KR100798515B1 - Inductive plasma source having external discharge bridge - Google Patents

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KR100798515B1 KR1020060015973A KR20060015973A KR100798515B1 KR 100798515 B1 KR100798515 B1 KR 100798515B1 KR 1020060015973 A KR1020060015973 A KR 1020060015973A KR 20060015973 A KR20060015973 A KR 20060015973A KR 100798515 B1 KR100798515 B1 KR 100798515B1
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Abstract

외부 방전 브리지를 갖는 유도 플라즈마 소오스가 게시된다. 본 발명의 유도 플라즈마 소오소는 플라즈마 반응 챔버를 경유하는 제1 플라즈마 방전 패스와 외부 방전 브리지만을 경유하는 제2 플라즈마 방전 패스를 구비한다. 제2 플라즈마 방전 패스는 제1 플라즈마 방전 패스보다 짧은 방전 경로를 갖는다. 외부 방전 브리지에서 형성되는 짧은 방전 경로를 갖는 제2 플라즈마 방전 패스에 의해서 안정된 플라즈마 방전이 유지됨으로 플라즈마 반응 챔버를 경유하는 제1 플라즈마 방전 패스에서도 안정된 플라즈마 방전이 유지되어 플라즈마 반응 챔버의 내부 안정된 플라즈마의 형성 및 유지가 가능하게 된다. 그리고 플라즈마 방전을 위한 점화 전극이 가스 입구 또는 외부 방전관 브리지에 매입되어 구성됨으로서 플라즈마 점화 방전이 보다 안정되게 유지된다.An inductive plasma source with an external discharge bridge is posted. The induced plasma source of the present invention has a first plasma discharge path via the plasma reaction chamber and a second plasma discharge path via only the external discharge bridge. The second plasma discharge path has a discharge path shorter than the first plasma discharge path. The stable plasma discharge is maintained by the second plasma discharge path having the short discharge path formed in the external discharge bridge, so that the stable plasma discharge is maintained even in the first plasma discharge path via the plasma reaction chamber, thereby maintaining the stable plasma inside the plasma reaction chamber. Formation and maintenance are possible. In addition, since the ignition electrode for the plasma discharge is embedded in the gas inlet or the external discharge tube bridge, the plasma ignition discharge is more stably maintained.

플라즈마, 외부 방전, 점화 전극 Plasma, external discharge, ignition electrode

Description

외부 방전 브리지를 구비한 유도 플라즈마 소오스{INDUCTIVE PLASMA SOURCE HAVING EXTERNAL DISCHARGE BRIDGE}INDUCTIVE PLASMA SOURCE HAVING EXTERNAL DISCHARGE BRIDGE}

본 발명의 상세한 설명에서 사용되는 도면을 보다 충분히 이해하기 위하여, 각 도면의 간단한 설명이 제공된다.In order to more fully understand the drawings used in the detailed description of the invention, a brief description of each drawing is provided.

도 1 및 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 외부 방전 브리지를 구비한 플라즈마 반응 챔버의 사시도이다.1 and 2 are perspective views of a plasma reaction chamber having an external discharge bridge according to a preferred embodiment of the present invention.

도 3은 점화 전원 발생 회로의 회로도이다.3 is a circuit diagram of an ignition power generation circuit.

도 4 및 도 5는 매입된 점화 전극을 구비한 외부 방전 브리지의 사시도 및 점화 전원 발생 회로도이다.4 and 5 are a perspective view and an ignition power generation circuit diagram of an external discharge bridge with embedded ignition electrodes.

도 6은 두 개의 외부 방전 브리지를 병렬로 설치한 플라즈마 반응 챔버의 사시도이다.6 is a perspective view of a plasma reaction chamber in which two external discharge bridges are installed in parallel.

도 7 및 도 8은 다중 방전 브리지를 구비한 플라즈마 반응 챔버의 사시도 및 단면도이다.7 and 8 are perspective and cross-sectional views of the plasma reaction chamber with multiple discharge bridges.

도 9 및 도 10은 방전관 헤드를 구비하는 다중 방전 브리지를 구비한 플라즈마 반응 챔버의 사시도 및 단면도이다.9 and 10 are perspective and cross-sectional views of a plasma reaction chamber having multiple discharge bridges with discharge tube heads.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings

10: 플라즈마 반응 챔버 20: 외부 방전 브리지10: plasma reaction chamber 20: external discharge bridge

30: 점화부 40a~40d: 환형 페라이트 코어30: ignition part 40a-40d: annular ferrite core

41a~41d: 유도 코일 50a~50d: 냉각관41a to 41d: induction coil 50a to 50d: cooling tube

본 발명은 외부 방전 브리지를 갖는 유도 플라즈마 소오스에 관한 것으로, 구체적으로는 외부 방전 브리지를 구비하는 유도 플라즈마 소오스에서 플라즈마 점화 및 플라즈마 방전이 안정되게 지속적으로 유지될 수 있는 외부 방전 브리지를 갖는 유도 플라즈마 소오스에 관한 것이다.The present invention relates to an induction plasma source having an external discharge bridge. Specifically, an induction plasma source having an external discharge bridge capable of stably and continuously maintaining plasma ignition and plasma discharge in an induction plasma source having an external discharge bridge. It is about.

반도체 소자의 초미세화와 기판 사이즈의 증가 그리고 새로운 처리 대상 물질 등장 등의 여러 요인으로 인하여 반도체 제조 공정에서는 더욱 향상된 기판 처리 기술이 요구되고 있다. 특히, 플라즈마를 이용한 반도체 제조 공정으로 건식 에칭 공정 분야나 물리적/화학적 기상 증착 분야에서는 이러한 기술적 요구에 대응하는 바람직한 플라즈마 소오스는 유도성 결합 플라즈마와 용량성 결합 플라즈마의 이점을 각각 채용한 혼합형 플라즈마 소오스가 제공되고 있다.Due to various factors such as ultra miniaturization of semiconductor devices, an increase in substrate size, and the emergence of new materials to be treated, further improvements in substrate processing technologies are required in the semiconductor manufacturing process. In particular, in the semiconductor manufacturing process using plasma, in the dry etching process or the physical / chemical vapor deposition field, a preferred plasma source that meets these technical requirements is a hybrid plasma source employing the advantages of inductively coupled plasma and capacitively coupled plasma. Is being provided.

