KR100787168B1 - Electron beam generation apparatus - Google Patents

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Abstract

본 발명은 전자빔 발생장치에 장착되는 필라멘트의 양 단부 사이의 거리 오차가 큰 경우에도 이를 수용할 수 있는 전자빔 발생장치에 관한 것이다. 본 발명에 따른 전자빔 발생장치는 상호 절연되도록 결합되는 제1 및 제2 전극과, 제1 및 제2 안착면을 갖고 상기 제1 및 제2 전극에 각각 형성된 제1 및 제2 필라멘트 안착부와, 양 단부가 상기 제1 및 제2 안착면에 안착되는 필라멘트와, 상기 필라멘트의 양 단부를 제1 및 제2 필라멘트 안착부에 각각 고정시키기 위한 고정 부재를 포함하고, 상기 제1 및 제2 안착면 중 적어도 하나는 상기 필라멘트의 양 단부를 포함하는 평면과 나란하게 형성된다.The present invention relates to an electron beam generator that can accommodate even a large distance error between both ends of the filament mounted on the electron beam generator. The electron beam generator according to the present invention includes a first and a second electrode coupled to be insulated from each other, a first and a second filament seating portion having a first and a second seating surface formed on the first and second electrodes, respectively, A filament whose both ends are seated on the first and second seating surfaces, and a fixing member for respectively fixing both ends of the filament to the first and second filament seating portions, wherein the first and second seating surfaces At least one of which is formed parallel to a plane comprising both ends of the filament.

전자빔, 발생장치, 필라멘트, 전극, 증착, 코팅 Electron beam, generator, filament, electrode, deposition, coating

Description

전자빔 발생장치 {ELECTRON BEAM GENERATION APPARATUS}Electron Beam Generator {ELECTRON BEAM GENERATION APPARATUS}

도 1은 일반적인 전자빔 발생장치의 분해사시도이다.1 is an exploded perspective view of a general electron beam generator.

도 2는 도 1에 도시된 전자빔 발생장치의 제1 및 제2 전극의 평면도이다.FIG. 2 is a plan view of first and second electrodes of the electron beam generator shown in FIG. 1.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자빔 발생장치의 분해사시도이다.3 is an exploded perspective view of the electron beam generator according to the first embodiment of the present invention.

도 4는 도 3에 도시된 전자빔 발생장치의 제1 및 제2 전극의 평면도이다. FIG. 4 is a plan view of first and second electrodes of the electron beam generator shown in FIG. 3.

도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자빔 발생장치의 분해사시도이다.5 is an exploded perspective view of an electron beam generator according to a second embodiment of the present invention.

도 6은 도 5에 도시된 전자빔 발생장치의 제1 및 제2 전극의 평면도이다. FIG. 6 is a plan view of first and second electrodes of the electron beam generator illustrated in FIG. 5.

도 7은 본 발명의 제3 실시예에 따른 전자빔 발생장치의 분해사시도이다.7 is an exploded perspective view of an electron beam generator according to a third embodiment of the present invention.

도 8은 도 7에 도시된 전자빔 발생장치의 제1 및 제2 전극의 평면도이다. 8 is a plan view of first and second electrodes of the electron beam generator illustrated in FIG. 7.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명><Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

100: 제1 전극 141, 142: 제1 필라멘트 안착부100: first electrode 141, 142: first filament seating portion

141s, 142s: 제1 안착면 150: 제1 지지부 141s and 142s: first seating surface 150: first support part

161, 162: 제1 필라멘트 고정판 170: 필라멘트 체결 볼트 161 and 162: first filament fixing plate 170: filament fastening bolt

200: 제2 전극 240, 242: 제2 필라멘트 안착부200: second electrode 240, 242: second filament seating portion

240s, 242s: 제2 안착면 250: 제2 지지부 240s, 242s: 2nd mounting surface 250: 2nd support part

260: 제2 필라멘트 고정판 260g: 안착홈 260: second filament fixing plate 260g: seating groove

300: 절연체 400: 필라멘트 300: insulator 400: filament

420: 나선부 500: 캡 420: spiral 500: cap

본 발명은 전자빔 발생장치에 관한 것으로, 특히 전자빔 발생장치에 장착되는 필라멘트의 양 단부 사이의 거리 오차가 큰 경우에도 이를 수용할 수 있는 전자빔 발생장치에 관한 것이다.The present invention relates to an electron beam generator, and more particularly, to an electron beam generator that can accommodate a large distance error between both ends of a filament mounted on the electron beam generator.

최근 카메라 렌즈의 무반사 코팅, 레이저 공명기용 거울 등의 고반사율 코팅, 밴드 패스 필터 또는 간섭 필터용 등 광학계의 각종 분야별로 최적의 광학적 특성을 갖는 고기능성 광학 제품에 대한 요구가 증대되고 있다. Recently, there is a growing demand for high functional optical products having optimal optical characteristics for various fields of the optical system such as anti-reflective coating of camera lenses, high reflectivity coating such as mirrors for laser resonators, band pass filters or interference filters.

이러한 고기능성 광학 제품은 Cr, Al, Cu, Ag 등과 같은 단일금속, Al2O3, SiO2, TiO2, ZnO2 등과 같은 산화물 또는 TiN, Si3N4, MgF2 등과 같은 화합물들을 수십에서 수천 nm 단위로 유리나 고분자 기판 위에 단일층 또는 다중층으로 코팅하여 제조된다. These highly functional optics can contain single metals such as Cr, Al, Cu, Ag, oxides such as Al 2 O 3 , SiO 2 , TiO 2 , ZnO 2 , or compounds such as TiN, Si 3 N 4 , MgF 2 . It is manufactured by coating a single layer or multiple layers on glass or a polymer substrate in thousands of nm units.

금속 코팅은 주로 전자빔 증착 장비 또는 스퍼터링(sputtering) 장비를 이용하며, 장비의 구성 및 코팅 조건에 따라서 박막의 특성은 달라져 최적의 장비 구성과 공정 조건을 결정하지 못하면 박막의 밀착력이 약하거나 외부 환경에 따라서 광학적 특성이 변화된다. 뿐만 아니라 굴절율, 전도도, 투과율, 반사율 등과 같은 광학적/전기적 특성이 그 물질 고유의 특성을 가지지 못하고 열화되는 현상이 나타 나게 된다. Metal coating mainly uses electron beam deposition equipment or sputtering equipment, and the characteristics of the thin film vary depending on the composition and coating conditions of the equipment. Therefore, the optical characteristic is changed. In addition, optical and electrical properties such as refractive index, conductivity, transmittance, reflectance, etc. do not have the inherent properties of the material, and deteriorate.

전자빔 증착 장비에는, 금속재, 유리 또는 고분자 등의 기판에 원료 물질을 증착시키기 위하여, 원료 물질에 고에너지를 인가하여 원료 물질을 증발시키는 전자빔 발생장치와, 상기 증발된 원료 물질이 기판에 증착될 때 증착이 용이하게 이루어질 수 있도록 원료 물질의 활성화를 돕고 기판을 막 결합력 향상 등의 효과를 얻기 위한 고에너지의 이온빔 발생장치가 설치된다.In the electron beam deposition apparatus, in order to deposit a raw material on a substrate such as metal, glass, or polymer, an electron beam generator for applying high energy to the raw material to evaporate the raw material, and when the evaporated raw material is deposited on the substrate, In order to facilitate the deposition, a high energy ion beam generator is installed to help the activation of the raw material and to obtain an effect of improving the film bonding strength of the substrate.

이하, 도 1 및 도 2를 참조하여 일반적인 전자빔 발생장치에 대해 설명한다. 도 1은 일반적인 전자빔 발생장치의 분해사시도이고, 도 2는 도 1에 도시된 전자빔 발생장치의 제1 및 제2 전극의 평면도이다.Hereinafter, a general electron beam generator will be described with reference to FIGS. 1 and 2. 1 is an exploded perspective view of a general electron beam generator, and FIG. 2 is a plan view of first and second electrodes of the electron beam generator shown in FIG. 1.

