KR100788842B1 - 폴리싱 패드 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 폴리싱 패드 제조방법에 관한 것으로, 그 제조방법은 1) 에폭시 고형체와 경화제를 배합하여 결합제를 형성하는 단계; 2) 상기 결합제와 무기 화합물을 배합하는 단계 및; 3) 상기 배합물을 성형틀에 주입하여 가압 성형하는 단계;를 포함하여 이루어진다.

본 발명은 습식 및 건식 방식을 동시에 사용 가능하게 하는 결합제를 사용함으로써 연삭성 및 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

에폭시 분말, 경화제, 폴리싱 패드

Description

폴리싱 패드 제조방법{Polishing Pad Making Method}

도 1은 본 발명의 폴리싱 패드 제조방법을 나타내는 블록도.

본 발명은 폴링싱 패드 제조방법에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 습식 및 건식 방식을 동시에 사용 가능하게 하는 결합제를 사용함으로써 연삭성 및 내구성을 향상시킬 수 있는 폴리싱 패드 제조방법에 관한 것이다.

일반적으로 폴리싱 패드(Polishing Pad)는 연마 작업에 사용되는 다이아몬드 연마공구의 일종으로써 핸드그라인더 등에 패드를 부착하여 고속회전에 의해 석재표면에 광택을 내는데, 주 사용처는 석재 가공 공장이며 인조석, 천연대리석, 화강석 등 실내 싱크대, 욕조, 바닥 타일, 건물내외부, 석재 장식물 등에 주로 사용된다.

여기서, 상기 폴리싱 패드는 크게 습식용과 건식용으로 나누어지며, 상기 습식용은 분말 타입의 페놀을 결합제로 사용하고 있으며, 물과 같이 사용하여 연마작업을 하는 것을 말한다. 상기 건식용은 액상타입의 페놀을 결합체로 사용하고 있으며, 물을 사용하지 않고 작업하는 것을 말한다.

그러나 이러한 폴리싱 패드를 보면 페놀소재를 사용하여 제품을 생산함으로써 석재표면 연마시 페놀에 의해 환경 오염의 문제가 대두되었다.

그리고 건식용의 경우 폴리싱 작업시 습식용에 비해 제품의 수명이 짧고 피삭재 표면에 부분적으로 타는 현상(Burning)이 유발하여 내구성이 좋지 않은 문제점이 있으며, 또한 습식용의 경우 오폐수발생을 통한 환경 오염문제와 표면 폴리싱이 제대로 이루어지지 않아 고광택도를 얻을 수 없는 문제점이 있었다.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명은 습식 및 건식 방식을 동시에 사용 가능하게 하는 결합제를 사용함으로써 연삭성 및 내구성을 향상시킬 수 있는 폴리싱 패드 제조방법을 제공함에 있다.

본 발명은 앞서 본 목적을 달성하기 위하여 다음과 같은 구성을 가진 실시예에 의해 구현된다.

본 발명의 폴리싱 패드 제조방법은, 1) 에폭시 고형체와 경화제를 배합하여 결합제를 형성하는 단계; 2) 상기 결합제와 무기 화합물을 배합하는 단계 및; 3) 상기 배합물을 성형틀에 주입하여 가압 성형하는 단계;를 포함하여 이루어진다.

또한, 상기 1)단계는 상기 에폭시 고형체 100 wt%와 경화제 35 wt%로 배합되록 하며, 상기 경화제는 저온 경화제인 것이 바람직하다.

그리고 상기 무기 화합물은 다이아몬드분말, 알루미나분말 및 탄산칼슘분말을 혼합하여 이루어진다.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 폴리싱 패드 제조방법을 설명한다.

도 1을 참조하면, 1)단계(S10)는 1mm ~ 1Cm 크기의 에폭시 고형체와 경화제를 각각 100wt%와 35wt% 비율로 믹싱기에 넣은 후 30초간 회전시켜 배합하여 에폭시 분발 형태의 결합제를 형성시키는 단계이다. 이는 상기 에폭시의 경우 보통 상온에서 쉽게 열경화성의 물질로 만들 수 있다. 이러한 현상(경화)을 에폭시 수지의 경화라 한다. 이렇게 경화하기 위해서는 경화제를 사용되는데, 경화제는 에폭시와 반응하기 쉬운 물질들이 쓰여 진다. 경화제는 일반적으로 촉매와는 다른 개념으로 촉매는 반응을 일으키기는 하지만 반응물에 직접반응을 하여 고분자의 한 부분으로 존재하지는 않는 것이며, 경화제는 반응을 통해 직접 반응물의 한 부분이 되고, 경화반응은 발열반응이어서 반응이 개시되면서부터 열이 발생함으로 저온 경화제를 사용하는 것이 바람직하다.

상기 2)단계(S20)는 상기 결합제와 무기 화합물을 각각 50 : 50%로 믹싱기에 넣고 12시간 동안 혼합하는 단계이다. 여기서 상기 무기 화합물은 다이아몬드 분말(Diamond Powder) , 알루미나 분말(Al2O3 Powder) 및 탄산칼슘 분말(CaCO3 Powder)로 이루어진다.

상기 3)단계(S30)는 결합제와 무기 화합물의 배합물을 일정 비율로 성형틀에 주입하여 열판 유압 프레스를 이용해 30분간 가압하여 성형하는 단계이다.

예컨대 상기 에폭시를 결합제로 사용함으로써 석재의 연마 가공시 발생하는 분진 등으로 인해 환경이 오염되는 것을 최소화할 수 있을 뿐만 아니라 무기 화합물과의 결합력을 높여 연삭성 및 내구성을 향상시킬 수 있게 되는 것이다.

이상의 본 발명은 상기에 기술된 실시예들에 의해 한정되지 않고, 당업자들에 의해 다양한 변형 및 변경을 가져올 수 있으며, 이는 첨부된 청구항에서 정의되는 본 발명의 취지와 범위에 포함된다.

본 발명은 앞서 본 구성에 의해 다음과 같은 효과를 가진다.

본 발명은 습식 및 건식 방식을 동시에 사용 가능하게 하는 결합제를 사용함으로써 연삭성 및 내구성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (4)

1) 에폭시 고형체와 저온 경화제를 배합하여 결합제를 형성하는 단계(S10);

2) 상기 결합제와 다이아몬드분말, 알루미나분말 및 탄산칼슘분말을 혼합하여 이루어지는 무기 화합물을 배합하는 단계(S20) 및;

3) 상기 배합물을 성형틀에 주입하여 가압 성형하는 단계(S30);를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 폴리싱 패드 제조방법.

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