한국특허공보 특2003-0029130호에는 외부에서 여기된 토로이드형 플라즈마 소오스가 게시되어 있다. 또한 본 발명자에 의해 발명된 출원번호 제10-2004-0105263호의 외부 방전 브리지를 구비하는 유도 플라즈마 소오스가 있다. 이들 플라즈마 소오스는 플라즈마 반응 챔버의 상부에 외부 방전 브리지(할로우 콘딧)가 구비되며, 외부 방전 브리지는 유도 코일이 권선된 페라이트 코어가 장착된다. 그 럼으로 외부 방전 브리지와 플라즈마 반응 챔버를 내부를 경유하는 토로이달형 플라즈마 방전 패스가 형성된다. 플라즈마 반응 챔버의 내부에는 기판이 놓이는 서셉터(기판 지지체)가 구비되며, 기판 지지체는 바이어스 전원을 공급받는다.Korean Patent Publication No. 2003-0029130 discloses a toroidal plasma source excited from the outside. There is also an inductive plasma source having an external discharge bridge of Application No. 10-2004-0105263 invented by the inventor. These plasma sources are provided with an external discharge bridge (hollow conduit) at the top of the plasma reaction chamber, and the external discharge bridge is equipped with a ferrite core wound with an induction coil. As a result, a toroidal plasma discharge path through the external discharge bridge and the plasma reaction chamber is formed. A susceptor (substrate support) on which the substrate is placed is provided in the plasma reaction chamber, and the substrate support is supplied with bias power.

그런데, 외부 방전 브리지의 길이가 길어지는 경우 플라즈마 방전 패스가 길어지게 됨으로 플라즈마 방전이 지속적으로 유지되지 못하고 꺼지는 경우가 발생 될 수 있다. 또한, 초기에 플라즈마 점화가 용이하지 못하게 될 수 있다.However, when the length of the external discharge bridge is long, the plasma discharge path may be lengthened, and thus, the plasma discharge may not be maintained continuously and may be turned off. In addition, plasma ignition may not be easy at an early stage.

따라서 본 발명은 외부 방전 브리지를 갖는 유도 플라즈마 소오스에서 플라즈마 점화 및 플라즈마 방전이 안정되게 지속적으로 유지될 수 있는 외부 방전 브리지를 갖는 유도 플라즈마 소오스를 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, an object of the present invention is to provide an induction plasma source having an external discharge bridge in which plasma ignition and plasma discharge can be stably and continuously maintained in an induction plasma source having an external discharge bridge.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일면은 외부 방전 브리지를 구비한 유도 플라즈마 소오스에 관한 것이다. 본 발명의 유도 플라즈마 소오스는: 상부에 적어도 두 개의 홀을 구비하고, 내부에 피처리 기판이 놓이는 서셉터를 갖는 플라즈마 반응 챔버; 플라즈마 반응 챔버의 외측에 위치하고, 적어도 두 개의 홀에 결합되는 제1 및 제2 브리지 래그를 갖는 하나 이상의 외부 방전 브리지; 하나 이상의 외부 방전 브리지와 플라즈마 반응 챔버의 내부를 경유하는 하나 이상의 제1 플라즈마 방전 패스; 플라즈마 반응 챔버의 외측에서 제1 및 제2 브리지 래그 사이에 연결되는 하나 이상의 브리지 연결 튜브; 하나 이상의 외부 방전 브리지와 브리지 연결 튜브를 경유하는 하나 이상의 제2 플라즈마 방전 패스; 제1 유도 코일 이 권선되며 제1 및 제2 플라즈마 방전 패스에 쇄교하도록 하나 이상의 외부 방전 브리지에 장착되는 환형 페라이트 코어; 및 제1 유도 코일로 제1 주파수의 교류 전원을 공급하는 제1 전원 공급원을 포함한다.One aspect of the present invention for achieving the above technical problem relates to an induction plasma source having an external discharge bridge. An induction plasma source of the present invention comprises: a plasma reaction chamber having at least two holes thereon and a susceptor in which a substrate to be processed is placed; At least one external discharge bridge positioned outside the plasma reaction chamber and having first and second bridge lags coupled to at least two holes; At least one first plasma discharge pass through at least one external discharge bridge and an interior of the plasma reaction chamber; At least one bridge connecting tube connected between the first and second bridge lags outside of the plasma reaction chamber; At least one second plasma discharge pass via at least one external discharge bridge and bridge connection tube; An annular ferrite core wound around the first induction coil and mounted to one or more external discharge bridges to bridge the first and second plasma discharge paths; And a first power supply for supplying AC power at a first frequency to the first induction coil.

바람직하게, 외부 방전 브리지는 플라즈마 방전을 돕는 자유 전하를 발생시키는 점화 전극을 포함한다.Preferably, the external discharge bridge includes an ignition electrode that generates free charge that aids in plasma discharge.

바람직하게, 환형 페라이트 코어에 권선되어 제1 유도 코일과 유도 결합되고, 점화 전극에 전기적으로 연결되어 플라즈마 점화를 위한 기전력을 제공하는 제2 유도 코일을 포함한다.Preferably, it comprises a second induction coil wound around the annular ferrite core and inductively coupled with the first induction coil and electrically connected to the ignition electrode to provide an electromotive force for plasma ignition.

바람직하게, 외부 방전 브리지는 가스 공급원에 연결되는 가스 입구에 플랜지 구조의 점화부를 구비 하고; 점화 전극은 점화부를 사이에 두고 상하로 마주 대향하도록 배치되는 상부의 제1 점화 전극과 하부의 제2 점화 전극을 구비한다.Preferably, the external discharge bridge has a ignition portion of a flange structure at a gas inlet connected to a gas source; The ignition electrode has an upper first ignition electrode and a lower second ignition electrode disposed to face each other up and down with an ignition portion therebetween.

바람직하게, 점화 전극은 외부 방전 브리지의 내부에 매입되는 한 쌍의 전극 봉을 포함하고, 전극 봉의 외피는 절연체로 구성된다.Preferably, the ignition electrode includes a pair of electrode rods embedded in the interior of the external discharge bridge, the shell of the electrode rods being composed of an insulator.

바람직하게, 외부 방전 브리지와 환형 페라이트 코어 사이에는 구성되는 냉각관을 더 포함한다.Preferably, further comprising a cooling tube configured between the external discharge bridge and the annular ferrite core.