도면을 참조하면, 전자빔 발생장치는 제1 및 제2 전극(10, 20)과, 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)을 소정 거리 이격시키고 전기적으로 절연시키는 절연체(30)와, 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)의 상부에 각각의 양 단부가 고정되는 필라멘트(40)와, 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)의 상부를 덮는 캡(50)을 포함한다. Referring to the drawings, the electron beam generator includes an insulator 30 for electrically insulating the first and second electrodes 10 and 20, the first and second electrodes 10 and 20 at a predetermined distance, and the A filament 40 having both ends fixed to the upper portions of the first and second electrodes 10 and 20, and a cap 50 covering the upper portions of the first and second electrodes 10 and 20. .

전자빔 발생장치에서 전자빔이 실제로 생성되는 상기 필라멘트(40)는 통상 텅스텐을 주 성분으로 하여 제조된 직경이 0.5mm 또는 0.8mm인 와이어의 중간 부분을 수평 나선형으로 감아 나선부(42)를 형성하고 양 단부(44, 46)를 수직으로 평행하게 연장시켜 제조하게 된다. 이때, 상기 나선으로 감긴 와이어는 서로 접촉되지 않아야 한다. 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)는 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)에 각각 고정되어 그로부터 고전력이 인가되어 나선부(42)에서 전자빔이 발생하게 된다.In the electron beam generator, the filament 40 in which the electron beam is actually produced is wound around the middle portion of a wire having a diameter of 0.5 mm or 0.8 mm, which is usually made of tungsten, to form a spiral portion 42 in both directions. It is made by extending the ends 44, 46 vertically and parallelly. At this time, the spiral wound wire should not be in contact with each other. Both ends 44 and 46 of the filament 40 are fixed to the first and second electrodes 10 and 20, respectively, and high power is applied therefrom to generate an electron beam in the spiral portion 42.

상기 제1 및 제2 전극(10, 20)은 전극 몸체(12, 22)와 상기 전극 몸체(12, 22)의 상부에 형성된 필라멘트 안착부(14, 24)를 포함한다. 상기 전극 몸체(12, 22)들 사이에는 절연체(30)가 개재되어 상기 전극 몸체(12, 22)를 절연시킨다. 상기 절연체(30)의 양 대향면에는 내측에 암나사가 형성된 전극 체결공(30h)이 형성되고, 상기 전극 몸체(12, 22)에는 상기 전극 체결공(30h)에 대응하는 관통공(12h, 22h)이 형성된다. 상기 관통공(12h, 22h)을 통하여 전극 체결 볼트(13, 23)가 상기 전극 체결공(30h)에 체결됨으로써, 상기 전극 몸체(12, 22)는 절연체(30)에 고정 결합된 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)은 전자빔 발생장치의 본체를 이루게 된다. 이때, 상기 제1 전극(10)의 몸체(12)의 상부면 둘레에는 캡 체결 나사(18)가 형성된다. The first and second electrodes 10 and 20 include electrode bodies 12 and 22 and filament seating portions 14 and 24 formed on the electrode bodies 12 and 22. An insulator 30 is interposed between the electrode bodies 12 and 22 to insulate the electrode bodies 12 and 22. Electrode fastening holes 30h having female threads formed therein are formed on opposite surfaces of the insulator 30, and through holes 12h and 22h corresponding to the electrode fastening holes 30h are formed in the electrode bodies 12 and 22. ) Is formed. The electrode fastening bolts 13 and 23 are fastened to the electrode fastening holes 30h through the through holes 12h and 22h so that the electrode bodies 12 and 22 are fixed to the insulator 30. And the second electrodes 10 and 20 form a main body of the electron beam generator. In this case, a cap fastening screw 18 is formed around the upper surface of the body 12 of the first electrode 10.

상기 필라멘트 안착부(14, 24)의 각각에는 상호 대향하는 안착면(14s, 24s)이 서로 평행하게 형성된다. 상기 안착면(14s, 24s)의 각각에는 중심부에 안착홈(14g, 24g)이 수직으로 형성되고 그의 좌우에는 내측에 암나사가 형성된 필라멘트 체결공(14h, 24h)이 형성된다. 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)를 상기 안착면(14s, 24s)에 안착 고정시키기 위한 필라멘트 고정판(16, 26)이 더 구비된다. 상기 필라멘트 고정판(16, 26)에는 상기 필라멘트 체결공(14h, 24h)에 대응하는 관통공(16h, 26h)이 형성된다. 상기 안착면(14s, 24s)에 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)가 안착되면, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)를 사이에 두고 상기 안착면(14s, 24s)을 상기 필라멘트 고정판(16, 26)으로 덮는다. 이후, 상기 관통공(16h, 26h)을 거쳐 상기 필라멘트 체결공(14h, 24h)에 필라멘트 체결 볼트(17, 27)가 체결되면, 상기 필라멘트 고정판(16, 26)을 상기 안착면(14s, 24s)에 가압하여 그들 사이에 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)가 고정된다. 이에 따라, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)는 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)의 상부에 고정된다. In each of the filament seating portions 14 and 24, mutually opposing seating surfaces 14s and 24s are formed in parallel with each other. In each of the seating surfaces 14s and 24s, seating grooves 14g and 24g are vertically formed at the center thereof, and filament fastening holes 14h and 24h having female threads are formed at the left and right sides thereof. Filament fixing plates 16 and 26 are further provided to fix both ends 44 and 46 of the filament 40 to the seating surfaces 14s and 24s. Through-holes 16h and 26h corresponding to the filament fastening holes 14h and 24h are formed in the filament fixing plates 16 and 26. When both ends 44 and 46 of the filament 40 are seated on the seating surfaces 14s and 24s, the seating surfaces 14s and 24s are disposed with both ends 44 and 46 of the filament 40 interposed therebetween. Is covered with the filament fixing plate (16, 26). Subsequently, when the filament fastening bolts 17 and 27 are fastened to the filament fastening holes 14h and 24h via the through holes 16h and 26h, the filament fixing plates 16 and 26 are mounted on the seating surfaces 14s and 24s. ), Both ends 44 and 46 of filament 40 are fixed therebetween. Accordingly, both ends 44 and 46 of the filament 40 are fixed to the upper portions of the first and second electrodes 10 and 20.

상기 제1 및 제2 전극(10, 20)의 상부를 덮는 캡(50)은 상부 중심에 창(52)이 형성되고 하부가 개방된 중공 원통 형상으로, 상기 개방된 하부 내측에는 암나사가 형성되어 상기 캡 체결 나사(18)에 체결된다. 상기 캡(50)은 제1 및 제2 전극(10, 20)의 상부에 고정된 필라멘트(40)를 둘러싸고, 상기 필라멘트(40)의 나선부(42)는 상기 캡(50)의 창(52)을 통하여 노출된다.The cap 50 covering the upper portions of the first and second electrodes 10 and 20 has a hollow cylindrical shape in which a window 52 is formed at an upper center and an open lower portion thereof, and an internal thread is formed inside the opened lower portion. It is fastened to the cap fastening screw (18). The cap 50 surrounds the filaments 40 fixed on top of the first and second electrodes 10, 20, and the spirals 42 of the filaments 40 are the windows 52 of the cap 50. Is exposed through).

