is to be understood that the present invention does not exclude the possibility of the presence or the addition of numbers, steps, operations, components, parts, or combinations thereof.
도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치를 나타내는 평면도이다. 도 3은 도 2의 기판 처리 장치의 트랜스퍼 모듈을 나타내는 평면도이다. 도 4는 도 2의 기판 처리 장치의 트랜스퍼 모듈을 나타내는 단면도이다.2 is a plan view illustrating a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention. 3 is a plan view illustrating a transfer module of the substrate processing apparatus of FIG. 2. 4 is a cross-sectional view illustrating a transfer module of the substrate processing apparatus of FIG. 2.
도 2 내지 도 4를 참조하면, 본 발명의 일실시예에 따른 기판 처리 장치(100)는 로드락 챔버(200), 복수의 트랜스퍼 모듈들(310, 320), 상기 트랜스퍼 모듈과 각각 연통되는 복수의 공정 챔버들(410, 420) 및 상기 트랜스퍼 모듈 내에 배치되어 기판의 온도를 조절하는 온도 조절부(510, 610)를 포함한다.2 to 4, the
복수의 트랜스퍼 모듈들(310, 320)은 제1 트랜스퍼 모듈(310) 및 제2 트랜스퍼 모듈(320)을 포함한다. 상기 제1 트랜트퍼 모듈(310)은 상기 제2 트랜스퍼 모 듈(320)과 연결된다. The plurality of
상기 로드락 챔버(200)는 상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)의 일측과 인접하게 배치되여 연결된다. 또한, 상기 로드락 챔버(200)는 EFEM(Equipment Front End Module)과 같은 기판 이송 모듈(150)과 연결된다.The
상기 기판 이송 모듈(150)의 일측에는 다수개의 로드 포트(160)가 형성되고, 상기 로드 포트(160)에는 웨이퍼와 같은 기판들이 적재된 웨이퍼 용기(170)가 배치된다. 예를 들면, 상기 웨이퍼 용기(170)로는 복수 개의 슬롯(slot)이 구비된 캐리어와 상기 캐리어를 적재한 상태로 이송하는 캐리어 박스 등과 같은 이송 도구를 통합한 전면 개방 통합형 포드(FOUP:Front Opening Unified Pod)가 이용될 수 있다.A plurality of
상기 FOUP를 상기 기판 이송 모듈(150)의 로드 포트(160) 위에 적재하고, 기판을 한 매씩 상기 기판 이송 모듈(150)을 통해 상기 로드락 챔버(200)로 이송한다. 구체적으로, 상기 기판 이송 모듈(150)은 전달 로봇(180)을 포함하고, 상기 전달 로봇을 통해 FOUP 내의 기판은 약 10-3 torr의 저진공 상태로 유지되는 로드락 챔버에 로딩된다.The FOUP is loaded on the
로드락 챔버(200)는 공정 챔버들(410, 420)로 이송되는 기판들이 임시적으로 놓이는 로딩 챔버(210)와 공정이 완료되어 공정 챔버들(410, 420)로부터 전달받은 기판들이 임시적으로 놓이는 언로딩 챔버(220)를 포함한다. 기판이 로드락 챔버(200) 내로 이송되면, 컨트롤러(도시되지 않음)가 로드락 챔버(200)의 내부를 감 압하여 초기 저진공 상태로 만들고, 이를 통해 외부 물질이 상기 공정 챔버들 및 상기 트랜스퍼 모듈들로 유입되는 것을 방지할 수 있다.The
상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)은 상기 로드락 챔버의 일측에 배치된다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)의 양측에는 제1 공정 챔버들(410)이 각각 배치되고, 상기 공정 챔버들은 제1 게이트 밸브(411)를 통해 상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)과 서로 연통될 수 있다. The
상기 제2 트랜스퍼 모듈(320)은 상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)의 일측에 배치된다. 본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 제2 트랜스퍼 모듈(320)의 양측에는 제2 공정 챔버들(420)이 각각 배치되고, 상기 공정 챔버들은 제2 게이트 밸브(421)를 통해 상기 제2 트랜스퍼 모듈(320)과 서로 연통될 수 있다.The
또한, 상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)은 상기 제2 트랜스퍼 모듈(320)과 슬롯 밸브(500)를 통해 서로 분리 가능하게 연결될 수 있다. In addition, the
상기 제1 및 제2 트랜스퍼 모듈들(310, 320)은 이송 로봇들(315, 325)을 각각 포함한다. 구체적으로, 상기 제1 트랜스퍼 모듈의 제1 이송 로봇(315)은 로드락 챔버(200)로부터 제1 공정 챔버(410)로 또는 역으로 기판을 이송하고, 상기 제2 트랜스퍼 모듈의 제2 이송 로봇(325)과 기판을 교환한다.The first and
또한, 상기 제2 트랜스퍼 모듈의 제2 이송 로봇(325)은 제1 트랜스퍼 모듈(310)로부터 제2 공정 챔버(420)로 또는 역으로 기판을 이송한다.In addition, the
상기 제1 이송 로봇(315)은 기판을 지지하는 기판 지지부(321), 상기 기판을 수평이동시키는 수평이동 구동부(322) 및 상기 기판을 수직이동시키는 수직이동 구 동부(323)를 포함한다. The
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 수평이동 구동부(322)는 복수의 암이 서로 연결되어 2 자유도를 가지며 수평으로 이동 할 수 있으며, 상기 수직이동 구동부(323)는 스텝 모터를 포함하여 수직으로 상승 또는 하강할 수 있다. According to one embodiment of the present invention, the
상기 공정 챔버들(410, 420)은 다양한 기판 공정을 수행하는 다수의 챔버들로 구성될 수 있다. The
예를 들면, 공정 챔버들(410, 420)은 기판 상에 물질막의 증착을 위해 반응 가스들을 공급하도록 구성된 화학 기상 증착(CVD) 챔버, 증착된 물질막의 식각을 위해 가스를 공급하도록 구성된 식각 챔버 또는 사진 공정 후 기판 상에 남아 있는 감광막 층을 제거하도록 구성된 애싱(ashing) 챔버 등을 포함할 수 있다. For example,
일반적으로, 상기 공정 챔버는 100℃ 이상의 고온의 분위기를 가질 수 있으며, 상기 공정 챔버 내로 반입된 기판을 고온으로 가열된다. In general, the process chamber may have a high temperature atmosphere of 100 ° C. or more, and the substrate loaded into the process chamber is heated to a high temperature.