바람직하게, 외부 방전 브리지는: 제1 및 제2 브리지 래그를 갖는 C-형상의 중공형의 브리지 몸체; 브리지 몸체의 상단 중앙 부분에 돌출되어 가스 공급원으로 연결되는 가스 입구; 및 제1 및 제2 브리지 래그의 각 끝단으로서 상기 두 개의 홀에 삽입되는 제1 및 제2 가스 출구를 갖는다.Preferably, the external discharge bridge comprises: a C-shaped hollow bridge body having first and second bridge lags; A gas inlet protruding from the upper center portion of the bridge body and connected to a gas source; And first and second gas outlets inserted into the two holes as respective ends of the first and second bridge lags.

바람직하게, 두 개 이상의 외부 방전 브리지를 구비하고, 두 개 이상의 외부 방전 브리지는 플라즈마 반응 챔버의 상부에 병렬로 배치된다.Preferably, two or more external discharge bridges are provided, and the two or more external discharge bridges are arranged in parallel on top of the plasma reaction chamber.

바람직하게, 외부 방전 브리지는: 방사형으로 배치되는 적어도 네 개의 제1 내지 제4 브리지 래그를 갖는 다중 방전 브리지 몸체; 브리지 몸체의 상단 중앙 부분에 돌출되어 가스 공급원으로 연결되는 가스 입구; 및 제1 내지 제4 브리지 래그의 각 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 상부에 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 홀에 삽입되는 제1 내지 제4 가스 출구를 갖는다.Preferably, the external discharge bridge comprises: a multiple discharge bridge body having at least four first to fourth bridge lags disposed radially; A gas inlet protruding from the upper center portion of the bridge body and connected to a gas source; And first to fourth gas outlets inserted into the first to fourth holes disposed radially on top of the plasma reaction chamber as respective ends of the first to fourth bridge lags.

바람직하게, 다중 방전 브리지 몸체는 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 브리지 래그의 중심부에 배치되는 공통 래그를 더 구비하고; 플라즈마 반응 챔버의 상부에는 제1 내지 제4 홀의 중심부에 배치된 제5 홀이 더 구비되며; 공통 래그의 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 제5 홀에 삽입되는 제5 가스 출구를 갖는다.Preferably, the multiple discharge bridge body further comprises a common lag disposed at the center of the radially disposed first to fourth bridge lags; A fifth hole disposed at the center of the first to fourth holes is further provided at an upper portion of the plasma reaction chamber; As the end of the common lag has a fifth gas outlet which is inserted into the fifth hole of the plasma reaction chamber.

바람직하게, 외부 방전 브리지는: 방사형으로 배치되는 적어도 네 개의 제1 내지 제4 브리지 래그를 갖고, 제1 내지 제4 브리지 래그의 상부에 공통으로 연결되는 원반형의 방전관 헤드를 갖는 다중 방전 브리지 몸체; 방전관 헤드의 상단 중앙 부분에 돌출되어 가스 공급원으로 연결되는 가스 입구; 및 제1 내지 제4 브리지 래그의 각 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 상부에 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 홀에 삽입되는 제1 내지 제4 가스 출구를 갖는다.Preferably, the external discharge bridge comprises: a multiple discharge bridge body having at least four first to fourth bridge lags disposed radially and having a disc shaped discharge tube head commonly connected to the top of the first to fourth bridge lags; A gas inlet protruding from the upper center portion of the discharge tube head and connected to the gas supply source; And first to fourth gas outlets inserted into the first to fourth holes disposed radially on top of the plasma reaction chamber as respective ends of the first to fourth bridge lags.

바람직하게, 다중 방전 브리지 몸체는 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 브리지 래그의 중심부에 배치되는 공통 래그를 더 구비하고; 플라즈마 반응 챔버의 상부에는 제1 내지 제4 홀의 중심부에 배치된 제5 홀이 더 구비되며; 공통 래그의 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 제5 홀에 삽입되는 제5 가스 출구를 갖는다.Preferably, the multiple discharge bridge body further comprises a common lag disposed at the center of the radially disposed first to fourth bridge lags; A fifth hole disposed at the center of the first to fourth holes is further provided at an upper portion of the plasma reaction chamber; As the end of the common lag has a fifth gas outlet which is inserted into the fifth hole of the plasma reaction chamber.

본 발명의 다른 특징에 의하면, 유도 플라즈마 소오스는: 상부에 적어도 두 개의 홀을 구비하고, 내부에 피처리 기판이 놓이는 서셉터를 갖는 플라즈마 반응 챔버; 플라즈마 반응 챔버의 외측에 위치하고, 적어도 두 개의 홀에 각기 연결되는 제1 및 제2 브리지 래그(bridge leg)를 갖는 하나 이상의 외부 방전 브리지; 하나 이상의 외부 방전 브리지와 플라즈마 반응 챔버의 내부를 경유하는 플라즈마 방전 패스; 제1 유도 코일이 권선되며 플라즈마 방전 패스에 쇄교하도록 제1 브리지 래그에 장착되는 제1 환형 페라이트 코어; 제2 유도 코일이 권선되며 플라즈마 방전 패스에 쇄교하도록 제2 브리지 래그에 장착되는 제2 환형 페라이트 코어; 제1 및 제2 유도 코일로 제1 주파수의 교류 전원을 공급하는 제1 전원 공급원; 플라즈마 방전 패스에 플라즈마 방전을 돕는 자유 전하를 발생시키도록 외부 방전 브리지에 용량적으로 결합되는 제1 및 제2 점화 전극; 제1 환형 페라이트 코어에 권선되며 제1 점화 전극에 전기적으로 연결되는 제3 유도 코일; 및 제2 환형 페라이트 코어에 권선되며 제2 점화 전극에 전기적으로 연결되는 제4 유도 코일을 포함하고, 제1 및 제2 유도 코일은 상호 역위상으로 기전력이 유도되어 제1 및 제2 점화 전극으로부터 플라즈마 방전을 위한 점화가 이루어진다.According to another feature of the present invention, an induction plasma source comprises: a plasma reaction chamber having at least two holes thereon and a susceptor in which a substrate to be processed is placed; One or more external discharge bridges positioned outside the plasma reaction chamber and having first and second bridge legs respectively connected to at least two holes; A plasma discharge pass through at least one external discharge bridge and the interior of the plasma reaction chamber; A first annular ferrite core wound around the first induction coil and mounted to the first bridge lag to bridge the plasma discharge path; A second annular ferrite core wound around the second induction coil and mounted to the second bridge lag so as to bridge the plasma discharge path; A first power supply for supplying AC power at a first frequency to the first and second induction coils; First and second ignition electrodes capacitively coupled to the external discharge bridge to generate free charge to assist plasma discharge in the plasma discharge path; A third induction coil wound around the first annular ferrite core and electrically connected to the first ignition electrode; And a fourth induction coil wound around the second annular ferrite core and electrically connected to the second ignition electrode, wherein the first and second induction coils are induced with electromotive force in antiphase with each other from the first and second ignition electrodes. Ignition is made for the plasma discharge.