전술된 일반적인 전자빔 발생장치에서 상기 필라멘트(40)는 소모품으로서, 소정 시간 사용 후에는 새것으로 교체하여야 한다. 상기 필라멘트(40)가 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)의 필라멘트 안착부(14, 24)에 고정 결합되기 위하여, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46) 사이의 거리는 상기 안착홈(14g, 24g) 사이의 거리에 대응하여야 한다. 그러나, 상기 필라멘트(40)는, 전술된 바와 같이, 0.5mm 또는 0.8mm 직경의 와이어를 나선형으로 감아서 상기 나선부(42)를 형성하는 바, 나선부(42)의 전체 직경을 일정하게 제조하기가 용이하지 않다. 즉, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46) 사이의 거리를 일정한 규격치로 제조하기가 용이하지 않게 된다. In the above-described general electron beam generating apparatus, the filament 40 is a consumable and must be replaced with a new one after a predetermined time of use. In order for the filament 40 to be fixedly coupled to the filament seating portions 14 and 24 of the first and second electrodes 10 and 20, the distance between both ends 44 and 46 of the filament 40 is It shall correspond to the distance between the seating grooves (14g, 24g). However, the filament 40, as described above, to form the spiral portion 42 by spirally winding a wire of 0.5mm or 0.8mm diameter, the entire diameter of the spiral portion 42 is made constant Not easy to do That is, it is not easy to manufacture the distance between both ends 44 and 46 of the filament 40 to a certain standard value.

그에 따라서, 안착홈(14g, 24g) 사이의 거리가 일정하게 고정된 상기 제1 및 제2 전극(10, 20)의 필라멘트 안착부(14, 24)에 상기 필라멘트(40)를 고정 결합시 키면, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46) 사이의 거리와 상기 안착홈(14g, 24g) 사이의 거리가 서로 상이하여 필라멘트(40)의 나선부(42)에 변형이 발생하게 된다. 상기 필라멘트(40)를 제1 및 제2 전극(10, 20)에 고정 결합시킬 때, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46) 사이의 거리가 규격치보다, 즉 상기 안착홈(14g, 24g) 사이의 거리보다 크거나 또는 작게 제조되면, 상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46)가 강제로 좁혀지거나 넓혀지게 되어 상기 필라멘트(40)의 나선부(42)에 변형이 발생하게 된다. 이러한 나선부(42)의 변형은 상기 나선부(42)를 이루는 필라멘트 와이어를 서로 가깝게 지나가게 하거나 심한 경우 서로 접촉하게 할 수도 있다.Accordingly, when the filament 40 is fixedly coupled to the filament seating portions 14 and 24 of the first and second electrodes 10 and 20 where the distance between the seating grooves 14g and 24g is fixed. The distance between both ends 44 and 46 of the filament 40 and the distance between the seating grooves 14g and 24g are different from each other, causing deformation of the spiral portion 42 of the filament 40. When the filament 40 is fixedly coupled to the first and second electrodes 10 and 20, the distance between both ends 44 and 46 of the filament 40 is larger than the standard value, that is, the mounting groove 14g, If greater than or less than the distance between 24g), both ends 44 and 46 of the filament 40 are forcibly narrowed or widened to cause deformation of the spiral portion 42 of the filament 40. do. Deformation of the spiral portion 42 may cause the filament wires forming the spiral portion 42 to pass close to each other or, in severe cases, to contact each other.

상기 필라멘트(40)의 양 단부(44, 46) 사이의 거리와 상기 안착홈(14g, 24g) 사이의 거리가 서로 상이하여 필라멘트 와이어가 서로 접촉하게 되면, 전자빔의 출력이 낮아지게 되는 문제점이 있다. 또한, 필라멘트(40) 설치 시에 와이어가 서로 접촉하지 않고 서로 가까이 위치한다고 하더라도, 사용 중에 발생하는 고열로 인하여, 필라멘트(40)의 나선부(42)가 열변형을 일으켜 서로 접촉할 수 있다. If the distance between both ends 44 and 46 of the filament 40 and the distance between the seating grooves 14g and 24g are different from each other and the filament wires are in contact with each other, there is a problem in that the output of the electron beam is lowered. . In addition, even when the wires are located close to each other without contacting each other when the filament 40 is installed, the spiral portion 42 of the filament 40 may be in contact with each other due to the high heat generated during use.

현재로서, 이러한 문제를 해결하기 위해서는 양 단부(44. 46) 사이의 거리가 허용 오차 범위 내에 들어오는 필라멘트(40)를 사용하는 것이나, 전술한 바와 같이 상기 필라멘트(40)는 그의 나선부(42)를 감아서 제조하기 때문에 그의 양 단부(44. 46) 사이의 거리를 허용 오차 범위 내로 맞추는 일이 용이하지 않아 상기 필라멘트(40)의 단가를 상승시키는 원인이 된다. At present, in order to solve this problem, the filament 40 uses the filament 40 whose distance between both ends 44.46 falls within a tolerance range, but as described above, the filament 40 has its spiral portion 42. It is not easy to fit the distance between the both ends 44.46 within the tolerance range because it is manufactured by winding, which causes the unit cost of the filament 40 to rise.

따라서, 본 발명의 목적은 전술된 종래 기술의 문제점을 해결하기 위한 것으 로서, 전자빔 발생장치의 전극에 고정되는 필라멘트의 양 단부 사이의 거리가 허용 오차 범위 밖에 있어도 원하는 출력의 전자빔을 얻을 수 있는 전자빔 발생장치를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an electron beam capable of obtaining an electron beam of a desired output even if the distance between both ends of the filament fixed to the electrode of the electron beam generator is outside the tolerance range. It is to provide a generator.

전술된 목적을 달성하기 위한 본 발명의 일 태양에 따른 전자빔 발생장치는 상호 절연되도록 결합되는 제1 및 제2 전극과, 제1 및 제2 안착면을 갖고 상기 제1 및 제2 전극에 각각 형성된 제1 및 제2 필라멘트 안착부와, 양 단부가 상기 제1 및 제2 안착면에 안착되는 필라멘트와, 상기 필라멘트의 양 단부를 제1 및 제2 필라멘트 안착부에 각각 고정시키기 위한 고정 부재를 포함하고, 상기 제1 및 제2 안착면 중 적어도 하나는 상기 필라멘트의 양 단부를 포함하는 평면과 나란하게 형성된다.An electron beam generator according to an aspect of the present invention for achieving the above object is formed on the first and second electrodes having first and second electrodes and first and second seating surfaces coupled to each other insulated from each other. First and second filament seating portions, filaments whose ends are seated on the first and second seating surfaces, and fixing members for fixing both ends of the filament to the first and second filament seating portions, respectively; At least one of the first and second seating surfaces is formed parallel to a plane including both ends of the filament.

상기 제1 및 제2 안착면은 상호 직각을 이루는 것이 바람직하다.Preferably, the first and second seating surfaces are perpendicular to each other.

상기 제1 및 제2 안착면은 동일 평면을 이룰 수 있다. 이때, 상기 제1 및 제2 필라멘트 안착부에는 상기 전자빔 발생장치의 중심에서 각각 상기 필라멘트의 양 단부 사이의 거리의 절반만큼 떨어진 위치에 제1 및 제2 필라멘트 중심 표시부가 형성된 것이 바람직하다.The first and second seating surfaces may be coplanar. In this case, it is preferable that the first and second filament seating portions are formed at the centers of the electron beam generators at first and second filament center indicators at positions separated by half of the distance between both ends of the filament.

상기 제1 및 제2 안착면은 상기 필라멘트의 양 단부가 전자빔 발생장치의 중심을 지나는 수평 중심선 상에 위치되도록 형성된 것이 바람직하다.Preferably, the first and second seating surfaces are formed such that both ends of the filament are positioned on a horizontal center line passing through the center of the electron beam generator.

상기 고정 부재는 안착면을 덮는 필라멘트 고정판과, 상기 필라멘트 고정판을 필라멘트 안착부에 고정시키는 필라멘트 체결 볼트를 포함할 수 있다. 이때, 상기 필라멘트 고정판에는 필라멘트의 단부가 안착되는 안착홈이 형성된 것이 바람 직하다.The fixing member may include a filament fixing plate covering the seating surface and a filament fastening bolt for fixing the filament fixing plate to the filament seating portion. At this time, the filament fixing plate is preferably formed with a seating groove in which the end of the filament is seated.