상기 트랜스퍼 모듈들 내에 배치되는 온도 조절부(510, 610)들은 상기 공정 챔버 내로/부터 반입/반출되는 기판의 온도를 조절한다.The
본 발명의 일실시예에 따르면, 상기 온도 조절부(510)는 예열부(520) 및 냉각부(530)를 포함할 수 있다. 상기 예열부(520)는 상기 공정 챔버(410)로 반입되기 위해 상기 제1 트랜스퍼 모듈(310)내에 배치된 기판(110)을 예열시킨다. 상기 냉각부(530)는 상기 공정 챔버(410) 내에서 소정의 공정이 수행된 후 상기 공정 챔버(410)로부터 반출되는 기판(110)을 냉각시킨다.According to an embodiment of the present invention, the
상기 예열부(520)는 상기 기판(110)을 예열시키는 히팅 블록(521) 및 상기 히팅 블록 내에 승강 가능하게 배치되어, 상기 기판을 승강시키는 리프트 핀(525)을 포함할 수 있다. The
상기 냉각부(530)는 도 4에 도시된 예열부(520)의 후면에 배치되며, 상기 냉각부(530)는 상기 기판(110)을 냉각시키는 냉각 블럭(531) 및 상기 냉각 블록 내에 승강 가능하게 배치되어, 상기 기판을 승강시키는 리프트 핀(535)을 포함할 수 있다. The
구체적으로, 로드락 챔버(200)로부터 트랜스퍼 모듈(310) 내로 반입된 기판은 상기 예열부(520)의 히팅 블록(521)으로 이송된다. 상기 기판은 상기 히팅 블록 내의 기판 지지대 상으로 이송되고, 상기 히팅 블록 내에서 공정 챔버(410)의 공정 온도로 가열된다. 가열된 기판은 제1 이송 로봇(315)에 의해 공정 챔버(410)로 반입되고, 별도의 가열 시간을 소요하지 않고 곧바로 공정을 진행하게 된다. Specifically, the substrate loaded into the
공정 챔버(410)내에서 100℃ 이상의 공정 온도로 가열된 기판은 소정의 공정이 진행된 후, 공정 챔버(410)로부터 트랜스퍼 모듈(310)내로 반입된다. 상기 반입된 기판은 상기 냉각부(530)의 냉각 블록(531)으로 이송된다. 상기 기판은 상기 냉각 블록 내의 기판 지지대 상으로 이송되고, 상기 냉각 블록 내에서 상온으로 냉각된다. 냉각된 기판은 슬롯 밸브(500)를 통해 로드락 챔버(200)로 반입되거나 제2 트랜스퍼 모듈(320)로 이송될 수 있다.The substrate heated to a process temperature of 100 ° C. or higher in the
상술한 바와 같이, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 처리 장치는 트랜스퍼 모듈 내에 배치되어, 공정 챔버 내로/부터 반입/반출되는 기판의 온도를 조 절하는 온도 조절부를 포함한다. As described above, the substrate processing apparatus according to the preferred embodiment of the present invention includes a temperature controller disposed in the transfer module to adjust the temperature of the substrate to be brought in and out of the process chamber.
상기 온도 조절부는 상기 트랜스퍼 모듈 내로 반입된 기판을 가열 또는 냉각시킨 후, 가열 또는 냉각된 기판은 다른 공정 챔버나 로드락 챔버로 이송된다. 이에 따라, 별도로 기판을 가열하거나 냉각하는 시간을 줄임으로써 전체적인 생산량을 향상시킬 수 있다.After the temperature controller heats or cools the substrate loaded into the transfer module, the heated or cooled substrate is transferred to another process chamber or load lock chamber. Accordingly, it is possible to improve the overall yield by reducing the time for separately heating or cooling the substrate.
상기에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.While the foregoing has been described with reference to preferred embodiments of the present invention, those skilled in the art will be able to variously modify and change the present invention without departing from the spirit and scope of the invention as set forth in the claims below. It will be appreciated.
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