바람직하게, 외부 방전 브리지는 가스 공급원에 연결되는 가스 입구에 플랜지 구조의 점화부를 구비 하고; 제1 및 제2 점화 전극은 점화부를 사이에 두고 상하로 마주 대향하도록 배치된다.Preferably, the external discharge bridge has a ignition portion of a flange structure at a gas inlet connected to a gas source; The first and second ignition electrodes are disposed to face up and down with the ignition portion therebetween.

바람직하게, 제1 및 제2 점화 전극은 외부 방전 브리지의 내부에 매입되는 한 쌍의 전극 봉을 포함하고, 전극 봉의 외피는 절연체로 구성된다.Preferably, the first and second ignition electrodes comprise a pair of electrode rods embedded within the outer discharge bridge, the shell of the electrode rods being composed of an insulator.

본 발명과 본 발명의 동작상의 이점 및 본 발명의 실시예에 의하여 달성되는 목적을 충분히 이해하기 위해서는 본 발명의 바람직한 실시예를 예시하는 첨부 도면 및 첨부 도면에 기재된 내용을 참조하여야 한다. 각 도면을 이해함에 있어서, 동일한 부재는 가능한 한 동일한 참조부호로 도시하고자 함에 유의하여야 한다. 그리고 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 공지 기능 및 구성에 대한 상세한 기술은 생략된다.DETAILED DESCRIPTION In order to fully understand the present invention, the operational advantages of the present invention, and the objects achieved by the embodiments of the present invention, reference should be made to the accompanying drawings which illustrate preferred embodiments of the present invention and the contents described in the accompanying drawings. In understanding the drawings, it should be noted that like parts are intended to be represented by the same reference numerals as much as possible. And detailed description of known functions and configurations that are determined to unnecessarily obscure the subject matter of the present invention is omitted.

(실시예)(Example)

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 설명함으로써, 본 발명의 외부 방전관 브리지를 구비한 유도 플라즈마 소오스를 상세히 설명한다. 본 발명의 유도 플라즈마 소오스에 관한 기본적인 기술적 사항들은 본 발명자에 의해 앞서서 발명된 출원번호 제10-2004-0105263호의 외부 방전 브리지를 구비하는 유도 플라즈마 소오스에 상세히 기재되어 있다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings illustrating a preferred embodiment of the present invention, an induction plasma source having an external discharge tube bridge of the present invention will be described in detail. The basic technical details of the induction plasma source of the present invention are described in detail in the induction plasma source having an external discharge bridge of Application No. 10-2004-0105263 invented by the inventor.

도 1 및 도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 외부 방전 브리지를 구비한 플라즈마 반응 챔버의 사시도 및 단면도이다. 도 1 및 도 2를 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 유도 플라즈마 소오스는 프로세스 플라즈마 반응 챔버(10)와 외부 방전 브리지(20)를 구비한다. 외부 방전 브리지(20)는 플라즈마 반응 챔버(10)의 외측 상부면(11)에 형성된 두 개의 홀(12a, 12b)에 각기 오-링(15)으로 진공 절연되어 장착된다.1 and 2 are a perspective view and a cross-sectional view of a plasma reaction chamber having an external discharge bridge according to a preferred embodiment of the present invention. 1 and 2, an induction plasma source according to a preferred embodiment of the present invention includes a process plasma reaction chamber 10 and an external discharge bridge 20. The external discharge bridge 20 is vacuum-insulated by the O-rings 15 in the two holes 12a and 12b formed in the outer upper surface 11 of the plasma reaction chamber 10, respectively.

외부 방전 브리지(20)는 전체적으로 C-형상을 갖는 중공형의 브리지 몸체(21)를 구비한다. 브리지 몸체(21)는 양측으로 'ㄱ'자로 절곡된 제1 브리지 래그 (bridge leg)(22a)와 제2 브리지 래그(22b)가 구비되어 전체적으로 C-형상을 갖는다. 제1 및 제2 브리지 래그(22a, 22b)의 끝단은 각기 제1 및 제2 가스 출구(26a, 26b)를 구성하며 두 개의 홀(12a, 12b)에 각기 삽입되어 장착된다. 여기서 제1 및 제2 가스 출구(26a, 26b)는 공통 플랜지(25)를 갖는 구조이나, 독립적인 플랜지 구조를 갖도록 변형 실시될 수 있다. 브리지 몸체(21)의 상단 중앙 부분에는 가스 공급원(미도시)으로부터 공급되는 반응 가스를 받아들이는 가스 입구(23)가 구비된다. 가스 입구(21)는 가스 공급원(미도시)에 연결된다. 외부 방전 브리지(20)는 전체적으로 비도전체 예를 들어, 석영으로 구성된다.The external discharge bridge 20 has a hollow bridge body 21 having a C-shape as a whole. Bridge body 21 is provided with a first bridge leg (22a) and a second bridge lag (22b) bent in the letter 'A' on both sides and has a C-shape as a whole. The ends of the first and second bridge lags 22a and 22b respectively constitute the first and second gas outlets 26a and 26b and are inserted into and mounted in the two holes 12a and 12b respectively. Here, the first and second gas outlets 26a and 26b may have a structure having a common flange 25, but may be modified to have an independent flange structure. The upper center portion of the bridge body 21 is provided with a gas inlet 23 for receiving a reaction gas supplied from a gas source (not shown). The gas inlet 21 is connected to a gas source (not shown). The external discharge bridge 20 is composed entirely of non-conductor, for example quartz.