상기 고정 부재는 상기 안착면과 각각 소정 거리 이격 형성된 지지부와, 상기 안착면과 지지부 사이에 개재되는 필라멘트 고정판과, 상기 지지부를 관통하여 나사 결합되어 상기 필라멘트 고정판을 상기 안착면 상으로 가압하는 필라멘트 체결 볼트를 포함할 수 있다. 이때, 상기 필라멘트 고정판에는 필라멘트 체결 볼트의 선단이 안착되는 오목홈이 형성된 것이 바람직하다.The fixing member includes a support part spaced apart from the seating surface by a predetermined distance, a filament fixing plate interposed between the seating surface and the support part, and screwed through the support part to press the filament fixing plate onto the seating surface. It may include a bolt. At this time, the filament fixing plate is preferably formed with a concave groove in which the front end of the filament fastening bolt is seated.

이하 도면을 참조하여 본 발명에 따른 전자빔 발생장치의 바람직한 실시예를 설명하고자 한다.Hereinafter, a preferred embodiment of the electron beam generator according to the present invention will be described with reference to the drawings.

도 3은 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자빔 발생장치의 분해사시도이고, 도 4는 도 3에 도시된 전자빔 발생장치의 제1 및 제2 전극의 평면도이다. 도 4와 이하 다른 실시예를 도시하는 도 6 및 도 8에서는 설명의 편의를 위하여 전자빔 발생장치에 고정되는 필라멘트의 양 단부를 함께 도시하였다. 3 is an exploded perspective view of the electron beam generator according to the first embodiment of the present invention, Figure 4 is a plan view of the first and second electrodes of the electron beam generator shown in FIG. 6 and 8, which show another embodiment of the present invention, are shown with both ends of the filament fixed to the electron beam generator for convenience of description.

도면을 참조하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 전자빔 발생장치는 제1 및 제2 전극(100, 200)과, 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)을 소정 거리 이격시키고 절연시키는 절연체(300)와, 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부에 각각의 양 단부가 고정되는 필라멘트(400)와, 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부를 덮는 캡(500)을 포함한다. Referring to the drawings, the electron beam generator according to the first embodiment of the present invention is to insulate the first and second electrodes (100, 200) and the first and second electrodes (100, 200) at a predetermined distance Covering the insulator 300, the filament 400 is fixed to both ends of the upper portion of the first and second electrodes (100, 200), and the upper portion of the first and second electrodes (100, 200) A cap 500.

전자빔 발생장치에서 전자빔이 실제로 생성되는 상기 필라멘트(400)는 통상 텅스텐을 주 성분으로 하여 제조된 직경이 0.5mm 또는 0.8mm인 와이어의 중간 부분을 수평 나선형으로 감아 나선부(420)를 형성하고 양 단부(440, 460)를 수직으로 평행하게 연장시켜 제조하게 된다. 상기 양 단부(440, 460)는 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)에 각각 고정되어 그로부터 고전력이 인가되어 나선부(420)에서 전자빔이 발생하게 된다.In the electron beam generator, the filament 400 in which the electron beam is actually generated is wound around the middle portion of a wire having a diameter of 0.5 mm or 0.8 mm, which is usually made of tungsten, to form a spiral 420. The ends 440 and 460 are made to extend vertically parallel. Both ends 440 and 460 are fixed to the first and second electrodes 100 and 200, respectively, and high power is applied therefrom to generate an electron beam in the spiral portion 420.

상기 제1 및 제2 전극(100, 200)은 전극 몸체(120, 220)와 상기 전극 몸체(120, 220)의 상부에 형성된 제1 및 제2 필라멘트 안착부(141, 240)를 포함한다. 상기 전극 몸체(120, 220)들 사이에는 절연체(300)가 개재되어 상기 전극 몸체(120, 220)를 절연시킨다. 상기 절연체(300)의 양 대향면에는 내측에 암나사가 형성된 전극 체결공(300h)이 형성되고, 상기 전극 몸체(120, 220)에는 상기 전극 체결공(300h)에 대응하는 관통공(120h, 220h)이 형성된다. 상기 관통공(120h, 220h)을 통하여 전극 체결 볼트(130, 230)가 상기 전극 체결공(300h)에 체결됨으로써, 상기 전극 몸체(120, 220)가 절연체(300)에 고정 결합된 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)은 전자빔 발생장치의 본체를 이루게 된다. 상기 결합된 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부면은 대체적으로 원형 형상을 이룬다. 이때, 상기 제1 전극(100)의 몸체(120)의 상부면에는 제1 전극(100) 둘레에 캡 체결 나사(180)가 형성된다. The first and second electrodes 100 and 200 include electrode bodies 120 and 220 and first and second filament seating portions 141 and 240 formed on the electrode bodies 120 and 220. An insulator 300 is interposed between the electrode bodies 120 and 220 to insulate the electrode bodies 120 and 220. Electrode fastening holes 300h having female threads formed therein are formed on opposite surfaces of the insulator 300, and through holes 120h and 220h corresponding to the electrode fastening holes 300h are formed in the electrode bodies 120 and 220. ) Is formed. Electrode fastening bolts 130 and 230 are fastened to the electrode fastening holes 300h through the through holes 120h and 220h, so that the electrode bodies 120 and 220 are fixedly coupled to the insulator 300. And the second electrodes 100 and 200 form a main body of the electron beam generator. Top surfaces of the combined first and second electrodes 100 and 200 have a generally circular shape. In this case, a cap fastening screw 180 is formed around the first electrode 100 on the upper surface of the body 120 of the first electrode 100.

상기 제1 및 제2 필라멘트 안착부(141, 240)의 각각에는 서로 직각으로 배치되고 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)의 각각이 안착되는 제1 및 제2 안착면(141s, 240s)이 형성된다. 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)를 상기 안착면(141s, 240s)에 안착 고정시키기 위해 상기 제1 및 제2 안착면(141s, 240s)을 덮어 가압하는 제1 및 제2 필라멘트 고정판(161, 260)이 별개 부재로서 구비된다. 상기 필라멘트(400)는 그의 양 단부(440, 460)가 각각 제1 및 제2 안착면(141s, 240s)에 안착되면, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)는 상기 결합된 제1 및 제2 전극(100, 200), 즉 전자빔 발생장치의 본체의 중심을 지나는 수평선(이하 수평 중심선이라 함) 상에 배치되는 것이 바람직하다. 이는 상기 필라멘트(400)의 나선부(420)가 전자빔 발생장치의 본체의 중심에 배치되기 위함이다.The first and second seating surfaces 141s and 240s are disposed at right angles to each of the first and second filament seating portions 141 and 240, and each of the both ends 440 and 460 of the filament 400 is seated. ) Is formed. First and second filaments covering and pressing the first and second seating surfaces 141s and 240s to seat and fix both ends 440 and 460 of the filament 400 to the seating surfaces 141s and 240s. The fixed plates 161 and 260 are provided as separate members. The filament 400 has both ends 440 and 460 mounted to the first and second seating surfaces 141s and 240s, respectively, and both ends 440 and 460 of the filament 400 are coupled to each other. Preferably, the first and second electrodes 100 and 200 are disposed on a horizontal line (hereinafter referred to as a horizontal center line) passing through the center of the main body of the electron beam generator. This is because the spiral portion 420 of the filament 400 is disposed at the center of the main body of the electron beam generator.

즉, 상기 제1 안착면(141s)은 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)를 포함하는 평면과 나란하게 형성되어 그에 안착된 필라멘트(400)의 일 단부(440)가 상기 수평 중심선을 지나도록 필라멘트(400)를 이루는 와이어의 반경만큼 후방으로 이격된 상하 수직면으로 형성된다. 또한, 상기 제2 안착면(240s)은 그에 안착된 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서의 거리가 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이 거리의 절반에서 상기 와이어의 반경만큼 뺀 거리가 되는 위치에서 상기 수평 중심선을 지나는 상하 수직면으로 형성된다. 상기 제1 및 제2 필라멘트 안착부(141, 240)의 각각에는 상기 제1 및 제2 안착면(141s, 240s)의 중심에서 좌우로 소정 거리 떨어진 위치에 암나사가 내측에 형성된 필라멘트 체결공(141h, 240h)이 각각 한 쌍씩 형성된다.That is, the first seating surface 141s is formed in parallel with a plane including both ends 440 and 460 of the filament 400 so that one end 440 of the filament 400 seated thereon is the horizontal center line. It is formed as a vertical vertical plane spaced rearward by the radius of the wire constituting the filament 400 so as to pass through. In addition, the second seating surface 240s has both end portions 440 and 460 of the other end 460 of the filament 400 seated thereon at a distance from the center of the main body of the electron beam generator. It is formed as a vertical vertical plane passing through the horizontal center line at a position that is half the distance between the distance minus the radius of the wire. Each of the first and second filament seating portions 141 and 240 has a female filament fastening hole 141h formed at an inner side at a position separated by a predetermined distance from the center of the first and second seating surfaces 141s and 240s. , 240h) are formed in pairs, respectively.

상기 제1 및 제2 필라멘트 고정판(161, 260)에는 상기 필라멘트 체결공(141h, 240h)에 대응하는 관통공(161h, 260h)이 형성된다. 이때, 상기 제2 안착면(240s)에 대면하는 상기 제2 필라멘트 고정판(260)의 일 면의 대략 중심부에는 수직 안착홈(260g)이 형성된다. 상기 안착홈(260g)은 상기 제2 필라멘트 고정판(260)이 상기 제2 안착면(240s)을 덮을 때 상기 수평 중심선 상에 위치되도록 형성 된다. 따라서, 상기 안착홈(260g)은 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 상기 제2 안착면(240s) 상에서 상기 수평 중심선 상에 배치된다. Through-holes 161h and 260h corresponding to the filament fastening holes 141h and 240h are formed in the first and second filament fixing plates 161 and 260. At this time, a vertical seating groove 260g is formed at a substantially central portion of one surface of the second filament fixing plate 260 facing the second seating surface 240s. The seating groove 260g is formed to be positioned on the horizontal center line when the second filament fixing plate 260 covers the second seating surface 240s. Accordingly, the seating groove 260g has the other end 460 of the filament 400 disposed on the horizontal center line on the second seating surface 240s.

상기 안착면(141s, 240s)에 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)가 안착되면, 상기 안착면(141s, 240s)을 상기 제1 및 제2 필라멘트 고정판(161, 260)으로 덮는다. 이후, 상기 관통공(161h, 260h)을 거쳐 상기 필라멘트 체결공(141h, 240h)에 필라멘트 체결 볼트(170, 270)가 체결되면, 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)는 상기 제1 및 제2 필라멘트 고정판(161, 260)과 상기 안착면(141s, 240s) 사이에 고정 결합된다. 즉, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)는 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부에 고정된다. When both ends 440 and 460 of the filament 400 are seated on the seating surfaces 141s and 240s, the seating surfaces 141s and 240s are covered with the first and second filament fixing plates 161 and 260. Subsequently, when the filament fastening bolts 170 and 270 are fastened to the filament fastening holes 141h and 240h through the through holes 161h and 260h, both ends 440 and 460 of the filament 400 are respectively connected to the first holes. And a second filament fixing plate 161, 260 and the seating surfaces 141s and 240s. That is, both ends 440 and 460 of the filament 400 are fixed to the upper portions of the first and second electrodes 100 and 200.

상기 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부를 덮는 캡(500)은 상부 중심에 창(520)이 형성되고 하부가 개방된 중공 원통 형상으로, 상기 개방된 하부 내측에는 암나사가 형성되어 상기 캡 체결 나사(180)에 체결된다. 상기 캡(500)은 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부에 고정된 필라멘트(400)를 둘러싸고, 상기 필라멘트(400)의 나선부(420)는 상기 캡(500)의 창(520)을 통하여 노출된다.The cap 500 covering the upper portions of the first and second electrodes 100 and 200 has a hollow cylindrical shape in which a window 520 is formed at an upper center and an open lower portion thereof, and an internal thread is formed inside the opened lower portion. It is fastened to the cap fastening screw 180. The cap 500 surrounds the filament 400 fixed to the upper portions of the first and second electrodes 100 and 200, and the spiral portion 420 of the filament 400 is the window 520 of the cap 500. Is exposed through).

본 발명에 따른 전자빔 발생장치에서 필라멘트(400)를 제1 및 제2 전극(100, 200)에 고정할 때, 상기 제1 안착면(141s)에 안착되는 필라멘트(400)의 일 단부(440)는 상기 제1 및 제2 전극(100, 200), 즉 전자빔 발생장치의 본체의 중심을 지나는 상기 수평 중심선 상에 위치하고, 상기 제2 안착면(240s)에 안착되는 필라멘트(400)의 타 단부(460)는 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이 거리의 절반인 위치에서 상기 수평 중심선 상에 위치한다. 이에 따라, 상기 필라멘트(400)의 나선부(420)의 중심은 상기 수평 중심선 상에 위치한다. 다만, 상기 필라멘트(400)의 나선부(420)의 중심은 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이 길이의 규격치에서 증감된 오차만큼 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 벗어나게 된다. 그러나, 상기 필라멘트(400)의 나선부(420)의 위치가 상기 오차만큼 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 벗어나더라도 그 값은 작기 때문에 그로부터 발생되는 전자빔의 출력에는 지장이 없다.One end 440 of the filament 400 seated on the first seating surface 141s when the filament 400 is fixed to the first and second electrodes 100 and 200 in the electron beam generator according to the present invention. The other end of the filament 400 is positioned on the horizontal center line passing through the center of the first and second electrodes 100 and 200, that is, the main body of the electron beam generator, and seated on the second seating surface 240s ( 460 is positioned on the horizontal center line at a position half of the distance between both ends 440 and 460 of the filament 400 at the center of the body of the electron beam generator. Accordingly, the center of the spiral portion 420 of the filament 400 is located on the horizontal center line. However, the center of the spiral portion 420 of the filament 400 is out of the center of the main body of the electron beam generator by an error increased or decreased in the standard value of the length between the both ends (440, 460) of the filament (400). However, even if the position of the spiral portion 420 of the filament 400 deviates from the center of the main body of the electron beam generator by the error, the value thereof is small, so there is no problem in the output of the electron beam generated therefrom.

따라서, 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 상기 제2 필라멘트 고정판(260)과 상기 제2 필라멘트 안착부(240)에 의해 고정되면, 상기 필라멘트(400)의 일 단부(440)는 제1 안착면(141s) 상에서 고정되지 않은 위치에 배치된다. 따라서, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 길이가 규격치보다 크거나 작더라도 상기 필라멘트(400)의 일 단부(440)는 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심을 지나는 상기 수평 중심선 상에서 위치가 조절되면서 고정된다. 이로 인해서, 필라멘트(400)를 제1 및 제2 전극(100, 200)에 고정할 때, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 길이가 규격치보다 크거나 작더라도, 상기 필라멘트(400)에 변형이 발생하지 않게 된다. Therefore, when the other end 460 of the filament 400 is fixed by the second filament fixing plate 260 and the second filament seating portion 240, one end 440 of the filament 400 is made of It is arrange | positioned in the position which was not fixed on the 1 mounting surface 141s. Therefore, even if the length between both ends 440 and 460 of the filament 400 is greater or smaller than the standard value, one end 440 of the filament 400 is the horizontal center line passing through the center of the main body of the electron beam generator The position is fixed while it is adjusted. Thus, when the filament 400 is fixed to the first and second electrodes 100 and 200, even if the length between both ends 440 and 460 of the filament 400 is larger or smaller than the standard value, the filament Deformation does not occur at 400.