본 발명의 외부 방전 브리지(20)는 독특하게도 플라즈마 반응 챔버(10)의 외측에서 제1 및 제2 브리지 래그(22a, 22b) 사이에 연결되는 브리지 연결 튜브(24)를 구비한다. 그럼으로 외부 방전 브리지(20)와 플라즈마 반응 챔버(10)의 내부를 경유하는 제1 플라즈마 방전 패스(27) 뿐만 아니라 외부 방전 브리지(20)와 브리지 연결 튜브(24)를 경유하는 제2 플라즈마 방전 패스(28)가 형성된다. 즉, 브리지 연결 튜브(24)는 플라즈마 반응 챔버(10)의 외측에서 제1 및 제2 브리지 래그(22a, 22b)를 상호 연결함으로서 제1 플라즈마 방전 패스(27) 보다 짧은 경로를 갖는 제2 플라즈마 방전 패스(28)를 제공한다.The external discharge bridge 20 of the present invention uniquely has a bridge connecting tube 24 connected between the first and second bridge lags 22a, 22b outside the plasma reaction chamber 10. Thus, not only the first plasma discharge path 27 via the external discharge bridge 20 and the interior of the plasma reaction chamber 10 but also the second plasma discharge via the external discharge bridge 20 and the bridge connecting tube 24. Path 28 is formed. That is, the bridge connecting tube 24 has a second plasma having a path shorter than the first plasma discharge path 27 by interconnecting the first and second bridge lags 22a and 22b outside the plasma reaction chamber 10. Provide a discharge pass 28.

외부 방전 브리지(20)에는 제1 및 제2 플라즈마 방전 패스(27, 28)에 쇄교하도록 환형 페라이트 코어(40a, 40b)가 장착된다. 외부 방전 브리지(20)와 페라이트 코어(40a, 40b) 사이에는 냉각관(50a, 50b)이 설치된다. 환형 페라이트 코어(40a, 40b)는 제1 및 제2 브리지 래그(22a, 22b)를 감싸도록 장착된다. 페라이트 코어(40a, 40b)에는 각기 유도 코일(41a, 41b)이 권선되며, 유도 코일(41a, 41b)은 제1 주파수의 교류 전원을 공급하는 제1 전원 공급원(50)에 직렬로 연결되나, 병렬로 연결될 수 도 있다. 플라즈마 반응 챔버(10)의 내부에는 피처리 기판(14)이 놓이는 서셉터(13)가 구비되고, 제2 주파수의 교류 전원을 바이어스로 공급하는 제2 전원 공급원(51)이 연결된다. 그리고 도면에는 도시되지 않았으나 제1 및 제2 전원 공급원(50, 51)과 부하 사이에는 통상적으로 임피던스 정합기가 구성된다. The external discharge bridge 20 is equipped with annular ferrite cores 40a and 40b so as to bridge the first and second plasma discharge paths 27 and 28. Cooling tubes 50a and 50b are installed between the external discharge bridge 20 and the ferrite cores 40a and 40b. The annular ferrite cores 40a and 40b are mounted to surround the first and second bridge lags 22a and 22b. Induction coils 41a and 41b are wound around ferrite cores 40a and 40b, respectively, and induction coils 41a and 41b are connected in series to a first power source 50 for supplying AC power of a first frequency. It can also be connected in parallel. The susceptor 13 on which the substrate 14 is disposed is provided inside the plasma reaction chamber 10, and a second power supply 51 for supplying AC power at a second frequency as a bias is connected. Although not shown in the drawings, an impedance matcher is typically configured between the first and second power sources 50 and 51 and the load.

이와 같이 구성되는 플라즈마 반응 챔버(10)는 플라즈마 방전시 보다 짧은 방전 경로를 갖는 제2 플라즈마 방전 패스(28)에 의해서 안정된 플라즈마 방전이 유지됨으로 제1 플라즈마 방전 패스(17)에서도 안정된 플라즈마 방전이 유지되어 플라즈마 반응 챔버(10)의 내부 안정된 플라즈마의 형성 및 유지가 가능하게 된다.In the plasma reaction chamber 10 configured as described above, stable plasma discharge is maintained by the second plasma discharge path 28 having a shorter discharge path during plasma discharge, so that stable plasma discharge is maintained even in the first plasma discharge path 17. Thus, the stable plasma can be formed and maintained inside the plasma reaction chamber 10.

한편, 외부 방전 브리지(20)는 가스 입구(23)에 플라즈마 방전을 돕는 자유 전하를 발생시키는 점화부(30)를 구비한다. 점화부(30)는 플랜지 구조를 갖는데 상하로 마주 대향하도록 상부에 제1 점화 전극(32)이 그리고 하부에 제2 점화 전극(33)이 각각 외측으로 장착된다. 점화부(30)는 제1 점화 전극(32)과 제2 점화 전극(33)이 장착되는 전극 장착 부분(31)이 다른 부분 보다 상대적으로 얇은 두께를 갖도록 하여 제1 점화 전극(32)과 제2 점화 전극(33) 사이에 점화가 보다 쉽게 발생된다.On the other hand, the external discharge bridge 20 has an ignition section 30 for generating free charge to assist plasma discharge at the gas inlet 23. The ignition unit 30 has a flange structure, and the first ignition electrode 32 is mounted on the upper side and the second ignition electrode 33 is disposed on the outer side so as to face each other up and down. The ignition unit 30 is formed so that the electrode mounting portion 31 on which the first ignition electrode 32 and the second ignition electrode 33 are mounted has a relatively thinner thickness than the other portions so that the first ignition electrode 32 and the Ignition is more easily generated between the two ignition electrodes 33.

도 3은 점화 전원 발생 회로의 회로도이다. 도 3을 참조하여, 점화 전원 발생 회로는 제1 브리지 래그(22a)의 제1 환형 페라이트 코어(40a)에 권선된 제1 유도 코일(41a)과 유도적으로 결합되는 제3 유도 코일(42a), 제2 브리지 래그(22b)의 제2 환형 페라이트 코어(40b)에 권선된 제2 유도 코일(41b)과 유도적으로 결합되는 제4 유도 코일(42b)을 구비한다. 즉, 제3 및 제2 유도 코일(42a, 42b)은 제1 및 제2 환형 페라이트 코어(40a, 40b)에 각각 권선된다.3 is a circuit diagram of an ignition power generation circuit. Referring to FIG. 3, the ignition power generation circuit is inductively coupled with the first induction coil 41a wound around the first annular ferrite core 40a of the first bridge lag 22a. And a fourth induction coil 42b inductively coupled with the second induction coil 41b wound around the second annular ferrite core 40b of the second bridge lag 22b. That is, the third and second induction coils 42a and 42b are wound around the first and second annular ferrite cores 40a and 40b, respectively.

제3 및 제4 유도 코일(42a, 42b)은 제1 및 제2 유도 코일(41a, 41b)과 유도적으로 결합되며 상호 역위상으로 기전력이 유도되는 방향으로 권선된다. 그럼으로 제1 및 제2 점화 전극(32, 33) 사이에 플라즈마 방전을 돕는 자유 전하가 발생되는 플라즈마 점화가 이루어진다.The third and fourth induction coils 42a and 42b are inductively coupled with the first and second induction coils 41a and 41b and are wound in a direction in which electromotive force is induced in an antiphase with each other. Thus, plasma ignition is generated between the first and second ignition electrodes 32, 33, in which free charge is generated to assist plasma discharge.

도 4 및 도 5는 매입된 점화 전극을 구비한 외부 방전 브리지의 사시도 및 점화 전원 발생 회로도이다. 도 4 및 도 5를 참조하여, 점화 전극의 또 다른 예로서, 제1 및 제2 점화 전극(34, 36)은 외부 방전 브리지(20)의 내부에 매입되는 한 쌍의 전극 봉으로 구성될 수 있다. 그리고 전극 봉의 외피는 절연체(35, 37)로 구성된다. 제1 및 제2 점화 전극(34, 36)은 병렬로 마주 대향하여 외부 방전 브리지(20)의 상부에 매입 설치된다.4 and 5 are a perspective view and an ignition power generation circuit diagram of an external discharge bridge with embedded ignition electrodes. 4 and 5, as another example of the ignition electrode, the first and second ignition electrodes 34 and 36 may be constituted by a pair of electrode rods embedded in the external discharge bridge 20. have. The outer shell of the electrode rod is composed of insulators 35 and 37. The first and second ignition electrodes 34 and 36 are embedded in the upper portion of the external discharge bridge 20 to face each other in parallel.

이상과 같은 본 발명의 유도 플라즈마 소오스는 플라즈마 반응 챔버(20)의 상부에 구비되는 외부 방전 브리지(20)의 구조가 후술되는 바와 같이 다양한 구조로 변형이 가능하며, 변형된 구조의 외부 방전 브리지(20)들도 상술한 바와 같은 브리지 연결 튜브(24)를 구비한다. 그리고 가스 입구(23)에 점화부(30)가 구성되거나 또는 외부 방전 브리지(20)에 매입된 점화 전극(34, 36)이 구비될 수 있다.As described above, the induction plasma source of the present invention can be modified into various structures as described below with the structure of the external discharge bridge 20 provided on the upper portion of the plasma reaction chamber 20, and the external discharge bridge of the modified structure ( 20 also has a bridge connecting tube 24 as described above. An ignition unit 30 may be configured at the gas inlet 23 or ignition electrodes 34 and 36 embedded in the external discharge bridge 20 may be provided.

도 6은 두 개의 외부 방전 브리지를 병렬로 설치한 플라즈마 반응 챔버의 사시도이다. 도 6에 도시된 바와 같이, 플라즈마 반응 챔버(10)는 상부에 두 개 이 상의 외부 방전 브리지(20-1, 20-2)가 병렬로 장착될 수 있다.6 is a perspective view of a plasma reaction chamber in which two external discharge bridges are installed in parallel. As shown in FIG. 6, two or more external discharge bridges 20-1 and 20-2 may be mounted in parallel in the plasma reaction chamber 10.

도 7 및 도 8은 다중 방전 브리지를 구비한 플라즈마 반응 챔버의 사시도 및 단면도이다. 도 7 및 도 8을 참조하여, 하나의 변형된 외부 방전 브리지(20)는 방사형으로 배치되는 네 개의 제1 내지 제4 브리지 래그(22a, 22b, 22c, 22d)를 갖는 다중 방전 브리지 몸체(21)로 구성된다. 브리지 몸체(21)의 상단 중앙 부분에는 가스 출구(23)가 돌출되어 가스 공급원(미도시)에 연결된다. 가스 출구(23)에는 상술한 예에서와 같이, 점화부(30) 구성된다. 또는, 외부 방전 브리지(20)에 매입되는 점화 전극이 구비될 수 있다.7 and 8 are perspective and cross-sectional views of the plasma reaction chamber with multiple discharge bridges. 7 and 8, one modified external discharge bridge 20 has a multiple discharge bridge body 21 having four first to fourth bridge lags 22a, 22b, 22c, 22d disposed radially. It is composed of A gas outlet 23 protrudes from the upper center portion of the bridge body 21 to be connected to a gas supply source (not shown). The gas outlet 23 is configured with an ignition unit 30 as in the above-described example. Alternatively, an ignition electrode embedded in the external discharge bridge 20 may be provided.

브리지 몸체(21)는 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 브리지 래그(22a, 22b, 22c, 22d)의 중심부에 공통 래그(22e)가 구비된다. 제1 내지 제4 브리지 래그(22a, 22b, 22c, 22d)에는 각기 유도 코일(41a, 41b, 41c, 41d)이 권선된 환형 페라이트 코어(40a, 40b, 40c, 40d)와 냉각관(50a, 50b, 50c, 50d)이 장착된다. 유도 코일(41a, 41b, 41c, 41d)은 제1 전원 공급원(50)에 직렬, 병렬, 직렬/병렬 혼합 중 어느 하나의 방식으로 연결된다.The bridge body 21 is provided with a common lag 22e at the center of the radially disposed first to fourth bridge lags 22a, 22b, 22c, and 22d. The first to fourth bridge lags 22a, 22b, 22c, and 22d respectively have annular ferrite cores 40a, 40b, 40c, and 40d wound with induction coils 41a, 41b, 41c, and 41d, and cooling tubes 50a, respectively. 50b, 50c, 50d) are mounted. Induction coils 41a, 41b, 41c, 41d are connected to the first power source 50 in any one of a series, parallel, series / parallel mix.