한편, 전술된 실시예에서와 같이 상기 수직 안착홈(260g)을 제2 필라멘트 고정판(260)에 형성하면, 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 안착되는 위치까지의 거리를 정확히 측정할 수 있다는 장점이 있다. 이와 달리, 상기 제2 필라멘트 고정판(260)에 형성된 상기 수직 안착홈(260g)을 대신하여 상기 제2 안착면(240s) 상에 수직 안착홈을 형성할 수도 있 다. 그러나, 이 경우 상기 제2 안착면(240s)에 수직 안착홈을 형성하면, 상기 수직 안착홈에 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 안착되는 위치는 수직 안착홈의 크기 및 형상과 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)의 직경에 따라서 변하게 된다. 따라서, 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 안착되는 위치까지의 거리를 정확히 측정하는 데 어려움이 있게 된다. Meanwhile, when the vertical seating groove 260g is formed in the second filament fixing plate 260 as in the above-described embodiment, the other end 460 of the filament 400 is seated at the center of the main body of the electron beam generator. The advantage is that the distance to the location can be measured accurately. Alternatively, a vertical seating groove may be formed on the second seating surface 240s instead of the vertical seating groove 260g formed in the second filament fixing plate 260. However, in this case, when the vertical seating groove is formed in the second seating surface 240s, the position where the other end 460 of the filament 400 is seated in the vertical seating groove is the size and shape of the vertical seating groove and the The filament 400 is changed according to the diameter of the other end 460. Therefore, it is difficult to accurately measure the distance from the center of the main body of the electron beam generator to the position where the other end 460 of the filament 400 is seated.

전술된 제1 실시예에서, 상기 제1 필라멘트 안착부(141)와 제1 필라멘트 고정판(161)에 각각 한 쌍의 필라멘트 체결공(141h)과 그에 대응하는 한 쌍의 관통공(161h)이 형성된다. 이를 위해서는, 상기 한 쌍의 필라멘트 체결공(141h) 사이에 소정 영역이 확보되어야 하고, 상기 소정 영역의 중심에서 전자빔 발생장치의 본체의 중심까지의 거리가 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이 거리의 절반이 되도록 구성되어야 한다. 그러나, 상기 제1 필라멘트 안착부(141)가 형성되는 상기 제1 전극(100)의 상부면은 대략 반원 형상이기 때문에, 상기 제1 필라멘트 안착부(141)가 강도를 확보하기 위하여 적정한 두께를 가지면서 한 쌍의 필라멘트 체결공(141h)과 그들 사이에 소정 거리를 확보하기가 용이하지 않을 수 있다. 따라서, 다음은 이러한 문제를 해결할 수 있는 본 발명의 제2 실시예에 따른 전자빔 발생장치에 대해서 도 5 및 도 6을 참조하여 설명하고자 한다.In the first embodiment described above, a pair of filament fastening holes 141h and a pair of through holes 161h corresponding to the first filament seating portion 141 and the first filament fixing plate 161 are formed, respectively. do. To this end, a predetermined area must be secured between the pair of filament fastening holes 141h, and the distance from the center of the predetermined area to the center of the main body of the electron beam generator is equal to both ends 440 of the filament 400. 460) to be half the distance between them. However, since the upper surface of the first electrode 100 on which the first filament seating portion 141 is formed is substantially semi-circular, the first filament seating portion 141 has an appropriate thickness to secure strength. While it may not be easy to secure a predetermined distance between the pair of filament fastening holes (141h) and them. Therefore, the following will be described with reference to FIGS. 5 and 6 with respect to the electron beam generator according to the second embodiment of the present invention that can solve this problem.

본 발명의 제2 실시예에 따른 전자빔 발생장치는 필라멘트의 일 단부(440)를 고정시키기 위한 구성이 전술된 제1 실시예와 상이할 뿐 나머지 구성은 동일하다. 따라서, 제2 실시예에서는 제1 실시예와 상이한 부분만을 설명하고자 한다.In the electron beam generator according to the second embodiment of the present invention, the configuration for fixing one end 440 of the filament is different from that of the first embodiment described above, and the rest of the configuration is the same. Therefore, in the second embodiment, only parts different from the first embodiment will be described.

상기 제1 전극(100)의 상부에는 제1 실시예와 동일한 제1 필라멘트 안착부 (142)가 형성되고, 상기 제1 안착면(142s)과 소정 거리 이격되게 지지부(150)가 형성된다. 상기 지지부(150)에는 내측에 암나사가 형성된 적어도 하나의 필라멘트 체결공(150h)이 형성된다. 상기 필라멘트(400)의 일 단부(440)를 상기 제1 안착면(142s)에 안착 고정시키기 위해 제1 필라멘트 고정판(162)이 더 구비된다. 상기 제1 필라멘트 고정판(162)은 상기 제1 안착면(142s)과 지지부(150) 사이의 소정 거리보다 적어도 필라멘트(400)를 이루는 와이어의 두께만큼 얇게 형성되고, 상기 지지부(150)와 대면하는 상기 제1 필라멘트 고정판(162)의 일 면에는 상기 필라멘트 체결공(150h)에 대응하여 바닥면을 갖는 오목홈(162h)이 형성된다. The first filament seating portion 142, which is the same as the first embodiment, is formed on the first electrode 100, and the support 150 is formed to be spaced apart from the first seating surface 142s by a predetermined distance. At least one filament fastening hole 150h having a female screw formed therein is formed in the support part 150. A first filament fixing plate 162 is further provided to fix one end 440 of the filament 400 to the first seating surface 142s. The first filament fixing plate 162 is formed to be thinner than the predetermined distance between the first seating surface 142s and the support part 150 by a thickness of a wire constituting the filament 400, and faces the support part 150. One surface of the first filament fixing plate 162 is formed with a concave groove 162h having a bottom surface corresponding to the filament fastening hole 150h.

따라서, 상기 필라멘트(400)의 타 단부(460)가 상기 제2 필라멘트 고정판(260)과 상기 제2 필라멘트 안착부(240)에 의해 제1 실시예와 동일한 방법으로 고정되면, 상기 필라멘트(400)의 일 단부(440)는 상기 제1 안착면(142s) 상에 위치된다. 이때, 필라멘트(400)의 일 단부(440)가 상기 제1 안착면(142s)과 제1 필라멘트 고정판(162) 사이에 위치되도록 상기 제1 안착면(142s)과 지지부(150) 사이에 제1 필라멘트 고정판(162)을 삽입시킨다. 이후, 지지부(150)의 필라멘트 체결공(150h)에 필라멘트 체결 볼트(170)를 체결하면, 상기 필라멘트 체결 볼트(170)의 선단이 상기 지지부(150)를 관통하여 상기 제1 필라멘트 고정판(162)에 형성된 오목홈(162h)에 안착되어 상기 제1 필라멘트 고정판(162)이 상기 제1 안착면(142s)을 가압하게 된다. 따라서, 필라멘트(400)의 일 단부(440)는 상기 제1 안착면(142s)과 상기 제1 필라멘트 고정판(162) 사이에서 고정된다. 상기 제1 필라멘트 고정판(162)에 형성된 오목홈(162h)은 상기 제1 필라멘트 고정판(162)이 필라멘트 체결 볼트(170)에 고정판(162)의 오목홈(612h)이 걸려서 체결나사(170)으로부터 이탈되지 않은 특징을 갖는다.Therefore, when the other end 460 of the filament 400 is fixed by the second filament fixing plate 260 and the second filament seating portion 240 in the same manner as in the first embodiment, the filament 400 One end 440 of is positioned on the first seating surface 142s. In this case, a first end portion 440 of the filament 400 is located between the first seating surface 142s and the support part 150 such that the first seating surface 142s and the first filament fixing plate 162 are positioned. The filament fixing plate 162 is inserted. Thereafter, when the filament fastening bolt 170 is fastened to the filament fastening hole 150h of the support part 150, the front end of the filament fastening bolt 170 passes through the support part 150 to allow the first filament fixing plate 162. The first filament fixing plate 162 presses the first seating surface 142s by being seated in the concave groove 162h formed in the recess. Accordingly, one end 440 of the filament 400 is fixed between the first seating surface 142s and the first filament fixing plate 162. The concave groove 162h formed in the first filament fixing plate 162 has the concave groove 612h of the fixing plate 162 fastened to the filament fastening bolt 170 by the first filament fixing plate 162 from the fastening screw 170. It has a feature that does not deviate.

전술된 제1 및 제2 실시예에서, 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)가 고정되는 방향을 서로 직각을 구성함으로써, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 거리가 다소 달라지더라도, 상기 필라멘트(400)에 변형을 가하지 않고 필라멘트(400)를 제1 및 제2 전극(100, 200)에 고정시킬 수 있다. 즉, 전술된 제1 및 제2 실시예에서 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 중에서, 타 단부(460)는 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 일정한 거리에 고정되고, 일 단부(420)는 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 거리에 따라 제1 안착면(141s 또는 142s) 상에서 수평 중심선 상의 다른 위치에 고정될 수 있다. In the above-described first and second embodiments, the distance between both ends 440 and 460 of the filament 400 is constituted by forming the right angles to each other in the direction in which both ends 440 and 460 of the filament 400 are fixed. Although slightly different, the filament 400 may be fixed to the first and second electrodes 100 and 200 without deforming the filament 400. That is, among both ends 440 and 460 of the filament 400 in the above-described first and second embodiments, the other end 460 is fixed at a constant distance from the center of the main body of the electron beam generator, and one end ( The 420 may be fixed at another position on the horizontal center line on the first seating surface 141s or 142s according to the distance between the both ends 440 and 460 of the filament 400.

상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 거리가 다소 달라지더라도, 상기 필라멘트(400)에 변형을 가하지 않고 필라멘트(400)를 제1 및 제2 전극(100, 200)에 고정시키기 위해서, 아래의 제3 실시예에서와 같이, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)의 고정 방향을 서로 동일하게 할 수도 있다.Even if the distance between both ends 440 and 460 of the filament 400 varies slightly, the filament 400 is fixed to the first and second electrodes 100 and 200 without deforming the filament 400. In order to achieve this, as in the third embodiment below, the fixing directions of both ends 440 and 460 of the filament 400 may be the same.

도 7 및 도 8을 참조하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 전자빔 발생장치는, 전술된 제2 실시예에서 필라멘트의 일 단부(440)를 고정시키기 위한 구성, 즉 제1 필라멘트 안착부(142), 지지부(150), 제1 필라멘트 고정판(162) 및 필라멘트 체결 볼트(170)의 구성을 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 모두에 적용시킨다.7 and 8, the electron beam generating apparatus according to the third embodiment of the present invention has a structure for fixing one end 440 of the filament, that is, the first filament seating portion ( 142, the support 150, the first filament fixing plate 162, and the filament fastening bolt 170 are applied to both ends 440 and 460 of the filament 400.

즉, 도 7 및 도 8에 도시된 바와 같이, 상기 제1 및 제2 전극(100, 200)의 상부에는 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)가 안착되는 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)이 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)를 포함하는 평면과 나란하게 형성된, 즉 동일 평면을 이루는 상하 수직면으로 형성된 제1 및 제2 필라멘트 안착부(142, 242)가 형성된다. 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)에는 그에 안착된 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)가 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심을 지나는 일직선 상에 배치되도록 형성될 수 있다. 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)과 소정 거리 이격되게 제1 및 제2 지지부(150, 250)가 형성된다. 상기 제1 및 제2 지지부(150, 250)의 각각에는 내측에 암나사가 형성된 적어도 하나의 제1 및 제2 필라멘트 체결공(150h, 250h)이 형성된다. 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)를 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)에 안착 고정시키기 위해 제1 및 제2 필라멘트 고정판(162, 262)이 더 구비된다. 상기 제1 및 제2 필라멘트 고정판(162, 262)은 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)과 제1 및 제2 지지부(150, 250) 사이의 소정 거리보다 적어도 필라멘트(400)를 이루는 와이어의 두께만큼 얇게 형성되고, 상기 제1 및 제2 지지부(150, 250)와 대면하는 상기 제1 및 제2 필라멘트 고정판(162, 262)의 일 면에는 상기 제1 및 제2 필라멘트 체결공(150h, 250h)에 대응하여 바닥면을 갖는 오목홈(162h, 262h)이 형성된다. 또한, 상기 제1 및 제2 필라멘트 안착부(142, 242)에는 상기 전자빔 발생장치의 본체의 중심에서 각각 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 규격 거리의 절반만큼 떨어진 위치에 제1 및 제2 필라멘트 중심 표시부(144, 244)가 형성되어 상기 필라멘트(400)의 나선부(420)를 전자빔 발생장치의 본체의 중심에 맞출 수 있다.That is, as shown in FIGS. 7 and 8, first and second seating surfaces on which both ends 440 and 460 of the filament 400 are seated on the first and second electrodes 100 and 200. First and second filament seating portions 142 and 242 having sidewalls 142s and 242s formed in parallel with a plane including both ends 440 and 460 of the filament 400, that is, vertical and vertical planes forming the same plane. Is formed. The first and second seating surfaces 142s and 242s may be formed such that both ends 440 and 460 of the filament 400 seated thereon are disposed in a straight line passing through the center of the main body of the electron beam generator. First and second support parts 150 and 250 are formed to be spaced apart from the first and second seating surfaces 142s and 242s by a predetermined distance. Each of the first and second support parts 150 and 250 has at least one first and second filament fastening holes 150h and 250h having female threads formed therein. First and second filament fixing plates 162 and 262 are further provided to seat and fix both ends 440 and 460 of the filament 400 to the first and second seating surfaces 142s and 242s. The first and second filament fixing plates 162 and 262 may have the filament 400 at least a predetermined distance between the first and second seating surfaces 142s and 242s and the first and second support portions 150 and 250. The first and second filament fastening holes are formed as thin as the thickness of the wires, and are formed on one surface of the first and second filament fixing plates 162 and 262 facing the first and second support parts 150 and 250. Concave grooves 162h and 262h having bottom surfaces are formed corresponding to 150h and 250h. In addition, the first and second filament seating portion (142, 242) is located at a position separated from the center of the main body of the electron beam generator by a half of the standard distance between the both ends (440, 460) of the filament 400, respectively First and second filament center display portions 144 and 244 may be formed to align the spiral portion 420 of the filament 400 to the center of the main body of the electron beam generator.

따라서, 상기 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)를 상기 제1 및 제2 필라멘 트 중심 표시부(144, 244)를 기준으로 동일한 거리만큼 각각 중심 쪽으로 또는 외측으로 위치를 설정한다. 이때, 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460) 사이의 거리가 규격치이면, 상기 양 단부(440, 460)는 상기 제1 및 제2 필라멘트 중심 표시부(144, 244)에 정렬된다. 이후, 필라멘트(400)의 양 단부(440)가 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)과 제1 및 제2 필라멘트 고정판(162, 262) 사이에 위치되도록 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)과 제1 및 제2 지지부(150, 250) 사이에 각각 제1 및 제2 필라멘트 고정판(162, 262)을 삽입시킨다. 이후, 제1 및 제2 지지부(150, 250)의 필라멘트 체결공(150h, 250h)에 필라멘트 체결 볼트(170, 270)를 체결하면, 상기 필라멘트 체결 볼트(170, 270)가 상기 지지부(150, 250)를 관통하여 상기 필라멘트 고정판(162, 262)에 형성된 오목홈(162h, 262h)에 안착되어 상기 필라멘트 고정판(162, 262)이 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)을 가압하게 되어, 필라멘트(400)의 양 단부(440, 460)는 상기 제1 및 제2 안착면(142s, 242s)과 상기 제1 및 제2 필라멘트 고정판(162, 262) 사이에 의해 고정된다. Therefore, both ends 440 and 460 of the filament 400 are positioned toward or outside the center by the same distance with respect to the first and second filament center display units 144 and 244, respectively. In this case, when the distance between both ends 440 and 460 of the filament 400 is a standard value, both ends 440 and 460 are aligned with the first and second filament center indicators 144 and 244. Thereafter, both ends 440 of the filament 400 are positioned between the first and second seating surfaces 142s and 242s and the first and second filament fixing plates 162 and 262. First and second filament fixing plates 162 and 262 are inserted between the surfaces 142s and 242s and the first and second support portions 150 and 250, respectively. Subsequently, when the filament fastening bolts 170 and 270 are fastened to the filament fastening holes 150h and 250h of the first and second support parts 150 and 250, the filament fastening bolts 170 and 270 are supported by the support part 150. It penetrates 250 and is seated in the concave grooves 162h and 262h formed in the filament fixing plates 162 and 262 so that the filament fixing plates 162 and 262 pressurize the first and second mounting surfaces 142s and 242s. Thus, both ends 440 and 460 of the filament 400 are fixed between the first and second seating surfaces 142s and 242s and the first and second filament fixing plates 162 and 262.