제1 내지 제4 브리지 래그(22a, 22b, 22c, 22d)의 각 끝단으로서 제1 내지 제4 가스 출구(26a, 26b,26c,26d)는 플라즈마 반응 챔버(10)의 상부(11)에 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 홀(12a, 12b, 12c, 12d)에 삽입된다. 제1 내지 제4 홀(12a, 12b, 12c, 12d)의 중심부에는 제5 홀(12e)이 구비되며, 공통 래그(22e)의 끝단으로서 제5 가스 출구(26e)가 제5 홀(12e)에 삽입된다. 여기서 제1 및 제5 가스 출구(26a, 26b, 26c, 26d, 26e)는 공통 플랜지(25)를 갖는 구조이나, 독립적인 플 랜지 구조를 갖도록 변형 실시될 수 있다.As each end of the first to fourth bridge lags 22a, 22b, 22c, 22d, the first to fourth gas outlets 26a, 26b, 26c, 26d are radially on the top 11 of the plasma reaction chamber 10. It is inserted into the first to fourth holes (12a, 12b, 12c, 12d) arranged in the. A fifth hole 12e is provided at the center of the first to fourth holes 12a, 12b, 12c, and 12d, and the fifth gas outlet 26e is the fifth hole 12e as the end of the common lag 22e. Is inserted into Here, the first and fifth gas outlets 26a, 26b, 26c, 26d, and 26e may have a structure having a common flange 25, but may be modified to have an independent flange structure.

제1 내지 제4 브리지 래그(22a, 22b, 22c, 22d)와 공통 래그(22e) 사이에는 각기 제1 내지 제4 브리지 연결 튜브(24a, 24b, 24c, 24d)가 연결된다. 그럼으로 외부 방전 브리지(20)는 플라즈마 반응 챔버(10)의 내부를 경유하는 제1 플라즈마 방전 패스(27)와 제1 내지 제4 브리지 연결 튜브(24a, 24b, 24c, 24d)를 경유하는 제2 플라즈마 방전 패스(28)를 갖게 된다.The first to fourth bridge connecting tubes 24a, 24b, 24c and 24d are connected between the first to fourth bridge lags 22a, 22b, 22c and 22d and the common lag 22e, respectively. Thus, the external discharge bridge 20 is formed of the first plasma discharge path 27 through the interior of the plasma reaction chamber 10 and the first through fourth bridge connection tubes 24a, 24b, 24c, and 24d. It has two plasma discharge paths 28.

다른 하나의 변형된 예로, 도 9 및 도 10에 도시된 바와 같이, 외부 방전 브리지(20)는 제1 내지 제4 브리지 래그(22a, 22b, 22c, 22d)의 상부에 공통으로 연결되는 원반형의 방전관 헤드(29)를 구비한다. 방전관 헤드(29)의 상단 중앙 부분에는 가스 공급원(미도시)으로 연결되는 가스 입구(23)가 구비된다.As another modified example, as shown in Figs. 9 and 10, the external discharge bridge 20 is of a disc shape commonly connected to the top of the first to fourth bridge lags (22a, 22b, 22c, 22d) The discharge tube head 29 is provided. The upper center portion of the discharge tube head 29 is provided with a gas inlet 23 connected to a gas supply source (not shown).

상술한 바와 같이, 본 발명은 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나 이는 예시적인 것에 불과하며, 본 발명이 속한 기술분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 잘 알 수 있을 것이다. 즉, 본 발명의 유도 플라즈마 소오스는 다양한 구조의 외부 방전 브리지를 갖는 플라즈마 반응 챔버에 적용될 수 있다. 그럼으로 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, the present invention has been described with reference to the embodiments shown in the drawings, but this is merely exemplary, and those skilled in the art to which the present invention pertains have various modifications and equivalent embodiments. You can see that it is possible. That is, the induction plasma source of the present invention can be applied to a plasma reaction chamber having an external discharge bridge of various structures. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.

상술한 바와 같은 본 발명의 유도 플라즈마 소오스에 의하면, 외부 방전 브리지를 갖는 플라즈마 반응 챔버는 외부 방전 브리지에서 형성되는 짧은 방전 경로를 갖는 제2 플라즈마 방전 패스에 의해서 안정된 플라즈마 방전이 유지됨으로 플 라즈마 반응 챔버를 경유하는 제1 플라즈마 방전 패스에서도 안정된 플라즈마 방전이 유지되어 플라즈마 반응 챔버의 내부 안정된 플라즈마의 형성 및 유지가 가능하게 된다. 그리고 플라즈마 방전을 위한 점화 전극이 가스 입구 또는 외부 방전관 브리지에 매입되어 구성됨으로서 플라즈마 점화 방전이 보다 안정되게 유지된다.According to the induction plasma source of the present invention as described above, the plasma reaction chamber having an external discharge bridge is a plasma reaction by maintaining a stable plasma discharge by a second plasma discharge path having a short discharge path formed in the external discharge bridge Stable plasma discharge is maintained even in the first plasma discharge path via the chamber, thereby enabling formation and maintenance of stable plasma inside the plasma reaction chamber. In addition, since the ignition electrode for the plasma discharge is embedded in the gas inlet or the external discharge tube bridge, the plasma ignition discharge is more stably maintained.

Claims (15)