이상에서는 도면 및 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허청구범위에 기재된 본 발명의 기술적 사상으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.Although described above with reference to the drawings and embodiments, those skilled in the art can be variously modified and changed within the scope of the invention without departing from the spirit of the invention described in the claims below. I can understand.

예를 들어, 제1 및 제2 실시예에서, 상기 제2 필라멘트 고정판(260)을 제2 필라멘트 안착부(240)의 안착면(240s)에 가압시키기 위하여, 제2 및 제3 실시예에 사용된 지지부(150)를 이용할 수도 있다. 즉, 상기 제2 필라멘트 안착부(240)의 안착면(240s)과 소정 거리 이격되게 지지부를 형성하고, 제2 필라멘트 고정판을 상기 제2 필라멘트 안착부와 지지부 사이에 끼워 넣고 상기 지지부에 필라멘트 체결 볼트를 관통시켜 상기 제2 필라멘트 고정판을 상기 안착면 상으로 가압할 수 있다.For example, in the first and second embodiments, in order to press the second filament fixing plate 260 to the seating surface 240s of the second filament mounting portion 240, it is used in the second and third embodiments The support 150 may be used. That is, the support part is formed to be spaced apart from the seating surface 240s of the second filament seating part 240 by a predetermined distance, and a second filament fixing plate is inserted between the second filament seating part and the support part, and the filament fastening bolt is attached to the support part. The second filament fixing plate may be pressed onto the seating surface by penetrating the penetrating member.

또한, 제1 실시예에서 필라멘트 고정판을 필라멘트 안착부의 안착면에 가압시키는 구성은 제3 실시예에도 적용할 수 있음은 물론이다.In addition, in the first embodiment, the configuration in which the filament fixing plate is pressed against the seating surface of the filament seating portion is also applicable to the third embodiment.

전술된 구성을 갖는 본 발명의 전자빔 발생장치에서 그에 사용되는 필라멘트의 양 단부가 제1 및 제2 전극에 고정될 때, 상기 필라멘트의 양 단부 사이의 거리가 규격치에서 허용 오차 범위 밖에 있어도 필라멘트의 나선부에 변형 없이 제1 및 제2 전극에 고정될 수 있다. 따라서, 본 발명의 전자빔 발생장치는 필라멘트의 양 단부 사이의 거리 오차가 큰 경우에도 이를 수용하여 상기 필라멘트에서 원하는 출력의 전자빔을 얻을 수 있으며, 필라멘트의 수명을 향상시킬 수 있다.When both ends of the filament used in the electron beam generator of the present invention having the above-described configuration are fixed to the first and second electrodes, the helix of the filament even if the distance between both ends of the filament is outside the tolerance range in the standard value It can be fixed to the first and second electrodes without deformation in the part. Therefore, the electron beam generator of the present invention can receive the electron beam of the desired output from the filament by accommodating it even when the distance error between both ends of the filament is large, and can improve the life of the filament.

Claims (7)

전자빔 발생장치에 있어서,In the electron beam generator, 상호 절연되도록 결합되는 제1 및 제2 전극과,First and second electrodes coupled to be insulated from each other, 제1 및 제2 안착면을 갖고 상기 제1 및 제2 전극에 각각 형성된 제1 및 제2 필라멘트 안착부와,First and second filament seating portions having first and second seating surfaces and formed on the first and second electrodes, respectively; 양 단부가 상기 제1 및 제2 안착면에 안착되는 필라멘트와,Filaments having both ends seated on the first and second seating surfaces, 상기 필라멘트의 양 단부를 제1 및 제2 필라멘트 안착부에 각각 고정시키기 위한 고정 부재를 포함하고,A fixing member for respectively fixing both ends of the filament to the first and second filament seating portions, 상기 제1 및 제2 안착면 중 적어도 하나는 상기 필라멘트의 양 단부를 포함하는 평면과 나란하게 형성되며, 상기 제1 및 제2 안착면은 상호 직각을 이루는 것을 특징으로 하는 전자빔 발생장치.At least one of the first and the second seating surface is formed parallel to the plane including both ends of the filament, the first and second seating surface is characterized in that the perpendicular to each other. 전자빔 발생장치에 있어서,In the electron beam generator, 상호 절연되도록 결합되는 제1 및 제2 전극과,First and second electrodes coupled to be insulated from each other, 제1 및 제2 안착면을 갖고 상기 제1 및 제2 전극에 각각 형성된 제1 및 제2 필라멘트 안착부와,First and second filament seating portions having first and second seating surfaces and formed on the first and second electrodes, respectively; 양 단부가 상기 제1 및 제2 안착면에 안착되는 필라멘트와,Filaments having both ends seated on the first and second seating surfaces, 상기 필라멘트의 양 단부를 제1 및 제2 필라멘트 안착부에 각각 고정시키기 위한 고정 부재를 포함하고,A fixing member for respectively fixing both ends of the filament to the first and second filament seating portions, 상기 제1 및 제2 안착면 중 적어도 하나는 상기 필라멘트의 양 단부를 포함하는 평면과 나란하게 형성되며, 상기 제1 및 제2 안착면은 동일 평면을 이루는 것을 특징으로 하는 전자빔 발생장치.At least one of the first and second seating surface is formed parallel to the plane including both ends of the filament, the first and second seating surface is characterized in that the same plane. 청구항 2에 있어서, 상기 제1 및 제2 필라멘트 안착부에는 상기 전자빔 발생장치의 중심에서 각각 상기 필라멘트의 양 단부 사이의 거리의 절반만큼 떨어진 위치에 제1 및 제2 필라멘트 중심 표시부가 형성된 것을 특징으로 하는 전자빔 발생장치.The method according to claim 2, wherein the first and second filament seating portion is characterized in that the first and second filament center display portion formed at a position separated by half of the distance between the both ends of the filament from the center of the electron beam generator, respectively Electron beam generator. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 부재는 안착면을 덮는 필라멘트 고정판과, 상기 필라멘트 고정판을 필라멘트 안착부에 고정시키는 필라멘트 체결 볼트를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 발생장치.The electron beam generator according to any one of claims 1 to 3, wherein the fixing member comprises a filament fixing plate covering the seating surface and a filament fastening bolt for fixing the filament fixing plate to the filament seating portion. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서, 상기 고정 부재는 상기 안착면과 각각 소정 거리 이격 형성된 지지부와, 상기 안착면과 지지부 사이에 개재되는 필라멘트 고정판과, 상기 지지부를 관통하여 나사 결합되어 상기 필라멘트 고정판을 상기 안착면 상으로 가압하는 필라멘트 체결 볼트를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자빔 발생장치.According to any one of claims 1 to 3, The fixing member is a support portion formed to be spaced apart from the seating surface, respectively, a predetermined distance, a filament fixing plate interposed between the seating surface and the support portion, and screwed through the support portion And a filament fastening bolt for pressing the filament fixing plate onto the seating surface. 청구항 5에 있어서, 상기 필라멘트 고정판에는 필라멘트 체결 볼트의 선단이 안착되는 오목홈이 형성된 것을 특징으로 하는 전자빔 발생장치.The electron beam generator of claim 5, wherein the filament fixing plate has a concave groove in which the tip of the filament fastening bolt is seated. 삭제delete
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