상부에 적어도 두 개의 홀을 구비하고, 내부에 피처리 기판이 놓이는 서셉터를 갖는 플라즈마 반응 챔버;A plasma reaction chamber having at least two holes in the upper portion and having a susceptor in which a substrate to be processed is placed; 플라즈마 반응 챔버의 외측에 위치하고, 적어도 두 개의 홀에 결합되는 제1 및 제2 브리지 래그를 갖는 하나 이상의 외부 방전 브리지;At least one external discharge bridge positioned outside the plasma reaction chamber and having first and second bridge lags coupled to at least two holes; 하나 이상의 외부 방전 브리지와 플라즈마 반응 챔버의 내부를 경유하는 하나 이상의 제1 플라즈마 방전 패스;At least one first plasma discharge pass through at least one external discharge bridge and an interior of the plasma reaction chamber; 플라즈마 반응 챔버의 외측에서 제1 및 제2 브리지 래그 사이에 연결되는 하나 이상의 브리지 연결 튜브;At least one bridge connecting tube connected between the first and second bridge lags outside of the plasma reaction chamber; 하나 이상의 외부 방전 브리지와 브리지 연결 튜브를 경유하는 하나 이상의 제2 플라즈마 방전 패스;At least one second plasma discharge pass via at least one external discharge bridge and bridge connection tube; 유도 코일이 권선되며 제1 및 제2 플라즈마 방전 패스에 쇄교하도록 하나 이상의 외부 방전 브리지에 장착되는 환형 페라이트 코어;An annular ferrite core wound around the induction coil and mounted to one or more external discharge bridges to bridge the first and second plasma discharge paths; 유도 코일로 교류 전원을 공급하는 전원 공급원; 및A power supply for supplying AC power to the induction coil; And 외부 방전 브리지의 내부에 매입되는 한 쌍의 전극 봉을 갖는 점화 전극을 포함하는 유도 결합 플라즈마 소오스.An inductively coupled plasma source comprising an ignition electrode having a pair of electrode rods embedded within an external discharge bridge. 삭제delete 삭제delete 삭제delete 제1 항에 있어서, 전극 봉의 외피는 절연체로 구성되는 유도 결합 플라즈마 소오스.The inductively coupled plasma source of claim 1 wherein the envelope of the electrode rod is comprised of an insulator. 제1 항에 있어서, 외부 방전 브리지와 환형 페라이트 코어 사이에는 구성되는 냉각관을 더 포함하는 유도 결합 플라즈마 소오스.The inductively coupled plasma source of claim 1 further comprising a cooling tube configured between the external discharge bridge and the annular ferrite core. 제1 항에 있어서, 외부 방전 브리지는: 제1 및 제2 브리지 래그를 갖는 C-형상의 중공형의 브리지 몸체;An external discharge bridge comprising: a C-shaped hollow bridge body having first and second bridge lags; 브리지 몸체의 상단 중앙 부분에 돌출되어 가스 공급원으로 연결되는 가스 입구; 및A gas inlet protruding from the upper center portion of the bridge body and connected to a gas source; And 제1 및 제2 브리지 래그의 각 끝단으로서 상기 두 개의 홀에 삽입되는 제1 및 제2 가스 출구를 갖는 유도 결합 플라즈마 소오스.An inductively coupled plasma source having first and second gas outlets inserted into the two holes as respective ends of the first and second bridge lags. 제7 항에 있어서, 두 개 이상의 외부 방전 브리지를 구비하고, 두 개 이상의 외부 방전 브리지는 플라즈마 반응 챔버의 상부에 병렬로 배치되는 유도 결합 플라즈마 소오스.8. The inductively coupled plasma source of claim 7, having two or more external discharge bridges, wherein the two or more external discharge bridges are disposed in parallel on top of the plasma reaction chamber. 제1 항에 있어서, 외부 방전 브리지는: 방사형으로 배치되는 적어도 네 개의 제1 내지 제4 브리지 래그를 갖는 다중 방전 브리지 몸체;The bridge of claim 1, wherein the external discharge bridge comprises: a multiple discharge bridge body having at least four first to fourth bridge lags disposed radially; 브리지 몸체의 상단 중앙 부분에 돌출되어 가스 공급원으로 연결되는 가스 입구; 및A gas inlet protruding from the upper center portion of the bridge body and connected to a gas source; And 제1 내지 제4 브리지 래그의 각 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 상부에 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 홀에 삽입되는 제1 내지 제4 가스 출구를 갖는 유도 결합 플라즈마 소오스.An inductively coupled plasma source having first to fourth gas outlets inserted into first to fourth holes disposed radially on top of the plasma reaction chamber as respective ends of the first to fourth bridge lags. 제9 항에 있어서, 다중 방전 브리지 몸체는 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 브리지 래그의 중심부에 배치되는 공통 래그를 더 구비하고;10. The method of claim 9, wherein the multiple discharge bridge body further comprises a common lag disposed at the center of the radially disposed first to fourth bridge lags; 플라즈마 반응 챔버의 상부에는 제1 내지 제4 홀의 중심부에 배치된 제5 홀이 더 구비되며;A fifth hole disposed at the center of the first to fourth holes is further provided at an upper portion of the plasma reaction chamber; 공통 래그의 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 제5 홀에 삽입되는 제5 가스 출구를 갖는 유도 결합 플라즈마 소오스.An inductively coupled plasma source having a fifth gas outlet inserted into a fifth hole of a plasma reaction chamber as an end of a common lag. 제1 항에 있어서, 외부 방전 브리지는: 방사형으로 배치되는 적어도 네 개의 제1 내지 제4 브리지 래그를 갖고, 제1 내지 제4 브리지 래그의 상부에 공통으로 연결되는 원반형의 방전관 헤드를 갖는 다중 방전 브리지 몸체;The multi-discharge bridge of claim 1, wherein the external discharge bridge has: at least four first to fourth bridge lags disposed radially, the multiple discharge bridge having a disc shaped discharge tube head commonly connected to the top of the first to fourth bridge lags. Bridge body; 방전관 헤드의 상단 중앙 부분에 돌출되어 가스 공급원으로 연결되는 가스 입구; 및A gas inlet protruding from the upper center portion of the discharge tube head and connected to the gas supply source; And 제1 내지 제4 브리지 래그의 각 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 상부에 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 홀에 삽입되는 제1 내지 제4 가스 출구를 갖는 유도 결합 플라즈마 소오스.An inductively coupled plasma source having first to fourth gas outlets inserted into first to fourth holes disposed radially on top of the plasma reaction chamber as respective ends of the first to fourth bridge lags. 제11 항에 있어서, 다중 방전 브리지 몸체는 방사형으로 배치된 제1 내지 제4 브리지 래그의 중심부에 배치되는 공통 래그를 더 구비하고;12. The apparatus of claim 11, wherein the multiple discharge bridge body further comprises a common lag disposed at the center of the radially disposed first to fourth bridge lags; 플라즈마 반응 챔버의 상부에는 제1 내지 제4 홀의 중심부에 배치된 제5 홀이 더 구비되며;A fifth hole disposed at the center of the first to fourth holes is further provided at an upper portion of the plasma reaction chamber; 공통 래그의 끝단으로서 플라즈마 반응 챔버의 제5 홀에 삽입되는 제5 가스 출구를 갖는 유도 결합 플라즈마 소오스.An inductively coupled plasma source having a fifth gas outlet inserted into a fifth hole of a plasma reaction chamber as an end of a common lag. 삭제delete 삭제delete 삭제delete
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